NL1025080C2 - Gedeelde matrijs met ten minste twee matrijscomponenten. - Google Patents

Description

Titel: Gedeelde matrijs met ten minste twee matrijscomponenten

De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een matrijs die bestemd is om te worden toegepast ten behoeve van een stansproces waarin een dwarselement, dat bestemd is om deel uit te maken van een duwband voor een continu variabele transmissie, uit basismateriaal 5 wordt gestanst.

Een duwband voor een continu variabele transmissie is algemeen bekend. Een dergelijke duwband omvat doorgaans twee oneindige, in zichzelf gesloten lintvormige dragers voor het dragen van een relatief groot aantal dwarselementen. De dwarselementen zijn 10 beweegbaar over de gehele omtrek van de dragers aangebracht, waarbij ze tijdens bedrijf in staat zijn tot het doorgeven van krachten die samenhangen met een beweging van de duwband.

In de hiernavolgende beschrijving van het dwarselement refereren de genoemde richtingen aan de situatie waarin het dwars-15 element deel uitmaakt van de duwband. Een lengterichting van het dwarselement komt overeen met een omtreksrichting van de duwband.

Een hoogterichting van het dwarselement komt overeen met een radiale richting van de duwband. Een breedterichting van het dwarselement komt overeen met een richting haaks op zowel de lengterichting als 20 de hoogterichting. De aanduiding van een willekeurig dwarselement als volgend dwarselement of vorig dwarselement ten opzichte van een aangrenzend dwarselement houdt verband met een bewegingsrichting van de duwband.

Het dwarselement is in breedterichting aan weerszijden voorzien 25 van uitsparingen voor het opnemen van de dragers. Ten behoeve van het ondersteunen van de dragers omvat het dwarselement drager-vlakken. Ten behoeve van contact tussen het dwarselement en poelie-schijven van een poelie van een continu variabele transmissie is het dwarselement in breedterichting aan weerszijden voorzien van in de 30 richting van de dragervlakken divergerende poelieschijf-contact-vlakken. De in het hiernavolgende gebezigde begrippen "boven" en "onder" zijn gerelateerd aan de richting van divergentie; deze wordt gedefinieerd als van onder naar boven.

Het dwarselement omvat in hoogterichting van onder naar boven 35 achtereenvolgens een basisgedeelte, een nekgedeelte en een top- 1025080 2 gedeelte, waarbij de afmetingen in breedterichting van het nek-gedeelte relatief klein zijn. Het basisgedeelte omvat de drager-vlakken en de poelieschijf-contactvlakken. In de duwband bevindt het basisgedeelte zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband, 5 terwijl het topgedeelte zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband bevindt.

Het topgedeelte omvat twee opsluitvlakken die tegenover de dragervlakken zijn gelegen. Wanneer het dwarselement in een duwband is opgenomen, dan wordt een positie van de dragers in radiale 10 richting af gebakend door de dragervlakken enerzijds en door de opsluitvlakken anderzijds.

Het dwarselement heeft twee hoofdlichaamsvlakken, te weten een voorvlak en een achtervlak, die zich in hoofdzaak evenwijdig ten opzichte van elkaar uitstrekken, in hoofdzaak haaks op de lengte-15 richting. Ten minste een gedeelte van het voorvlak van het dwarselement is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen ten minste een gedeelte van het achtervlak van een volgend dwarselement, terwijl ten minste een gedeelte van het achtervlak van het dwarselement is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen ten minste 20 een gedeelte van het voorvlak van een vorig dwarselement.

Tussen de twee hoofdlichaamsvlakken strekt zich een omtreksvlak uit, waar de dragervlakken en de poelieschijf-contactvlakken deel van uitmaken. Een afmeting van het omtreksvlak in de lengterichting van het dwarselement is relatief klein.

25

Het dwarselement wordt door middel van een stansproces vervaardigd uit plaatvormig basismateriaal. Bij het stansproces worden een snijorgaan en een ondersteuningsorgaan toegepast, waarbij het snijorgaan is bestemd om het dwarselement uit het basismateriaal 30 te snijden onder invloed van een snijkracht, en waarbij het ondersteuningsorgaan is bestemd om het dwarselement tijdens het stansproces te ondersteunen met een ondersteuningskracht. De omtrek van zowel het ondersteuningsvlak als het snijvlak is in hoofdzaak gelijk aan de omtrek van het dwarselement. Tijdens het stansproces dringt 35 het snijorgaan onder druk door het basismateriaal, waarbij een onderlinge beweging van het te stansen dwarselement en het basismateriaal wordt toegestaan. Het te stansen dwarselement is dan ingeklemd tussen het snijorgaan en het ondersteuningsorgaan.

Voorts wordt bij het stansproces een matrijs toegepast, die is 40 voorzien van een opneeroruimte voor het opnemeh van het te stansen 1025080 ---(1 3 dwarselement, het ondersteuningsorgaan en een uiteinde van het snij-orgaan. De binnenomtrek van de opneemruimte correspondeert in hoofdzaak met de omtrek van zowel het snijorgaan, het ondersteuningsorgaan en het te stansen dwarselement, zodat de opneem-5 ruimte in staat is om het snijorgaan, het ondersteuningsorgaan en het te stansen dwarselement praktisch zonder speling op te nemen.

Zoals reeds is aangegeven, heeft het dwarselement een basis-gedeelte en een topgedeelte, die via een relatief smal nekgedeelte 10 met elkaar zijn verbonden. Vanwege het feit dat het dwarselement wordt vervaardigd door middel van een stansproces zoals hierboven beschreven, gelden er beperkingen voor het ontwerp van het dwarselement met de genoemde gedeeltes. Zo dient een waarde van een verhouding tussen afmetingen van het basisgedeelte en afmetingen van 15 het topgedeelte binnen een bepaald bereik te liggen. Wanneer bijvoorbeeld het topgedeelte in verhouding te klein is, dan is er een kans dat het snijorgaan breekt tijdens het stansproces. Tevens dient een afstand tussen een dragervlak en een tegenovergelegen op-sluitvlak groter te zijn dan een bepaalde minimumafstand. Hoe 20 kleiner deze afstand wordt gekozen, hoe smaller een langwerpig gedeelte van de matrijs dat zich tijdens het stansproces in een uitsparing van het dwarselement bevindt, dient te zijn, en hoe groter de kans dat dit langwerpige gedeelte onder invloed van de tijdens het stansproces heersende krachten van het overige gedeelte van de 25 matrijs afbreekt.

Volgens de onderhavige uitvinding wordt tijdens het stansproces gebruik gemaakt van een matrijs die uit ten minste twee afzonderlijke matrijscomponenten bestaat, waarbij elke matrijs-30 component een gedeelte van een binnenoppervlak van de opneemruimte omvat. Dit heeft belangrijke voordelen, waarvan een aantal hieronder worden beschreven.

Ten eerste kan door het toepassen van een gedeelde matrijs meer vrijheid ten aanzien van het ontwerp van het dwarselement worden 35 verkregen, op basis van het feit dat het mogelijk is om de verdeling van de matrijs in matrijscomponenten af te stemmen op de verdeling van krachten tijdens het stansproces, waarbij de laatstgenoemde verdeling samenhangt met het ontwerp van het dwarselement. Het is bijvoorbeeld mogelijk om de langwerpige gedeeltes van de matrijs die 40 zich tijdens het stansproces in de uitsparingen van het dwarselement 10250¾¾ 4 bevinden, als afzonderlijke matrijscomponenten uit te voeren. Op deze manier wordt breuk van de matrijs voorkomen.

Ten tweede wordt door de verdeling van de matrijs in meerdere matrijscomponenten het vervaardigingsproces van de matrijs 5 vereenvoudigd. Bij een matrijs volgens de stand van de techniek, die uit één stuk wordt gevormd, dienen geavanceerde technieken zoals draadvonken te worden toegepast om de opneemruimte in de matrijs te vormen. Nadat de opneemruimte is gevormd, wordt doorgaans ten minste een gedeelte van het binnenoppervlak van de opneemruimte van een 10 coating voorzien, teneinde bijvoorbeeld een gewenste kwaliteit van het oppervlak te verkrijgen of de standtijd van de matrijs te verhogen. Het aanbrengen van de coating in de opneemruimte met een binnenomtrek die in hoofdzaak correspondeert met de omtrek van het dwarselement is een moeizaam proces. Daarbij speelt het gegeven dat 15 de matrijs een bepaalde hoogte heeft, onder meer om in staat te zijn het ondersteuningsorgaan te herbergen, een rol, omdat hierdoor op enkele plaatsen van het binnenoppervlak van de opneemruimte als het ware smalle kanalen aanwezig zijn.

Bij een matrijs volgens de onderhavige uitvinding worden de 20 matrijscomponenten afzonderlijk gevormd, waarbij meer conventionele technieken kunnen worden toegepast. Dit hangt samen met het algemene gegeven dat het gemakkelijker is een buitenoppervlak van een willekeurig element nauwkeurig te vormen dan een binnenoppervlak van een ruimte in een willekeurig element. Voor het coaten geldt 25 eveneens dat het gemakkelijker is om een buitenoppervlak van een willekeurig element te coaten dan een binnenoppervlak van een ruimte in een willekeurig element. Het heeft daarom sterk de voorkeur om de matrijscomponenten te coaten alvorens de matrijscomponenten samen te voegen tot de matrijs.

30 Ten derde maakt de toepassing van afzonderlijke matrijs componenten het mogelijk om onderhoud aan de matrijs meer gericht uit te voeren. Het is bijvoorbeeld belangrijk dat gedeeltes van het binnenoppervlak van de opneemruimte die dienen om contact te maken met de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement van een 35 bepaald profiel zijn voorzien. Wanneer dit profiel is afgesleten, dan dient het opnieuw te worden aangebracht, bijvoorbeeld door middel van slijpen, tenzij de mate waarin het profiel is versleten boven een bepaalde bovengrens ligt. Bij een matrijs volgens de onderhavige uitvinding is het mogelijk dat het profiel zich op twee 40 afzonderlijke matrijscomponenten bevindt, die elk kunnen worden uit- 1025080 __ _____-j 5 genomen en kunnen worden bewerkt wanneer het profiel is afgesleten. Het is bij de toepassing van afzonderlijke matrijscomponenten ook mogelijk om alleen componenten te vervangen wanneer dit noodzakelijk is. Volgens de stand van de techniek is het bij het onbruikbaar 5 raken van een gedeelte van het binnenoppervlak van de opneemruimte noodzakelijk om de gehele matrijs te vervangen of te bewerken, hetgeen veel duurder is dan het vervangen of bewerken van enkele matrij scomponenten.

Ten vierde biedt de verdeling van de matrijs in matrijβίο componenten de mogelijkheid om verschillende matrijscomponenten uit verschillende materialen te vervaardigen. Omdat de vereiste oppervlaktekwaliteit van het omtreksvlak van het dwarselement verschillend is voor verschillende gedeeltes van het omtreksvlak, is het niet noodzakelijk dat alle matrijscomponenten dezelfde 15 oppervlaktekwaliteit hebben. Het is daarom ook niet noodzakelijk dat alle matrijscomponenten uit hetzelfde materiaal zijn vervaardigd. Zo kan voor matrijscomponenten waarvan de oppervlaktekwaliteit relatief laag kan zijn een goedkoper materiaal worden toegepast dan voor matrij scomponenten waarvan de oppervlaktekwaliteit relatief hoog 20 dient te zijn. Tevens kan er voor gekozen worden om ten minste een gedeelte van matrijscomponenten die als gevolg van de toepassing tijdens het stansproces het hardst slijten, te voorzien van slijtvast materiaal, dat doorgaans relatief duur is.

25 De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van de hiernavolgende beschrijving van voorkeursuitvoeringsvormen van de uitvinding onder verwijzing naar de tekening, waarin gelijke verwijzingscijfers gelijke of vergelijkbare onderdelen aanduiden, en waarin: 30 figuur 1 een schematisch zijaanzicht is van een continu variabele transmissie met duwband; figuur 2 een vooraanzicht is van een dwarselement voor een duwband voor een continu variabele transmissie; figuur 3 een zijaanzicht is van het in figuur 2 getoonde dwars-35 element; figuur 4 een schematische langsdoorsnede toont van een stansgebied van een stansinrichting alsmede daarin geplaatst basismateriaal; figuur 5a schematisch een eerste stadium van een stansbeweging toont; figuur 5b schematisch een tweede stadium van de stansbeweging 40 toont; figuur 5c schematisch een derde stadium van de stansbeweging 1025050 6 toont; en figuur 5d schematisch een vierde stadium van de stans-beweging toont; figuur 6 een bovenaanzicht is van een gedeelde matrijs volgens een eerste voorkeursuitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding; en 5 figuur 7 een bovenaanzicht van een gedeelde matrijs volgens een tweede voorkeursuitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding.

Figuur 1 toont schematisch een continu variabele transmissie, zoals voor gebruik in een motorvoertuig. De continu variabele 10 transmissie is in zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzings-cijfer 1.

De continu variabele transmissie 1 omvat twee op afzonderlijke poelie-assen 2, 3 aangebrachte poelies 4, 5. Een oneindige, in zichzelf gesloten duwband 6 is om de poelies 4, 5 aangebracht en dient 15 voor het overdragen van koppel tussen de poelie-assen 2, 3. Elk van de poelies 4, 5 omvat twee poelieschijven, waarbij de duwband 6 tussen genoemde twee poelieschijven is gepositioneerd en ingeklemd, zodat met behulp van wrijving een kracht tussen de poelies 4, 5 en de duwband 6 kan worden overgedragen.

. 20 De duwband 6 omvat twee oneindige dragers 7 die doorgaans zijn opgebouwd uit een aantal ringen. Over de gehele lengte van elke drager 7 zijn dwarselementen 10 aangebracht, waarbij de dwars-elementen 10 onderling tegen elkaar aanliggen en in omtreksrichting beweegbaar ten opzichte van de drager 7 zijn. Ter wille van de 25 eenvoud is in figuur 1 slechts een aantal van deze dwarselementen 10 getoond.

Figuren 2 en 3 tonen een dwarselement 10. Een voorvlak van het dwarselement 10 is in zijn algemeenheid aangeduid met het 30 verwijzingscijfer 11, terwijl een achtervlak van het dwarselement 10 in zijn algemeenheid is aangeduid met het verwijzingscijfer 12. In het hiernavolgende wordt zowel het voorvlak 11 als het achtervlak 12 ook wel aangeduid als hoofdlichaamsvlak 11, 12. Tussen de hoofd-lichaamsvlakken 11, 12 strekt zich een omtreksvlak 19 uit.

35 Het dwarselement 10 omvat in hoogterichting achtereenvolgens een basisgedeelte 13, een relatief smal nekgedeelte 14 en een pijlpuntvormig topgedeelte 15. In de duwband 6 bevindt het basisgedeelte 13 zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband 6, terwijl het topgedeelte 15 zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duw-40 band 6 bevindt. Voorts ligt in eeh duwband 6 ten minste een gedeelte 10250yd 7 van het voorvlak 11 van het dwarselement 10 aan tegen ten minste een gedeelte van het achtervlak 12 van een volgend dwarselement 10, terwijl ten minste een gedeelte van het achtervlak 12 van het dwarselement 10 aanligt tegen ten minste een gedeelte van het voorvlak 11 5 van een voorgaand dwarselement 10. Het basisgedeelte 13 van het dwarselement 10 zoals getoond in figuur 2 omvat bij de overgang naar het nekgedeelte 14 twee dragervlakken 16 die dienen voor het ondersteunen van twee dragers 7. Voorts omvat het basisgedeelte 13 twee poelieschijf-contactvlakken 17. Wanneer het dwarselement 10 over de 10 poelie 4, 5 beweegt, dan wordt via genoemde poelieschijf-contactvlakken 17 contact tussen het dwarselement 10 en contactvlakken van de poelieschijven bewerkstelligd. Tussen de poelieschijf-contactvlakken 17 strekt zich een ondervlak 18 uit. Zowel de dragervlakken 16, de poelieschijf-contactvlakken 17 en het ondervlak 18 maken deel 15 uit van het omtreksvlak 19.

Het topgedeelte 15 omvat twee opsluitvlakken 23 die tegenover de dragervlakken 16 zijn gelegen. Wanneer het dwarselement 10 in een duwband 6 is opgenomen, dan wordt een positie van de dragers 7 in radiale richting afgebakend door de dragervlakken 16 enerzijds en 20 door de opsluitvlakken 23 anderzijds. Voorts omvat het topgedeelte 15 twee op elkaar aansluitende bovenvlakken 24, die elk bij een uiteinde aansluiten op een opsluitvlak 23 van het topgedeelte 15. Zowel de opsluitvlakken 23 als de bovenvlakken 24 maken deel uit van het omtreksvlak 19.

25

Hieronder zal een op zich bekend stansproces van het dwarselement 10 worden uitgelegd aan de hand van figuren 4 en 5a tot en met 5d.

30 in figuur 4 zijn een stansgebied van een stansinrichting 60 en daarin geplaatst plaatvormig basismateriaal 50 schematisch weergegeven. De stansinrichting 60 omvat een snijorgaan 30 dat is bestemd voor het uitsnijden van het dwarselement 10 uit het basismateriaal 50. Het snijorgaan 30 is opgenomen in een geleidingsruimte 35 36 in een geleidingsplaat 35 die als belangrijke functie het geleiden van het snijorgaan 30 tijdens een stansbeweging heeft. In het verlengde van het snijorgaan 30 is een ondersteuningsorgaan 40 opgesteld, dat is bestemd om het dwarselement 10 tijdens het stansproces te ondersteunen. De omtrek van zowel het snijorgaan 30 als 40 het ondersteuningsorgaan 40 correspondeert in hoofdzaak met de ·ιθ?.·.·η33 o omtrek van het te stansen dwarselement 10. Het ondersteuningsorgaan 40 is opgenomen in een opneemruimte 46 in een matrijs 45 die als belangrijke functies het tijdens een stansbeweging vormen van het dwarselement 10 en het tijdens een stansbeweging geleiden van zowel 5 het snij orgaan 30, het ondersteuningsorgaan 40 en het dwarselement 10 heeft. De binnenomtrek van de opneemruimte 46 correspondeert in hoofdzaak met de omtrek van zowel het snijorgaan 30, het ondersteuningsorgaan 40 en het dwarselement 10. Het basismateriaal 50 bevindt zich initieel tussen het snijorgaan 30 en de geleidingsplaat 10 35 enerzijds en het ondersteuningsorgaan 40 en de matrijs 45 ander zijds. Een gedeelte van het basismateriaal 50 dat zich tussen het snij orgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40 bevindt, is bestemd om het dwarselement 10 te vormen, en zal hiernavolgend worden aangeduid als stansgedeelte 51. Een ander gedeelte van het basismateriaal 50, 15 namelijk het gedeelte dat zich tussen de geleidingsplaat 35 en de matrijs 45 bevindt, zal hiernavolgend worden aangeduid als rest-gedeelte 52.

De matrijs 45 omvat een matrijsvlak 47 dat als belangrijke functie het ondersteunen van het restgedeelte 52 van het basis-2 0 materiaal 50 heeft. Een binnenoppervlak 48 van de opneemruimte 46 van de matrijs 45 sluit aan op het matrijsvlak 47.

In het hiernavolgende wordt een stansbeweging beschreven aan de hand van figuren 5a tot en met 5d, waarin schematisch verschillende 25 opeenvolgende stadia van de stansbeweging zijn weergegeven.

In een eerste stadium of beginstadium, zoals schematisch getoond in figuur 5a, is het stansgedeelte 51 van het basismateriaal 50 ingeklemd tussen het snijorgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40, terwijl het restgedeelte 52 is ingeklemd tussen een geleidings-30 vlak 37 van de geleidingsplaat 35 en het matrijsvlak 47 van de matrijs 45. Hierbij werken de klemkrachten in een richting in hoofdzaak haaks op het geleidingsvlak 37 en het matrijsvlak 47.

In een tweede stadium, zoals schematisch getoond in figuur 5b, wordt het geheel van snijorgaan 30, stansgedeelte 51 en onder-35 steuningsorgaan 40 onder druk bewogen ten opzichte van de geleidingsplaat 35, het restgedeelte 52 en de matrijs 45. Hierbij is de bewegingsrichting in hoofdzaak haaks op het geleidingsvlak 37 en het matrijsvlak 47. Als gevolg van de onderlinge beweging dringt het snijorgaan 30 in het basismateriaal 50 en wordt het stansgedeelte 51 40 in de opneemruimte 46 van de matrijs 45 gedrukt.

102508ÜI

9

In een derde stadium, zoals schematisch getoond in figuur 5c, raakt als gevolg van de voortgaande onderlinge beweging het stans-gedeelte 51 helemaal los van het restgedeelte 52. Hierna worden de geleidingsplaat 35 en het snijorgaan 30 ten opzichte van de matrijs 5 45 en het ondersteuningsorgaan 40 teruggetrokken, waarbij het rest gedeelte 52 contact blijft houden met het geleidingsvlak 37 en het contact met het matrijsvlak 47 verliest.

In een vierde stadium, zoals schematisch getoond in figuur 5d, is als gevolg van de onderlinge beweging van de geleidingsplaat 35 10 en het snijorgaan 30 enerzijds en de matrijs 45 en het ondersteuningsorgaan 40 anderzijds het restgedeelte 52 op afstand van het matrijsvlak 47 komen te liggen. Op deze positie kan het restgedeelte 52 worden uitgenomen. Voorts is het ondersteuningsorgaan 40 zodanig i ten opzichte van de matrijs 45 bewogen, dat het stansgedeelte 51 j 15 boven het niveau van het matrijsvlak 47 is komen te liggen, zodat het stansgedeelte 51 eveneens kan worden uitgenomen. Hierbij kan het ondersteuningsorgaan 40 als uitstootorgaan fungeren.

Figuur 6 toont een bovenaanzicht van een matrijs 70 volgens een 20 eerste voorkeursuitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding.

Omwille van de duidelijkheid zal deze matrijs 70 in het hiernavolgende worden aangeduid als eerste matrijs 70.

In overeenstemming met bekende matrijzen 45 heeft de eerste matrijs 70 een opneemruimte 46 voor het opnemen van o.a. het te 25 stansen dwarselement 10. Volgens een belangrijk aspect van de onderhavige uitvinding omvat de eerste matrijs 70 een aantal afzonderlijke matrijscomponenten voor het omkaderen van de opneemruimte 46.

De eerste matrijs 70 omvat drie matrijscomponenten. Voor elk 30 van deze drie matrijscomponenten geldt, dat een gedeelte van het oppervlak ervan deel uitmaakt van het binnenoppervlak 48 van de opneemruimte 46. Genoemd gedeelte van het oppervlak van de matrijscomponent zal in het hiernavolgende aangeduid worden als dwarselement -contactvlak.

35 Een eerste matrijscomponent zal in het hiernavolgende worden aangeduid als hoofdcomponent 71. Het dwarselement-contactvlak van deze hoofdcomponent 71 is bestemd om tijdens het stansproces contact te maken met de beide poelieschijf-contactvlakken 17, het ondervlak 18 en de beide bovenvlakken 24 van het te stansen dwarselement 10.

i 0 2 5 ü ύ &

J.U

Een tweede matrijscomponent en een derde matrijscomponent zullen in het hiernavolgende worden aangeduid als middencomponenten, waarbij één van de middencomponenten in figuur 6 is aangeduid door verwijzingscijfer 72a, terwijl een ander van de middencomponenten in 5 figuur 6 is aangeduid door verwijzingscijfer 72b. Het dwarselement-contactvlak van de middencomponenten 72a, 72b is bestemd om tijdens het stansproces contact te maken met een gedeelte van het omtreks-vlak 19 van het te stansen dwarselement 10, dat zich aan één kant van het te stansen dwarselement 10 uitstrekt van een overgangsvlak 10 tussen een poelieschijf-contactvlak 17 en een dragervlak 16 tot een overgangsvlak tussen een opsluitvlak 23 en een bovenvlak 24.

Zowel de tweede matrijscomponent 72a als de derde matrijscomponent 72b is voorzien van een nok (niet getoond) of dergelijke om te voorkomen dat de matrijscomponent 72a, 72b kan meebewegen met 15 een dwarselement 10 dat uit de opneemruimte 46 wordt gestoten door het ondersteuningsorgaan 40. Hiertoe is de nok zodanig gepositioneerd dat deze aanligt tegen een ondervlak van de hoofdcomponent 71 en niet in staat is daar voorbij te bewegen, waarbij met "ondervlak" een vlak wordt bedoeld dat tegenover het matrijsvlak 20 47 is gelegen.

Nadat tijdens een stansproces een ruwe versie van het dwarselement 10 uit het basismateriaal 50 is gesneden, wordt het omtreks-vlak 19 van het dwarselement 10 met name door het binnenoppervlak 48 . 25 van de eerste matrijs 70 gevormd. Voor een goed functioneren van het dwarselement 10 in een duwband 6 voor een continu variabele transmissie 1 is het van belang dat gedeeltes van het omtreksvlak 19 die in contact kunnen komen met de dragers 7 van de duwband 6 een goede oppervlaktekwaliteit hebben. Deze gedeeltes omvatten de 30 dragervlakken 16 en de opsluitvlakken 23. Wanneer de oppervlaktekwaliteit van deze gedeeltes onvoldoende zou zijn, dan zou een beschadiging van een drager 7 kunnen optreden, hetgeen uiteindelijk tot breuk van de drager 7 kan leiden. Volledigheidshalve wordt opgemerkt, dat de oppervlaktekwaliteit is gerelateerd aan de ruwheid 35 van het desbetreffende oppervlak. In het algemeen geldt, dat hoe ruwer het oppervlak, hoe lager de oppervlaktekwaliteit.

In de eerste matrijs 70 zijn de middencomponenten 72a, 72b bestemd om contact te maken met de in de voorgaande alinea genoemde gedeeltes van het omtreksvlak 19 van het dwarselement 10.

40 Dientengevolge worden aan de oppervlaktekwaliteit van het dwars- 1025080 - I - _it 11 element-contactvlak van de middencomponenten 72a, 72b hogere eisen gesteld dan aan de oppervlaktekwaliteit van het dwarselement -contactvlak van de hoofdcomponent 71. Tevens is het belangrijk dat het optreden van adhesieverschijnselen tussen het dwarselement-5 contactvlak van de middencomponenten 72a, 72b en het omtreksvlak 19 van het dwarselement 10 tijdens het stansproces zo veel mogelijk beperkt wordt. Aan deze randvoorwaarden kan bijvoorbeeld worden voldaan door een hoogwaardig materiaal te kiezen voor de middencomponenten 72a, 72b, zoals hardmetaal. Een ander materiaal dat 10 voldoet is snelstaal (high-speed steel). Het is tevens mogelijk dat tenminste het dwarselement-contactvlak van de middencomponenten 72a, 72b is voorzien van een coating. Wanneer de middencomponenten 72a, 72b snelstaal omvatten, dan heeft het zelfs de voorkeur om op de middencomponenten 72a, 72b een coating aan te brengen. Gezien het 15 feit dat aan het dwarselement-contactvlak van de hoofdcomponent 71 minder hoge eisen worden gesteld, kan voor deze component 71 een goedkoper materiaal worden gekozen, en kan de coating van het dwarselement -contactvlak achterwege blijven.

Uit de voorgaande alinea blijkt, dat een uitvoeringsvorm van de 20 eerste matrijs 70 volgens de onderhavige uitvinding mogelijk is, waarbij de hoofdcomponent 71 snelstaal omvat. Daarbij kan het dwars- element-contactvlak van de hoofdcomponent 71 zijn voorzien van een coating, bijvoorbeeld de in de praktijk bekende coating titaan-nitraat (TiN). De middencomponenten 72a, 72b kunnen hetzelfde 25 materiaal als de hoofdcomponent 71 omvatten, maar kunnen bijvoorbeeld ook hardmetaal omvatten. Met het oog op de snij-kwaliteit is de laatstgenoemde optie voordelig.

In de praktijk kan het voorkomen dat onder invloed van de tijdens het stansproces heersende krachten materiaal van het te 30 vormen dwarselement 10 in een naad tussen twee aangrenzende matrijscomponenten 71, 72a, 72b, wordt gestuwd, waardoor een uitstulping op het omtreksvlak 19 van het dwarselement 10 ontstaat. Bij voorkeur wordt daarom de verdeling van de eerste matrijs 70 in componenten en de bijbehorende positionering van de naden tussen de componenten 35 zodanig gekozen, dat de eventuele uitstulpingen niet op de drager-vlakken 16, de poelieschijf-contactvlakken 17 of de opsluitvlakken 23 kunnen ontstaan, maar alleen op zich tussen een dragervlak 16 en éen poelieschijf-contactvlak 17 uitstrekkende overgangsvlakken, en op gedeeltes van het omtreksvlak 19 die zowel een zich tussen een 40 opsluitvlak 23 en een bovenvlak 24 uitstrekkend overgangsvlak als 102 50 3a 12 een bovenvlak 24 omvatten. Op deze wijze wordt beschadiging van de dragervlakken 16, de poelieschijf-contactvlakken 17 en de opsluit-vlakken 23 als gevolg van het verwijderen van de uitstulpingen gedurende een nabewerking van het dwarselement 10 voorkomen.

5

Figuur 7 toont een bovenaanzicht van een matrijs 80 volgens een tweede voorkeursuitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding. Omwille van de duidelijkheid zal deze matrijs 80 in het hiernavolgende worden aangeduid als tweede matrijs 80.

10 Ten opzichte van de eerste matrijs 70 omvat de tweede matrijs 80 twee extra matrijscomponenten, die hiernavolgend zullen worden aangeduid als zijbasiscomponenten. Eén van de zijbasiscomponenten is in figuur 7 aangeduid door verwijzingscijfer 73a, terwijl een ander van de zijbasiscomponenten in figuur 7 is aangeduid door 15 verwijzingscijfer 73b. Het dwarselement-contactvlak van elk van deze zijbasiscomponenten 73a, 73b is bestemd om tijdens het stansproces contact te maken met een poelieschijf-contactvlak 17 van het te vormen dwarselement 10.

Bij voorkeur strekken de naden die zich tussen de hoofd-20 component 71 en de zijbasiscomponenten 73a, 73b bevinden, zich uit vanaf gedeeltes van het binnenoppervlak 48 van de opneemruimte 46 van de tweede matrijs 80 die bestemd zijn om tijdens het stansproces contact te maken met gedeeltes van het omtreksvlak 19 van het dwarselement 10 die zowel een overgangsvlak tussen een poelieschijf-25 contactvlak 17 en het ondervlak 18 als een gedeelte van genoemd ondervlak 18 omvatten. Op deze manier wordt bewerkstelligd dat eventuele uitstulpingen alleen op een dergelijk overgangsvlak of het ondervlak 18 ontstaan, en niet op een poelieschi jf-contactvlak 17, zodat beschadiging van het poelieschijf-contactvlak 17 als gevolg 30 van het verwijderen van de uitstulpingen gedurende een nabewerking van het dwarselement 10 wordt voorkomen.

Zoals reeds eerder is opgemerkt, zijn tijdens de toepassing van een dwarselement 10 in een duwband 6 van een continu variabele transmissie l de poelieschijf-contactvlakken 17 van het dwarselement 35 10 in contact met poelieschijven van een poelie 4, 5. Met het oog op het verkrijgen van een goed contact zijn de poelieschijf-contact-vlakken 17 doorgaans van een profiel met minuscule uitstulpingen voorzien. Dit profiel wordt op de poelieschijf-contactvlakken 17 gevormd wanneer het dwarselement 10 tijdens het stansproces in de 40 opneemruimte 46 van de matrijs 70, 80 wordt bewogen. Het zal 1025080 13 duidelijk zijn dat gedeeltes van het binnenoppervlak 48 van de op-neemruimte 46 van de matrijs 70, 80 die bestemd zijn om tijdens het stansproces met de poelieschijf-contactvlakken 17 contact te maken, van een profiel zijn voorzien om het gewenste profiel op de poelie-5 schijf-contactvlakken 17 te realiseren. Wanneer het profiel op het binnenoppervlak 48 van de opneemruimte 46 is versleten, dan kan het opnieuw worden aangebracht, bijvoorbeeld door middel van slijpen, tenzij de mate waarin het profiel is versleten boven een bepaalde bovengrens ligt. In de tweede matrijs 80 bevindt het profiel zich op 10 de dwarselement-contactvlakken van de zijbasiscomponenten 73a, 73b. Het is daarom heel gemakkelijk om bij slijtage het profiel opnieuw aan te brengen. De enige stappen die daarbij dienen te worden genomen, zijn het verwijderen van de zijbasisconqponenten 73a, 73b, het opnieuw aanbrengen van het profiel in de dwarselement-contact-15 vlakken van deze componenten 73a, 73b, en het terugplaatsen van deze componenten 73a, 73b. Eventueel kan de versleten set zijbasiscomponenten 73a, 73b worden vervangen door een nieuwe set zijbasiscomponenten 73a, 73b, zodat de tweede matrijs 80 direct weer klaar is om te worden toegepast ten behoeve van een stansproces. Wanneer 20 voor de zijbasiscomponenten 73a, 73b een duurzaam materiaal als hardmetaal wordt toegepast, dan zal het slijtageproces van het profiel op de dwarselement-contactvlakken van de zijbasiscomponenten 73a, 73b langzamer verlopen.

25 Het zal voor een deskundige duidelijk zijn dat de ontvang van de onderhavige uitvinding niet is beperkt tot de in het voorgaande besproken voorbeelden, maar dat diverse wijzigingen en modificaties daarvan mogelijk zijn zonder af te wijken van de omvang van de uitvinding zoals gedefinieerd in de aangehechte conclusies.

30 Binnen het kader van de onderhavige uitvinding kan de matrijs 70, 80 op een willekeurige manier in verschillende matrijs-componenten 71, 72a, 72b, 73a, 73b zijn verdeeld, waarbij het aantal matrijscomponenten vrij kan worden gekozen. Het is belangrijk dat de matrijscomponenten 71, 72a, 72b, 73a, 73b in staat zijn om 35 gezamenlijk een opneemruimte 46 te omkaderen, waarbij dwarselement-contactvlakken van de matrijscomponenten 71, 72a, 72b, 73a, 73b zodanig zijn vormgegeven dat een binnenomtrek van de opneemruimte 46 in hoofdzaak correspondeert met een omtrek van het te vormen dwars-element 10.

1025080 14

In vergelijking met het vervaardigingsproces van een ongedeelde matrijs 45 is het vervaardigingsproces van de matrijs 70, 80 met de matrijsconqponenten 71, 72a, 72b, 73a, 73b eenvoudig, omdat in het laatste geval de relatief complexe vorm van de opneemruimte 46 5 verkregen wordt door simpelweg de matrijscomponenten 71, 72a, 72b, 73a, 73b op de juiste wijze ten opzichte van elkaar te positioneren.

1025080

Claims (12)

1. Gedeelde matrijs (70, 80) die is bestemd om te worden toegepast ten behoeve van een stansproces waarin een dwarselement (10), dat bestemd is om deel uit te maken van een duwband (6) voor een continu variabele transmissie (1), uit basismateriaal (50) wordt gestanst, 5 waarbij genoemde matrijs (70, 80) een opneemruimte (46) omvat, die dient voor het opnemen van het dwarselement (10) tijdens het stansproces, en waarbij genoemde matrijs (70, 80) ten minste twee afzonderlijke matrijscomponenten (71, 72a, 72b, 73a, 73b) omvat voor het omkaderen van de opneemruimte (46) . 10

2. Gedeelde matrijs (70) volgens conclusie 1, geschikt om te worden toegepast ten behoeve van een stansproces voor het vormen van een dwarselement (10) met twee hoofdlichaamsvlakken (11, 12) en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken (11, 12) uitstrekkend omtreks- 15 vlak (19), waarbij het omtreksvlak (19) de volgende vlakken omvat: - twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen drager-vlakken (16) voor het ondersteunen van dragers (7) van de duwband (6); - twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen poelie-20 schijf-contactvlakken (17) voor het tot stand brengen van contact tussen het dwarselement (10) en poelieschijven van een poelie (4, 5) van een continu variabele transmissie (1); en - een ondervlak (18); waarbij de poelieschijf-contactvlakken (17) enerzijds aansluiten op 25 de dragervlakken (16) en anderzijds aansluiten op het ondervlak (18); - twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen opsluit-vlakken (23) voor het in radiale richting van de duwband (6) afbakenen van een positie van dragers (7) van de duwband (6); en 30. twee op elkaar aansluitende bovenvlakken (24), die elk bij een uiteinde aansluiten op een opsluitvlak (23); waarbij genoemde matrijs (70, 80) drie matrijscomponenten (71, 72a, 72b) omvat, waarbij een eerste matrijscomponent (71) een dwarselement -contactvlak omvat dat bestemd is om tijdens het stansproces 35 contact te maken met de poelieschijf-contactvlakken (17), het ondervlak (18) en de bovenvlakken (24) van het dwarselement (10), en waarbij een tweede matrijscomponent (72a) en een derde matrijs- 1025080 component (72b) een dwarselement-contactvlak omvatten dat bestemd is om tijdens het stansproces contact te maken met een dragervlak (16) en een opsluitvlak (23) van het dwarselement (10).

3. Gedeelde matrijs (70) volgens conclusie 2, waarbij een basis zijde van het dwarselement-contactvlak van de tweede matrijs-cotnponent (72a) respectievelijk de derde matrijscomponent (72b) aansluit op het dwarselement-contactvlak van de eerste matrijscomponent (71) op een plaats die bestemd is om tijdens het stansproces in 10 contact te komen met een overgangsvlak van het dwarselement (10) dat zich tussen een dragervlak (16) en een poelieschijf-contactvlak (17) bevindt.

4. Gedeelde matrijs (70) volgens conclusie 2 of 3, waarbij een 15 topzijde van het dwarselement-contactvlak van de tweede matrijs- component (72a) respectievelijk de derde matrijscomponent (72b) aansluit op het dwarselement-contactvlak van de eerste matrijscomponent (71) op een plaats die bestemd is om tijdens het stansproces in contact te komen met een gedeelte van het omtreksvlak (19) van het 20 dwarselement (10) dat zowel een bovenvlak (24) als een overgangsvlak tussen een opsluitvlak (23) en een bovenvlak (24) omvat.

5. Gedeelde matrijs volgens conclusie 1, geschikt om te worden toegepast ten behoeve van een stansproces voor het vormen van een 25 dwarselement (10) met twee hoofdlichaamsvlakken (11, 12) en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken (11, 12) uitstrekkend omtreksvlak (19), waarbij het omtreksvlak (19) de volgende vlakken omvat: - twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen drager-vlakken (16) voor het ondersteunen van dragers (7) van de duwband 30 (6); - twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen poelie-schijf-contactvlakken (17) voor het tot stand brengen van contact tussen het dwarselement (10) en poelieschijven van een poelie (4, 5) van een continu variabele transmissie (1) ,- en 35. een ondervlak (18); waarbij de poelieschijf-contactvlakken (17) enerzijds aansluiten op de dragervlakken (16) en anderzijds aansluiten op het ondervlak (18); 10 2 5 0 8 ö - twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen opsluit-vlakken (23) voor het in radiale richting van de duwband (6) afbakenen van een positie van dragers (7) van de duwband (6); en - twee op elkaar aansluitende bovenvlakken (24), die elk bij een 5 uiteinde aansluiten op een opsluitvlak (23); waarbij genoemde matrijs (70, 80) vijf matrijscomponenten (71, 72a, 72b, 73a, 73b) omvat, waarbij een eerste matrijscomponent (71) een dwarselement-contactvlak omvat dat bestemd is om tijdens het stans-proces contact te maken met het ondervlak (18) en de bovenvlakken 10 (24) van het dwarselement (10), waarbij een tweede matrijscomponent (72a) en een derde matrijscomponent (72b) een dwarselement-contactvlak omvatten dat bestemd is om tijdens het stansproces contact te maken met een dragervlak (16) en een opsluitvlak (23) van het dwarselement (10), en waarbij een vierde matrijscomponent (73a) en een 15 vijfde matrijscomponent (73b) een dwarselement-contactvlak omvatten dat bestemd is om tijdens het stansproces contact te maken met een poelieschijf-contactvlak (17) van het dwarselement (10).

6. Gedeelde matrijs (80) volgens conclusie 5, waarbij het dwars-20 element-contactvlak van de vierde matrijscomponent (73a) respectievelijk de vijfde matrijscomponent (73b) aansluit op het dwarselement-contactvlak van de eerste matrijscomponent (71) op een plaats die bestemd is om tijdens het stansproces in contact te komen met een gedeelte van het omtreksvlak (19) van het dwarselement (10) 25 dat zowel het ondervlak (18) als een overgangsvlak tussen een poelieschijf-contactvlak (17) en het ondervlak (18) omvat.

7. Gedeelde matrijs (80) volgens conclusie 5 of 6, waarbij de dwarselement-contactvlakken van de tweede matrijscomponent (72a) 30 respectievelijk de derde matrijscomponent (72b) en de vierde matrijscomponent (73a) respectievelijk de vijfde matrijscomponent (73b) op elkaar aansluiten op een plaats die bestemd is om tijdens het stansproces in contact te komen met een overgangsvlak van het dwarselement (10) dat zich tussen een dragervlak (16) en een poelie-35 schijf-contactvlak (17) bevindt.

8. Gedeelde matrijs (80) volgens een willekeurige der conclusies 5-7, waarbij het dwarselement-contactvlak van de tweede matrijscomponent (72a) respectievelijk de derde matrijscomponent (72b) 40 aansluit op het dwarselement-contactvlak van de eerste matrijs- 1 0 2 S C ΰ l component (71) op een plaats die bestemd is om tijdens het stans-proces in contact te komen met een gedeelte van het omtreksvlak (19) van het dwarselement (10) dat zowel een bovenvlak (24) als een overgangsvlak tussen een opsluitvlak (23) en het bovenvlak (24) 5 omvat.

9. Gedeelde matrijs (70, 80) volgens een willekeurige der conclusies 1-8, waarbij ten minste één matrijscomponent (71, 72a, 72b, 73a, 73b) een ander materiaal omvat dan een andere matrijs- 10 component (71, 72a, 72b, 73a, 73b).

10. Gedeelde matrijs (70, 80) volgens conclusie 9, voor zover afhankelijk van conclusies 2-8, waarbij de eerste matrijscomponent (71) snelstaal omvat, terwijl de tweede matrijscomponent (72a) en de 15 derde matrijscomponent (72b) hardmetaal omvatten.

11. Stansinrichting, voorzien van ten minste één gedeelde matrijs (70, 80) volgens een willekeurige der conclusies 1-10.

12. Werkwijze voor het uit basismateriaal (50) vormen van een dwarselement (10) dat is bestemd om deel uit te maken van een duw-band (6) voor een continu variabele transmissie (1), waarbij het te vormen dwarselement (10) wordt ingebracht in een opneemruimte (46) in een matrijs (70, 80) volgens een willekeurige der conclusies 1-25 10. 1025080