TWI251019B - Thermally conductive adhesive composition and process for device attachment - Google Patents

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TWI251019B
TWI251019B TW093109132A TW93109132A TWI251019B TW I251019 B TWI251019 B TW I251019B TW 093109132 A TW093109132 A TW 093109132A TW 93109132 A TW93109132 A TW 93109132A TW I251019 B TWI251019 B TW I251019B
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Miguel Albert Capote
Alan Greve
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Description

1251019 polymerizable carbon-carbon double bonds;:(b) free radical initiators; (c) a curable resin; and (d) crosslinking agents and accelerators· 丁he compositions can be applied directly onto the surfaces of devices to be joined mechanically and/or electrically and are ideally suited for semiconductor die attachment. During heating, the fluxing agent promotes wetting of the high melting point powder by the molten low melting point powder, causing liquid phase sintering of the powders. The fluxing agent also promotes wetting of the metallizations on the die and substrate by the molten low melting point alloy, providing improved thermal conductivity. Simultaneously, the fluxing agent itself crosslinks to further mechanically bond the adherent surfaces· The absence of fugitive solvents creates a void-free bond. 七、 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為··第(無)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 無 八、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的 化學式: 九、 發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種使用於電子組裝製程中之熱導性黏著劑(thermally conductive adhesive)及其應用,特別是有關於在一具有散熱冷卻要求之電子元 件製程下所使用的材料、方法與組件。本發明亦係關於一種使用在半導體晶粒黏 著(die attachment)程序中可提供較佳散熱效果的黏著劑。 【先前技術】 就一項可有效使用於半導體元件製造的熱導性黏著劑而言,其必須能夠滿足在特 定應用需求下所要求的製造條件、使用可靠性與一定水準的效能表現。這些必要 的功能性質包括有黏著力(strength of adhesion)、熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion)、彈性(flexibility)、溫度安定性(temperature stability)、耐濕 1251019 性(moisture resistance),以及電、熱之導性(electrical and thermal conductivity) 等等。其中熱導性此一特質,是電子產業領域所最被看重的一項。在微型化趨勢 潮流以及日益升高之操作頻度要求情況下,對工程師其在電路系統散熱設計上的 改進需求因而不斷上升。去除封裝元件所產生之熱能是防止元件發生過熱所一定 必要的步驟,而這也是僅於一般操作狀態下仍會散失大量瓦數能量的高功率元 件,所會面臨到較大的問題。 在習知技術當中,用於晶粒黏著之黏著劑通常包含一佈置於固化樹脂 (cumble resin)例如環氧樹脂(epoxy),之銀箔或銀粉。然而,此類習知之黏著 劑其對於逸散大量熱能之元件而言,會有導熱不良的問題,同時,其在力學性能 的表現上亦有所不足。此外,因部分先前技術黏著劑含有用以維持低黏滯性之溶 劑混入,因此導致固化過程(cure)中會有空孔的形成,也使得必須在開始固化 之前,施予一較長之烘烤時間以完全去除此一溶劑。再者,黏著劑在環境老化 (environmental aging)因素作用之下通常形成不穩定的接觸阻抗(contact resistance)。而熱能及濕度也傾向降低黏著劑之黏度,當黏著劑吸收濕氣後可能 造成印刷電路插件(printed circuit assembly )過程時的剝離(delamination )失敗。 習知技術中爲數較少用於晶粒黏著之黏著劑具有適於使用在高功率元件的良好 熱導性。就此,銲料接合法不啻爲其中一種較佳的方式,銲接具有比大多數晶粒 黏著用黏著劑高甚多的熱導性優點,且銲接法還有可以在元件銲接部間形成密合 之冶金接合(metallurgicalbonds)之好處。該一冶金接合介面與典型的黏著介面 相比,則其具有極佳之熱傳導效果。 然而,銲料接合亦具有一些缺陷,例如銲接時在欲銲接之元件間,通常要有 銲料片(solder preforms)使用的必要,而銲料片的製造又較黏著劑塗膏之製造 爲昂貴。此外,許多晶粒黏著銲料含有不利於環保考量之鉛成分,而最好的無鉛 銲料其施作溫度又通常造成組件的損害。再者,若銲料加熱至高溫狀態時會發生 再熔化的反應,而高溫狀態卻又是例如在印刷電路版插件等電子製程所必需要 的,當電路中元件間之銲料發生再熔化時,將使零件分離導致失靈。 有關黏著劑之習知技術可見於美國專利6,613,123、6,528,169、6,238,599、 6,140,402、6,132,646、6,114,413、6,017,634、5,985,456、5,985,043、5,928,404、 5,830,389、5,713,508、5,488,082、5,475,048、5,376,403、5,285,417、5,136,365、 5,116,433、5,062,896與5,043,102 〇針對晶粒黏著之代表性先前技藝已見於美國 專利 4,811,081、4,906,596、5,006,575、5,250,600、5,386,000、5,399,907、5,489,637、 5,973,052、6,147,14卜 6,242,513 與 6,351,340,以及 PTC 申請公開案 W0 98/33645。上列文件皆附於參考文獻資料中。 可以同時提供銲接與導性黏著劑其各自優點之黏著劑新組成係爲一明顯存 在之需求。而一種可與元件形成冶金接合之傳導性黏著劑、一種不但保有高力學 強度且比現今銀粉樹脂組成物具更高熱傳導性之黏著劑、一種硬化後於高溫使用 下不發生再熔化的黏著材料、一種具有高熱傳導性但無需溶劑摻入亦能形成塗膏 而非以銲料片爲之的黏著材料、一種無鉛的黏著材料,以及,一種經老化或接觸 1251019 濕氣等情形後,不發生剝離失敗與黏性及傳導性降低的傳導性黏著劑皆係爲一實 際存在於產業界中的需求。 ^ 【發明內容】 本發明之標的係關於一種無需逸散性溶劑之熱導性黏著劑組成物,該組成物 包含有·· a) —高熔點之金屬或金屬合金之粉末; b) —低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 c) 一「熱固化黏著劑助銲劑」之組成物(thermally curable adhesive flux composition),其包含有: (i) 一種以RCOOH分子式表示之可聚合助銲劑(polymerizable fluxing agent),其中R表示一帶有一或多個可進行聚合反應之碳碳雙鍵的基團 (moiety);以及 (ii) 一種惰性劑,其可於高溫下與可聚合助銲劑發生反應,以維持可聚合助 銲劑之惰性。 本發明之標的亦係關於一電子組件(electronic assemblies),該電子組件包含 一電子元件(electronicdevice)及基版(substrate),兩者並以熱導性黏著劑加以 燒結(sintered)連接。前述黏著劑不含逸性溶劑且包含有: a) —高熔點之金屬或金屬合金之粉末; b) —低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 c) 一「熱固化黏著劑助銲劑」之組成,其包含有: (i) 一可聚合助銲劑; (ii) 一惰性劑,其可於高溫下與可聚合助銲劑發生反應以維持可聚合助銲劑 之惰性。 在較佳實施例中,熱導性黏著劑組成物進一步含有一或多個之下列構成成 分:U) —種溶劑,該溶劑可與可聚合助銲劑其所帶之可聚合碳碳雙鍵進行聚合 反應;(b) —種作爲自由基弓丨發來源之成分;(c) 一固化樹脂;(d) —種交叉鍊 結(crosslinking)劑,該成分可增進固化樹脂與惰性劑的交叉鍊結,以及(e) —加速劑以增加反應速率。 除此之外,本發明之標的尙係一專對電子元件與基版的黏著方法,該方法之 步驟包含: ⑻取一至少具有一個可黏著面(bondable surface)的電子元件; (b) 取一具有相對應之可黏著面(bondable surface)的基版; (c) 配置熱導性黏著劑於電子元件及基版兩者或其一之可黏著面上,前述黏著 劑不含逸散性溶劑且包含有: ⑴一高熔點之金屬或金屬合金之粉末; (ii) 一低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 (iii) 一「熱固化黏著劑助銲劑」之組成物,其包含有: (A) —可聚合助銲劑; 4 1251019 (B) —惰性劑,其係於高溫下與可聚合助銲劑反應以維持可聚合助銲劑 之惰性; = (d) 將電子元件放置於基版,使得電子元件上之可黏著面結合予基版之可黏著 面,因而形成一組合組件(combined assembly); (e) 於高溫下加熱該組合組件,使低熔點之金屬或金屬合金之粉末液化; (f) 使液化之低熔點金屬或金屬合金燒結予高熔點之金屬或金屬合金,同時亦 使惰性劑與助銲劑作用來維持助銲劑其惰性; (g) 使助驛劑聚合; ⑻冷卻組件。 【實施方法】 本發明中之黏著劑與習知技術的不同處在於,其可就元件及基版二者之間形 成冶金接合,因此,本黏著劑之黏接性質是類似於習知技術中使用於晶粒黏著時 之銲料的模式。然而,此不同於前述銲料之點,在於本黏著劑可以做成一種一經 加熱隨即融化並能再固化之塗膏,故其於隨後再加熱至原先第一次融化時之高溫 時,仍無再熔化現象的出現。本發明處理了習知技術中銲料與黏著劑所面臨到的 諸多缺點,提供了一種易於施作、無溶劑成分且可形成類似於銲料其冶金接合的 黏著劑。本黏著劑之發明尙有一功用即可作爲表面黏著製程中(surface mount (SMT)manufacturin)之靜料膏(solderpaste)的替代物。本發明進一步包含了一 種電子組件,其應用本黏著劑組成物提供較佳之散熱效果。 本發明組成物不含逸散性溶劑且包含有: a) —高熔點之金屬或金屬合金之粉末; b) —低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 c) 一「熱固化黏著劑助靜劑」之組成物,其包含有: (i) 一可聚合助銲劑(polymerizable fluxing agent); (ii) 一惰性劑,其係於高溫下與可聚合助銲劑反應以維持可聚合助銲劑 之惰性。 「熱固化黏著劑助銲劑」之組成物可選擇性地包含下列附加之成分: (i) 一種以RC00H分子式表示之可聚合助銲劑(polymerizable fluxing agent) ’其中R表示一帶有一或多個可進行聚合反應之碳碳雙鍵的 基團(moiety); (ii) 一種溶劑,該溶劑可與可聚合助銲劑其所帶之可聚合碳碳雙鍵進行 聚合反應; (iii) 一種作爲自由基起始劑之來源成分; (iv) —固化樹脂; (v) —種交叉鍊結(crosslinking)劑,該成分可增進固化樹脂與惰性劑 的交叉鍊結; (vi) —加速劑以增加反應速率。 1251019 本發明組成物之燒結及固化係由加熱達成,即當溫度增高至低熔點成分物之 液相線(liquidus point)溫度或其熔點時,發k月組成物進入瞬間液相(transient liquid phase)狀態。此不同於先前技藝美國專利6,613,123所揭示之「熱固化黏著劑助 銲劑」組成物於初期擔任移除金屬粉末表面氧化物,以及,促進熔融金屬表面濕 潤性之功能。當持續加熱至高溫時,本發明之液相化物與高熔點金屬物開始反 應,之後再循領域內熟知之液相燒結(liquid-phase sintering)技術進行等溫固化 (isothermally solidify)。本發明所用之加熱步驟亦具有中和樹脂內助銲劑以使其 化性安定與去除腐蝕性的功能。其亦無先前技術例如美國專利5,376,403所示: 熱能可能使得「熱固化黏著劑助銲劑」組成物於金屬物燒結當中或之後聚合成一 棘手之硬著物。另外,相關加熱之程序是由焊接所慣用之連續重流過程 (continuous reflow processes)技術或單純等溫過程法(simple isothermal processing methods )以達成。 本發明之較佳助銲劑其基本係由一個殘酸基(carboxylic acid groups )結合至 可爲聚合反應用之碳碳雙鍵的一種組成,故可以形成一高強度之固化黏著劑聚合 物。其中,前述之羧酸基係一可於銲接程序中毋須侵蝕性離子或鹵素幫助下進行 助銲反應,而碳碳雙鍵則可在加熱下開始聚合。這些步驟的完成並無氣體、7]C分 或有害之副產物的形成。而助銲劑之羧酸基以及其反應殘餘皆與一惰性劑在加熱 時發生中和,因此,在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物完成固化之後,殘餘助舞 劑已然完全惰化便再無侵蝕性之存在,更無洗去或移除步驟採行之必要。 「熱固化黏著劑助銲劑」組成物毋庸溶劑摻入仍得自行形成低黏滯性液體。 藉此可將含有低黏滞性之惰性劑、樹脂與稀釋劑混和,「熱固化黏著劑助銲劑」 組成物在無溶劑之加入下,仍具有夠低的黏滯性而能混入高量之導電塡料 (conductive filler)粉末0 在助銲劑行聚合反應作用下,進行液相燒結之黏著劑技術已可見於美國專利 5,376,403,然而,該習知技術主係專對具高導電性之電導黏著劑,例如印刷電路 中之導電走線(electrically conductive traces)之發明,其於固化時會產生通常對 其導電效能無害之微小空孔(micnwoids),然此一因素卻妨礙了該黏著劑在例如 矽晶粒黏著等此類具有高導熱性要求的應用可能性。就此,空孔的存在實際減低 了黏結強度以及降低其間之熱傳導性。 發明人發現上開習知技術案美國專利5,376,403,例如該發明實施例1至12 之丁基二甘醇(butyl carbitol),當中黏著劑內之空孔,其成因係爲所含逸散性溶 劑無法在固化程序中完全烤出所導致,而該逸散性溶劑又爲黏著劑組成物完全燒 結所必要。然本發明中所揭露之一種無需逸散性溶劑摻入之瞬間液相燒結黏著劑 (transient liquid phase sintered adhesives),此一槪念可能係被第一次提出,因其 瞭解不用逸散性溶劑製造之黏劑並不具有空孔,使得一藉由瞬間液相燒結程序達 到較佳熱傳導性黏著劑來進行黏結之可行方法首度提出。 1·助銲劑 助銲劑通常帶有羧酸基或羧酸基之前驅物,較佳助銲劑實施例係包含羧酸 1251019 基,而一最佳之助銲劑其分子結構爲RCOOH,其中R表示一帶有可以進行聚合 反應之碳碳雙鍵基團,且並不提供C00H基團予化學保護。本發明所示之助銲 劑其助銲活性較習知之聚合物與助銲劑混合物之形式爲佳。因本發明助銲劑具有 自交叉鍊結(self-crosslinking)之本質’儘管環氧樹脂可以額外加入以作爲中和 羧酸基之用,然而,「熱固化黏著劑助銲劑」組成物可以在毋需環氧樹脂存在之 下即進行交叉鍊結反應。 此外,較佳之助銲劑實施例其黏著性、機械完整性(mechanical integrity) 以及抗腐飩性亦較某些聚合物一助銲劑類之先前技藝爲佳。本發明助銲劑可以徹 底進行交叉鍊結,所有成分均於固化程序中被化學固定(chemically immobilized),甚至金屬助靜劑去氧化之反應副產物(by-products of flux deoxidization of the metals )亦化學結合於聚合物機質(matrix )。 羧酸基可以有效發揮助銲劑其移除金屬中氧化物的功能,同時,當助銲劑組 成物含有例如環氧樹脂等適當之熱固化樹脂時,反應態(reactive form)之羧酸 亦爲一非常有效的交叉鍊結基團。先前技藝美國專利5,376,403對此爲達到安定 化性與防止過早反應之發生而提出一必要之羧酸基的化學保護。化學保護是藉由 對於助銲劑種類限定於化學或熱能引發之種類來達到。然而,在本發明較佳實施 例之中,因爲只要溫度未達進行惰化反應之高溫,即無顯著之固化反應發生。所 以本發明之助錦劑較佳實施例並無此種種類選擇限制之必要,也因而可以完全充 分發揮出與金屬氧化物作用之能力,故其效果優於迄今之其他可聚合類助銲劑; 在晶粒黏著程序中之黏著劑應用上,其提供了一在硬化(hardening)之前即透過 金屬化法程序(metallizations)而於晶粒及基版上形成堅固完全的冶金黏結可 能。此種接合帶來了習知技術所不能相較之高熱傳導性。 本發明較佳助銲劑實施例其聚合反應主要係發生在其分子結構上之碳碳雙 鍵而非羧酸基之上,此一特徵提供了以羧酸基團爲聚合反應中心之習知技術所沒 有的好處:由於本發明助銲劑所帶之羧酸基並不與碳碳雙鍵行聚合反應,所以當 沒有其他可與羧酸基反應之成分存在時,該助銲劑並不在環境室溫下發生寡聚合 (oligomerize)或聚合反應,其只會在高溫下,碳碳雙鍵打開之後才與其他之碳 碳雙鍵發生交叉鍊結,故先前技藝所特別面臨之聚合反應過早發生現象並不存於 本發明助銲劑,也因此無需設計提供化學保護。是故,本發明助銲劑可因不需考 慮聚合反應過早發生,而將其維持在一高活性的狀態。 在大多數較佳助銲劑之較佳實施例中,助銲劑分子本身帶有丙烯或甲基丙烯 (acrylic or methacrylic )基團。化合物2-甲基丙烯乙基丁二酸酯 (2-(methacryloyloxy)ethyl succinate),如實施例1中所示,因其低黏滯性與高助 銲活性故爲一較佳之具丙烯基助銲劑。其他之較佳助銲劑尙包括了 2-甲基丙烯乙 基馬來酸酯(mono-2-(methacryloyloxy)ethyl maleate)、2-甲基丙稀乙基對苯二甲 酸酯(mono-2-(methacryloyloxy)ethyl phthalate )與 2-丙嫌乙基丁二酸酯 (mono-2-(acryloyloxy)ethyl succinate)。此類助銲劑於室溫下(約攝氏 23-25 度) 呈現液態,因而無溶劑使用之必要。因此一具有低黏滯性之助銲劑較爲本發明所 1251019 採用,其可用以確保在毋須加入逸散性溶劑之下,仍得塡入高量之導性金屬粉末。 2"隋性劑 : 本發明組成物中加入有一情丨生劑或中和劑,用以在助銲作用完畢之後與存在 於組成物中的羧酸基反應,是故並無必要增加一用以移除可能之侵蝕性殘餘物的 額外步驟。環氧化合物及其他例如氰酸脂(cyanate ester)等皆具有此一功能, 然而,其中環氧化合物特別適合此類需求。環氧化合物與羧酸基之反應技術係爲 熟習此項技藝之人士所熟知。爲確保中和完全,因此等化學當量(stoichiometric equivalent)或過量之非助銲用環氧化合物(non-fluxing epoxide )必須加入。惰 性劑最好是與助銲劑或組成物中之其他成分混溶(miscible),且可以是單官能基 或多官能基,以及,液態或固態。較佳之惰性劑實施例包括但不限於一或多個下 列成分或其組合之選擇:雙酚A二縮水甘油醚(bisphenol A diglycidyl ether)、雙 酌F二縮水甘油醚(bisphenol F diglycidyl ether)、1,4-環己院二甲醇二縮水甘油 醚(l,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether)、3,4-環氧乙基環己院基 3,4-環氧 乙基環己院基酯(3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate)、 N,N-二縮水甘油-4-縮水甘油氧苯胺(N,N-diglycidyl-4-glycidyl-oxyaniline)、苯基 縮水甘油醚(glycidyl phenyl ether )、甲氧苯基縮水甘油醚(glycidyl 4-methoxyphenyl ether )以及環氧丙基苯(epoxy propyl benzene )。前揭成分均爲 市售商品。 本發明助銲劑其所含惰性劑之濃度應爲等化學當量或稍微過量於羧酸基,以 使本發明熱導性黏著劑於固化時,其中羧酸基完全惰化。濃度過高之惰性劑將造 成聚合反應過度,不利於金屬之燒結。而濃度過低之惰性劑,則使未反應之酸於 固化後殘餘而將導致侵蝕發生。 3·樹脂 熱固化助銲劑組成物並不特別額外需要非助銲劑或非溶劑用途之樹脂。不含 樹月旨之黏著劑組成物通常於迴銲(solder reflow )時,具有較長之適用期(pot lives) 以及低黏滯性。因此,除了在用作惰性劑之用途考量外,黏著劑組成物中以不含 樹脂者爲較佳。然而,樹脂亦有增加基版上固化成分之黏著度,以及,提高固化 物之凝聚性(cohesive strength)及玻璃轉換溫度(Glass Transition Temperature) 的效果。基此,只要是在維持於相對之低濃度之下,樹脂是一可以選擇採用的成 分。任何一種可以與助銲劑混合(blendable)的樹脂都可視爲一適當之樹脂,其 中混合一字是指樹脂不與助銲劑或溶劑行化學結合之意。較佳之樹脂係可與助銲 劑羧酸基反應進而惰化助銲劑活性,或者,與溶劑中其他反應基團例如可能之氫 氧基(-OH groups)反應者。倘若樹脂濃度過高時,助銲劑組成物之聚合反應將 變由棚旨而非助銲劑上之碳碳雙鍵所驅動。因該種聚合反應所需的反應溫度通常 較透過助銲劑上之碳碳雙鍵爲反應中心者來得低,因而會有助銲劑提前硬化,導 致妨礙黏著劑塗膏金屬燒結進行的缺點。 符合上述要求之樹脂實施例包括但不限於下列成分之選擇:環氧樹脂 (epoxies )、酚酵樹酯(phenolics )、對苯乙烯樹酯(酚醒類及甲酣類)novalacs (both phenolic and cresolic)、聚胺機甲酸酯(polyurethanes)、聚亞醯胺(polyimides )、 聯馬來铣亞胺(bismaleimides )、馬來銖亞胺(maleimides )、氰酯(cyanate esters )、 聚嫌醇(polyvinyl alcohols)、聚酯(polyesters)與聚尿樹酯(polyureas)。較佳 1251019 之樹脂實施例包括下列成分之選擇:雙酣A二縮水甘油醚(bisphenol A diglycidyl ether)、(bisphenol F diglycidyl ether) ; 1,4-環己院二甲醇二縮水甘油醚 (l,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether)、3,4-環氧乙基環己院基 3,4-環氧乙 基環己院基酯(3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate)與 N,N-二縮水甘油-4-縮水甘油氧苯胺(N,N-diglycidyl-4-glycidyl-oxyaniline ),以及 其組合。前揭成分均爲市售商品。 當樹脂用於本發明組成物時,交叉鍊結劑亦最好一同納入。交叉鍊結劑已屬 習知技術,實施例包括酐類(anhydrides )以及羧基化聚酯類 (carboxyl-fUnctionalized polyesters)。加入此種交叉鍊結劑係可促進樹脂交叉鍊 結反應的發生。適當之酐類交叉鍊結劑實施例包括但不限於一·個或多個下列成分 之選擇:四氫苯酐(tetrahy drophthalic anhydride)、六氫苯酐(hexahydrophthalic anhydride)、甲基內次甲基四氣苯酐(nadic methyl anhydride)、4-甲基六氣苯酐 (4-methylhexahydrophthalic anhydride ),以及甲基六氫苯酐 (methyltetrahydrophthalic anhydride)。前揭成分均爲市售商品。 當使用交叉鍊結劑時,加速劑的添入對於加速熱固化過程中的交叉鍊結反應 頗有用處。適當之加速劑實施例包括咪唑啉(imidazole)及其衍生物、二氨基二 亞硝酸鹽(dicyandiamide )、(雙臓員衍生物)biguanide derivatives,以及,三級 胺類例如苯甲基二甲基胺(benzyldimethylamine)或1,8-偶氮環[5.4.0]癸院-7-燦 (l,8-diazacyclo[5.4.0]undec-7-ene);此外,過渡金屬之乙醯丙酮物(transition metal acetylacetonates )亦可替代爲增加環氧樹脂與酐類在熱固化過程中交叉鍊結 反應速率的加速劑。實施例包括但不限於一個或多個下列成分之選擇:乙醯丙酮 二價銅(copper (II) acetylacetonate )、乙醯丙酮三價鈷(cobalt (III) acetylacetonate) 與乙醯丙酮二價鐘(manganese (II) acetylacetonate )。 4.稀釋劑 因助銲劑分子帶有碳碳雙鍵,使得助銲劑其成分配方在改良熱力學性質上有 很大的彈性。這是藉由添加帶有碳碳雙鍵並具與助銲劑行交叉鍊結而增加黏性的 稀釋劑來達成,此時,其並無須對交叉鍊結之過早發生,以及,習知技藝中的適 用期降低加以考量。較佳之稀釋劑包括但不限於一個或多個下列之成分之選擇: 1,6-己二醇二丙烯酸酯(l,6-Hexanediol Diacrylate)、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯 (1,6-Hexanediol Dimethacrylate )、三-2-甲基丙儲乙基氰 (tris[2-(acryloxy)ethyl]isocyanurate )、三甲氧基丙基三甲基丙稀酸酯 (Trimethylolpropane Trimethacrylate )與乙氧基二酣基二甲基丙燒酸酯 (Ethoxylated Bisphenol Diacrylate ),以及其組合。因多數之雙或三丙嫌酸基化樹 脂(di and tri-functionalized acrylate resins )具有低黏滯性乙節業爲熟習該項技藝 人士所咸知,故皆適於此處所述之用途。其他含雙鍵之化合物多數皆可於市售商 品中耳又得,例如二院基對苯二甲酸酯(diallyl phthalate )與二燒苯(divinyl benzene) 亦可運用於此。前述疏水性類稀釋劑是較被加以採用者,然若有合適之親水性稀 釋劑亦可以予以運用。 採用疏水性類稀釋劑具有減少固化後黏著劑之吸水量。由於助銲劑其於交叉 1251019 鍊結反應時,開始活化之羧酸基部分會對水分子產生吸引,此一吸引即使於殘酸 基固定(immobile)之後仍然發生;此時,分成爲一種塑化劑,因而軟化了固 化後之黏著劑。因疏水性類稀釋劑與助銲劑分子產生交叉鍊結,此將可抵銷分子 中羧酸基部份的親水性。 5.自由基來源 雖然黏著劑的熱固化可以單獨藉由加熱達成,但交叉鍊結反應實際尙可以藉 由自由基的存在來起動或促進。可作爲提供自由基存在來源的較佳起始劑包括例 如過氧化二苯甲醯(benzoyl peroxide )、過氧化異丙基苯(cumyl peroxide )、)1,Γ-偶氮雙環己院基氰(l,l’-azobis(cyclohexanecarbonitrile))以及2,2’·偶氮雙異丁基 氰(2,2Lazobisisobutyronitrile)等成分與其組合。是類自由基來源或起始劑皆屬 市售商品。在特定金屬例如二價銅存在的情形下,過氧化類自由基起始劑(peroxy initiators)將因不適當之氧化還原反應發生而提早分解,導致固化後物化物內之 氣體與空孔產生。是故在一較佳之實施例當中係採用偶氮式之起始劑(azo-type initiators ) 〇 自由基係藉由自由基起始劑接觸於熱能、輻射或其他傳統之能量來源,而在 原位處產生。適當自由基起始劑的加入,可於焊接迴流過程(reflow processes)或等溫固化操作(isothermal curing operations)中之特定時點增加交 叉鍊結反應的起始。助銲劑中加入小量之自由基交叉鍊結起始劑可以用於控制助 銲劑其交叉鍊結反應之反應溫度及反應速率,而確保固化程序下之助銲效果與高 黏性強度。 「熱固化黏著劑助銲劑」組成之相對濃度 在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物(thermally curable adhesive flux composition)之製備上,各成分比例的差異可能在變動甚大之下,仍表現出可被 接受之助銲活性與固化後之材料特性。在各實施例中,其較佳係以不採用形成氣 態副產品而導致最終熱固化物形成氣泡之成分,來爲「熱固化黏著劑助銲劑」組 成物之配方。其述之較佳實施例係由下列成分配方所達成: a) 助銲劑在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物中之重量百分比約爲15%至 65% ; b) 惰性劑在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物中之重量百分比約爲10%至 55% ; c )稀釋劑在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物中之重量百分比約爲0%至75 d) 自由基起始劑在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物中之重量百分比約爲〇 %至2% ;較佳者是介於0%至0.7%間;更佳者則係0.03%至0.4%。 e) 棚旨在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物中之重量百分比約爲〇%至60 % ; f) 交叉鍊結劑在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物中之重量百分比約爲0% 至75% ;以及 10 1251019 g)加速劑在「熱固化黏著劑助銲劑」組成物之重量百分比約爲0%至1%。 部分「熱固化黏著劑助銲劑」組成物金上述成分範圍調製後,可能於固化後 具有不理想之高濕氣吸收度、低玻璃轉換溫度與高熱膨脹係數,然而,如在是類 性質並不關鍵而嚴重損及黏著劑助銲劑其黏著助銲功用之情況下仍然可予使用。 最佳之熱固化聚合助銲劑組合物其於固化後具有高於攝氏100度之玻璃轉 換溫度、較低之熱膨脹係數(100 ppm/°c或更低),以及濕氣吸收低於3%。然 而同樣地,部分在此範圍中之助銲劑於固化後表現了高熱膨脹係數或低玻璃轉換 溫度之性質,倘是類性質並不關鍵而嚴重損及其功用之情況下則仍然可予使用。 金屬粉末 本發明黏著劑之成分包含一有高熔點及低熔點之金屬或金屬合金粉末的一 種混合。較佳之金屬粉末以包含圓粒或片狀者爲優。金屬片狀粉末之製備方法業 爲熟習該項技藝之人士所熟知。金屬粉末具有之大小尺寸範圍以維持一較佳之塡 裝密度者爲佳。一較佳之黏著劑實施例中,圓粒最大尺寸約爲100個微米 (microns),更佳之實施例其圓粒尺寸小於50個微米。片狀粉末尺寸約在1到 50個微米之間,使用低於30個微米的片狀粉末是一個可用於防止質地過於粗糙 的較佳尺寸選擇。雖然已知具有較大之表面積而導致氧化物不易由細微金屬粉末 中去除的此種問題存在,但助銲劑之高度活性仍足以有效去除氧化物。 任何具可銲性(soldemble)以及可合金化(alloyable)之金屬、合金或金屬 組合物(metal,alloy or metal mixture)皆可用爲高熔點之金屬粉末,較佳之高熔 點金屬粉末實施例包括下列成分之選擇:銅、銀、鋁、鎳、金、鉑、鈀、鈹、铑、 鈷、鐵、鉬,及其合金或組合。最佳實施例成分則爲銅、鎳、金、銀。當球狀粉 末被應用時,較好具有平滑均勻之外形,就如同氣體霧化法(gas atomization methods)之典型產物。最佳實施例包含有球狀及片狀粉末的組合;球狀粉末給 予了高金屬塡裝量的可能,因而提供了高電導性及熱導性;而片狀粉末的摻入則 改善了黏著劑的流變性(rheology),並提供了在電子組件製程中傳統設備上的使 用便利性,同時,其亦防止了塡充顆粒於樹脂中形成沈澱,而維持其均質性,排 除了使用前再次混合的需要。高熔點金屬粉末組成約佔所有金屬粉末全重的1〇 至90%。然而一較佳之實施例爲佔金屬粉末全重的40至70%。 任何一具可銲性以及可合金化之金屬、合金或金屬組合物,只要其熔點低於 高熔點金屬粉末之熔點則皆可做爲低熔點之金屬粉末。較佳之低熔點金屬粉末其 熔點應低於高熔點金屬粉末其熔點約攝氏50度或低更多。更佳實施例其低熔點 金屬粉末熔點低於高熔點金屬粉末熔點攝氏1〇〇度或低更多。一較佳之實施例低 熔點金屬粉末成分包括下列一或多個成分之選擇:錫、鉍、鉛、鎘、鋅、銦、碲、 鉈、銻、硒,及其合金或組合。然而,本發明之較佳實施例低熔點金屬粉末其包 含了由上列金屬所製成之市售焊料粉末。液相溫度低於攝氏200度亦係低熔點金 屬粉之較佳實施例,此特徵可使其於助銲劑行聚合固化前即爲鎔化。無鉛之低熔 點合金爲最佳之實施例。典型而言,焊料粉末其大小介於大約1至1〇〇個微米之 間,大多數者爲第三類(type 3 ’ 25-45 microns)分佈或較高之組成。低熔點金屬粉 1251019 末組成約佔所有金屬粉末全重的10至90%。然而一較佳之實施例爲佔金屬粉末 全重的30至50%。當採用高量低熔點金屬合金時,將有大比例之金屬於固化後 仍未燒結。 黏著劑組成物之製備 熱導性黏著劑組成物之製備中,高及低熔點金屬粉末先行混合以確保其均質 化。在較佳實施例的處理中,金屬粉末的混合係於室溫、空氣下進行,然而,在 惰性氣體,例如氮氣,中混合時,亦可降低氧化物產生的可能。另外,合適之粉 末混合方法,例如殻混法(shell blending),係屬業爲熟習該項技藝之人士所熟 知者。 「熱固化黏著劑助銲劑」組成物隨後加入此一金屬粉末混合物。高剪切混合 (high shear mixing)步驟係爲確保塗膏其均質化所必要採用的,其中雙行星混 合法係爲一熟習該項技藝人士所熟知之高剪切混合法。金屬粉末在黏著劑中其最 終濃度較佳約爲全重之80至93%,但85至92%爲一更佳之濃度。其餘黏著劑 之部分係由「熱固化黏著劑助銲劑」組成物所構成,較佳比例約佔總重量之7 至20%,更佳約佔總重量之8至15%。是類黏著劑一般爲塗膏狀,且通常適於 透過使用市售塗佈設備之注射器且在毋須溶劑之配合下操作。或者,亦可選擇適 用廣爲熟習該項技藝人士所知之孔版或絲網印刷技術(stencil or screen printing techniques ) 〇 晶粒黏著 雖然熱導性黏著劑有諸多之用途,但特別可運用於將半導體晶粒黏著於基版 之程序中,黏著劑所具有之高熱傳導性尤其使得在半導體元件黏著於基版之應用 上更顯合適。基版與半導體晶粒兩者最好都使施以金屬化(metallized),以利於 其與銲料或低熔點合金形成冶金結合。此種冶金結合提供了高強度與高熱、電傳 導性。相關習知技術案中半導體元件通常是以銲接之方式結合,然本發明之較佳 實施例因其熔點具有比前開案件之銲料爲低,因而具有可在較低溫度下形成冶金 接合的優點。再者,瞬間液相燒結於加熱時發生,其造成高熔點合金在反應溫度 遠高於原本熱固化溫度之狀態下開始熔化,這項較前案所沒有的優點,提供了在 後續電子組裝步驟中操作溫度的自由選擇空間。又瞬間液相燒結所採取之加熱亦 能使助銲劑發生聚合硬化而再次形成高強度之結合。 本熱導性黏著劑亦適用於半導體晶粒、基版,或者,半導體晶粒及基版皆無 金屬化處理之狀態下實施黏著。在此種狀況的施作是晶粒黏著用銲料所不可能達 成的。此時其間半導體晶粒與基版二者間純係以本發明之黏著聚合物形成結合, 其如同習知技術之含銀片或銀粉布置之可固化樹脂的作用方式;此外,本發明之 晶粒黏著程序中,黏著劑還同時產生燒結形成之團塊結合。然而,此一接合介面 並不形成冶金結合,故其熱傳導效率亦較金屬化表面形成之接合爲差。 上開是類情況下所形成之燒結團塊仍可提供比習知技術之晶粒黏著劑更高 的穩定性與熱導性。習知技術其係依靠當中所含塡充顆粒彼此點與點間的接觸來 提供電及熱之傳導性。在隨著老化進行,點與點間之接觸逐漸消解,使得電及熱 12 1251019 之傳導性下降。本發明因塡充料有效地燒結所以不會面臨前述點與點接觸消解的 問題。 、 接合之方法 一種黏結電子元件於基版上之方法,其步驟包含:取一至少具有一個可黏著 面之電子元件例j如矽晶粒;取一具有相對應之可黏著面之基版;配置熱導性黏著 劑於電子元件及基版兩者或其一之可黏著面上;將電子元件放置於基版,使電子 元件之可黏著面結合予基版之可黏著面,因而形成一組合組件;於高溫下加熱該 組合組件,使低熔點之金屬或金屬合金之粉末液化;使液化之低熔點之金屬或金 屬合金燒結予高熔點之金屬或金屬合金,同時亦使惰性劑與助銲劑作用以提供助 銲劑其惰性;使助銲劑聚合,並冷卻組件。 使用熟習該項技藝人士所熟知之傳統塗佈注射設備而將少量本發明黏著劑 塗佈於欲黏接之區域,其可以以小點狀或其他形狀塗佈之。或者,亦可以習知之 孔版印刷技術印於零件。黏著劑塗佈之份量應充分足夠至可於晶粒配置(die placement)後在晶粒周邊形成一小環繞帶。當使用傳統晶粒配置設備時,晶粒 配置於黏接區域後即予施壓至確保黏著劑完全覆蓋晶粒於底部。此時該組件送入 烘箱加熱。等溫烘箱(isothermal oven)可爲前述之烘箱,但習知之多區域迴銲 烘箱(multizone solder reflow oven )爲一較佳而予採用者。組件不論於上述何種 烘箱內加熱時,於「熱固化黏著劑助銲劑」組成物硬化前升溫至低熔點金^或合 金其熔點或液相溫度是完成燒結所必要。在本發明當中之部分黏著劑,需經迴銲 烘箱的多次處理方使其燒結能夠完全。 下列示例是用以說明本發明之較佳實施例,而不應解釋爲本發明之限制條件。所 有的百分比除非特別加以註釋者皆表重量百分比,且總和爲百分之百。 例一:本發明之晶粒黏著用黏著劑組成 成分 2-甲基丙烯乙基丁二酸酯 重量 重量百分比(%) mono-2-(methacryloyloxy)ethyl succinate 六氫苯酐 0.65g 1.69% Hexahydrophthalic anhydride 雙酚A二縮水甘油醚 0.85g 2.21% Bisphenol A diglycidyl ether 1,6-己二醇二丙烯酸酯 1.5g 3.90% 1,6-Hexanediol diacrylate 偶氮雙異丁基 0.26g 0.68% Azo biscyclohexanecarbontrile 銀箱 0.001 lg 0.003% Silver Flake 8.1g 21.06% 13 1251019 銅粉 Copper Powder 9.5g 24.70% 58鉍42錫銲料 58Bi42Sn Solder Powder 17.6g 45.76% 加溫至攝氏40至50度以將雙酚A二縮水甘油醚中所混入之六氫苯酐充分 溶解,經攪拌均勻後置於室溫下冷卻。再加入2-甲基丙烯乙基丁二酸酯、1,6·己 二醇二丙烯酸酯與偶氮雙異丁基並攪拌以完成黏著劑中的助銲劑聚合物。取另一 容器並於當中以手動攪拌器混合銀箔、銅粉以及58鉍42錫(58Bi42Sn)銲料。 後將金屬粉末混合物加入助銲劑聚合物中。再以機械高剪切混合法混勻後,最後 在高真空下抽除空氣。 形成之塗膏以Brookfield圓錐平板式黏度計(Brookfield cone and plate viscometer)測試黏滯性,其大約爲lllOOOcps (@ lrpm,2s-l)。組成物亦放置於 顯微玻片上接受5分鐘尖峰溫度(peak temperature)達攝氏210度之迴銲程序處 理,接續以攝氏165度加以後固化(post cure) 30分鐘。形成之金屬其膜電阻經 歐母計(Ohmmeter)量測結果爲0.000051 Ohm-cm。類似之經固化處理樣本其熱 傳導性爲16.5W/mK。一經鎳-金金屬化法(nickel-gold metallization)處理之5 毫米見方矽晶粒,以本黏著劑黏結至沈浸鍍金銅包印刷電路(immersion gold coated copper clad printed circuit),其空洞率小於 0.2%,並具有 3200psi 之晶粒推 剪強度。經 Perkin Elmer 動力機械分析儀(dynamic mechanical analyzer)測量, 其儲存模量(Storage modulus)爲9.8Gpa,熱膨脹係數爲28-30ρρχηΛΟ 例二:本發明之晶粒黏著用黏著劑組成 成分 重量 重量百分比(%) 2·甲基丙烯乙基丁二酸酯 mono-2-(methacryloyloxy)ethyl succinate 六氫苯酐 0.65g 1.690% Hexahydrophthalic anhydride 雙酚A二縮水甘油醚 0.85g 2.210% Bisphenol A diglycidyl ether 1,6_己二醇二丙烯酸酯 1.5g 3.900% 1,6-Hexanediol diacrylate 偶氮雙異丁基 〇.26g 0.676% Azo biscyclohexanecarbontrile 銀箔 O.OOllg 0.003% Silver Flake 銅粉 9.7g 25.220% Copper Powder 11.4g 29.640% 14 1251019 63錫37鉛銲料 63Sn37Pb Solder Powder 14.1g 36.660% 力0溫至攝氏40至50度以將雙酚A二縮水甘油醚中所混入之六氫苯酐充分 溶解,經攪拌均勻後於室溫下冷卻。加入2-甲基丙烯乙基丁二酸酯、1,6-己二醇 二丙烯酸酯與偶氮雙異丁基並攪拌完成黏著劑中的助銲劑聚合物。在另一容器 中,以手動攪拌器混合銀箔、銅粉以及63錫37鉛(63Sn37Pb)銲料。後將金 屬粉末混合物加至助銲劑聚合物中。再以機械高剪切混合均勻後,以高真空下抽 除空氣。 形成之塗膏以Brookfield圓錐平板式黏度計(Brookfield cone and plate viscometer)測試黏滯性,其大約爲238000cps (@ lrpm,2s-l)。該組成物置於顯 微玻片上經5分鐘尖峰溫度(peak temperature)達攝氏210度之迴銲程序處理, 接續以攝氏190度之後固化(post cure) 30分鐘,其熱傳導性爲16.4W/mK。一 經鎮-金金屬化法(nickel-gold metallization)處理之5毫米見方砂晶粒,以本黏 著劑黏結至沈浸鑛金銅包印刷電路(immersion gold coated copper dad printed circuit),其空洞率小於0.2%,並具有2800psi之晶粒推剪強度。 本發明誠如所述,其亦具有各形式不同但實質明顯相同之變化型,是類變化 型不應視爲與本發明主體之精神及範圍有所分離,同時,所有此種之改變皆可預 期爲實際包含於下列權利主張當中。 十、申請專利範圍: 1. 一電子組件,該電子組件包含一電子元件及基版,兩者並以熱導性黏著劑加 以燒結連接。前述黏著劑不含逸散性溶劑且包含有: (a) —高熔點之金屬或金屬合金之粉末; (b) —低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 (c) 一「熱固化黏著劑助銲劑」組成物之組成物,其包含有·· ⑴一可聚合助銲劑; (ii) 一t青性劑,其係於高溫下與可聚合助銲劑發生反應以維持可聚合助 銲劑其惰性。 2. 如申請專利範圍第1項所述之電子組件,其「熱固化黏著劑助銲劑」組成物 之組成物進一步包含一種以RC00H分子式表示之可聚合助銲劑,其中r表 示一帶有一或多個可進行聚合反應之碳碳雙鍵的基團。 ^ 3·如申請專範圍第1項所述之電子組件,其可聚合助銲劑之成分係選自以下 所構成之族群之一或其組合:2-甲基丙烯乙基丁二酸酯 (2-(methacryloyloxy)ethyl succinate )、2_ 甲基丙嫌乙基馬來酸酯 (mono-2-(methacryloyl〇xy)ethyl maleate)、2-甲基丙嫌乙基對苯二甲酸酯 15

Claims (1)

1251019 63錫37鉛銲料 63Sn37Pb Solder Powder 14.1g 36.660% 力0溫至攝氏40至50度以將雙酚A二縮水甘油醚中所混入之六氫苯酐充分 溶解,經攪拌均勻後於室溫下冷卻。加入2-甲基丙烯乙基丁二酸酯、1,6-己二醇 二丙烯酸酯與偶氮雙異丁基並攪拌完成黏著劑中的助銲劑聚合物。在另一容器 中,以手動攪拌器混合銀箔、銅粉以及63錫37鉛(63Sn37Pb)銲料。後將金 屬粉末混合物加至助銲劑聚合物中。再以機械高剪切混合均勻後,以高真空下抽 除空氣。 形成之塗膏以Brookfield圓錐平板式黏度計(Brookfield cone and plate viscometer)測試黏滯性,其大約爲238000cps (@ lrpm,2s-l)。該組成物置於顯 微玻片上經5分鐘尖峰溫度(peak temperature)達攝氏210度之迴銲程序處理, 接續以攝氏190度之後固化(post cure) 30分鐘,其熱傳導性爲16.4W/mK。一 經鎮-金金屬化法(nickel-gold metallization)處理之5毫米見方砂晶粒,以本黏 著劑黏結至沈浸鑛金銅包印刷電路(immersion gold coated copper dad printed circuit),其空洞率小於0.2%,並具有2800psi之晶粒推剪強度。 本發明誠如所述,其亦具有各形式不同但實質明顯相同之變化型,是類變化 型不應視爲與本發明主體之精神及範圍有所分離,同時,所有此種之改變皆可預 期爲實際包含於下列權利主張當中。 十、申請專利範圍: 1. 一電子組件,該電子組件包含一電子元件及基版,兩者並以熱導性黏著劑加 以燒結連接。前述黏著劑不含逸散性溶劑且包含有: (a) —高熔點之金屬或金屬合金之粉末; (b) —低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 (c) 一「熱固化黏著劑助銲劑」組成物之組成物,其包含有·· ⑴一可聚合助銲劑; (ii) 一t青性劑,其係於高溫下與可聚合助銲劑發生反應以維持可聚合助 銲劑其惰性。 2. 如申請專利範圍第1項所述之電子組件,其「熱固化黏著劑助銲劑」組成物 之組成物進一步包含一種以RC00H分子式表示之可聚合助銲劑,其中r表 示一帶有一或多個可進行聚合反應之碳碳雙鍵的基團。 ^ 3·如申請專範圍第1項所述之電子組件,其可聚合助銲劑之成分係選自以下 所構成之族群之一或其組合:2-甲基丙烯乙基丁二酸酯 (2-(methacryloyloxy)ethyl succinate )、2_ 甲基丙嫌乙基馬來酸酯 (mono-2-(methacryloyl〇xy)ethyl maleate)、2-甲基丙嫌乙基對苯二甲酸酯 15 1251019 (mono-2-(methacryloyloxy)ethyl phthalate )與 2-丙儲乙基丁一酸酯 (mono-2-(acryloyloxy)ethyl succinate )。 4. 如申請專利範圍第1項所述之電子組件,其高熔點金屬或金屬合金成分係選 自以下所構成之族群之一或其組合:銅、銀、鎳、金、鉑,及其合金。 5. 如申請專利範圍第1項所述之電子組件,其低熔點金屬或金屬合金成分係選 自以下所構成之族群之一或其組合··錫、鉍、鈴、鎘、鋅、銦、銻,及其合 金。 6. 如申請專利範圍第1項所述之電子組件,其惰性劑成分係選自以下所構成之 族群之一或其組合:雙酚A二縮水甘油醚(bisphenol Adiglycidyl ether)、雙 酚F二縮水甘油醚(bisphenol F diglycidyl ether)、1,4_環己烷二甲醇二縮水 甘油醚(l,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether)、3,4-環氧乙基環己院基 3.4- 環氧乙基環己烷基酯(3,4-epoxycyclohexylmethyl 3.4- epoxycyclohexanecarboxylate )、N,N-二縮水甘油-4-縮水甘油氧苯胺 (N,N-diglycidyl-4-glycidyl-oxyaniline)、苯基縮水甘油醚(glycidyl phenyl ether)、甲氧苯基縮水甘油醚(glycidyl4-methoxyphenyl ether)與環氧丙基苯 (epoxy propyl benzene)〇 7. 如申請專利範圍第1項所述之電子組件,其該黏著劑形成於金屬化該電子元 件以及該基版之一個或兩者之金屬表面上之冶金結合。 8. —電子元件與基版的黏著方法,該方法步驟包含: (a) 取一至少具有一個可黏著面之電子元件; (b) 取一具有對應之可黏著面之基版; (c) 配置熱導性黏著劑於電子元件及基版兩者或其一之可黏著面上,前述 黏著劑不含逸散性溶劑且包含有: (i) 一·商溶點之金屬或金屬合金之粉末; (ii) 一低熔點之金屬或金屬合金之粉末;以及 (iii) 一「熱固化黏著劑助銲劑」之組成物,其包含有: (A) —可聚合助銲劑; (B) —惰性劑,其係於高溫下與可聚合助銲劑反應以維持可聚合助 銲劑其惰性; (d) 將電子元件放置於基版,使得電子元件之可黏著面結合予基版之可黏 著面,因而形成一組合組件; (e) 於高溫下加熱該組合組件,使低熔點之金屬或金屬合金之粉末液化; (f) 使液化之低熔點之金屬或金屬合金燒結予高熔點之金屬或金屬合金,同 時亦使惰性劑與助銲劑作用以提供助銲劑其惰性; (g) 使助銲劑聚合; ⑻冷卻組件。 9. 如申請專利範圍第8項所述之方法,「熱固化黏著劑助銲劑」之組成物進一步 包含一種以RC00H分子式表示之可聚合助銲劑,其中R表示一帶有一或多 16 1251019 個可進行聚合反應之碳碳雙鍵的基團。. 10. 如申請專利範圍第8項所述之方法,其可聚合助銲劑之成分係選自以下所構 成之族群之一或其組合:2-甲基丙烯乙基丁二酸酯(2-(methaCryloyloxy)ethyl succinate )、2-甲基丙烯乙基馬來酸酯(mono-2-(methacryloyloxy)ethyl maleate )、2-甲基丙烯乙基對苯二甲酸酯(mono-2-(methacryloyloxy)ethyl phthalate)與 2-丙烯乙基丁二酸酯(mono-2-(acryloyloxy)ethyl succinate)。 11. 如申請專利範圍第8項所述之方法,其高熔點金屬或金屬合金成分係選自以 下所構成之族群之一或其組合··銅、銀、鋁、鎳、金、鉑、鈀、鈹、铑、鈷、 鐵與蹈,及其合金。 12. 如申請專利範圍第8項所述之方法,其低熔點金屬或金屬合金成分係選自以 下所構成之族群之一或其組合:錫、鉍、鉛、鎘、鋅、銦、碲、鉈、鍊與硒, 及其合金。 13. 如申請專利範圍第8項所述之方法,其惰性劑成分係選自以下所構成之族群 之一或其組合··雙酚A二縮水甘油醚(bisphenol A diglycidyl ether)、雙酣F 二縮水甘油醚(bisphenol F diglycidyl ether)、1,4-環己院二甲醇二縮水甘油醚 (l,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether)、3,4-環氧乙基環己院基 3,4-環 氧乙基環己院基酯(3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate )、N,N-二縮水甘油-4-縮水甘油氧苯胺 (N,N-diglycidyl-4-glycidyl-oxyaniline )、苯基縮水甘油醚(glycidyl phenyl ether)、甲氧苯基縮水甘油醚(glycidyM-methoxyphenyl ether)與環氧丙基苯 (epoxy propyl benzene ) 〇 14. 如申請專利範圍第8項所述之方法,其該黏著劑形成於金屬化該電子元件以 及該基版之一個或兩者之金屬表面上之冶金結合。 17
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10643863B2 (en) 2017-08-24 2020-05-05 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package and method of manufacturing the same

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3797990B2 (ja) * 2003-08-08 2006-07-19 株式会社東芝 熱硬化性フラックス及びはんだペースト
DE102004031692A1 (de) * 2004-06-30 2006-01-26 Ferro Gmbh UV-Strahlenhärtbares Edelmetallpräparat, dieses enthaltende Abziehbilder und Verfahren zum Dekorieren
CN101313005B (zh) * 2005-09-02 2011-06-08 新日铁化学株式会社 环氧树脂组合物
JP5034218B2 (ja) * 2005-11-09 2012-09-26 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物及び樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
DE602006001393D1 (de) * 2006-03-06 2008-07-17 Umicore Ag & Co Kg Zusammensetzung zur Befestigung von Hochleistungshalbleiter
JP5200340B2 (ja) * 2006-06-27 2013-06-05 住友ベークライト株式会社 液状樹脂組成物及び液状樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
JP4830744B2 (ja) 2006-09-15 2011-12-07 パナソニック株式会社 電子部品実装用接着剤及び電子部品実装構造体
US8555491B2 (en) 2007-07-19 2013-10-15 Alpha Metals, Inc. Methods of attaching a die to a substrate
KR20100075894A (ko) * 2007-09-11 2010-07-05 다우 코닝 코포레이션 복합재, 복합재를 포함하는 열계면재료, 그리고 이들의 제조방법 및 용도
KR20100069667A (ko) * 2007-09-11 2010-06-24 다우 코닝 코포레이션 열계면재료, 열계면재료를 포함하는 전자장치, 그리고 이들의 제조방법 및 용도
KR100926747B1 (ko) * 2007-11-12 2009-11-16 한국전자통신연구원 도전 접착제 및 이를 이용한 플립칩 본딩 방법
EP2130641A1 (en) * 2008-06-03 2009-12-09 Dow Global Technologies Inc. Polyurethane Adhesive Composition
US8420722B2 (en) 2008-07-10 2013-04-16 Electronics And Telecommunications Research Institute Composition and methods of forming solder bump and flip chip using the same
KR101225909B1 (ko) 2008-08-07 2013-01-24 교토 에렉스 가부시키가이샤 태양전지소자의 전극형성용 도전성 페이스트, 태양전지소자 및 그 태양전지소자의 제조방법
KR101723911B1 (ko) * 2008-10-22 2017-04-06 헤레우스 프레셔스 메탈즈 노스 아메리카 콘쇼호켄 엘엘씨 전기전도성 폴리머 조성물, 컨택트, 어셈블리, 및 형성 방법
US20110132537A1 (en) * 2009-12-03 2011-06-09 3M Innovative Properties Company Composition, tape, and use thereof
US8348139B2 (en) * 2010-03-09 2013-01-08 Indium Corporation Composite solder alloy preform
JP5845559B2 (ja) * 2010-07-30 2016-01-20 住友ベークライト株式会社 接着体
JP5580701B2 (ja) * 2010-09-13 2014-08-27 日東電工株式会社 ダイシング・ダイボンドフィルム
DE102011000455A1 (de) * 2011-01-14 2012-07-19 Azur Space Solar Power Gmbh Anordnen und Verfahren zum Kühlen eines Trägers
US9084373B2 (en) 2011-02-24 2015-07-14 Dexerials Corporation Thermally conductive adhesive
DE102012200854A1 (de) * 2012-01-20 2013-07-25 Tesa Se Vernetzer-Beschleuniger-System für Polyacrylate
CN103367829B (zh) * 2012-03-29 2015-07-01 深圳市西盟特电子有限公司 一种自散热器件及其制备方法
JP6003152B2 (ja) * 2012-03-29 2016-10-05 住友ベークライト株式会社 ダイシングテープ一体型接着フィルム、半導体装置、多層回路基板および電子部品
CN103367828B (zh) * 2012-03-29 2015-11-25 深圳市西盟特电子有限公司 一种自散热器件及其制备方法
US10047257B2 (en) * 2013-09-27 2018-08-14 Daicel Corporation Adhesive agent composition for multilayer semiconductor
CN104889397B (zh) * 2014-03-03 2017-05-24 中国科学院理化技术研究所 一种用于3d打印的低熔点金属线材及其制作方法
KR101637288B1 (ko) * 2014-11-14 2016-07-07 현대자동차 주식회사 은 페이스트의 접합 방법
KR102487472B1 (ko) * 2015-08-03 2023-01-12 나믹스 가부시끼가이샤 고성능, 열 전도성 표면 실장 (다이 부착) 접착제
DE102015117711A1 (de) 2015-10-16 2017-04-20 Ferro Gmbh Abziehbild zur Erzeugung eines Dekors
WO2018105127A1 (ja) * 2016-12-09 2018-06-14 日立化成株式会社 接合体の製造方法、遷移的液相焼結用組成物、焼結体及び接合体
EP3638439B1 (en) * 2017-06-12 2024-01-17 Ormet Circuits, Inc. Metallic adhesive compositions having good work lives and thermal conductivity, methods of making same and uses thereof
WO2019218268A1 (en) * 2018-05-16 2019-11-21 Henkel Ag & Co., Kgaa Curable adhesive composition for die attach
KR102297961B1 (ko) * 2019-11-11 2021-09-02 중앙대학교 산학협력단 저융점 및 고융점 필러를 포함하는 열 및 전기 전도성 경로를 형성할 수 있는 접착제 및 이를 이용한 솔더링 방법
CN111192705B (zh) * 2020-01-07 2021-07-02 北京梦之墨科技有限公司 一种液态金属导电浆料、电子器件及其制作方法
CN114051647B (zh) * 2020-01-29 2023-02-03 株式会社村田制作所 带电极的无源部件和带电极的无源部件的集合体
CN112186382B (zh) * 2020-10-12 2021-04-13 南京瑞敬自动化科技有限公司 一种超小密封型高温高压连接器
CN113461861B (zh) * 2021-07-20 2023-08-29 汕头市三马塑胶制品有限公司 一种新型环保功能化聚丙烯及其制备方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4101691A (en) * 1976-09-09 1978-07-18 Union Carbide Corporation Enhanced heat transfer device manufacture
US5296074A (en) * 1987-03-30 1994-03-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for bonding small electronic components
US5376403A (en) * 1990-02-09 1994-12-27 Capote; Miguel A. Electrically conductive compositions and methods for the preparation and use thereof
US5652042A (en) * 1993-10-29 1997-07-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Conductive paste compound for via hole filling, printed circuit board which uses the conductive paste
WO1998008362A1 (en) * 1996-08-16 1998-02-26 Craig Hugh P Printable compositions, and their application to dielectric surfaces used in the manufacture of printed circuit boards
US6017634A (en) * 1997-07-21 2000-01-25 Miguel Albert Capote Carboxyl-containing polyunsaturated fluxing agent and carboxyl-reactive neutralizing agent as adhesive
US5985456A (en) * 1997-07-21 1999-11-16 Miguel Albert Capote Carboxyl-containing polyunsaturated fluxing adhesive for attaching integrated circuits
US6562181B2 (en) * 1999-06-11 2003-05-13 Lord Corporation Reactive adhesives and coatings with trifunctional olefinic monomers
US6610759B1 (en) * 2000-03-06 2003-08-26 Curators Of The University Of Missouri Cationically polymerizable adhesive composition containing an acidic component and methods and materials employing same
TWI248384B (en) * 2000-06-12 2006-02-01 Hitachi Ltd Electronic device
AU2002245103A1 (en) * 2000-11-14 2002-07-30 Henkel Loctite Corporation Wafer applied fluxing and underfill material, and layered electronic assemblies manufactured therewith
US6458472B1 (en) * 2001-01-08 2002-10-01 Henkel Loctite Corporation Fluxing underfill compositions
US6815831B2 (en) * 2001-12-12 2004-11-09 Intel Corporation Flip-chip device with multi-layered underfill having graded coefficient of thermal expansion

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10643863B2 (en) 2017-08-24 2020-05-05 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package and method of manufacturing the same

Also Published As

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EP1608699A2 (en) 2005-12-28
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