JP2006015271A - 薄膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 液体材料を液滴として吐出して基板20上に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、薄膜形成領域Aより広い液体材料配置領域Bに上記液体材料を吐出し、上記液体材料を乾燥させることによって、上記薄膜の端部における***部分H1を上記薄膜形成領域A外に配置する。
【選択図】 図5
Description
このため、インクの乾燥工程において、乾燥速度の速い端部にインク中の固形部が流れ、結果として端部が***した薄膜が形成される。
また、基板が温度勾配を有するということは、基板上に吐出配置されたインクの同じ膜表面における温度分布が不均一化される。このため、インクとしてポリマーインクや顔料インクを用いた場合には、インク内の粒子の運動状態が変化するため、インクを乾燥させた後に膜ムラが生じる可能性がある。
このような構成を採用することによって、予め把握された薄膜の端部における***部分の幅に基づいて液体材料配置領域が決定される。このため、***部分が確実に薄膜形成領域の外部に配置されることができるため、より確実に薄膜形成領域における薄膜の膜厚を均一化することができる。
このような構成を採用することによって、薄膜形成領域外に新たに***部分を配置する領域を設けることなく、薄膜形成領域に均一な膜厚の配向膜を形成することができる。
このような構成を採用することによって、薄膜形成領域に均一な膜厚のオーバーコート膜を形成することができる。
このような構成を採用することによって、表示領域に形成される薄膜の膜厚が均一化される。このため、表示領域全体において薄膜が所望の機能性を発揮するため、表示領域の表示性能をより高めることが可能となる。
この図1において、薄膜形成装置10は、ベース112と、ベース112上に設けられ、基板20を支持する基板ステージ22と、ベース112と基板ステージ22との間に介在し、基板ステージ22を移動可能に支持する第1移動装置114と、基板ステージ22に支持されている基板20に対して液体材料を吐出可能な液体吐出ヘッド21と、液体吐出ヘッド21を移動可能に支持する第2移動装置116と、液体吐出ヘッド21の液滴の吐出動作を制御する制御装置23とを備えている。更に、薄膜形成装置10は、ベース112上に設けられている重量測定装置としての電子天秤(不図示)と、キャッピングユニット25と、クリーニングユニット24とを有している。また、第1移動装置114及び第2移動装置116を含む薄膜形成装置10の動作は、制御装置23によって制御される。
本実施形態の薄膜形成方法は、準備工程と、薄膜形成工程とを有している。また、本実施形態の薄膜形成方法においては、上述の薄膜形成装置10によって、基板20上に液体材料が吐出配置される。以下、各々の工程の詳細について説明する。
準備工程は、実際に基板20に薄膜を形成する場合と同様の条件で薄膜を形成し、この薄膜の端部における***部分の幅(以下、***幅と称する)を把握し(把握工程)、この把握された***幅に基づいて液体材料を配置する領域である配置領域(液体材料配置領域)を決定する工程(液体材料配置領域決定工程)である。なお、本実施形態の薄膜形成方法においては、本準備工程以前に、吐出配置される液体材料に応じた最適な乾燥条件が決定されているものとする。
親液化処理としては、例えば、大気圧プラズマ法、UV処理法、有機薄膜法(デカン膜、ポリエチレン膜)などが挙げられる。プラズマ法では、対象物体の表面に、プラズマ状態の酸素を照射することにより、その表面が親液化あるいは活性化される。これにより、基板20の表面の濡れ性が向上し(基板20の表面の接触角が処理前70°前後であったものが、例えば20°以下になる)、薄膜の膜厚の均一性の向上が図れる。
薄膜形成工程は、実際に基板20上の薄膜形成領域Aに膜厚が均一化された薄膜Hを形成する工程である。
次に、上述の準備工程において決定された配置領域B(薄膜形成領域Aより広い領域)に液体材料L1を薄膜形成装置10を用いて吐出配置することによって、図5(a)に示すように、配置領域Bに液体材料膜L2を形成する。
さらに、液晶層に駆動信号を供給するためのドライバIC213と、光源となるバックライト214を備えている。
他方のガラス基板202には、その内面に、上記のカラーフィルタ204側の電極と直交するようにして、複数の電極209がストライプ状に形成されており、これら電極209上には、配向膜210が形成されている。なお、上記カラーフィルタ204の各着色層204R、204G、204Bはそれぞれ、ガラス基板202の電極209と上記ガラス基板201の電極207との交差位置に対応する位置に、配置されている。また、電極207,209は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料によって形成されている。ガラス基板202とカラーフィルタ204の外面側にはそれぞれ偏向板(図示せず)が設けられている。ガラス基板201,202同士の間には、これら基板201,202同士の間隔(セルギャップ)を一定に保持するための不図示のスペーサと、液晶203を外気から遮断するためのシール材212とが配設されている。シール材212としては、例えば、熱硬化型あるいは光硬化型の樹脂が用いられる。
また、この液晶表示装置200では、オーバーコート膜206の端部における***部分206a及び配向膜208,210の端部における***部分208a,210aが遮光膜215上に配置されているため、新たにこれらの***部分206a,208a,210aの配置領域を設けることなく表示領域A1における配向膜208、210及びオーバーコート膜206の膜厚を表示領域A1において均一化することが可能となる。
まず、図7(a)に示すように、カラーフィルタ204及び遮光膜215が形成された基板201上にオーバーコート膜206を液滴吐出法を用いて形成する。この際、上述の本実施形態の薄膜形成方法を用いてオーバーコート膜206の端部における***部分206aが表示領域A1の外部に配置されるように、オーバーコート膜206を形成する。このようにオーバーコート膜206を形成することによって、表示領域A1におけるオーバーコート膜206の膜厚が均一化され表示領域A1における平坦性が向上される。
具体的には、まず、図8(b)に示すように、シール材212が配置されているガラス基板201,202の縁部に主に圧力をかけ、シール材212とガラス基板201,202とを接着する。その後、所定の時間の経過後、シール材212がある程度乾燥した後に、ガラス基板201,202の外面全体に圧力をかけて、液晶203を両基板201,202に挟まれた空間全体に行き渡らせる。
この場合、液晶203がシール材212と接触する際には、すでにシール材212がある程度乾燥しているので、液晶203との接触に伴うシール材212の性能低下や液晶203の劣化は少ない。
そして、以上のような工程を経ることによって、図6において示した液晶表示装置200が製造される。
液晶表示装置580は、互いに対向するように配置された素子基板574と対向基板575と、これらの間に挟持された液晶層702と、対向基板575に付設された位相差板715a、偏光板716aと、素子基板574に付設された位相差板715b、偏光板716bとが備えられた液晶パネルを主体として構成されている。この液晶パネルに、液晶駆動用ドライバチップと、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶表示装置が構成される。
本例の電子機器は、本発明の液晶表示装置を表示手段として備えている。
図12(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図12(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の液晶表示装置を用いた表示部を示している。
図12(b)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図12(b)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記の液晶表示装置を用いた表示部を示している。
図12(c)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図12(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記の液晶表示装置を用いた表示部を示している。
図12(a)〜(c)に示すそれぞれの電子機器は、本実施形態の薄膜形成方法を用いることによって製造された液晶表示装置を表示手段として備えているので、表示特性が高い表示手段を備えた電子機器とされる。
Claims (5)
- 液体材料を液滴として吐出して基板上に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、
薄膜形成領域より広い液体材料配置領域に前記液体材料を吐出し、前記液体材料を乾燥させることによって、前記薄膜の端部における***部分を前記薄膜形成領域外に配置することを特徴とする薄膜形成方法。 - 前記薄膜の端部における***部分の幅を把握する把握工程と、
前記把握工程において把握された前記薄膜の端部における***部分の幅に基づいて前記液体材料配置領域を決定する液体材料配置領域決定工程と
を有することを特徴とする請求項1記載の薄膜形成方法。 - 前記基板が液晶表示装置用の基板でありかつ前記薄膜が配向膜である場合に、前記薄膜の端部における***部分を前記薄膜形成領域を囲う遮光膜上に配置することを特徴とする請求項1または2記載の薄膜形成方法。
- 前記基板が液晶表示装置用の基板でありかつ前記薄膜がオーバーコート膜であることを特徴とする請求項1または2記載の薄膜形成方法。
- 前記薄膜形成領域が表示領域であることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の薄膜形成方法。
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