JP4828460B2 - 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 - Google Patents
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Description
可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。まず、第1のアパーチャ410には、電子線442を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、開口411を通過した電子線442を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、開口411を通過した電子線442は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口421の一部を通過して、ステージ上に搭載された試料に照射される。ステージは、描画中、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動している。このように、開口411と可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、試料440の描画領域に描画される。開口411と可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すセルサイズデータとセルのパターンデータとを含む第1のデータファイルを描画データの一部として作成する第1のデータファイル作成工程と、
セルの配置位置を示す配置位置データとセルのサイズデータとを含む第2のデータファイルを描画データの一部として作成する第2のデータファイル作成工程と、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータを含む第3のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第3のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする。
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第1のデータファイルを描画データの一部として作成する第1のデータファイル作成工程と、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルを描画データの一部として作成する第2のデータファイル作成工程と、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第3のデータファイルを描画データの一部として作成する第3のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする。
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第1のデータファイルを描画データの一部として作成する第1のデータファイル作成工程と、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルを描画データの一部として作成する第2のデータファイル作成工程と、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第3のデータファイルを描画データの一部として作成する第3のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする。
荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第1のデータファイルと、
セルの配置位置を示す配置位置データとセルのサイズデータとを含む第2のデータファイルと、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータを含む第3のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする。
荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第1のデータファイルと、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルと、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第3のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする。
荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第1のデータファイルと、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルと、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第3のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。
図1において、描画データ作成装置300は、セル配置データファイル作成回路310、セルパターンデータファイル作成回路320、リンクデータファイル作成回路330、モニタ340、記憶装置350、インターフェース(I/F)回路362,364を備えている。図1では、実施の形態1を説明する上で必要な構成部分については記載している。描画データ作成装置300にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
図2に示すように、設計データ10を描画データ作成装置にて変換して描画データ12を作成する。そして、作成された描画データ12は、描画装置内に入力されることになる。図2において、電子線描画データの作成方法は、セル配置データファイル作成工程(S102)と、セルパターンデータファイル作成工程(S104)と、リンクデータファイル作成工程(S106)という一連の工程を実施する。
描画装置でパターンを描画する際には、例えば、フレームを描画単位として描画される。図3では、一例として、あるチップにおける番号”n”で識別されるフレーム領域に位置しているデータについて説明する。そして、そのフレーム用の描画データ12として、セル配置データ、リンクデータ、セルパターンデータが作成される。図3において、描画データ12は、一例として、セル配置データファイル22、リンクデータファイル24、セルパターンデータファイル26を有している。これらのファイルがフレームごとに作成される。描画データ12は、さらに、一つ以上のフレームで構成されるチップに対して、各フレームの構成情報やチップ全体で共通のパラメータ等を定義するチップ構成ファイル20を有している。また、図3では、セル配置データファイル22とリンクデータファイル24とセルパターンデータファイル26内の各データの対応関係の一例を示している。試料に所望するパターンを描画する場合には、一つのマスクに対して、一つ以上のチップで構成される。そのような場合、これらのファイルで構成されるチップデータが複数存在し、それらをマスク上に配置するためのレイアウト情報を有する。
各セル配置データ32には、セルサイズ(SX,SY)、セル配置座標(x,y)、及びリンクデータインデックス(Km)が含まれている。セルサイズ(SX,SY)は、セルのサイズを示すサイズデータの一例となる。セル配置座標(x,y)は、セルの配置位置を示す配置位置データの一例となる。かかるデータにより、セル配置データファイル22では、各ブロックに配置されるセルの枠情報を表すセルのサイズや座標、そして後述するセルパターンデータへとリンクさせるための情報を把握することができる。
セルパターンデータ36には、データ長とセルサイズ(SX,SY)と図形情報であるパターンデータとが格納(定義)される。
関係データ34には、パターンデータセグメントインデックスとセルパターンデータポインタとオペレーション情報とが格納されている。パターンデータセグメントインデックスは、セルパターンデータファイル26内でのパターンデータセグメントの先頭のアドレスを示している。そして、セルパターンデータポインタは、パターンデータセグメント内でのセルパターンデータの先頭アドレスを示している。これらは、セル配置データが参照するためのセルパターンデータへのリンク情報となる。オペレーション情報は、リンクさせられるパターンデータの反転情報と回転情報とスケーリング情報とフォーマット種別情報等の情報が定義(格納)されている。
図7は、実施の形態1における描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。
図7において、描画装置100は、描画部150と制御部160を備えている。描画装置100は、荷電粒子ビーム描画装置の一例となる。そして、描画装置100は、試料101に描画データ12に基づくパターンを描画する。制御部160は、制御回路110、描画データ処理回路120、記憶装置122及びモニタ124を備えている。描画部150は、電子鏡筒102、描画室103を有している。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、偏向器208が配置されている。また、描画室103内には、移動可能に配置されたXYステージ105が配置されている。また、XYステージ105上には、試料101とファラデーカップ209が配置されている。試料101として、例えば、ウェハにパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、このマスクは、例えば、まだ何もパターンが形成されていないマスクブランクスが含まれる。また、図7では、実施の形態1を説明する上で必要な構成部分について記載している。描画装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
実施の形態1では、配置データファイルにセルのサイズが格納されている構成について説明した。実施の形態2では、リンクデータファイルにセルのサイズが格納されている構成について説明する。描画データ作成装置300や描画装置100の構成は実施の形態1と同様である。また、描画データ作成方法や、その後の描画方法についても実施の形態1と同様である。また、描画データ12のファイル構成も図3と同様である。実施の形態2では、セル配置データファイル22内のセル配置データとリンクデータファイル24内の関係データ以外は、実施の形態1と同様である。
各セル配置データ42には、セル配置座標(x,y)、及びリンクデータインデックス(Km)が含まれている。実施の形態2では、セルサイズ(SX,SY)を定義していない。その他は、実施の形態1と同様である。
関係データ44には、パターンデータセグメントインデックスとセルパターンデータポインタとオペレーション情報とセルサイズ(SX,SY)が格納されている。
実施の形態2では、リンクデータファイルとパターンデータファイルとにセルのサイズが格納されている構成について説明した。実施の形態3では、リンクデータファイルだけにセルのサイズが格納されている構成について説明する。描画データ作成装置300や描画装置100の構成は実施の形態1と同様である。また、描画データ作成方法や、その後の描画方法についても実施の形態1と同様である。また、描画データ12のファイル構成も図3と同様である。実施の形態3では、セルパターンデータファイル26内のセルパターンデータ以外は、実施の形態2と同様である。
セルパターンデータ46には、データ長とリンクデータインデックスとパターンデータとが格納(定義)される。すなわち、セルサイズ(SX,SY)の代わりにリンクデータインデックスが格納されている。
コンピュータとなるCPU50は、バス74を介して、RAM(ランダムアクセスメモリ)52、ROM54、磁気ディスク(HD)装置62、キーボード(K/B)56、マウス58、外部インターフェース(I/F)60、モニタ64、プリンタ66、FD68、DVD70、CD72に接続されている。ここで、RAM(ランダムアクセスメモリ)52、ROM54、磁気ディスク(HD)装置62、FD68、DVD70、CD72は、記憶装置の一例である。キーボード(K/B)56、マウス58、外部インターフェース(I/F)60、FD68、DVD70、CD72は、入力手段の一例である。外部インターフェース(I/F)60、モニタ64、プリンタ66、FD68、DVD70、CD72は、出力手段の一例である。
12 描画データ
20 チップ構成ファイル
22 セル配置データファイル
24 リンクデータファイル
26 セルパターンデータファイル
32,42 セル配置データ
34,44 関係データ
36,46 セルパターンデータ
50 CPU
52 RAM
54 ROM
56 K/B
58 マウス
60 I/F
62 HD装置
64 モニタ
66 プリンタ
68 FD
70 DVD
72 CD
74 バス
100 描画装置
101,440 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御回路
120 描画データ処理回路
122,350 記憶装置
124,340 モニタ
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
206,420 第2のアパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
207 対物レンズ
209 ファラデーカップ
300 描画データ作成装置
310 セル配置データファイル作成回路
320 セルパターンデータファイル作成回路
330 リンクデータファイル作成回路
362,364 I/F回路
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
442 電子線
Claims (6)
- 回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルを構成する図形情報を示すパターンデータとを含む第1のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第1のデータファイル作成工程と、
前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記セルのサイズデータとを含む第2のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第2のデータファイル作成工程と、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータを含む第3のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第3のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする描画データ作成方法。 - 回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルを構成する図形情報を示すパターンデータとを含む第1のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第1のデータファイル作成工程と、
前記セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第2のデータファイル作成工程と、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第3のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第3のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする描画データ作成方法。 - 回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第1のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第1のデータファイル作成工程と、
前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第2のデータファイル作成工程と、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第3のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第3のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする描画データ作成方法。 - 荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルの図形情報を示すパターンデータとを含む第1のデータファイルと、
前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記セルのサイズデータとを含む第2のデータファイルと、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータを含む第3のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする描画データファイルを格納した記憶媒体。 - 荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルを構成する図形情報を示すパターンデータとを含む第1のデータファイルと、
前記セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルと、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第3のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする描画データファイルを格納した記憶媒体。 - 荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも1つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第1のデータファイルと、
前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記所定のインデックスデータとを含む第2のデータファイルと、
前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第3のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする描画データファイルを格納した記憶媒体。
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