KR20140144702A - 광학 특성이 개선된 폴리아미드 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하나 이상의 폴리아미드 중합체와, 하나 이상의 하기 화학식 I의 화합물을 포함하는 조성물에 관한 것이다:
[화학식 I]
Figure pct00020

[상기 식 중,
x는 1, 2 또는 3이고;
R1 및 R2는 수소, 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택됨]
상기 우레아 화합물은 폴리아미드 중합체 조성물의 광학 특성을 개선하기 위해 사용된다. 본 발명은 또한 상기 조성물로 제조된 성형 물품 및 신규 우레아 화합물에 관한 것이기도 하다.

Description

광학 특성이 개선된 폴리아미드 조성물{POLYAMIDE COMPOSITIONS WITH IMPROVED OPTICAL PROPERTIES}
본 발명은 하나 이상의 폴리아미드와 하나 이상의 우레아 화합물을 포함하는 중합체 조성물에 관한 것이다. 상기 우레아 화합물은 폴리아미드 중합체 조성물의 광학 특성을 개선하는데 사용된다. 본 발명은 또한 상기 조성물로 제조된 성형 물품과 신규의 우레아 화합물에 관한 것이기도 하다.
폴리아미드(PA)는 자체의 성능 특성이 매우 우수하고 비용이 적게 든다는 점에서 다수의 상이한 분야, 예를 들어 자동차, 기계 공학, 전기, 전자, 스포츠 및 레저 산업에서 널리 사용되고 있다. 폴리아미드는 또한 식품 포장에도 사용된다. 폴리아미드가 평판, 시트, 필름 및 용기로서 사용되는 다수의 분야에서는 상기 폴리아미드를 사용하여 보관 및/또는 포장된 물품 및/또는 이 폴리아미드로 덮인 물품은 용이하게 식별될 수 있도록 만들기 위해 상당 수준의 투명성을 필요로 하고/하거나 실질적으로 헤이즈가 없어야 한다. 그러므로 투명한 폴리아미드를 사용하는 것이 요망될 것이다. 그러나 다수의 폴리아미드는 반 결정질로서, 이 폴리아미드 중에 존재하는 결정질 도메인들에 의해 입사광이 산란되기 때문에 광학적으로 불투명하다. 광학 특성, 예를 들어 투명성(clarity), 헤이즈(haze) 또는 레이저 투명도(laser transparency)를 개선하기 위해서 산업 실무상으로는 결정화 가능한 열가소성 중합체와 함께 조핵제와 청징제(clarifier)가 일반적으로 사용된다. 폴리프로필렌용 조핵제와 청징제로서 매우 다양한 것들이 공지되어 있다. 현재까지 폴리아미드 조성물의 헤이즈를 줄이는 청징제에 대해서는 알려져 있지 않다. 그러므로 폴리아미드 조성물에 사용될 수 있는 청징제가 절실히 요망되고 있다.
WO 제04/072168호에는, 조핵제로서 아미드 화합물을 포함하는 폴리프로필렌 조성물이 개시되어 있다.
일본특허 제5320501호에는, 이형 특성을 개선하기 위해 폴리아미드 수지, 바륨 스테아르산염(이형제) 및 화학식 (R1-NHC(O)NH)2X [식 중, X는 2가 탄화수소기이고, R1은 9~40개의 C 원자를 가지는 지방족 탄화수소기임]인 비스우레아 화합물을 포함하는 폴리아미드 수지 조성물이 개시되어 있다. 이로써 제조된 몰딩은 기계적 강도가 매우 뛰어난 것으로 알려졌는데; 특히 이와 같은 몰딩은 인성을 가질 뿐만 아니라 강성도 크다고 한다. 그러나 투명성이 개선되었다든지, 헤이즈가 감소하였다든지 또는 레이저 투명도가 개선되었다든지에 대한 언급은 없다.
하기 화학식 A의 비스우레아 화합물이 JP 제2003064047호에 개시되어 있다:
[화학식 A]
Figure pct00001
[상기 식 중, R1 및 R2는 C8~C20-알킬, 예를 들어 n-옥틸, n-노닐, n-옥타데실, 2-에틸헥실 또는 1-에틸펜틸임]
사이클로헥산 유도체가 유기 겔화제로서 사용된다.
JP 제2007051290호에는, 투명 스티렌 수지와, 화학식 R2-NHCONH-R1-NHCONH-R3 [식 중, R1은 2가 탄화수소기이고, R2 및 R3는 9~40개의 탄소 원자를 가지는 탄화수소기임]인 비스우레아 화합물을 포함하는 투명 스티렌 수지 조성물이 개시되어 있다. 투명 스티렌 수지 조성물은 색조, 곡률 특성 및 내약품성이 뛰어난 성형 제품을 제공한다.
DE 제2710595호에는, 화합물 트랜스-(4-우레이도사이클로헥실)우레아, 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-tert-부틸우레아) 및 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-사이클로헥실우레아)가 개시되어 있다. 문헌[Journal fur Praktische Chemie(1915), vol. 91, 1-38]에는, 화합물 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-페닐우레아)가 개시되어 있다. 문헌[Chem. Eur. J. 1997, 3, 1238-1243]에는, 화합물 (R,R)-1-(1-페닐에틸)-3-{9-[3-(1-페닐에틸)우레이도]노닐}우레아가 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 광학 특성이 개선된 폴리아미드 조성물을 제공하는 것이다. 이와 같은 조성물은 특히 우수한 광학 특성, 즉 증가된 투명성, 감소된 헤이즈 및 증가된 레이저 투명도로부터 선택되는 광학 특성을 나타내야 한다.
놀랍게도 본 발명을 통해서 이하에 정의된 바와 같은 화학식 I의 우레아 화합물이 폴리아미드 조성물용 청징제로서 적당하다는 사실, 특히 이 화합물은 폴리아미드 조성물 중에서 광학 특성 하나 이상을 개선하는 역할을 한다는 사실, 즉 증가된 투명성, 감소된 헤이즈 및 증가된 레이저 투명도로부터 선택되는 광학 특성 하나 이상을 나타낸다는 사실이 파악되었다.
그러므로 본 발명은 하나 이상의 폴리아미드 중합체와, 하나 이상의 하기 화학식 I의 화합물을 포함하는 조성물을 제공한다:
[화학식 I]
Figure pct00002
상기 식 중,
x는 1, 2 또는 3이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택된다.
본 발명의 또 다른 양태는 증가된 투명성, 증가된 레이저 투명도 및 감소된 헤이즈로부터 선택되는 광학 특성 하나 이상을 개선하기 위한 하나 이상의 반 결정질 폴리아미드 중합체를 포함하는 중합체 조성물에서의 하기 화학식 I의 화합물의 용도에 관한 것이다:
[화학식 I]
Figure pct00003
[상기 식 중, R1, R2, Z 및 x는 상기 정의된 바와 같음]
본 발명의 또 다른 양태는 상기 정의된 조성물로 제조된 성형 물품에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 양태는 하기 화학식 I의 신규 화합물에 관한 것이되,
[화학식 I]
Figure pct00004
[상기 식 중,
x는 1, 2 또는 3이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택된다.]
R1 및 R2가 동일하며, 수소, tert-부틸, 2-에틸헥실, 1-에틸펜틸, 사이클로헥실 또는 페닐이고, x가 1인 경우, Z가 1,4-사이클로헥실렌이거나
R1 및 R2가 둘 다 (R)-1-페닐에틸이고, x가 1인 경우, Z가 -(CH2)9-
인 화합물은 제외된다.
폴리아미드 중합체 하나 이상을 포함하는 중합체 조성물에서 화학식 I의 우레아 화합물의 본 발명에 의한 용도는 다음과 같은 이점들 중 하나 이상을 수반한다:
- 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여 헤이즈 값(haze value)[ASTM D1003에 의한 방법으로 측정(층 두께 1.1㎜)]이 5% 이상 감소한다는 점;
- 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여 투명도 값(clarity value)[ASTM D1003에 의한 방법으로 측정(층 두께 1.1㎜)]이 5% 이상 증가한다는 점; 그리고
- 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여 레이저 투명도 값(laser transparency value)[1064㎚(층 두께)에서 측정]이 5% 이상 증가한다는 점.
본원에 사용된 용어 "헤이즈"는, 입사광으로부터 평균 2.5°초과하여 벗어 나는 표본(평판)을 통과하는 투과 광의 백분율로서 정의된다. 헤이즈는 ASTM D1003에 따라서 측정된다. 본원에 사용된 용어 "투명도"는, 입사광으로부터 평균 2.5°미만 벗어나는 표본(평판)을 통과하는 투과 광의 백분율로서 정의된다. 상기 표본은 실질적으로 먼지, 기름때, 스크래치 및 흠집이 없는 평행 평면 표면들을 가져야만 하며, 뚜렷한 내부 공동 및 입자도 없어야 한다.
레이저 투과 용접법은 진동 용접법과 가열 툴 용접법의 대안을 제공하는 방법으로서, 최근 들어, 특히 다이오드 레이저와 함께 사용되면서 그 활용도가 꾸준히 증가하고 있다.
기술 문헌[Kunststoffe 87, (1997) 3, 348-350; Kunststoffe 88, (1998), 2, 210-212; Kunststoffe 87 (1997) 11, 1632-1640; Plastverarbeiter 50 (1999) 4, 18-19; Plastverarbeiter 46 (1995) 9, 42-46]에는 레이저 투과 용접법의 기본 원리가 기술되어 있다.
레이저 투과 용접 수행시 선결 조건은, 레이저로부터 방출되는 방사선이 우선, 사용된 파장의 레이저 광에 대해 적당한 투명도를 가지는 몰딩(molding)[이하 본원에서는 레이저 투명 몰딩이라 칭함]을 통과한 다음, 상기 레이저 투명 몰딩과 접촉하는 제2 몰딩[이하 본원에서는 레이저 흡수 몰딩이라 칭함]에 의해 박 층에 흡수되어야 하는 것이다. 레이저 광을 흡수하는 박 층 내부에서 레이저 에너지는 열로 전환되는데, 이를 통하여 상기 접촉 대역에서는 용융 현상이 일어나게 되고, 궁극적으로는 용접을 통하여 상기 레이저 투명 몰딩과 레이저 흡수 몰딩이 결합하게 된다.
레이저 투과 용접은 일반적으로 파장 600~1200㎚의 레이저를 사용한다. 열 가소성 물질의 용접에 사용되는 레이저의 파장 범위에서는 일반적으로 다음과 같은 레이저들이 사용된다: Nd:YAG 레이저(1064㎚) 또는 고 전력 다이오드 레이저(800~1000㎚). 이하, 용어 "레이저 투명" 및 "레이저 흡수"가 사용될 때, 상기 용어들은 항상 전술된 파장 범위의 레이저가 사용되었을 때를 말한다.
레이저 흡수 몰딩과는 대조적으로, 레이저 투명 몰딩의 필요 조건은, 바람직한 파장 범위에서 레이저 투명도가 높아서, 레이저 빔이 필요 에너지를 가지고 용접 구역을 투과할 수 있어야 하는 것이다.
본원에 사용된 용어 "반 결정질"이란, 폴리아미드 중합체가, 결정질 영역의 특징인 예리한 피처(feature)과 비결정질 영역의 특징인 확산 피처를 가지는 X-선 패턴을 나타내는 경우를 말한다.
본 발명의 목적에 있어서, 총체적 용어들은 화학식을 통해 정의된 변수들을 정의할 때 사용되는데, 이 경우, 상기 총체적 용어들은 일반적으로, 그리고 대표적으로 문제의 치환기들을 나타낸다. Cn∼Cm의 정의는, 각각의 치환기 또는 치환기 부분에 존재할 수 있는 각각의 탄소 원자의 수를 말해준다.
본원에 사용된 용어 "C1∼C4-알킬"은, 1~4개의 탄소 원자를 가지는 직쇄형 또는 분지형 알킬기를 말한다. 그 예로서는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 2-부틸, 이소-부틸 및 tert-부틸이 있다.
본원에 사용된 용어 "선형 C1∼C7-알킬"은, 1~7개의 탄소 원자를 가지는 직쇄형 알킬기를 말한다. 그 예로서는 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실 및 n-헵틸이 있다.
본원에 사용된 용어 "분지형 C3∼C10-알킬"은, 3∼10개의 탄소 원자를 가지는 분지형 알킬기를 말한다. 그 예로서는 이소-프로필, 2-부틸, 이소-부틸, tert-부틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 1-에틸-2-메틸프로필, 1-메틸헥실, 2-메틸헥실, 3-메틸헥실, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실, 1-에틸펜틸, 2-에틸펜틸, 3-에틸펜틸, 1-메틸헵틸, 2-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, 4-메틸헵틸, 5-메틸헵틸, 1-프로필펜틸, 1-에틸헥실, 2-에틸헥실, 3-에틸헥실, 1-메틸옥틸, 2-메틸헵틸, 1-에틸헥실, 2-에틸헥실, 1,2-디메틸헥실, 1-프로필펜틸 및 2-프로필펜틸 등이 있다.
본원에 사용된 용어 "C1∼C10-알킬"은, 1∼10개의 탄소 원자를 가지는 직쇄형 또는 분지형 알킬기를 말한다. C1∼C10-알킬에 대한 예로서는 C1∼C4-알킬 및 분지형 C3∼C10-알킬에 대하여 예시된 것들과는 별도로, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐 및 n-데실이 있다.
본원에 사용된 용어 "C3∼C10-알칸디일"(C3∼C10-알킬렌이라고도 칭하여짐)은, 3~10개의 탄소 원자를 가지는 직쇄형 또는 분지형 포화 알킬기를 말하는 것으로서, 이와 같은 기의 수소 원자들 중 하나는 추가의 결합 위치에 의해 치환된다. 선형 C3∼C6-알칸디일에 대한 예로서는 프로판-1,3-디일, 부탄-1,4-디일, 펜탄-1,5-디일, 헥산-1,6-디일을 포함한다. 분지형 C3∼C6-알칸디일에 대한 예로서는 프로필-1,1-디일, 부틸-1,1-디일, 1-메틸에탄-1,2-디일, 1,2-디메틸에탄-1,2-디일, 1-에틸에탄-1,2-디일, 1-메틸프로판-1,3-디일 및 2-메틸프로판-1,3-디일 등을 포함한다.
본원에 사용된 용어 "C3∼C12-사이클로알킬"은, 3~12개의 탄소 원자를 가지는 단일환, 이환 또는 삼환 탄화수소 라디칼(= C3∼C12-사이클로알킬)을 말하고, 종종은 5~10개의 탄소 원자를 가지는 단일환, 이환 또는 삼환 탄화수소 라디칼(= C5∼C10-사이클로알킬)을 말한다. 3~10개의 탄소 원자를 가지는 단일환 라디칼의 예로서는 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸, 사이클로노닐 및 사이클로데실을 포함한다. 7~8개의 탄소 원자를 가지는 이환 라디칼의 예로서는 비사이클로[2.2.1]헥실, 비사이클로[2.2.1]헵틸, 비사이클로[3.1.1]헵틸, 비사이클로[2.2.2]옥틸 및 비사이클로[3.2.1]옥틸을 포함한다. 삼환 라디칼의 예로서는 1-아다만틸, 2-아다마만틸 및 호모아다만틸을 포함한다. C3∼C12-사이클로알킬은, 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Ra는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다.
본원에 사용된 용어 "C5∼C8-사이클로알킬렌"(C5∼C8-사이클로알칸디일이라고도 칭하여짐)은, 각각의 경우 상기 정의된 바와 같은 사이클로알킬 라디칼, 즉 사이클로알킬 고리 상 임의의 위치에 존재하는 수소 원자 하나가 추가의 결합 위치 하나에 의해 치환되어, 2가 부분을 형성하는 사이클로알킬 라디칼을 말한다. C5∼C8-사이클로알킬렌은, 동일하거나 상이한 라디칼 Rb 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Rb는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다.
본원에 사용된 용어 "Cn∼Cm-사이클로알킬-Co∼Cp-알킬"은, 상기 정의된 바와 같이 o~p개의 탄소 원자를 가지는 알킬렌기를 통하여 어떤 분자의 나머지 부분에 결합하게 되는, 상기 정의된 바와 같이 n~m개의 탄소 원자를 가지는 사이클로알킬기를 말한다. 그 예로서는 사이클로펜틸메틸, 사이클로펜틸에틸, 사이클로펜틸프로필, 사이클로헥실메틸, 사이클로헥실에틸 및 사이클로헥실프로필 등이 있다. Cn∼Cm-사이클로알킬-Co∼Cp-알킬이 치환되는 경우, 사이클로알킬 부분은 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개를 지니며, Ra는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다.
본원에 사용된 용어 "아릴"은, C6∼C14 탄소방향족기(carboaromatic group), 예를 들어 페닐, 나프틸, 안트라세닐 및 페난트레닐을 말한다. 아릴은 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Ra는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다. 바람직하게 아릴은 페닐이다.
본원에 사용된 용어 "아릴렌"은, 아릴 중 임의의 위치에 있는 수소 원자 하나가 추가의 결합 위치 하나에 의해 치환되어 2가 부분을 형성하는, 상기 정의된 바와 같은 아릴 라디칼을 말한다. 아릴렌은 동일하거나 상이한 라디칼 Rb 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Rb는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다. 바람직하게 아릴은 페닐렌이다.
용어 "페닐렌"이란, 1,2-페닐렌(o-페닐렌), 1,3-페닐렌(m-페닐렌) 및 1,4-페닐렌(p-페닐렌)을 말한다.
본원에 사용된 용어 "헤테로아릴"("단일환 또는 이환 5~10원 헤테로방향족 고리")이란, 고리 원을 5개 또는 6개 가지는 라디칼로서, 탄소환 또는 복소환 5원, 6원 또는 7원 고리에 융합되었을 때 고리 원의 총 갯 수가 8~10개가 될 수 있는 단일환 헤테로방향족 라디칼을 말하는데, 각각의 경우 이러한 고리 원들 중 1, 2, 3 또는 4개, 바람직하게는 1, 2 또는 3개는 서로 독립적으로 산소, 질소 및 황으로 이루어진 군으로부터 선택되는 이종 원자이다. 헤테로아릴 라디칼은 탄소 고리 원 또는 질소 고리 원을 통하여 어떤 분자의 나머지 부분에 결합할 수 있다. 탄소환 또는 복소환 융합 고리는 C5~C7-사이클로알킬, 5원, 6원 또는 7원 헤테로사이클릴 및 페닐로부터 선택된다. 헤테로아릴은 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Ra는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다. 바람직하게 아릴은 페닐이다.
단일환 5~6원 헤테로방향족 고리에 대한 예로서는 트리아지닐, 피라지닐, 피리미딜, 피리다지닐, 피리딜, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 티아졸릴, 옥사졸릴, 티아디아졸릴, 옥사디아졸릴, 이소티아졸릴 및 이속사졸릴을 포함한다.
페닐 고리에 융합되는 5~6원 헤테로방향족 고리(또는 5~6원 헤테로방향족 고리에 융합되는 페닐 고리)에 대한 예로서는 퀴놀리닐, 이소퀴놀리닐, 인돌릴, 인돌리지닐, 이소인돌릴, 인다졸릴, 벤조푸릴, 벤즈티에닐, 벤조[b]티아졸릴, 벤족사졸릴, 벤즈티아졸릴, 벤족사졸릴 및 벤지미다졸릴이 있다. 사이클로알케닐 고리에 융합되는 5~6원 헤테로방향족 고리에 대한 예로서는 디하이드로인돌릴, 디하이드로인돌리지닐, 디하이드로이소인돌릴, 디하이드로키놀리닐, 디하이드로이소키놀리닐, 크로메닐 및 크로마닐 등이 있다.
본원에 사용된 용어 "헤테로아릴렌"이란, 헤테로아릴 중 임의의 위치에 있는 수소 원자 하나가 추가의 결합 위치 하나에 의해 치환되어 2가 부분을 형성하는, 상기 정의된 바와 같은 헤테로아릴 라디칼을 말한다. 헤테로아릴렌은 동일하거나 상이한 라디칼 Rb 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Rb는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다.
용어 "헤테로사이클릴"은, 5개 또는 6개의 고리 원과, 1, 2, 3 또는 4개, 바람직하게는 1, 2 또는 3개의 이종 원자(고리원)를 가지는 비 방향족 포화 또는 부분 불포화 복소환 고리를 포함한다. 헤테로사이클 라디칼은 탄소 고리 원 또는 질소 고리 원을 통하여 어떤 분자의 나머지 부분에 결합할 수 있다. 비 방향족 고리에 대한 예로서는 피롤리디닐, 피라졸리닐, 이미다졸리닐, 피롤리닐, 피라졸리닐, 이미다졸리닐, 테트라하이드로푸라닐, 디하이드로푸라닐, 1,3-디옥솔라닐, 디옥솔레닐, 티올라닐, 디하이드로티에닐, 옥사졸리디닐, 이속사졸리디닐, 옥사졸리닐, 이속사졸리닐, 티아졸리닐, 이소티아졸리닐, 티아졸리디닐, 이소티아졸리디닐, 옥사티올라닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 피라닐, 디하이드로피라닐, 테트라하이드로피라닐, 1,3- 및 1,4-디옥사닐, 티오피라닐, 디하이드로티오피라닐, 테트라하이드로티오피라닐, 모폴리닐 및 티아지닐 등을 포함한다. 고리 원으로서 1개 또는 2개의 카보닐기도 포함하는 헤테로사이클 고리에 대한 예로서는 피롤리딘-2-오닐, 피롤리딘-2,5-디오닐, 이미다졸리딘-2-오닐, 옥사졸리딘-2-오닐 및 티아졸리딘-2-오닐 등을 포함한다. 헤테로사이클릴은 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개에 의해 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있으며, Ra는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택된다. 바람직하게 아릴은 페닐이다.
용어 "할로겐"이란, 플루오르, 염소, 브롬 또는 요오드를 말한다.
치환 패턴에 따라서 본 발명의 화학식 I의 화합물 또는 본 발명에 따라서 사용되는 화학식 I의 화합물은 키랄 중심을 하나 이상 가질 수 있는데, 이 경우, 상기 화합물은 거울상 이성체 또는 부분 입체 이성체의 혼합물로서 존재한다. 본 발명은 화학식 I의 화합물의 순수한 거울상 이성체 또는 순수한 부분 입체 이성체와 이들의 혼합물, 그리고 화학식 I의 화합물의 순수한 거울상 이성체 또는 부분 입체 이성체 또는 이들의 혼합물의 본 발명에 따른 용도 둘 다를 제공한다.
본원에서 폴리아미드 중합체는 필수 구성 요소로서 중합체 주쇄 내에 반복 아미드기들을 가지는 합성 장쇄 폴리아미드의 동종 중합체, 공중합체, 블랜드 및 그라프트인 것으로 이해될 것이다.
폴리아미드 동종 중합체의 예로서는 나일론-6(PA 6, 폴리카프로락탐), 나일론-7(PA 7, 폴리에난토락탐 또는 폴리헵타노아미드), 나일론-10(PA 10, 폴리데카노아미드), 나일론-11(PA 11, 폴리운데카노락탐), 나일론-12(PA 12, 폴리도데카노락탐), 나일론-4,6(PA 46, 폴리테트라메틸렌아디파미드), 나일론-6,6(PA 66, 폴리헥사메틸렌아디파미드), 나일론-6,9(PA 69, 1,6-헥사메틸렌디아민과 아젤라산의 중축합 생성물), 나일론-6,10(PA 610, 1,6-헥사메틸렌 디아민과 1,10-데칸디온산의 중축합 생성물), 나일론-6,12(PA 612, 1,6-헥사메틸렌디아민과 1,12-도데칸디온산의 중축합 생성물), 나일론-10,10(PA 1010, 1,10-데카메틸렌디아민과 1,10-데칸디카복실산의 중축합 생성물), PA 1012(1,10-데카메틸렌디아민과 도데칸디카복실산의 중축합 생성물) 또는 PA 1212(1,12-도데카메틸렌디아민과 도데칸디카복실산의 중축합 생성물)이 있다.
폴리아미드 공중합체는 폴리아미드 구성 블록(building block)들을 다양한 비율로 포함할 수 있다. 폴리아미드 공중합체의 예로서는 나일론 6/66 및 나일론 66/6(PA 6/66 및 PA 66/6, 즉 PA 6과 PA 66 구성 블록으로 제조된 코폴리아미드(즉 카프로락탐, 헥사메틸렌디아민 및 아디프산으로 제조된 코폴리아미드))이 있다. PA 66/6(90/10)은 PA 66을 90%, 그리고 PA 6을 10% 포함할 수 있다. 추가의 예로서는 나일론 66/610(헥사메틸렌디아민, 아디프산 및 세바신산으로 제조된 PA 66/610)이 있다.
폴리아미드는 부분 방향족 폴리아미드도 추가로 포함한다. 부분 방향족 폴리아미드는 보통 방향족 디카복실산, 예를 들어 테레프탈산 또는 이소프탈산과, 선형 또는 분지형 지방족 디아민으로부터 유도된다. 그 예로서는 PA 9T(테레프탈산과 노난디아민으로 제조됨), PA 6T/6I(헥사메틸렌디아민, 테레프탈산과 이소프탈산으로 제조됨), PA 6T/6, PA 6T/6I/66 및 PA 6T/66이 있다.
폴리아미드는 방향족 폴리아미드, 예를 들어 폴리-메타-페닐렌-이소프탈라미드(노멕스(Nomex®) 또는 폴리-파라-페닐렌-테레프탈라미드(케블라(Kevlar®)도 추가로 포함한다.
폴리아미드는 원칙적으로 2가지 방법에 의해 제조될 수 있다. 디카복실산과 디아민의 중합뿐만 아니라, 아미노산 또는 이 아미노산의 유도체, 예를 들어 아미노카보니트릴, 아미노카복사미드, 아미노카복실레이트 에스테르 또는 아미노카복실레이트 염의 중합에 있어서, 출발 단량체 또는 출발 올리고머의 아미노 및 카복실 말단 기들은 서로 반응을 하여 아미노기와 물을 생성한다. 이후 물은 중합체로부터 제거될 수 있다. 카복사미드로부터의 중합에 있어서, 출발 단량체 또는 출발 올리고머의 아미노 및 아미드 말단 기들은 서로 반응을 하여 아미드기와 암모니아를 생성한다. 이후 암모니아는 중합체로부터 제거될 수 있다. 이와 같은 중합 반응은 통상 중 축합 반응이라고 알려져 있다.
출발 단량체 또는 출발 올리고머로서 락탐들로부터 중합하는 것은 통상 중 첨가라고 알려져 있다.
폴리아미드는 폴리아미드로 제조된 공중합체들과, 추가의 단편(segment), 예를 들어 디올, 폴리에스테르 및 에테르 등의 형태를 가지는 단편들로 제조된 공중합체, 특히 폴리에스테라미드, 폴리에테르에스테라미드 또는 폴리에테라미드의 형태를 가지는 단편들을 추가로 포함한다. 예를 들어 폴리에테라미드에 있어서, 폴리아미드 단편은 임의의 시판중인 폴리아미드, 바람직하게는 PA 6 또는 PA 66일 수 있으며, 폴리에테르는 보통 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜이다.
본 발명의 바람직한 구체예는 조성물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것인데, 여기서, 폴리아미드는 지방족 폴리아미드, 부분 방향족 폴리아미드 및 이들의 혼합물로부터 선택된다. 이와 같은 구체예의 구체적인 양태에 의하면, 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA 7, PA 10, PA 11, PA 12, PA 66, PA 69, PA 610, PA 612, PA 1010, PA 6/66, PA 66/6, PA 66/610 및 이들의 혼합물로부터 선택된다. 이와 같은 구체예의 더욱 구체적인 양태에 의하면, 폴리아미드는 PA 6, PA　11, PA 12, PA 66, PA 66/6, PA 6/66 및 이들의 혼합물로부터 선택된다.
화학식 I의 화합물의 변수들(치환기들) 및 지수들에 관한 바람직한 구체예에 대하여 이하에 언급된 바는 그 자체로서 유효할 뿐만 아니라, 바람직하게는 서로 함께 유효하다. x는 2 또는 3이고, Z는 동일하거나 상이할 수 있다는 사실은 당 업자들에게 명백하다.
추가의 변수들(치환기들) 및 지수들의 바람직한 구체예에 관하여 이하에 언급된 바는 화학식 I의 화합물에 관하여 유효할 뿐만 아니라, 본 발명에 의한 조성물 및 성형 물품, 그리고 본 발명에 의한 용도에 관하여도 유효하다.
본 발명의 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 화학식 I의 화합물에서 변수들, 즉 R1, R2, Z 및 x는 각각 단독으로 또는 함께 있을 때 다음과 같은 의미들을 가진다:
x는 1, 2 또는 3이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비 치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비 치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비 치환 또는 치환 아릴, 및 비 치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
Z는 C3∼C10-알칸디일, 비 치환 또는 치환 아릴렌, 비 치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비 치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비 치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비 치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비 치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비 치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 그리고 비 치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택됨.
본 발명의 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 화학식 I의 화합물에서 변수들, 즉 R1, R2, Z 및 x는 각각 단독으로 또는 함께 있을 때 다음과 같은 의미들을 가진다:
x는 1, 2 또는 3, 바람직하게 1 또는 2, 특히 1이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 분지형 C3∼C10-알킬, C5∼C12-사이클로알킬, C5∼C12-사이클로알킬, C5∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 아릴 및 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되되, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상에 의해 치환되거나 치환되지 않으며, Ra는 C1∼C10-알킬 및 할로겐으로부터 선택됨.
더욱 바람직하게 R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 분지형 C3∼C10-알킬, C5∼C12-사이클로알킬, C5∼C12-사이클로알킬, C5∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 페닐 및 페닐-C1∼C4-알킬로부터 선택되는데, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상에 의해 치환되거나 치환되지 않으며, Ra는 C1∼C10-알킬 및 할로겐으로부터 선택된다. 특히 R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 알킬기의 2차 또는 3차 탄소 원자를 통해 골격에 결합되는 분지형 C3∼C10-알킬, 라디칼 Ra 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않는 C5∼C10-사이클로알킬, 및 라디칼 Ra 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않는 페닐로부터 선택된다.
R1 및 R2에 대한 적당한 예로서는 수소, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, tert-부틸, 1-메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 2-메틸부틸, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-아다만틸, 2-아다마만틸, 호모아다만틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로펜틸메틸, 1-사이클로펜틸에틸, 2-사이클로펜틸에틸, 사이클로헥실메틸, 1-사이클로헥실에틸, 2-사이클로헥실에틸, 사이클로펜틸(1개 또는 2개의 C1∼C4-알킬에 의해 치환됨), 사이클로헥실(1개 또는 2개의 C1∼C4-알킬에 의해 치환됨), 페닐, 톨릴 또는 3,4-디메틸페닐이 있다. 특히 R1 및 R2는 수소, 이소프로필, tert-부틸, 1-메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 2-메틸부틸, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 1-아다만틸로부터 선택된다.
Z는 C5∼C8-알칸디일, C5∼C7-사이클로알킬렌, C5∼C7-사이클로알킬렌-CH2-C5∼C7-사이클로알킬렌, 페닐렌 또는 페닐렌-CH2-페닐렌으로서, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Rb 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않으며, Rb는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐이다. Z는 바람직하게 1,5-펜탄디일, 1,6-헥산디일, 1,7-헵탄디일, 시스-1,2-사이클로펜탄디일, 트랜스-1,2-사이클로펜탄디일, 시스-1,3-사이클로펜탄디일, 트랜스-1,3-사이클로펜탄디일로서, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개는 치환되지 않거나, 1개 또는 2개의 C1∼C4-알킬기, 시스-1,2-사이클로헥산디일, 트랜스-1,2-사이클로헥산디일, 시스-1,3-사이클로헥산디일, 트랜스-1,3-사이클로헥산디일, 시스-1,4-사이클로헥산디일, 트랜스-1,4-사이클로헥산디일을 지니고, 이때, 마지막으로 예시된 기 6개는 치환되지 않거나, 1개 또는 2개의 C1∼C4-알킬기, 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌을 지니며, 이때, 마지막으로 예시된 기 3개는 치환되지 않거나, 1개 또는 2개의 C1∼C4-알킬기;
Figure pct00005
[식 중, #는 우레아 부분 중 내부 질소 원자에의 결합 점임]을 지닌다. 특히 Z는 트랜스-1,4-사이클로헥산디일이다. 특히 만일 x가 2이면, 각각의 Z는 동일한 의미를 갖는다.
본 발명의 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 이때, 화학식 I의 화합물에서 R1 및 R2는 상이한 의미를 갖는다. 본 발명의 추가의 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 이때, 화학식 I의 화합물에서 R1 및 R2는 동일한 의미를 갖는다.
본 발명의 특히 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 이때, 화학식 I의 화합물에서 변수들 R1, R2, Z 및 x는 다음과 같은 의미를 갖는다:
R1 및 R2는 동일한 의미를 갖는 것으로서, 1,1-디메틸프로필, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 1-아다만틸로부터 선택되고;
Z는 트랜스-1,4-사이클로헥산디일이며;
x는 1임.
본 발명의 특히 바람직한 추가의 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 이때, 화학식 I의 화합물에서 변수들 R1 및 R2는 둘 다 수소이고, Z는 트랜스-1,4-사이클로헥산디일이며, x는 1이다.
본 발명의 특히 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 이때, 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA 11, PA 12, PA 66, PA 610, PA 66/6 및 PA 6/66으로부터 선택되고, 화학식 I의 화합물에서 R1 및 R2는 동일하며, tert-부틸, 1,1-디메틸프로필, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 1-아다만틸로부터 선택되고; Z는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌(트랜스-1,4-사이클로헥산디일)이며; x는 1이다.
본 발명의 특히 바람직한 구체예는 조성물, 화합물, 성형 물품 및 이들의 용도에 관한 것으로서, 이때, 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA 11, PA 12, PA 66, PA 610, PA 66/6 및 PA 6/66으로부터 선택되고, 화학식 I의 화합물에서 R1 및 R2는 둘 다 수소이고; Z는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌(트랜스-1,4-사이클로헥산디일)이며; x는 1이다.
화학식 I의 화합물은 당 업계에 알려져 있거나, 당 업계의 표준 방법과 유사하게 제조될 수 있거나, 아니면 본원의 실험 부분에 개략적으로 기술된 바와 같이 제조될 수 있다.
식 중, x는 1인 화학식 I의 화합물은 또한 비스우레아 화합물 I이라고도 칭하여진다.
식 중, x는 2인 화학식 I의 화합물은 또한 트리스우레아 화합물 I이라고도 칭하여진다.
식 중, x는 3인 화학식 I의 화합물은 또한 테트라-우레아 화합물 I이라고도 칭하여진다.
예를 들어 x가 1이고, R1 및 R2는 동일한 의미를 갖는 화학식 I의 화합물은 이하 반응식 1 및 2에 개략적으로 기술된 바와 같이 제조될 수 있다.
[반응식 1]
Figure pct00006
상기 반응식 1에 있어서, Z 및 R1은 정의된 바와 같다. 화학식 II의 디아민 화합물은 화학식 III의 이소시안산염 2당량과 반응하며, 그 결과, 화학식 I의 화합물이 양호한 수율로 생성된다. 상기 반응은 보통 유기 용매 중에서 진행된다. 적당한 용매는 극성 비양성자성 용매, 예를 들어 테트라하이드로푸란이다.
대안적으로 화학식 I의 비스우레아 화합물은 화학식 IV의 디이소시안산염 화합물 및 화학식 V의 아민의 반응을 통하여 제조될 수 있다. 상기 반응은 보통 유기 용매 중에서 진행된다. 적당한 용매는 극성 비양성자성 용매, 예를 들어 테트라하이드로푸란이다.
[반응식 2]
Figure pct00007
상기 반응식 2에 있어서, Z 및 R1은 상기 정의된 바와 같다.
x가 1이고, R1 및 R2는 상이한 의미를 갖는 화학식 I의 화합물은 이하 반응식 3에 개략적으로 기술된 바와 같이 제조될 수 있다.
[반응식 3]
Figure pct00008
상기 반응식 3에 있어서, Z, R1 및 R2는 상기 정의된 바와 같다. 화학식 VI 및 VIa의 아민 화합물 각각이 화학식 VII 및 III의 이소시안산염으로 각각 처리되면, 화학식 I의 화합물이 양호한 수율로 생성된다. 상기 반응은 보통 유기 용매 중에서 진행된다. 적당한 용매는 극성 비양성자성 용매, 예를 들어 N-메틸피롤리돈이다.
화학식 I의 트리스우레아 화합물, 즉 x가 2이고 R1은 R2와 동일한 의미를 갖는 화학식 I의 화합물은 반응식 4에 개략적으로 기술된 바와 같이 제조될 수 있다.
[반응식 4]
Figure pct00009
상기 반응식 4에 있어서, Z 및 R1은 상기 정의된 바와 같다. Hal은 할로겐이고, Hal'도 할로겐이다. 바람직하게 Hal 및 Hal'는 염소이다.
상기 반응식 4의 단계 i)에서, 화학식 II의 디아민은 화학식 III의 이소시안산염 1당량과 반응하며, 그 결과, 화학식 X의 아민 화합물이 생성된다. 상기 반응은 상기 반응식 1에 기술된 과정과 유사하게 진행될 수 있다. 반응식 4의 단계 ii)에서, 화학식 X의 아민 화합물은 화학식 XI의 카보닐 이할로겐화물과 반응하며, 그 결과, 화학식 I의 트리스우레아 화합물이 생성된다.
화학식 I의 트리스우레아 화합물, 즉 x가 2이고, R1은 R2와 동일한 의미를 갖는 화학식 I의 화합물은 반응식 5에 개략적으로 기술된 바와 같이 제조될 수도 있다.
[반응식 5]
Figure pct00010
상기 반응식 5에 있어서, R1은 상기 정의된 바와 같고, Z도 상기 정의된 바와 같은데, 바람직하게는 사이클로알킬렌 또는 아릴렌이다.
상기 반응식 5의 단계 i)에서, 화학식 XII의 아민 화합물은 화학식 XIII의 이소시안산염 화합물과 반응하며, 그 결과, 화학식 XIV의 디니트로 화합물이 생성된다. 상기 반응은 상기 반응식 4의 단계 i)에 기술된 방법과 유사하게 진행될 수 있다. 반응식 5의 단계 ii)에서, 화학식 XIV의 디니트로 화합물은 화학식 XV의 디아미노 화합물로 환원된다. 이러한 환원은 Pd/C 촉매의 존재 하에 히드라진 수화물을 사용하여 일어날 수 있다. 반응식 5의 단계 iii)에 있어서, 화학식 XV의 디아미노 화합물과 화학식 III의 이소시안산염 화합물 2당량 사이의 반응을 통해 화학식 I의 트리스우레아 화합물이 생성된다.
화학식 I의 테트라-우레아 화합물, 즉 x가 3이고, R1은 R2와 동일한 의미를 갖는 화학식 I의 화합물은 반응식 6에 개략적으로 기술된 바와 같이 제조될 수 있다.
[반응식 6]
Figure pct00011
상기 반응식 6에 있어서, R1 및 Z는 상기 정의된 바와 같다. R1은 동일하거나 상이한 의미를 가질 수 있다. Z는 동일하거나 상이한 의미를 가질 수 있다. 화학식 XI의 아미노 화합물은 반응식 2에 기술된 과정과 동일하게 화학식 IV의 디이소시안산염 화합물과 반응한다.
본 발명에 의한 조성물은 높은 투명성, 낮은 헤이즈 및 높은 레이저 투명도로부터 선택되는 뛰어난 광학 특성들을 가진다.
상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 폴리아미드 중합체와, 화학식 I의 화합물(조핵제), 특히 헤이즈 감소제를 포함하는 조성물로서, 화학식 I의 화합물이, 이 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 헤이즈 값이 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상 그리고 특히 20% 이상 감소한 조성물을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물도 또한 본 발명의 일부이다. 예를 들어 본 발명에 의한 바람직한 조성물은, 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때 상기 화학식 I의 화합물이, 헤이즈 값이 원래 헤이즈 값의 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상 그리고 특히 20% 이상 감소한 조성물을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하며; 이 경우, 원래 헤이즈 값은 화학식 I의 화합물이 사용되지 않았을 때의 헤이즈 값으로서, 1.1㎜ 두께의 플라크(plaque) 상에서 측정된다.
본 발명의 바람직한 조성물은 헤이즈 값이 75%보다 작은 것을 특징으로 하는데; 여기서, 상기 헤이즈 값은 두께 1.1㎜인 평판에서 측정된다. 헤이즈가 1~75%, 특히 2~60%인 것을 특징으로 하는 조성물이 바람직하다.
헤이즈는 ASTM D1003에 따라서 측정된다.
헤이즈는, 예를 들어 1~75%, 2~65%, 2~60%, 2~55%, 2~50%, 2~45%, 2~40%, 2~35%, 2~30%, 2~25%, 2~20%, 2~15%, 2~10%, 5~65%, 5~60%, 5~55%, 5~50%, 5~45%, 5~40%, 5~35%, 5~30%, 5~25%, 5~20%, 5~15%, 5~10%, 7~65%, 7~60%, 7~55%, 7~50%, 7~45%, 7~40%, 7~35%, 7~30%, 7~25%, 7~20%, 7~15%, 7~10%, 10~65%, 10~60%, 10~55%, 10~50%, 10~45%, 10~40%, 10~35%, 10~30%, 10~25%, 10~20% 및 10~15%, 특히 10~40% 또는 13~40%, 특히 10~50%이다.
상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 폴리아미드 중합체와, 화학식 I의 화합물(조핵제), 특히 투명도 증가제를 포함하는 조성물로서, 화학식 I의 화합물이, 이 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 투명도 값이 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상 그리고 특히 20% 이상 증가한 조성물을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물도 또한 본 발명의 일부이다. 예를 들어 본 발명에 의한 바람직한 조성물은, 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때 상기 화학식 I의 화합물이, 투명도 값이 원래 투명도 값의 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상 그리고 특히 20% 이상 증가한 조성물을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하며; 이 경우, 원래 투명도 값은 화학식 I의 화합물이 사용되지 않았을 때의 투명도 값으로서, 1.1㎜ 두께의 플라크 상에서 측정된다.
상기 구체예에서, 본 발명의 조성물은 투명도 값이 60~100%, 더욱 바람직하게 70~100%, 특히 80~100%, 특히 85~99.9%인 것을 특징으로 하는 것이 바람직한데, 여기서, 상기 투명도 값은 두께 1.1㎜인 플라크 상에서 측정되고, 또한 ASTM D1003에 따른 방법으로 측정된다.
투명도 값은, 예를 들어 60~100%, 65~100%, 70~100%, 75~100%, 80~100%, 85~100%, 90~100%, 60~99.9%, 65~99.9%, 70~99.9%, 75~99.9%, 80~99.9%, 85~99.9%, 특히 70~100% 또는 80~99.9%이다.
상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 폴리아미드 중합체와, 화학식 I의 화합물(조핵제), 특히 레이저 투명도 증가제를 포함하는 조성물로서, 화학식 I의 화합물이, 이 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 레이저 투명도 값이 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 더욱 바람직하게는 5% 이상 그리고 특히 10% 이상 증가한 조성물을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물도 또한 본 발명의 일부이다. 예를 들어 본 발명에 의한 바람직한 조성물은, 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때 상기 화학식 I의 화합물이, 레이저 투명도 값이 원래 레이저 투명도 값의 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 더욱 바람직하게는 5% 이상 그리고 특히 10% 이상 증가한 조성물을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하며; 이 경우, 원래 레이저 투명도 값은 화학식 I의 화합물이 사용되지 않았을 때의 레이저 투명도 값으로서, 1.1㎜ 두께의 플라크 상 1064㎚에서 측정된다.
상기 구체예에 있어서, 본 발명의 조성물은 레이저 투명도 값이 50~100%, 더욱 바람직하게 55~100%, 특히 60~99%, 특히 70~99%인 것을 특징으로 하는 것이 바람직한데, 여기서, 상기 레이저 투명도 값은 두께 1.1㎜인 플라크 상 1064㎚에서 측정된다.
레이저 투명도 값은, 예를 들어 50~100%, 55~100%, 60~100%, 65~100%, 70~100%, 75~100%, 80~100%, 85~100%, 90~100%, 50~99.9%, 55~99.9%, 60~99.9%, 65~99.9%, 70~99.9%, 75~99.9%, 80~99.9%, 85~99.9%, 특히 50~99.9% 또는 60~99.9%이다.
본 발명의 조성물은 종종, 예를 들어 착색제, 항산화제, UV 흡수제, 광 안정화제, 보강제, 충전제, 흐림 방지제, 이형제, 살생물제, 대전 방지제 및 레올로지 조절제로부터 선택되는 추가 성분 하나 이상을 포함하기도 한다. 이와 같은 성분들은 보통 본 발명의 조성물로 제조된 물품들의 투명도를 거의 떨어뜨리지 않는다. 투명도를 충분히 얻기 위해서 본 발명의 조성물은 이와 같은 성분들을 본 발명의 조성물로 제조된 물품의 투명도를 유의적으로 저하할 양만큼 포함하지 않는다. 본 발명의 조성물 중에 포함될 수 있는 추가 성분들의 예로서는 다음과 같은 것들을 포함한다:
1. 착색제
용어 착색제는 염료와 안료를 포함한다. 안료는 당 업계에 알려진 바와 같은 유기 또는 무기 안료일 수 있다. 적당한 안료의 예로서는 착색 안료, 진주 광택 안료, 예를 들어 효과 안료(effect pigment) 또는 액정 중합체를 기재로 하는 안료가 있다.
착색제는 염료일 수 있다. 상기와 유사하게 착색제로서 간주되는 것으로는 전자기 스펙트럼의 가시 부에서 형광을 나타내는 유기 화합물, 예를 들어 형광 염료 또는 형광 증백제가 있다. 상기 착색제는 또한 추가의 특성, 예를 들어 전기 전도성을 가질 수 있거나, 또는 자기 가리움(magnetic shielding) 특성을 가질 수 있다.
적당한 염료는 폴리아미드 중합체 조성물에 가용성인 모든 염료이다. 적당한 염료의 예로서는 아조 염료, 피라졸론 염료, 안트라퀴논 염료, 페리논 염료, 페릴렌 염료, 인디고 및 티오인디고 염료, 그리고 아조메틴 염료가 있다.
2. 항산화제
2.1. 알킬화 모노페놀, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시메틸페놀, 측쇄가 선형 또는 분지형인 노닐페놀, 예를 들어 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운덱-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타덱-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리덱-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
2.2. 알킬티오메틸페놀, 예를 들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-tert-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
2.3. 하이드로퀴논 및 알킬화 하이드로퀴논, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐 스테아르산염, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐) 아디핀산염.
2.4. 토코페롤, 예를 들어 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민 E).
2.5. 하이드록실화 티오디페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스-(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐) 이황화물.
2.6. 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6(α-메틸사이클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀,
1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌글리콜비스[3,3-비스(3'-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)부티르산염], 비스(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸-페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐]테레프탈산염, 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄.
2.7. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3',5'-테트라-tert-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질에테르, 옥타데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질머캅토아세트산염, 트리데실-4-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질머캅토아세트산염, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈산염, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질) 황화물, 이소옥틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질 머캅토아세트산염.
2.8. 하이드록시벤질화 말론산염, 예를 들어 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-2-하이드록시벤질) 말론산염, 디옥타데실-2-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질) 말론산염, 디도데실머캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질) 말론산염, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질) 말론산염.
2.9. 방향족 하이드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)페놀.
2.10. 트리아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)-헥사하이드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트.　
2.11. 벤질포스폰산염, 예를 들어 디메틸-2,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산염, 디에틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산염, 디옥타데실-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산염, 디옥타데실-5-tert-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스폰산염, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
2.12. 아실아미노페놀, 예를 들어 4-하이드록시라우닐리드, 4-하이드록시스테아라닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐) 카밤산염.
2.13. β-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산과, 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
2.14. β-(5-tert-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산과, 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스-(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄; 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]-운데칸의 에스테르.
2.15. β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산과, 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스-(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
2.16. 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐아세트산과, 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스-(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.　
2.17. β-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라지드, N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥사미드(유니로얄(Uniroyal)사 나우가드(Naugard)™ XL-1).
2.18. 아스코르브산(비타민 C)
2.19. 아민계 항산화제, 예를 들어 N,N'-디이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디사이클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-사이클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔설파모일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-tert-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예를 들어 p,p'-디-tert-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸-아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-tert-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, tert-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 1알킬화 및 2알킬화 tert-부틸/tert-옥틸디페닐아민의 혼합물, 1알킬화 및 2알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 1알킬화 및 2알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 1알킬화 및 2알킬화 이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 1알킬화 및 2알킬화 tert-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디하이드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 1알킬화 및 2알킬화 tert-부틸/tert-옥틸페노티아진의 혼합물, 1알킬화 및 2알킬화 tert-옥틸페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)-헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일) 세바신산염, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
3. UV 흡수제 및 광 안정화제
3.1. 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들어 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀], 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌글리콜 300의 에스테르 교환 반응 생성물; [R-CH2CH2 -COO-CH2CH2]2 [식 중, R = 3'-tert-부틸-4'-하이드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일-페닐, 2-[2'-하이드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸임]; 2-[2'-하이드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-5'-(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸.　
3.2. 2-하이드록시벤조페논, 예를 들어 4-하이드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리하이드록시 및 2'-하이드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
3.3. 치환 및 비치환 벤조산의 에스테르, 예를 들어 4-tert-부틸페닐 살리실산염, 페닐 살리실산염, 옥틸페닐 살리실산염, 디벤조일 레소르시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)레소르시놀, 벤조일 레소르시놀, 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조산염, 헥사데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조산염, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조산염, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조산염.　
3.4. 아크릴산염, 예를 들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴산염, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴산염, 메틸 α-카보메톡시신남산염, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신남산염, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신남산염, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시신남산염 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.　
3.5. 니켈 화합물, 예를 들어 2,2'-티오비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물, 예를 들어 부가 리간드, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-사이클로헥실디에탄올아민을 포함하거나 포함하지 않는 1:1 또는 1:2 착물, 니켈 디부틸디티오카밤산염, 모노알킬 에스테르, 예를 들어 메틸 또는 에틸 에스테르의 니켈 염, 4-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질포스폰산의 니켈 염, 케톡심, 예를 들어 2-하이드록시-4-메틸페닐운데실케톡심의 니켈 착물, 부가 리간드를 포함하거나 포함하지 않는 1-페닐-4-라우로일-5-하이드록시피라졸의 니켈 착물.
3.6. 입체 장애 아민, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바신산염, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙신산염, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바신산염, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바신산염, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질말론산염, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 숙산산의 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 환형 축합물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세트산염, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카복실산염, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)말론산염, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바신산염, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙신산염, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 환형 축합물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물(CAS 등록 번호 [136504-96-6]); 1,6-헥산디아민과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 N,N-디부틸아민 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물(CAS 등록 번호　 [192268-64-7]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4,5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-사이클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4,5]데칸 및 에피클로로하이드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시메틸렌말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-하이드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물-α-올레핀 공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
3.7. 옥사미드, 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에톡사닐리드 및 이것과 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부톡사닐리드의 혼합물, o- 및 p-메톡시-2치환 옥사닐리드의 혼합물, 그리고 o- 및 p-에톡시-2치환 옥사닐리드의 혼합물.
3.8. 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-2-하이드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-부톡시-2-하이드록시프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-하이드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-하이드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.　
4. 금속 불활성화제, 예를 들어 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실랄-N'-살리실로일 히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드.　
5. 아인산염 및 포스포나이트, 예를 들어 트리페닐 아인산염, 디페닐알킬 아인산염, 페닐디알킬 아인산염, 트리스(노닐페닐) 아인산염, 트리라우릴 아인산염, 트리옥타데실 아인산염, 디스테아릴펜타에리트리톨 2아인산염, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 아인산염, 디이소데실 펜타에리트리톨 2아인산염, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 2아인산염, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨 2아인산염, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 2아인산염, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 2아인산염, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)-펜타에리트리톨 2아인산염, 비스(2,4,6-트리스(tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 2아인산염, 트리스테아릴 솔비톨 3아인산염, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)4,4'-비페닐렌 2포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)메틸 아인산염, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)에틸 아인산염, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 2,2',2"-니트릴로-[트리에틸트리스(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)아인산염], 2-에틸헥실(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)아인산염, 5-부틸-5-에틸-2-(2,4,6-트리-tert-부틸페녹시)-1,3,2-디옥사포스피란.
6. 인 함유 산, 인 함유 산의 염, 인 함유 산의 에스테르 또는 이들의 유도체:
인 함유 산은 인의 옥소 산, 예를 들어 인산, 포스폰산 및 포스핀산을 포함한다. 인 함유 산의 적당한 염으로서는 알칼리 금속염, 알칼리토 금속염 또는 전이 금속염이 있다. 이들 중 칼슘, 바륨, 마그네슘, 나트륨, 칼륨, 망간 및 알루미늄 염이 바람직하다. 나트륨 포스핀산염(NaPO2H2, 나트륨 차아인산염이라고도 알려져 있음), 망간 비스포스핀산염((Mn(H2PO2)2, 망간(II) 차아인산염이라고도 알려져 있음), 알루미늄 포스핀산염(Al(H2PO2)3) 및 이들의 혼합물이 특히 바람직하다. 뿐만 아니라, 포스폰산 에스테르, 이의 반 에스테르 및 혼합물, 특히 하이드록시페닐알킬포스폰산에스테르, 이의 반 에스테르 또는 혼합물, 예를 들어 WO 제2007006647호에 개시된 것들, 특히 칼슘 비스[모노에틸(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)포스폰산염](얼가모드(Irgamod)® 195, 바스프 에스이(BASF SE)에서 시판중임) 또는 디에틸(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)포스폰산염(얼가모드® 295, 바스프 에스이에서 시판중임)이 특히 바람직하다.
7. 하이드록실아민, 예를 들어 N,N-디벤질하이드록실아민, N,N-디에틸하이드록실아민, N,N-디옥틸하이드록실아민, N,N-디라우릴하이드록실아민, N,N-디테트라데실하이드록실아민, N,N-디헥사데실하이드록실아민, N,N-디옥타데실하이드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실하이드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실하이드록실아민, 수소화 우지 아민 유래 N,N-디알킬하이드록실아민.
8. 나이트론, 예를 들어 N-벤질-알파-페닐나이트론, N-에틸-알파-메틸나이트론, N-옥틸-알파-헵틸나이트론, N-라우릴-알파-운데실나이트론, N-테트라데실-알파-트리데실나이트론, N-헥사데실-알파-펜타데실나이트론, N-옥타데실-알파-헵타데실나이트론, N-헥사데실-알파-헵타데실나이트론, N-옥타데실-알파-펜타데실나이트론, N-헵타데실-알파-헵타데실나이트론, N-옥타데실-알파-헥사데실나이트론, 수소화 우지 아민 유래 N,N-디알킬하이드록실아민 유래 나이트론.　
9. 티오시너지스트(thiosynergist), 예를 들어 디라우릴티오디프로피온산염 또는 디스테아릴티오디프로피온산염.　
10. 과산화물 스캐빈저(peroxide scavenger), 예를 들어 P-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토벤지미다졸, 또는 2-머캅토벤지미다졸의 아연염, 아연 디부틸디티오카밤산염, 디옥타데실 이황화물, 펜타에리트리톨 테트라키스(p-도데실머캅토)프로피온산염.
11. 폴리아미드 안정화제, 예를 들어 요오드화물 및/또는 인 화합물과의 구리염, 그리고 2가 망간의 염.　
12. 염기성 보조 안정화제, 예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속염 및 알칼리토 금속염, 예를 들어 칼슘 스테아르산염, 아연 스테아르산염, 마그네슘 베헨산염, 마그네슘 스테아르산염, 나트륨 리시놀산염 및 칼륨 팔미트산염, 안티몬 피로카테콜산염 또는 아연 피로카테콜산염.　
13. 기타 첨가제, 예를 들어 가소제, 윤활제, 유동성 조절제, 방염제, 이형제 및 발포제.
14. 벤조푸라논 및 인돌리논, 예를 들어 US-A-4,325,863; US-A-4,338,244; US-A-5,175,312; US-A-5,216,052; US-A-5,252,643; DE-A-4316611; DE-A-4316622; DE-A-4316876; EP-A-0589839 또는 EP-A-0591102에 개시된 것들, 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)-페닐]-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 5,7-디-tert-부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]-벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-tert-부틸-3-(4-[2-하이드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-tert-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온.
15. 충전제 또는 보강제로서는, 예를 들어, 유리 직물, 유리 매트 또는 필라멘트 유리 로빙(roving) 형태의 유리 섬유, 세단 유리(chopped glass), 유리 비드 및 규회석을 포함한다. 유리 섬유는 짧은 유리 섬유 및 연속사(조방사) 둘 다의 형태로서 혼입될 수 있다.
16. 대전 방지제, 예를 들어 아민 유도체, 예를 들어 N,N-비스(하이드록시알킬)-알킬아민 또는 -알킬렌아민, 폴리에틸렌글리콜 에스테르 및 에테르, 에톡시화 카복실 에스테르 및 카복사미드, 글리세롤 모노스테아르산염 및 디스테아르산염, 그리고 이들의 혼합물.
17. 살생물제는 살충제 또는 살미생물제일 수 있다.
하나 이상의 화학식 I의 화합물은 폴리아미드의 중량에 대해 0.001~5중량%, 바람직하게는 0.01~3중량%, 예를 들어 0.001~3중량%, 0.01~2중량%, 0.01~1.5중량% 또는 0.025~1중량%의 양으로 존재한다.
화학식 I의 화합물 대 (존재한다면) 전술된 임의의 성분들의 중량비는, 바람직하게 1:100~100:1, 예를 들어 1:90~90:1, 1:80~80:1, 1:70~70:1, 1:60~60:1, 1:50~50:1, 1:40~40:1, 1:30~30:1, 1:20~20:1, 1:10~10:1, 1:5~5:1, 1:4~4:1, 1:3~3:1, 1:2~2:1 또는 1:1이다.
화학식 I의 화합물의 폴리아미드 중합체 조성물용 헤이즈 감소제로서의 용도도 본 발명의 일부이다. ASTM D1003에 따른 방법으로 측정된 헤이즈 값은, 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 예를 들어 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상, 특히 20% 이상 감소할 수 있다. 화학식 I의 화합물의 폴리아미드 중합체 조성물용 투명도 증가제로서의 용도도 본 발명의 일부이다. ASTM D1003에 따른 방법으로 측정된 투명도 값은, 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 상기 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때, 예를 들어 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상, 특히 20% 이상 증가할 수 있다. 화학식 I의 화합물의 폴리아미드 중합체 조성물용 레이저 투명도 증가제로서의 용도도 본 발명의 일부이다. 1064㎚에서 측정되는 레이저 투명도 값은, 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 상기 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때, 예를 들어 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 더욱 바람직하게는 5% 이상, 특히 10% 이상 증가할 수 있다.
화학식 I의 화합물의 폴리아미드 중합체 조성물용 헤이즈 감소제 및 투명도 증가제로서의 용도도 본 발명의 일부이다. 예를 들어 ASTM D1003에 의한 방법으로 측정된 헤이즈 값 및 투명도 값은, 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 상기 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때, 헤이즈 값은 5% 이상 감소하고, 투명도 값은 5% 이상 증가한다.
화학식 I의 화합물의 폴리아미드 중합체 조성물용 헤이즈 감소제 및 레이저 투명도 증가제로서의 용도도 본 발명의 일부이다. 예를 들어 ASTM D1003에 의한 방법으로 측정된 헤이즈 값과 1064㎚에서 측정된 레이저 투명도 값은, 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 상기 화학식 I의 화합물이 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~3중량%의 농도로 존재할 때, 헤이즈 값은 5% 이상 감소하고, 레이저 투명도 값은 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상 증가한다.
하나 이상의 화학식 I의 화합물과 임의의 추가 성분들은 폴리아미드 중합체에 개별적으로 또는 서로 합하여져 첨가될 수 있다. 원한다면, 개별 첨가제들은 폴리아미드 중합체에 혼입되기 전에, 예를 들어 용융물(용융 배합물)로서 서로 혼합될 수 있다.
화학식 I의 화합물과 임의의 추가 성분들의 폴리아미드 중합체 조성물로의 혼입은 공지의 방법들, 예를 들어 건식 혼합(dry mixing)(분말의 형태로 혼입) 또는 습식 혼합(wet mixing)(용액이나 현탁액의 형태로 혼입)에 의해 이루어질 수 있다. 하나 이상의 화학식 I의 화합물과 임의의 추가 성분들은, 예를 들어 성형 전이나 후에 혼입될 수 있는데, 즉 용해 또는 분산된 화학식 I의 화합물 및 임의의 추가 성분들을 폴리아미드 중합체에 적용함으로써 혼입될 수 있다(추후 용매 증발 단계를 진행하거나 진행하지 않음). 하나 이상의 화학식 I의 화합물과 임의의 추가 첨가제들은, 예를 들어 무수 혼합물이나 분말, 또는 용액이나 용융물로서 가공 장치(예를 들어 압출기, 내부 믹서 등)에 직접 첨가될 수 있다.
혼입은 교반 장치가 장착된 임의의 가열 가능 용기, 예를 들어 밀폐 장치, 예를 들어 반죽기, 믹서 또는 교반 용기 내에서 수행될 수 있다. 본 발명에 의한 조성물의 가공법의 예로서는 다음과 같은 것들이 있다: 사출 중공 성형, 압출, 중공 성형, 압출 중공 성형, 회전 성형, 인몰드 장식(in-mold decoration)(역 사출(back injection)), 슬러시 성형, 사출 성형, 공사출 성형, 성형(forming), 압축 성형, 압착, 필름 압출(캐스트 필름(cast film); 중공 필름(blown film)), 방사(직물, 부직물), 인발(drawing)(1축, 2축), 어닐링(anneling), 심부 인발(deep drawing), 캘린더링(calandering), 기계적 변형법, 소결, 공압출. 혼입은 문헌에 공지된 방법들에 따라서 압출기나 반죽기 내에서 수행되는 것이 바람직하다.
가공이 비활성 분위기에서 이루어지는지 아니면 산소의 존재 하에서 이루어지는지 여부는 중요하지 않다.
하나 이상의 화학식 I의 화합물과 임의의 추가 성분들도 또한 마스터배치(masterbach)[성분들이, 예를 들어 약 2.5~약 25중량%의 농도로 포함됨]의 형태로 폴리아미드 중합체에 첨가될 수 있는데; 이러한 과정에서 폴리아미드 중합체는 분말, 과립, 용액 또는 현탁액의 형태로 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물은 임의의 적당한 용융 가공 기술, 예를 들어 사출 성형, 압출, 중공 성형, 사출 중공 성형 및 열 성형 등을 이용하여 성형 물품으로 제조될 수 있다.
본 발명의 조성물은, 광학 특성이 우수할 것이 요망되는 다양한 물품을 제조하는데 적당하다. 본 발명에 의한 폴리아미드 중합체 조성물은 특히 자동차, 전기, 전자 및 포장 산업 분야에서 사용된다. 본 발명의 조성물은 활동적인 매질(aggressive media)이 사용되는 분야에서 활용될 수 있다.
그러므로 본 발명에 의한 중합체 조성물을 포함하는 성형 물품도 본 발명의 일부이다. 본 발명의 성형 물품은 보통 필름, 섬유, 시트, 파이프, 반제품, 과립, 용기, 중공 성형 물품 또는 모노필라멘트이다. 필름은 단일 층 필름 또는 다층 필름 또는 섬유일 수 있다.
전술된 바의 일반성을 제한하고자 하는 의도는 없는 가운데, 본 발명의 조성물로 제조된 성형 물품은, 예를 들어 연료 및/또는 오일 탱크나 저장조의 사이트 윈도우(sight window), 뚜껑, 필터 하우징, 안경테, 안경알, 테크니컬 디바이스(technical device)용 렌즈, 발열 기술용 뷰잉 글라스(viewing glass), 음료수 처리용 필터 컵, 병, 기체 또는 액체 매질용 유량계, 시계 케이스, 손목 시계 케이스, 램프 케이스, 램프용 반사 장치, 백 라이트가 비추어지는 스위치, 카트리지 또는 장식용 부자재를 포함할 수 있다.
화학식 I의 화합물들 중 일부는 신규의 것이다. 그러므로 본 발명은 또한 하기 화학식 I의 화합물에 관한 것이기도 하되,
[화학식 I]
Figure pct00012
[상기 식 중,
x는 1, 2 또는 3이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택된다.]
R1 및 R2가 동일하며, 수소, tert-부틸, 2-에틸헥실, 1-에틸펜틸, 사이클로헥실 또는 페닐이고, x가 1인 경우, Z가 1,4-사이클로헥실렌이거나
R1 및 R2가 둘 다 (R)-1-페닐에틸이고, x가 1인 경우, Z가 -(CH2)9-
인 화합물은 제외된다.
이와 같은 구체예의 특정 양태에 따르면, 변수들, 즉 R1, R2, Z 및 x는 다음과 같은 의미를 가진다:
x는 1, 2 또는 3이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택됨.
이하, 본 발명은 다음과 같은 실시예들에 의해 더욱 자세히 기술된다. 그러나, 다음과 같은 실시예들의 목적은 본 발명을 오로지 예시하고자 하는 것일 뿐, 본 발명을 이하 실시예들에 한정하고자 하는 것은 아니다.
화학식 I의 화합물의 제조
I.1 x가 1이고 R1과 R2가 동일한 화학식 I의 화합물
실시예 1: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(tert-부틸)우레아)
비활성 분위기 하에 무수 테트라하이드로푸란(THF)(50㎖) 중 tert-부틸이소시안산염(3.90g, 0.039mol) 용액을, 무수 THF(100㎖) 중 트랜스-1,4-디아미노사이클로헥산(2.10g, 0.019mol)의 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과한 다음, 추가의 무수 THF로 세정하였다. 이때 생성된 백색 고체를 N,N-디메틸포름아미드(DMF)로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
MS(70eV): 312(M+)
실시예 2: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(사이클로헥실)우레아)
비활성 분위기 하에 무수 THF(50㎖) 중 사이클로헥실 이소시안산염(5.49g, 0.044mol)의 용액을, 무수 THF(100㎖) 중 트랜스-1,4-디아미노사이클로헥산(2.51g, 0.022mol)의 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과한 다음, 추가의 무수 THF로 세정하였다. 이때 생성된 백색 고체를 DMF로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
MS(70eV): 364(M+)
실시예 3: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(이소-프로필)우레아)
비활성 분위기 하에 무수 THF(50㎖) 중 이소프로필아민(1.25g, 0.022mol)의 용액을, 무수 THF(100㎖) 중 트랜스-1,4-사이클로헥산 디이소시안산염(1.75g, 0.011mol)의 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과한 다음, 추가의 무수 THF로 세정하였다. 이때 생성된 백색 고체를 DMF로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
MS(70eV): 284(M+)
실시예 4: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1-에틸프로필)우레아)
비활성 분위기 하에 무수 THF(50㎖) 중 3-아미노펜탄(2.20g, 0.025mol)의 용액을, 무수 THF(100㎖) 중 트랜스-1,4-사이클로헥산 디이소시안산염(2.00g, 0.012mol)의 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과한 다음, 추가의 무수 THF로 세정하였다. 이때 생성된 백색 고체를 DMF로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
MS(70eV): 340(M+)
실시예 5: 1,1'-(시스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(사이클로헥실)우레아)
비활성 분위기 하에 무수 THF(50㎖) 중 이소시아네이토사이클로헥산(3.25g, 0.026mol)의 용액을, 무수 THF(100㎖) 중 시스-1,4-사이클로헥산디아민(1.50g, 0.013mol)의 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과한 다음, 추가의 무수 THF로 세정하였다. 이때 생성된 백색 고체를 MeOH로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
융점: 252℃
MS(70eV): 364(M+)
실시예 6: 1,1'-(시스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(tert-부틸)우레아)
비활성 분위기 하에 무수 THF(50㎖) 중 tert-부틸이소시안산염(2.57g, 0.026mol)의 용액을, 무수 THF(100㎖) 중 시스-1,4-사이클로헥산디아민(1.50g, 0.013mol)의 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과한 다음, 추가의 무수 THF로 세정하였다. 이때 생성된 백색 고체를 MeOH로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
융점: 319℃
MS(70eV): 312(M+)
실시예 7 내지 13의 화합물들은 유사한 방식으로 제조하였다.
실시예 7: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1,1-디메틸프로필)우레아)
MS(70eV): 340(M+)
실시예 8: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(tert-옥틸)우레아)
MS(70eV): 426(M+)
실시예 9: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1,5-디메틸헥실)우레아)
MS(70eV): 425(M+)
실시예 10: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1-아다만틸)우레아)
MS(70eV): 468(M+)
실시예 11: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-n-부틸우레아)
융점: 358℃
MS(70eV): 312(M+)
실시예 12: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(n-프로필)우레아)
MS(70eV): 284(M+)
실시예 13: 1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(에틸)우레아)
MS(70eV): 256(M+)
실시예 14: (4-우레이도사이클로헥실)우레아
트랜스-1,4-디아미노사이클로헥산(2.10g, 0.019mol)을 물(40㎖)에 용해하였다. 이 용액에 HCl을 첨가하여 용액의 pH를 5~7로 만들었다. 여기에 칼륨 시안산염 3.3g을 천천히 첨가하면서 교반하였다. 이때 생성된 혼합물을 가열 환류하여 24시간 동안 교반하였다. 침전물을 여과하고 나서, 추가의 물로 세정하였다. 이때 생성된 백색의 고체를 고진공 하에서 건조하였다.
I.2. x가 1이고, R1과 R2가 상이한 화학식 I의 화합물
실시예 15: 1-tert-부틸-3-[4-(사이클로헥실카바모일아미노)사이클로헥실]우레아
15.1 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아
비활성 분위기 하에 무수 THF(500㎖) 중 트랜스-1,4-디아미노사이클로헥산(6.15g, 0.054mol)의 용액을 냉각조(이소프로필 알코올/드라이 아이스) 내에서 -40℃로 냉각하였다. 여기에 무수 THF(100㎖) 중 이소시아네이토사이클로헥산(6.75g, 0.054mol)을 천천히 첨가하고 나서, 잘 교반하였다. 이때 생성된 혼합물을 실온에서 24시간 더 교반하였다. 침전되는 백색 고체를 여과한 다음, 물에 현탁시키고 나서, pH 2로 산성화하였다(HCl 사용). 이때 투명해진 용액을 다시 여과한 후, 여과물의 pH를 8로 만들었는데(NaOH 사용), 이때 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아가 백색 고체로서 침전되었다.
15.2 1-tert-부틸-3-[4-(사이클로헥실카바모일아미노)사이클로헥실]우레아
비활성 분위기 하에 무수 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)(50㎖) 중 tert-부틸이소시안산염(1.17g, 0.012mol)의 용액을, 무수 NMP(100㎖) 중 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아(2.83g, 0.012mol) 용액에 천천히 첨가하였다. 이때 생성된 혼합물을 70℃로 가열하고 24시간 동안 교반하였다. 상기 용액을 1M HCl 중에 침전시킨 다음, 여과하여 걸러냈다. 이때 생성된 백색 고체를 THF로 세정하고 나서, DMF로부터 재결정화한 다음, 고진공 하에서 건조하였다.
융점: 325℃
MS(70eV): 338(M+)
I.3 x가 2이고, R1 및 R2가 동일한 화학식 I의 화합물
실시예 16:
Figure pct00013
16.1 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아
아르곤 분위기 하에, 트랜스-1,4-디아미노사이클로헥산(6.15g, 0.054mmol)을, 불꽃으로 건조한 쉬링크 플라스크에 넣어서 THF(500㎖)에 용해하였다. 이 용액을 냉각조(이소프로필 알코올/드라이 아이스) 내에서 -40℃로 냉각한 다음, 여기에 THF(100㎖) 중 희석한 사이클로헥실 이소시안산염(6.75g, 0.054mmol)을 천천히 첨가하여 잘 교반하였다. 이 반응 혼합물을 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이때 침전된 백색 고체를 여과로 걸러내고 나서, 물에 현탁한 다음, pH 2로 산성화하였다(HCl 사용). 이때 투명해진 용액을 다시 여과한 후, 여과물의 pH를 8로 만들었는데(NaOH 사용), 이때 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아가 백색 고체로서 침전되었다.
16.2
Figure pct00014
플라스크를 THF 중 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아로 채운 다음, 여기에 포스겐을 발포하였다. 반응이 끝난 후 감압 하에서 과량의 포스겐과 용매를 제거하였더니, 표제 화합물이 생성되었다.
I.4 x가 3이고 R1과 R2가 동일한 화학식 I의 화합물
실시예 17:
Figure pct00015
아르곤 분위기 하에, 트랜스-1-(4-아미노사이클로헥실)-3-사이클로헥실우레아(3.2g, 13mmol)를, 불꽃으로 건조한 쉬링크 플라스크에 넣어서 NMP에 용해하였다. 여기에 NMP 중 희석한 트랜스-1,4-사이클로헥산 디이소시안산염(1g, 6mmol)을 천천히 첨가하여 잘 교반하였다. 이때 생성된 혼합물을 80℃로 가열한 다음, 12시간 동안 교반하였다. 용액을 1M HCl 중에서 침전시킨 다음, 여과로 걸러내었다. 이때 생성된 백색 고체를 THF로 세정하고 나서, 진공 하에 2시간 동안 건조하였다(70℃, 100mbar).
MS(70eV): 265(M+)
달리 언급되지 않은 한 이하 일반적인 방법들을 실용 사례들에서 적용하였다.
혼합 방법:
분말로 만들어진 폴리아미드와 화학식 I의 우레아 화합물의 중량을 정확히 계량하여 유리병 속에 농도 1.0중량%로 담았다. 그 다음, 조성물을 40~45rpm에서 24시간 동안 회전 혼합 및 배합하였다. 이후 상기 분말을, 질소 분위기 하에 250℃의 용융 온도에서 5분 동안 50rpm의 회전 속도로 동시 회전형 2축 배합기(DSM 엑스플로어(DSM Xplore)) 내에서 배합하였다. 초기 조핵제 농도를 순 폴리아미드로 여러 가지 경우의 수로 희석하여 상이한 농도로 만들었다. 순 폴리아미드를 동일한 방법으로 처리하여 블랭크 대조군 샘플을 만들었다.
다음과 같은 폴리아미드들을 사용하였다:
- 독일 소재 바스프 에스이에서 시판되는 울트라미드(Ultramid®) B27: PA 6 등급
- 독일 소재 바스프 에스이에서 시판되는 울트라미드® A27E1: PA 66 등급
- PA 66/6(90/10)
- 독일 소재 바스프 에스이에서 시판되는 울트라미드® C33: PA 6/66 등급
- 듀퐁(DuPont)에서 시판되는 자이텔(Zytel)® 1512: PA 6/12 등급
- 독일 소재 바스프 에스이에서 시판되는 울트라미드® S3K 밸런스(Balance): PA 6,10 등급.
사출 성형:
DSM 엑스플로어(용량 12㎖) 사출 성형 기기에서 사출 성형을 수행하였다. 질소 블랭킷(nitrogen blanket)에서 2축 압출기로부터 얻어진 용융 화합물 약 8.5g을 배럴에 직접 채워넣었다(250℃). 용융물을 잘 닦은 성형 틀로 사출하였다(압력 = 약 6bar). 성형 온도는 100℃로 하였다. 수집된 표본들의 지름은 25㎜였다.
중합체 결정화 온도
질소 하에 퍼킨 엘머 다이아몬드 DSC(Perkin Elmer Diamond DSC) 상에서 시차 주사 열량 분석(DSC)을 실시하여 다양한 혼합물들과 대조군 샘플들의 결정화 행동을 관찰하였다. 50~250℃에서 가열과 냉각 주사를 2회 실시하였다(표준율 = 10℃/분). 열 이력을 없애기 위해서 샘플들을 250℃에서 5분 동안 방치한 후, 각각 냉각 과정을 거쳤다. 두 번째 냉각 주사의 발열 최소 치(exothermic minimum)에서의 중합체 결정화 값(Tc)을 측정하였다.
광학 특성 규명(헤이즈, 투명도):
실온에서 헤이즈-가드 플러스 기구(haze-guard plus instrument)(BYK, 가드너(Gardner)®, 조도 CIE-E)를 사용하여 헤이즈와 투명도를 측정하였다. 상기 헤이즈-가드 플러스 기구는 ASTM D-1033를 뒷받침해주는 것이다. 사출 성형을 통해 표본들을 만들고 나서 12~24시간 경과시 헤이즈 값과 투명도 값을 측정하였다. 측정 대상 샘플들의 지름은 25㎜였다.
레이저 투명도 측정:
파장 1064㎚에서 열 전력 측정을 통해 레이저 투과율을 측정하였다. 기하학적 측정 조건은 다음과 같이 설정하였다: 빔 분할 장치(레이저옵틱 게엠베하(Laseroptik GmbH)의 SQ2 비 편광 빔 분할 장치)를 사용하여 전력 1와트인 기준 빔(각도 = 90°)을 레이저 빔(다이오드 펌핑된 Nd-YAG 레이저, 파장 1064㎚, FOBA DP50; 총 전력 2와트)으로부터 분할하였다. 기준 빔은 기준 센서에 영향을 미쳤다. 빔 분할 장치를 통과한 원래 빔의 일부분은 이와 유사하게 측정 빔(전력 1와트)을 제공하였다. 빔 분할 장치 뒤에 있는 모드 다이어프레임(5.0)을 통해 상기 빔을 초점 지름 0.18㎛가 되도록 모았다. 레이저 투명도(LT) 측정 센서를 초점의 80㎜ 아래에 배치하였다. 테스트 시트를 LT 측정 센서의 2㎜ 위에 배치하였다. 이때, 치수 60×60×2㎣이고 에지 게이트가 적용된 사출 성형 테스트 시트를 사용하였다. 측정은 시트의 중앙(대각선 2개가 서로 교차하는 지점)에서 이루어졌다. 사출 성형 매개 변수는 다음과 같은 값으로 설정하였다:
Figure pct00016
측정 총 소요 시간은 30초이었으며, 측정 결과는 마지막 5초 이내에 결정하였다. 기준 센서와 측정 센서로부터 유래하는 신호들은 동시에 기록하여 두었다. 측정 과정은 표본을 삽입하는 것으로부터 시작하였다.
투과율, 즉 레이저 투명도는 다음과 같은 식으로부터 구하였다:
LT = (신호(측정 센서)/신호(기준 센서))×100%
이와 같은 측정 방법에서 레이저 시스템 내 변동과 주관적인 판독 오류는 제외하였다.
5회 이상의 측정을 통하여 시트에 대한 평균 LT 값을 산정하였다. 각각의 자료에 있어서 시트 10개에 대한 평균값을 산정하였다. 각각의 시트를 대상으로 하여 수행된 측정으로부터 얻어진 평균값들을 사용하여 자료에 대한 평균값뿐만 아니라 표준 편차도 산정하였다.
결과:
폴리아미드 조성물의 결정화 온도(Tc), 헤이즈 및 투명도뿐만 아니라 테스트 표본(평판)의 두께와, 본 발명에 의한 화학식 I의 화합물의 농도를 이하 표 1~16에 제시하였다:
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 Tc
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스-(3-tert-부틸우레아),
실시예 1의 화합물		 PA 6 1.0 194.0 20.0 97.7 1.1
PA 6 0.8 193.7 19.7 97.1 1.1
PA 6 0.6 193.8 24.5 97.4 1.1
PA 6 0.4 193.6 33.5 97.8 1.1
PA 6 0.2 193.6 46.6 97.1 1.1
PA 6 0.1 193.3 51.2 97.9 1.1
PA 6 0.05 192.8 70.2 97.1 1.1
PA 6 0.025 192.2 77.8 97.5 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 Tc
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-사이클로헥실우레아),
실시예 2의 화합물		 PA 6 1.0 192.8 64.4 96.1 1.1
PA 6 0.8 193.1 68.5 96.4 1.1
PA 6 0.6 193.3 72.8 97.0 1.1
PA 6 0.4 193.3 76.6 96.1 1.1
PA 6 0.2 193.1 84.0 96.2 1.1
PA 6 0.1 192.3 88.9 93.7 1.1
PA 6 0.05 191.9 92.5 94.5 1.1
PA 6 0.025 190.9 95.8 91.6 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 Tct
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-이소프로필우레아),
실시예 3의 화합물		 PA 6 1.0 192.8 42.0 97.2 1.1
PA 6 0.8 192.3 45.6 96.8 1.1
PA 6 0.6 192.8 51.3 97.7 1.1
PA 6 0.4 193.1 59.4 97.3 1.1
PA 6 0.2 192.8 68.2 97.2 1.1
PA 6 0.1 192.6 76.3 96.9 1.1
PA 6 0.05 192.4 85.9 96.4 1.1
PA 6 0.025 191.9 87.8 94.8 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 Tc
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-1-에틸프로필우레아),
실시예 4의 화합물		 PA 6 1.0 191,4 36.1 96.9 1.1
PA 6 0.8 191,9 43.0 97.3 1.1
PA 6 0.6 192,1 50.9 97.4 1.1
PA 6 0.4 192,2 61.8 97.0 1.1
PA 6 0.2 192,2 71.3 97.4 1.1
PA 6 0.1 192,5 79.0 95.6 1.1
PA 6 0.05 192,2 84.9 95.3 1.1
PA 6 0.025 191,6 89.0 94.4 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1,1-디메틸프로필)-우레아),
실시예 7에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 194.3 11.4 97.0 1.1
PA 6 1.3 194.2 12.4 97.6 1.1
PA 6 1.0 194.3 16.4 97.7 1.1
PA 6 0.8 194.4 21.9 97.9 1.1
PA 6 0.6 193.9 30.4 96.8 1.1
PA 6 0.4 194.1 40.8 97.8 1.1
PA 6 0.2 194.4 54.1 97.8 1.1
PA 6 0.1 193.9 66.1 97.7 1.1
PA 6 0.05 193.4 73.8 97.4 1.1
PA 6 0.025 192.9 80.8 96.7 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(tert-옥틸)우레아),
실시예 8에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 192.1 27.8 93.8 1.1
PA 6 1.3 192.3 28.9 93.7 1.1
PA 6 1.0 192.1 28.0 92.5 1.1
PA 6 0.8 192.1 26.2 93.9 1.1
PA 6 0.6 191.9 33.4 94.4 1.1
PA 6 0.4 192.2 42.1 95.4 1.1
PA 6 0.2 192.3 55.5 96.4 1.1
PA 6 0.1 191.9 66.5 96.3 1.1
PA 6 0.05 191.7 77.6 96.8 1.1
PA 6 0.025 190.9 80.7 97.0 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1,5-디메틸-헥실)우레아),
실시예 9에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 192.4 28.3 96.8 1.1
PA 6 1.3 191.8 22.1 97.0 1.1
PA 6 1.0 193.8 24.4 96.9 1.1
PA 6 0.8 193.5 28.3 97.0 1.1
PA 6 0.6 193.3 36.2 97.3 1.1
PA 6 0.4 193.5 50.4 96.9 1.1
PA 6 0.2 192.8 63.2 97.2 1.1
PA 6 0.1 192.9 72.1 96.9 1.1
PA 6 0.05 191.8 81.0 95.9 1.1
PA 6 0.025 192.1 85.5 94.8 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(1-아다만틸)우레아),
실시예 10에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 192.5 15.9 97.4 1.1
PA 6 1.3 190.9 21.8 96.8 1.1
PA 6 1.0 193.4 28.2 97.3 1.1
PA 6 0.8 191.7 36.2 97.2 1.1
PA 6 0.6 192.7 46.5 97.1 1.1
PA 6 0.4 192.8 59.9 96.8 1.1
PA 6 0.2 192.5 70.9 96.9 1.1
PA 6 0.1 191.9 78.4 96.4 1.1
PA 6 0.05 192.2 83.7 96.1 1.1
PA 6 0.025 192.0 88.1 94.9 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-n-부틸우레아),
실시예 11에서
생성된 화합물		 PA 6 1.0 192.7 50.8 97.3 1.1
PA 6 0.8 192.1 55.3 97.2 1.1
PA 6 0.6 193.0 60.2 97.5 1.1
PA 6 0.4 192.8 65.1 97.5 1.1
PA 6 0.2 192.2 71.2 96.8 1.1
PA 6 0.1 191.9 77.1 97.1 1.1
PA 6 0.05 191.8 83.2 96.1 1.1
PA 6 0.025 190.5 87.0 94.9 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(n-프로필)우레아),
실시예 12에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 194.1 40.6 96.5 1.1
PA 6 1.3 193.5 44.4 96.4 1.1
PA 6 1.0 193.8 52.2 97.1 1.1
PA 6 0.8 192.9 59.5 95.6 1.1
PA 6 0.6 193.9 65.6 96.8 1.1
PA 6 0.4 193.0 72.3 97.3 1.1
PA 6 0.2 193.7 78.8 95.9 1.1
PA 6 0.1 192.5 83.8 96.2 1.1
PA 6 0.05 192.7 89.0 92.5 1.1
PA 6 0.025 191.9 91.9 93.2 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스(3-(에틸)우레아),
실시예 13에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 194.2 46.5 97.3 1.1
PA 6 1.3 193.8 49.6 97.1 1.1
PA 6 1.0 194.1 55 97.3 1.1
PA 6 0.8 194.1 60.1 97.3 1.1
PA 6 0.6 194.2 65.0 97.4 1.1
PA 6 0.4 194.5 72.5 90.5 1.1
PA 6 0.2 194.2 78.4 96.8 1.1
PA 6 0.1 193.6 84.7 96.4 1.1
PA 6 0.05 193.4 87.9 95.5 1.1
PA 6 0.025 192.7 91.6 94.2 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 186.5 98.2 68.4 1.1
1-tert-부틸-3-[4-(사이클로헥실카바모일아미노)사이클로헥실]우레아,
실시예 15에서
생성된 화합물		 PA 6 1.0 190.5 32.5 97.4 1.1
PA 6 0.8 190.0 36.8 97.9 1.1
PA 6 0.6 191.9 44.8 97.8 1.1
PA 6 0.4 191.5 54.6 97.6 1.1
PA 6 0.2 190.7 65.7 97.7 1.1
PA 6 0.1 191.5 75.4 97.2 1.1
PA 6 0.05 190.9 82.3 96.8 1.1
PA 6 0.025 189.1 86.8 96.2 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 98.2 68.4 1.1
실시예 17에서
생성된 화합물		 PA 6 1.5 76.9 67.2 1.1
PA 6 1.3 76.3 69.9 1.1
PA 6 1.0 75.2 74.9 1.1
PA 6 0.8 74.6 77.4 1.1
PA 6 0.6 74.2 81.6 1.1
PA 6 0.4 75.2 85.9 1.1
PA 6 0.2 76.4 91.4 1.1
PA 6 0.1 83.0 93.6 1.1
PA 6 0.05 88.0 93.3 1.1
PA 6 0.025 91.2 92.9 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6/66 - 159.0 22.6 96.7 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스
(3-(tert-부틸)우레아),
실시예 1의
화합물		 PA 6/66 1.5 172.8 6.1 96.1 1.1
PA 6/66 1.3 173.9 5.0 96.2 1.1
PA 6/66 1.0 167.9 7.4 97.8 1.1
PA 6/66 0.8 168.2 8.1 97.8 1.1
PA 6/66 0.6 167.3 11.8 97.7 1.1
PA 6/66 0.4 165.9 16.6 98.3 1.1
PA 6/66 0.2 166.1 24.6 98.7 1.1
PA 6/66 0.1 165.7 33.1 98.9 1.1
PA 6/66 0.05 165.4 42.5 98.7 1.1
PA 6/66 0.025 164.6 49.2 98.3 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 66/6 - 213.2 97.5 76.7 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스
(3-(tert-부틸우레아),
실시예 1의
화합물		 PA 66/6 1.5 219.3 34.4 97.0 1.1
PA 66/6 1.3 219.3 25.2 97.2 1.1
PA 66/6 1.0 219.4 24.2 97.1 1.1
PA 66/6 0.8 220.0 25.2 96.4 1.1
PA 66/6 0.6 218.6 32.5 96.8 1.1
PA 66/6 0.4 218.4 44.1 96.7 1.1
PA 66/6 0.2 217.1 64.0 96.7 1.1
PA 66/6 0.1 216.4 79.1 96.7 1.1
PA 66/6 0.05 216.1 84.9 96.3 1.1
PA 66/6 0.025 215.5 89.0 96.8 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6/12 - 190.8 74.6 86.7 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스
(3-(tert-부틸)우레아),
실시예 1 유래
화합물		 PA 6/12 1.5 192.0 46.4 96.5 1.1
PA 6/12 1.3 192.4 45.2 95.1 1.1
PA 6/12 1.0 191.7 41.0 97.2 1.1
PA 6/12 0.8 192.2 40.0 96.6 1.1
PA 6/12 0.6 192.1 37.9 96.7 1.1
PA 6/12 0.4 191.8 39.6 96.7 1.1
PA 6/12 0.2 192.0 45.8 96.9 1.1
PA 6/12 0.1 191.7 51.3 97.5 1.1
PA 6/12 0.05 191.5 53.9 97.5 1.1
PA 6/12 0.025 191.3 54.1 98.0 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 T결정화
[℃]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 66 - 234.5 100.0 11.2 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스
-(3-(tert-부틸)우레아),
실시예 1에서
생성된 화합물		 PA 66 1.5 239.9 53.3 90.1 1.1
PA 66 1.3 240.8 52.0 94.5 1.1
PA 66 1.0 240.2 58.4 95.4 1.1
PA 66 0.8 239.8 64.4 95.4 1.1
PA 66 0.6 238.2 82.3 95.2 1.1
PA 66 0.4 237.6 96.0 94.0 1.1
PA 66 0.2 236.8 99.8 88.3 1.1
PA 66 0.1 238.1 100.0 69.4 1.1
PA 66 0.05 236.0 100.0 74.8 1.1
PA 66 0.025 235.8 100.0 47.6 1.1
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 헤이즈
[%]		 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA6 100.0 50.1 2.0
PA6/66 96.5 93.6 2.0
PA6,10 89.1 96.8 2.0
(4-우레이도사이클로헥실)우레아,
실시예 14에서
생성된 화합물		 PA6 1 71.7 99.1 2.0
PA6/66 1 37.1 99.0 2.0
PA6,10 1 61.8 99.2 2.0
폴리아미드 조성물의 레이저 투명도와 테스트 표본(평판)의 두께, 그리고 본 발명에 의한 화학식 I의 화합물의 농도를 이하 표 19에 제시하였다. 비교 폴리아미드 조성물의 레이저 투명도와 테스트 표본(평판)의 두께, 그리고 비교 화합물 탈크 IT 엑스트라(Talc IT extra)의 농도는 이하 표 20에 제시하였다. 탈크 IT 엑스트라는 몬도 미네랄스(Mondo Minerals)로부터 입수할 수 있었다.
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 레이저 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 82.3 1.1
1,1'-(트랜스-1,4-사이클로헥실렌)비스
(3-tert-부틸우레아),
실시예 1의 화합물		 PA 6 1.0 86.9 1.1
PA 6 0.4 86.1 1.1
PA 6 0.2 84.2 1.1
PA 6 0.1 81.7 1.1
PA 6 0.05 79.9 1.1
PA 6 0.025 79.2 1.1
PA 6 0.0125 79.1 1.1
비교 실험
본 발명에 의한
첨가제		 PA 농도
[중량%]		 레이저 투명도
[%]		 두께
[㎜]
무 PA 6 - 82.3 1.1
탈크 IT 엑스트라 PA 6 1.0 78.8 1.1
PA 6 0.4 79.4 1.1
PA 6 0.2 79.6 1.1
PA 6 0.1 80.0 1.1
PA 6 0.05 80.4 1.1
PA 6 0.025 81.2 1.1
PA 6 0.0125 82.3 1.1
상기 표 19 및 20에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 발명의 폴리아미드 조성물의 레이저 투명도는, 활석을 조핵제로서 포함하는 통상의 폴리아미드 조성물의 레이저 투명도에 비하여 증가하였다.
이하 표 21에 제시된 본 발명의 조성물, 기준 및 비교 조성물은 전술된 바와 같이 제조하였다. 상기와 같은 조성물들의 ASTM D1003에 따른 투명도 측정 결과와 레이저 투명도 측정 결과를 이하 표 22에 편집하여 제시하였다.
PA 6
[wt.%]		 실시예 1에서
생성된 화합물
[wt.%]		 항산화제*
[wt.%]		 칼슘 스테아르산염** 탈크
IT 엑스트라
기준 100 - - - -
IC 1 99.5 0.5 - - -
IC 2 99.0 1.0 - - -
IC 3 98.20 1.0 0.3 0.5 -
CC 1 99.20 - 0.3 0.5 -
CC2 99.50 - - - 0.5
CC3 99.00 - - - 1.0
CC4 98.20 - 0.3 0.5 1.0
*N,N'-헥산-1,6-디일비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로판아미드],
CAS 23128-74-7
** 씨싯(Ceasit) AV, 분말 유동성 보조제(베로커(Baerlocher)사 제품)
IC 본 발명의 조성물
CC 비교 조성물
헤이즈
[%]
(1㎜)		 투명도
[%]
(1㎜)		 투과율
[%]		 레이저 투명도
(1㎜)[%]		 레이저 투명도
(2㎜)[%]
기준 91.9 93.2 80.8 85.0 70.7
IC 1 55.1 99.4 76.0 n.d. n.d.
IC 2 19.1 99.6 81.0 86.9 79.3
IC 3 30.1 99.2 79.3 86.5 n.d.
CC 1 92.6 84.6 82.3 86.9 n.d.
CC2 52.6 98.3 76.4 n.d. n.d.
CC3 49.0 96.8 77.0 82.5 n.d.
CC4 32.6 98.2 77.1 82.8 n.d.
n.d.: 측정되지 않음
상기 표 22에서 볼 수 있는 바와 같이, 첨가제와 배합된 본 발명의 폴리아미드 조성물은, 화학식 I의 화합물을 포함하지 않는 비교 조성물에 비하여 개선된 광학 특성들 즉, 감소된 헤이즈, 개선된 투명성 및 개선된 레이저 투명도를 보였다.

Claims (28)

  1. 하나 이상의 폴리아미드 중합체와, 하나 이상의 하기 화학식 I의 화합물을 포함하는 중합체 조성물:
    [화학식 I]
    Figure pct00017

    상기 식 중,
    x는 1, 2 또는 3이고;
    R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
    Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택된다.
  2. 제1항에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되는 것인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 분지형 C3∼C10-알킬, C5∼C12-사이클로알킬, C5∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 페닐 및 페닐-C1∼C4-알킬로부터 선택되는데, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상에 의해 치환되거나 치환되지 않으며, Ra는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐으로부터 선택되는 것인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 알킬기의 2차 또는 3차 탄소 원자를 통해 골격에 결합되는 분지형 C3∼C10-알킬, 라디칼 Ra 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않는 C5∼C10-사이클로알킬, 및 라디칼 Ra 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않는 페닐로부터 선택되는 것인 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, R1 및 R2는 동일한 의미를 갖는 것인 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, Z는 C5∼C8-알칸디일, C5∼C7-사이클로알킬렌, C5∼C7-사이클로알킬렌-CH2-C5∼C7-사이클로알킬렌, 페닐렌 또는 페닐렌-CH2-페닐렌으로서, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Rb 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않으며, Rb는 C1∼C10-알킬 및 할로겐으로부터 선택되는 것인 조성물.
  7. 제6항에 있어서, Z는 선형 C5∼C8-알칸디일 또는 C5∼C7-사이클로알킬렌인 것인 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, x는 1인 것인 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, R1 및 R2는 동일하며, 수소, tert-부틸, 1,1-디메틸프로필, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 1-아다만틸로부터 선택되고; Z는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌이며; x는 1인 것인 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리아미드 중합체는 지방족 폴리아미드 동종 중합체, 지방족 폴리아미드 공중합체 및 부분 방향족 폴리아미드로부터 선택되는 것인 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA 7, PA 10, PA 11, PA 12, PA 66, PA 69, PA 610, PA 612, PA 1010, PA 6/66, PA 66/6, PA 66/610 및 이들의 혼합물로부터, 바람직하게는 PA 6, PA　11, PA 12, PA 66, PA 66/6 및 PA 6/66으로부터 선택되는 것인 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA　11, PA 12, PA 66, PA 66/6 및 PA 6/66으로부터 선택되고, 화학식 I의 화합물에서, R1 및 R2는 동일하며, 수소, tert-부틸, 1,1-디메틸프로필, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 1-아다만틸로부터 선택되고; Z는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌이며; x는 1인 것인 조성물
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화학식 I의 화합물은 폴리아미드 중합체의 중량에 대해 0.001~5중량%, 바람직하게는 0.01~3중량%, 더욱 바람직하게는 0.05~2중량%의 양으로 존재하는 것인 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체 조성물은 착색제, 항산화제, UV 흡수제, 광 안정화제, 보강제, 충전제, 흐림 방지제, 이형제, 살생물제, 대전 방지제 및 레올로지 조절제로부터 선택되는 추가 첨가제 하나 이상을 추가로 포함하는 것인 조성물.
  15. 증가된 투명성, 증가된 레이저 투명도(laser transparency) 및 감소된 헤이즈로부터 선택되는 광학 특성 하나 이상을 개선하기 위한 하나 이상의 반 결정질 폴리아미드 중합체를 포함하는 중합체 조성물에서의 하기 화학식 I의 화합물의 용도:
    [화학식 I]
    Figure pct00018

    [상기 식 중, R1, R2, Z 및 x는 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 정의된 바와 같음]
  16. 제15항에 있어서. R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 분지형 C3∼C10-알킬, C5∼C12-사이클로알킬, C5∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 페닐 및 페닐-C1∼C4-알킬로부터 선택되는데, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Ra 하나 이상에 의해 치환되거나 치환되지 않고, Ra는 C1∼C10-알킬 및 할로겐으로부터 선택되며; 바람직하게는 R1 및 R2는 서로 독립적으로 알킬기의 2차 또는 3차 탄소 원자를 통해 골격에 결합되는 분지형 C3∼C10-알킬, 라디칼 Ra 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않는 C5∼C10-사이클로알킬, 및 라디칼 Ra 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않는 페닐로부터 선택되는 것인 화학식 I의 화합물의 용도.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서, x는 1인 것인 화학식 I의 화합물의 용도.
  18. 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, Z는 C5∼C8-알칸디일, C5∼C7-사이클로알킬렌, C5∼C7-사이클로알킬렌-CH2-C5∼C7-사이클로알킬렌, 페닐렌 또는 페닐렌-CH2-페닐렌으로서, 이때, 마지막으로 예시된 라디칼 4개 중 각각의 고리는 동일하거나 상이한 라디칼 Rb 1개 또는 2개에 의해 치환되거나 치환되지 않으며, Rb는 C1∼C10-알킬 또는 할로겐이며, 바람직하게는 Z는 선형 C5∼C8-알칸디일 또는 C5∼C7-사이클로알킬렌인 것인 화학식 I의 화합물의 용도.
  19. 제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리아미드 중합체는 지방족 폴리아미드 동종 중합체, 지방족 폴리아미드 공중합체 및 부분 방향족 폴리아미드로부터 선택되는 것인 화학식 I의 화합물의 용도.
  20. 제19항에 있어서, 상기 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA 7, PA 10, PA 11, PA 12, PA 66, PA 69, PA 610, PA 612, PA 1010, PA 6/66, PA 66/6 및 PA 66/610으로부터 선택되고, 바람직하게는 PA 6, PA　11, PA 12, PA 66, PA 66/6 또는 PA 6/66인 것인 화학식 I의 화합물의 용도.
  21. 제15항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리아미드 중합체는 PA 6, PA　11, PA 12, PA 66, PA 66/6 및 PA 6/66으로부터 선택되고, 화학식 I의 화합물에서, R1 및 R2는 동일하며, 수소, tert-부틸, 1,1-디메틸프로필, 1,5-디메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 1-아다만틸로부터 선택되고; Z는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌이며; x는 1인 것인 용도.
  22. 제15항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 1.1㎜의 두께를 가지는 평판에서 측정된 헤이즈 값은, 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상 그리고 특히 20% 이상 감소하는 것인 용도.
  23. 제15항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 1.1㎜의 두께를 가지는 평판에서 측정된 투명도 값은, 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상 그리고 특히 20% 이상 증가하는 것인 용도.
  24. 제15항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 1.1㎜의 두께를 가지는 평판 및 1064㎚에서 측정되는 레이저 투명도 값은, 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 더욱 바람직하게는 5% 이상 그리고 특히 10% 이상 증가하는 것인 용도.
  25. 제15항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 1.1㎜의 두께를 가지는 평판에서 측정되는 헤이즈 및 투명도에서, 화학식 I의 첨가제를 포함하지 않는 기준 중합체 조성물과 비교하여, 헤이즈 값이 5% 이상 감소하고, 투명도 값이 5% 이상 증가하는 것인 용도.
  26. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 의한 중합체 조성물을 포함하는 성형 물품.
  27. 제26항에 있어서, 필름, 섬유, 시트, 파이프, 반제품, 과립, 용기, 중공 성형 물품 또는 모노필라멘트로부터 선택되는 것인 성형 물품.
  28. 하기 화학식 I의 화합물로서,
    [화학식 I]
    Figure pct00019

    [상기 식 중,
    x는 1, 2 또는 3이고;
    R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 선형 C1∼C7-알킬, 분지형 C3∼C10-알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬, 비치환 또는 치환 C3∼C12-사이클로알킬-C1∼C4-알킬, 비치환 또는 치환 아릴, 및 비치환 또는 치환 아릴-C1∼C4-알킬로부터 선택되며;
    Z는 C3∼C10-알칸디일, 비치환 또는 치환 아릴렌, 비치환 또는 치환 아릴렌-C1∼C4-알킬렌-아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 헤테로아릴렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로아릴렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 C5∼C8-사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-C5∼C8-사이클로알킬렌, 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌, 및 비치환 또는 치환 헤테로사이클로알킬렌-C1∼C4-알킬렌-헤테로사이클로알킬렌으로부터 선택된다.]
    R1 및 R2가 동일하며, 수소, tert-부틸, 2-에틸헥실, 1-에틸펜틸, 사이클로헥실 또는 페닐이고, x가 1인 경우, Z가 1,4-사이클로헥실렌이거나
    R1 및 R2가 둘 다 (R)-1-페닐에틸이고, x가 1인 경우, Z가 -(CH2)9-
    인 화합물은 제외되는 것인 화합물.

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