NL1027876C2 - Dwarselement met een gedefinieerd gebied voor het opvangen van intrekking. - Google Patents

Description

Titel: Dwarselement met een gedefinieerd gebied voor het opvangen van intrekking

De uitvinding heeft betrekking op een dwarselement dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband voor een continu variabele transmissie met twee poelies voor het opspannen van de duwband; 5 welk dwarselement ruimtelijk wordt begrensd door twee hoofdlichaams-vlakken en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken uitstrekkend omtreksvlak, en welk dwarselement een basisgedeelte en een top-gedeelte omvat, waarbij het basisgedeelte bestemd is om zich bij toepassing van het dwarselement in een duwband aan een zijde van een 10 binnenomtrek van de duwband te bevinden, en waarbij het topgedeelte bestemd is om zich bij toepassing van het dwarselement in een duwband aan een zijde van een buitenomtrek van de duwband te bevinden; en waarbij ten minste één van de hoofdlichaamsvlakken is voorzien van 15 een contactgebied dat zich op het topgedeelte bevindt, dat verhoogd is gelegen ten opzichte van een omringend gedeelte van het hoofd-lichaamsvlak, en dat bij toepassing van het dwarselement in een duwband dient voor het tot stand brengen van contact met een aangrenzend dwarselement.

20

Een duwband voor een continu variabele transmissie is algemeen bekend. Een dergelijke duwband omvat doorgaans twee oneindige, in zichzelf gesloten lintvormige dragers voor het dragen van een relatief groot aantal dwarselementen. De dwarselementen zijn 25 beweegbaar over de gehele omtrek van de dragers aangebracht, waarbij ze tijdens bedrijf in staat zijn tot het doorgeven van krachten die samenhangen met een beweging van de duwband.

In de hiernavolgende beschrijving van het dwarselement refereren de genoemde richtingen aan de situatie waarin het dwars-30 element deel uitmaakt van de duwband. Een lengterichting van het dwarselement komt overeen met een omtreksrichting van de duwband.

Een hoogterichting van het dwarselement komt overeen met een radiale richting van de duwband. Een breedterichting van het dwarselement 1027870- ^_______~ 2 komt overeen met een richting haaks op zowel de lengterichting als de hoogterichting. De aanduiding van een willekeurig dwarselement als volgend dwarselement of vorig dwarselement ten opzichte van een aangrenzend dwarselement houdt verband met een bewegingsrichting van 5 de duwband.

Het dwarselement is in breedterichting aan weerszijden voorzien van uitsparingen voor het opnemen van de dragers. Ten behoeve van het ondersteunen van de dragers omvat het dwarselement drager-vlakken. Ten behoeve van contact tussen het dwarselement en poelie-10 schijven van een poelie van een continu variabele transmissie is het dwarselement in breedterichting aan weerszijden voorzien van in de richting van de dragervlakken divergerende poelieschijf-contact-vlakken. De in het hiernavolgende gebezigde begrippen "boven" en "onder" zijn gerelateerd aan de richting van divergentie; deze wordt 15 gedefinieerd als van onder naar boven.

Het dwarselement omvat in hoogterichting van onder naar boven achtereenvolgens een basisgedeelte, een nekgedeelte en een top-gedeelte, waarbij de afmetingen in breedterichting van het nekgedeelte relatief klein zijn. Het basisgedeelte omvat de drager-20 vlakken en de poelieschijf-contactvlakken. In de duwband bevindt het basisgedeelte zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband, terwijl het topgedeelte zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband bevindt.

Het dwarselement heeft twee hoofdlichaamsvlakken, te weten een 25 voorvlak en een achtervlak, die zich in hoofdzaak evenwijdig ten opzichte van elkaar uitstrekken, in hoofdzaak haaks op de lengterichting. Ten minste een gedeelte van het voorvlak van het dwarselement is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen ten minste een gedeelte van het achtervlak van een volgend dwarselement, 30 terwijl ten minste een gedeelte van het achtervlak van het dwarselement is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen ten minste een gedeelte van het voorvlak van een vorig dwarselement. Tussen de twee hoofdlichaamsvlakken strekt zich een omtreksvlak uit, waar de dragervlakken en de poelieschijf-contactvlakken deel van uitmaken.

35 Op het voorvlak van het dwarselement is een nop aangebracht, terwijl in het achtervlak van het dwarselement een kuil is aangebracht . De posities van de nop en de kuil corresponderen met elkaar, waarbij de nop en de kuil doorgaans op het topgedeelte j gepositioneerd zijn. In de duwband bevindt de nop van een | 40 willekeurig dwarselement zich althans gedeeltelijk in de kuil van 1027876- 3 een volgend dwarselement, zodat een onderlinge verschuiving van aangrenzende dwarselementen in een vlak haaks op de omtreksrichting van de duwband wordt voorkomen.

5 Bij een continu variabele transmissie gaat een overbrenging van vermogen tussen de twee poelies gepaard met drukkrachten in de duwband. Met het oog op een optimaal functioneren van de continu variabele transmissie is het van belang dat het onderlinge contact tussen de dwarselementen in de duwband goed gedefinieerd is. Ten 10 minste één hoofdlichaamsvlak van het dwarselement, doorgaans het voorvlak, is daarom voorzien van contactgebieden voor het tot stand brengen van contact met een aangrenzend dwarselement in de duwband. Elk contactgebied is op een enigszins hoger niveau gelegen dan een omringend gedeelte van het desbetreffende hoofdlichaamsvlak, met 15 andere woorden, ter plaatse van elk contactgebied is het dwarselement enigszins verdikt.

In WO 2004/036083 is een dwarselement met drie contactgebieden getoond, waarbij twee contactgebieden zich op het basisgedeelte van het dwarselement bevinden, en waarbij één contactgebied zich op het 20 topgedeelte van het dwarselement bevindt. Meer in het bijzonder is elk van de twee contactgebieden op het basisgedeelte gevormd als een hoekgebied dat gedeeltelijk is begrensd door een gedeelte van een dragervlak en een daarop aansluitend gedeelte van een poelieschijf-contactvlak. Het contactgebied op het topgedeelte strekt zich in 25 ieder geval uit in een gebied dat boven de nop is gelegen, en wordt gedeeltelijk begrensd door een bovenste gedeelte van het omtreks-vlak. Als gevolg van de toepassing van drie contactgebieden wordt een zogeheten driepuntsoplegging van de dwarselementen verkregen, hetgeen bijdraagt aan de stabiliteit van een duwband waarin de 30 dwarselementen worden toegepast.

De dwarselementen worden door middel van een stansproces vervaardigd uit plaatvormig basismateriaal. Bij het stansproces worden een snij orgaan en een ondersteuningsorgaan toegepast, waarbij 35 het snijorgaan is bestemd om het dwarselement uit het basismateriaal te snijden onder invloed van een snijkracht, en waarbij het ondersteuningsorgaan is bestemd om het dwarselement tijdens het stansproces te ondersteunen met een ondersteuningskracht en tevens het voorvlak van het dwarselement te vormen door middel van een proces 40 van koude omvorming. De omtrek van zowel het ondersteuningsvlak als 1027876- ^_ — 4 het snijvlak is in hoofdzaak gelijk aan de omtrek van het dwars-element. Tijdens het stansproces dringt het snij orgaan onder druk door het basismateriaal, waarbij een onderlinge beweging van het te stansen dwarselement en het basismateriaal wordt toegestaan. Het te 5 stansen dwarselement is dan ingeklemd tussen het snijorgaan en het ondersteuningsorgaan.

Voorts wordt bij het stansproces een matrijs toegepast, die is voorzien van een opneemruimte voor het opnemen van het te stansen dwarselement, het ondersteuningsorgaan en een uiteinde van het snij-10 orgaan. De binnenomtrek van de opneemruimte correspondeert in hoofdzaak met de omtrek van zowel het snijorgaan, het ondersteuningsorgaan en het te stansen dwarselement, zodat de opneemruimte in staat is om het snijorgaan, het ondersteuningsorgaan en het te stansen dwarselement met een uiterst geringe speling op te 15 nemen.

Voor stansprocessen zoals hierboven beschreven geldt in het algemeen dat ter plaatse van snijranden van een stansproduct aan één zijde braamvorming en aan een andere zijde intrekking van materiaal 20 kan plaatsvinden. Deze intrekking kenmerkt zich door een afronding van randen van het stansproduct aan een zijde die tijdens het stansen naar het ondersteuningsorgaan gericht is geweest. De mate van intrekking is onder andere afhankelijk van de hardheid van het te stansen materiaal, van de dikte van het stansproduct en van de 25 contouren van het stansproduct. Zo kan een ronding met een kleine kromtestraal leiden tot een relatief grote intrekking.

Bij het dwarselement dat een contactgebied omvat dat op het topgedeelte is gelegen, vormt de intrekking die tijdens het stansen van het dwarselement optreedt, een probleem. Doordat het contact-30 gebied aan een bovenste gedeelte van het omtreksvlak grenst, welk bovenste gedeelte bovendien gekromd is, kan het oppervlak van het contactgebied sterk verminderen door intrekking van materiaal ter plaatse van een overgang tussen het contactgebied en het omtreksvlak. Een vermindering van oppervlak van het contactgebied kan bij 35 toepassing van het dwarselement in een duwband leiden tot een afname van de stabiliteit en de functionaliteit van de duwband.

De verkleining van het oppervlak van het contactgebied kan op verschillende manieren uitwerken. Een kleiner contactgebied is eerder totaal afgesleten of te ver verkleind om nog langer 40 functioneel te kunnen zijn dan een groter contactgebied. Dit kan il-027 8 7§- i 5 zelfs zoveel eerder gebeuren, dat dit nog tijdens een beoogde levensduur van de duwband plaatsvindt. Tevens is het zo dat het contactgebied tijdens bedrijf van de duwband onder invloed van de duwbelasting inveert. Een afwijking van de omvang van het contact-5 gebied kan er toe leiden dat het inveergedrag van het contactgebied tijdens bedrijf van de duwband anders is dan op basis van de gewenste omvang van het contactgebied verwacht zou kunnen worden.

Een afwijking van de omvang van het contactgebied kan er tevens toe leiden dat de dynamische veerstijfheid van de duwband anders is dan 10 op basis van de gewenste omvang van het contactgebied verwacht zou kunnen worden. Gegeven het feit dat aan deze veerstijfheid bepaalde eisen worden gesteld, is het van belang dat het oppervlak van het contactgebied nauwkeurig gedefinieerd is.

15 Een belangrijk doel van de uitvinding is het verhogen van de stabiliteit en de functionaliteit van een duwband door een dwars-element met beter gedefinieerde contactgebieden voor het tot stand brengen van contact met een aangrenzend dwarselement in de duwband te verschaffen. Dit doel wordt bereikt door middel van een dwars-20 element waarbij het topgedeelte is voorzien van een uitsparing die is aangebracht in het hoofdlichaamsvlak waarop het contactgebied zich bevindt, en die aansluit op zowel een deel van het contactgebied als een deel van het omtreksvlak.

Door de aanwezigheid van de uitsparing wordt bereikt dat een 25 deel van het contactgebied dat in het oorspronkelijke ontwerp van het dwarselement direct op een deel van het omtreksvlak zou aansluiten, dat nu niet doet. In plaats daarvan grenst dit deel van het contactgebied aan de uitsparing. Een gunstig gevolg hiervan is dat de intrekking die tijdens het stansen van het dwarselement aan de 30 omtrek van het dwarselement plaatsvindt, niet in het contactgebied plaatsvindt, zodat dit gebied met nauwkeurig gedefinieerde afmetingen kan worden gevormd. Dit zal de stabiliteit en de functionaliteit van een duwband waarin het dwarselement wordt toegepast, ten goede komen.

35 Wanneer het dwarselement volgens de onderhavige uitvinding wordt gestanst, vindt intrekking van materiaal ter plaatse van de uitsparing in het topgedeelte plaats. Het is niet alleen van voordeel dat de intrekking niet op het contactoppervlak plaatsvindt, maar ook dat de intrekking minder is, vanwege het feit dat het 40 dwarselement ter plaatse van de uitsparing minder dik is.

1027876- 6

Bij voorkeur wordt het dwarselement vervaardigd uit basismateriaal dat is voorbewerkt door het aanbrengen van uitsparingen op plaatsen waar een bovenzijde van het topgedeelte van de dwars-elementen uit het basismateriaal wordt gestanst. In een gunstige 5 uitvoeringsvorm omvat het basismateriaal een strook die over de gehele lengte is voorzien van een groef die zich langs een rand respectievelijk in het midden uitstrekt, en waaruit de dwars-elementen naast elkaar in één rij respectievelijk twee rijen worden gestanst.

10

De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van de hiernavolgende beschrijving van de uitvinding onder verwijzing naar de tekening, waarin gelijke verwijzingscijfers gelijke of vergelijkbare onderdelen aanduiden, en waarin: 15 figuur 1 schematisch een zijaanzicht toont van een continu variabele transmissie met duwband; figuur 2 een vooraanzicht toont van een dwarselement voor een duwband voor een continu variabele transmissie; figuur 3 een zijaanzicht toont van het in figuur 2 getoonde dwars-20 element; figuur 4 een schematische langsdoorsnede toont van een stansgebied van een stansinrichting alsmede daarin geplaatst basismateriaal; figuur 5 intrekking illustreert bij een stansproduct dat onder toepassing van de in figuur 4 getoonde stansinrichting verkregen is; 25 figuur 6 schematisch een dwarsdoorsnede toont van een topgedeelte van een dwarselement volgens de stand van de techniek; figuur 7 schematisch een dwarsdoorsnede toont van een topgedeelte van een dwarselement met een uitsparing volgens de uitvinding; figuur 8 schematisch een vooraanzicht toont van het in figuur 7 30 getoonde topgedeelte van het dwarselement volgens de uitvinding; en figuur 9 basismateriaal voor het vervaardigen van dwarselementen volgens de uitvinding toont.

Figuur 1 toont schematisch een continu variabele transmissie, 35 zoals voor gebruik in een motorvoertuig. De continu variabele transmissie is in zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzings-cijfer 1.

De continu variabele transmissie 1 omvat twee op afzonderlijke poelie-assen 2, 3 aangebrachte poelies 4, 5. Een oneindige, in zich-40 zelf gesloten duwband 6 is om de poelies 4, 5 aangebracht en dient 102787Θ- 7 voor het overdragen van koppel tussen de poelie-assen 2, 3. Elk van de poelies 4, 5 omvat twee poelieschijven, waarbij de duwband 6 tussen genoemde twee poelieschijven is gepositioneerd en ingeklemd, zodat met behulp van wrijving een kracht tussen de poelies 4, 5 en 5 de duwband 6 kan worden overgedragen.

De duwband 6 omvat ten minste één oneindige drager 7 die doorgaans is opgebouwd uit een aantal ringen. Over de gehele lengte van de drager 7 zijn dwarselementen 10 aangebracht, waarbij de dwarselementen 10 onderling tegen elkaar aanliggen en in omtreks-10 richting beweegbaar ten opzichte van de drager 7 zijn. Ter wille van de eenvoud is in figuur 1 slechts een aantal van deze dwarselementen 10 getoond.

Figuren 2 en 3 tonen een dwarselement 10. Een voorvlak van het 15 dwarselement 10 is in zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzingscijfer 11, terwijl een achtervlak van het dwarselement 10 in zijn algemeenheid is aangeduid met het verwijzingscijfer 12. In het hiernavolgende wordt zowel het voorvlak 11 als het achtervlak 12 ook wel aangeduid als hoofdlichaamsvlak 11, 12. Tussen de hoofd-20 lichaamsvlakken 11, 12 strekt zich een omtreksvlak 19 uit.

Het dwarselement 10 omvat in hoogterichting achtereenvolgens een basisgedeelte 13, een relatief smal nekgedeelte 14 en een pijlpuntvormig topgedeelte 15. In de duwband 6 bevindt het basisgedeelte 13 zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband 6, terwijl 25 het topgedeelte 15 zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband 6 bevindt. Voorts ligt in een duwband 6 ten minste een gedeelte van het voorvlak 11 van het dwarselement 10 aan tegen ten minste een gedeelte van het achtervlak 12 van een volgend dwarselement 10, terwijl ten minste een gedeelte van het achtervlak 12 van het dwars-30 element 10 aanligt tegen ten minste een gedeelte van het voorvlak 11 van een voorgaand dwarselement 10. Het basisgedeelte 13 van het dwarselement 10 zoals getoond in figuur 2 omvat bij de overgang naar het nekgedeelte 14 twee dragervlakken 16 die dienen voor het ondersteunen van twee dragers 7. Voorts omvat het basisgedeelte 13 twee 35 poelieschijf-contactvlakken 17. Wanneer het dwarselement 10 over de poelie 4, 5 beweegt, wordt via genoemde poelieschijf-contactvlakken 17 contact tussen het dwarselement 10 en contactvlakken van de poelieschijven bewerkstelligd. Tussen de poelieschijf-contactvlakken 17 strekt zich een ondervlak 18 uit. Zowel de dragervlakken 16, de 1027876- . ................................ι—_m^jm^jir^mS^=mc: 8 poelieschijf-contactvlakken 17 en het ondervlak 18 maken deel uit van het omtreksvlak 19.

Op het voorvlak 11 van het dwarselement 10 is een nop 21 aangebracht. De nop 21 bevindt zich in het getoonde voorbeeld op het 5 topgedeelte 15, en correspondeert met een kuil in het achtervlak 12.

De kuil is in figuur 3 door middel van stippellijnen weergegeven en aangeduid met het verwijzingscijfer 22. In de duwband 6 bevindt de nop 21 van het dwarselement 10 zich althans gedeeltelijk in de kuil 22 van een volgend dwarselement 10. De nop 21 en de corresponderende 10 kuil 22 dienen om onderlinge verschuiving van aangrenzende dwars- elementen 10 in een vlak haaks op de omtreksrichting van de duwband 6 te voorkomen.

Het topgedeelte 15 omvat twee opsluitvlakken 23 die tegenover de dragervlakken 16 zijn gelegen. Wanneer het dwarselement 10 in een 15 duwband 6 is opgenomen, dan wordt ruimte waarin de dragers 7 zich bevinden in radiale richting afgebakend door de dragervlakken 16 enerzijds en door de opsluitvlakken 23 anderzijds. Voorts omvat het topgedeelte 15 twee op elkaar aansluitende bovenvlakken 24, die elk bij een uiteinde aansluiten op een opsluitvlak 23 van het top-20 gedeelte 15. Zowel de opsluitvlakken 23 als de bovenvlakken 24 maken deel uit van het omtreksvlak 19.

Op het voorvlak 11 bevinden zich drie contactgebieden 25, 26a, 26b, die in figuur 2 als gearceerde vlakken zijn weergegeven. De contactgebieden 25, 26a, 26b zijn uitgevoerd als geringe verhogingen 25 ten opzichte van het voorvlak 11, en dienen voor het tot stand brengen van contact van het dwarselement 10 met een aangrenzend dwarselement 10 in een duwband 6. Een eerste contactgebied 25 bevindt zich op het topgedeelte 15 van het dwarselement 10, en is boven de nop 21 gesitueerd. Twee andere contactgebieden 26a, 26b 30 bevinden zich op het basisgedeelte 13 van het dwarselement 10, waarbij beide contactgebieden 26a, 26b gedeeltelijk zijn begrensd door een gedeelte van een dragervlak 16 en een daarop aansluitend gedeelte van een poelieschijf-contactvlak 17.

35 Hieronder zal een op zich bekend stansproces van het dwars element 10 alsmede het ontstaan van intrekking worden uitgelegd aan de hand van figuren 4 en 5.

In figuur 4 zijn een stansgebied van een stansinrichting 60 en 40 daarin geplaatst plaatvormig basismateriaal 50 schematisch weer- 1027878- __ 9 gegeven. De stansinrichting 60 omvat een snijorgaan 30 dat is bestemd voor het uitsnijden van het dwarselement 10 uit het basismateriaal 50. Het snijorgaan 30 is opgenomen in een geleidingsruimte 36 in een geleidingsplaat 35 die als belangrijke functie het 5 geleiden van het snijorgaan 30 tijdens een stansbeweging heeft. In het verlengde van het snijorgaan 30 is een ondersteuningsorgaan 40 opgesteld, dat is bestemd om het dwarselement 10 tijdens het stans-proces te ondersteunen. De omtrek van zowel het snijorgaan 30 als het ondersteuningsorgaan 40 correspondeert in hoofdzaak met de 10 omtrek van het te stansen dwarselement 10. Het ondersteuningsorgaan 40 is opgenomen in een opneemruimte 46 in een matrijs 45 die als belangrijke functie hét tijdens een stansbeweging geleiden van zowel het ondersteuningsorgaan 40 als het dwarselement 10 heeft. De binnenomtrek van de opneemruimte 46 correspondeert in hoofdzaak met 15 de omtrek van zowel het snijorgaan 30, het ondersteuningsorgaan 40 en het dwarselement 10. Het basismateriaal 50 bevindt zich initieel tussen het snijorgaan 30 en de geleidingsplaat 35 enerzijds en het ondersteuningsorgaan 40 en de matrijs 45 anderzijds. Een gedeelte van het basismateriaal 50 dat zich tussen het snijorgaan 30 en het 20 ondersteuningsorgaan 40 bevindt, is bestemd om het dwarselement 10 te vormen, en zal hiernavolgend worden aangeduid als stansgedeelte 51. Een ander gedeelte van het basismateriaal 50, namelijk het gedeelte dat zich tussen de geleidingsplaat 35 en de matrijs 45 bevindt, zal hiernavolgend worden aangeduid als restgedeelte 52.

25 De matrijs 45 omvat een matrijsvlak 47 dat als belangrijke functie het ondersteunen van het restgedeelte 52 van het basismateriaal 50 heeft. Een binnenoppervlak van de opneemruimte 46 van de matrijs 45 sluit via een omtreksrand 48 aan op het matrijsvlak 47. Teneinde een goede oppervlaktekwaliteit van het omtreksvlak 19 30 van het dwarselement 10 te verkrijgen, is de omtreksrand 48 afgeschuind, waarbij zich een afschuiningsvlak 49 tussen het matrijsvlak 47 en het binnenoppervlak van de opneemruimte 46 uitstrekt.

In figuur 5 is schematisch een langsdoorsnede van het stans-35 gebied van de stansinrichting 60 weergegeven, waarbij de diverse onderdelen van de stansinrichting 60 in een onderlinge stand zijn weergegeven die representatief is voor een fase van het stansproces waarin het snijorgaan 30 reeds zo ver in de matrijs 45 is gedrukt dat het stansgedeelte 51 volledig is losgesneden van het rest- 1027876- .................Μ.....' '1'^·^- 10 gedeelte 52 en zich in de matrijs 45 bevindt, terwijl het is ingeklemd tussen het snijorgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40.

Als gevolg van de stansbeweging heeft intrekking van materiaal van het stansgedeelte 51 plaatsgevonden, ter plaatse van een omtrek 5 van het stansgedeelte 51, aan een zijde van het stansgedeelte 51 dat naar het ondersteuningsorgaan 40 gericht is. In figuur 5 is de intrekking schematisch en overdreven weergegeven in de vorm van afgeronde hoeken aan de omtrek van het stansgedeelte 51.

10 In figuur 6 is schematisch een dwarsdoorsnede weergegeven van het topgedeelte 15 van een dwarselement volgens de stand van de techniek, waarbij het contactgebied 25 dat zich op het topgedeelte 15 bevindt, de nop 21 en de kuil 22 doorgesneden zijn. In deze figuur is een theoretisch gewenste vorm van een overgang tussen het 15 contactgebied 25 en het aangrenzende bovenvlak 24 weergegeven door middel van een streeplijn. In het getoonde voorbeeld is het theoretisch gewenst dat het contactgebied 25 en het aangrenzende bovenvlak zich in hoofdzaak haaks ten opzichte van elkaar uitstrekken en over een hoek van in hoofdzaak 90° op elkaar aansluiten.

20 Als gevolg van intrekking van materiaal tijdens het stansproces van het dwarselement is de overgang tussen het contactgebied 25 en het aangrenzende bovenvlak 24 afgerond, en is het contactgebied 25 in oppervlakte gereduceerd.

25 Evenals figuur 6 toont figuur 7 schematisch een dwarsdoorsnede van het topgedeelte 15 van een dwarselement, waarbij het contactgebied 25 dat zich op het topgedeelte 15 bevindt, de nop 21 en de kuil 22 doorgesneden zijn. Echter, in figuur 7 is het topgedeelte 15 van een dwarselement 10 volgens de uitvinding weergegeven, waarbij 30 ten opzichte van de in figuur 6 getoonde theoretisch gewenste vorm van de overgang tussen het contactvlak 25 en het aangrenzende bovenvlak 24 een bovenste gedeelte is uitgespaard. Een theoretisch gewenste vorm van de aldus gevormde uitsparing 27 en het daarop aansluitende bovenvlak 24 is in figuur 7 door middel van een streeplijn 35 weergegeven.

Tijdens het stansproces van het dwarselement 10 treedt intrekking van materiaal op. Door de aanwezigheid van de uitsparing 27 manifesteert deze intrekking zich alleen ter plaatse van deze uitsparing 27, en wordt voorkomen dat intrekking van het contactgebied 40 25 plaatsvindt. Ten opzichte van de situatie zoals getoond in figuur 1027878- 11 6 is de intrekking derhalve verplaatst van een aanzienlijk deel van het contactgebied 25 naar uitsluitend de uitsparing 27. Bovendien is de intrekking gereduceerd, doordat de dikte van het dwarselement 10 ter plaatse van de uitsparing 27 gereduceerd is, en de mate van in-5 trekking afneemt met de dikte. Figuur 7 toont de verkregen vorm van het contactgebied 25, de uitsparing 27 en een overgang tussen de uitsparing 27 en het aangrenzende bovenvlak 24, waarbij duidelijk te zien is dat de vorm van het contactgebied 25 niet door intrekking is beïnvloed. Uit een vergelijking tussen figuren 6 en 7 blijkt dat het 10 effect van de intrekking op een functioneel oppervlak van het contactgebied 25 aanzienlijk kleiner is wanneer een uitsparing 27 tussen het contactgebied 25 en het topvlak 24 aanwezig is, dan wanneer dat niet het geval is.

Door de aanwezigheid van de uitsparing 27 is het contactgebied 15 25 weliswaar enigszins verkleind, maar door het uitblijven van in trekking op het contactgebied 25 wordt uiteindelijk een groter functioneel oppervlak behouden, en komt het contactgebied 25 praktisch overeen met een theoretisch gedefinieerd contactgebied 25. Dit alles heeft een gunstige invloed op de stabiliteit en de 20 functionaliteit van een duwband 6 waarin de dwarselementen 10 volgens de uitvinding worden toegepast.

In figuur 8 is een vooraanzicht van het topgedeelte 15 van het dwarselement 10 volgens de uitvinding weergegeven, waarbij het 25 contactgebied 25 als een gearceerd vlak is weergegeven. In deze figuur is te zien dat door het aanbrengen van de uitsparing 27 een in hoofdzaak vlakke bovenzijde van het contactgebied 25 verkregen is. Omdat deze vorm van het contactgebied 25 en de uitsparing 27 in de praktijk relatief gemakkelijk te realiseren is, heeft deze vorm 30 de voorkeur, hetgeen niet wegneemt dat ook andere vormen mogelijk zijn binnen het kader van de uitvinding.

In figuur 9 is een strook basismateriaal 50 weergegeven, waarbij de uit te stansen dwarselementen 10 (ook aangeduid als 35 stansgedeeltes 51) zijn ingetekend. Over de gehele lengte van de strook is een centrale groef 53 in het materiaal aangebracht, die dient om de uitsparing 27 in het topgedeelte 15 van de dwarselementen 10 te vormen. De groef 53 is in figuur 9 weergegeven door middel van twee parallelle stippellijnen.

1027876- 12

Ter plaatse van de groef 53 is het basismateriaal 50 dunner dan direct daarbuiten. Daarbij worden uit de strook basismateriaal 50 twee rijen dwarselementen 10 gevormd, waarbij de dwarselementen 10 met hun topgedeeltes 15 tegenover elkaar liggen. Op deze manier 5 wordt bereikt dat door de aanwezigheid van de groef 53 in een bovenste gedeelte van het topgedeelte 15 van de dwarselementen 10 een uitsparing 27 verkregen wordt.

Het is ook mogelijk dat een enkele rij dwarselementen 10 uit een strook basismateriaal 50 wordt gestanst. In een dergelijk geval 10 heeft de groef 53 geen centrale positie, maar is aan een rand van de strook aangebracht.

Het is praktisch goed realiseerbaar om een groef 53 toe te passen voor het aanbrengen van de uitsparing 27 in de te stansen dwarselementen 10. Het is echter ook mogelijk dat het basismateriaal 15 50 op gedefinieerde plaatsen van uitsparingen is voorzien, die onderling niet met elkaar in verbinding staan. De gedefinieerde plaatsen komen overeen met de plaatsen waar een bovenste gedeelte van het topgedeelte 15 van de dwarselementen 10 wordt gevormd.

In een praktisch toepassingsvoorbeeld, dat door Aanvraagster 20 bij wijze van experiment werd getest in samenhang met een dwars- element 10 van gangbare afmetingen, werd het beoogde effect in een bevredigende mate bereikt met een strook basismateriaal 50 van ongeveer 1,8 mm dik waarin de groef 53 tot een diepte van 0,4 mm werd aangebracht. De gevormde uitsparing 27 had hierbij een hoogte 25 van 0,1 mm.

Het zal voor een deskundige duidelijk zijn dat de omvang van de uitvinding niet is beperkt tot de in het voorgaande besproken voorbeelden, maar dat diverse variaties en modificaties daarvan 30 mogelijk zijn zonder af te wijken van de omvang van de uitvinding zoals gedefinieerd in de aangehechte conclusies.

In het voorgaande is een dwarselement 10 beschreven, dat bestemd is om deel uit te maken van een duwband 6 voor een continu 35 variabele transmissie 1. Het dwarselement 10 is op een voorvlak 11 voorzien van drie contactgebieden 25, 26a, 26b voor het tot stand brengen van contact met een aangrenzend dwarselement 10 in de duwband 6. Eén van deze contactgebieden 25, 26a, 26b bevindt zich op | een topgedeelte 15 van het dwarselement 10. Een bovenste deel van 40 dit contactgebied 25 sluit indirect aan op een omtrek van het dwars- 1027870- 13 element 10, via een uitsparing 27 die een gebied definieert, waarin intrekking van materiaal die tijdens het vervaardigingsproces van het dwarselement 10 optreedt, wordt opgevangen. Op deze wijze wordt een reductie van afmetingen van een functioneel oppervlak van het 5 contactgebied 25 onder invloed van intrekking voorkomen, zo dat wordt gewaarborgd dat de afmetingen van het functionele oppervlak van het contactgebied 25 goed overeenkomen met vooraf gedefinieerde afmetingen. Wanneer het dwarselement 10 wordt toegepast in een duw-band 6, dan komt dit de stabiliteit en de functionaliteit van de 10 duwband 6 ten goede.

1027876-

Claims (8)

1. Dwarselement (10) dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband (6) voor een continu variabele transmissie (1) met twee poelies (4, 5) voor het opspannen van de duwband (6); 5 welk dwarselement (10) ruimtelijk wordt begrensd door twee hoofd-lichaamsvlakken (11, 12) en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken (11, 12) uitstrekkend omtreksvlak (19), en welk dwarselement (10) een basisgedeelte (13) en een topgedeelte (15) omvat, waarbij het basisgedeelte (13) bestemd is om zich bij toepassing van het dwars- 10 element (10) in een duwband (6) aan een zijde van een binnenomtrek van de duwband (6) te bevinden, en waarbij het topgedeelte (15) bestemd is om zich bij toepassing van het dwarselement (10) in een duwband (6) aan een zijde van een buitenomtrek van de duwband (6) te bevinden; en 15 waarbij ten minste één van de hoofdlichaamsvlakken (11, 12) is voorzien van een contactgebied (25) dat zich op het topgedeelte (15) bevindt, dat verhoogd is gelegen ten opzichte van een omringend gedeelte van het hoofdlichaamsvlak (11), en dat bij toepassing van het dwarselement (10) in een duwband (6) dient voor het tot stand 20 brengen van contact met een aangrenzend dwarselement (10); waarbij het topgedeelte (15) is voorzien van een uitsparing (27) die is aangebracht in het hoofdlichaamsvlak (11) waarop het contactgebied (25) zich bevindt, en die aansluit op zowel een deel van het contactgebied (25) als een deel van het omtreksvlak (19, 24). 25

2, Dwarselement (10) volgens conclusie 1, waarbij het contactgebied (25) een in hoofdzaak vlakke zijde heeft op de plaats waar het contactgebied (25) aan de uitsparing (27) grenst.

3. Dwarselement (10) volgens conclusie 1 of 2, waarbij het hoofd lichaamsvlak (11) waarop het contactgebied (25) zich bevindt, tevens is voorzien van twee andere contactgebieden (26a, 26b), die op het basisgedeelte (13) zijn gelegen.

4. Basismateriaal (50), bestemd voor toepassing voor het vervaardigen van een dwarselement (10) volgens een willekeurige der conclusies 1-3, dat is voorzien van uitsparingen op plaatsen die 1027878= bestemd zijn om een gedeelte van het dwarselement (10) met de uitsparing (27) die zich tussen het contactgebied (25) en het omtreks-vlak (19, 24) bevindt, te vormen.

5. Basismateriaal (50) volgens conclusie 4, omvattende een strook waarin, in lengterichting van de strook, een centrale groef (53) is aangebracht.

6. Basismateriaal (50) volgens conclusie 4, omvattende een strook 10 waarin, in lengterichting van de strook, een groef (53) is aangebracht, die zich aan een rand van de strook uitstrekt.

7. Duwband (6) voor een continu variabele transmissie (1), omvattende een dwarselement (10) volgens een willekeurige der 15 conclusies 1-3.

8. Continu variabele transmissie (1), omvattende een duwband (6) volgens conclusie 7. 1027876-