KR950001875B1 - 반도체 레이저 장치 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

반도체 레이저 장치
제1도는 본 발명의 반도체 레이저 장치의 요부를 도시하는 단면도.
제2a도는 제1, 제2의 코우팅층의 형상을 도시하는 설명도.
제2b도는 레이저광의 입사각 α과 투과율의 관계를 도시하는 데이타도.
제3a도, 3b도, 3c도는 제1, 제2의 코우팅층의 두께를 변화하였을때의 데이타도.
제4도는 반도체 레이저 장치의 선행기술을 도시하는 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
21 : 레이저 다이오드 22 : 반도체 기판
23a : 광검출부 24 : 프리즘
24a : 제1의 반투과 반사면 25 : 제2의 반투과 반사면(하프 밀러)
26 : 접착제 27 : 제1의 코우팅층
28 : 제2의 코우팅층
본 발명은, 광 디스크에 대해 레이저광을 조사하여 광디스크에 기록되어 있는 정보를 독출하는 광학장치에 사용되는 반도체 레이저 장치에 관한 것이다.
본 발명의 반도체 레이저 장치는, 반도체 기판면에 레이저 발광용의 다이오드와, 광기록 매체에 반사된 되돌아오는 광을 수광하기 위한 광검출기와, 최소한 2개의 반투과 반사면을 구비하고 있는 프리즘을 탑재하여, 상기 프리즘과 상기 반도체 기판의 경계면에서 입사각이 큰 미광에 대해서는 전반사의 조건을 만족하는 2층의 코우팅층을 부가한 것이다.
그때문에, 광검출기에는 광기록 매체로부터의 되돌아오는 광만이 유효하게 조사되게 되어, 광학헤드의 트랙킹 제어 또는 포오커스 제어등이 향상되게 된다.
광학식 기록 재생장치등에서 사용되고 있는 광학헤드에는, 예를들면 광디스크등에 레이저광을 조사하여, 그 반사광에서 기록정보를 독출하는 것이 행해지고 있다.
이와 같은 광학헤드는 집속된 레이저광을 고밀도로 기록되어 있는 광디스크의 좁은 기록트랙에 정확하게 조사하기 위해, 광디스크로부터의 되돌아오는 광을 이용하여 트랙킹 제어, 및 포오커스 제어를 거는 것이 불가결하여, 레이저 발광원과 함께 비임 스프리터, 광검출기등의 각종 광학부재를 광축에 따라 정밀하게 배치할 필요가 있다.
그때문에 일반적으로 광학헤드는 장치가 대형화함과 동시에, 그 제조작업 및 조정작업이 번잡해져, 코스트를 올리는 문제가 있었다.
거기에서, 본 출원인은 앞서 반도체를 기초로 한 일체형의 반도체 레이저 장치(일본국 특허출원 소화 81-38576호)를 제안하였다.
제4도는 이 반도체 레이저 장치의 개선요를 도시하는 측면도로, 반도체 레이저 장치(10)에는 레이저 다이오드(11)가 반도체 기판(12)위에 형성되어 있다.
(13), (14), (15), (16)은 상기한 반도체 기판(12)의 표면에 형성되어 있는 광검출부를 도시하고, 이들은 잘 알려진 바와같이 분할된 복수개의 광전면을 반도체 기판(12)위에 형성되므로서, 트랙킹 에러, 포오커스 에러, RF신호등을 검출하기 위해 사용된다.
(17)은 상기 반도체 기판(12)위에 배치되어 있는 단면대 형상이 적은 프리즘이다.
상기한 반도체 레이저 장치는 레이저 다이오드(11)로부터 출력된 광(20a)은, 먼저, 프리즘(17)의 반투과 반사면(17a)에 의해 화살표 방향 F으로 반사되어, 대물렌즈(18)를 거쳐서 광디스크면(19)에 집속되도록 조사되어 있으며, 광 디스크면(19)으로부터의 반사광(R)은 동일한 광로를 거쳐서 재차 반투과 반사면(17a)에 입사하여, 프리즘(17)을 거쳐서 제1의 광검출부(13)에 조사됨과 동시에, 그 일부는 프리즘(17)의 저면(17b)에 형성되어 있는 반투과 반사면, 및 상면(17c)이 밀러면에 의해 반사되어, 제2의 광검출부(14)에 입사된다.
또한, 제2의 광검출부(14)에 입사하는 광의 일부는, 또다시 프리즘(17)의 저면(17b) 및 상면(17c)에 의해 반사되고 제3의 광검출부(15)에도 입사된다.
또한, 광검출부(16)는 레이저 다이오드(11)의 모니터용으로서 사용하도록 되어 있다.
이와 같은 반도체 레이저 장치(10)는 발광원인 레이저 다이오드(11)와, 각 광검출부(13), (14), (15) 및 프리즘(7)등이 동일한 반도체 기판위에 형성되어 있기 때문에, 광학헤드의 구조가 소형 또한 간단화되어, 제조코스트를 대폭적으로 저감할 수가 있으나, 프리즘(7)의 반투과 반사면(17a)에서 입사되는 미광 즉, 2점쇄선으로 도시하는 바와같은 레이저 다이오드(11)로부터의 직사광이 상기한 광검출부(13), (14), (15)등에 입사하여, 검출 감도가 저하함과 동시에, 검출 오차가 증대하는 문제가 있다.
또한, 이 미광을 제거하기 위해서는 광학계가 복잡하게 되어, 또다시 별도의 광학부품이 필요해지는 문제가 있다.
본 발명은, 이와같은 문제점을 해소하기 위해서 행해진 것으로, 반도체 레이저 장치에 대해서 격별한 광학소자를 부가하는 일이 없고, 발광원으로부터의 미광을 저감시키도록 한 반도체 레이저 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 반도체 레이저 장치에는, 반도체 기판위에 형성되어 있는 광검출부와, 이 광검출부의 상면에 배치되는 프리즘의 경계면에 2층의 코우팅층을 설치해, 이 코우팅층에 의해 레이저 발광원으로부터의 미광이 광검출부에 입사되는 것을 방지한다.
레이저 발광원에서 프리즘의 반투과 반사면에 입사하는 광의 각도와, 광디스크의 반사면으로부터의 되돌아오는 광이 프리즘의 반투과 반사면에 입사하는 각도에서 20 내지 40의 차가 형성되어 있다.
이 입사각이 다른 광은 각각 프리즘의 저면에 형성되어 있는 반투과 반사면을 통과하여 광검출기에 입사되나, 프리즘의 저면과 반도체 기판의 경계면에, 굴절율이 다른 2층의 막(SiO2,Si3N4)이 적당한 두께로 코우팅되어 있으므로, 이 코우팅층에 의해 되돌아오는 광의 투과율은 크고, 입사각이 큰 미광은 거의 전반사시킬 수가 있게 된다.
제1도는, 본 발명의 반도체 레이저 장치의 요부를 확대하여 도시한 사시도로, (21)은 상기한 반도체 기판(22)에 납땜(21A)을 거쳐서 고정되어 있는 레이저 다이오드, (23a), (23b), (23c)는 반도체 기판(22)에 형성되어 있는 광검출부, (24)는 두께 0.3mm쯤의 프리즘이다.
프리즘(24)의 저면에는 멀티코우팅에 의한 하프 밀러(25)가 형성되어 있다. 그래서 접착제(26)에 의해 반도체 기판(22)의 상면에 형성되어 있는 SiO2(산화 실리콘)로 이루어지는 제1의 코우팅층(27)과, Si3N4(실리콘 나이트 라이트)로 이루어지는 제2의 코우팅층(28)을 거쳐서 접착되어 있다.
이 실시예에서는 접착제(26)의 굴절율 n은 프리즘(24)의 굴절율과 거의 같은 값, 예를들면 1.56의 것이 사용되고 있으며, 제1의 코우팅층(27)의 굴절율 n1, 및 제2의 코우팅층(28)의 굴절율 n2은 각각 1.45, 및 2.0에 설정되어 있다.
또한, 제1의 코우팅층(27)의 막 두께는 d1=370Å 제2의 코우팅층(28)의 막 두께는 d2=1128Å로 되어 있다.
또한, 이 제1, 제2의 코우팅층(27), (28)은 반도체 기판(22)위에 광검출부(23a), (23b), (23c)등을 형성한후 진공증착등에 의해 소정의 막 두께로 한 것이다.
본 발명의 반도체 레이저 장치의 요부는 상술한 바와같이 구성이 되어 있으므로, 레이저 다이오드(21)에서 출사된 레이저광(30a)은, 프리즘(24)의 전면에 있는 반투과 반사면(24a)에 의해 반사되어, 광디스크등에 레이저광(30f)으로서 조사된다. 그래서, 그 되돌아오는 광(3r)은 동일한 광로를 통해, 약 40±5°의 각도로 또다시 반투과 반사면(24a)에서 프리즘(24)내에 입사되어, 저면의 하프 밀러(25)에서 일부는 반사되나, 또다시 접착제(26), 제1, 제2의 코우팅층(27), (28)을 통과하여 광검출부(23)에 조사된다.
한편, 레이저 다이오드(21)에서 출력된 레이저광(30a)의 일부분은 프리즘(24)의 반투과 반사면(24a)을 통과하여 프리즘내에 2점 쇄선으로 도시하는 바와같이 미광(30S)으로서 입사되나, 이때의 입사각은 거의 66 내지 82로 되어 있다.
그런데, 본 발명의 반도체 레이저 장치에서는 후술하는 바와같이 제1, 제2의 코우팅층(27), (28)을 반도체 기판(22)과 프리즘(24)의 경계에 형성하고 있기 때문에, 이 미광(30S)은 제1 및 제2의 코우팅층(27), (28)에 의해 거의 전반사되어, 광검출부(23a), (23b), (23c)에 조사되지 않도록 할 수가 있다.
제2a도, 2b도는 2층의 코우팅층(27), (28)을 각각 굴절율이 1.45, 두께 3720Å의 SiO2와, 굴절율이 2.0 두께 1120Å의 Si3N4로 이루어지는 막 두께로 형성된 때의 레이저광(7800Å)의 투과상대와, 입사각α에 대한 투과율이 데이타를 도시한 것으로, 횡축에는 입사각 α, 종축에는 투과율이 도시되어 있다.
이 도면에서 이해할 수 있는 바와같이 본 발명의 실시예에서 채용하는 2층의 코우팅층(27), (28)에 의하면 입사각이 40°±5°로 되어 있는 레이저광, 즉, 광디스크로부터의 되돌아오는 광에 대해서는 90%이상의 투과율을 도시하고 있는데 대해서, 입사각이 66이상의 미광에 대해서는 투과율이 수% 이하로 저감되어, 전반사에 가까운 특성을 도시하고 있다.
따라서, 광검출부(23a)는 되돌아오는 광에 대해서는 큰 감도로 반응하나, 미광에 대해서는 거의 반응치 않고, 광디스크의 반사광의 정보를 높은 감도로 검출할 수가 있게 된다.
또한, 이 데이타는 레이저광의 편광면이 지면 방향인 말하자면 편광의 것에 대해서 기재되어 있으나, 1점쇄선으로 도시하는 바와같이 P편광의 레이저광과의 평균 데이타에 의하는 경우도 입사각 α에 의한 투과율의 변화는 동일한 경향을 도시하고 있다.
덧붙여서, 쇄선으로 도시한 2점 쇄선의 특성은 제1의 코우팅층(27)이 형성되어 있지 아니한때의 단층의 데이타(d1=0)를 도시하고, 이 경우는 입사각 α이 약 70까지 투과율의 변화는 거의 없고, 되돌아오는 광에 대한 선별기능은 거의 기대할 수 없다.
제3a도, 3b도, 3c도는 제1 및 제2의 코우팅층(27), (28)의 두께 d1, d2를 변화시켰을 때의 입사각 α에 의존하는 투과율의 특성을 도시한 것이다.
이들의 실시예에서는 제2b도의 경우보다도, 되돌아오는 광 대 미광의 투과율의 비율이 예화하고 있으나, 코우팅층이 전혀 없는 경우, 또는 단층의 코우팅층이 부가되어 있는 경우에 비교하면 되돌아오는 광의 선택 효과는 커져, 광검출부의 감도를 향상시킬 수가 있다.
이상으로 설명한 바와 같이, 본 발명의 반도체 레이저 장치는, 반도체 기판위에 레이저 발광원과, 광검출기와, 프리즘을 일체적으로 형성하여, 광학 헤드를 소형화할 때에, 프리즘과 반도체 기판의 경계면에 2층의 코우팅층을 실시하여, 이 2층의 코우팅층을, 프리즘에 입사되는 미광에 대해서 전반사에 가까운 조건으로 되도록 설정하였으므로, 광검출기의 되돌아오는 광에 대한 감도를 높게 할 수가 있는 효과가 있다.
또한, 이와 같은 반도체 장치를 광학헤드에 사용하면, 높은 정도로 트랙킹 에러신호, 또는 포오커스 에러신호 등이 검출이 되는 이점을 갖는다.

Claims (1)

  1. 최소한 반도체 기판에 형성되어 있는 1 또는 2 이상의 광검출기와, 이 광검출기의 수광면에 접면하여, 제1의 반투과 반사면에서 입사된 되돌아오는 광을 상기한 광검출기의 수광면에 조사하는 곳과 같은 제2의 반투과 반사면을 갖는 프리즘과, 상기 제1의 반투과 반사면에 레이저광을 입사하는 반도체 레이저 발광원으로 이루어지며, 상기 반도체 기판과 상기 프리즘의 경계면에는, 상기한 제1의 반투과 반사면에서 입사된 소정의 입사각 이상의 미광이 거의 전반사되는 것과 같은 굴절율로 된 2층 이상의 코우팅층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 장치.
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