KR20170087401A - 착색 경화성 수지 조성물 - Google Patents

착색 경화성 수지 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20170087401A
KR20170087401A KR1020160179977A KR20160179977A KR20170087401A KR 20170087401 A KR20170087401 A KR 20170087401A KR 1020160179977 A KR1020160179977 A KR 1020160179977A KR 20160179977 A KR20160179977 A KR 20160179977A KR 20170087401 A KR20170087401 A KR 20170087401A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
carbon atoms
meth
substituted
acid
Prior art date
Application number
KR1020160179977A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102114951B1 (ko
Inventor
권영수
도루 아시다
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Publication of KR20170087401A publication Critical patent/KR20170087401A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102114951B1 publication Critical patent/KR102114951B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/38—Thiocarbonic acids; Derivatives thereof, e.g. xanthates ; i.e. compounds containing -X-C(=X)- groups, X being oxygen or sulfur, at least one X being sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/28—Pyronines ; Xanthon, thioxanthon, selenoxanthan, telluroxanthon dyes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2666/00—Composition of polymers characterized by a further compound in the blend, being organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials, non-macromolecular organic substances, inorganic substances or characterized by their function in the composition
    • C08L2666/66—Substances characterised by their function in the composition
    • C08L2666/70—Organic dyes or pigments; Optical brightening agents

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

본 발명은 내열성이 우수한 컬러필터를 제공하는 것을 과제로 하며, 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 크산텐 화합물(A-1), 수지(B), 중합성 화합물(C) 및 중합 개시제(D)를 포함하고, 상기 크산텐 화합물(A-1)이 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa), 및 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 필수 원소로 함유하는 음이온(AXb)을 갖는 화합물이며, 상기 크산텐 골격이 치환 또는 비치환된 설파모일기를 갖는 크산텐 골격인 것을 특징으로 한다.

Description

착색 경화성 수지 조성물{COLORED CURABLE RESIN COMPOSITION}
　본 발명은 크산텐 화합물을 포함하는 착색 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.
　액정표시장치 등의 각종 표시장치나 고체촬상소자 등에 포함되는 컬러필터의 착색제로서 크산텐 화합물이 사용되고 있다. 예를 들면 특허문헌 1에는 식 (A1)로 표시되는 화합물이 기재되어 있다.
[화학식 1]
Figure pat00001
일본공개특허공보 제2014-88558호
종래부터 알려진 상기 화합물을 사용하는 경우, 얻어지는 컬러필터의 내열성을 충분히 만족시킬 수 있는 것이 아니었다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] 크산텐 화합물(A-1), 수지(B), 중합성 화합물(C) 및 중합 개시제(D)를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물로서,
상기 크산텐 화합물(A-1)이 치환 또는 비치환된 설파모일기를 갖는 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa), 및 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 필수 원소로 함유하는 음이온(AXb)을 갖는 화합물이며,
상기 크산텐 골격이 치환 또는 비치환된 설파모일기를 갖는 크산텐 골격인 착색 경화성 수지 조성물.
[2] [1]에 있어서, 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa)이 식 (I)로 표시되는 양이온인 착색 경화성 수지 조성물.
[화학식 2]
Figure pat00002
[식 (I) 중, R1a~R4a는 서로 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R1a 및 R2a는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있고, R3a 및 R4a는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다. R6a 및 R7a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. ma는 1~5의 정수를 나타낸다. R9a 및 R10a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R9a 및 R10a는 서로 결합하여 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다. R11a는 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기 또는 탄소수 7~10의 아랄킬기를 나타낸다.]
[3] [1] 또는 [2]에 있어서, 음이온(AXb)이 텅스텐을 필수 원소로 함유하는 헤테로폴리산 또는 이소폴리산의 음이온인 착색 경화성 수지 조성물.
[4] [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 있어서, 음이온(AXb)이 인텅스텐산의 음이온, 규소텅스텐산의 음이온 또는 텅스텐계 이소폴리산의 음이온 중 어느 것인 착색 경화성 수지 조성물.
[5] [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 따른 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성되는 컬러필터.
[6] [5]에 따른 컬러필터를 포함하는 표시장치.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 특정한 크산텐 화합물을 포함하므로 내열성이 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 크산텐 화합물(A-1), 수지(B), 중합성 화합물(C) 및 중합 개시제(D)를 포함한다.
<착색제(A)>
본 발명에 있어서의 크산텐 화합물(A-1)은 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa), 및 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 필수 원소로 함유하는 음이온(AXb)을 갖고 있으며, 상기 크산텐 골격은 치환 또는 비치환된 설파모일기를 갖는다. 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa), 및 음이온(AXb)을 가짐으로써 크산텐 화합물의 내열성을 향상시킬 수 있다.
크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa)은 치환 또는 비치환된 설파모일기를 갖는 것이 바람직하고, 식 (I)로 표시되는 양이온인 것이 보다 바람직하다.
[화학식 3]
Figure pat00003
[식 (I) 중,
R1a~R4a는 서로 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R1a 및 R2a는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있고, R3a 및 R4a는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R6a 및 R7a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
ma는 1~5의 정수를 나타낸다.
R9a 및 R10a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R9a 및 R10a는 서로 결합하여 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R11a는 수소 원자, 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기 또는 탄소수 7~10의 아랄킬기를 나타낸다.]
식 (I)에서 -SO3 -가 존재하는 경우, 그 수는 1개이다.
R1a~R4a 및 R9a~R11a에 있어서의 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기로는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기, 헥사데실기, 이코실기 등의 직쇄형 알킬기; 이소프로필기, 이소부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 2-에틸헥실기 등의 분기쇄형 알킬기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 트리시클로데실기 등의 탄소수 3~20의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있다.
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -O-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다 (*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 4]
Figure pat00004
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -CO-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다 (*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 5]
Figure pat00005
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -NR11a-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 6]
Figure pat00006
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -OCO-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 7]
Figure pat00007
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -COO-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 8]
Figure pat00008
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -OCONH-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 9]
Figure pat00009
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -NHCOO-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 10]
Figure pat00010
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -CONH-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 11]
Figure pat00011
상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)가 -NHCO-로 치환된 기로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다(*는 결합위치를 나타낸다).
[화학식 12]
Figure pat00012
R1a~R4a에 있어서의 상기 포화 탄화수소기는 치환기를 가질 수 있고, 치환기로는 예를 들면 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기 또는 할로겐 원자를 들 수 있다. R1a~R4a의 포화 탄화수소기가 가질 수 있는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기로는 R1a~R4a에 있어서의 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기로서 예시하는 기와 동일한 기를 들 수 있다.
할로겐 원자로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.
R9a 및 R10a에 있어서의 상기 포화 탄화수소기는 치환기를 가질 수 있고, 상기 치환기로는 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등의 할로겐 원자 또는 히드록시기를 들 수 있다.
R1a 및 R2a가 함께 형성하는 환, 및 R3a 및 R4a가 함께 형성하는 환으로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다. 식 중, *는 결합위치를 나타낸다.
[화학식 13]
Figure pat00013
R1a~R4a에 있어서의 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기로는 예를 들면 페닐기, 톨루일기, 크실릴기, 메시틸기, 프로필페닐기 및 부틸페닐기 등을 들 수 있다.
상기 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기는 치환기를 가질 수 있다. 상기 방향족 탄화수소기가 가질 수 있는 치환기로는 할로겐 원자, -R8a, -OH, -OR8a, -SO3 -, -SO3H, -SO3 -Z+, -CO2H, -CO2R8a, -SR8a, -SO2R8a, -SO3R8a 및 -SO2NR12aR13a를 들 수 있다. 이들 중에서도 치환기로는 -R8a, -SO3 -, -SO3H, -SO3 -Z+ 및 -SO2NR12aR13a가 바람직하고, -R8a, -SO3 -Z+ 및 -SO2NR12aR13a가 보다 바람직하다. 이러한 경우의 -R8a로는 탄소수 1~10의 포화 탄화수소기가 보다 바람직하고, 탄소수 1~5의 알킬기가 더욱 바람직하다. 또한 이러한 경우의 -SO3 -Z+로는 -SO3 -N+(R11a)4가 바람직하다.
Z+는 +N(R11a)4, Na+ 또는 K+를 나타내고, 4개의 R11a는 같거나 다를 수 있다.
R8a는 할로겐 원자로 치환될 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
R12a 및 R13a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R12a 및 R13a는 서로 결합하여 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R8a, R12a 및 R13a로 표시되는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기로는 R1a~R4a로 표시되는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.
R12a 및 R13a로 표시되는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기는 치환기를 가질 수 있고, 상기 치환기로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등의 할로겐 원자 또는 히드록시기를 들 수 있다.
-OR8a로는 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기 및 이코실옥시기 등의 알킬옥시기 등을 들 수 있다.
-CO2R8로는 예를 들면 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, tert-부톡시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기 및 이코실옥시카르보닐기 등의 알킬옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.
-SR8a로는 예를 들면 메틸설파닐기, 에틸설파닐기, 부틸설파닐기, 헥실설파닐기, 데실설파닐기 및 이코실설파닐기 등의 알킬설파닐기 등을 들 수 있다.
-SO2R8a로는 예를 들면 메틸설포닐기, 에틸설포닐기, 부틸설포닐기, 헥실설포닐기, 데실설포닐기 및 이코실설포닐기 등의 알킬설포닐기 등을 들 수 있다.
-SO3R8a로는 예를 들면 메톡시설포닐기, 에톡시설포닐기, 프로폭시설포닐기, tert-부톡시설포닐기, 헥실옥시설포닐기 및 이코실옥시설포닐기 등의 알킬옥시설포닐기 등을 들 수 있다.
-SO2NR12aR13a로는 예를 들면 설파모일기;
N-메틸설파모일기, N-에틸설파모일기, N-프로필설파모일기, N-이소프로필설파모일기, N-부틸설파모일기, N-이소부틸설파모일기, N-sec-부틸설파모일기, N-tert-부틸설파모일기, N-펜틸설파모일기, N-(1-에틸프로필)설파모일기, N-(1,1-디메틸프로필)설파모일기, N-(1,2-디메틸프로필)설파모일기, N-(2,2-디메틸프로필)설파모일기, N-(1-메틸부틸)설파모일기, N-(2-메틸부틸)설파모일기, N-(3-메틸부틸)설파모일기, N-시클로펜틸설파모일기, N-헥실설파모일기, N-(1,3-디메틸부틸)설파모일기, N-(3,3-디메틸부틸)설파모일기, N-헵틸설파모일기, N-(1-메틸헥실)설파모일기, N-(1,4-디메틸펜틸)설파모일기, N-옥틸설파모일기, N-(2-에틸헥실)설파모일기, N-(1,5-디메틸헥실)설파모일기 및 N-(1,1,2,2-테트라메틸부틸)설파모일기 등의 N-1 치환 설파모일기;
N,N-디메틸설파모일기, N,N-에틸메틸설파모일기, N,N-디에틸설파모일기, N,N-프로필메틸설파모일기, N,N-이소프로필메틸설파모일기, N,N-tert-부틸메틸설파모일기, N,N-부틸에틸설파모일기, N,N-비스(1-메틸프로필)설파모일기 및 N,N-헵틸메틸설파모일기 등의 N,N-2 치환 설파모일기 등을 들 수 있다.
ma는 1~4인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하다.
R6a 및 R7a에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기로는 상기에 열거한 알킬기 중 탄소수 1~6의 것을 들 수 있다.
R12a 및 R13a는 질소 원자와 함께 3~10원 함질소 복소환을 나타낼 수 있다. 상기 복소환으로는 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다. 식 중, *는 결합위치를 나타낸다.
[화학식 14]
Figure pat00014
R11a에 있어서의 탄소수 7~10의 아랄킬기로는 벤질기, 페닐에틸기 및 페닐부틸기 등을 들 수 있다.
Z+는 +N(R11a)4, Na+ 또는 K+인 것이 바람직하고, +N(R11a)4인 것이 보다 바람직하다.
상기 +N(R11a)4로는 4개의 R11a 중 적어도 2개가 탄소수 5~20의 1가의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하다. 또한 4개의 R11a의 합계 탄소수는 20~80인 것이 바람직하고, 20~60인 것이 보다 바람직하다.
-SO2NR9aR10a로는 -SO2NR12aR13a로서 예시한 기와 동일한 기를 들 수 있다. 또한 R9a 및 R10a가 서로 결합하여 형성할 수 있는 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환으로는 R12a 및 R13a가 질소 원자와 함께 형성할 수 있는 3~10원 함질소 복소환과 동일한 환을 들 수 있다.
그 중에서도 R1a 및 R4a로는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기 및 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기가 바람직하고, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기가 보다 바람직하다. R1a, R4a에 있어서의 포화 탄화수소기의 탄소수는 1~10인 것이 바람직하고, 1~5인 것이 보다 바람직하고, 1~3인 것이 더욱 바람직하고, 치환기를 갖지 않는 것이 바람직하다. 또한 상기 방향족 탄화수소기의 치환기는 -R8a인 것이 바람직하다.
R2a 및 R3a로는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기가 바람직하다. R2a 및 R3a에 있어서의 포화 탄화수소기의 탄소수는 1~10인 것이 바람직하고, 1~5인 것이 보다 바람직하고, 1~3인 것이 더욱 바람직하고, 치환기를 갖지 않는 것이 바람직하다.
R6a 및 R7a로는 수소 원자가 바람직하다.
R8a에 있어서의 포화 탄화수소기의 탄소수는 1~10인 것이 바람직하고, 1~5인 것이 보다 바람직하고, 1~3인 것이 더욱 바람직하다.
R9a, R10a, R12a 및 R13a로는 수소 원자 및 탄소수 1~12의 포화 탄화수소기가 바람직하다. 또한 R9a 및 R10a 중 적어도 1개가 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R9a 및 R10a의 양자가 포화 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. 또한 R12a 및 R13a 중 적어도 1개가 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R12a 및 R13a의 양자가 포화 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.
-SO2NR9aR10a, -SO2NR12aR13a로는 N-1 치환 설파모일기 및 N-2 치환 설파모일기가 바람직하다.
R11a로는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기가 바람직하다.
크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa)으로는 식 (I-1)로 표시되는 크산텐 골격을 갖는 양이온이 바람직하다. 식 (I-1)로 표시되는 양이온은 그 호변이성질체일 수 있다.
[화학식 15]
Figure pat00015
[식 (I-1) 중,
R1b~R4b는 서로 독립적으로 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11b-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R1b 및 R2b는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있고, R3b 및 R4b는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R6b 및 R7b는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
mb는 0~5의 정수를 나타낸다. mb가 2 이상일 때, 복수의 -SO2NR9bR10b는 같거나 다를 수 있다.
R9b 및 R10b는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11b-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R9b 및 R10b는 서로 결합하여 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R11b는 수소 원자, 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기 또는 탄소수 7~10의 아랄킬기를 나타낸다.]
R1b~R11b 및 mb의 바람직한 양태는 각각 상기 R1a~R11a 및 ma의 바람직한 양태 중에서 R1b~R11b 및 mb의 개념을 넘지 않는 범위에서 선택된다.
또한 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa)으로는 식 (I-2)로 표시되는 크산텐 골격을 갖는 양이온이 바람직하다. 식 (I-2)로 표시되는 양이온은 그 호변이성질체일 수 있다.
[화학식 16]
Figure pat00016
[식 (I-2) 중,
R1c 및 R4c는 서로 독립적으로 탄소수 1~4의 알킬기, 탄소수 1~4의 알킬설파닐기 또는 탄소수 1~4의 알킬설포닐기를 나타낸다.
p 및 q는 서로 독립적으로 0~5의 정수를 나타낸다. p가 2 이상일 때, 복수의 R1c는 같거나 다를 수 있고, q가 2 이상일 때, 복수의 R4c는 같거나 다를 수 있다.
R2c 및 R3c는 서로 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11c-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R1c 및 R2c는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있고, R3c 및 R4c는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있다.
R6c 및 R7c는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
mc는 0~5의 정수를 나타낸다. mc가 2 이상일 때, 복수의 -SO2NR9cR10c는 같거나 다를 수 있다.
R9c 및 R10c는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11c-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R9c 및 R10c는 서로 결합하여 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환을 형성할 수 있다. 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않는다.
R11c는 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기 또는 탄소수 7~10의 아랄킬기를 나타낸다.]
R1c~R4c, R6c~R7c, R9c~R11c 및 mc의 바람직한 양태는 각각 상기 R1a~R11a, ma 및 R1a로 표시되는 방향족 탄화수소기가 가질 수 있는 치환기의 바람직한 양태 중에서 R1c~R4c, R6c~R7c, R9c~R11c 및 mc의 개념을 넘지 않는 범위에서 선택된다.
양이온(AXa)으로는 예를 들면 하기 식 (AXa-I)로 표시되는 양이온을 들 수 있다. 또, 표 1에서 R2A, R3A, R10A로서 표시되는 R40은 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게 탄소수 6~12의 분기쇄형 알킬기를 나타내고, 더욱 바람직하게 2-에틸헥실기를 나타낸다.
[화학식 17]
Figure pat00017
Figure pat00018
표 1에서 Me는 메틸기를 나타내고, Et는 에틸기를 나타내고, Pr은 n-프로필기를 나타내고, iPr은 이소프로필기를 나타낸다. Ph1~Ph10은 하기 식으로 표시되는 기를 의미하고, Hc1~Hc4는 각각 R1A 및 R2A, R3A 및 R4A가 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성하는 경우이며, Hc1~Hc4의 각각에 대응하는 환은 하기 식으로 표시된다.
[화학식 18]
Figure pat00019
[화학식 19]
Figure pat00020
그 중에서도 양이온(AXa)으로는 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-4), (AXa-27) 내지 (AXa-30)이 바람직하다.
상기 양이온(AXa)은 예를 들면 식 (II)로 표시되는 화합물을 설폰아미드화함으로써 제조할 수 있다.
[화학식 20]
Figure pat00021
[식 (II) 중, R1a~R4a, R6a~R7a 및 ma는 상기와 같은 뜻이다.]
크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa)과 조합하여 사용되는 음이온(AXb)은 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 필수 원소로 함유하고, 바람직하게 텅스텐과 산소를 필수 원소로 함유한다. 이들 음이온은 내열성의 관점에서 바람직하다.
음이온(AXb)으로는 텅스텐을 필수 원소로 함유하는 헤테로폴리산 또는 이소폴리산의 음이온이 바람직하고, 인텅스텐산, 규소텅스텐산 및 텅스텐계 이소폴리산의 음이온이 보다 바람직하다.
텅스텐을 필수 원소로 함유하는 헤테로폴리산 및 이소폴리산의 음이온으로는 예를 들면 케긴형 인텅스텐산 이온 α-[PW12O40]3-, 도슨형 인텅스텐산 이온 α-[P2W18O62]6-, β-[P2W18O62]6-, 케긴형 규소텅스텐산 이온 α-[SiW12O40]4-, β-[SiW12O40]4-, γ-[SiW12O40]4-, 나아가 기타 예로서 [P2W17O61]10-, [P2W15O56]12-, [H2P2W12O48]12-, [NaP5W30O110]14-, α-[SiW9O34]10-, γ-[SiW10O36]8-, α-[SiW11O39]8-, β-[SiW11O39]8-, [W6O19]2-, [W10O32]4-, WO4 2- 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
또한 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소로 이루어진 음이온도 바람직하다.
이러한 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소로 이루어진 음이온으로는 SiO3 2 - 및 PO4 3-를 들 수 있다.
음이온(AXb)으로는 케긴형 인텅스텐산 이온, 도슨형 인텅스텐산 이온 등의 인텅스텐산 음이온; 케긴형 규소텅스텐산 이온 등의 규소텅스텐산 음이온, [W10O32]4- 등의 텅스텐계 이소폴리산 음이온이 바람직하다. 그 중에서도 인텅스텐산 음이온, 텅스텐계 이소폴리산 음이온이 특히 바람직하다.
음이온(AXb)으로는 텅스텐을 필수 원소로 함유하는 헤테로폴리산 및 이소폴리산의 음이온이 보다 바람직하고, 인텅스텐산의 음이온, 규소텅스텐산의 음이온 및 텅스텐계 이소폴리산의 음이온이 더욱 바람직하고, [PW12O40]3-, [P2W18O62]6-, [SiW12O40]4- 및 [W10O32]4-가 한층 더 바람직하고, [PW12O40]3- 및 [P2W18O62]6-가 특히 바람직하다. 내열성의 관점에서는 텅스텐을 필수 원소로 함유하는 헤테로폴리산 또는 이소폴리산의 음이온을 사용하면 된다.
화합물(A-I)로는
상기 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-52) 중 임의의 3개의 양이온, 바람직하게 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-4) 및 (AXa-27) 내지 (AXa-30) 중 임의의 3개의 양이온, 및 음이온 α-[PW12O40]3-의 조합,
상기 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-52) 중 임의의 6개의 양이온, 바람직하게 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-4) 및 (AXa-27) 내지 (AXa-30) 중 임의의 6개의 양이온, 및 음이온 α-[P2W18O62]6-의 조합,
상기 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-52) 중 임의의 4개의 양이온, 바람직하게 양이온(AXa-1) 내지 (AXa-4) 및 (AXa-27) 내지 (AXa-30) 중 임의의 4개의 양이온, 및 음이온 α-[SiW12O40]4- 및 [W10O32]4-의 조합 등을 들 수 있다.
구체적으로 하기 양이온(AXa)과 음이온(AXb)으로 이루어진 화합물(Xa)인 것이 바람직하다.
Figure pat00022
크산텐 화합물(A-1)은 예를 들면 식 (III)으로 표시되는 화합물과, 상기 음이온(Axb)의 알칼리 금속염을 용매 중에서 혼합함으로써 제조될 수 있다. 알칼리 금속으로는 리튬, 나트륨 및 칼륨을 들 수 있다.
[화학식 21]
Figure pat00023
[식 (III) 중, R1a~R4a, R6a~R7a, R9a~R10a 및 ma는 상기와 같은 뜻이다.]
용매로는 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸설폭사이드, 아세토니트릴, 아세트산에틸, 톨루엔, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 테트라히드로푸란, 디옥산, 물 및 클로로포름을 들 수 있다.
식 (III)으로 표시되는 화합물은 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
본 발명에서는 상기 크산텐 화합물(A-1)과 용제를 포함하는 착색 분산액을 조제하고, 얻어진 착색 분산액을 착색 경화성 수지 조성물에 사용할 수도 있다. 착색 분산액에 사용되는 용제로는 후술하는 용제(E)와 동일한 용제를 사용할 수 있다. 또한 착색 분산액에는 추가로 안료 분산제를 사용하는 것이 바람직하고, 필요에 따라 착색 경화성 수지 조성물에 사용되는 수지(B)의 일부 또는 전부(바람직하게 일부)를 미리 포함하고 있을 수도 있다.
착색제(A)로는 상기 크산텐 화합물(A-1)이 단독으로 포함되어 있을 수도 있지만, 조색(調色)을 위해 즉 분광 특성을 조절하기 위해, 추가로 다른 염료(A1)나 안료(P)를 포함하고 있을 수도 있다.
염료(A1)로는 유용성 염료, 산성 염료, 염기성 염료, 직접 염료, 매염 염료, 산성 염료의 아민염이나 산성 염료의 설폰아미드 유도체 등의 염료를 들 수 있고, 예를 들면 컬러 인덱스(The　Society　of　Dyers　and　Colourists 출판)에서 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지된 염료를 들 수 있다. 또한 화학 구조에 의하면 아조 염료, 시아닌 염료, 트리페닐메탄 염료, 크산텐 염료, 프탈로시아닌 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 아조메틴 염료, 스쿠아릴륨 염료, 아크리딘 염료, 스티릴 염료, 쿠마린 염료, 퀴놀린 염료 및 니트로 염료 등을 들 수 있다. 이들 중 유기 용제 가용성 염료가 바람직하게 사용된다.
구체적으로 C.I. 솔벤트 옐로우 4(이하 C.I. 솔벤트 옐로우의 기재를 생략하고 번호만 기재함.), 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 162;
C.I. 솔벤트 레드 45, 49, 125, 130, 218;
C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 56;
C.I. 솔벤트 블루 4, 5, 37, 67, 70, 90;
C.I. 솔벤트 그린 1, 4, 5, 7, 34, 35 등의 C.I. 솔벤트 염료,
C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;
C.I. 애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 195, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 289, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 388, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;
C.I. 애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;
C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19, 30, 102;
C.I. 애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 22, 29, 42, 59, 60, 62, 70, 72, 74, 82, 83, 86, 87, 90, 92, 93, 100, 102, 103, 104, 113, 117, 120, 126, 130, 131, 142, 147, 151, 154, 158, 161, 166, 167, 168, 170, 171, 184, 187, 192, 199, 210, 229, 234, 236, 242, 243, 256, 259, 267, 285, 296, 315, 335;
C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 C.I. 애시드 염료,
C.I. 다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141;
C.I. 다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;
C.I. 다이렉트 오렌지 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;
C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;
C.I. 다이렉트 블루 1, 2, 6, 8, 15, 22, 25, 41, 57, 71, 76, 78, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 120, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 195, 196, 198, 199, 200, 201, 202, 203, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 225, 226, 228, 229, 236, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 246, 247, 248, 249, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;
C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 C.I. 다이렉트 염료,
C.I. 디스퍼스 옐로우 54, 76 등의 C.I. 디스퍼스 염료,
C.I. 베이직 레드 1, 10;
C.I. 베이직 블루 1, 3, 5, 7, 9, 19, 24, 25, 26, 28, 29, 40, 41, 54, 58, 59, 64, 65, 66, 67, 68;
C.I. 베이직 그린 1; 등의 C.I. 베이직 염료,
C.I. 리액티브 옐로우 2, 76, 116;
C.I. 리액티브 오렌지 16;
C.I. 리액티브 레드 36; 등의 C.I. 리액티브 염료,
C.I. 모던트 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;
C.I. 모던트 레드 1, 2, 4, 9, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95;
C.I. 모던트 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48;
C.I. 모던트 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58;
C.I. 모던트 블루 1, 2, 3, 7, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 26, 30, 31, 39, 40, 41, 43, 44, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;
C.I. 모던트 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 C.I. 모던트 염료,
C.I. 배트 그린 1 등의 C.I. 배트 염료 등을 들 수 있다.
그 중에서도 청색 염료, 바이올렛색 염료 및 적색 염료가 바람직하다.
이들 염료는 단독으로 사용하거나 2종 이상을 병용할 수 있다.
안료(P)로는 특별히 한정되지 않고 공지된 안료를 사용할 수 있으며, 예를 들면 컬러 인덱스(The　Society　of　Dyers　and　Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 안료를 들 수 있다.
안료로는 예를 들면 C.I. 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 등의 황색 안료;
C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 오렌지색 안료;
C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등의 적색 안료;
C.I. 피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등의 청색 안료;
C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 바이올렛색 안료;
C.I. 피그먼트 그린 7, 36, 58, 59 등의 녹색 안료; 등을 들 수 있다.
안료는 필요에 따라 로진 처리, 산성 기 또는 염기성 기가 도입된 안료 유도체 등을 사용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에의 그라프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온성 불순물의 이온 교환법 등에 의한 제거 처리 등이 실시될 수 있다. 안료의 입경은 각각 균일한 것이 바람직하다.
안료는 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리를 수행함으로써, 안료 분산제가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액으로 할 수 있다. 안료는 각각 단독으로 분산 처리할 수도 있으며, 여러 종류를 혼합하여 분산 처리할 수도 있다.
상기 안료 분산제로는 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계, 아크릴계 등의 안료 분산제 등을 들 수 있다. 이들 안료 분산제는 단독이거나 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 안료 분산제로는 상품명으로 KP(신에츠 가가쿠 고교(주) 제조), 플러렌(교에이샤 가가쿠(주) 제조), 솔스퍼스(제네카(주) 제조), EFKA(BASF사 제조), 아지스퍼(아지노모토 파인테크노(주) 제조), Disperbyk(빅케미사 제조) 등을 들 수 있다.
상기 크산텐 화합물(A-1)의 함유율은 착색제(A)의 총량에 대해 통상 1 중량% 이상 100 중량% 이하이며, 바람직하게 10 중량% 이상 100 중량% 이하이다. 또한 30 중량% 이상, 바람직하게 50 중량% 이상, 보다 바람직하게 70 중량% 이상일 수 있다.
염료(A1)를 포함하는 경우, 염료(A1)의 함유율은 착색제(A)의 총량에 대해 바람직하게 0.5 중량% 이상 90 중량% 이하이며, 보다 바람직하게 40 중량% 이상 80 중량% 이하이다. 안료(P)를 포함하는 경우, 안료(P)의 함유율은 착색제(A)의 총량에 대해 바람직하게 1 중량% 이상 99 중량% 이하이며, 보다 바람직하게 1 중량% 이상 70 중량% 이하이며, 더욱 바람직하게 1 중량% 이상 50 중량% 이하이다.
착색제(A)의 함유율은 고형분의 총량에 대해 바람직하게 0.1 중량% 이상 70 중량% 이하이며, 보다 바람직하게 0.5 중량% 이상 60 중량% 이하이며, 더욱 바람직하게 1 중량% 이상 50 중량% 이하이다. 착색제(A)의 함유율이 상기 범위 내이면, 원하는 분광이나 색농도를 얻을 수 있다.
또 본 명세서에서 "고형분의 총량"이란 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물로부터 용제(E)를 제외한 성분의 합계량을 말한다. 고형분의 총량 및 이에 대한 각 성분의 함량은 예를 들면 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지된 분석 수단으로 측정할 수 있다.
<수지(B)>
수지(B)는 특별히 한정되지 않지만, 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하고, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 단량체(a)에서 유래된 구조 단위를 갖는 중합체인 것이 바람직하다.
수지(B)는 상기 단량체(a)에서 유래된 구조 단위와, 탄소수 2~4의 환형 에테르 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체(b), 및 단량체(a)와 공중합 가능한 단량체(c) 중 적어도 한쪽에서 유래된 구조 단위를 갖는 공중합체인 것이 바람직하다.
반응 순서는 한정되지 않고 단량체(a)와, 단량체(b) 및 (c) 중 적어도 한쪽을 일시에 공중합할 수 있다. 또한 단량체(a) 내지 (c)를 모두 사용하는 경우에는, 단량체(a)와 단량체(b)를 공중합한 후 단량체(c)를 반응시킬 수도 있고, 단량체(a)와 단량체(c)를 공중합한 후 단량체(b)를 반응시킬 수도 있다. 또한 단량체(b), 단량체(c)의 공중합체에 단량체(a)를 반응시키고, 추가로 카르복실산 무수물을 반응시킬 수도 있다.
(a)로는 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-, m-, p-비닐벤조산 등의 불포화 모노카르복실산;
말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산, 디메틸테트라히드로프탈산, 1,4-시클로헥센디카르복실산 등의 불포화 디카르복실산;
메틸-5-노보넨-2,3-디카르복실산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물;
푸마르산 및 메사콘산을 제외한 상기 불포화 디카르복실산의 무수물 등의 카르복실산 무수물; 등을 들 수 있다.
숙신산모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕, 프탈산모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕 등의 2가 이상의 다가 카르복실산의 불포화 모노〔(메타)아크릴로일옥시알킬〕에스테르류;
α-(히드록시메틸)아크릴산과 같은 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다.
이들 중 공중합 반응성의 관점이나 얻어지는 수지의 알칼리 수용액에의 용해성의 관점에서 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레산 등이 바람직하다.
(b)는 탄소수 2~4의 환형 에테르 구조(예를 들면 옥시란환, 옥세탄환 및 테트라히드로푸란환으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종)와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물을 말한다. (b)는 탄소수 2~4의 환형 에테르와 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 바람직하다.
(b)로는 예를 들면 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체(b1)(이하 "(b1)"이라 하는 경우가 있음), 옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체(b2)(이하 "(b2)"라 하는 경우가 있음), 테트라히드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체(b3)(이하 "(b3)"이라 하는 경우가 있음) 등을 들 수 있다.
(b1)로는 예를 들면 직쇄형 또는 분기쇄형의 지방족 불포화 탄화수소가 에폭시화된 구조를 갖는 단량체(b1-1)(이하 "(b1-1)"이라 하는 경우가 있음), 지환식 불포화 탄화수소가 에폭시화된 구조를 갖는 단량체(b1-2)(이하 "(b1-2)"라 하는 경우가 있음)를 들 수 있다.
(b1-1)로는 글리시딜기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체가 바람직하다. (b1-1)로는 구체적으로 글리시딜(메타)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, 비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌 등을 들 수 있다.
(b1-2)로는 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산(예를 들면 셀록사이드(등록상표) 2000; (주)다이셀 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트(예를 들면 사이클로머(등록상표) A400; (주)다이셀 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트(예를 들면 사이클로머(등록상표) M100; (주)다이셀 제조), 식 (BI)로 표시되는 화합물 및 식 (BII)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[화학식 22]
Figure pat00024
[식 (BI) 및 식 (BII) 중, Ra 및 Rb는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 수소 원자는 히드록시기로 치환될 수 있다.
Xa 및 Xb는 서로 독립적으로 단일결합, *-Rc-, *-Rc-O-, *-Rc-S- 또는 *-Rc-NH-를 나타낸다.
Rc는 탄소수 1~6의 알칸디일기를 나타낸다.
*는 O와의 결합위치를 나타낸다.]
식 (BI)로 표시되는 화합물로는 식 (BI-1) 내지 식 (BI-15) 중 어느 것으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게 식 (BI-1), 식 (BI-3), 식 (BI-5), 식 (BI-7), 식 (BI-9) 또는 식 (BI-11) 내지 식 (BI-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있고, 보다 바람직하게 식 (BI-1), 식 (BI-7), 식 (BI-9) 또는 식 (BI-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 23]
Figure pat00025
[화학식 24]
Figure pat00026
식 (BII)로 표시되는 화합물로는 식 (BII-1) 내지 식 (BII-15) 중 어느 것으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게 식 (BII-1), 식 (BII-3), 식 (BII-5), 식 (BII-7), 식 (BII-9) 및 식 (BII-11) 내지 식 (BII-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있고, 보다 바람직하게 식 (BII-1), 식 (BII-7), 식 (BII-9) 및 식 (BII-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 25]
Figure pat00027
[화학식 26]
Figure pat00028
식 (BI)로 표시되는 화합물 및 식 (BII)로 표시되는 화합물은 각각 단독으로 사용하거나, 식 (BI)로 표시되는 화합물과 식 (BII)로 표시되는 화합물을 병용할 수 있다. 이들을 병용하는 경우, 식 (BI)로 표시되는 화합물 및 식 (BII)로 표시되는 화합물의 함유 비율은 몰 기준으로 바람직하게 5:95~95:5이며, 보다 바람직하게 10:90~90:10이며, 더욱 바람직하게 20:80~80:20이다.
상기 (b2)로는 옥세타닐기와 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하다. (b2)로는 3-메틸-3-(메타)아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(메타)아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-(메타)아크릴로일옥시에틸옥세탄 및 3-에틸-3-(메타)아크릴로일옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다.
(c)로는 예를 들면 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트(해당 기술분야에서는 관용명으로서 "디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트"라 불리고 있다. 또한 "트리시클로데실(메타)아크릴레이트"라 하는 경우가 있다.), 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-9-일(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데센-8-일(메타)아크릴레이트(해당 기술분야에서는 관용명으로서 "디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트"라 불리고 있다.), 트리시클로[5.2.1.02,6]데센-9-일(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 프로파길(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트 및 벤질(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산에스테르;
2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시기 함유 (메타)아크릴산에스테르;
말레산디에틸, 푸마르산디에틸 및 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디에스테르;
비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(히드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 및 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물;
N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부티레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트 및 N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체;
스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 및 p-메톡시스티렌 등의 비닐기 함유 방향족 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 비닐기 함유 니트릴; 염화비닐 및 염화비닐리덴 등의 할로겐화 탄화수소; (메타)아크릴아미드 등의 비닐기 함유 아미드; 아세트산비닐 등의 에스테르; 1,3-부타디엔, 이소프렌 및 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등의 디엔; 등을 들 수 있다.
이들 중 공중합 반응성 및 내열성의 관점에서 스티렌, 비닐톨루엔, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드 및 비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등이 바람직하다.
중합 개시제 및 용제 등은 특별히 한정되지 않고 해당 분야에서 통상 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들면 중합 개시제로는 아조 화합물(2,2’-아조비스이소부티로니트릴, 2,2’-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등)이나 유기 과산화물(벤조일퍼옥사이드 등)을 들 수 있고, 용제로는 각 모노머를 용해시키는 것이면 좋고, 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물의 용제(E)로서 후술하는 용제 등을 들 수 있다.
또 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용할 수도 있으며, 농축 혹은 희석한 용액을 사용할 수도 있으며, 재침전 등의 방법으로 고체로서 추출한 것을 사용할 수도 있다. 특히 이러한 중합 시에 용제로서 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 포함되는 용제를 사용함으로써 반응 후의 용액을 그대로 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물의 조제에 사용할 수 있으므로, 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물의 제조 공정을 간략화할 수 있다.
또한 필요에 따라 카르복실산 또는 카르복실산 무수물과 환형 에테르와의 반응 촉매(예를 들면 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등) 및 중합 금지제(예를 들면 하이드로퀴논 등) 등을 사용할 수도 있다.
카르복실산 무수물로는 무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산 무수물, 디메틸테트라히드로프탈산 무수물 및 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 무수물 등을 들 수 있다. 카르복실산 무수물의 사용량은 (a)의 사용량 1 몰에 대해 0.5~1 몰인 것이 바람직하다.
수지(B)로는 구체적으로 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지; 글리시딜(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 글리시딜(메타)아크릴레이트/스티렌/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산/비닐톨루엔 공중합체, 3-메틸-3-(메타)아크릴로일옥시메틸옥세탄/(메타)아크릴산/스티렌 공중합체 등의 수지; 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 스티렌/(메타)아크릴산 공중합체, 벤질(메타)아크릴레이트/트리시클로데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지; 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스티렌/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지 등의 수지; 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지 등의 수지; 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지에 추가로 테트라히드로프탈산 무수물을 반응시킨 수지 등의 수지 등을 들 수 있다.
수지(B)의 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량은 바람직하게 3,000~100,000이며, 보다 바람직하게 5,000~50,000이며, 더욱 바람직하게 5,000~30,000이다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 도막 경도가 향상되고, 잔막율도 높으며, 미노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호하고, 착색 패턴의 해상도가 향상되는 경향이 있다.
수지(B)의 분산도 [중량평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn)]은 바람직하게 1.1~6이며, 보다 바람직하게 1.2~4이다.
수지(B)의 고형분 환산의 산가는 바람직하게 50~170mg-KOH/g이며, 보다 바람직하게 50~150mg-KOH/g이며, 더욱 바람직하게 50~135mg-KOH/g이다. 여기서 산가는 수지(B) 1g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 예를 들면 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.
수지(B)의 함유율은 고형분의 총량에 대해 바람직하게 7~65 중량%이며, 보다 바람직하게 13~60 중량%이며, 더욱 바람직하게 17~55 중량%이다. 수지(B)의 함유율이 상기 범위에 있으면, 착색 패턴이 형성될 수 있고, 또한 착색 패턴의 해상도 및 잔막율이 향상되는 경향이 있다.
<중합성 화합물(C)>
중합성 화합물(C)은 중합 개시제(D)로부터 발생한 활성 라디칼 및/또는 산에 의해 중합할 수 있는 화합물이며, 예를 들면 중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게 (메타)아크릴산에스테르 화합물을 들 수 있다.
에틸렌성 불포화 결합을 1개 갖는 중합성 화합물로는 예를 들면 노닐페닐카비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등, 및 상술한 (a), (b) 및 (c)를 들 수 있다.
에틸렌성 불포화 결합을 2개 갖는 중합성 화합물로는 예를 들면 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 및 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
그 중에서도 중합성 화합물(C)은 에틸렌성 불포화 결합을 3개 이상 갖는 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 중합성 화합물로는 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨노나(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 에틸렌글리콜 변성 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 바람직하게 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트를 들 수 있다.
중합성 화합물(C)의 중량평균 분자량은 바람직하게 150 이상 2,900 이하이며, 보다 바람직하게 250 이상 1,500 이하이다.
중합성 화합물(C)의 함유율은 고형분의 총량에 대해 7~65 중량%인 것이 바람직하고, 13~60 중량%인 것이 보다 바람직하고, 17~55 중량%인 것이 더욱 바람직하다.
또한 수지(B)와 중합성 화합물(C)의 함량비 〔수지(B):중합성 화합물(C)〕은 중량 기준으로 바람직하게 20:80~80:20이며, 보다 바람직하게 35:65~80:20이다.
중합성 화합물(C)의 함량이 상기 범위 내에 있으면, 착색 패턴 형성 시의 잔막율 및 컬러필터의 내약품성이 향상되는 경향이 있다.
<중합 개시제(D)>
중합 개시제(D)는 빛이나 열의 작용에 의해 활성 라디칼이나 산 등을 발생시켜 중합을 개시할 수 있는 화합물이면 특별히 한정되지 않고 공지된 중합 개시제를 사용할 수 있다.
중합 개시제(D)로는 O-아실옥심 화합물, 알킬페논 화합물, 비이미다졸 화합물, 트리아진 화합물 및 아실포스핀옥사이드 화합물 등을 들 수 있다.
상기 O-아실옥심 화합물은 식 (d1)로 표시되는 부분 구조를 갖는 화합물이다. 이하 *는 결합위치를 나타낸다.
[화학식 27]
Figure pat00029
상기 O-아실옥심 화합물로는 예를 들면 N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-｛2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일｝-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-이민 및 N-벤조일옥시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민 등을 들 수 있다. 이르가큐어 OXE 01, OXE 02(이상 BASF사 제조), N-1919(ADEKA사 제조) 등의 시판품을 사용할 수도 있다. 그 중에서도 O-아실옥심 화합물은 N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민 및 N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민인 것이 보다 바람직하다.
또한 O-아실옥심 화합물의 함량은 중합 개시제 100 중량부 중 5 중량부 이상인 것이 바람직하고, 50 중량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 70 중량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 80 중량부 이상인 것이 한층 더 바람직하고, 100 중량부 이하인 것이 바람직하다.
상기 알킬페논 화합물은 예를 들면 식 (d2)로 표시되는 부분 구조 또는 식 (d3)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 화합물이다. 이러한 부분 구조 중, 벤젠환은 치환기를 가질 수 있다.
[화학식 28]
Figure pat00030
식 (d2)로 표시되는 부분 구조를 갖는 화합물로는 예를 들면 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸설파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]부탄-1-온 등을 들 수 있다. 이르가큐어 369, 907, 379(이상 BASF사 제조) 등의 시판품을 사용할 수도 있다.
식 (d3)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 화합물로는 예를 들면 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(2-히드록시에톡시)페닐〕프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로페닐페닐)프로판-1-온의 올리고머, α,α-디에톡시아세토페논 및 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
감도의 관점에서 알킬페논 화합물로는 식 (d2)로 표시되는 부분 구조를 갖는 화합물이 바람직하다.
비이미다졸 화합물로는 예를 들면 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐비이미다졸, 2,2’-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐비이미다졸(예를 들면 일본공개특허공보 평6-75372호, 일본공개특허공보 평6-75373호 등 참조.), 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐비이미다졸, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸(예를 들면 일본공고특허공보 소48-38403호, 일본공개특허공보 소62-174204호 등 참조.) 및 4,4’,5,5’-위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물(예를 들면 일본공개특허공보 평7-10913호 등 참조) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 하기 식으로 표시되는 화합물 및 이들의 혼합물이 바람직하다.
[화학식 29]
Figure pat00031
상기 트리아진 화합물로는 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 아실포스핀옥사이드 화합물로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다.
나아가 중합 개시제(D)로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물; 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3, 3', 4, 4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 및 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물; 9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논 및 캄포퀴논 등의 퀴논 화합물; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산메틸 및 티타노센 화합물 등을 들 수 있다.
이들은 후술하는 중합 개시보조제(D1)와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.
중합 개시제(D)는 바람직하게 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, O-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 중합 개시제이며, 보다 바람직하게 O-아실옥심 화합물을 포함하는 중합 개시제이다.
중합 개시제(D)의 함량은 수지(B) 및 중합성 화합물(C)의 합계량 100 중량부에 대해 바람직하게 0.1~40 중량부이며, 보다 바람직하게 1~30 중량부이다.
<중합 개시보조제(D1)>
중합 개시보조제(D1)는 중합 개시제에 의해 중합이 개시된 중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해 사용되는 화합물 또는 증감제이다. 중합 개시보조제(D1)를 포함하는 경우, 통상 중합 개시제(D)와 조합하여 사용된다.
중합 개시보조제(D1)로는 아민 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티옥산톤 화합물 및 카르복실산 화합물 등을 들 수 있다.
상기 아민 화합물로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4’-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미힐러케톤), 4,4’-비스(디에틸아미노)벤조페논 및 4,4’-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 바람직하게 4,4’-비스(디에틸아미노)벤조페논을 들 수 있다. EAB-F(호도가야 가가쿠 고교(주) 제조) 등의 시판품을 사용할 수도 있다.
상기 알콕시안트라센 화합물로는 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센 및 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.
상기 티옥산톤 화합물로는 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤 및 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.
상기 카르복실산 화합물로는 페닐설파닐아세트산, 메틸페닐설파닐아세트산, 에틸페닐설파닐아세트산, 메틸에틸페닐설파닐아세트산, 디메틸페닐설파닐아세트산, 메톡시페닐설파닐아세트산, 디메톡시페닐설파닐아세트산, 클로로페닐설파닐아세트산, 디클로로페닐설파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신 및 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
이들 중합 개시보조제(D1)를 사용하는 경우, 그 함량은 수지(B) 및 중합성 화합물(C)의 합계량 100 중량부에 대해 바람직하게 0.1~30 중량부이며, 보다 바람직하게 1~20 중량부이다. 중합 개시보조제(D1)의 양이 이 범위 내에 있으면, 더욱 고(高)감도로 착색 패턴을 형성할 수 있고, 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있다.
<용제(E)>
용제(E)는 특별히 한정되지 않고 해당 분야에서 통상 사용되는 용제를 사용할 수 있다. 예를 들면 에스테르 용제(분자 내에 -COO-를 포함하되 -O-를 포함하지 않는 용제), 에테르 용제(분자 내에 -O-를 포함하되 -COO-를 포함하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제(분자 내에 -COO-와 -O-를 포함하는 용제), 케톤 용제(분자 내에 -CO-를 포함하되 -COO-를 포함하지 않는 용제), 알코올 용제(분자 내에 OH를 포함하되 -O-, -CO- 및 -COO-를 포함하지 않는 용제), 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제 및 디메틸설폭사이드 등을 들 수 있다.
에스테르 용제로는 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸, 2-히드록시이소부탄산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 시클로헥산올아세테이트 및 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.
에테르 용제로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨 및 메틸아니솔 등을 들 수 있다.
에테르에스테르 용제로는 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 및 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.
케톤 용제로는 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 아세톤, 2-부타논, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 4-메틸-2-펜타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논 및 이소포론 등을 들 수 있다.
알코올 용제로는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 글리세린 등을 들 수 있다.
방향족 탄화수소 용제로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 메시틸렌 등을 들 수 있다.
아미드 용제로는 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.
이들 용제는 단독으로 사용하거나 2종 이상을 병용할 수 있다.
그 중에서도 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 락트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-에톡시프로피온산에틸, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, N,N-디메틸포름아미드 및 N-메틸피롤리돈 등이 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올, 3-에톡시프로피온산에틸 및 N-메틸피롤리돈이 보다 바람직하다.
용제(E)의 함유율은 착색 경화성 수지 조성물의 총량에 대해 바람직하게 70~95 중량%이며, 보다 바람직하게 75~92 중량%이다. 바꿔말하면, 착색 경화성 수지 조성물의 고형분은 바람직하게 5~30 중량%, 보다 바람직하게 8~25 중량%이다. 용제(E)의 함유율이 상기 범위에 있으면, 도포 시의 평탄성이 양호하게 되고, 또한 컬러필터를 형성했을 때에 색농도가 부족하지 않으므로 표시 특성이 양호하게 되는 경향이 있다.
<레벨링제(F)>
레벨링제(F)로는 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 및 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 측쇄에 중합성 기를 가질 수 있다.
실리콘계 계면활성제로는 분자 내에 실록산 결합을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로 도레이 실리콘 DC3PA, 동(同) SH7PA, 동(同) DC11PA, 동(同) SH21PA, 동(同) SH28PA, 동(同) SH29PA, 동(同) SH30PA, 동(同) SH8400(상품명: 도레이 다우코닝(주) 제조), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에츠 가가쿠 고교(주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452 및 TSF4460(모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 재팬 합동회사 제조) 등을 들 수 있다.
상기 불소계 계면활성제로는 분자 내에 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로 플로라드(등록상표) FC430, 동(同) FC431(스미토모 쓰리엠(주) 제조), 메가팩(등록상표) F142D, 동(同) F171, 동(同) F172, 동(同) F173, 동(同) F177, 동(同) F183, 동(同) F554, 동(同) R30, 동(同) RS-718-K(DIC(주) 제조), 에프톱(등록상표) EF301, 동(同) EF303, 동(同) EF351, 동(同) EF352(미츠비시 머티리얼 덴시 가세이(주) 제조), 서플론(등록상표) S381, 동(同) S382, 동(同) SC101, 동(同) SC105(아사히 글라스(주) 제조) 및 E5844((주)다이킨 화인 케미칼 겐큐쇼 제조) 등을 들 수 있다.
상기 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로는 분자 내에 실록산 결합 및 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로 메가팩(등록상표) R08, 동(同) BL20, 동(同) F475, 동(同) F477 및 동(同) F443(DIC(주) 제조) 등을 들 수 있다.
레벨링제(F)를 함유하는 경우, 그 함유율은 착색 경화성 수지 조성물의 총량에 대해 바람직하게 0.001 중량% 이상 0.2 중량% 이하이며, 보다 바람직하게 0.002 중량% 이상 0.1 중량% 이하, 더욱 바람직하게 0.005 중량% 이상 0.07 중량% 이하이다. 레벨링제(F)의 함유율이 상기 범위 내에 있으면, 컬러필터의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.
<기타 성분>
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 필요에 따라 충전제, 다른 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 광안정제, 연쇄 이동제 등 해당 기술분야에서 공지된 첨가제를 포함할 수도 있다.
<착색 경화성 수지 조성물의 제조 방법>
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 예를 들면 착색제(A), 수지(B), 중합성 화합물(C), 중합 개시제(D), 및 필요에 따라 사용되는 용제(E), 레벨링제(F), 중합 개시보조제(D1) 및 기타 성분을 혼합함으로써 조제될 수 있다.
크산텐 화합물(A-1) 이외의 착색제(A)가 안료(P)를 포함하는 경우, 이 안료(P)는 미리 용제(E)의 일부 또는 전부와 혼합하고, 안료의 평균 입자경이 0.2μm 이하 정도가 될 때까지 비드밀 등을 사용하여 분산시키는 것이 바람직하다. 이때, 필요에 따라 상기 안료 분산제, 수지(B)의 일부 또는 전부를 배합할 수도 있다.
혼합 후의 착색 경화성 수지 조성물을 공경(孔徑) 0.01~10μm 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.
<컬러필터의 제조 방법>
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물로부터 착색 패턴을 제조하는 방법으로는 포토리소그래피법, 잉크젯법, 인쇄법 등을 들 수 있다. 그 중에서도 포토리소그래피법이 바람직하다. 포토리소그래피법은 상기 착색 경화성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 건조시켜 착색 조성물층을 형성하고, 포토마스크를 개재시켜 상기 착색 조성물층을 노광하여 현상하는 방법이다. 포토리소그래피법에서 노광 시에 포토마스크를 사용하지 않고, 및/또는 현상하지 않음으로써, 상기 착색 조성물층의 경화물인 착색 도막을 형성할 수 있다. 이와 같이 형성한 착색 패턴이나 착색 도막을 본 발명의 컬러필터로 할 수 있다.
제조하는 컬러필터의 막두께는 특별히 한정되지 않고 목적이나 용도 등에 따라 적절히 조절할 수 있으며, 예를 들면 0.1~30μm, 바람직하게 0.1~20μm, 더욱 바람직하게 0.5~6μm이다.
기판으로는 유리판이나 수지판, 실리콘 및 상기 재질의 기판 위에 알루미늄, 은 및 은/구리/팔라듐 합금 박막 등을 형성한 것이 사용된다. 이러한 기판 위에는 별도의 컬러필터층, 수지층, 트랜지스터 및 회로 등이 형성되어 있을 수 있다.
포토리소그래피법에 의한 각 색화소의 형성은 공지 또는 관용의 장치나 조건으로 수행할 수 있다. 예를 들면 하기와 같이 해서 제조할 수 있다. 먼저 착색 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고, 가열 건조(프리베이크) 및/또는 감압 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거해서 건조시켜 평활한 착색 조성물층을 얻는다. 도포 방법으로는 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 슬릿 앤드 스핀 코팅법 등을 들 수 있다.
이어서 착색 조성물층은 목적하는 착색 패턴을 형성하기 위한 포토마스크를 개재시켜 노광된다. 노광면 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하거나 포토마스크와 착색 조성물층이 형성된 기판과의 정확한 위치맞춤을 수행할 수 있으므로, 마스크 얼라이너 및 스테퍼 등의 노광장치를 사용하는 것이 바람직하다.
노광 후의 착색 조성물층을 현상액에 접촉시켜 현상함으로써, 기판 위에 착색 패턴이 형성된다. 현상에 의해 착색 조성물층의 미노광부가 현상액에 용해되어 제거된다. 현상액으로는 예를 들면 수산화칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨 및 수산화테트라메틸암모늄 등의 알칼리성 화합물의 수용액이 바람직하다. 현상 방법은 패들법, 디핑법 및 스프레이법 등 중 어느 것이어도 좋다. 나아가 현상 시에 기판을 임의의 각도로 기울일 수도 있다. 현상 후에는 수세하는 것이 바람직하다.
나아가 얻어진 착색 패턴에 포스트베이크를 수행하는 것이 바람직하다.
얻어진 착색 패턴을 컬러필터로서 구성할 수 있다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 의해 특히 내열성이 우수한 컬러필터를 제조할 수 있다. 상기 컬러필터는 표시장치(예를 들면 액정표시장치, 유기EL장치, 전자페이퍼 등) 및 고체촬상소자에 사용되는 컬러필터로서 유용하다.
< 실시예 >
이하 실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 본래 하기 실시예에 의해 제한을 받는 것이 아니며, 전술ㆍ후술의 취지에 적합할 수 있는 범위에서 적당하게 변경을 가하여 실시하는 것도 물론 가능하며, 그것들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. 또, 이하에서는 특별히 단서가 없는 한 "부"는 "중량부"를, "%"는 "중량%"를 의미한다.
( 합성예 1)
냉각관 및 교반장치를 구비한 플라스크에 식 (AXa-1)로 표시되는 화합물을 10부, 클로로포름 300부 및 N,N-디메틸포름아미드 5.7부를 투입하고, 교반 하에 20℃ 이하를 유지하면서, 염화티오닐 12.6부를 적하하여 가하고 5시간 유지하여 반응시켰다. 그 후, 교반 하에 20℃ 이하로 유지하면서, N-에틸메틸아민 6.7부 및 트리에틸아민 11.5부의 혼합액을 적하하여 가했다. 그 후, 같은 온도에서 5시간 교반하여 반응시켰다. 이어서 얻어진 반응 혼합물을 로터리 이베포레이터로 용매를 증류제거한 후, 메탄올을 소량 가하여 격렬하게 교반했다. 이 혼합물을 이온 교환수 375부의 혼합액 중에 교반하면서 가하여 결정을 석출시켰다. 석출한 결정을 여과분별하고, 이온 교환수로 잘 세정하고 60℃에서 감압 건조하여 식 (AXa-1a)로 표시되는 화합물 10.7부를 얻었다.
[화학식 30]
Figure pat00032
식 (AXa-1a)로 표시되는 화합물의 동정
(질량 분석) 이온화 모드 = ESI+: m/z = 701.9[M-Cl]+
Exact Mass: 736.4
식 (AXa-1a)로 표시되는 화합물 7.3부에 메탄올 400부를 가하고 20℃~30℃에서 1시간 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에 이온 교환수 400부를 가하고 2 시간 교반하여 용액(AXa-1aKA)을 얻었다.
한편, 포스포12 텅스텐산 3수소 9.6부에 이온 교환수 28.8부를 가하고 20℃~30℃에서 1 시간 교반하고, 이어서 메탄올 28.8부를 가하고 2 시간 교반하여 용액(AXa-1aKB)을 얻었다. 용액(AXa-1aKA)에 용액(AXa-1aKB)을 가하고 20℃~30℃에서 12 시간 교반했다. 생긴 침전물을 여과에 의해 여취(濾取)하고, 이온 교환수 200부로 2번 세정, 이어서 메탄올 200부로 2번 세정했다. 여취한 결정을 60℃에서 24시간 건조하여 식 (AXa-1A)로 표시되는 화합물 10.2부를 얻었다.
[화학식 31]
Figure pat00033
( 합성예 2)
합성예 1에서 N-에틸메틸아민 대신에 2-에틸헥실아민을 사용하는 것 이외에는 합성예 1과 동일하게 합성하여 식 (AXa-2A)로 표시되는 화합물 10.2부를 얻었다.
[화학식 32]
Figure pat00034
( 합성예 3)
환류 냉각기, 적하 로트 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 적당량 흘려 질소 분위기로 하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 100부를 넣어 교반하면서 85℃까지 가열했다. 이어서 상기 플라스크 내에 메타크릴산 19부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일아크릴레이트 및 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-9-일아크릴레이트의 혼합물(함유비는 몰비로 50:50)(상품명 "E-DCPA", 가부시키가이샤 다이셀 제조) 171부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40부에 용해시킨 용액을 적하 펌프를 사용하여 약 5시간에 걸쳐 적하했다. 한편, 중합 개시제 2,2’-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 26부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 120부에 용해시킨 용액을 별도의 적하 펌프를 사용하여 약 5시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하했다. 중합 개시제의 적하가 종료된 후, 약 3시간 같은 온도로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각하여 고형분 43.5%의 공중합체, 수지(B-1)의 용액을 얻었다. 얻어진 수지(B-1)의 중량평균 분자량은 8000, 분산도는 1.98, 고형분 환산의 산가는 53mg-KOH/g이었다.
[화학식 33]
Figure pat00035
( 합성예 4)
환류 냉각기, 적하 로트 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 적당량 흘려 질소 분위기로 하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 280부를 넣어 교반하면서 80℃까지 가열했다. 이어서 상기 플라스크 내에 아크릴산 38부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8및 9-일아크릴레이트의 혼합물(함유비는 몰비로 50:50)(상품명 "E-DCPA", 가부시키가이샤 다이셀 제조) 289부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 125부에 용해시킨 용액을 적하 펌프를 사용하여 약 5시간에 걸쳐 적하했다. 한편, 중합 개시제 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 33부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 235부에 용해시킨 용액을 별도의 적하 펌프를 사용하여 약 6시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하했다. 중합 개시제의 적하가 종료된 후, 약 4시간 같은 온도로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각하여 고형분 35.1%의 공중합체(수지(B-2))를 얻었다. 얻어진 수지(B-2)의 중량평균 분자량은 9200, 분산도 2.08, 고형분 환산의 산가는 77mg-KOH/g이었다.
[화학식 34]
Figure pat00036
수지의 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)의 측정은 GPC법에 의해 이하의 조건으로 수행했다.
장치 ; HLC-8120 GPC(도소(주) 제조)
컬럼 ; TSK-GEL G2000 HXL
컬럼 온도 ; 40℃
용매 ; THF
유속 ; 1.0mL/min
피검액 고형분 농도 ; 0.001~0.01 중량%
주입량 ; 50μL
검출기 ; RI
교정용 표준 물질; TSK　STANDARD　POLYSTYRENE
F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500
(도소(주) 제조)
상기에서 얻어진 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량 및 수평균 분자량의 비(Mw/Mn)를 분산도로 했다.
[착색 경화성 수지 조성물의 조제〕
실시예 1~2 및 비교예 1
하기 표에 나타낸 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 1 실시예 2 비교예 1
염료(A-1) 부 2.5
염료(A-2) 부 2.3
염료(A-3) 부 4.0
수지(B) 부 53 50 31
중합성 화합물(C) 부 50 50 30
중합 개시제(D) 부 10 10 8.3
용제(E-1) 부 700 700
용제(E-2) 부 80 80
용제(E-3) 부 50
용제(E-4) 부 150
레벨링제(F) 부 0.1 0.1
상기 표에서 각 성분은 이하와 같다.
염료(A-1): 식 (AXa-1A)로 표시되는 화합물
염료(A-2): 식 (AXa-2A)로 표시되는 화합물
염료(A-3): 로다민 B(도쿄 가세이 고교(주) 제조)
수지(B): 수지(B-1)(고형분 환산)
중합성 화합물(C): 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD(등록상표)　DPHA; 니혼 가야쿠(주) 제조)
중합 개시제(D): N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF사 제조; O-아실옥심 화합물)
용제(E-1): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
용제(E-2): 프로필렌글리콜모노메틸에테르
용제(E-3): 락트산에틸
용제(E-4): 디메틸포름아미드
레벨링제(F): 메가팩(등록상표) F554(DIC(주) 제조)
〔패턴의 형성〕
2 인치 각의 유리 기판(이글 XG; 코닝사 제조) 위에 착색 감광성 조성물을 스핀 코팅법으로 도포한 후, 100℃에서 3분 동안 프리베이크하여 조성물층을 얻었다. 냉각 후, 조성물층이 형성된 유리 기판과 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 100μm로 하여 노광기(TME-150 RSK; 탑콘(주) 제조)를 사용하여 대기 분위기 하에 150mJ/cm2의 노광량(365nm 기준)으로 광조사했다. 포토마스크로는 100μm 라인 앤드 스페이스 패턴이 형성된 것을 사용한다. 광조사 후, 상기 도막을 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 포함하는 수계 현상액에 23℃에서 80초 동안 침지 현상하고, 수세 후, 오븐 중에 220℃에서 20분 동안 포스트베이크를 수행하여 패턴을 얻었다.
〔내열성 평가〕
상기 패턴의 형성에 있어서 광조사할 때에 포토마스크를 개재시키지 않는 것 이외에는 상기와 동일하게 하여 도막을 얻었다. 얻어진 도막의 색도를 측색기(OSP-SP-200; OLYMPUS사 제조)를 사용하여 측정했다. 이어서 동일한 도막을 230℃에서 20분 가열한 후, 측색기(OSP-SP-200; OLYMPUS사 제조)를 사용하여 다시 색도를 측정하고 가열 전후의 도막의 색차(ΔEab*)를 구했다. 실시예 1 및 2의 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성된 도막의 색차(ΔEab*)는 각각 4.5 및 3.8이었다. 또한 비교예 1의 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성된 도막의 색차(ΔEab*)는 80.1이었다. 이로부터, 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성되는 도막 및 패턴은 내열성이 우수한 것을 확인하였다.
비교예 2
(분산액의 제조)
피그먼트 레드　81을 10.0부, 분산제DISPERBYK-LPN6919(고형분 38%의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액)를 10.5부, 분산 수지로서 (수지 B-2)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액(고형분 35%)을 5.7부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 163.7부를 칭량 후, 0.4μm의 지르코니아 비드 300부를 넣어 페인트 컨디셔너(LAU 사 제조)를 사용하여 3시간 진탕하여 분산액을 제조하였다.
(착색 경화성 수지 조성물의 제조)
상기 분산액: 15부;
알칼리 가용성 수지(B): 수지(B-1)(고형분 환산) 1.0부;
중합성 화합물(C): 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD(등록상표)　DPHA; 니혼 가야쿠(주) 제조) 2.0부;
중합 개시제(D): N-벤조일옥시-1-(4-페닐설파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF사 제조; O-아실옥심 화합물) 0.3부;
용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 18부;
레벨링제(H): 폴리에테르 변성 실리콘 오일(고형분 환산)
(도레이 실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조) 0.09부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 1~2 및 비교예 1과 동일한 방법으로 내열성을 평가한 바, 색차(ΔEab*)는 17.7이었다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물을 사용하면, 양호한 내열성을 갖는 컬러필터를 제공할 수 있다. 상기 컬러필터는 표시장치(예를 들면 액정표시장치, 유기EL장치, 전자페이퍼 등) 및 고체촬상소자에 사용되는 컬러필터로서 유용하다.

Claims (6)

  1. 크산텐 화합물(A-1), 수지(B), 중합성 화합물(C) 및 중합 개시제(D)를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물로서,
    크산텐 화합물(A-1)이 치환 또는 비치환된 설파모일기를 갖는 크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa), 및 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 필수 원소로 함유하는 음이온(AXb)을 갖는 화합물인 착색 경화성 수지 조성물.
  2. 청구항 1에 있어서,
    크산텐 골격을 갖는 양이온(AXa)이 식 (I)로 표시되는 양이온인 착색 경화성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00037

    식 (I) 중,
    R1a~R4a는 서로 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R1a 및 R2a는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있고, R3a 및 R4a는 함께 질소 원자를 포함하는 환을 형성할 수 있으며, 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않고,
    R6a 및 R7a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며,
    ma는 1~5의 정수를 나타내고,
    R9a 및 R10a는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)는 -O-, -CO-, -NR11a-, -OCO-, -COO-, -OCONH-, -NHCOO-, -CONH- 또는 -NHCO-로 치환될 수 있고, R9a 및 R10a는 서로 결합하여 질소 원자를 포함한 3~10원환의 복소환을 형성할 수 있고, 다만, 인접한 메틸렌기가 동시에 동일한 치환기로 치환되지는 않으며, 또한 말단의 메틸렌기가 치환되지도 않으며,
    R11a는 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기 또는 탄소수 7~10의 아랄킬기를 나타낸다.
  3. 청구항 1에 있어서,
    음이온(AXb)이 텅스텐을 필수 원소로 함유하는 헤테로폴리산 또는 이소폴리산의 음이온인 착색 경화성 수지 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서,
    음이온(AXb)이 인텅스텐산의 음이온, 규소텅스텐산의 음이온 또는 텅스텐계 이소폴리산의 음이온 중 어느 것인 착색 경화성 수지 조성물.
  5. 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항의 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성되는 컬러필터.
  6. 청구항 5의 컬러필터를 포함하는 표시장치.

KR1020160179977A 2016-01-20 2016-12-27 착색 경화성 수지 조성물 KR102114951B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016009261 2016-01-20
JPJP-P-2016-009261 2016-01-20
JPJP-P-2016-217221 2016-11-07
JP2016217221A JP6943558B2 (ja) 2016-01-20 2016-11-07 着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170087401A true KR20170087401A (ko) 2017-07-28
KR102114951B1 KR102114951B1 (ko) 2020-05-25

Family

ID=59394556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160179977A KR102114951B1 (ko) 2016-01-20 2016-12-27 착색 경화성 수지 조성물

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6943558B2 (ko)
KR (1) KR102114951B1 (ko)
CN (1) CN106990672A (ko)
TW (1) TWI707201B (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3444290A1 (de) * 2017-08-16 2019-02-20 Covestro Deutschland AG Indikatorsystem
JP7283887B2 (ja) * 2018-01-16 2023-05-30 保土谷化学工業株式会社 キサンテン系カチオン染料とアニオン染料からなる造塩化合物を含有する着色組成物、カラーフィルター用着色剤およびカラーフィルター
JP7312015B2 (ja) * 2018-07-20 2023-07-20 東友ファインケム株式会社 着色硬化性樹脂組成物
JP7499747B2 (ja) 2019-02-18 2024-06-14 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP2021116409A (ja) * 2020-01-28 2021-08-10 保土谷化学工業株式会社 キサンテン色素、該色素を含有する着色組成物、カラーフィルター用着色剤およびカラーフィルター

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130083848A (ko) * 2012-01-13 2013-07-23 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 경화성 수지 조성물
JP2014088558A (ja) 2012-01-30 2014-05-15 Jsr Corp 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
JP2014152274A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Dainippon Printing Co Ltd 着色剤分散液、着色剤分散液の製造方法、カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001081348A (ja) * 1999-07-14 2001-03-27 Nippon Kayaku Co Ltd 着色感光性組成物
JP5251329B2 (ja) * 2008-07-22 2013-07-31 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用青色着色組成物、カラーフィルタおよびカラー表示装置
JP5493381B2 (ja) * 2009-02-20 2014-05-14 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、及びそれを用いたカラーフィルタ
TWI444441B (zh) * 2009-09-25 2014-07-11 Toyo Ink Mfg Co 著色組成物及彩色濾光片
JP2011186043A (ja) * 2010-03-05 2011-09-22 Dic Corp カラーフィルタ用青色顔料及びカラーフィルタ
JP5962042B2 (ja) * 2011-02-28 2016-08-03 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物
JP2012233033A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Sumitomo Chemical Co Ltd 染料用塩
JP5884325B2 (ja) * 2011-07-15 2016-03-15 Jsr株式会社 カラーフィルタ、液晶表示素子およびカラーフィルタの製造方法
JP2013205834A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Fujifilm Corp 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに画像表示装置
TW201411282A (zh) * 2012-07-31 2014-03-16 Jsr Corp 著色組成物、彩色濾光片及顯示元件
JP5646663B2 (ja) * 2013-02-08 2014-12-24 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用着色樹脂組成物、色材分散液、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置
JP6455830B2 (ja) * 2013-07-16 2019-01-23 東友ファインケム株式会社Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 着色硬化性樹脂組成物
CN104460231B (zh) * 2013-09-18 2020-03-13 东友精细化工有限公司 着色固化性树脂组合物
JP5895925B2 (ja) * 2013-12-05 2016-03-30 大日本印刷株式会社 非水系分散剤、カラーフィルタ用色材分散液、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機発光表示装置
JP6256126B2 (ja) * 2014-03-13 2018-01-10 大日本印刷株式会社 色材分散組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置
TWI559084B (zh) * 2014-03-24 2016-11-21 奇美實業股份有限公司 彩色濾光片用藍色感光性樹脂組成物及其應用

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130083848A (ko) * 2012-01-13 2013-07-23 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 경화성 수지 조성물
JP2014088558A (ja) 2012-01-30 2014-05-15 Jsr Corp 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
JP2014152274A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Dainippon Printing Co Ltd 着色剤分散液、着色剤分散液の製造方法、カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR102114951B1 (ko) 2020-05-25
JP6943558B2 (ja) 2021-10-06
TW201736956A (zh) 2017-10-16
CN106990672A (zh) 2017-07-28
TWI707201B (zh) 2020-10-11
JP2017128708A (ja) 2017-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102036188B1 (ko) 착색 분산액
KR102092348B1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물
KR102202939B1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물 및 컬러 필터 및 액정 표시 장치
JP6742698B2 (ja) 着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
KR102114951B1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물
KR102128122B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR20160117265A (ko) 착색 경화성 수지 조성물
TW201823377A (zh) 著色硬化性樹脂組成物、由前述著色硬化性樹脂組成物所形成的濾色器及包含前述濾色器的顯示裝置
KR101837527B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물
KR101795815B1 (ko) 착색 감광성 조성물
KR102023779B1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물
JP7075724B2 (ja) 化合物、着色組成物、繊維材料、カラーフィルタ、及び表示装置
KR20180022617A (ko) 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치
KR102337048B1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 그것을 포함하는 표시 장치
KR101980262B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물
TWI746612B (zh) 化合物、著色組合物、纖維材料、濾色器和顯示裝置
KR20180038387A (ko) 착색 경화성 수지 조성물
JP6931575B2 (ja) 着色組成物、着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
KR102173714B1 (ko) 화합물, 착색 경화성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정표시장치
KR102156842B1 (ko) 신규한 시아닌 화합물 및 이를 포함한 착색 경화성 수지 조성물
JP7457577B2 (ja) フェノチアジン系化合物及びそれを含む硬化性樹脂組成物
JP7292963B2 (ja) 着色硬化性樹脂組成物
KR20210030340A (ko) 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시장치
WO2020100646A1 (ja) 着色硬化性樹脂組成物
KR20170099759A (ko) 화합물 및 착색 경화성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant