KR940016262A - 반도체메모리장치 - Google Patents

반도체메모리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR940016262A
KR940016262A KR1019930025618A KR930025618A KR940016262A KR 940016262 A KR940016262 A KR 940016262A KR 1019930025618 A KR1019930025618 A KR 1019930025618A KR 930025618 A KR930025618 A KR 930025618A KR 940016262 A KR940016262 A KR 940016262A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mos transistor
electrode
bit line
plate electrode
memory device
Prior art date
Application number
KR1019930025618A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970000870B1 (ko
Inventor
히로시게 히라노
다쯔미 스미
노브유키 모리와키
죠지 나카네
Original Assignee
모리시타 요이찌
마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 모리시타 요이찌, 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 filed Critical 모리시타 요이찌
Publication of KR940016262A publication Critical patent/KR940016262A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR970000870B1 publication Critical patent/KR970000870B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

본 발명은, 반도체메모리장치에 관한 것이며, 그 구성에 있어서, 비트선 (BLO)와/(BLO)가 센스앰프(SAO)에, 제1MOS트랜지스터(Qn)의 게이트가 제 1 워어드선(WLO)에, 제 1 강유전체커패시터(CSI)의 제 1 전극이 제 1 의 (Qn)의 소오스에, 제 1 의(Qn)의 드레인이(BLO)에, (CSI)이 제 2 전극이 제 1 플레이트전극 (CPO)에, 제 2 MOS트랜지스터(Qn)의 게이트가 제 2 워어드선(DWLD)에, 제 2 강유전체커패시터(cd2)의 제 1 전극이 제 2 의 (Qn)의 소오스에, 제2의 (Qn)의 드레인이 /(BLO)에, (cd1)의 제 2 전극이 제 2 플레이트전극(DCPO)에 접속되고, 제 2 의 (Qn)을 오프한후에, (DC(P)의 논리전압을 반전시키는 것을 특징으로 한것이다. 이에 의해서, 강유전체를 사용한 반도체메모리장치에 있어서, 거미메모리셀커패시터의 초기화를 확실하게 행하고, 판독시의 오동작이 없고, 또, 소비전력의 집중이 없으며, 또한, 고속판독동작을 가능하게 하는 효과가 있다.

Description

반도체메모리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 반도체메모리장치의 제 1 실시예의 회로구성을 표시한 도면, 제 2 도는 본 발명의 반도체메모리장치 제 1 실시예의 동작타이밍을 표시한 도면.

Claims (16)

  1. 증폭기에 제 1 비트선과 상기 제 1 비트선과 짝으로된 제 2 비트선이 접속되고, 제1MOS트랜지스터의 게이트가 제 1 워어드선에 접속되고, 제 1 강유전체커패시터의 제 1 전극이 상기 제1MOS트랜지스터의 소오스에 접속되고, 상기 제 1 비트선에 제1MOS트랜지스터의 드레인이 접속되고, 상기 제 1 강유전체커패시터와 제 2 전극이 제 1 플레이트전극에 접속되고, 제 2 MOS트랜지스터의 게이트가 제 2 워어드선에 접속되고, 제 2 강유전체커패시터의 제 1 전극이 상기 제 2 MOS트랜지스터의 소오스에 접속되고, 상기 제 2 MOS트랜지스터의 드레인이 상기 제 2 비트선에 접속되고, 상기 제 2 MOS트랜지스터의 드레인이 상기 제 2 비트선에 접속되고, 상기 제 2 강유전체커패시터의 제 2 전극이 제 2 플레이트전극에 접속되어 있고, 상기 제 2 MOS트랜지스터를 오프한 후에, 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 반전하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  2. 제1에 있어서, 상기 제 2 MOS트랜지스터를 오프한후에, 상기 제 1 플레이트전극 및 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 반전하고, 그 후에 상기 제 1 MOS트랜지스터를 오프하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제 1 플레이트전극이 상기 제 2 플레이트전극과 접속된 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  4. 제1항에 있어서, 메모리셀의 데이터의 판독 또는 기록동작종료후 또는 동작개시전에, 상기 제 2 비트선을 어느논리전압으로하고, 상기 제 2 MOS트랜지스터를 온하고, 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 상기 제 2 비트선의 논리전압과는 반대의 논리전압으로 하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  5. 증폭기에 제 1 비트선과 상기 제 1 비트선과 짝으로된 제 2 비트선이 접속되고, 제 1 MOS트랜지스터의 게이트가 제 1 워어드선에 접속되고, 제 1 강유전체커패시터의제 1 전극이 상기 제 1 MOS트랜지스터의 소오스에 접속되고, 상기 제 1 MOS트랜지스터의 드레인이 상기 제 1 비트선에 접속되고, 상기 제 1 강유전체커패시터의 제 2 전극이 제 1 플레이트전극에 접속되고, 제 2 MOS트랜지스터의 게이트가 제 2 워어드선에 접속되고, 제 2 강유전체커패시터의 제 1 전극이 상기 제 2 MOS트랜지스터의 소오스에 접속되고, 상기 제 2 MOS트랜지스터의 드레인이 상기 제 2 비트선에 접속되고, 상기 제 2 강유전체커패시터의 제 2 전극이 제 2 플레이트 전극에 접속되고, 제 3 MOS트랜지스터의 게이트가 데이터초기화용 제어신호선에 접속되고, 상기 제 3 MOS트랜지스터의 드레인이 상기 제 2 강유전체커패시터의 제 1 전극에 접속되고, 상기 제 3 MOS트랜지스터의 소오스가 데이터초기화 전위신호선에 접속된 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제 1 플레이트전극이 상기 제 2 플레이트전극과 접속된 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 더미메모리셀 데이터초기화 전위신호선이 접지전위에 접속되어있는 것을 특징으로 한는 반도체메모리장치.
  8. 제5항에 있어서, 메모리셀의 데이터의 판독 또는 기록동작개시전에 있어서의 상기 제 1 비트선 및 상기 제 2 비트선의 논리전압이 접지전위인 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  9. 제5항에 있어서, 상기 제 2 MOS트랜지스터를 오프한 후에, 상기 제 3MOS트랜지스터를 온하고, 그후에 상기 제 1 플레이트전극 및 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 반전하고, 그후에 상기 제 1 MOS트랜지스터를 오프하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  10. 제1항 또는 제5항에 있어서, 메모리셀의 데이터의 판독동작개시전에 있어서의 상기 제 1 플레이트전극의 논리전압이 제 1 비트선의 논리전압과 반대의 논리전압으로하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  11. 제1항 도는 제5항에 있어서, 메모리셀의 데이터의 판독동작개시전에 있어서의 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압 및 상기 제 2 강유전체커패시터의 제 1 전극의 논리전압이 제 2 비트선의 논리전압과 반대의 논리전압으로하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  12. 제1항 또는 제5항에 있어서, 메모리셀의 데이터의 판독동작개시전에 있어서의 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압 및 제 2 비트선의 논리전압이 상기 제 2 강유전체커패시터의 제 1 전극의 논리전압과 반대의 논리전압으로하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  13. 제10항, 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 제 1 플레이트전극의 논리전압이 항상 동일하고 또는 상기 제 2 플레이트 전극의 논리전압이 항상 동일한 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  14. 제1항 또는 제5항에 있어서, 상기 제 1 MOS트랜지스터 및 상기 제 2 MOS트랜지스터를 온한후에, 상기 제 1 플레이트전극 및 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 반전하는것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  15. 제1항 또는 제5항에 있어서, 상기 제 1 MOS트랜지스터 및 상기 제 2 MOS트랜지스터를 온한후에, 메모리셀의 데이터의 판독 또는 기록동작개시전에 있어서의 상기 제 1 비트선 및 상기 제 2 비트선을 1논리전압에 프리챠아지하는 것을 종료하고, 그후에 상기 제 1 플레이트전극 및 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 반전하는것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
  16. 제1항 또는 제5항에 있어서,상기 제 1 플레이트 전극 및 상기 제 2 플레이트전극의 논리전압을 반전한 후에, 상기 제 1 MOS트랜지스터 및 상기 제 2 MOS트랜지스터를 온하는 것을 특징으로 하는 반도체메모리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930025618A 1992-12-02 1993-11-29 반도체메모리장치 KR970000870B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32298392 1992-12-02
JP92-322983 1992-12-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940016262A true KR940016262A (ko) 1994-07-22
KR970000870B1 KR970000870B1 (ko) 1997-01-20

Family

ID=18149835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019930025618A KR970000870B1 (ko) 1992-12-02 1993-11-29 반도체메모리장치

Country Status (6)

Country Link
US (2) US5392234A (ko)
EP (1) EP0600434B1 (ko)
KR (1) KR970000870B1 (ko)
CN (1) CN1040706C (ko)
DE (1) DE69322747T2 (ko)
TW (1) TW323367B (ko)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07111085A (ja) * 1993-10-14 1995-04-25 Sharp Corp 不揮発性半導体記憶装置
EP0663666B1 (de) * 1994-01-12 1999-03-03 Siemens Aktiengesellschaft Integrierte Halbleiterspeicherschaltung und Verfahren zu ihrem Betrieb
JP3218844B2 (ja) * 1994-03-22 2001-10-15 松下電器産業株式会社 半導体メモリ装置
TW378323B (en) * 1994-09-22 2000-01-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ferroelectric memory device
JPH08115265A (ja) * 1994-10-15 1996-05-07 Toshiba Corp 半導体記憶装置及びその製造方法
JP3183076B2 (ja) * 1994-12-27 2001-07-03 日本電気株式会社 強誘電体メモリ装置
JP3127751B2 (ja) * 1995-01-04 2001-01-29 日本電気株式会社 強誘電体メモリ装置およびその動作制御方法
JPH08203266A (ja) * 1995-01-27 1996-08-09 Nec Corp 強誘電体メモリ装置
US5530668A (en) * 1995-04-12 1996-06-25 Ramtron International Corporation Ferroelectric memory sensing scheme using bit lines precharged to a logic one voltage
US5619447A (en) * 1995-05-02 1997-04-08 Motorola, Inc. Ferro-electric memory array architecture and method for forming the same
KR100243883B1 (ko) * 1995-08-02 2000-02-01 모리시타 요이찌 강유전체 메모리 장치
SG79200A1 (en) * 1995-08-21 2001-03-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ferroelectric memory devices and method for testing them
JPH09120685A (ja) * 1995-10-24 1997-05-06 Sony Corp 強誘電体記憶装置
US5737260A (en) * 1996-03-27 1998-04-07 Sharp Kabushiki Kaisha Dual mode ferroelectric memory reference scheme
WO1998056003A1 (fr) * 1997-06-05 1998-12-10 Matsushita Electronics Corporation Dispositif a memoire ferroelectrique et son procede de commande
KR100363102B1 (ko) * 1998-07-15 2003-02-19 주식회사 하이닉스반도체 강유전체 메모리
KR100389130B1 (ko) * 2001-04-25 2003-06-25 삼성전자주식회사 2비트 동작의 2트랜지스터를 구비한 불휘발성 메모리소자
US6649453B1 (en) * 2002-08-29 2003-11-18 Micron Technology, Inc. Contactless uniform-tunneling separate p-well (CUSP) non-volatile memory array architecture, fabrication and operation
US6906945B2 (en) * 2003-11-18 2005-06-14 Texas Instruments Incorporated Bitline precharge timing scheme to improve signal margin
CN107331416B (zh) * 2012-02-16 2020-11-10 芝诺半导体有限公司 包括初级和二级电晶体的存储单元
CN109791784A (zh) 2016-08-31 2019-05-21 美光科技公司 铁电存储器单元
WO2018044486A1 (en) 2016-08-31 2018-03-08 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for operating ferroelectric memory
EP3507806B1 (en) 2016-08-31 2022-01-19 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for accessing ferroelectric memory
EP3507807A4 (en) 2016-08-31 2020-04-29 Micron Technology, Inc. DEVICES AND METHOD WITH AND FOR ACCESS TO ITEMS
US10867675B2 (en) 2017-07-13 2020-12-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for memory including ferroelectric memory cells and dielectric memory cells

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4873664A (en) * 1987-02-12 1989-10-10 Ramtron Corporation Self restoring ferroelectric memory
JPH088339B2 (ja) * 1988-10-19 1996-01-29 株式会社東芝 半導体メモリ
US5297077A (en) * 1990-03-30 1994-03-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory having ferroelectric capacitors polarized in nonvolatile mode
US5400275A (en) * 1990-06-08 1995-03-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device using ferroelectric capacitor and having only one sense amplifier selected
US5381364A (en) * 1993-06-24 1995-01-10 Ramtron International Corporation Ferroelectric-based RAM sensing scheme including bit-line capacitance isolation

Also Published As

Publication number Publication date
DE69322747T2 (de) 1999-06-24
KR970000870B1 (ko) 1997-01-20
US5467302A (en) 1995-11-14
EP0600434A2 (en) 1994-06-08
US5392234A (en) 1995-02-21
EP0600434A3 (en) 1996-06-05
DE69322747D1 (de) 1999-02-04
TW323367B (ko) 1997-12-21
CN1040706C (zh) 1998-11-11
CN1091544A (zh) 1994-08-31
EP0600434B1 (en) 1998-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940016262A (ko) 반도체메모리장치
JP3416062B2 (ja) 連想メモリ(cam)
US5270967A (en) Refreshing ferroelectric capacitors
KR0183413B1 (ko) 차지-펌프형 부스터 회로
KR950025778A (ko) 반도체메모리장치
KR900010790A (ko) 스태틱형 반도체메모리
JPH08329686A (ja) 強誘電体記憶装置
KR100865906B1 (ko) 저전압 감지 증폭기 및 방법
KR970023375A (ko) 데이터 유지회로
KR950001776A (ko) 강유전체 메모리
KR880006837A (ko) 고성능 디램을 위한 센스 증폭기
JPH0762958B2 (ja) Mos記憶装置
US4471240A (en) Power-saving decoder for memories
KR870004450A (ko) 반도체 기억장치
KR970012696A (ko) 강유전체 메모리 장치
KR890008826A (ko) 다이나믹 랜덤 액세스 메모리에 있어서의 센스앰프 구동장치 및 센스앰프 구동방법
KR960012004A (ko) 강유전체메모리장치
KR930005017A (ko) 반도체 dram 장치
JPH03283186A (ja) 半導体メモリ装置
KR100368705B1 (ko) 가변 전압 분리 게이트
US6522569B2 (en) Semiconductor memory device
KR900019040A (ko) 다이나믹형 랜덤억세스메모리
KR100400048B1 (ko) 강유전체 메모리 장치
KR870001596A (ko) 반도체 기억장치
JP3189540B2 (ja) 半導体メモリ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100111

Year of fee payment: 14

LAPS Lapse due to unpaid annual fee