TW201543525A - 帶電粒子束描繪裝置、資訊處理裝置、圖案檢查裝置及帶電粒子束描繪方法 - Google Patents

帶電粒子束描繪裝置、資訊處理裝置、圖案檢查裝置及帶電粒子束描繪方法 Download PDF

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Abstract

與實施型態有關之帶電粒子束描繪裝置，具備儲存在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素(例如單元)對應之每個下階層要素(例如，圖案)之圖形資訊的圖形資訊檔案，和使賦予在每個下階層要素之屬性資訊和與特定階層要素有關的資訊(例如索引號碼)產生關連性而予以儲存之屬性資訊檔案。

Description

帶電粒子束描繪裝置、資訊處理裝置、圖案檢查裝置及帶電粒子束描繪方法
本發明之實施型態係關於荷電粒子束描繪裝置、資訊處理裝置、圖案檢查裝置及荷電粒子束描繪方法。
隨著近年來之大規模積體電路(LSI)之高積體化及大容量化，半導體裝置所要求的電路線寬逐漸微小。為了在半導體裝置形成期待之電路圖案，使用光微影技術，在該光微影技術中，進行使用被稱為光罩(光柵)之原版圖案的圖案轉印。為了製造用於該圖案轉印之高精度的光罩，使用具有優良解像度之帶電粒子束描繪裝置。
在該帶電粒子束描繪裝置中，描繪資料以如晶片階層、框架階層、區塊階層、單元階層及圖形階層被階層化。在該階層構造之描繪資料中，於調整與特定之圖形有關之描繪條件(例如，照射量)之時，除了特定圖形之圖形資訊外，賦予屬性資訊(例如定義照射量之屬性資訊)。至今雖然在多數之圖形中之一部分的圖形賦予屬性資訊，但是隨著近年來的高解像度化之要求，增加了對所 有圖形賦予屬性資訊。
但是，在上述般之屬性資訊之賦予方法中，因屬性資訊與圖形資訊皆包含在圖形資訊檔案，故於欲變更相對於特定之圖形的屬性資訊時，必須再作成包含圖形資訊及屬性資訊之雙方的圖形資訊檔案，使得處理效率下降。再者，欲在遮罩上配置即使圖形資訊相同屬性資訊亦不同之晶片時，因重覆作成圖形資訊，故資料量變大，並且處理效率下降。因為這原因，要求提升處理效率。
本發明之實施型態係提供可提升處理效率的荷電粒子束描繪裝置、資訊處理裝置、圖案檢查裝置及荷電粒子束描繪方法。
若藉由一個實施型態時，帶電粒子束描繪裝置具備：圖形資訊檔案，其係儲存在每個階層具有要素的階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和屬性資訊檔案，其係使賦予在每個下階層要素之屬性資訊和與特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
再者，若藉由另一個實施型態時，資訊處理裝置具備：圖形資訊檔案，其係儲存在每個階層具有要素的階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和屬性資訊檔案，其係使賦予在每個下階層要素之屬性資訊和與特定階層要素有關的資訊產生關連性 而予以儲存。
再者，若藉由另一個實施型態時，圖案檢查裝置具備：圖形資訊檔案，其係在每個階層儲存具有要素的階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和屬性資訊檔案，其係使賦予在每個下階層要素之屬性資訊和與特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
再者，若藉由另一個實施型態時，帶電粒子束描繪方法具備：生成圖形資訊檔案之工程，和生成屬性資訊檔案之工程，該圖形資訊檔案係儲存在每個階層具有要素的階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；該屬性資訊檔案係使賦予在每個下階層要素之屬性資訊和與特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
1‧‧‧帶電粒子束描繪裝置
2‧‧‧描繪部
3‧‧‧控制部
2a‧‧‧描繪腔室
2b‧‧‧光學鏡筒
3a‧‧‧資訊處理部
3b‧‧‧描繪資料生成部
3c‧‧‧射擊資料生成部
3d‧‧‧描繪控制部
11‧‧‧平台
21‧‧‧射出部
22‧‧‧照明部
23‧‧‧第1成形孔隙
24‧‧‧投影透鏡
25‧‧‧成形偏轉器
26‧‧‧第2成形孔隙
27‧‧‧物鏡
28‧‧‧副偏轉器
29‧‧‧主偏轉器
51‧‧‧圖案檢查裝置
52‧‧‧檢查部
圖1為表示與第1實施形態有關之帶電粒子束描繪裝置之概略構成的圖示。
圖2為用以說明藉由與第1實施形態有關之描繪資料的說明圖。
圖3為用以說明藉由與第1實施形態有關之圖形資訊檔案及屬性資訊檔案的說明圖。
圖4為表示與第1實施形態有關之屬性資訊值及照射量之關係的曲線圖。
圖5為用以說明藉由與第2實施形態有關之圖形資訊檔案及屬性資訊檔案的說明圖。
圖6為用以說明藉由與第3實施形態有關之圖形資訊檔案及屬性資訊檔案的說明圖。
圖7為用以說明藉由與第4實施形態有關之圖形資訊檔案及屬性資訊檔案的說明圖。
圖8為表示與第5實施形態有關之圖案檢查裝置之概略構成的圖示。
(第1實施形態)
針對第1實施形態參照圖1至圖4予以說明。
如圖1所示般，與第1實施型態有關之帶電粒子束描繪裝置1具備進行藉由帶電粒子束之描繪的描繪部2，和控制其描繪部2之控制部3。該荷電粒子束描繪裝置1為可以例如電子束當作帶電粒子束之可變成形型之描繪裝置之一例。並且，帶電粒子束並不限定於電子束，即使為離子束等之其他帶電粒子束亦可。
描繪部2具有收容成為描繪對象之試料W之描繪腔室(描繪室)2a，和與其描繪腔室2a有連接的光學鏡筒2b。描繪腔室2a係當作具有氣密性之真空腔室而發揮功能。再者，光學鏡筒2b被設置在描繪腔室2a之上面，藉由光學系統使電子束成形及偏轉，對描繪腔室2a內之試料W照射。此時，描繪腔室2a及光學鏡筒2b之雙方之 內部被減壓成為真空狀態。
在描繪腔室2a內設置有用以支撐光罩或素材等之試料W的平台11。該平台11被形成可在水平面內互相正交之X軸方向和Y軸方向(以下，單稱為X方向及Y方向)上移動。再者，在光學鏡筒2b內，配置有射出電子束B之電子槍等之射出部21、使其電子束B聚光之照明透鏡22、射束成形用之第1成形孔隙23、投影用之投影透鏡24、射束成形用之成形偏轉器25、射束成形用之第2成形孔隙26、在試料W上連結射束焦點的物鏡27、用以控制相對於試料W之射束射擊位置的副偏轉器28及主偏轉器29。
在該描繪部2中，電子束B從射出部21被射出，藉由照明透鏡22被照射至第1成形孔隙23。該第1成形孔隙23具有例如矩形狀之開口。依此，當電子束B通過第1成形孔隙23時，其電子束之剖面形狀被成形矩形狀，藉由投影透鏡24被投影在第2成形孔隙26。並且，該投影位置藉由成形偏轉器25可變更，藉由投影位置之變更可以控制電子束B之形狀和尺寸。之後，通過第2成形孔隙26之電子束B係其焦點藉由物鏡27對準平台11上之試料而被照射。此時，電子束B對平台11上之試料W的射擊位置藉由副偏轉器28及主偏轉器29可變更。
控制器3具備有處理佈局資料或晶片資料(設計資料或CAD資料等)之資訊而生成描繪資料之資訊處理部3a，和記憶描繪資料之描繪資料記憶部3b，和處理其描 繪資料而生成射擊資料之射擊資料生成部3c，和控制描繪部2之描繪控制部3d。並且，資訊處理部3a、射擊資料生成部3c或描繪控制部3d即使藉由電路等之硬體來構成亦可，又即使藉由實行各功能之程式等之軟體來構成亦可，或是藉由該些雙方之組合來構成亦可。
資訊處理部3a係轉換例如佈局資料或晶片資料(設計資料或CAD資料等)等之資料，生成基於描繪裝置用格式的描繪資料。並且，佈局資料或晶片資料係藉由半導體積體電路之設計者所作成的資料，從保管其佈局資料的資料庫等之記憶裝置(無圖示)經由有線或無線之網路被輸入至資訊處理部3a。
描繪資料記憶部3b為記憶藉由資訊處理部3a而被生成之描繪裝置用格式之描繪資料的記憶部。作為該描繪資料記憶部3b，例如可使用例如磁碟裝置或半導體碟裝置(快閃記憶體)等。
射擊資料生成部3c係將藉由描繪資料所規定之描繪圖案分割成條帶狀(長條狀)之複數的條帶區域(長邊方向為X方向，短邊方向為Y方向)，又將各條帶區域分割成形列狀之多數的次區域。除此之外，射擊資料生成部3c決定各次區域內之圖形之形狀或大小、位置等，並且於不可能以一次射擊描繪圖形之時，分割成可描繪之複數部分區域，生成射擊資料。並且，條帶區域之短邊方向(Y方向)之長度被設定成可以主偏轉使電子束B轉偏之長度。
描繪控制部3d係於描繪上述描繪圖案之時，邊使平台11在條帶區域之長邊方向(X方向)移動，邊藉由主偏轉器29將電子束B定位在各次區域，藉由副偏轉器28射擊至次區域之特定位置而描繪圖形。之後，當一個條帶區域之描繪完成時，使平台11在Y方向步進移動後進行條帶區域之描繪，重覆此，在試料W之描繪區域之全體進行藉由電子束B之描繪(描繪動作之一例)。並且，在描繪中，因平台11在一方向連續性地移動，故以描繪原點追隨著平台11之移動之方式，使藉由主偏轉器29追蹤次區域之描繪原點。
如此一來，電子束B藉由副偏轉器29和主偏轉器29被偏轉，一面追隨著連續移動的平台11，一面決定其照射位置。連續性地進行平台11之X方向之移動，並且使電子束B之射擊位置追隨著其平台11之移動，依此可以縮短描繪時間。但是，在第1實施型態中，雖然連續進行平台11之X方向之移動，但是並不限定於此，例如即使在使平台11停止之狀態下，進行一個次區域之描繪，當移動至下一個次區域之時，使用不進行描繪之歩進及重覆方式之描繪方法亦可。
在此，描繪資料通常包含多數之微小的圖案(圖形等)，其資料量成為相當大的容量。因此，在描繪資料中，藉由使資料階層化，謀求資料量之壓縮化，在帶電粒子束描繪裝置1中，使用階層構造之描繪資料。
例如，圖2所示般，描繪資料被階層化成晶片階層 CP、較其晶片階層CP下位的框架階層FR、較其框架階層FR下位的區塊階層BL、較其區塊階層BL下位的單元階層CL、較其單元階層CL下位的圖形階層FG(階層構造)。並且，描繪資料基本上與格式轉換前後無關係被階層化。在如此之描繪資料中，當某階層為第1階層時，其第1階層之下階層成為第2階層，其第2階層之下階層成為第3階層。
在圖2之例中，屬於晶片階層CP之要素群(片群)之一部分的晶片CP1與屬於框架階層FR之要素群(框架群)之一部分的三個框架FR1~FR3對應。再者，屬於框架階層FR之要素群之一部分的框架FR2與屬於區塊階層BL之要素群(區塊群)之一部分的十八個區塊BL1~BL18對應。屬於區塊階層BL之要素群之一部分的區塊BL9與屬於單元階層CL之要素群(單元群)之一部分的四個單元CL1~CL4對應。屬於單元階層CL之要素群之一部分的CL1與屬於圖形階層FG之要素群(圖形群)之一部分的複數圖形FG1、FG2對應。
接著，針對上述資訊處理部3a詳細說明。
資訊處理部3a如圖3所示般，生成圖形資訊檔案F1、與其圖形資訊檔案F1不同的屬性資訊檔案F2。圖形資訊檔案F1為例如框架資訊檔案，藉由單元配置資訊檔案F1a、關連記錄檔案F1b及單元圖案資訊檔案(單元圖形資訊檔案)F1c而構成。
單元配置資訊檔案F1a為儲存標頭(Header)、單元 配置資訊(Cell location)及索引號碼(Index1、Index2、Index3、Index4、．．．)之檔案。在每單元配置資訊設定索引號碼(種子資料號碼)，當作單元配置資訊之索引資訊(識別資訊)發揮功能。
關連記錄檔案F1b為儲存標頭(Header)、關連記錄資訊(Index1→Pointer、Index2→Pointer、．．．)之檔案。指標(Pointer)係當作表示資訊之儲存位置的儲存位置資訊而發揮功能。
單元圖案資檔案F1c為儲存標頭(Header)、複數之單元圖案資訊(Cell Pattern Data1、Cell Pattern Data2、．．．)的檔案。各單元圖案資訊分別具有複數圖案資訊(Pattern1、Pattern2、．．．)。
如此之圖形資訊檔案F1係如上述般在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素儲存圖形資訊，即是在圖3中，於與單元階層之單元對應的每個圖形階層之圖案(圖形)儲存圖案資訊(圖形資訊)之檔案。
屬性資訊檔案F2為儲存標頭(Header)、關連表格(Relation Table)T1、屬性資訊群組表格(AI group1、AI group2．．．)T2之檔案。
關連表格T1為定義屬性資訊群組指標(Pointer to AI group1、Pointer to AI group2、．．．)的表格。該關連表格T1為以特定之順序儲存與索引號碼對應的屬性資訊群組指標的表格。屬性資訊群組指標儲存有賦予在單元圖案資 訊內之各圖案的屬性資群組(屬性資訊群組)之前頭位址。
屬性資訊群組表格T2為定義屬性資訊群組之標頭(Header of AI group)，和屬性資訊值(A1)及屬性資訊之重覆次數(Rep)的表格。該屬性資訊群組表格T2當作儲存與群組號碼對應之屬性資訊及其屬性資訊之重覆次數資訊的屬性資訊表格發揮功能。
屬性資訊群組之標頭為定義屬性資訊群組之尺寸(Length of the AI group)、屬性資訊檔案之長度(Byte info)、壓縮與否的旗標(Comp Info)、屬性資訊之數量(Number of AIs)的標頭。並且，於豎立壓縮與否的旗標之時，資訊處理部3a判斷進行壓縮時，以特定形式將屬性資訊群組表格T2壓縮成特定尺寸。
如此之屬性資訊檔案F2係使與特定階層要素對應的每個下階層要素和與特定階層要素有關的資訊產生關連性，即是在圖3中，使賦予在與單元階層之單元對應的圖形階層之每個圖案的屬性資訊(與描繪條件有關之屬性資訊)和與屬於單元階層之單元有關之資訊的單元配置資訊之索引號碼產生關連性而予以儲存的檔案。
並且，作為與描繪條件有關之屬性資訊可舉出例如照射量。再者，作為該照射量以外之屬性資訊，可舉出例如有無穩定時間或路徑屬性(在第1路徑描繪，在第2路徑不描繪等，或是在第1路徑和第2路徑重疊描繪等之每個路徑的描繪設定)等之各種屬性資訊。
在此，例如圖4所示般，決定屬性資訊值(AI值)和照射量(dose)之關係。屬性資訊值為0之時照射量成為d0，屬性資訊值為1之時照射量成為d1，屬性資訊值為2之時照射量成為d2，屬性資訊值為3之時成為d3，屬性資訊值為4之時照射量成為d4。該屬性資訊值(AI值)係從屬性資訊檔案F2決定以作為描繪對象之圖案(圖形)的屬性資訊，根據其屬性資訊，實行描繪對象之圖形的描繪。
在圖3所示之圖形資訊檔案F1中，當讀取單元配置資訊檔案F1a之最上面之單元配置資訊的「Cell location」時，使用其單元配置資訊之索引號碼的「Index1」，從關連記錄檔案F1b決定與其「Index1」對應的「Pointer」，從單元圖案資訊檔案F1c讀取與其「Pointer」對應的單元圖案資訊之「Cell Pattern Data1」。
此時，使用上述之「Index1」，從關連表格T1決定與其「Index1」對應的屬性資訊群組指標之「Pointer to AI group1」。該「Pointer to AI group1」係指屬性資訊群組之「AI group1」，讀取與其「AI group1」對應的屬性資訊群組表格T2。根據該屬性資訊群組表格T2，對上述單元圖案資訊檔案F1c之「Cell Pattern Data1」之各圖案，賦予屬性資訊。
例如，在圖3所示之屬性資訊群組表格T2中，因AI=1、Rep=2，故AI值為1，其AI值之重覆次數(重覆使用次數)成為兩次。同樣，因AI=2、Rep=1，故AI值 為2，其AI值之重覆次數成為1次。再者，因AI=3、Rep=1，故AI值為3，其AI值之重覆次數成為1次。
根據該屬性資訊群組表格T2，在單元圖案資訊檔案F1c之「Cell Pattern Data1」中，首先對「Pattern1」及「Pattern2」賦予1之AI值(AI=1、Rep=2)。接著，對「Pattern3」賦予2之AI值(AI=2、Rep=1)、「Pattern4」，賦予3之AI值(AI=3、Rep=1)。如此一來，對每個圖案順序賦予AI值。
如此之屬性資訊檔案F2藉由資訊處理部3a另外生成圖形資訊檔案F1，與其圖形資訊檔案F1一起當作描繪資料而被保存在描繪資料記憶部3b。因此，例如，於欲變更相對於特定之圖形(圖案)之屬性資訊之時，若僅變更或再作成屬性資訊檔案F2即可。依此，比起再作成包含圖形資訊及屬性資訊之圖形資訊檔案全體之時，可提升處理效率。再者，欲在遮罩上配置即使圖形資訊相同屬性資訊亦不同的晶片時，若使圖形資訊檔案F1成為相同，作成屬性資訊不同的屬性資訊檔案F2時即可。因此，比起作成兩個包含圖形資訊及屬性資訊之圖形資訊檔案之時(重覆作成圖形資訊之時)，可抑制資料量，並且可提升處理效率。
尤其，因相同之圖形資訊不重覆生成，故可以大幅度地刪減佈局資料量。依此，可縮短描繪時間轉換時間或資料傳送時間、資料處理時間，其結果，可以縮短遮罩描繪時間(主要資料準備時間)。再者，因可以容易組合本資 料和舊資料(不持有屬性資訊或持有屬性資訊之資料)，故可以提升資料互換性。
如上述說明般，若藉由第1實施形態時，生成儲存在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素(例如單元)對應之每個下階層要素(例如，圖案)之圖形資訊的圖形資訊檔案F1，和使賦予在每個下階層要素之屬性資訊和與特定階層要素有關的資訊(例如索引號碼)產生關連性而予以儲存之屬性資訊檔案F2。依此，根據圖形資訊檔案F1，於描繪圖形(圖案)之時，使用與特定階層要素有關的資訊從屬性資訊檔案F2選擇屬性資訊而賦予圖形，可描繪根據其屬性資訊及圖形資訊的圖形。
因此，例如於欲變更相對於特定圖形之屬性資訊之時，若僅變更或再作成屬性資訊檔案F2即可，比起再作成包含圖形資訊及屬性資訊之圖形資訊檔案全體之時，可以提升處理效率。再者，欲在遮罩上配置即使圖形資訊相同屬性資訊亦不同的晶片之時，若使圖形資訊檔案F1相同，作成屬性資訊不同之屬性資訊檔案F2即可，比起作成兩個包含圖形資訊及屬性資訊之圖形資訊檔案之時，除了刪減資料量之外，可以提升處理效率。
(第2實施形態)
針對第2實施形態參照圖5予以說明。
第2實施形態基本上與第1實施形態相同。在第2實 施型態中，針對與第1實施型態之不同點(圖形資訊檔案)進行說明，省略其他說明。
如圖5所示般，與第2實施型態有關之圖形資訊檔案F1係開放標準格式(例如，藉由SEM1(半導體製造機器之業界團體)被標準化之綠洲形式的格式)的檔案。該圖形資訊檔案F1為儲存具有階層構造之描繪資料之圖形資訊的檔案，儲存有單元名(CELL NAME1、CELL NAME2、CELL NAME3、．．．)或單元資訊(CELL1、CELL2、CELL3、．．．)等。再者，關連表格T1係以特定之順序儲存與單元名對應的屬性資訊群組指標而予以儲存的表格，其他與第1實施型態相同。
在圖5所示之圖形資訊檔案F1中，當讀取單元名之「CELL NAME1」時，從關連表格T1決定與其「CELL NAME1」對應的屬性資訊表格指標之「Pointer to AI group1」。該「Pointer to AI group1」係指屬性資訊群組之「AI group1」。之後的處理與第1實施形態相同。
如此一來，可配合開放標準格式等之各種格式形式之圖形資訊檔案F1而形成屬性資訊檔案F2，對於各種格式形式之圖形資訊檔案F1，可個別地設置屬性資訊檔案F2。依此，與第1實施型態相同，可以提升處理效率。
如上述說明般，若藉由第2實施形態時，可以取得與上述第1實施形態相同之效果，並可以提升處理效率。
(第3實施形態)
針對第3實施形態參照圖6予以說明。
第3實施形態基本上與第1實施形態相同。在第3實施型態中，針對與第1實施型態之不同點(屬性資訊檔案)進行說明，省略其他說明。
如圖6所示般，與第3實施型態有關之屬性資訊檔案F2，不具有與第1實施型態有關之關連表格T1，具有在每個單元圖案儲存與索引號碼(種子資料號碼)對應之屬性資訊的屬性資訊表格T3。
在圖6所示之屬性資訊表格T3中，依序對應於索引號碼，以如AI=1、AI=2、AI=3．．．之方式，儲存AI值。即是，以與索引號碼之「Index1」對應的AI值為1，與「Index2」對應的AI值為2，與「Index3」對應的AI值為3之方式被儲存。
根據該屬性資訊表格T3，在單元圖案資訊檔案F1c中，對「Cell Pattern Data1」之全圖案(一群)，賦予1之AI值。再者，對其他之「Cell Pattern Data2」全圖案，賦予2之AI值，對「Cell Pattern Data3」之全圖案，賦予3的AI值。如此一來，以資訊內之全圖案之AI值成為相同值之方式，賦予在每個單元圖案資訊。
如此一來，使單元圖案資訊內之全圖案之AI值成為相同之時等，因應所需，可以不需要關連表格T1，可以刪減屬性資訊檔案F2之資料量。
如上述說明般，若藉由第3實施形態時，可以取得與上述第1實施形態相同之效果，並可以刪減屬性資訊檔案 F2之資料量。
(第4實施形態)
針對第4實施形態參照圖7予以說明。
第4實施形態基本上與第1實施形態相同。在第4實施型態中，針對與第1實施型態之不同點(圖形資訊檔案及屬性資訊檔案)進行說明，省略其他說明。
如圖7所示般，與第4實施型態有關之圖形資訊檔案F1除了第1實施型態之構成外，為在每個單元圖案資訊之圖案(圖形)定義屬性資訊之檔案，成為包含圖形資訊及屬性資訊的圖形資訊檔案。
在圖7所示之圖形資訊檔案F1之單元圖案資訊檔案F1c中，單元圖案資訊之「Cell Pattern Data1」內之「Pattern1」及「Pattern2」之各AI值為1。接著，「Pattern3」之AI值為2，「Pattern4」至「Pattern7」之各AI值為3，「Pattern8」之AI值為4。如此一來，對每個圖案順序賦予AI值。
屬性資訊群組表格T2為定義與第1實施型態相同之屬性資訊群組之標頭(Header of AI group)、屬性資訊值(AI)、屬性資訊之覆寫開始圖形號碼(Start Number)及結束圖形號碼(End Number)的表格。該些覆寫開始圖形號碼及結束圖形號碼當作覆寫資訊而發揮功能。因此，屬性資訊群組表格內T2內之AI值之優先度較單元圖案資訊檔案F1c內之AI值之優先度高。
在圖7所示之屬性資訊群組表格T2中，與索引號碼之「Index1」對應的「AI group1」之AI值為4，屬性資訊之覆寫開始圖形號碼之「Start Number」為3，覆寫結束圖形號碼之「End Number」為5。
在上述之單元圖案資訊檔案F1c之「Cell Pattern Data1」中，首先對「Pattern1」及「Pattern2」賦予1之AI值。接著，雖然對「Pattern3」賦予2之AI值，但是因屬性資訊群組表格T2之「Start Number」為3，故其屬性資訊群組表格T2內之4之AI值被覆寫至上述2之AI值而被賦予(2→4)。接著，同樣對「Pattern4」及「Pattern5」覆寫4之AI值而被賦予(3→4)。之後，對「Pattern6」及「Pattern7」以不覆寫之方式賦予3之AI值，最後對「Pattern8」賦予4之AI值。
如此一來，當在每個圖案依序賦予AI值，此時強制性地覆寫單元圖案資訊內之期待圖案之AI值。因此，不直接處理包含圖形資訊及屬性資訊之圖形資訊檔案F1，若僅變更或再作成屬性資訊檔案F2即可。因此，比起處理包含圖形資訊及屬性資訊之圖形資訊檔案全體之時，可提升處理效率。
如上述說明般，若藉由第4實施形態時，可以取得與上述第1實施形態相同之效果，並可以提升處理效率。
(第5實施形態)
針對第5實施形態參照圖8予以說明。在第5實施型 態中，針對與第1實施型態之不同點(圖案檢查裝置)進行說明，省略其他說明。
如圖8所示般，與第5實施型態有關之圖案檢查裝置51具備有與第1至第4中之任一實施型態有關的資訊處理部3a，和檢查圖案之檢查部52。該檢查部52被輸入藉由上述資訊處理部3a被生成之描繪資料之第1資料。再者，在檢查部52被輸入根據與第1實施型態有關之帶電粒子束描繪裝置1實際被描繪在試料W上之圖案而被作成的描繪資料之第2資料。
第1資料從保管其資料之資料庫等之記憶裝置(無圖示)經由有線或無線之網路而被輸入至資訊處理部3a，接著於藉由其資訊處理部3a之處理後被輸入至檢查部52。再者，第2資料從保管其資料之資料庫等之記憶裝置(無圖示)通過有線或無線之網路被輸入至檢查部52。該些資料與第1實施型態有關之描繪資料相同，例如藉由晶片階層CP、框架階層FR、區塊階層BL、單元階層CL及圖形階層FG被階層化(參照圖2)。
檢查部52係根據被輸入之各資料，例如藉由與第1實施型態有關的帶電粒子束描繪裝置1，檢查實際上被描繪在試料W上之圖案等。在該檢查中，進行比較實際被描繪之圖案和描繪資料的檢查。並且，檢查需要描繪條件等之各種資訊。
如上述說明般，若藉由第5實施形態時，可以取得與上述第1至4中之任一實施形態相同之效果，並可以提升 處理效率。
(其他實施型態)
在上述第1至第5實施型態中，雖然將資訊處理部3a適用於帶電粒子束描繪裝置1或圖案檢查裝置51而進行說明，但是並不限定於此，例如即使將資訊處理部3a適用於資訊處理裝置(以一例而言，電腦終端)亦可。
雖然說明本發明之幾個實施型態，但是該些實施型態係以例之方式被表示，並無限定發明之範圍的意圖。該些新實施型態可以其他各種型態來實施，只要在不脫離發明之主旨的範圍下，可做各種省略、置換及變更。該些實施型態或其變形當然也包含在發明範圍或主旨中，並且包含於申請專利範圍所記載之發明和其均等之範圍中。

Claims (5)

  1. 一種帶電粒子束描繪裝置，其特徵在於具備：圖形資訊檔案，其係儲存在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和屬性資訊檔案，其係使賦予在每個上述下階層要素之屬性資訊和與上述特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
  2. 如請求項1所記載之帶電粒子束描繪裝置，其中上述圖形資訊檔案係在每個上述下階層要素儲存上述圖形資訊與上述屬性資訊，上述屬性資訊檔案在上述圖形資訊檔案之上述屬性資訊儲存用以覆寫本身之上述屬性資訊的覆寫資訊。
  3. 一種資訊處理裝置，其特徵在於具備：圖形資訊檔案，其係儲存在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和屬性資訊檔案，其係使賦予在每個上述下階層要素之屬性資訊和與上述特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
  4. 一種圖案檢查裝置，其特徵在於具備：圖形資訊檔案，其係儲存在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和 屬性資訊檔案，其係使賦予在每個上述下階層要素之屬性資訊和與上述特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
  5. 一種帶電粒子束描繪方法，其特徵在於具有：生成圖形資訊檔案之工程，該圖形資訊檔案係儲存在每個階層具有要素之階層構造之描繪資料中與特定階層要素對應的每個下階層要素之圖形資訊；和生成屬性資訊檔案之工程，該屬性資訊檔案係使賦予在每個上述下階層要素之屬性資訊和與上述特定階層要素有關的資訊產生關連性而予以儲存。
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