NL8902063A - Halfgeleider geheugeneenheid. - Google Patents

Halfgeleider geheugeneenheid. Download PDF

Info

Publication number
NL8902063A
NL8902063A NL8902063A NL8902063A NL8902063A NL 8902063 A NL8902063 A NL 8902063A NL 8902063 A NL8902063 A NL 8902063A NL 8902063 A NL8902063 A NL 8902063A NL 8902063 A NL8902063 A NL 8902063A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
bit lines
sense amplifiers
bit line
bit
lines
Prior art date
Application number
NL8902063A
Other languages
English (en)
Other versions
NL193295B (nl
NL193295C (nl
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of NL8902063A publication Critical patent/NL8902063A/nl
Publication of NL193295B publication Critical patent/NL193295B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL193295C publication Critical patent/NL193295C/nl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4091Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4097Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

Korte aanduiding: Halfgeleider geheugeneenheid.
De uitvinding heeft betrekking op een dynamisch willekeurig toegankelijk geheugen (DRAM) en in het bijzonder op een ketenrangschikking van bitlijnen daarin.
In het algemeen omvat een DRAM een aantal bitlijnen met dezelfde lengte die parallel aan elkaar gerangschikt zijn en een aantal kiepketen-aftastversterkers die met elk van de bitlijnparen verbonden zijn. De geheugencel omvat één transistor en één condensator. Tussen elke bitlijn en elke woordlijn bevindt zich een geheugencel, zodat alle verbonden geheugencellen in een matrix van rijen en kolommen gerangschikt zijn. De ketenrangschikking van de bitlijnparen en de aftastversterkers komen, zoals bekend, in twee vormen voor. Namelijk een vorm die een open bitlijnrangschikking genoemd wordt, waarin elk van de aftastversterkers in het midden van elk bitlijnpaar aangebracht is en de andere, gevouwen bitlijnrangschikking genoemd, waarin elk van de aftastversterkers bij een uiteinde van elk bitlijnpaar aangebracht is. Bij overweging van het evenwicht van de bitlijnen en de ketenrangschikking van de geheugencellen met hoge dichtheid wordt in hoofdzaak de gevouwen bitlijnwerkwijze toegepast. Tegenwoordig wordt, omdat de geheugencellen in de DRAM sterk geïntegreerd zijn, de ruimte tussen de bitlijnen smaller en wordt de opslagcondensator van de geheugencellen ook kleiner. Hierdoor kan, wanneer een geheugencel binnengegaan wordt en een aftastversterker in overeenstemming met de met de benaderde geheugencel benaderde bitlijn werkt, de wederzijdse koppelcapaciteit tussen de bitlijn en de bovenste en onderste aangrenzende bitlijnen ervan de normale werking ervan beïnvloeden.
Figuur 1 toont bijvoorbeeld een bekende gevouwen bitlijnketenrangschikking. De geheugencellen MC10-MC12 en MC20-MC22 zijn met de kruispunten van de bitlijnen B0-B2 en B0-B2 en de woordlijnen W1 en W2 verbonden, en elk van de bitlijnparen ΒΟ-ΒΟ, Bl-BÏ en B2-B2 is bij elk uiteinde verbonden met een corresponderende versterker van de aftastversterkers SA0-SA2. Elk van de geheugencellen MC10-MC12 en MC20-MC22 omvat een MOS-transistor M en een in serie met de afvoer-bronweg van de transistor verbonden condensator C.
Elk van de afvoeren van de MOS-transistors is verbonden met een van de bitlijnen BO, BOf ... B2 en B2, en elke stuur-elektrode van de geheugencellen MC10-MC12 en MC20-MC22 is verbonden met een van de woordlijnen W1 en W2. De andere aansluiting van de opslagcondensator is verbonden met een constante spanning Vp. Er wordt aangenomen dat de parasitaire capaciteit van elke bitlijn CB is, de wederzijdse koppel-capaciteit tussen de aangrenzende bitlijnen CC is, en de capaciteit van de opslagcondensator C CS is.
Wanneer de geheugencellen MCI0-MCI2 gekozen worden door het aan de woordlijn W1 geleverde woordlijnsignaal, worden in de opslagcondensators van de geheugencellen opgeslagen elektrische ladingen respectievelijk via de corresponderende MOS-transistors naar de bitlijnen B0-B2 overgedragen, zodat de spanning van elk van de bitlijnen B0-B2 met de hoeveelheid AVS = groter of lager wordt dan de spanning van elk van de andere bitlijnen B0-B2, waarbij VS de spanning van de opslagcondensator is en VBL de bitlijnspanning, voorafgaand aan de keuze van de geheugencel is. Wanneer de geheugencellen MC10-MC12 tot gevolg hebben dat de bitlijnen B0-B2 een met Avs hogere spanning dan de spanning van de bitlijnen B0-B2 hebben worden de aftastversterkers SA0-SA2 geactiveerd, zodat de spanning van de bitlijnen BO, BI en B2 met een lage spanning van VS verlaagd wordt. De spanning van de bitlijn BI wordt dus verlaagd als gevolg van de koppelca-paciteit CC als gevolg van de verlaging van de spanningen van de aangrenzende bitlijnen BO en BI. Een dergelijk nadelig effect neemt toe naarmate de afstand tussen de bitlijnen kleiner wordt als gevolg van de vergroting van de geheugenbittijd. Verder, wanneer de capaciteit van de geheugencel verkleind wordt, is de aftastversterker als gevolg van de koppelcapaciteit onderhevig aan foute werking.
De uitvinding heeft als doel een ketenrangschikking te verschaffen, waarbij een ongewenst effect als gevolg van de koppelcapaciteit tussen de bitlijnen zelfs bij de hoge iichtheidgeheugencapaciteit verkleind kan worden.
Volgens een aspect van de uitvinding omvat een halfgeleider DRAM: een aantal parallel aan elkaar gerangschikte bitlijnen? een aantal de bitlijnen kruisende woordlijnen; een aantal bovenste aftastversterkers die respectievelijk verbonden zijn met bovenste uiteinden van elk oneven genummerd bitlijnpaar; een aantal onderste aftastversterkers die respectievelijk verbonden zijn met onderste uiteinden van even genummerde bitlijnparen; een geheugencelmatrix met een aantal sequentieel in een diagonaallijn gerangschikte geheugencellen in lokaties van een aantal ruimten die gevormd worden door het kruisen van de bitlijnen en de woordlijnen, waarbij de geheugencellen in elke vierde ruimte in een rij en kolom aangebracht zijn; eerste houdmiddelen voor het activeren van de bovenste aftastversterkers en verbonden met de bovenste aftastver-« sterker; en tweede houdmiddelen die met de onderste aftastversterkers verbonden zijn, en waarbij de eerste houdmiddelen en de tweede houdmiddelen afwisselend geactiveerd worden.
Volgens een ander aspect van de uitvinding omvat de halfgeleider DRAM: een aantal in rijen en kolommen gerangschikte aftastversterkers ; een aantal bitlijnparen die elk een paar bitlijnen omvatten die met elk van de aftastversterkers in een kolom verbonden zijn en in tegenovergestelde rijrichtingen naar elkaar lopen, en een ander paar bitlijnen die met elk van de aftastversterkers in een aangrenzende kolom verbonden zijn en in tegengestelde rijrichting naar elkaar lopen, waarbij de twee paren bitlijnen parallel aan elkaar aangebracht zijn; een aantal loodrecht op de bitlijnen gerangschikte woordlijnen; een aantal geheugencellen die sequentieel in elke rij en kolom in lokaties van een aantal door het kruisen van de bitlijnen en de woordlijnen gevormde ruimten gerangschikt zijn; een aantal met de in eenzelfde kolom gerangschikte aftastversterkers verbonden houdmiddelen; en een aantal schijn-("dummy”) bitlijnen die parallel aan i elke meest linkse en rechts bitlijnen gerangschikt zijn.
De uitvinding wordt toegelicht aan de hand van de tekeningen. In de tekeningen tonen:
Figuur 1 de keten van een bekende DRAM;
Figuur 2 de keten van een gevouwen bitlijn DRAM volgens de uitvinding; en
Figuur 3 de keten van een open bitlijn DRAM volgens de uitvinding.
In figuur 2 zijn bij het bovenste uiteinde van de keten een aantal bovenste aftastversterkers 10U in een rij gerangschikt, terwijl bij het onderste uiteinde een aantal onderste aftastversterkers 10B in een rij gerangschikt zijn. Elk van de aftastversterkers omvat MOS-transistors 12-15. De afvoeren van de MOS-transistors 12 en 14 zijn kruislings via aftastknooppunten 16, 18 met hun stuurelektroden verbonden, terwijl de bronnen van de transistors 12, 14 met een gemeenschappelijk bronknoopunt 11 zijn verbonden. Tussen de afvoeren van de MOS-transistors 12, 14 en de ingangs/uit-gangslijnen I/OU, I/Oü en I/OD, I/OD zijn respectievelijk de bron-afvoerwegen van de MOS-belastingtransistors 13, 15 verbonden, terwijl aan de stuurelektroden van de MOS-transistors 13, 15 het belastingsignaal 0S geleverd wordt.
De gemeenschappelijke bronknooppunten 11 van de aftastversterkers 10U zijn met de bovenste gemeenschappelijke lijn 24 verbonden, die met de afvoer van de MOS-transistor 20 verbonden is voor het sturen van de bovenste aftastversterkers 10U. De bron van de MOS-transistor 20 is geaard, en de stuurelektrode van de transistor 20 ontvangt het signaal 0L voor het activeren van de bovenste aftastversterker. De aftastknooppunten 16 en 18 van de bovenste aftastversterker 10U zijn respectievelijk verbonden met de bovenste bitlijn-(of kolomlijn)paren UBLl en UBL2, UBL2 en ÜBL2, ... UBLK en UBLK, die naar beneden lopen. Het uiteinde van de bitlijnpa-ren tegenover de aftastversterkers 10U is verbonden met de middelen 3OU voor het voorladen van de bitlijnen. De voor-laadmiddelen 30U omvatten MOS-transistors 32 en 34, waarvan de bronnen met de respectievelijke bitlijnparen verbonden zijn, de afvoeren met een constante voorlaadspanning VI verbonden zijn en de stuurelektroden met het voorlaadsignaal P verbonden zijn.
Het gemeenschappelijke bronknooppunt 11D van de onderste aftastversterkers 10D met dezelfde uitvoering als de bovenste aftastversterkers 10U is verbonden met de afvoer van de MOS-transistor 22 voor het sturen van de onderste aftastversterkers 10D via de onderste gemeenschappelijke lijn 26. De bron en de stuurelektrode van de MOS-transistor 22 zijn respectievelijk verbonden met aarde en het signaal 0L met een aan het signaal 0L tegengestelde karakteristiek. Wanneer de bovenste aftastversterkers 10U dus werken door het signaal 0L worden de onderste aftastversterkers 10D niet gestuurd, of omgekeerd.
De aftastknooppunten 16D en 18D van de onderste aftast-versterker 10D zijn respectievelijk verbonden met de onderste bitlijnen DBL1 en DBL1 ... DBLK en DBLK, die naar boven lopen en op gelijke afstand tussen de bovenste bitlijnen UBL1 en UBL1 ... UBLK en UBLK gerangschikt zijn. Het uiteinde van de onderste bitlijnparen DBL1 en DBL1 — DBLK en DBLK tegenover de onderste aftastversterkers 10D is verbonden met een voorlaadmiddel 30D met dezelfde uitvoering als het voorlaadmiddel 3OU. Tussen de voorlaadmiddelen 3OU en 30D zijn parallelle woordlijnen (of rij lijnen) WL1-WL4N gerangschikt, die loodrecht de bitlijnen UBL1 en DBL1 ... UBLK en DBLK kruisen. Met in elke vierde kruisingsafstand in de richtingen van de rijen en kolommen van de woord- en bitlijnen zijn sequentieel respectievelijk de geheugencellen M11-M4NK verbonden.
Voorafgaand aan het lezen van de data uit een gegeven geheugencel worden alle bitlijnen UBL1-DBLK voorgeladen met de voorlaadspanning VI door de voorlaadmiddelen 3OU en 30D. Na beëindiging van de voorlaadstap wordt de woordlijn gekozen voor het uit een gegeven geheugencel lezen van de data. De woordlijn WL1 wordt bijvoorbeeld gekozen voor het lezen van de data uit de geheugencel M12. Wanneer de woord-lijn DL1 gekozen wordt, worden de met de woordlijn WL1 verbonden geheugencellen Mll-MlK gekozen en worden in de opslagcondensators van de geheugencellen Mll-MlK respectievelijk naar de bitlijnen UBLl, UBL2, — UBLK overgedragen, De bitlijnen UBLl, UBL2, ... UBLK hebben dus als gevolg van de toestand van de ontvangen ladingen een iets hogere of lagere spanning dan de voorlaadspanning VI. Daarna wordt het signaal 0L aan de stuurelektrode van de MOS-transistor 20 gelegd, waarbij de bovenste aftastversterkers 1ÖU geactiveerd worden. Wanneer het signaal 0S aan de stuurelektroden van de MOS-transistors 13, 15 geleverd wordt, wordt de bitlijnspanning van een paar van de bitlijnen UBLl, U3L2 ... UBLK en UBLl, UBL2 ... UBLK naar de ingangs/uitgangslijnen 1/0 en 1/0 overgedragen. De onderste aftastversterkers 10D worden echter niet geactiveerd als gevolg van de uit-toestand van de MOS-transistor 22, waarvan de stuurelektrode het signaal 0L ontvangt, waarvan de karakteristiek tegengesteld is aan die van het signaal 0L. De met de onderste aftastversterkers 10D verbonden onderste bitlijnen DBL1 en DBLi, ... DBLK en DBLK behouden dus de constante waarde van de voorlaadspanning Vl. Zelfs wanneer de aftastwerking van de bovenste aftastversterker 10U tot gevolg heeft dat de bovenste bitlijnen UBLl en UBLl, ... UBLK en UBLK hun spanning veranderen, kan het gevaar tot foute uitlezing van de data als gevolg van de koppelcapaciteit tussen elk van de bovenste bitlijnen en de aangrenzende onderste bitlijnen ervan aanzienlijk verkleind worden. Hoewel tot hiertoe een geval toegelicht is, waarbij de bovenste aftastversterkers gestuurd worden door het kiezen van een oneven genummerde woordlijn, kan hetzelfde resultaat verkregen worden door het kiezen van een even genummerde woordlijn.
Figuur 3 toont een keten volgens de open bitlijnrang-schikking in DRAM, waarbij de aftastversterkers 40U, 40M, 40D alle dezelfde uitvoering als de aftastversterker 10U van figuur 2 hebben. De aftastversterkers 4OU, 4OM, 40D zijn op gelijke afstanden in hun respectievelijke kolommen gerangschikt. De aftastversterkers 40U, 40M, 40D zijn respectieve lijk via met de gemeenschappelijke bronknooppunten 11 verbonden lijnen 62, 64, 66 verbonden met afvoeren van de MOS-transistors 52, 54, 56, waarvan de bronnen geaard zijn. De stuurelektrode van de MOS-transistor 54 is verbonden met het signaal 0L voor het activeren van de aftastversterker 40M, terwijl de stuurelektroden van de MOS-transistors 52, 56 verbonden zijn met het signaal 0L met een aan het signaal 0L tegengestelde karakteristiek. Wanneer de aftastverster-kers 4OM geactiveerd worden, worden de aangrenzende aftast-versterkers 40U, 40D dus niet geactiveerd, of omgekeerd. De aftastknooppunten van de aftastversterkers 40M zijn respectievelijk verbonden met de bitlijnparen BLM1 en BLM1 ...
BLMK en BLMK met dezelfde lengte die zich tegenover elkaar uitstrekken. Op dezelfde wijze zijn de aftastknooppunten van de aftastversterkers 4OU, 40D respectievelijk verbonden met de bitlijnparen BLU1 en BLÏÏI ... BLUK en BLUK en BLDl en BLD1 ... BLDK en BLDK met dezelfde lengte als de bitlijnparen BLMl en BLMl ... BLMK en BLMK die zich tegenover elkaar uitstrekken. Elk van de bitlijngroepen [BLUK en BLUK] en [BLMl, BLD___ BLUK, BLDK] zijn op gelijke afstanden paral lel aan elkaar aangebracht. Bovendien zijn de schijnbitlij-nen DBL op gelijke afstanden parallel aan de bitlijngroepen [BLU1 en BLUK] en [BLDl en BLDK] gerangschikt en worden gevoed met een constante voorlaadspanning voor het verlagen van de capaciteit die hun aangrenzende bitlijnen koppelt.
Het uiteinde van elke bitlijn tegenover de aftastversterker is verbonden met het voorlaadmiddel (niet getoond) voor het voorladen van de bitlijn met een gegeven spanning. Zoals getoond in figuur 3, zijn elk van de geheugencellen verbonden tussen de kruispunten van de woordlijnen [... WIN, W21-W2N, W31-W3N, W41...] en de bitlijnen. De geheugencellen zijn namelijk zodanig gerangschikt dat alle met een van de aftastversterkers 40U, 40M, 40D verbonden bitlijnen de data in de geheugencellen kan benaderen wanneer één woordlijn gekozen wordt.
Als voorbeeld wordt aangenomen dat na het voorladen van alle bitlijnen de woordlijn W32 gekozen wordt. De in de geheugencellen M321-M32K opgeslagen ladingen worden dan naar de bitlijnen BLM1-BLMK overgedragen. Daarna veroorzaakt het signaal 0L dat de MOS-transistor 54 ingeschakeld wordt en de aftastversterkers 40M de aftastwerking uitvoeren. Op dat moment worden de aftastversterkers 40U, 40D naast de aftastversterkers 40M niet geactiveerd door het signaal 0L met de aan het signaal 0L tegengestelde karakteristiek. De bitlijnen BLD1-BLDK naast de bitlijnen BLM1-BLMK zijn dus in klaarstaande toestand, namelijl constant met de voorlaad-spanning, waardoor een ongewenst effect verkleind wordt dat de data als gevolg van de koppelcapaciteit tijdens de aftastwerking fout gelezen wordt.
Zoals hiervoor toegelicht, is, wanneer een met elke aftastversterker verbonden bitlijn of bitlijnpaar afhankelijk van de werking van de aftastversterker omlaag of omhoog geregeld wordt, de aangrenzende bitlijn volgens de uitvinding in klaarstaande toestand, zodat het koppeleffect met de aangrenzende bitlijn verkleind wordt voor het verschaffen van een stabiele aftastwerking.

Claims (8)

1. Dynamisch halfgeleider willekeurig toegankelijk geheugen (DRAM), omvattende: een aantal parallel aan elkaar gerangschikte bitlijnen; een aantal de bitlijnen kruisende woordlijnen; een aantal bovenste aftastversterkers die respectievelijk verbonden zijn met bovenste uiteinden van elk oneven genummerd bitlijnpaar; een aantal onderste aftastversterkers die respectievelijk verbonden zijn met onderste uiteinden van even genummerde bitlijnparen; een geheugencelmatrix met een aantal sequentieel in een diagonaallijn gerangschikte geheugencellen in lokaties van een aantal ruimten die gevormd worden door het kruisen van de bitlijnen en de woordlijnen, waarbij de geheugencellen in elke vierde ruimte in een rij en kolom aangebracht zijn; eerste houdmiddelen voor het activeren van de bovenste aftastversterkers en verbonden met de bovenste aftastver-sterker; en tweede houdmiddelen die met de onderste aftastversterkers verbonden zijn, en waarbij de eerste houdmiddelen en de tweede houdmiddelen afwisselend geactiveerd worden.
2. Halfgeleider DRAM volgens conclusie 1, gekenmerkt door tenminste een voorlaadketen voor het voorladen van de bitlijn in elk van de oneven genummerde bitlijnparen en even genummerde bitlijnparen.
3. Halfgeleider DRAM volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat elke geheugencel één transistor en één condensator omvat.
4. Halfgeleider DRAM, omvattende: een aantal in rijen en kolommen gerangschikte aftastversterkers; een aantal bitlijnparen die elk een paar bitlijnen omvatten die met elk van de aftastversterkers in een kolom verbonden zijn en in tegenovergestelde rijrichtingen naar elkaar lopen, en een ander paar bitlijnen die met elk van de aftastversterkers in een aangrenzende kolom verbonden zijn en in tegengestelde rijrichting naar elkaar lopen, waarbij de twee paren bitlijnen parallel aan elkaar aangebracht zijn; een aantal loodrecht op de bitlijnen gerangschikte woordlijnen; een aantal geheugencellen die sequentieel in elke rij en kolom in lokaties van een aantal door het kruisen van de bitlijnen en de woordlijnen gevormde ruimten gerangschikt zijn; een aantal met de in eenzelfde kolom gerangschikte aftastversterkers verbonden houdmiddelen; en een aantal schijn-("dummy") bitlijnen die parallel aan elke meest linkse en rechts bitlijnen gerangschikt zijn.
5. Halfgeleider DRAM volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de geheugencel één transistor en één condensator omvat.
6. Halfgeleider DRAM volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de schijnbitlijnen met een constante spanning gevoed worden.
7. Halfgeleider DRAM, omvattende: een aantal parallel aan elkaar gerangschikte bitlijnen; een aantal de bitlijnen kruisende woordlijnen; een aantal geheugencellen die gerangschikt zijn in gekozen posities tussen kruisingen van elk van de bitlijnen en woordlijnen en verbonden met de bitlijn of de woordlijn die door de kruisingen loopt; een aantal met de oneven genummerde bitlijnparen verbonden aftastversterkers; en een aantal met de even genummerde bitlijnparen verbonden aftastversterkers; waarbij de oneven genummerde bitlijnparen en de even genummerde bitlijnparen afwisselend geactiveerd worden.
8. Halfgeleider DRAM volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat alleen de door een woordlijn gekozen geheugencellen geactiveerd worden zodat met de geheugencellen verbonden aftastversterkers daardoor geactiveerd worden.
NL8902063A 1988-12-20 1989-08-14 Dynamische halfgeleidergeheugeneenheid. NL193295C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR880017050 1988-12-20
KR1019880017050A KR910009444B1 (ko) 1988-12-20 1988-12-20 반도체 메모리 장치

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8902063A true NL8902063A (nl) 1990-07-16
NL193295B NL193295B (nl) 1999-01-04
NL193295C NL193295C (nl) 1999-05-06

Family

ID=19280403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8902063A NL193295C (nl) 1988-12-20 1989-08-14 Dynamische halfgeleidergeheugeneenheid.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5111434A (nl)
JP (1) JPH0752580B2 (nl)
KR (1) KR910009444B1 (nl)
DE (1) DE3923629C2 (nl)
FR (1) FR2640796B1 (nl)
GB (1) GB2227109B (nl)
NL (1) NL193295C (nl)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5345420A (en) * 1986-10-27 1994-09-06 Seiko Epson Corporation Semiconductor memory device
JPH0834058B2 (ja) * 1990-03-19 1996-03-29 シャープ株式会社 半導体メモリ装置
JPH07113904B2 (ja) * 1990-04-11 1995-12-06 株式会社東芝 メモリ・アクセス装置
DE69121503T2 (de) * 1990-09-29 1997-02-13 Nippon Electric Co Halbleiterspeicheranordnung mit einer rauscharmen Abfühlstruktur
JP2719237B2 (ja) * 1990-12-20 1998-02-25 シャープ株式会社 ダイナミック型半導体記憶装置
KR940007639B1 (ko) * 1991-07-23 1994-08-22 삼성전자 주식회사 분할된 입출력 라인을 갖는 데이타 전송회로
US5498990A (en) * 1991-11-05 1996-03-12 Monolithic System Technology, Inc. Reduced CMOS-swing clamping circuit for bus lines
US5831467A (en) * 1991-11-05 1998-11-03 Monolithic System Technology, Inc. Termination circuit with power-down mode for use in circuit module architecture
DE69226150T2 (de) * 1991-11-05 1999-02-18 Hsu Fu Chieh Redundanzarchitektur für Schaltungsmodul
US5576554A (en) * 1991-11-05 1996-11-19 Monolithic System Technology, Inc. Wafer-scale integrated circuit interconnect structure architecture
JPH05242672A (ja) * 1992-02-04 1993-09-21 Nec Corp 半導体ダイナミックメモリ
KR950005095Y1 (ko) * 1992-03-18 1995-06-22 문정환 양방향성 그로벌 비트 라인을 갖는 dram
EP0654168B1 (en) 1992-08-10 2001-10-31 Monolithic System Technology, Inc. Fault-tolerant hierarchical bus system
US5655113A (en) * 1994-07-05 1997-08-05 Monolithic System Technology, Inc. Resynchronization circuit for a memory system and method of operating same
US5748554A (en) * 1996-12-20 1998-05-05 Rambus, Inc. Memory and method for sensing sub-groups of memory elements
JP3221428B2 (ja) * 1999-02-12 2001-10-22 日本電気株式会社 ラッチ型センスアンプ回路
GB2354618B (en) 1999-09-24 2001-11-14 Pixelfusion Ltd Memory devices
JP5034133B2 (ja) * 2000-02-29 2012-09-26 富士通セミコンダクター株式会社 半導体記憶装置
US7500075B1 (en) 2001-04-17 2009-03-03 Rambus Inc. Mechanism for enabling full data bus utilization without increasing data granularity
US6825841B2 (en) * 2001-09-07 2004-11-30 Rambus Inc. Granularity memory column access
JP4677167B2 (ja) * 2002-09-20 2011-04-27 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション Dram回路とその動作方法
US7274612B2 (en) * 2003-09-19 2007-09-25 International Business Machines Corporation DRAM circuit and its operation method
US8190808B2 (en) * 2004-08-17 2012-05-29 Rambus Inc. Memory device having staggered memory operations
US7280428B2 (en) 2004-09-30 2007-10-09 Rambus Inc. Multi-column addressing mode memory system including an integrated circuit memory device
US8595459B2 (en) 2004-11-29 2013-11-26 Rambus Inc. Micro-threaded memory
KR100694968B1 (ko) * 2005-06-30 2007-03-14 주식회사 하이닉스반도체 비휘발성 메모리 장치와 그것의 멀티-페이지 프로그램,독출 및 카피백 프로그램 방법
US20070260841A1 (en) 2006-05-02 2007-11-08 Hampel Craig E Memory module with reduced access granularity
US20080043736A1 (en) * 2006-08-18 2008-02-21 Drivecam, Inc. Data Transfer System and Method
US8055958B2 (en) * 2008-12-11 2011-11-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Replacement data storage circuit storing address of defective memory cell
US9268719B2 (en) 2011-08-05 2016-02-23 Rambus Inc. Memory signal buffers and modules supporting variable access granularity
WO2015170220A1 (en) * 2014-05-09 2015-11-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory device and electronic device
US11068639B2 (en) * 2018-10-19 2021-07-20 Arm Limited Metal layout techniques

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0036932A2 (en) * 1980-03-26 1981-10-07 International Business Machines Corporation Sense amplifying system and memory using this system
EP0239187A2 (en) * 1986-01-30 1987-09-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device
EP0282650A1 (en) * 1986-12-25 1988-09-21 Nec Corporation Semiconductor memory with cell arrangement

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4208730A (en) * 1978-08-07 1980-06-17 Rca Corporation Precharge circuit for memory array
JPS5951075B2 (ja) * 1980-03-31 1984-12-12 富士通株式会社 半導体記憶装置
JPS57208691A (en) * 1981-06-15 1982-12-21 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
JPS5880188A (ja) * 1981-11-05 1983-05-14 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS5880189A (ja) * 1981-11-05 1983-05-14 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS6363196A (ja) * 1986-09-02 1988-03-19 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS63205897A (ja) * 1987-02-20 1988-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JPS63257994A (ja) * 1987-04-15 1988-10-25 Nec Corp 半導体記憶装置
JPS6488993A (en) * 1987-09-29 1989-04-03 Nec Corp Semiconductor memory
JPH01171195A (ja) * 1987-12-25 1989-07-06 Sony Corp メモリ装置
JPH01189097A (ja) * 1988-01-22 1989-07-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0036932A2 (en) * 1980-03-26 1981-10-07 International Business Machines Corporation Sense amplifying system and memory using this system
EP0239187A2 (en) * 1986-01-30 1987-09-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device
EP0282650A1 (en) * 1986-12-25 1988-09-21 Nec Corporation Semiconductor memory with cell arrangement

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IEEE INTERNATIONAL SOLID STATE CIRCUITS CONFERENCE. deel 1988, nr. 31, 17 Februari 1988, NEW YORK US bladzijden 246 - 247; M.INOUE ET AL.: 'A 16Mb DRAM with An Open Bit-Line Architecture' *

Also Published As

Publication number Publication date
FR2640796B1 (fr) 1994-09-23
DE3923629A1 (de) 1990-06-28
GB2227109B (en) 1993-10-13
NL193295B (nl) 1999-01-04
KR910009444B1 (ko) 1991-11-16
US5111434A (en) 1992-05-05
GB2227109A (en) 1990-07-18
NL193295C (nl) 1999-05-06
KR900010787A (ko) 1990-07-09
DE3923629C2 (de) 1994-04-21
JPH02177193A (ja) 1990-07-10
FR2640796A1 (fr) 1990-06-22
GB8927093D0 (en) 1990-01-31
JPH0752580B2 (ja) 1995-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8902063A (nl) Halfgeleider geheugeneenheid.
EP0068645B1 (en) A semiconductor device
US5276649A (en) Dynamic-type semiconductor memory device having staggered activation of column groups
KR950000757B1 (ko) 감지 증폭기를 갖는 반도체 메모리
US5416748A (en) Semiconductor memory device having dual word line structure
USRE35953E (en) Semiconductor dynamic memory device
US8797778B2 (en) Semiconductor memory device having open bit line structure
US4872142A (en) Semiconductor memory device with improved bit line arrangement
US7095666B2 (en) Wide databus architecture
US6137737A (en) Method and circuit for rapidly equilibrating paired digit lines of a memory device during testing
US5014246A (en) Semiconductor memory device having shared sense amplifier and operating method thereof
EP0254057B1 (en) Dynamic semiconductor memory with improved sensing scheme
KR960009946B1 (ko) 반도체 메모리 디바이스
US6574128B1 (en) Mid array isolate circuit layout
US4926381A (en) Semiconductor memory circuit with sensing arrangement free from malfunction
US6973002B2 (en) Semiconductor integrated circuit comprising sense amplifier activating circuit for activating sense amplifier circuit
JP2878713B2 (ja) 半導体記憶装置
US4875193A (en) Semiconductor memory with improved cell arrangement
US6721221B2 (en) Sense amplifier and architecture for open digit arrays
JP3817409B2 (ja) 集積化メモリ
JP2720158B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH07109708B2 (ja) ダイナミツク型ram
US20040013013A1 (en) Memory, module with crossed bit lines, and method for reading the memory module
JPH0715791B2 (ja) 半導体記憶装置
JPS6235193B2 (nl)

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Effective date: 20090814