TWI281579B - Liquid crystal display device and method of fabricating the same - Google Patents

Description

1281579 « 玖、發明說明： [發明領域] 本發明係關於一液晶顯示器裝置，較特別的是一液晶顯 示器裝置提供一封閉構件以封閉二基材之周邊部分，及其 製造方法。 [背景技藝] 種使用一薄膜電晶體之主動矩陣型液晶顯示器裝置， 包含一 TFT陣列基材，其中閘極（γ電極）及資料電極（χ電極）

配置成一矩陣，且薄膜電晶體（TFT)位於矩陣相交點處，及 一相對立基材面向TFT陣列基材而其間具有一間隙。藉由薄

膜電晶體，液晶顯示器裝置可控制一電壓施加於封合在TFT 陣列基材與相對立基材之間之一液晶，及使用液晶之光電 效應以執行影像顯示。 封閉構件通f用於封閉三玻璃或類此物製成之基材 2液aa，保護液晶不受裝置外之水及環境改變所致之 木此封閉構件係由熱固性樹脂及紫外線固化 且利用網印法或利用-施配器以製成於其中—基材之周 部分上，另一其妊目,f & ^ ^ A材則黏接於設有封閉構件之基材，隨後. 基材相互慶人Η ‘ # > ^ …、。在紫外線固化樹脂之例子中，」 外線固化樹脂係固化 及濕度之環境變化中除了:閉構件接合。在心 外，封閉構件另•口現; ㈤機械性黏接力及高穩定士 如料#| 錢心溫度及防止液晶㈣等性質 之技術二:== 例如昭和57(1982)-1713 19號

O:\65\65248-93033I.DOC -6- 1281579 曰本先前公開案，缺口係提供於雙層結構之一内封閉構件 中’使得一做為間隙調整之封閉寬度變大。在平成 5(1993)-5890號日本先前公開案中，内封閉構件之一角隅部 分呈斷裂狀，使得因為空氣進入原先填以液晶處所產生中 工。卩刀之空氣積聚，不致於液晶注入雙層結構時產生於液 晶内。再者，在平成5(1993)_127177號曰本先前公開案中， 複數開孔係提供於内封閉構件中，使得液晶可在短時間内 注入雙層結構，且不損及一對準膜。在昭和64(1989)_5442〇 號日本先前公開f中，—開孔冑分係提供於一内封閉構件 中，使得足量之液晶可注入内封閉構件之一區域中。 此外，在平成5(1993)_232482號曰本先前公開案中，由金 屬線材製成之-壁狀部分係製成於單_圓形封閉構件之液

晶注射孔内，目而可使液晶之流動方向不變，藉以防止發 生對準混亂及對準瑕疵。 X 雖然以下技術並非直接相關 反射板及液晶單元之外周邊係 封閉構件内側之技術係揭露於 先前公開案中。 於本發明，但是一用於連接 埋以封閉構件及雙突起設於 昭和62(1987)_286〇18號曰本 [本發明解決之問題] 如上所述，目前有許多背景技蓺 又κ 1糸相關於封閉構件，♦ 液晶顯不器裝置内之顯干γ岡、惠 田 之』不Q周邊可充分固定時即可採用諸 此背景技藝，惟，由於近年來液曰gg — m 抹用。^ 平不液日日顯不器裝置需要迷你化， 因此，2至3毫米窄之顯示區周 小化 固I&必須加以設計。-美 材疊置後需予以加壓及加熱，使 一土 才1構件可以流體狀態

O:\65\65248-930331.DOC -7- 1281579 呈局部流出。在窄框例子中， 而擴散至顯干「 _閉構件有時會經過線路 件^，特収"使用混合樹詩封閉構 材Γ-，一構 MU 直線m由於㈣構件㈣態且曲 =式外流’因此會發生-區域局部地突伸出框外 顯不器裝置中之顯+ π备 錢構使液晶由—對準膜排序，以 利正確地配置，甚 右封閉構件擴散入對準膜内，且封閉構件 「涛膜例如係設於對準膜之表面上，則液晶之對準 即呈化亂。再去 Α 一旦/ ‘ 在細加一電麼之正常白色模式中，-顯 一厂立 仁疋儘官有施加電遂，封閉構件擴散處之顯 不區部分仍為白色，因此會發生瑕疲顯示問題。 .員 曰，發^ 系用於解決此問題’本發明之目的在提供一種液 日日裝置’其可防止_耗之封閉構件流人—顯示區。 、毛明之另一目的在提供一種液晶顯示器裝置，其可防 止液晶注人重疊基材之間間隙而積聚空氣所致之瑕 不 〇 本t月之又目的在提供一種液晶顯示器裝置，其可防 止重疊基材之間間隙互有差異。 [解決問題之手段] 對上述目的’如圖1⑷及1⑻所示，本發明之液晶顯示 益f:置包含一第—基材1及一第二基材2,皆以-預定間隙 又液曰日，係封閉於間隙dl中；—封閉構件4，係提 供於弟-及第二基材i、2間之間隙以處，且在一顯示區3 外’封閉構件4用於封閉液晶；及一壁狀結構5，係提供於

O:\65\65248-930331.DOC 1281579 顯示區3以外及封閉構件4以内’壁狀結構$可“ 構件4之材料製成，且包含複數列。 、， 右壁狀結構5係由複數虛線形列組成，且各列具有預定之 缺口’則液晶可完全注入間_，而不致於注入液晶至間 ，dl内k產生空氣積聚，因此可改善影像品質。應注意的 疋，虛線列之缺口長度不必為固定。 再者，若壁狀結構5中之虛線列之缺口係交替地製成複 列，使得封閉構件4不致於直接流入顯示區3，則其較佳為 ^_示區3周|5之封閉構件4溶化及到達顯示區3，因而可 避^發生-瑕疮顯示。當複數列缺口之交替製成改以其他 文予說明時，可稱為當以封閉構件4視之則複數列壁狀結構 之任思壁面係存在於顯示區3前方。 此外，以防止封閉構件4流出及設計窄框之觀點來看，複 數列之數量應該設定為大約二至三列。 此外’若提供一柱狀結構6以保持第一及第二基材1、2 間之間隙di為固定，且壁狀結構5之形狀係依柱狀結構6之 、而疋具有壁狀結構5之周邊部分中之一間隙並未不同 於其他部分者。因此，關於此點，其亦可避免發生一瑕疵 顯不。特別是，面積（預定面精）之柱狀結構 )及含有劈狀結構5之柱狀結槿61 積）係大致設定為固定，藉由此結 構’其較佳為可避免間隙由壁狀結構5擴大，因而避免間隙 d 1混亂。 壁狀結構5中之虛線列之缺口係依第一基材1上或第二基

O:\65\65248-930331 .DOC 1281579 :/者上製成之線路位置而決定，因此，其較佳為可避 免于閉構件4炫化及經過線路到達顯示區3。 #卜右壁狀結構5係建構使壁狀結構5之高度小於第一 及第一基材卜2間之間㈣’則儘管封閉構件4局部到達壁 、^冓5之間隙，封閉構件4仍可避免到達顯示區3。易言 之，猎由毛細管現象實際擴寬壁狀結構5之間隙，封閉構件 4之流出即可停止於該部分之壁狀結構5處。 在此，本發明中之壁狀結構5可提供於第一及第二基材 1 2内惟，若壁狀結構5提供於設有柱狀結構6之基材内， 貝J 土狀、、、σ構5可在製成柱狀結構6之同一製圖步驟中製成。 再者，本發明之一液晶顯示器裝置包含第一基材丨及第二 土材 白以預疋間隙d 1設置；一液晶，係封閉於間隙d j 中，封閉構件4，係提供於第一基材1及第二基材2間之間 隙dl處，封閉構件4設於一顯示區3外，以封閉間隙μ内之 液曰a，及一壁狀結構5，係設於顯示區3以外及封閉構件4以 内’壁狀結構5用於防止封閉構件4流入顯示區3。 封閉構件4以流體狀態流出，以在加熱時將第二基材2壓 抵於第一基材1，壁狀結構5可阻止熔態之封閉構件4侵入顯 示區3，且若液晶大致自顯示區3流出，則壁狀結構$可令液 晶流出顯示區3。因此，可避免封閉構件4因加熱而進入顯 示區3所發生之一瑕疵顯示，且注入之液晶可遍及框形封閉 構件4製成之區域上。 易言之，壁狀結構5係建構以避免注入欲封閉之液晶時發 生空氣積聚，例如，壁狀結構5可建構成一由複數虛線列組 O:\65\65248-930331 .DOC -10- 1281579 成之列結構。 本發明之一製造液晶顯示器裝置方法包含：一壁狀結構 製造步驟，用於施加樹脂至一基材1，及製出樹脂圖案以製 成一框形之壁狀結構5，壁狀結構5圍繞一顯示電極3 ; 一封 閉構件施加步驟，用於施加一框形之封閉構件4至壁狀結構 製造步驟中製成之壁狀結構5以外之一部分第一基材；一黏 接步驟，用於配置一第二基材2，以面向在封閉構件施加步 驟中施加以封閉構件4之第一基材1，將第二基材2壓抵於第 一基材1，以利用封閉構件4使第一及第二基材丨、2相互黏 接；及一液晶注射步驟，用於注射一液晶於第一及第二基 材1、2之間。 在此，本發明中之第一基材丨可為一陣列基材，其上製成 一薄膜電晶體及類此物，或者第一基材丨可為一 CF基材，其 上製成一濾色件及類此物。易言之，其可提供於任意欲黏 接之基材内。 在壁狀結構製造步驟中，若一用於調節第一及第二基材 1、2之間間隙尺寸之柱狀結構6係與壁狀結構5一起製成圖 案，料f要提供一分離之步驟做為柱狀結構製造步驟。 特別是在壁狀結構5形狀係依據柱狀結構6之位置決定之例 子中，而非依據一間隔件，則壁狀結構5及柱狀結構6即可 同時製成，因而改善製造產物之品質。 再者，右在壁狀結構製造步驟中製成之壁狀結構5係由具 有預定缺Π之虛線列構成，及由—含有複數列之框狀結構 構成，則在黏接步‘驟中溶化之封閉構件4可避免流出至顯示

O:\65\65248-93033 [DOC -11 - 1281579 區3。 /方面’若在壁狀結構製造步驟中，光敏性樹脂係施加 弟一基材1 ’而若一uv曝光係執行於—使用光罩之樹脂， 且隨後固化樹脂，則其可利用高進 羊度製圖以製成壁狀結構。 此外，若本發明之製造液晶顧+ 日日”肩不态裝置方法進一步包含 一對準膜施加步驟，用於施加一對 制、 對準膜，且係在壁狀結構 裝造步驟及用於施加一封閉構件 再干之封閉構件施加步驟後執 行，及係在對準膜施加步驟後製成，則對準膜即在—抗# 步驟執行且壁狀結構5製成時製成。因此，因抗料驟所致 之對準混亂現象即可避免。 [本發明之較佳實施例] 本發明之實施例將參考配合圖式而詳述如下。 圖2係-立體圖，說明本發明之此實施例中之一液晶顯示 器裝置全部結構，參考編號21表示一陣列基材，即一第一 基材及一薄膜電晶體（TFT)，且一顯示電極、一對準膜及類 此物係製成於陣列基材21上。在此實施例中，由裝置之迷 你化以觀u係設計以令製成於陣列基材周邊及顯示 區30之間之-窄框之寬度窄至3毫米以下。另方面，參考編 號22表示一 CF基材，即一第二基材及一黑色矩陣，且一濾 色件、一相對立之ιτο電極及一對準膜係製成於cF基材22 之後表面上。再者，在陣列基材21之周邊處，一框形封閉 構件23係製成以利圍繞於陣列基材21之顯示區％。圖2中， 封閉構件23係提供於陣列基材21上，惟，封閉構件23亦可 提供於CF基材22上。再者，在此實施例中，由含有硬化劑

O:\65\65248-930331 .DOC •12- 1281579 之環氧樹脂製成之熱固性樹脂使用做為封閉構件23，CF基 材22疊置於陣列基材21上，且相互壓合，隨後加熱該二基 材’因此封閉構件23再次呈膠狀及固化，藉此使陣列基材 21及CF基材22皆穩固地相互黏接。再者，一液晶注射孔24 係提供於封閉構件23内，在陣列基材2i&CF基材22已穩固 地相互黏接後，一液晶即自液晶注射孔24注入陣列基材21 及CF基材22之間之一間隙，隨後液晶注射孔24利用高純淨 度矽膠劑或類此物製成之封合劑（圖中未示）封合之。 圖3係一局部放大圖，揭示本發明實施例中之陣列基材 及提供於陣列基材21上之構成組件，儘管相同之構成組件 可提供於CF基材22上，但是在此實施例中這些構成組件係 提供於陣列基材21上。 如上所述，封閉構件23係提供於陣列基材21之周邊部分 上，且一具有一 TFT陣列3丨與一顯示電極32之顯示區％係提 供於封閉構件23内侧，一影像即實際上由顯示區3〇顯示。 參考編號28係一柱狀構件，用於替代一間隔件，以調節一 早兀之間隙，該間隙係陣列基材21&CF基材22間之距離（間 隙），正確數量之柱狀構件28藉由對應於黑色矩陣之位置製 成圖案而製成於陣列基材21上，再者，參考編號29表示一 提供於陣列基材21上之電極（線路）。 在此實施例中，一壁狀構件25係提供於封閉構件23與顯 示區30之間，壁狀構件25由二列組成，各列包括外壁狀構 件26及内壁狀構件27。壁狀構件25係由紫外線固化樹脂製 成，其相同於柱狀構件28者，紫外線固化樹脂係由15至25%

O:\65\65248^930331.DOC -13 - 1281579 丙婦酸樹脂、1G至鳩㈣酸單體、2至1()%光敏性劑、及 55至65%溶餘成。壁狀構件邱列間之間距設定為5至 〇u米’且陣列採用一具有缺口之虛線形狀，再者，陣列 之，口係乂替地製成，而不存在於一垂直於陣列之線上。 易5之，由外壁狀構件26或内壁狀構件27任一者構成之一 :ι之缺口係製成以面向相對立列上之任一壁狀構件。在此 =例中’以以之尺寸而言’壁狀構扣之長度㈣設定 為100微米至1〇〇毫米，缺口 、 長度（sl)設定為5微米至1〇毫 ” ’外壁狀構件26之寬度（d2)設定為 马5被未至50微米，及内 土狀構件27之寬度（d3)設定為 區30與内壁狀構件卡’此外，顯示 乎 距離（s3)設定為大約95微 未，及外壁狀構件26與 為5微米至3崎米。配置成=之—間隙（S2)設定 m#27_ ^ ^ " 一列之外壁狀構件26與内壁狀 構件27不必採用相同形妝， ，、形狀係依一線路元件29之 位置及一柱狀構件28之位置決定。 外與内壁狀構件26、27 上历 们、们為何設定在5微米以 上之原因如下，特別是，外 至5微米以下之寬 ：狀構件26、27無法製圖 方面々“ 或八即使可製圖但是亦無法精確。另 方面，外與内壁狀構件26、27 微米以上之原因如下，特別3二度㈣為何設定在5〇 則顯示區30内之辟狀構件：右見度大於50微米， 大，因此在2: 對柱狀構件28之-面積比會變 口此在備有壁狀構件25 CF基材22間之間隙增大鬥邊七刀内之陣列基材21及 另方面：導致影像品質惡化等問題。 土狀構件25之長度dl為何設定在1〇〇微米以上之

O:\65\65248-930331 .DOC ' 14- 1281579 原因為其不易防止封閉構件23進入顯示區30内，壁狀構件 ^之長度dl為何設定在⑽毫米以下之原因為若長度^設 定在100毫米以上，則會產生液晶未注入之一區域。再者， 各歹J中之缺π長度（sl)設^在5微米至毫米之原因如下， 特2是若缺口長度（sl)短於5微米’缺口即無法精準製成， 且會產生一未注入液晶之空氣積聚處，而若缺口長度（sl) 長於10毫米，則無法取得在二列中配置壁狀構件25之效果。 /再者，外壁狀構件26與内壁狀構件27之間間隙（s2)設定在 5微米至300微米之原因如下，特別是若間隙⑻小於5微 米其即不易精準製成間隙，且液晶有時無法注入顯示區 3〇内mi隙（s2)大於300微米，則其無法達成窄框式設 計。 圖4⑷及4(b)揭示此實施例之液晶顯示器裝置局部截面 圖，在此，圖4(a)之液晶顯示器裝置中，構成壁狀構件乃 之外壁狀構件26與内壁狀構件27係提供於陣列基材21，圖 啊揭示液晶顯示器裝置之—修改型式，其中構成壁狀構件 25之外壁狀構件26與内壁狀構件27係提供kcf基材u上。 在圖4(a)中，外壁狀構件26與内壁狀構件27係以相同於柱 狀構件28所用之製圖過程製造’在此實施例中，外與内壁 狀構件26、27之高度設定為大約45微米。_著色層％製成 於相對立之CF基材22上，且一面向柱狀構件35係利用製圖 乂隹且於著色層36上，柱狀構件28及面向柱狀構件35用於 保持單元間隙hi為大約4.8微米，此係由陣列基材21&CF基 材22構成之一間隙。結果，陣列基材2i&cf基材u結合成

O:\65\65248-930331.DOC -15- 1281579 使外壁狀構件26與内壁狀構件27產生一大約〇.3微米之間 隙於構件26、27頂部與相對立基材（電極）之間。 另方面，相較於圖4(a)，壁狀構件25及柱狀構件28可利用 製圖以製成於CF基材22側上，且面向柱狀構件3 5可堆疊於 陣列基材21側上，如圖4(b)所示。特別是如圖4(幻所示，若 具有一大高度之壁狀構件25及柱狀構件28係提供於陣列基 材21側上，壁狀構件25及柱狀構件28之高度即由其他膜製 造步驟干擾，同時高突出部會施加大衝擊力於其他階級 上。基於此原因，可有效地提供具有大高度之壁狀構件25 及柱狀構件28於CF基材22侧上，而不在陣列基材21側上， 其中係執行複雜之膜製造步驟。 圖5揭不封閉構件23製成後之狀態，陣列基材2丨及CF基材 22係確貫疊置，且在加熱時相互壓合。 藉由壓合及熱處理，封閉構件23即呈膠狀及流出，如 圖5所示。由於混合之樹脂係用於封閉構件23，因此封閉構 件23之一流出速度會因為材料不同而有差異，且散佈情形 並非呈筆直狀，結果，熔態之封閉構件23易流出而產生一 曲折線。在此實施例中，請注意稍後注入之1泊以下液晶黏 度、10至100泊封閉構件23黏度、及一 1〇至500泊封閉構件 (圖中未示）黏度等之黏度差，液晶顯示器裝置係建構成儘管 液晶可進入顯示區30而不受壁狀構件25之外與内壁狀構件 26、27阻礙，但是封閉構件23及封閉構件再次碰撞壁狀構 件25 ’其藉由壁狀構件25之阻礙而不致進入顯示區3〇。特 別是如圖5所示，膠狀之封閉構件23碰撞外壁狀構件％，並 O:\65\65248-930331.DOC -16- 1281579 且藉由毛細管現象而擴散通過外壁狀構件26與基材η及著 色層36其中-者間之間隙，亦即圖4(a)、4(b)中所示之間隙 (hl-h2)’隨後封閉構件23到達内壁狀構件”。惟，封閉構 件23進入顯示區30係受到内壁狀構件27之阻止，因此封閉 構件23不致於直接進入顯示區3〇。 另方面，由於隨後欲注入單元間隙内之液晶呈現低黏 度，則液晶進入顯示區30將不受構成壁狀構件乃之外與内 壁狀構件26、27阻礙，易言之，壁狀構件25不影響液晶注 入由封閉構件23封閉之單元間隙内，亦即液晶可充分注入 單元間隙且不產生任何空氣積聚。特別是因為壁狀構件以 構成具有缺口之虛線，所以液晶可進入壁狀構件25之背 側，且可避免發生空氣積聚。 如上所述，依本發明之壁狀構件25結構所示，由於高黏 度之封閉構件23可藉由毛細管現象而擴散通過壁狀構件25 與相對立基材之間間隙，因此封閉構件23不致於直接進入 顯不區30，且其可避免因封閉構件23進入導致對準混亂。 另方面，關於低黏度之封閉構件23，液晶可流入由此封閉 構件23構成之一封閉區域内，結果即可避免無液晶流入之 區域内發生空氣積聚，藉此防止因液晶之空氣積聚突伸入 顯示區30内所致之瑕疵顯示。 此外’在此實施例中，壁狀構件25之寬度與長度以及壁 狀構件25之缺口長度係依據柱狀構件28之位置而決定，因 此’壁狀構件25對相對立基材之面積比以及柱狀構件28對 相對立基材之面積比係互等，使其可保持由陣列基材2丨及 O:\65\65248-930331.DOC -17- 1281579 # CF基材22構成之一間隙大致為一固定之單元間隙，因此可、 避免發生設有壁狀構件2 5之周邊部分内之這些基材之間大 間隙所致一瑕庇顯示等困擾。 圖6(a)至6(e)揭示此實施例中製造液晶顯示器裝置之一 方法，應注意的是在圖6(a)至6(e)中雖然舉例說明壁狀構件 25及柱狀構件28皆製成於陣列基材21上，但是壁狀構件25 及柱狀構件28應另可製成於CF基材22上。 首先，圖6(a)揭示一抗蝕劑施加步驟，在施加步驟中，由 光敏性丙烯酸樹脂製成之紫外線固化樹脂4〇(抗蝕劑塗層）_ 係施加於由玻璃基材製成之陣列基材21上，至大約5微米厚 度，其依據CF基材22結構而使用聚醯亞胺樹脂，不用丙烯 酸樹脂。 其次，製程進行到一製圖步驟，供製成壁狀構件25及柱 狀構件28，如圖6(b)所示。在此製圖步驟中，先執行一 uv · 曝光且使用一光罩，可取得由Uv曝光製成之一負極，亦即 固化由一光線照射之光敏性紫外線固化樹脂4〇部分，因而 取得壁狀構件25及柱狀構件28之基本結構。υν·光過程 中，其基本結構亦可由一正極取得。隨後進行一鹼性顯影， 以去除未固化之部分，且將陣列基材21洗淨及乾燥。同化 之樹脂係以大約230。(：烘烤，構成壁狀構件25及柱狀構件28 之樹脂完全利用此烘烤而硬化。壁狀構件25及柱狀構件Μ 製成後，施加一聚醯亞胺對準膜。而在壁狀構件以及柱狀 構件28製成後才實現施加對準膜步驟之原因係於施加對準 膜之後才執行抗#劑步驟會授亂對準。 O:\65\65248-930331 .DOC -18- 1281579 接著，製程進行到一步驟，用於施加封閉構件23，如圖 6(c)所示，在此實施例中，使用環氧樹脂所製成熱固性樹脂 之封閉構件23係在圖6(b)步驟中製成之壁狀構件25外側形 成一框狀’封閉構件23以一施配器方法施加，在此狀態中， 封閉構件23具有一略高之高度，以用於所需之單元間隙， 此時提供一液晶注射孔供稍後注入液晶。 其次，製程進行到一組裝步驟，如圖6(d)所示，在此步驟 中，CF基材22係一相對立基材，對準膜在其上壓抵於陣列 基材21 ’而陣列基材上製成壁狀構件25、柱狀構件28、及 封閉構件23，由此令其相互穩固地黏接。特別是在（^基材 22豐置於陣列基材21上後，若基材之尺寸為36〇毫米以6〇毫 米，則施加1噸以下之壓力，且加熱至大約15〇〇c。封閉構 件23藉由加熱而熔化及呈膠狀，隨後封閉構件以利用其内 固化劑之固化反應而自流體樹脂成為固化之樹脂，因此封 閉構件23即穩固地黏接於CF基材22，且陣列基材21及(^^基 材22相互接合，使得柱狀構件28及先前面向柱狀構件35所 決疋之單元間隙得以保持。在實施例中，當陣列基材21及 CF基材22接合時，膠狀封閉構件23即以毛細管現象進入壁 狀構件25及相對立基材（CF基材22)之間構成之間隙，膠狀 封閉構件2 3並未到達由一顯示電極及類此物組成之顯示區 3 0，而留在壁狀構件25之位置處硬化。 · 隶後’製权進彳亍到一液晶注射步驟，如圖6 (e)所示，由封 閉構件23封閉之一區域係製成空置狀，且液晶自液晶注射 孔24注入，由於注入之液晶顯現一極低之黏度，因此不論 O:\65\65248-930331.DOC 19 - 1281579 土狀構件25如何，液晶皆可到達壁狀 3〇 , ^ ^ # y 干5以外之顯示區 、、、口果，其可執仃液晶注射而不致產生办 、六日、> 二乳積聚。隨後， 液日日注射孔24終止於一封閉構件， .^ 口阳凡成一連串之製造 依此實施例中製造-液晶顯示器裝置之方法，陣列基材 取CF基材22可㈣封閉構件23接合，而保持二基㈣之 單元間隙在二基材上呈固定。在注射液晶中所發生之空氣 積聚得以避免，因此其可製成—高敎性之液晶顯示器裝 置。再者，可阻止封閉構件23進入顯示區3〇之壁狀構件Μ 係與柱狀構件28同時製成圖案，因此不必進行另-步驟製 成壁狀構件25。 [本發明之優點] 如上所述，依本發明所示，在具有一窄框於第一及第二 基材内之液晶顯示器裝置中，封閉構件進入顯示區所造成 之液晶顯示器裝置瑕疵即可有效地去除。 圖式簡單說明： 圖1(a)及1(b)係說明本發明液晶顯示器裝置之概略。 圖2係一立體圖，說明本發明實施例中之液晶顯示器裝置 結構。 圖3揭示本發明實施例中之一陣列基材21局部放大。 圖4(a)及4(b)係本發明實施例中之液晶顯示器裝置局部 截面圖。 圖5揭示二基材相互接合時之狀態。 圖6(a)至6(e)係說明本發明實施例中之液晶顯示器裝置

O:\65\65248-930331.DOC -20 - 1281579 製造方法。 [參考編號之說明] 1…第一基材、2…第二基材、3…顯示區/顯示電極、4… 封閉構件、5…壁狀結構、6…柱狀結構、21···陣列基材、 22…CF基材、23···封閉構件、24···液晶注射孔、25···壁狀 構件、26…外壁狀構件、27…内壁狀構件、28…柱狀構件、 29…線路構件、3 0…顯示區、3 1…TFT陣列、3 2…顯示電極、 3 5 · · ·面向柱狀構件、3 ό · · ·著色層、及4 0 · · ·紫夕卜線固化樹月旨。 O:\65\65248-930331.DOC -21 -

Claims (1)

1. &4 &4

   128 1#78¾ 14729號專利申請案， 中文申請專利範圍替換本(94年8月） 拾、申請專利範圍： 1· -種液晶顯示器裝置，其具有第一及第二基材，係以一 預疋間隙設置’且封閉一液晶於一間隙中，1包含· -封閉構件，係提供於該第一及第二基：間之間隙 處該封閉構件设在-顯示區外，用於封閉液晶；及 一壁狀結構，係提供於顯示區w外及冑閉構件以内， 該壁狀結構可由不同於該封閉構件之材料製成，且包含 複數列’該壁狀結構虛線形列組成，該虛線形列具有缺 口，该壁狀結構的缺口係在複數虛線形列中交替形成而 使複數壁狀結構一列的缺口與另一列的缺口在該壁狀結 構的長度方向上互相錯開，以使該封閉構件不會從壁狀 結構的外部直接流入該顯示區域，其中該壁狀結構中之 複數虛線列之缺口係依該第一基材上或該第二基材任一 者上製成之一線路位置而決定。 2·如申請專利範圍第i項之液晶顯示器裝置，其中提供一柱 狀結構以保持該第一及第二基材間之間隙為固定，且該 壁狀結構之形狀係依該柱狀結構之一狀態而定。 3·如申請專利範圍第1或2項之液晶顯示器裝置，其中該壁 狀結構係建構使其一高度小於該第_及第二基材間之間 隙。 4· 一種液晶顯示器裝置，其具有一第一基材及一第二基 材’係以一預定間隙設置’且封閉一液晶於一間隙中， 其包含： 一封閉構件，係提供於該第一及第二基材間之間隙 O:\65\65248-940803.DOC _ 1 . 1281579 内w亥封閉構件設於一顯示區外，以封閉該間隙内之液 曰曰日；及 ^ 土狀結構，由複數平行列之交錯缺口組成，係設於 '、、、員不區以外及該封閉構件以内，而使複數壁狀結構一 歹J的缺口與另一列的缺口在該壁狀結構的長度方向上互 相錯開’該壁狀結構用於防止該封閉構件流入該顯示 區其中當該第二基材壓抵於該第一基材時，加熱該第 及该第二基材，該封閉構件即以流體狀態流出，該壁 狀、、、Q構可阻止該封閉構件經由該壁狀之交錯缺口，侵入 該顯示區，該封閉構件係呈流體狀態，且當該液晶自該 顯示區流出時，可容許該液晶流入至壁狀結構外側。 5.如申請專利範圍第4項之液晶顯示器裝置，其中當欲封閉 之該液晶流入該顯示區時，該壁狀結構可防止發生空氣 積聚。 6· 一種製造一液晶顯示器裝置之方法，其包含以下步驟： 施加樹脂至一第一基材上，及製出該樹脂之圖案以製 成一框形之壁狀結構’且圍繞一顯示電極； 施加一框形之封閉構件至該壁狀結構外側；一該壁狀 結構包含由複數列組成之框形結構，且各列呈現一具有 預定缺口之虛線形狀，其中之缺口呈互相錯開，而使複 數壁狀結構一列的缺口與另一列的缺口在該壁狀結構的 長度方向上互相錯開，以防止封閉構件流至· 曰曰 ， O:\65\65248-940803.DOC 配置一第二基材，以面向供施加該封閉構件於上之該 第一基材，及將該第二基材壓向該第一基材，以利用該 .rxr\r - 2 - 口 1281579 封閉材料使該第一及第-其 乐一基材相互黏接，其中一用於調 節第一及第二基材之間問脸σ , ]隙尺寸之柱狀結構係與該壁狀 結構一起製成圖案；及 注射-液晶於相互黏接之該第一及第二基材之間之一 間隙内。 7.如申明專利範圍第6項之方法，其中該壁狀結構係藉由施 加光敏性樹脂於該第一基材上、執行—υν曝光於使用一 光罩之樹脂、及固化樹脂而製成。 8 ·如申請專利範圍第6或7項之方法，其中一對準膜係在該 壁狀結構製成後才施加，及隨後該封閉構件施加於該壁 狀結構外侧。 O:\65\65248-940803.DOC