JP2002184680A - 図形データ変換方法 - Google Patents

図形データ変換方法

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JP2002184680A
JP2002184680A JP2000384701A JP2000384701A JP2002184680A JP 2002184680 A JP2002184680 A JP 2002184680A JP 2000384701 A JP2000384701 A JP 2000384701A JP 2000384701 A JP2000384701 A JP 2000384701A JP 2002184680 A JP2002184680 A JP 2002184680A
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Shinichi Ueki
伸一 植木
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多階層のセル構造を有する図形データを、よ
り少ない階層を有する図形データに変換する際に、変換
された図形データのデータ量を抑制する。 【解決手段】 ステップS202において、処理対象セ
ル内に存在するセル引用から、処理対象とするセル引用
の種類を設定し、ステップS203において、処理対象
の種類のセル引用のみを上位に展開する第1の処理と、
このセル引用の引用しているセルを展開する第2の処理
とによる各データ増加量D1およびD2を算出し、ステ
ップS204において、D1およびD2の大小を判断
し、D1≦D2のとき、ステップS205において第1
の処理を実行し、D1>D2のとき、ステップS206
において第2の処理を実行する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多階層のセル構造
を有する図形データをより少ない階層のセル構造に変換
する図形データ変換方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、LSIに代表される半導体集積回
路のパターンをマスクやウェハーなどの試料に描画する
ためには、電子ビーム描画装置が用いられている。電子
ビーム描画装置用の図形データは、CAD(Computer A
ided Design)等の図形設計ツールを用いて作成される
ことが多いが、このような図形設計ツールでは、データ
の作成を効率よく行うために、例えばセルの階層構造を
有する図形データが利用されている。
【0003】セルの階層構造を有する図形データは、パ
ターンおよびセルといわれる構造を含む。パターンと
は、矩形、台形、多角形等の形状の情報を有し、セルと
は、パターンや別のセルを配置してまとめられたもので
ある。また、セルの階層とは、セルの中に別のセルの引
用があるようなセルの構造のことで、このようにある階
層において別の下位セルの引用を示すような配置を、こ
こではセル引用と呼ぶ。さらに、セルの階層が2階層以
上となる場合を高階層と呼び、高階層のセル構造をより
少ない階層のセル構造に変換することを、セルの展開と
呼ぶ。
【0004】ここで、図10に、セル階層構造を有する
図形データの例を示す。図10(a)はこの図形データ
における各セルの構成を示し、(b)はセルの階層構造
を示す。
【0005】図10に示す図形データ30は、(a)に
示すようにセルTOP、セルAおよびセルBの3つのセ
ルによって構成されており、セル引用によってセルの階
層構造を有している。最上位の階層に位置するセルTO
Pは、1つ下層のセルAおよびセルBをそれぞれ引用す
る3つのセル引用Aと1つのセル引用Bを有している。
セルAは、パターンPa1およびPa2と、3層目に位
置するセルBを引用するセル引用Bを有し、セルBは、
パターンPb1、Pb2、Pb3、Pb4およびPa5
を有している。このような図形データ30は、図10
(b)に示すような3層の階層構造によって示される。
すなわち、1階層目にセルTOPが位置し、2階層目に
はセルTOPによって引用される3つのセルAと1つの
セルBが位置し、3階層目には2階層目の各セルAによ
って引用されるセルBが位置している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図形設計ツ
ールによって作成したレイアウトデータのフォーマット
では、高階層のセル構造を持つことができるが、電子ビ
ーム描画装置ではこのような階層構造をそのまま扱うこ
とができないことが多い。例えばベクスタスキャン型の
電子ビーム描画装置用のマスクデータのフォーマット
は、2階層のセル構造しか持つことができない。このた
め、レイアウトデータについては、電子ビーム描画装置
において受容可能なように、少ない階層数のデータに変
換する必要がある。また、このときのデータ量の大きさ
によって、データ変換処理に長時間を要する、あるいは
電子ビーム描画装置用のマスクデータとして使用可能な
データ量の限度を超えてしまうことがあり、データ変換
処理によってデータ量をより圧縮する必要がある。図形
データの階層数を減らすためには、セルの展開を行う
が、この展開方法としては、セル内の図形データをその
セルの上位階層に展開する方法と、セルを残してそのセ
ル内のセル引用を展開する方法とがある。したがって、
セルの展開では、この2つの方法のうちのどちらがデー
タ量を少なくすることができるかを判断する必要があ
る。
【0007】高階層のセル構造を有するデータを2階層
のデータに変換するための従来の方法は、特許公報25
29460号に開示されている。この方法では、各セル
において、あるセルが上位階層に展開された場合のパタ
ーンのデータ量と、そのセルの下位セルをすべて展開し
た場合のパターンのデータ量とを比較して、比較結果に
応じてセルを上位に展開するか、下位のセルをすべて展
開するかを判断する。展開方法の判断では、変換された
2階層のデータのデータ量を小さくするために、上位セ
ルに展開された場合のパターンによるデータ量は、セル
が単独で含むパターンのデータ量に、そのセルが上位の
セルから引用されている個数を掛けた結果とし、下位の
セルをすべて展開した場合のデータ量が、上位に展開し
た場合のデータ量より小さいという条件が成り立つ場合
には、下位セルをすべて展開している。
【0008】ここで例として、図10に示した3階層の
セル構造を有する図形データ30を2階層に変換する場
合について説明する。この展開方法では、セルAを上位
セルに展開するか、あるいはセルAの下位セルをすべて
展開するかという条件判断を、上記のそれぞれの方法に
よって展開後のデータ量を求めてから行っている。
【0009】図11に、セルAを上位階層のセルTOP
に展開した場合の図形データを示す。なお、図11では
簡単にするため、セル引用を「引」と省略して示してい
る。図11に示す図形データ110では、図10に示す
元の図形データ30に対して、1層目のセルTOPが有
するセル引用Aによって引用されるセルAが、上位階層
で展開されている。すなわち、セルAの有するパターン
Pa1、Pa2、およびセル引用Bが展開されて、セル
TOPに含まれている。この場合の図形データ110の
データ量を求めると、セルTOP内では、パターンPa
1およびPa2がそれぞれ3個、セル引用Bが1個含ま
れ、セルB内ではパターンPb1〜Pb5がそれぞれ1
個含まれている。ここで、パターン1個のデータ量をP
S、セル引用1個のデータ量をRSとすると、図形デー
タ110のデータ量は、図11に示すように、(3+
3)PS+4RS+5PS=4RS+11PSと表すこ
とができる。
【0010】次に、図12に、セルA内のセル引用Bを
展開した場合の図形データを示す。図12に示す図形デ
ータ120では、元の図形データ30に対して、セルA
に含まれるセル引用Bを、セルBのパターンによってセ
ルA内に展開している。この場合の図形データ120の
データ量は、セルTOP内ではセル引用Aが3個、セル
引用が1個含まれ、セルA内ではパターンPa1および
Pa2がそれぞれ1個、パターンPb1〜Pb5がそれ
ぞれ1個含まれ、セルB内ではパターンPb1〜Pb5
がそれぞれ1個含まれている。したがって、図形データ
120のデータ量は、図12に示すように、(3+1)
RS+(2+5)PS+5PS=4RS+12PSと表
される。
【0011】図形データ110および120のデータ量
を比較すると、図形データ110のデータ量の方が1P
S分だけ小さいことがわかる。したがって、セルAを上
位階層に展開する方法の方がデータ量を少なくすること
ができると判断され、このような展開が行われて図形デ
ータ110が算出される。また、図形データ110は2
階層のセル構造となっているため、この図形データ11
0が目的とする2階層の図形データとして最終的に出力
される。
【0012】このように、図11に示した図形データ1
10が算出される展開方法では、セルA内のパターンP
a1およびPa2とセル引用Bを、すべて上位セルに展
開していた。しかし、この方法では、条件判断が最適で
あるとは限らず、必ずしも2階層に変換したデータのデ
ータ量を少なくすることはできない。
【0013】本発明は、以上のような課題に鑑みてなさ
れたものであり、多階層のセル構造を有する図形データ
をより少ない階層の図形データに変換する際に、変換さ
れた図形データのデータ量をより小さくすることが可能
な図形データ変換方法を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、多階層のセル構造を有する図形データを
より少ない階層のセル構造に変換する図形データ変換方
法において、下位セルを引用していることを示すセル引
用のうち、処理の対象とする種類のセルとして設定され
た処理対象セルに含まれる1種類の前記セル引用に対し
て、前記セル引用を上位セルに展開する第1の処理の実
行による第1のデータ増加量を算出する第1のステップ
と、前記処理対象セルに含まれる1種類の前記セル引用
が引用する前記下位セルをすべて展開する第2の処理の
実行による第2のデータ増加量を算出する第2のステッ
プと、前記第1のデータ増加量が前記第2のデータ増加
量以下となる場合には、前記第1の処理を実行し、前記
第1のデータ増加量が前記第2のデータ増加量より大き
い場合には、前記第2の処理を実行する第3のステップ
と、を具備することを特徴とする図形データ変換方法が
提供される。
【0015】このような図形データ変換方法では、ある
セル内に存在するセル引用のみを上位に展開する第1の
処理と、このセル引用の引用しているセルを展開する第
2の処理とを、それぞれの処理によるデータ増加量を用
いて判断し、データ増加量の少ない方の処理を実行す
る。第1の処理が実行された場合にはセル内のセル引用
のみが上位に展開され、さらにセルの展開処理が処理対
象セル内のセル引用種類ごとに行われるため、セル内に
存在する全図形データを上位に展開する従来の処理と比
較して、変換された図形データのデータ量を抑制するこ
とが可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。本発明で扱う図形データは、パタ
ーンおよびセルを用いた階層構造を有する図形データで
あり、例えば、半導体集積回路のパターンをマスクやウ
ェハーなどの試料に描画するために電子ビーム描画装置
に供給されるデータとして用いられる。この場合、図形
データはまず、CAD等の図形設計ツールを用いてレイ
アウトデータとして作成され、電子ビーム描画装置にお
いて受容可能な階層数およびデータ量のマスクデータに
変換するデータ変換処理がなされて、電子ビーム描画装
置に供給される。本発明のデータ変換方法は、例えばコ
ンピュータ装置において、このようなデータ変換処理の
手順が記述されたプログラムを、プロセッサによって実
行することによって実現されるのものである。以下、こ
のような図形データの変換処理の方法について説明す
る。
【0017】図1に、本発明の図形データ変換方法にお
ける処理のフローチャートを示す。なお、図1に示すフ
ローチャートでは、処理対象の図形データを2階層のセ
ル構造を有する図形データに変換するための処理を示し
ている。
【0018】まず、ステップS101において、図形設
計ツール等を用いて、多階層のセル構造を有する図形デ
ータを入力する。ステップS102において、以下のス
テップS104〜S109までの処理が、図形データ内
のすべての種類のセルに対して終了しているかどうかを
判断し、終了している場合はステップS103に進み、
このときの図形データを例えば電子ビーム描画装置に対
して出力して、処理を終了する。また、ステップS10
2において、全セルに対して処理が終了していない場合
は、ステップS104に進む。ステップS104におい
て、この図形データの有する階層構造が2階層以下であ
るかどうかが判断され、2階層以下である場合はステッ
プS103に進み、このときの図形データを出力して、
処理を終了する。また、ステップS104において階層
が3階層以上である場合は、ステップS105に進む。
【0019】ステップS105において、図形データ中
から、以下のステップS106〜S109までの処理の
対象とするセルを示す処理対象セルを設定する。この処
理対象セルは、ステップS102において処理の終了し
ていない1つの種類のセルに対して設定されるが、この
設定は、例えば図形データの1層目のセルTOPに引用
されているセルのいずれかから始め、その中で参照され
ているセル、さらにその中で参照されているセルという
ように順次下位の階層へ降りていき、最下位のセルに到
達するまで順に行われる。続くステップS106は展開
方法選択ルーチンとなっており、処理対象セルに対する
セルの展開方法を選択し、展開を行う。ここで、図2に
ステップS106の展開方法選択ルーチンにおける処理
のフローチャートを示す。
【0020】図2に示すフローチャートでは、処理対象
セル内に配置されているある種類のセル引用に対して、
このセル引用のみを上位セルで展開するか、あるいはこ
のセル引用によって引用される下位セルを展開するかを
判断して選択する処理を行う。ステップS201におい
て、処理対象セル内に配置されるすべてのセル引用につ
いて、以下のステップS202〜206までの処理が終
了しているかどうかが判断され、終了している場合は展
開方法選択ルーチンの終了となり、図1のステップS1
07に進む。また、ステップS201において処理が終
了していない場合は、ステップS202に進む。ステッ
プS202において、処理対象セル内に配置されるセル
引用のうち、以下のステップS203〜206の処理対
象とするセル引用の種類を設定する。ここでは同一のセ
ルを引用しているセル引用を同一の種類のセル引用とみ
なし、これらの同一種類のセル引用のすべてに対して、
以下の処理を一度に行う。
【0021】ステップS203において、2つのセル展
開方法による図形データのデータ増加量D1およびD2
を算出する。ここで、第1のセル展開方法は、ステップ
S202において処理対象とした種類のセル引用のみ
を、上位のセルすなわち処理対象セル内に展開する方法
である。この方法によるデータ増加量D1は、処理対象
セル内における処理対象種類のセル引用を、上位セルに
展開したときのデータ量と、上位セルにおいて処理対象
セルが引用されている個数とを乗算することによって得
られる。また第2のセル展開方法は、処理対象種類のセ
ル引用が引用している下位セルをすべて展開する方法で
あり、データ増加量D2は、この下位セルをすべて展開
したときのデータ量である。
【0022】ステップS204において、算出されたデ
ータ増加量D1およびD2を比較し、第1および第2の
セル展開方法のどちらを実行するかを選択する。ここ
で、データ増加量D1がデータ増加量D2以下であると
きはステップS205に進み、データ増加量D1がデー
タ増加量D2より大きいときはステップS206に進
む。ステップS205において、第1のセル展開方法に
よる処理を実行し、処理対象種類のセル引用のみを上位
セルに展開する。また、ステップS206において、第
2のセル展開方法による処理を実行し、処理対象種類の
セル引用が引用している下位セルをすべて展開する。以
上のフローチャートによる処理によって、データ増加量
がより少なくなるようなセル展開方法が、処理対象セル
内に配置される各種類のセル引用に対して選択され、実
行される。
【0023】以下、図1のフローチャートに戻って説明
する。ステップS107において、処理対象セル内にパ
ターンが存在するかどうかが判断され、存在する場合は
ステップS108に進み、存在しない場合はステップS
102に戻る。ステップS108において、処理対象セ
ルの上位セルからの引用個数に対する判断が行われ、こ
の引用個数が1である場合はステップS109に進み、
1でない場合はステップS102に戻る。ステップS1
09において、処理対象セル内のパターンをすべて上位
セルに展開する。このステップS108およびS109
の処理は、処理対象セルの引用個数が複数の場合は、処
理対象セル内にパターンを残すことによって、セル引用
に引用される分だけデータ量が少なくなるが、引用個数
が1の場合はセル引用分のデータ量が余分となるため、
ステップS109の処理を行い、処理対象セル内のパタ
ーンを展開することによって余分なセル引用を消去する
という意味を持っている。ステップS109における処
理が終了すると、ステップS102に戻る。
【0024】次に、具体的な図形データを用い、上記の
フローチャートによる処理に適用した例について説明す
る。ここでは第1の図形データ例として、従来の図形デ
ータ変換方法との比較のため、図10において例示した
ものと同じ図形データを用いることとする。図3に、第
1の図形データ例における各セルの構成を示す。以下、
図1および図2のフローチャートと図3とを適宜参照し
て、図3に示す図形データに対する処理を、順を追って
説明する。
【0025】図3に示す図形データ30は、セルTO
P、セルAおよびセルBの3つのセルによって構成され
ている。最上位の階層に位置するセルTOPは、下位セ
ルを引用する3つのセル引用Aと1つのセル引用Bを有
し、セルAは、パターンPa1およびPa2と、セルB
を引用するセル引用Bを有し、セルBは、パターンPb
1、Pb2、Pb3、Pb4およびPa5を有してい
る。図1のフローチャートにおいて、ステップS101
で図形データ30が入力され、ステップS102におい
て、以後の処理の終了判断がなされ、処理が終了してい
ないことから、ステップS104に進む。ステップS1
04において、階層数の判断が行われ、図形データ30
はこの段階での階層数は3であるので、ステップS10
5に進む。ステップS105において、例としてまずセ
ルAを処理対象セルとして設定し、ステップS106の
展開方法選択ルーチンの処理が開始される。
【0026】前述したように、展開方法選択ルーチンで
は、処理対象セル内において、処理対象とした種類のセ
ル引用のみを、上位のセルに展開する第1のセル展開方
法と、処理対象種類のセル引用が引用している下位セル
をすべて展開する第2のセル展開方法と、条件判断によ
り選択して実行する。ここで説明のために、図4に、図
形データ30をそれぞれのセル展開方法を用いて展開し
たときの図形データの構成を示す。図4(a)は第1の
セル展開方法による図形データ、(b)は第2のセル展
開方法による図形データをそれぞれ示す。なお、図4で
は簡単にするために、セル引用を単に「引」と省略して
示している。
【0027】図2のフローチャートにおいて、ステップ
S201でこの展開方法選択ルーチンの処理終了の判断
がなされ、この処理を行っていないのでステップS20
2に進む。ステップS202において、処理対象とする
セル引用の種類をセル引用Bに設定する。すなわち、こ
の時点では処理対象セルであるセルAに配置されている
セル引用Bが、展開方法選択ルーチンの処理対象として
設定される。ステップS203において、2つのセル展
開方法によるデータ増加量D1およびD2が算出され
る。
【0028】ここで、図形データ30に対して第1のセ
ル展開方法による処理を行った結果が、図4(a)に示
された図形データ41であり、また、第2のセル展開方
法による処理を行った結果が、図4(b)に示された図
形データ42である。第1のセル展開方法は、処理対象
セルであるセルA内に配置されるセル引用Bのみを、上
位セルに展開する方法であり、その結果、図4(a)の
ようにセルA内に配置されていたセル引用BがセルTO
Pに配置され、セルA内にはパターンPa1およびPa
2のみが残る。このときのデータ増加分を、図4では点
線によって示している。ここで、パターン1個のデータ
量をPS、セル引用1個のデータ量をRSとすると、第
1のセル展開方法によるデータ増加量D1は、セルAか
らセルTOP内に移動したセル引用Bのデータ量1RS
に、セルTOP内における処理対象セルすなわちセルA
の引用数3を乗じた3RSとなる。
【0029】一方、第2のセル展開方法は、処理対象種
類のセル引用であるセル引用Bが引用している下位セル
をすべて展開する方法であり、その結果、図4(b)の
ようにセルA内に配置されたセル引用Bが展開されてパ
ターンPb1〜Pb5に変化している。このときのデー
タ増加分は、図4(b)に点線で示したセルA内のパタ
ーンPb1〜Pb5であり、データ増加量D2は、パタ
ーンPb1〜Pb5のデータ量5PSとなる。
【0030】次に、ステップS204において、データ
増加量D1およびD2が比較される。D1=3RS、D
2=5PSであるが、一般に、セルを引用する配置のみ
の情報を示すセル引用は、図形の情報を示すパターンよ
りデータ量が小さいため、RS<PSの条件よりD1<
D2と判断されて、ステップS205に進む。ステップ
S205では、図形データ30に対して第1のセル展開
方法による処理が行われ、図4(a)に示した図形デー
タ41が算出される。ここでステップS201に戻り、
処理対象セルであるセルA内のすべてのセル引用に対し
て処理が終了しているので、セル展開方法選択ルーチン
を終了して、図1のステップS107に進む。
【0031】ステップS107において、処理対象セル
であるセルA内図形データ41内にはパターンが存在す
るので、ステップS108に進む。ステップS108に
おいて、図形データ41では処理対象セルであるセルA
が上位セルに引用されている個数は3であることから、
再びステップS102の処理に戻る。ステップS102
において、セルBについての処理が終了していないた
め、ステップS104に進む。ステップS104におい
て、セルBはセル引用を持たず、またセルAに配置され
ていたセル引用はすでに上位に展開されているため、図
形データ41の階層数は2となっており、ステップS1
03に進んでこの図形データ41が出力され、処理終了
となる。
【0032】ここで、図5に、本発明および従来の図形
データ変換方法とを比較するための図を示す。図5
(a)は本発明の図形データ変換方法を、また(b)に
従来の図形データ変換方法をそれぞれ用いた場合の図形
データを示す。なお、図5では図4と同様に、簡単にす
るためにセル引用を単に「引」として示している。
【0033】図5では、図形データ30に対して本発明
および従来の図形データ変換方法をそれぞれ用いて処理
した場合の図形データを示している。ここで、従来の図
形データ変換方法とは、図形データ内で、あるセルの内
容がすべて上位セルに展開された場合のデータ量と、そ
のセルの下位セルをすべて展開した場合のデータ量とを
比較して、比較結果に応じてセルを上位に展開するか、
下位のセルを展開するかを判断して実行する方法であ
る。図形データ30では、このうちセルを上位セルに展
開した方がデータ量は少なくなる。すなわち、従来の図
形データ変換方法を用いた場合、セルA内に配置される
すべてのセル引用およびパターンが上位セルに展開さ
れ、セル引用Aが消滅して、図5(b)に示す図形デー
タ50が出力される。一方、図形データ30に対して本
発明の図形データ変換方法を用いて処理を行った場合、
前述したように図5(a)に示す図形データ41が出力
される。
【0034】ここで、双方のデータ量を比較すると、図
5に示したように、本発明の処理により出力された図形
データ41のデータ量は、7RS+2PS+5PS=7
RS+7PSとなり、従来の処理により出力された図形
データ50のデータ量は、4RS+(2+2+2)PS
+5PS=4RS+11PSとなる。データ量の差を取
ると、3RS−4PSとなるが、セル引用のデータ量で
あるRSよりパターンのデータ量であるPSの方が大き
いことから、3RS−4PS<0となり、図形データ4
1の方がデータ量が少なくなっていることがわかる。
【0035】以上のように、図1に示したフローチャー
トによる処理では、ステップS106の展開方法選択ル
ーチンの中で、処理対象セル内に配置されているある種
類のセル引用に対して、このセル引用のみを上位セルで
展開する処理と、このセル引用によって引用される下位
セルを展開する処理とを選択して実行する図2のステッ
プS203〜206における処理によって、少ない階層
を有する図形データに変換した場合のデータ量を、従来
と比較して小さくすることが可能となる。このような処
理が本発明の図形データ変換方法の主眼であって、高階
層のセル構造を有する電子ビーム描画装置用のレイアウ
トデータを、より少ない階層のセル構造を有するマスク
データに変換する際に、増大するデータ量が抑制され、
例えばデータ処理における入出力やデータ転送の高速化
等、電子ビーム描画装置用の図形データ作成の際に有効
である。また、処理対象とするセル引用の種類を変化さ
せて、処理対象セル内に配置されているすべてのセル引
用に対して上記の処理を実行するステップS201およ
びS202における処理の実行によって、このようなデ
ータ量の抑制効果はより顕著なものとなる。
【0036】さらに、この展開方法選択ルーチンに加
え、処理対象セル内にパターンが存在し、この処理対象
セル自身を引用するセル引用の数が1であるとき、処理
対象セル内のすべてのパターンを上位セルに展開するス
テップS107〜109における処理、および、ここま
での処理を、処理対象セルとして設定する前記セルの種
類を変化させて、図形データ内の全セルに対して階層数
が2以下となるまで実行するステップS102〜105
における処理を実行することにより、セルTOPに配置
されるセル引用とこれに引用されるセルに含まれるパタ
ーンのみで構成される2階層の図形データに変換した場
合に、この図形データのデータ量をより小さくすること
が可能となる。
【0037】次に、第2の図形データ例を挙げて、図1
および図2のフローチャートによる処理に適用した場合
の処理について説明する。図6に、第2の図形データ例
における各セルの構成を示す。また、図7および図8
に、第2の図形データ例の処理過程における変化の様子
を示す。なお、図6、図7および図8では、簡単にする
ためにセル引用を「引用」と省略して示している。以
下、図1および図2のフローチャートと図6、図7およ
び図8を適宜参照して、図6に示す図形データに対する
処理を順を追って説明する。
【0038】図6に示す図形データ60は、セルTO
P、セルA、セルB、セルCおよびセルDの5つのセル
によって構成されている。セルTOPは、3つのセル引
用Aと1つのセル引用BおよびDを有し、セルAは、パ
ターンPa1およびPa2と、セル引用BおよびCを有
し、セルBは、パターンPb1、Pb2、Pb3、Pb
4およびPb5を有し、セルCは、パターンPc1を有
し、セルDは、パターンPd1およびPd2とセル引用
Bを有している。
【0039】図1のフローチャートにおいて、ステップ
S101で図形データ60が入力され、ステップS10
2において処理が終了していないと判断され、ステップ
S104に進んで階層数の判断が行われる。図形データ
60のこの段階での階層数は3であるので、ステップS
105に進む。ステップS105において、例としてま
ずセルAを処理対象セルとして設定し、ステップS10
6の展開方法選択ルーチンの処理が開始される。
【0040】ここで、図2のフローチャートにおいて、
ステップS201でこの展開方法選択ルーチンの処理終
了の判断がなされ、処理を行っていないセル引用が存在
するのでステップS202に進み、処理対象とするセル
引用の種類を、例としてセル引用Bに設定する。ステッ
プS203において、2つのセル展開方法によるデータ
増加量D1およびD2が算出される。データ増加量D1
は、セル引用Bを上位セルすなわちセルA内に展開した
場合のデータ量に、セルAの引用数を乗じた値となるの
で、D1=3RSとなる。またデータ増加量D2は、セ
ル引用Bの下位セルに含まれるパターンPb1〜Pb5
を上位に展開した場合のデータ量であるので、D2=5
PSとなる。ステップS204において、RS<PSの
条件よりD1<D2であるので、ステップS205に進
み、セル引用Bを上位セル内に展開する。
【0041】ここで、図7(a)はセル引用Bを上位の
セルTOP内に展開した場合の図形データを示してい
る。この図形データ71では、3つのセル引用Bが新た
にセルTOP内に配置され、セルAからはセル引用Bが
除去されている。続いてステップS201に戻り、処理
されていないセルが存在するため、ステップS202に
進む。セルA内にはセル引用Cが配置されているので、
ステップS202において、処理対象とするセル引用の
種類をセル引用Cに設定し、ステップS203におい
て、データ増加量D1およびD2を算出する。セルTO
P内ではセル引用Aが3つ配置されていることから、デ
ータ増加量D1=3RSとなり、また、セルCの有する
パターンPc1がセルA内に展開された場合はデータ増
加量D2=PSとなる。
【0042】ここで、RS<PSという条件のみではD
1とD2の大小関係は判別できないが、セル引用のデー
タ量であるRSおよびパターンのデータ量であるPS
は、この図形データにおいて一意に定義される値であ
り、ここではRSとPSの値についてさらに定義するこ
とにより、処理を進めることにする。例えば、RSは引
用が指すセル番号、配置されるX座標およびY座標の3
要素で表され、PSを1つの矩形のサイズとすると、配
置されるX座標、Y座標、矩形の幅Wおよび矩形の高さ
Hの4要素でPSは表される。各要素のデータ量が同じ
である場合には、RS<PS<2RSという条件が成り
立つ。したがって、この条件によれば3RS>PSとな
り、ステップS204において、D1>D2と判断さ
れ、ステップS206に進んで、セルCがセルA内に展
開される。このように、ステップS206の処理が選択
される場合とは、処理対象セルに対する上位からの引用
数が多く、処理対象の種類のセル引用によって引用され
るセル内のパターンのデータ量が小さい場合と言える。
【0043】ここで、図7(b)はセルCをセルA内に
展開した場合の図形データを示している。この図形デー
タ72では、セルA内においてセル引用Cが除去され
て、パターンPc1が配置されている。続いてステップ
S201に戻り、処理対象セルであるセルA内のすべて
のセル引用に対する処理終了しているため、展開方法選
択ルーチンの終了となり、図1に戻ってステップS10
7に進む。ステップS107において、処理対象セルで
あるセルA内にはパターンが存在するので、ステップS
108に進み、上位のセルTOP内におけるセルAの引
用個数が3であるため、ステップS102に戻る。
【0044】ステップS102において、処理対象とす
るセルが残っているので、ステップS104に進み、図
形データ72は3階層であるので、ステップS105に
進む。ステップS105において、例えば次の処理対象
セルに、セル引用を有するセルDを設定し、ステップS
106の展開方法選択ルーチンに進む。図2のステップ
S201において、セルD内のセル引用Bについて以下
の処理が終了していないため、ステップS202に進
み、処理対象とするセル引用の種類をセル引用Bに設定
する。ステップS203において、データ増加量D1お
よびD2を算出する。セルTOP内ではセル引用Dが1
つ配置されていることから、データ増加量D1=RSと
なり、また、セルBの有するパターンPb1〜Pb5が
セルD内に展開された場合はデータ増加量D2=5PS
となる。したがって、ステップS204において、D1
<D2となり、ステップS205において、セルBが上
位のセルTOP内に展開される。
【0045】ここで、図8(a)はセルBをセルTOP
内に展開した場合の図形データを示している。この図形
データ81では、セルTOP内にセルBが配置され、セ
ルD内のセル引用Bが除去されている。続いてステップ
S201に戻り、処理対象セルであるセルD内のすべて
のセル引用に対する処理終了しているため、展開方法選
択ルーチンの終了となり、図1に戻ってステップS10
7に進む。ステップS107において、セルD内にはパ
ターンが存在するので、ステップS108に進み、上位
のセルTOP内におけるセルDの引用個数が1であるた
め、ステップS109に進む。ステップS109におい
て、セルDの有する全パターンPd1およびPd2を上
位のセルTOP内に展開する。
【0046】ここで、図8(b)はセルD内のパターン
をセルTOP内に展開した場合の図形データを示してい
る。この図形データ82では、セルTOP内にパターン
Pd1およびPd2が配置されている。このように、ス
テップS109の選択は、処理対象セルの引用個数が1
となる場合に、上位に残ったセル引用分のデータ量が余
分となるため、処理対象セル内のパターンを展開するこ
とによって余分なセル引用を消去することを意味してい
る。
【0047】続いてステップS102に戻って処理終了
の判断がなされ、セルBおよびCについては処理が行わ
れていないため、ステップS104に進む。ステップS
104において、図形データ82の階層数は2となって
いるため、ステップS103に進んで、図形データ82
が出力される。このとき、セルCおよびDは引用されて
いないため、データから削除されて出力される。図8
(b)において、セルCおよびDがカッコ内に示されて
いるのは、このことを意味している。
【0048】ここで、第2の図形データ例として上記で
示した図6の図形データ60に対して、従来の図形デー
タ変換方法、すなわち図形データ内で、あるセルの内容
がすべて上位セルに展開された場合のデータ量と、その
セルの下位セルをすべて展開した場合のデータ量とを比
較して、比較結果に応じてセルを上位に展開するか、下
位のセルを展開するかを判断して実行する方法を適用し
た場合と、本発明の図形データ変換を適用した場合で、
出力される図形データのデータ量を比較する。図9に、
図形データ60に対して従来の図形データ変換方法を適
用した場合に出力される図形データを示す。
【0049】図形データ60に対して従来の図形データ
変換方法を適用した場合、引用されるセルの内容をすべ
て上位セルに展開する処理の方が、セルの下位セルを展
開する場合よりデータ量が小さくなる。したがって、図
9に示す図形データ90のように、元の図形データ60
においてセルAに配置されていたパターンPa1および
Pa2とセル引用Bが、セルAの引用数分だけセルTO
Pに展開されて、セルAが削除される。また、図形デー
タ60でセルDに配置されていたパターンPd1および
Pd2とセル引用Bが、セルTOPに展開されて、セル
Dが削除される。これによって、出力された図形データ
90のデータ量は、図9に示すように8RS+14PS
となる。一方、図7(b)に示した図形データ82のデ
ータ量は8RS+10PSとなり、本発明の図形データ
変換方法を適用した場合の方が、出力される図形データ
のデータ量が大きく抑制されていることがわかる。
【0050】以上のように、第2の図形データ例である
図形データ60に対して本発明の図形データ変換方法を
適用した場合では、展開方法選択ルーチンにおける処理
が、セルA内に配置された2つのセル引用BおよびCの
それぞれに対して個別に行われ、さらに処理対象セルを
セルDに設定して再び処理を行っている。このような処
理によって、従来の図形データ変換方法と比較して、変
換された図形データのデータ量を少なくすることが可能
となっている。
【0051】なお、上記の図形データ60に本発明の図
形データ変換方法を適用した場合の説明で、処理対象セ
ルをセルA、処理対象とするセル引用の種類をセル引用
Cとした場合のステップS204の処理において、RS
<PS<2RSという条件を用いてデータ増加量D1お
よびD2の大小の判断を行ったが、RSおよびPSの値
の定義が異なって3RS≦PSとなる場合は、ステップ
S205における処理が行われる。この場合、以下の処
理によって最終的に出力される図形データのデータ量は
10RS+10PSとなり、従来の図形データ変換方法
を適用した図9に示す図形データ90より小さくなって
いることがわかる。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の図形デー
タ変換方法では、あるセル内に存在するセル引用のみを
上位に展開する第1の処理と、このセル引用の引用して
いるセルを展開する第2の処理とを、それぞれの処理に
よるデータ増加量を用いて判断し、データ増加量の少な
い方の処理を実行する。第1の処理が実行された場合に
はセル内のセル引用のみが上位に展開され、さらにセル
の展開処理が処理対象セル内のセル引用種類ごとに行わ
れるため、セル内に存在する全図形データを上位に展開
する従来の処理と比較して、変換された図形データのデ
ータ量を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の図形データ変換方法における処理のフ
ローチャートを示す。
【図2】展開方法選択ルーチンにおける処理のフローチ
ャートを示す。
【図3】第1の図形データ例における各セルの構成を示
す図である。
【図4】2つのセル展開方法を用いて展開したときの図
形データの構成を示す図であり、(a)は第1のセル展
開方法による図形データ、(b)は第2のセル展開方法
による図形データを示す。
【図5】本発明および従来の図形データ変換方法とを比
較するための図を示し、(a)は本発明の図形データ変
換方法を用いた場合の図形データを示し、(b)は従来
の図形データ変換方法を用いた場合の図形データを示
す。
【図6】第2の図形データ例における各セルの構成を示
す図である。
【図7】第2の図形データ例の処理過程における変化の
様子を示す図であり、(a)はセル引用BをセルTOP
内に展開した場合の図形データを示し、(b)はセルC
をセルA内に展開した場合の図形データを示す。
【図8】第2の図形データ例の処理過程における変化の
様子を示す図であり、(a)はセルBをセルTOP内に
展開した場合の図形データを示し、(b)はセルD内の
パターンをセルTOP内に展開した場合の図形データを
示す。
【図9】第2の図形データ例に対して従来の図形データ
変換方法を適用した場合に出力される図形データを示す
図である。
【図10】セル階層構造を有する図形データの例を示す
図であり、(a)は図形データにおける各セルの構成を
示し、(b)はセルの階層構造を示す。
【図11】 セルAを上位階層に展開した場合の図形デ
ータを示す図である。
【図12】 セルA内のセル引用Bを展開した場合の図
形データを示す図である。
【符号の説明】
30、41、42、50、60、71、72、81、8
2、90、110、120……図形データ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G06F 17/50 658 H01L 21/30 541J

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多階層のセル構造を有する図形データを
    より少ない階層のセル構造に変換する図形データ変換方
    法において、 下位セルを引用していることを示すセル引用のうち、処
    理の対象とする種類のセルとして設定された処理対象セ
    ルに含まれる1種類の前記セル引用に対して、前記セル
    引用を上位セルに展開する第1の処理の実行による第1
    のデータ増加量を算出する第1のステップと、 前記処理対象セルに含まれる1種類の前記セル引用が引
    用する前記下位セルをすべて展開する第2の処理の実行
    による第2のデータ増加量を算出する第2のステップ
    と、 前記第1のデータ増加量が前記第2のデータ増加量以下
    となる場合には、前記第1の処理を実行し、前記第1の
    データ増加量が前記第2のデータ増加量より大きい場合
    には、前記第2の処理を実行する第3のステップと、 を具備することを特徴とする図形データ変換方法。
  2. 【請求項2】 前記第1、第2および第3のステップに
    よる処理を、前記処理対象セルに含まれるすべての種類
    の前記セル引用に対して実行する第4のステップを具備
    することを特徴とする請求項1記載の図形データ変換方
    法。
  3. 【請求項3】 前記第1、第2、第3および第4のステ
    ップに続いて、前記処理対象セル内にパターンが存在
    し、前記処理対象セル自身を引用する前記セル引用の数
    が1であるとき、前記処理対象セル内のすべての前記パ
    ターンを前記上位セルに展開する第5のステップを具備
    することを特徴とする請求項2記載の図形データ変換方
    法。
  4. 【請求項4】 前記第1、第2、第3、第4および第5
    のステップによる処理を、前記処理対象セルに含まれる
    すべての種類の前記セル引用に対して実行し、さらに、
    前記図形データの有する階層が2以下となるまで、前記
    処理対象セルとして設定する前記セルの種類を変化させ
    て実行することを特徴とする請求項3記載の図形データ
    変換方法。
  5. 【請求項5】 前記図形データは、電子ビーム描画装置
    用のレイアウトデータまたはマスクデータであることを
    特徴とする請求項1記載の図形データ変換方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007517247A (ja) * 2003-12-17 2007-06-28 メンター・グラフィクス・コーポレーション カバーセルを用いた、階層管理を有するマスク作成
JP2008244196A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Nuflare Technology Inc 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体
JP2014174196A (ja) * 2013-03-06 2014-09-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd データ変換方法、描画システムおよびプログラム
JP2015185800A (ja) * 2014-03-26 2015-10-22 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置、情報処理装置、パターン検査装置及び荷電粒子ビーム描画方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007517247A (ja) * 2003-12-17 2007-06-28 メンター・グラフィクス・コーポレーション カバーセルを用いた、階層管理を有するマスク作成
JP4660485B2 (ja) * 2003-12-17 2011-03-30 メンター・グラフィクス・コーポレーション カバーセルを用いた、階層管理を有するマスク作成
US9292643B2 (en) 2003-12-17 2016-03-22 Mentor Graphics Corporation Mask creation with hierarchy management using cover cells
US9996651B2 (en) 2003-12-17 2018-06-12 Mentor Graphics Corporation Mask creation with hierarchy management using cover cells
JP2008244196A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Nuflare Technology Inc 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体
JP2014174196A (ja) * 2013-03-06 2014-09-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd データ変換方法、描画システムおよびプログラム
JP2015185800A (ja) * 2014-03-26 2015-10-22 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置、情報処理装置、パターン検査装置及び荷電粒子ビーム描画方法
US9659745B2 (en) 2014-03-26 2017-05-23 Nuflare Technology, Inc. Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

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