KR20100089753A

KR20100089753A - Organic electroluminescence display device

Info

Publication number: KR20100089753A
Application number: KR1020100006454A
Authority: KR
Inventors: 히로유키 모리; 히데마사 호소다; 마사노리 히키타
Original assignee: 후지필름 가부시키가이샤
Priority date: 2009-02-03
Filing date: 2010-01-25
Publication date: 2010-08-12
Also published as: KR101931853B1; EP2214223A2; CN101800241A; US8890402B2; KR20160021435A; US20100194717A1; JP2010182449A; CN101800241B; EP2214223A3

Abstract

PURPOSE: An organic EL display device is provided to improve light extraction efficiency by dispersing a particle as a first particle. CONSTITUTION: A passivation layer(2) is formed on glass substrates(1). An interlayer dielectric layer(3) is formed on the passivation layer. A reflector(5) is formed on the interlayer dielectric layer. An elementary particle containing layer is formed on the reflector. A transparent electrode(7) is formed on the elementary particle containing layer. An organic compound layer(8) is formed on the transparent electrode. A counter electrode(9) is formed on the organic compound layer.

Description

유기 ＥＬ 표시장치{ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE}Organic EL display {ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 유기 EL 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic EL display device.

유기 EL 표시장치(organic electroluminescence display device)는 자가 발광형 표시장치로 디스플레이 및 조명에 사용된다. 유기 EL 디스플레이는 종래의 CRT 및 LCD와 비교하여 가시성이 높고, 시야각 의존성이 없다고 하는 디스플레이 성능의 이점을 갖고, 또한 표시장치를 경량화 및 박형화할 수 있다는 이점도 갖고 있다. 한편, 유기 EL 조명은 장치를 경량화 및 박형화할 수 있는 것 이외에 플렉시블 기판을 사용함으로써 지금까지는 달성할 수 없었던 형태의 조명기기를 달성할 수 있다는 이점을 갖는다.Organic electroluminescence display devices are self-luminous displays and are used for display and illumination. The organic EL display has the advantage of display performance that is higher in visibility than the conventional CRT and LCD, and that there is no viewing angle dependency, and also has the advantage that the display device can be lighter and thinner. On the other hand, in addition to being able to reduce the weight and thickness of the device, organic EL lighting has an advantage of achieving a type of lighting device that has not been achieved until now by using a flexible substrate.

유기 EL 표시장치는 상술한 바와 같은 우수한 특성을 갖지만, 발광층을 포함한 표시장치를 구성하는 각 층의 굴절률이 공기의 굴절률보다 높다. 예를 들면, 유기 EL 표시장치에 있어서 발광층과 같은 유기 박막층의 굴절률은 1.6~2.1이다. 그러므로, 발광광은 계면에서 전부 반사되기 쉬워서, 광추출 효율이 20% 미만이다. 따라서, 대부분의 광이 손실된다.The organic EL display device has excellent characteristics as described above, but the refractive index of each layer constituting the display device including the light emitting layer is higher than that of air. For example, in the organic EL display device, the refractive index of the organic thin film layer such as the light emitting layer is 1.6 to 2.1. Therefore, the emitted light is easily reflected at the interface, and the light extraction efficiency is less than 20%. Thus, most of the light is lost.

광추출 효율을 향상을 개선시키기 위한 수단으로서, 예를 들면 하기 방법이 제안되어 있다: 광추출 표면측 상의 투명 전극에 인접하여 투명층을 형성하고, 또한 상기 투명층의 광추출면에 인접하여 또는 투명층 내부에 실질적으로 광반사 및 산란각의 교란을 야기하는 영역을 설치하는 방법(예를 들면, 일본 특허공개 2004-296429호 참조); 발광층으로부터 방출된 광이 유기물층으로부터 광투과성 절연층까지 이동하는 광로에 미립자 분산층을 형성하여 베이스 재료에 미립자를 분산시키는 방법(예를 들면, 일본 특허공개 2006-107744호 참조); 유기 EL 소자의 계면의 전반사가 방지되는 위치에 회절격자 또는 존 플레이트(zone plate)를 형성하는 방법(예를 들면, 일본 특허 제2991183호 참조); 및 광투과성 기판과 광투과성 전극 사이의 계면에서 광이 전반사되는 각도 범위 내에서 광투과성 전극에의 입사광의 적어도 일부가 광투과성 기판을 거쳐서 산란 및/또는 회절되어 출사되고, 광투과성 기판과 광투과성 전극으로 입사하는 입사광이 광투과성 기판을 거쳐서 약하게 산란 및/또는 전달되어 출사되도록 구성된 광학 유닛을 광투과성 기판과 광투과성 전극 사이에 설치하는 방법(예를 들면, 일본 특허공개 2006-54197호 참조).As a means for improving the light extraction efficiency, for example, the following method has been proposed: forming a transparent layer adjacent to the transparent electrode on the light extraction surface side, and also adjacent to the light extraction surface of the transparent layer or inside the transparent layer. A method of providing an area substantially causing disturbance of light reflection and scattering angle in the (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-296429); A method of dispersing fine particles in the base material by forming a fine particle dispersion layer in an optical path in which light emitted from the light emitting layer moves from the organic material layer to the light transmissive insulating layer (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-107744); A method of forming a diffraction grating or a zone plate at a position at which total reflection of an interface of an organic EL element is prevented (see, for example, Japanese Patent No. 2991183); And at least a portion of incident light on the light transmissive electrode is scattered and / or diffracted through the light transmissive substrate within the angle range where light is totally reflected at the interface between the light transmissive substrate and the light transmissive electrode, and exits the light transmissive substrate and the light transmissive substrate. A method of installing an optical unit configured between a light transmissive substrate and a light transmissive electrode so that incident light incident on the electrode is weakly scattered and / or transmitted through the light transmissive substrate to be emitted (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-54197). .

그러나, 일본 특허공개 2004-296429호에 개시된 방법에 있어서는 광산란 효율을 개선하기 위해서 광반사 및 산란각의 교란을 야기하는 영역의 두께를 두껍게 할 필요가 있으므로 상기 영역에 홀을 형성하는 것이 곤란하여, 상기 방법을 유기 EL 표시장치에 사용하는 것이 불가능하게 된다.However, in the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-296429, in order to improve light scattering efficiency, it is necessary to thicken the thickness of the region causing light reflection and scattering angle, so that it is difficult to form holes in the region. It is impossible to use the method in an organic EL display device.

일본 특허공개 2006-107744호에 개시된 방법에 있어서는 미립자 분산층은 두께가 얇고 그것에 함유된 미립자는 직경이 커서 광산란 효율이 나빠지게 되고, 또한 미립자가 쉽게 응집해서 미립자 분산층의 표면에 대형 요철이 생성되고, 그 결과 화상 블리딩(image bleeding) 및 화상 블러(image blur)의 발생이 야기된다. 또한, 일본 특허공개 2006-107744호에 개시된 방법은 제조공정이 복잡하다고 하는 문제도 있다. In the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-107744, the fine particle dispersion layer has a small thickness and the fine particles contained therein have a large diameter, resulting in poor light scattering efficiency. Also, the fine particles easily aggregate to form large irregularities on the surface of the fine particle dispersion layer. This results in the occurrence of image bleeding and image blur. The method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2006-107744 also has a problem that the manufacturing process is complicated.

일본 특허 2991183호 및 일본 특허공개 2006-54197호에 개시된 방법은 광추출 효율이 여전히 불충분하다는 문제를 야기한다.The method disclosed in Japanese Patent No. 2991183 and Japanese Patent Laid-Open No. 2006-54197 causes a problem that the light extraction efficiency is still insufficient.

본 발명의 목적은 종래 기술의 문제를 해결하고 하기 과제를 달성하는 것이다. 구체적으로, 본 발명의 과제는 광취출 효율을 개선하고 화상 블리딩을 저감시킬 수 있는 유기 EL 표시장치를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to solve the problems of the prior art and to achieve the following problem. Specifically, an object of the present invention is to provide an organic EL display device which can improve light extraction efficiency and reduce image bleeding.

상기 문제를 해결하기 위한 수단은 다음과 같다.Means for solving the problem are as follows.

<1> 투명 전극, 카운터 전극, 및 상기 투명 전극과 카운터 전극 사이에 형성된 유기 화합물층을 포함하는 유기 EL 소자로서, 상기 유기 화합물은 발광층을 포함하는 유기 EL 소자; 및<1> An organic EL device comprising a transparent electrode, a counter electrode, and an organic compound layer formed between the transparent electrode and the counter electrode, wherein the organic compound comprises an organic EL device comprising a light emitting layer; And

상기 발광층으로부터 방출된 광의 광로에 상기 투명 전극에 인접하여 위치한 미립자 함유층을 포함하는 유기 EL 표시장치로서,An organic EL display device comprising a fine particle containing layer located adjacent to the transparent electrode in an optical path of light emitted from the light emitting layer,

상기 미립자 함유층은 투명 전극의 굴절률 이하의 굴절률을 갖는 유기 수지 재료, 및 상기 유기 수지 재료의 굴절률 보다 높은 굴절률을 갖고 중량 평균 입경이 0.5㎛~5㎛인 미립자를 함유하고, 상기 미립자 함유층의 두께는 2㎛~10㎛인 유기 EL 표시장치.The particulate-containing layer contains an organic resin material having a refractive index equal to or less than the refractive index of the transparent electrode, and fine particles having a refractive index higher than that of the organic resin material and having a weight average particle diameter of 0.5 µm to 5 µm, and the thickness of the particulate-containing layer is An organic EL display device which is 2 micrometers-10 micrometers.

<1>에 기재된 유기 EL 표시장치에 있어서, 발광층으로부터 방출된 광은 광이 미립자 함유층을 통과할 때 산란된다.In the organic EL display device according to <1>, light emitted from the light emitting layer is scattered when light passes through the fine particle containing layer.

<2> <1>에 있어서, 상기 미립자 함유층 중의 미립자는 1차 입자인 유기 EL 표시장치.<2> The organic EL display device according to <1>, wherein the fine particles in the fine particle-containing layer are primary particles.

<3> <1> 또는 <2>에 있어서, 상기 미립자 함유층은 미립자 분산제를 더 함유하는 유기 EL 표시장치.<3> The organic EL display device according to <1> or <2>, wherein the fine particle containing layer further contains a fine particle dispersant.

<4> <1>~<3> 중 어느 하나에 있어서, 상기 투명 전극이 설치된 표면 반대측의 미립자 함유층 표면에 배치된 반사판, 상기 미립자 함유층에 인접한 표면 반대측의 반사판 표면에 배치된 층간 절연층, 및 상기 반사판에 인접한 표면 반대측의 층간 절연층 표면에 배치된 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.<4> The reflecting plate according to any one of <1> to <3>, wherein the reflecting plate is disposed on the surface of the particle-containing layer on the side opposite the surface on which the transparent electrode is provided, the interlayer insulating layer disposed on the surface of the reflecting plate on the side of the surface opposite to the particle-containing layer, and And a substrate disposed on the surface of the interlayer insulating layer opposite to the surface adjacent to the reflecting plate.

<4>에 기재된 유기 EL 표시장치는 발광층으로부터 방출된 광이 투명 전극을 통과하고, 상기 투명 전극을 통과한 광은 미립자 함유층을 통과하고, 상기 미립자 함유층을 통과한 광은 반사판 표면에서 반사되고, 상기 반사판 표면에서 반사된 광은 상기 미립자 함유층을 통과하고, 상기 미립자 함유층을 통과한 광은 투명 전극을 통과하는 전면발광(top emission)형 구성을 채용한다.In the organic EL display device described in <4>, the light emitted from the light emitting layer passes through the transparent electrode, the light passing through the transparent electrode passes through the fine particle containing layer, and the light passing through the fine particle containing layer is reflected on the reflecting plate surface, The light reflected from the surface of the reflecting plate passes through the fine particle containing layer, and the light passing through the fine particle containing layer adopts a top emission type configuration passing through the transparent electrode.

<5> <1>~<3> 중 어느 하나에 있어서, 상기 투명 전극이 설치된 표면 반대측의 미립자 함유층 표면에 배치된 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.<5> The organic EL display device according to any one of <1> to <3>, further comprising a substrate disposed on the surface of the particle-containing layer on the side opposite to the surface on which the transparent electrode is provided.

<5>에 기재된 유기 EL 표시장치는 발광층으로부터 방출된 광이 투명 전극을 통과하고, 상기 투명 전극을 통과한 광은 미립자 함유층을 통과하고, 상기 미립자 함유층을 통과한 광은 기판을 통과하는 배면발광(bottom emission)형 구성을 채용한다.In the organic EL display device described in <5>, light emitted from the light emitting layer passes through the transparent electrode, light passing through the transparent electrode passes through the fine particle containing layer, and light passing through the fine particle containing layer passes through the substrate. (bottom emission) type structure is adopted.

<6> <4> 또는 <5>에 있어서, 패시베이션층 상에 배치된 유기 박막 트랜지스터를 더 포함하는 유기 EL 표시장치.<6> The organic EL display device according to <4> or <5>, further comprising an organic thin film transistor disposed on the passivation layer.

<7> <6>에 있어서, 상기 유기 EL 표시장치의 구동방식은 박막 트랜지스터 구동인 유기 EL 표시장치.<7> The organic EL display device according to <6>, wherein the driving method of the organic EL display device is thin film transistor driving.

<8> <6> 또는 <7>에 있어서, 상기 미립자 함유층에는 상기 투명 전극과 상기 유기 박막 트랜지스터를 접속시키기 위해 콘택트홀이 형성된 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치<8> The organic EL display device according to <6> or <7>, wherein a contact hole is formed in the fine particle-containing layer to connect the transparent electrode and the organic thin film transistor.

본 발명에 따르면, 종래 기술의 문제점을 해결하고 광추출 효율을 개선하고 화상 블리딩을 저감시킬 수 있는 유기 EL 표시장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an organic EL display device that can solve the problems of the prior art, improve light extraction efficiency, and reduce image bleeding.

도 1은 전면발광형 유기 EL 표시장치의 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
도 2는 배면발광형 유기 EL 표시장치의 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3a는 유기 EL 표시장치용 TFT 기판의 제조방법(제 1 공정)의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3b는 유기 EL 표시장치용 TFT 기판의 제조방법(제 2 공정)의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3c는 유기 EL 표시장치용 TFT 기판의 제조방법(제 3 공정)의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3d는 유기 EL 표시장치용 TFT 기판의 제조방법(제 4 공정)의 일례를 나타내는 도면이다.
도 4는 전면발광형 유기 EL 표시장치에 있어서의 유기 EL 표시장치용 TFT 기판의 일례를 나타내는 도면이다.
도 2는 배면발광형 유기 EL 표시장치에 있어서의 유기 EL 표시장치용 TFT 기판의 일례를 나타내는 도면이다.1 is a diagram illustrating an example of the configuration of a top-emitting organic EL display device.
2 is a diagram illustrating an example of a configuration of a bottom emission type organic EL display device.
It is a figure which shows an example of the manufacturing method (1st process) of TFT substrate for organic electroluminescence display.
3B is a diagram illustrating an example of a manufacturing method (second step) of a TFT substrate for an organic EL display device.
3C is a diagram illustrating an example of a manufacturing method (third step) of a TFT substrate for an organic EL display device.
3D is a diagram illustrating an example of a manufacturing method (fourth step) of a TFT substrate for an organic EL display device.
4 is a diagram illustrating an example of a TFT substrate for an organic EL display device in a top emission type organic EL display device.
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a TFT substrate for an organic EL display device in a bottom emission type organic EL display device.

이하, 본 발명에 따른 유기 EL 표시장치에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, the organic electroluminescence display which concerns on this invention is demonstrated in detail.

(유기 EL 표시장치)(Organic EL display)

유기 EL 표시장치는 EL 소자 및 미립자 함유층을 적어도 포함하고, 필요에 따라서 다른 부재도 더 포함한다.The organic EL display device includes at least an EL element and a fine particle-containing layer, and further includes other members as necessary.

<유기 EL 소자><Organic EL element>

유기 EL 소자는 캐소드, 애노드(투명 전극과 카운터 전극), 및 상기 양쪽 전극 사이에 발광층(유기 발광층)을 포함하는 유기 화합물층을 갖는다. 발광 소자의 특성의 점에서, 애노드와 캐소드의 전극 중 하나 이상은 투명한 것이 바람직하다.The organic EL device has an organic compound layer including a cathode, an anode (transparent electrode and a counter electrode), and a light emitting layer (organic light emitting layer) between the both electrodes. In view of the properties of the luminous means, it is preferred that at least one of the electrodes of the anode and the cathode is transparent.

적층 유기 화합물층의 구성으로는 정공 전송층, 유기 발광층, 및 전자 전송층이 애노드측에서 봤을 때 이 순서로 적층된 실시형태가 바람직하다. 적층 유기 화합물층은 정공 전송층과 애노드 사이의 정공 주입층 및/또는 유기 발광층과 전자 전송층 사이의 전자 전송 중간층을 더 포함하다. 또한, 정공 전송 중간층을 유기 발광층과 정공 전송층 사이에 형성해도 좋다. 마찬가지로, 전자 주입층을 캐소드와 전자 전송층 사이에 형성해도 좋다.As a structure of the laminated organic compound layer, an embodiment in which the hole transport layer, the organic light emitting layer, and the electron transport layer are laminated in this order when viewed from the anode side is preferable. The laminated organic compound layer further includes a hole injection layer between the hole transport layer and the anode and / or an electron transport intermediate layer between the organic light emitting layer and the electron transport layer. Further, a hole transport intermediate layer may be formed between the organic light emitting layer and the hole transport layer. Similarly, an electron injection layer may be formed between the cathode and the electron transport layer.

이들 층의 각각은 복수의 제 2 층을 가져도 좋은 것은 물론이다.It goes without saying that each of these layers may have a plurality of second layers.

유기 발광층은 발광층에 상응하고, 애노드와 캐소드, 및 유기 발광층 이외의 각각의 층은 상술한 기타 부재에 각각 상응한다.The organic light emitting layer corresponds to the light emitting layer, and each layer other than the anode and the cathode, and the organic light emitting layer corresponds to the other members described above, respectively.

유기 화합물층을 구성하는 각 층은 증착 및 스퍼터링과 같은 건식 공정 제막법; 전사법, 인쇄법, 코팅법, 잉크젯법, 및 스프레이법에서 선택되는 어느 하나의 방법에 의해 바람직하게 형성될 수 있다.Each layer constituting the organic compound layer may be a dry process film forming method such as vapor deposition and sputtering; It can be preferably formed by any one method selected from a transfer method, a printing method, a coating method, an inkjet method, and a spray method.

<<애노드>><< Anode >>

애노드는 일반적으로 유기 화합물층에 정공을 공급하는 전극의 기능을 갖기에 충분하다. 애노드의 형태, 구조 및 사이즈는 특별히 한정하지 않고, 발광 소자의 목적한 용도 및 목적에 따라서 공지된 전극 재료에서 임의로 선택할 수 있다. 상술한 바와 같이, 애노드는 투명 애노드로서 제공된다.The anode is generally sufficient to have the function of an electrode supplying holes to the organic compound layer. The shape, structure and size of the anode are not particularly limited and may be arbitrarily selected from known electrode materials according to the intended use and purpose of the light emitting device. As mentioned above, the anode is provided as a transparent anode.

애노드 재료의 바람직한 예로는 금속, 합금, 도전성 화합물, 및 이들 재료의 혼합물이 열거된다. 애노드 재료의 구체예로는 안티몬, 불소 등으로 도핑된 산화주석(ATO, FTO); 산화 주석, 산화 아연, 산화 인듐, 산화 인듐주석(ITO) 및 산화 인듐아연(IZO)과 같은 도전성 금속 산화물; 금, 은, 크롬 및 니켈과 같은 금속, 이들 금속과 도전성 금속 산화물의 혼합물 및 적층체; 요오드화 동 및 황화 동과 같은 무기 도전성 재료; 폴리아닐린, 폴리티오펜 및 폴리피롤과 같은 유기 도전성 재료, 및 이들 유기 도전성 재료와 ITO의 적층체 등이 열거된다. 이들 재료 중에서, 도전성 금속 산화물이 바람직하고, ITO가 생산성, 고전도성, 투명성 등의 관점에서 특히 바람직하다.Preferred examples of anode materials include metals, alloys, conductive compounds, and mixtures of these materials. Specific examples of the anode material include tin oxide (ATO, FTO) doped with antimony, fluorine, or the like; Conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO); Metals such as gold, silver, chromium and nickel, mixtures and laminates of these metals with conductive metal oxides; Inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide; And organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene and polypyrrole, and laminates of these organic conductive materials and ITO. Of these materials, conductive metal oxides are preferred, and ITO is particularly preferred in view of productivity, high conductivity, transparency, and the like.

애노드는 인쇄법 및 코팅법과 같은 습식 가공법; 진공 증착법, 스퍼터링법, 및 이온 플레이팅법과 같은 물리적 방법; 및 CVD법 및 플라즈마 CVD법과 같은 화학적 방법 중에서 애노드를 구성하는 재료와의 적합성을 고려하여 임의로 선택되는 방법에 의해 기판 상에 형성할 수 있다. 예를 들면, 애노드의 재료로서 ITO를 선택할 경우, 애노드는 직류 또는 고주파 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법 등에 따라 형성될 수 있다.Anodes include wet processing methods such as printing and coating methods; Physical methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating; And chemical methods such as CVD and plasma CVD, which can be formed on the substrate by a method arbitrarily selected in consideration of compatibility with materials constituting the anode. For example, when ITO is selected as the material of the anode, the anode may be formed by direct current or high frequency sputtering, vacuum deposition, ion plating, or the like.

유기 EL 소자에 있어서, 애노드의 형성 위치는 특별히 한정되지 않고, 애노드를 발광소자의 목적한 용도 및 목적에 따라서 어느 곳에 형성해도 좋다. 그러나, 애노드는 기판 상에 형성되는 것이 바람직하다. 이 경우, 애노드는 기판의 한 측의 전면에 형성되어도 좋고 또는 기판의 일부에 형성되어도 좋다.In the organic EL device, the position at which the anode is formed is not particularly limited, and the anode may be formed anywhere according to the intended use and purpose of the light emitting device. However, the anode is preferably formed on the substrate. In this case, the anode may be formed on the entire surface of one side of the substrate or may be formed on a part of the substrate.

애노드의 형성에 있어서, 애노드의 패터닝은 포토리소그래피와 같은 화학적 에칭에 의해 행해도 좋고, 레이저 등을 사용하여 물리적 에칭에 의해 행해도 좋고, 마스크를 겹쳐 놓고 진공 증착 또는 스퍼터링하여 행해도 좋고, 또는 리프트 오프(lift-off)법 또는 인쇄법을 사용해도 좋다.In forming the anode, the patterning of the anode may be performed by chemical etching such as photolithography, may be performed by physical etching using a laser or the like, may be performed by vacuum deposition or sputtering with a mask overlapped, or by lift The lift-off method or the printing method may be used.

애노드의 두께는 애노드를 구성하는 재료에 따라서 필요에 따라 선택할 수 있고, 명백하게 정의할 수 없다. 그러나, 일반적으로 약 10nm~약 50㎛이고, 바람직하게는 50nm~20㎛이다.The thickness of the anode can be selected as needed depending on the material constituting the anode, and cannot be clearly defined. However, it is generally about 10 nm to about 50 mu m, preferably 50 nm to 20 mu m.

애노드의 저항치는 바람직하게는 10³Ω/□ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10²Ω/□ 이하이다. 애노드가 투명할 경우, 무색 투명한 것이어도 좋고 또는 착색 투명한 것이어도 좋다. 투명 애노드측으로부터 집광하기 위해서, 애노드의 투과율은 60% 이상인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 70% 이상이다.The resistance of the anode is preferably 10 ³ kPa / square or less, more preferably 10 ² kPa / square or less. When the anode is transparent, it may be colorless transparent or colored transparent. In order to collect light from the transparent anode side, the transmittance of the anode is preferably 60% or more, and more preferably 70% or more.

투명 애노드에 관련하여 Yutaka SAWADA 감수의 "New Development of Transparent Electroconductive Films", CMC Publishing Co., Ltd.(1999)에 상세하게 설명되어 있고, 그 설명을 본 발명에 적용할 수 있다. 내열성이 낮은 플라스틱 기판을 사용하는 경우, 150℃ 이하의 온도에서 ITO 또는 IZO로 형성된 투명 애노드 필름이 바람직하다.Regarding the transparent anode, it is described in detail in "New Development of Transparent Electroconductive Films", CMC Publishing Co., Ltd. (1999) by Yutaka SAWADA, and the description is applicable to the present invention. When using a plastic substrate with low heat resistance, a transparent anode film formed of ITO or IZO at a temperature of 150 ° C. or lower is preferable.

<<캐소드>><< cathode >>

캐소드는 일반적으로 유기 화합물층에 전자를 주입하는 전극으로서의 기능을 갖기에 충분하다. 캐소드의 형태, 구조 및 사이즈는 특별히 한정되지 않고, 발광 소자의 목적한 용도 및 목적에 따라서 공지된 전극 재료에서 임의로 선택할 수 있다. The cathode is generally sufficient to have a function as an electrode for injecting electrons into the organic compound layer. The form, structure and size of the cathode are not particularly limited and may be arbitrarily selected from known electrode materials according to the intended use and purpose of the light emitting device.

캐소드를 구성하는 재료의 바람직한 예로는 금속, 합금, 산화 금속, 도전성 화합물, 및 이들 재료의 혼합물이 열거된다. 캐소드 재료의 구체예로는 알칼리 금속(예를 들면, Li, Na, K, Cs 등), 알칼리 토금속(예를 들면, Mg, Ca 등), 및 금, 은, 납, 알루미늄, 나트륨-칼륨 합금, 리튬-알루미늄 합금, 마그네슘-은 합금, 인듐 및 이테르븀과 같은 희토류 금속이 열거된다. 이들 재료는 단독으로 사용해도 좋지만, 안정성 및 전자 주입성을 동시에 달성한다는 점에서 바람직하게는 2개 이상의 재료를 조합하여 사용할 수 있다.Preferred examples of the material constituting the cathode include metals, alloys, metal oxides, conductive compounds, and mixtures of these materials. Specific examples of the cathode materials include alkali metals (eg, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), and gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys. And rare earth metals such as lithium-aluminum alloys, magnesium-silver alloys, indium and ytterbium. These materials may be used alone, but in terms of achieving stability and electron injection properties simultaneously, two or more materials can be preferably used in combination.

이들 중에서, 캐소드를 구성하는 재료로서, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속이 전자 주입성의 관점에서 바람직하고, 알루미늄을 주로 함유하는 재료가 보존 안정성이 우수하여 바람직하다.Among them, as the material constituting the cathode, an alkali metal and an alkaline earth metal are preferable from the viewpoint of electron injection property, and a material mainly containing aluminum is preferable because of excellent storage stability.

알루미늄을 주로 함유하는 재료란 알루미늄 단독, 알루미늄과 0.01질량%~10질량%의 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 합금, 또는 이들 혼합물(예를 들면, 리튬-알루미늄 합금, 마그네슘-알루미늄 합금 등)을 의미한다.The material mainly containing aluminum means aluminum alone, an alloy of aluminum and 0.01% by mass to 10% by mass of alkali metal or alkaline earth metal, or a mixture thereof (for example, lithium-aluminum alloy, magnesium-aluminum alloy, etc.). .

캐소드 재료는 일본 특허공개 평2-15595호 및 평5-121172호에 상세하게 개시되어 있고, 여기에 기재된 재료를 본 발명에 사용할 수도 있다.Cathode materials are disclosed in detail in Japanese Patent Laid-Open Nos. Hei 2-15595 and Hei 5-121172, and the materials described herein can also be used in the present invention.

캐소드는 공지된 방법에 의해 특별히 제한없이 형성될 수 있다. 예를 들면, 캐소드는 인쇄법 및 코팅법과 같은 습식 가공법; 진공 증착법, 스퍼터링법, 및 이온 플레이팅법과 같은 물리적 방법; 및 CVD법 및 플라즈마 CVD법과 같은 화학적 방법 중에서 캐소드를 구성하는 재료와의 적합성을 고려하여 임의로 선택되는 방법에 따라 형성할 수 있다. 예를 들면, 캐소드의 재료로서 금속을 선택할 경우, 캐소드는 스퍼터링법 등에 의해 1종 또는 2종 이상의 재료로 동시에 또는 순차로 형성될 수 있다. The cathode can be formed without particular limitation by known methods. For example, cathodes may be used in wet processing methods such as printing and coating methods; Physical methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating; And chemical method such as CVD method and plasma CVD method in accordance with the method arbitrarily selected in consideration of the compatibility with the material constituting the cathode. For example, when a metal is selected as the material of the cathode, the cathode may be formed simultaneously or sequentially with one or two or more materials by sputtering or the like.

캐소드의 형성에 있어서, 캐소드의 패터닝은 포토리소그래피와 같은 화학적 에칭에 의해 행해도 좋고, 레이저 등을 사용하여 물리적 에칭에 의해 행해도 좋고, 마스크를 겹쳐 놓고 진공 증착 또는 스퍼터링하여 행해도 좋고, 또는 리프트 오프법 또는 인쇄법을 사용해도 좋다.In forming the cathode, the patterning of the cathode may be performed by chemical etching such as photolithography, may be performed by physical etching using a laser or the like, may be performed by vacuum deposition or sputtering with a mask overlaid, or by lift You may use the off method or the printing method.

본 발명에 있어서 캐소드의 형성 위치는 특별히 한정되지 않고 어느 곳에 캐소드를 형성해도 좋다. 캐소드는 유기 화합물층의 전면에 형성되어도 좋고 또는 그 일부에 형성되어도 좋다.In this invention, the formation position of a cathode is not specifically limited, You may form a cathode anywhere. The cathode may be formed on the entire surface of the organic compound layer or may be formed on a portion thereof.

알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 불소화물 또는 산화물로 이루어진 유전체층을 캐소드와 유기층 사이에 두께 0.1nm~5nm로 삽입해도 좋다. 유전체층은 전자 주입층의 일종으로서 간주할 수 있다. 유전체층은, 예를 들면 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등에 의해 형성될 수 있다.A dielectric layer made of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride or oxide may be inserted between the cathode and the organic layer at a thickness of 0.1 nm to 5 nm. The dielectric layer can be regarded as a kind of electron injection layer. The dielectric layer can be formed by, for example, vacuum deposition, sputtering, ion plating, or the like.

캐소드의 두께는 캐소드를 구성하는 재료에 따라서 임의로 선택할 수 있고, 명백하게 정의할 수 없다. 그러나, 일반적으로 약 10nm~약 50㎛이고, 바람직하게는 50nm~1㎛이다.The thickness of the cathode can be arbitrarily selected according to the material constituting the cathode, and cannot be clearly defined. However, generally it is about 10 nm-about 50 micrometers, Preferably it is 50 nm-1 micrometer.

캐소드는 투명하거나 불투명하다. 투명 캐소드는 두께 1nm~10nm로 캐소드 재료의 막을 형성하고, 또한 ITO 및 IZO와 같은 투명 전도성 재료를 더 적층함으로써 형성할 수 있다.The cathode is transparent or opaque. The transparent cathode can be formed by forming a film of cathode material with a thickness of 1 nm to 10 nm, and further laminating transparent conductive materials such as ITO and IZO.

<<유기 화합물층>><< organic compound layer >>

유기 EL 소자는 유기 발광층을 포함하는 적어도 한 층의 유기 화합물층을 갖는다. 유기 발광층 이외의 유기 화합물층으로서는 정공 전송층, 전자 전송층, 정공 차단층, 전자 차단층, 정공 주입층, 전자 주입층 등을 예시할 수 있다.The organic EL device has at least one organic compound layer including an organic light emitting layer. Examples of organic compound layers other than the organic light emitting layer include a hole transport layer, an electron transport layer, a hole blocking layer, an electron blocking layer, a hole injection layer, an electron injection layer, and the like.

본 발명의 유기 EL 소자에 있어서, 유기 화합물층을 구성하는 각 층은 증착법 및 스퍼터링법과 같은 건식 제막법; 습식 공정의 도포법, 전사법, 인쇄법 및 잉크젯법 중 어느 하나에 의해 적합하게 형성될 수 있다.In the organic EL device of the present invention, each layer constituting the organic compound layer includes a dry film forming method such as a vapor deposition method and a sputtering method; It can be suitably formed by any of the coating method, the transfer method, the printing method, and the inkjet method of a wet process.

<<유기 발광층>><< organic light emitting layer >>

유기 발광층은 전계 인가시 애노드, 정공 주입층 또는 정공 전송층으로부터 정공을 수용하고, 또한 캐소드, 전자 주입층 또는 전자 전송층으로부터 전자를 수용하여서 정공과 전자의 재조합계를 제공하여 광을 방출하는 기능을 갖는 층이다.The organic light emitting layer receives a hole from an anode, a hole injection layer or a hole transport layer when an electric field is applied, and also receives electrons from a cathode, an electron injection layer or an electron transport layer to provide a recombination system of holes and electrons to emit light. It is a layer having.

유기 발광층은 발광물질 단독으로 이루어져도 좋고, 또는 호스트 물질과 발광 도펀트를 함유하는 혼합층으로 이루어져도 좋다. 발광 도펀트는 형광 발광물질 또는 인광 발광물질이어도 좋고, 또는 그 2종 이상이어도 좋다. 호스트 물질은 전하 전송물질인 것이 바람직하다. 호스트 물질은 그 1종 또는 2종 이상의 것이어도 좋고, 예를 들면 전자 전송 호스트 물질과 정공 전송 호스트 물질로 이루어진 혼합층이어도 좋다. 유기 발광층은 전하 전송성이 없는 비발광 재료를 더 함유해도 좋다.The organic light emitting layer may be made of a light emitting material alone, or may be made of a mixed layer containing a host material and a light emitting dopant. The light emitting dopant may be a fluorescent light emitting material or a phosphorescent light emitting material, or two or more kinds thereof. The host material is preferably a charge transfer material. The host material may be one kind or two or more kinds thereof, and may be a mixed layer made of, for example, an electron transport host material and a hole transport host material. The organic light emitting layer may further contain a non-light emitting material having no charge transfer property.

유기 발광층은 단일층이어도 좋고, 또는 2층 이상의 층으로 이루어져도 좋고, 각 층은 다른 발광색으로 발광해도 좋다.The organic light emitting layer may be a single layer, or may consist of two or more layers, and each layer may emit light in a different light emitting color.

발광 도포트로서는 인광 발광물질과 형광 발광물질 모두 도펀트(인광 발광 도펀트, 형광 발광 도펀트)로서 사용될 수 있다.As the light emitting dopant, both the phosphorescent material and the fluorescent light emitting material can be used as dopants (phosphorescent light emitting dopants, fluorescent light emitting dopants).

유기 발광층은 색순도를 개선하고 발광 파장 범위를 확대하기 위해서 2종 이상의 발광 도포트를 함유해도 좋다. 발광 도펀트는 호스트 화합물에 대한 이온화 포텐셜(ΔIP)의 차이와 호스트 화합물에 대한 전자 친화력(ΔEa)의 차이에 관해서 1.2eV>ΔIP>0.2eV 및/또는 1.2eV>ΔEa>0.2eV의 관계를 더 만족시키는 도펀트가 구동 내구성의 관점에서 바람직하다. The organic light emitting layer may contain two or more kinds of light emitting dopants in order to improve color purity and extend the light emission wavelength range. The luminescent dopant further satisfies the relationship 1.2eV> ΔIP> 0.2eV and / or 1.2eV> ΔEa> 0.2eV with respect to the difference in ionization potential (ΔIP) for the host compound and the electron affinity (ΔEa) for the host compound. The dopant to be made is preferable in view of driving durability.

인광 발광 도펀트는 특별히 한정하지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 전이금속 원자 또는 란타노이드 원자를 함유하는 착체가 예시된다. The phosphorescent dopant is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. For example, complexes containing transition metal atoms or lanthanoid atoms are exemplified.

전이금속 원자는 특별히 한정되지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있지만, 바람직한 전이금속은 루테늄, 로듐, 팔라듐, 텅스텐, 레늄, 오스뮴, 이리듐, 금, 은, 동 및 백금이고; 더욱 바람직한 것은 레늄, 이리듐 및 백금이고, 특히 바람직한 것은 이리듐 및 백금이다.The transition metal atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended use, but preferred transition metals are ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, gold, silver, copper and platinum; More preferred are rhenium, iridium and platinum, particularly preferred are iridium and platinum.

란타노이드 원자는 특별히 한정되지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 란타늄, 세륨, 프라세오디뮴, 네오디뮴, 사마륨, 유로퓸, 가돌리늄, 테르븀, 디스프로슘, 홀뮴, 에르븀, 툴륨, 이테르븀 및 루테튬이 열거된다. 이들 중에서, 네오디뮴, 유로퓸 및 가돌리늄이 바람직하다.The lanthanoid atom is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. Examples include lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium and lutetium. Of these, neodymium, europium and gadolinium are preferred.

착체의 리간드로서는 G. Wilkinson 저의 "Comprehensive Coordination Chemistry", Pergamon Press Ltd. 발행(1987), H. Yersin 저의 "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds", Springer-Verlag Co. 발행(1987), 및 Akiko Yamamoto 저의 "Organic Metal Chemistry-Devices and Applications", Shokabo Publishing Co., Ltd. 발행(1982)에 기재된 리간드를 예시할 수 있다.As a ligand of the complex, "Comprehensive Coordination Chemistry" by G. Wilkinson, Pergamon Press Ltd. (1987), "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds" by H. Yersin, Springer-Verlag Co. (1987), and "Organic Metal Chemistry-Devices and Applications" by Akiko Yamamoto, Shokabo Publishing Co., Ltd. The ligands described in Publication 1982 can be exemplified.

리간드의 바람직한 구체예로는 할로겐 리간드(바람직하게는 염소 리간드); 방향족 탄소환 리간드(예를 들면, 시클로펜타디에닐 음이온, 벤젠 음이온, 또는 나프틸 음이온 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 5~30개, 보다 바람직하게는 6~30개, 더욱 바람직하게는 6~20개, 특히 바람직하게는 6~12개임); 질소 함유 복소환 리간드(예를 들면, 페닐피리딘, 벤조퀴놀린, 퀴놀리놀, 비피리딜, 페난트롤린 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 5~30개, 보다 바람직하게는 6~30개, 더욱 바람직하게는 6~20개, 특히 바람직하게는 6~12개임); 디케톤 리간드(예를 들면, 아세틸아세톤 등), 카르복실산 리간드(예를 들면, 아세트산 리간드 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 2~30개, 더욱 바람직하게는 2~20개, 특히 바람직하게는 2~16개임); 알콜레이트 리간드(예를 들면, 페놀레이트 리간드 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 1~30개, 보다 바람직하게는 1~20개, 더욱 바람직하게는 6~20개임); 실릴옥시 리간드(예를 들면, 트리메틸실릴옥시 리간드, 디메틸-tert-부틸실릴옥시 리간드, 트리페닐실릴옥시 리간드 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 3~40개, 더욱 바람직하게는 3~30개, 특히 바람직하게는 3~20개임); 일산화 탄소 리간드, 이소니트릴 리간드 및 시아노 리간드, 인 리간드(예를 들면, 트리페닐포스핀 리간드 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 3~40개, 보다 바람직하게는 3~30개, 더욱 바람직하게는 3~20개, 특히 바람직하게는 6~20개임); 티올레이트 리간드(예를 들면, 페닐티올레이트 리간드 등, 이들 리간드의 탄소수는 1~30개, 보다 바람직하게는 1~20개, 더욱 바람직하게는 6~20개임); 포스핀옥시드 리간드(예를 들면, 트리페닐포스핀 옥시드 리간드 등, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 3~30개, 보다 바람직하게는 8~30개, 더욱 바람직하게는 18~30개임)가 열거되고, 질소 함유 복소환 리간드가 더욱 바람직하다.Preferred embodiments of the ligand include halogen ligands (preferably chlorine ligands); Aromatic carbocyclic ligands (e.g., cyclopentadienyl anion, benzene anion, or naphthyl anion) have 5 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6-20, particularly preferably 6-12); Nitrogen-containing heterocyclic ligands (e.g., phenylpyridine, benzoquinoline, quinolinol, bipyridyl, phenanthroline, etc.) preferably have 5 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms. , More preferably 6-20, particularly preferably 6-12); Diketone ligands (e.g., acetylacetone, etc.), carboxylic acid ligands (e.g., acetic acid ligands), the carbon number of these ligands is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, particularly preferred Preferably 2-16); Alcoholate ligands (e.g., phenolate ligands and the like, and the number of carbon atoms of these ligands is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, still more preferably 6 to 20); The silyloxy ligand (e.g., trimethylsilyloxy ligand, dimethyl-tert-butylsilyloxy ligand, triphenylsilyloxy ligand, etc.) preferably has 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms. , Particularly preferably 3-20); Carbon monoxide ligands, isonitrile ligands and cyano ligands, phosphorus ligands (e.g., triphenylphosphine ligands, etc., preferably have 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, more preferably Preferably 3 to 20, particularly preferably 6 to 20); Thiolate ligands (e.g., phenylthiolate ligands, such as those having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20, still more preferably 6 to 20 carbon atoms); The phosphine oxide ligands (e.g., triphenylphosphine oxide ligands, etc., preferably have 3 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 30 carbon atoms, and more preferably 18 to 30 carbon atoms). Enumerated, nitrogen-containing heterocyclic ligands are more preferred.

착체는 화합물 중에 1개의 전이금속 원자를 가져도 좋고, 또는 소위 2핵 착체라고 불리는 2개 이상의 전이금속 원자를 가져도 좋다. 착체는 2종 이상의 다른 금속 원자를 동시에 함유해도 좋다.The complex may have one transition metal atom in the compound, or may have two or more transition metal atoms called so-called binuclear complexes. The complex may contain two or more different metal atoms simultaneously.

발광 도펀트로서는 US 6303238B1, US 6097147, WO 00/57676, WO 00/70655, WO01/08230, WO01/39234A2, WO01/41512A1, WO02/02714A2, WO02/15645A1, WO02/44189A1, WO05/19373A2, 일본 특허공개 2001-247859호, 2002-302671호, 2002-117978호, 2003-133074호, 2002-235076호, 2003-123982호, 2002-170684호, EP 1211257호, 일본 특허공개 2002-226495호, 2002-234894호, 2001-247859호, 2001-298470호, 2002-173674호, 2002-203678호, 2002-203679호, 2004-357791호, 2006-256999호, 2007-19462호, 2007-19462호, 2007-84635호 및 2007-96259호에 기재된 인광 발광 화합물이 예시된다. 이들 인광 발광 화합물 중에서, Ir 착체, Pt 착체, Cu 착체, Re 착체, W 착체, Rh 착체, Ru 착체, Pd 착체, Os 착체, Eu 착체, Tb 착체, Gd 착체, Dy 착체 및 Ce 착체가 바람직하고; Ir 착체, Pt 착체 및 Re 착체가 보다 바람직하다. 이들 중에서, 금속-탄소 결합, 금속-질소 결합, 금속-산소 결합 또는 금속-황 결합을 형성하는 하나 이상의 리간드를 각각 갖는 Ir 착체, Pt 착체 및 Re 착체가 더욱 바람직하다. 특히 바람직한 것은 3좌 이상의 다좌 리간드를 포함하는 각각의 Ir 착체, Pt 착체 및 Re 착체이다.As a light emitting dopant, US Pat. 2001-247859, 2002-302671, 2002-117978, 2003-133074, 2002-235076, 2003-123982, 2002-170684, EP 1211257, Japanese Patent Publication 2002-226495, 2002-234894 No. 2001-247859, 2001-298470, 2002-173674, 2002-203678, 2002-203679, 2004-357791, 2006-256999, 2007-19462, 2007-19462, 2007-84635 And phosphorescent compounds described in 2007-96259. Among these phosphorescent compounds, Ir complex, Pt complex, Cu complex, Re complex, W complex, Rh complex, Ru complex, Pd complex, Os complex, Eu complex, Tb complex, Gd complex, Dy complex and Ce complex are preferred. ; Ir complex, Pt complex, and Re complex are more preferable. Among them, Ir complexes, Pt complexes and Re complexes each having at least one ligand forming a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond or a metal-sulfur bond are more preferable. Especially preferred are respective Ir complexes, Pt complexes and Re complexes comprising tridentate or more multidentate ligands.

형광 발광 도펀트는 특별히 한정되지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택될 수 있다. 그 예로는 벤즈옥사졸, 벤즈이미다졸, 벤조티아졸, 스티릴벤젠, 폴리페닐, 디페닐부타디엔, 테트라페닐부타디엔, 나프탈이미드, 쿠마린, 피란, 페리논, 옥사디아졸, 알다진, 피랄리진, 시클로펜타디엔, 비스-스티릴 안트라센, 퀴나크리돈, 피롤로피리딘, 티아디아졸로피리딘, 스티릴 아민, 방향족 디메틸리딘 화합물, 방향족 축합 다환식 화합물(안트라센, 페난트롤린, 피렌, 페릴렌, 루브렌, 펜타센 등), 8-퀴놀리놀의 금속 착체, 피로메텐 착체 및 희토류 착체로 대표되는 각종 금속 착체; 폴리티오펜, 폴리페닐렌, 폴리페닐렌비닐렌과 같은 폴리머 화합물; 유기 실란 및 그 유도체가 열거된다.The fluorescence dopant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended use. Examples include benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, styrylbenzene, polyphenyl, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, naphthalimide, coumarin, pyran, perinone, oxadiazole, aldazine, pi Ralyzine, cyclopentadiene, bis-styryl anthracene, quinacridone, pyrrolopyridine, thiadiazolopyridine, styryl amine, aromatic dimethylidine compound, aromatic condensed polycyclic compound (anthracene, phenanthroline, pyrene, phen) Rylene, rubrene, pentacene and the like), various metal complexes represented by metal complexes of 8-quinolinol, pyrimethene complexes and rare earth complexes; Polymer compounds such as polythiophene, polyphenylene, polyphenylenevinylene; Organosilanes and derivatives thereof are listed.

발광 도포트의 예로는 하기 구조식의 각각으로 표시되는 화합물이 열거되지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.Examples of the light emitting dopants include, but are not limited to, compounds represented by the following structural formulas.

유기 발광층에는 발광 도펀트가 일반적으로 유기 발광층을 형성하는 화합물의 전체 질량에 대해서 0.1질량%~50질량%의 양으로 함유된다. 그러나, 내구성 및 외부양자효율의 관점에서 바람직하게는 1질량%~50질량%, 더욱 바람직하게는 2질량%~40질량%의 양으로 함유된다.In the organic light emitting layer, the light emitting dopant is generally contained in an amount of 0.1% by mass to 50% by mass relative to the total mass of the compound forming the organic light emitting layer. However, from the viewpoint of durability and external quantum efficiency, it is preferably contained in an amount of 1% by mass to 50% by mass, more preferably 2% by mass to 40% by mass.

유기 발광층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로 2nm~500nm가 바람직하다. 외부양자효율의 관점에서 3nm~200nm가 더욱 바람직하고, 특히 바람직하게는 5nm~100nm이다.Although the thickness of an organic light emitting layer is not specifically limited, Generally, 2 nm-500 nm are preferable. 3 nm-200 nm are more preferable from a viewpoint of external quantum efficiency, Especially preferably, it is 5 nm-100 nm.

호스트 물질로서는 정공 전송성이 우수한 정공 전송 호스트 물질("정공 전송 호스트"이라고도 함) 및 전자 전송성이 우수한 전자 전송 호스트 화합물("전자 전송 호스트"이라고도 함)을 사용할 수 있다.As the host material, a hole transport host material (also referred to as a "hole transport host") having excellent hole transport properties and an electron transport host compound (also referred to as an "electron transport host") having excellent electron transport properties can be used.

유기 발광층 중의 정공 전송 호스트의 구체예로는 하기 물질: 피롤, 인돌, 카르바졸, 아자인돌, 아자카르바놀, 트리아졸, 옥사졸, 옥사디아졸, 피라졸, 이미다졸, 티오펜, 폴리아릴알칸, 피라졸린, 피라졸론, 페닐렌디아민, 아릴아민, 아미노 치환 찰콘, 스티릴안트라센, 플루오레논, 히드라존, 스틸벤, 실라잔, 방향족 제 3 급 아민 화합물, 스티릴아민 화합물, 방향족 디메틸리딘 화합물, 포르피린 화합물, 폴리실란 화합물, 폴리(N-비닐카르바졸), 아닐린 코폴리머, 티오펜 올리고머, 폴리티오펜 등과 같은 도전성 고분자 올리고머, 유기 실란, 탄소 필름, 그 유도체가 열거된다.Specific examples of the hole transport host in the organic light emitting layer include the following materials: pyrrole, indole, carbazole, azaindole, azacarbanol, triazole, oxazole, oxadiazole, pyrazole, imidazole, thiophene, polyarylalkane , Pyrazoline, pyrazolone, phenylenediamine, arylamine, amino substituted chalcone, styrylanthracene, fluorenone, hydrazone, stilbene, silazane, aromatic tertiary amine compound, styrylamine compound, aromatic dimethylridine compound And conductive polymer oligomers such as porphyrin compounds, polysilane compounds, poly (N-vinylcarbazole), aniline copolymers, thiophene oligomers, polythiophenes, organic silanes, carbon films, and derivatives thereof.

정공 전송 호스트로는 인돌 유도체, 카르바졸 유도체, 방향족 제 3 급 아민 화합물 또는 티오펜 유도체가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 분자 내에 카르바졸기를 갖는 화합물이고, 특히 바람직하게는 분자 내에 t-부틸 치환 카르바졸기를 갖는 화합물이다.The hole transport host is preferably an indole derivative, a carbazole derivative, an aromatic tertiary amine compound or a thiophene derivative, more preferably a compound having a carbazole group in the molecule, and particularly preferably t-butyl substitution in the molecule. It is a compound which has a carbazole group.

유기 발광층 중의 전자 전송 호스트는 내구성의 개선 및 구동 전압의 저하의 관점에서 바람직하게는 2.5eV~3.3eV, 더욱 바람직하게는 2.6eV~3.4eV, 특히 바람직하게는 2.8eV~3.3eV의 전자 친화력 Ea를 갖고, 내구성의 개선 및 구동 전압의 저하의 관점에서 바람직하게는 5.7eV~7.5eV, 더욱 바람직하게는 5.8eV~7.0eV, 특히 바람직하게는 5.9eV~6.5eV의 이온화 포텐셜 Ip를 갖는다.The electron transfer host in the organic light emitting layer preferably has an electron affinity Ea of 2.5 eV to 3.3 eV, more preferably 2.6 eV to 3.4 eV, and particularly preferably 2.8 eV to 3.3 eV, in view of improving durability and lowering of driving voltage. In view of improvement of durability and lowering of the driving voltage, the ionization potential Ip is preferably 5.7 eV to 7.5 eV, more preferably 5.8 eV to 7.0 eV, and particularly preferably 5.9 eV to 6.5 eV.

이러한 전자 전송 호스트의 구체예로는 피리딘, 피리미딘, 트리아진, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 옥사졸, 옥사디아졸, 플루오레논, 안트라퀴노디메탄, 안트론, 디페닐퀴논, 티오피란디옥시드, 카르보디이미드, 플루오레닐리덴메탄, 디스티릴피라진, 불소 치환 방향족 화합물, 나프탈렌, 페릴렌 등의 복소환 테트라카르복실산 무수물, 프탈로시아닌, 그 유도체(다른 환과 축합환을 형성해도 좋음), 및 8-퀴놀리놀 유도체의 금속 착체, 금속 프탈로시아닌 및 벤즈옥사졸 또는 벤조티아졸을 리간드로서 갖는 금속 착체로 대표되는 각종 금속 착체가 열거된다. Specific examples of such electron transfer host include pyridine, pyrimidine, triazine, imidazole, pyrazole, triazole, oxazole, oxadiazole, fluorenone, anthraquinodimethane, antron, diphenylquinone, thiopi Heterocyclic tetracarboxylic anhydrides, phthalocyanine, and derivatives thereof, such as randoxide, carbodiimide, fluorenylimidemethane, distyrylpyrazine, fluorine-substituted aromatic compound, naphthalene, and perylene (may form a condensed ring with another ring) ), And various metal complexes represented by metal complexes of 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines and metal complexes having benzoxazole or benzothiazole as ligands.

전자 전송 호스트의 바람직한 예로는 금속 착체, 아졸 유도체(벤즈이미다졸 유도체, 이미다조피린 유도체 등), 및 아진 유도체(피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 티아진 유도체 등)이다. 이들 중에서, 내구성의 관점에서 금속 착체 화합물이 더욱 바람직하다. 금속 착체 화합물로서는 금속을 배위하는 하나 이상의 질소원자, 산소원자 또는 황원자를 갖는 리간드를 함유하는 금속 착체가 더욱 바람직하다.Preferred examples of electron transfer hosts are metal complexes, azole derivatives (benzimidazole derivatives, imidazopyrine derivatives, etc.), and azine derivatives (pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, thiazine derivatives, etc.). Among them, the metal complex compound is more preferable from the viewpoint of durability. As the metal complex compound, a metal complex containing a ligand having at least one nitrogen atom, oxygen atom or sulfur atom that coordinates the metal is more preferable.

금속 착체 중의 금속 이온은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 베릴륨 이온, 마그네슘 이온, 알루미늄 이온, 갈륨 이온, 아연 이온, 인듐 이온, 주석 이온, 백금 이온 또는 팔라듐 이온이 바람직하고; 베릴륨 이온, 알루미늄 이온, 갈륨 이온, 아연 이온, 백금 이온 또는 팔라듐 이온이 보다 바람직하고; 알루미늄 이온, 아연 이온, 백금 이온 또는 팔라듐 이온이 더욱 바람직하다.Metal ions in the metal complex are not particularly limited, but beryllium ions, magnesium ions, aluminum ions, gallium ions, zinc ions, indium ions, tin ions, platinum ions or palladium ions are preferable; More preferred are beryllium ions, aluminum ions, gallium ions, zinc ions, platinum ions, or palladium ions; More preferred are aluminum ions, zinc ions, platinum ions or palladium ions.

상술한 금속 착체에 함유되는 공지된 각종 리간드가 있지만, 그 예로는 H. Yersin 저의 "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds", Springer-Verlag Co.(1987) 발행; Akio Yamamoto 저의 "Organometallic Chemistry-Fundamental and Application", Shokabo Publishing Co., Ltd.(1982) 등에 기재된 리간드가 열거된다.There are a variety of known ligands contained in the metal complexes described above, examples of which are described in "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds" by H. Yersin, Springer-Verlag Co. (1987); And ligands described in "Organometallic Chemistry-Fundamental and Application" by Akio Yamamoto, Shokabo Publishing Co., Ltd. (1982) and the like.

리간드로서는 질소 함유 복소환 리간드(바람직하게는 탄소수 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 2~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 3~15개)가 바람직하다. 리간드는 단좌 리간드 또는 2좌 이상의 이란드이어도 좋지만, 2좌 리간드~6좌 리간드가 바람직하고, 또한 단좌 리간드와 2좌~6좌 리간드의 혼합 리간드도 바람직하다.As the ligand, a nitrogen-containing heterocyclic ligand (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 15 carbon atoms) is preferable. The ligand may be a single-segment ligand or a two- or more seated ligand, but a bidentate ligand or a six-dentate ligand is preferable, and a mixed ligand of a single-stage ligand and a bidentate to six-stage ligand is also preferable.

리간드의 구체예로는 아진 리간드(예를 들면, 피리딘 리간드, 비피리딜 리간드, 터피리딘 리간드 등); 히드록시페닐아졸 리간드(예를 들면, 히드록시페닐벤즈이미다졸 리간드, 히드록시페닐벤즈옥사졸 리간드, 히드록시페닐이미다졸 리간드, 히드록시페닐이미다조피리딘 리간드 등); 알콕시 리간드(예를 들면, 메톡시, 에톡시, 부톡시 및 2-에틸헥실옥시 리간드, 및 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 1~10개임); 아릴옥시 리간드(예를 들면, 페닐옥시, 1-나프틸옥시, 2-나프틸옥시, 2,4,6-트리메틸페닐옥시 및 4-비페닐옥시 리간드, 이들 리간드의 탄소수는 바람직하게는 6~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 6~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 6~12개임)가 열거된다.Specific examples of ligands include azine ligands (eg, pyridine ligands, bipyridyl ligands, terpyridine ligands, etc.); Hydroxyphenylazole ligands (for example, hydroxyphenylbenzimidazole ligand, hydroxyphenylbenzoxazole ligand, hydroxyphenylimidazole ligand, hydroxyphenylimidazopyridine ligand, etc.); Alkoxy ligands (e.g., methoxy, ethoxy, butoxy and 2-ethylhexyloxy ligands, and carbon atoms of these ligands are preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably Preferably 1 to 10 carbon atoms); Aryloxy ligands (for example, phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy, 2,4,6-trimethylphenyloxy and 4-biphenyloxy ligands, carbon number of these ligands are preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.

상기 이외에, 그 구체예로는 헤테로아릴옥시 리간드(예를 들면, 피리딜옥시, 피라질옥시, 피리미딜옥시, 퀴놀릴옥시 리간드 등이 열거되고, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 1~12개임); 알킬티오 리간드(예를 들면, 메틸티오, 에틸티오 리간드 등, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 1~12개임); 아릴티오 리간드(예를 들면, 페닐티오 리간드 등, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 6~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 6~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 6~12개임); 헤테로아릴티오 리간드(예를 들면, 피리딜티오, 2-벤즈이미다졸릴티오, 2-벤즈옥사졸릴티오, 2-벤조티아졸릴티오 리간드 등, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~20개, 특히 바람직하게는 탄소수 1~12개임); 실록시 리간드(예를 들면, 트리페닐실록시기, 트리에톡시실록시기, 트리이소프로필실록시기 등, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 3~25개, 특히 바람직하게는 탄소수 6~20개임); 방향족 탄화수소 음이온 리간드(예를 들면, 페닐 음이온, 나프틸 음이온, 안트라닐 음이온 등, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 6~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 6~25개, 특히 바람직하게는 탄소수 6~20개임); 방향족 복소환 음이온 리간드(예를 들면, 피롤 음이온, 피라졸 음이온, 트리아졸 음이온, 옥사졸 음이온, 벤즈옥사졸 음이온, 티아졸 음이온, 벤조티아졸 음이온, 티오펜 음이온, 벤조티오펜 음이온 등, 이들의 탄소수는 바람직하게는 탄소수 1~30개, 더욱 바람직하게는 탄소수 2~25개, 특히 바람직하게는 탄소수 2~20개임); 및 인돌레닌 음이온 리간드가 열거된다. 이들 중에서, 질소 함유 복소환 리간드, 아릴옥시 리간드, 헤테로아릴옥시기, 실록시 리간드가 바람직하다. 질소 함유 방향족 복소환 리간드, 아릴옥시 리간드, 실록시 리간드, 방향족 탄화수소 음이온 리가드, 및 방향족 복소환 음이온 리간드가 더욱 바람직하다.In addition to the above, specific examples thereof include a heteroaryloxy ligand (for example, pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy ligand, etc.), and their carbon number is preferably 1 to 30 carbon atoms. More preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms); Alkylthio ligands (e.g., methylthio, ethylthio ligands, etc.), these carbon atoms are preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms; Arylthio ligands (e.g., phenylthio ligands, such as those having preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms); Heteroarylthio ligands (e.g., pyridylthio, 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolylthio, 2-benzothiazolylthio ligand, etc.), and preferably those having 1 to 30 carbon atoms, More preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms); Siloxy ligands (e.g., triphenylsiloxy group, triethoxysiloxy group, triisopropylsiloxy group, etc.) are preferably those having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 25 carbon atoms, particularly Preferably 6 to 20 carbon atoms); Aromatic hydrocarbon anion ligands (e.g., phenyl anion, naphthyl anion, anthranyl anion, etc.) preferably have 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 25 carbon atoms, and particularly preferably 6 carbon atoms. ˜20); Aromatic heterocyclic anion ligands (e.g., pyrrole anion, pyrazole anion, triazole anion, oxazole anion, benzoxazole anion, thiazole anion, benzothiazole anion, thiophene anion, benzothiophene anion, etc.) Is preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 25 carbon atoms, particularly preferably 2 to 20 carbon atoms); And indolenin anion ligands. Among these, nitrogen-containing heterocyclic ligands, aryloxy ligands, heteroaryloxy groups, and siloxy ligands are preferable. More preferred are nitrogen-containing aromatic heterocyclic ligands, aryloxy ligands, siloxy ligands, aromatic hydrocarbon anion regards, and aromatic heterocyclic anion ligands.

금속 착체 전자 전송 호스트의 예로는, 예를 들면 일본 특허공개 2002-235076호, 2004-214179호, 2004-221062호, 2004-221065호, 2004-221068호 및 2004-327313호에 기재된 화합물이 열거된다.Examples of the metal complex electron transfer host include, for example, the compounds described in Japanese Patent Laid-Open Nos. 2002-235076, 2004-214179, 2004-221062, 2004-221065, 2004-221068, and 2004-327313. .

유기 발광층에 있어서, 호스트 재료에 있어서의 최저 3중항 여기 에너지(T1)값은 색순도, 외부양자효율 및 구동 내구성의 관점에서 인광 발광물질의 T1값보다 큰 것이 바람직하다.In the organic light emitting layer, the minimum triplet excitation energy (T1) value in the host material is preferably larger than the T1 value of the phosphorescent light emitting material in view of color purity, external quantum efficiency and driving durability.

호스트 화합물의 양은 특별히 한정되지 않지만, 발광 효율 및 구동 전압의 관점에서 발광층을 형성하는 화합물의 총 질량에 대해서 15질량%~95질량%인 것이 바람직하다. Although the quantity of a host compound is not specifically limited, It is preferable that it is 15 mass%-95 mass% with respect to the gross mass of the compound which forms a light emitting layer from a viewpoint of luminous efficiency and a drive voltage.

<<정공 주입층 및 정공 전송층>><< hole injection layer and hole transport layer >>

정공 주입층 및 정공 전송층은 애노드 또는 애노드측으로부터 정공을 수용하고 그 정공을 캐소드측으로 전송하는 기능을 하는 층이다. 이들 층에 사용되는 정공 주입재료와 전공 전송재료는 저분자량 화합물 또는 고분자량 화합물이어도 좋다.The hole injection layer and the hole transport layer are layers that receive holes from the anode or the anode side and transfer the holes to the cathode side. The hole injection material and the hole transport material used for these layers may be low molecular weight compounds or high molecular weight compounds.

구체적으로, 정공 주입층과 정공 전송층은 바람직하게는, 예를 들면 피롤 유도체, 카르바졸 유도체, 트리아졸 유도체, 옥사졸 유도체, 옥사디아졸 유도체, 이미다졸 유도체, 폴리아릴알칸 유도체, 피라졸 유도체, 피라졸론 유도체, 페닐렌디아민 유도체, 아릴아민 유도체, 아미노 치환 찰콘 유도체, 스티릴안트라센 유도체, 플루오레논 유도체, 히드라존 유도체, 스틸벤 유도체, 실라잔 유도체, 방향족 3급 아민 화합물, 스티릴아민 화합물, 방향족 디메틸리딘 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 포르피린 화합물, 티오펜 화합물, 유기 실란 유도체, 탄소 등을 함유하는 층이다. Specifically, the hole injection layer and the hole transport layer are preferably, for example, pyrrole derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazole derivatives , Pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds , An aromatic dimethylidine compound, a phthalocyanine compound, a porphyrin compound, a thiophene compound, an organosilane derivative, carbon and the like.

전자수용성 도펀트가 본 발명의 유기 EL 소자에 있어서 정공 주입층 또는 정공 전송층에 도입되어도 좋다. 정공 주입층 또는 정공 전송층에 도입되는 전자수용성 도펀트로서는 전자수용 특성 및 유기 화합물을 산화시키는 특성을 갖는 화합물이면 무기 화합물 또는 유기 화합물 중 어느 하나 또는 양쪽 모두가 사용될 수 있다.An electron accepting dopant may be introduced into the hole injection layer or the hole transport layer in the organic EL device of the present invention. As the electron-accepting dopant introduced into the hole injection layer or the hole transport layer, any one or both of an inorganic compound or an organic compound can be used as long as the compound has electron-accepting properties and properties of oxidizing an organic compound.

무기 화합물의 구체예로는 염화 철(II), 염화 알루미늄, 염화 갈륨, 염화 인듐 및 5염화 안티몬과 같은 금속 할라이드, 및 5산화 바나듐 및 3산화 몰리브데늄과 같은 금속 산화물이 열거된다.Specific examples of the inorganic compounds include metal halides such as iron (II) chloride, aluminum chloride, gallium chloride, indium chloride and antimony pentachloride, and metal oxides such as vanadium pentoxide and molybdenum trioxide.

유기 화합물을 채용하는 경우, 니트로기, 할로겐, 시아노기, 트리플루오로메틸기 등과 같은 치환기를 갖는 화합물; 퀴논 화합물; 산 무수물 화합물; 풀러렌 등을 바람직하게 적용할 수 있다.When employ | adopting an organic compound, the compound which has substituents, such as a nitro group, a halogen, a cyano group, a trifluoromethyl group; Quinone compounds; Acid anhydride compounds; Fullerene etc. can be applied preferably.

상기 화합물 이외에, 일본 특허공개 평6-212153호, 평11-111463호, 평11-251067호, 일본 특허공개 2000-196140호, 2000-286054호, 2000-315580호, 2001-102175호, 2001-160493호, 2002-252085호, 2002-56985호, 2003-157981호, 2003-217862호, 2003-229278호, 2004-342614호, 2005-72012호, 2005-166637호 및 2005-209643호와 같은 특허 문헌에 기재된 화합물을 적합하게 사용할 수 있다.In addition to the above compounds, Japanese Patent Laid-Open Nos. 6-212153, 11-111463, 11-111067, 2000-196140, 2000-286054, 2000-315580, 2001-102175, 2001- Patents such as 160493, 2002-252085, 2002-56985, 2003-157981, 2003-217862, 2003-229278, 2004-342614, 2005-72012, 2005-166637 and 2005-209643 The compound described in the literature can be used suitably.

이들 중에서, 헥사시아노부타디엔, 헥사시아노벤젠, 테트라시아노에틸렌, 테트라시아노퀴노디메탄, 테트라플루오로테트라시아노퀴노디메탄, p-플루오라닐, p-클로라닐, p-브로마닐, p-벤조퀴논, 2,6-디클로로벤조퀴논, 2,5-디클로로벤조퀴논, 1,2,4,5-테트라시아노벤젠, 1,4-디시아노테트라플루오로벤젠, 2,3-디클로로-5,6-디시아노벤조퀴논, p-디니트로벤젠, m-디니트로벤젠, o-디니트로벤젠, 1,4-나프토퀴논, 2,3-디클로로나프토퀴논, 1,3-디니트로나프탈론, 1,5-디니트로나프탈렌, 9,10-안트라퀴논, 1,3,6,8-테트라니트로카르바졸, 2,4,7-트리니트로-9-플루오레논, 2,3,5,6-테트라시아노피리딘 또는 풀러렌 C60이 바람직하다. 헥사시아노부타디엔, 헥사시아노벤젠, 테트라시아노에틸렌, 테트라시아노퀴노디메탄, 테트라플루오로테트라시아노퀴노디메탄, p-플루오라닐, p-클로라닐, p-브로마닐, 2,6-디클로로벤조퀴논, 2,5-디클로로벤조퀴논, 2,3-디클로로나프토퀴논, 1,2,4,5-테트라시아노벤젠, 2,3-디클로로-5,6-디시아노벤조퀴논 또는 2,3,5,6-테트라시아노피리딘이 더욱 바람직하고, 테트라플루오로테트라시아노퀴노디메탄이 특히 바람직하다.Among them, hexacyanobutadiene, hexacyanobenzene, tetracyanoethylene, tetracyanoquinomimethane, tetrafluorotetracyanoquinomimethane, p-fluoranyl, p-chloranyl, p-broma Nyl, p-benzoquinone, 2,6-dichlorobenzoquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, 1,2,4,5-tetracyanobenzene, 1,4-dicyanotetrafluorobenzene, 2,3 -Dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone, p-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, o-dinitrobenzene, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, 1,3 -Dinitronaphthalone, 1,5-dinitronaphthalene, 9,10-anthraquinone, 1,3,6,8-tetranitrocarbazole, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,3 Preference is given to, 5,6-tetracyanopyridine or fullerene C60. Hexacyanobutadiene, hexacyanobenzene, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, p-fluoranyl, p-chloranyl, p-bromanyl, 2 , 6-dichlorobenzoquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, 1,2,4,5-tetracyanobenzene, 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzo More preferred is quinone or 2,3,5,6-tetracyanopyridine, with tetrafluorotetracyanoquinomethane being particularly preferred.

이들 전자수용성 도펀트는 단독으로 또는 조합하여 사용해도 좋다. 이들 전자 수용성 도펀트의 사용량은 재료의 종류에 따라서 다르고, 정공 전송층 재료에 대해서는 0.01질량%~50질량%가 바람직하고, 0.05질량%~20질량%가 더욱 바람직하고, 0.1질량%~10질량%가 특히 바람직하다.These electron-accepting dopants may be used alone or in combination. The amount of these electron-accepting dopants varies depending on the type of the material, the amount is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.05% by mass to 20% by mass, and 0.1% by mass to 10% by mass with respect to the hole transport layer material. Is particularly preferred.

정공 주입층의 두께 및 정공 전송층의 두께는 구동 전압의 저감의 관점에서 각각 바람직하게는 500nm 이하이다.The thickness of the hole injection layer and the thickness of the hole transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of reducing the driving voltage.

정공 전송층의 두께는 바람직하게는 1nm~500nm, 보다 바람직하게는 5nm~200nm, 더욱 바람직하게는 10nm~100nm이다. 정공 주입층의 두께는 바람직하게는 0.1nm~200nm, 보다 바람직하게는 0.5nm~100nm, 더욱 바람직하게는 1nm~100nm이다.The thickness of the hole transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, still more preferably 10 nm to 100 nm. The thickness of the hole injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.5 nm to 100 nm, still more preferably 1 nm to 100 nm.

정공 주입층과 정공 전송층은 하나 또는 2개 이상의 상기 재료를 함유하는 단층 구조, 또는 균질 조성 또는 비균질 조성의 복수층으로 이루어진 다층 구조이어도 좋다.The hole injection layer and the hole transport layer may have a single layer structure containing one or two or more of the above materials, or a multilayer structure composed of a plurality of layers having a homogeneous composition or a heterogeneous composition.

<<전자 주입층 및 전자 전송층>><< electron injection layer and electron transport layer >>

전자 주입층과 전자 전송층은 캐소드 또는 캐소드측으로부터 전자를 수용하고 그 전자를 애노드측으로 전송하는 기능을 하는 층이다. 이들 층에 사용되는 전자 주입 재료 및 전자 전송 재료는 저분자량 화합물 또는 고분자량 화합물이어도 좋다.The electron injection layer and the electron transport layer are layers that receive electrons from the cathode or the cathode side and transfer the electrons to the anode side. The electron injection material and electron transfer material used for these layers may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound.

구체적으로, 정공 주입층과 정공 전송층은 바람직하게는, 예를 들면 피리딘 유도체, 퀴놀린 유도체, 피리미딘 유도체, 피라진 유도체, 프탈라진 유도체, 페난트롤린 유도체, 트리아진 유도체, 트리아졸 유도체, 옥사졸 유도체, 옥사디아졸 유도체, 이미다졸 유도체, 플루오레논 유도체, 안트라퀴노디메탄 유도체, 안트론 유도체, 디페닐퀴논 유도체, 티오피란디옥시드 유도체, 카르보디이미드 유도체, 플루오레닐리덴메탄 유도체, 디스티릴피라진 유도체, 페릴렌, 나프탈렌 등의 방향족 환상 테트라카르복실산 무수물, 8-퀴놀리놀 유도체의 금속 착체, 금속 프탈로시아닌 및 벤즈옥사졸 또는 벤조티아졸을 리간드로서 함유하는 금속 착체로 대표되는 금속 착체, 실롤로 대표되는 유기 실란 유도체 등을 함유하는 층이다.Specifically, the hole injection layer and the hole transport layer are preferably pyridine derivatives, quinoline derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, phthalazine derivatives, phenanthroline derivatives, triazine derivatives, triazole derivatives, oxa Sol derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidene methane derivatives, Metals represented by distyrylpyrazine derivatives, aromatic cyclic tetracarboxylic anhydrides such as perylene and naphthalene, metal complexes of 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines and metal complexes containing benzoxazole or benzothiazole as ligands It is a layer containing an organosilane derivative represented by a complex and a silol.

본 발명의 유기 EL 소자에 있어서의 전자 주입층 또는 전자 전송층은 전자공여성 도펀트를 함유해도 좋다. 전자 주입층 또는 전자 전송층에 도입되는 전자 공여성 도펀트로서는 전자 공여 특성 및 유기 화합물을 환원시키는 특성을 갖는 재료이면 어느 것을 사용해도 좋고, Li와 같은 알칼리 금속, Mg와 같은 알칼리 토금속, 희토류 금속을 포함한 전이금속, 및 환원성 유기 화합물이 바람직하게 사용된다. 상기 재료로서, 특히 일함수가 4.2eV 이하인 금속이 바람직하게 사용되고, 그 구체예로는 Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Cs, La, Sm, Gd, Yb 등이 열거된다. 환원성 유기 화합물의 구체예로는 질소 함유 화합물, 황 함유 화합물, 인 함유 화합물 등이 열거된다.The electron injection layer or the electron transfer layer in the organic EL device of the present invention may contain an electron donating dopant. As the electron donating dopant introduced into the electron injection layer or the electron transport layer, any material can be used as long as it has a material having electron donating properties and a property of reducing organic compounds, and alkali metals such as Li, alkaline earth metals such as Mg, and rare earth metals can be used. Transition metals containing, and reducing organic compounds are preferably used. Especially as the material, a metal having a work function of 4.2 eV or less is preferably used, and specific examples thereof include Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Cs, La, Sm, Gd, Yb and the like. This is listed. Specific examples of the reducing organic compound include nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, phosphorus-containing compounds and the like.

상기 재료 이외에, 일본 특허공개 평6-212153호, 2000-196140호, 2003-68468호, 2003-229278호, 2004-342614호 등에 기재된 재료를 사용할 수 있다.In addition to the above materials, the materials described in Japanese Patent Laid-Open Nos. 6-212153, 2000-196140, 2003-68468, 2003-229278, 2004-342614 and the like can be used.

이들 전자 공여성 도펀트는 단독으로 또는 조합하여 사용해도 좋다. 전자 공여성 도펀트의 사용량은 재료의 형태에 따라 다르지만, 바람직하게는 전자 전송층 재료에 대해서 0.1질량%~99질량%이고, 더욱 바람직하게는 1.0질량%~80질량%이고, 특히 바람직하게는 2.0질량%~70질량%이다.These electron donating dopants may be used alone or in combination. The amount of the electron donating dopant varies depending on the form of the material, but is preferably 0.1% by mass to 99% by mass, more preferably 1.0% by mass to 80% by mass, and particularly preferably 2.0 based on the electron transport layer material. It is mass%-70 mass%.

전자 주입층의 두께 및 전자 전송층의 두께는 구동 전압의 저감의 점에서 각각 바람직하게는 500nm 이하이다.The thickness of the electron injection layer and the thickness of the electron transport layer are each preferably 500 nm or less in terms of reduction of the driving voltage.

전자 전송층의 두께는 바람직하게는 1nm~500nm이고, 더욱 바람직하게는 5nm~200nm이고, 특히 바람직하게는 10nm~100nm이다. 전자 주입층의 두께는 바람직하게는 0.1nm~200nm이고, 더욱 바람직하게는 0.2nm~100nm이고, 특히 바람직하게는 0.5nm~50nm이다.The thickness of the electron transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm. The thickness of the electron injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.2 nm to 100 nm, and particularly preferably 0.5 nm to 50 nm.

전자 주입층과 전자 전송층은 하나 또는 2개 이상의 상기 재료를 함유하는 단층 구조, 또는 균질 조성 또는 비균질 조성의 복층으로 이루어진 다층 구조이어도 좋다.The electron injection layer and the electron transport layer may have a single layer structure containing one or two or more of the above materials, or a multilayer structure composed of a multilayer having a homogeneous composition or a heterogeneous composition.

<<정공 차단층>><< hole blocking layer >>

정공 차단층은 애노드측으로부터 발광층으로 전송된 정공이 캐소드측을 통과하는 것을 방지하는 기능을 갖는 층이다. 정공 차단층은 캐소드측 상의 발광층에 인접하는 유기 화합물층으로서 제공될 수 있다. The hole blocking layer is a layer having a function of preventing holes transmitted from the anode side to the light emitting layer from passing through the cathode side. The hole blocking layer may be provided as an organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side.

정공 차단층을 구성하는 화합물로는, 예를 들면 BAlq와 같은 알루미늄 착체, 트리아졸 유도체, 및 BCP와 같은 페난트롤린 유도체가 예시된다.Examples of the compound constituting the hole blocking layer include aluminum complexes such as BAlq, triazole derivatives, and phenanthroline derivatives such as BCP.

정공 차단층의 두께는 1nm~500nm가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5nm~200nm이고, 특히 바람직하게는 10nm~100nm이다.The thickness of the hole blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm.

정공 차단층은 1개 또는 2개 이상의 상술한 재료를 함유하는 단층 구조, 또는 균질 조성 또는 비균질 조성의 복수층으로 이루어진 다층 구조이어도 좋다.The hole blocking layer may be a single layer structure containing one or two or more of the above-described materials, or a multilayer structure composed of a plurality of layers having a homogeneous composition or a heterogeneous composition.

<<전자 차단층>><< electron blocking layer >>

전자 차단층은 캐소드측으로부터 발광층으로 전송된 전자가 애노드측을 통과하는 것을 방지하는 기능을 하는 층이다. 본 발명에 있어서, 전자 차단층은 애노드측 상의 발광층에 인접하는 유기 화합물층으로서 제공될 수 있다.The electron blocking layer is a layer that functions to prevent electrons transferred from the cathode side to the light emitting layer passing through the anode side. In the present invention, the electron blocking layer can be provided as an organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the anode side.

전자 차단층을 구성화는 화합물로는, 예를 들면 상기 정공 전송재료로서 열거한 것들을 사용할 수 있다.As a compound which comprises an electron blocking layer, what was enumerated as said hole transport material can be used, for example.

전자 차단층의 두께는 바람직하게는 1nm~500nm이고, 더욱 바람직하게는 5nm~200nm, 특히 바람직하게는 10nm~100nm이다.The thickness of the electron blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm.

정공 차단층은 1개 또는 2개 이상의 상기 재료를 함유하는 단층 구조, 또는 균질 조성 또는 비균질 조성의 복수층으로 이루어진 다층 구조이어도 좋다.The hole blocking layer may have a single layer structure containing one or two or more of the above materials, or a multilayer structure composed of a plurality of layers having a homogeneous composition or a heterogeneous composition.

<<보호층>><< protective layer >>

유기 EL 소자의 전체가 보호층에 의해 보호되어도 좋다.The whole organic EL element may be protected by a protective layer.

보호층에 포함되는 재료는 수분 및 산소와 같이 장치의 열화를 촉진시키는 물질이 장치 내로 들어가는 것을 방지하는 기능을 갖기에 충분한 것이다.The material included in the protective layer is sufficient to have a function of preventing entry of materials that promote degradation of the device, such as moisture and oxygen, into the device.

이러한 재료의 구체예로는 In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti 및 Ni와 같은 금속; MgO, SiO, SiO₂, Al₂O₃, GeO, NiO, CaO, BaO, Fe₂O₃, Y₂O₃ 및 TiO₂와 같은 금속 산화물; SiN_x 및 SiN_xO_y와 같은 금속 질화물; MgF₂, LiF, AlF₃ 및 CaF₂와 같은 금속 불화물; 디클로로에틸렌과 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리이미드, 폴리우레아, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리디클로로디플루오로에틸렌 및/또는 클로로트리플루오로에틸렌의 코폴리머; 테트라플루오로에틸렌과 하나 이상의 코모노머를 함유하는 모노머 혼합물, 코폴리머 주쇄에 환상 구조를 갖는 불소 함유 코폴리머, 1% 이상의 수분 흡수율을 갖는 친수성 물질, 및 0.1% 이하의 수분 흡수율을 갖는 내습성 물질의 공중합에 의해 얻어진 코폴리머가 열거된다.Specific examples of such materials include metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti and Ni; Metal oxides such as MgO, SiO, SiO ₂ , Al ₂ O ₃ , GeO, NiO, CaO, BaO, Fe ₂ O ₃ , Y ₂ O ₃ and TiO ₂ ; Metal nitrides such as SiN _x and SiN _x O _y ; Metal fluorides such as MgF ₂ , LiF, AlF ₃ and CaF ₂ ; Dichloroethylene and polyethylene, polypropylene, polymethylmethacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene and / or chloro Copolymers of trifluoroethylene; Monomer mixtures containing tetrafluoroethylene and one or more comonomers, fluorine-containing copolymers having a cyclic structure in the copolymer backbone, hydrophilic materials having a water absorption of at least 1%, and moisture resistant materials having a water absorption of at most 0.1% The copolymer obtained by copolymerization of is mentioned.

보호층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 진공증착법, 스퍼터링법, 반응성 스퍼터링법, MBE(분자빔 에피택시)법, 클러스터 이온빔법, 이온 플레이팅법, 플라즈마 중합법(고주파 여기이온[플레이팅법]), 플라즈마 CVD법, 레이저 CVD법, 서멀 CVD법, 가스원 CVD법, 코팅법, 인쇄법, 및 전사법이 열거된다.The method of forming a protective layer is not specifically limited, According to the intended use, it can select suitably. For example, vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, MBE (molecular beam epitaxy) method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method (high frequency excitation ion [plating method]), plasma CVD method, laser CVD Methods, thermal CVD method, gas source CVD method, coating method, printing method, and transfer method.

<<밀봉>><< sealing >>

또한, 유기 EL 소자는 밀봉 용기에 전부 밀봉되어도 좋다.In addition, the organic EL element may be entirely sealed in a sealed container.

또한, 흡습제 또는 불활성 액체가 밀봉 용기와 발광 소자 사이의 공간에 봉입되어도 좋다. 흡습제는 특별히 한정되지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 산화 바륨, 산화 나트륨, 산화 칼륨, 산화 칼슘, 황산 나트륨, 황산 칼슘, 황산 마그네슘, 5산화 인, 염화 칼슘, 염화 마그네슘, 염화 동, 불화 세슘, 불화 니오븀, 브롬화 칼슘, 브롬화 바나듐, 분자체, 제올라이트 및 산화 마그네슘이 열거된다. 불활성 액체는 특별히 한정되지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 파라핀, 유동 파라핀, 퍼플루오로알칸, 퍼플루오로아민 및 퍼플루오로에테르와 같은 불소 용매; 염소 용매; 및 실리콘 오일이 열거된다.In addition, a moisture absorbent or an inert liquid may be enclosed in the space between a sealed container and a light emitting element. The moisture absorbent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. Examples include barium oxide, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, phosphorus pentoxide, calcium chloride, magnesium chloride, copper chloride, cesium fluoride, niobium fluoride, calcium bromide, vanadium bromide, powder Themselves, zeolites and magnesium oxide. The inert liquid is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. Examples include fluorine solvents such as paraffin, liquid paraffin, perfluoroalkanes, perfluoroamines and perfluoroethers; Chlorine solvents; And silicone oils.

또한, 후술하는 수지 밀봉층에 채용되는 밀봉법도 바람직하게 사용된다.Moreover, the sealing method employ | adopted for the resin sealing layer mentioned later is also used preferably.

<<수지 밀봉층>><< resin sealing layer >>

유기 EL 소자는 바람직하게는 유기 EL 소자 자체가 대기와 접촉하는 것을 방지하여 산소 및 수분에 의한 소자 성능의 열화를 억제하는 기능을 갖는다.The organic EL element preferably has a function of preventing the organic EL element itself from contacting the atmosphere to suppress deterioration of element performance by oxygen and moisture.

수지 밀봉층에 사용되는 수지 재료는 특별히 한정되지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 아크릴 수지, 에폭시 수지, 불소 수지, 규소 수지, 루버 수지 및 에스테르 수지가 열거된다. 이들 수지 재료 중에서, 방습능력의 관점에서 에폭시 수지가 바람직하다. 에폭시 수지 중에서, 열경화성 에폭시 수지 및 광경화성 에폭시 수지가 더욱 바람직하다.The resin material used for a resin sealing layer is not specifically limited, According to the intended use, it can select suitably. Examples include acrylic resins, epoxy resins, fluorine resins, silicon resins, louver resins and ester resins. Among these resin materials, epoxy resins are preferred from the viewpoint of moisture-proof capability. Among the epoxy resins, thermosetting epoxy resins and photocurable epoxy resins are more preferred.

수지 밀봉층의 제조방법은 특별히 한정되지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택될 수 있다. 예를 들면, 수지 용액을 도포하는 방법, 수지 시트를 접촉 결합시키거나 열접촉 결합시키는 방법, 증착, 스퍼터링 등을 통한 건식 중합법이 예시된다.The manufacturing method of a resin sealing layer is not specifically limited, It may be suitably selected according to the intended use. For example, the method of apply | coating a resin solution, the method of contact-bonding or thermally contacting a resin sheet, the dry polymerization method through vapor deposition, sputtering, etc. are illustrated.

수지 밀봉층의 두께는 바람직하게는 1㎛~1mm이고, 더욱 바람직하게는 5㎛~100㎛이고, 특히 바람직하게는 10㎛~50㎛이다. 두께가 1㎛보다 얇으면 제 2 기판이 부착될 때 무기막이 손상될 가능성이 있다. 1mm보다 두꺼우면 EL 소자 자체의 두께가 두꺼워져서 유기 EL 소자의 특징인 박막 특성이 열화될 가능성이 있다. The thickness of the resin sealing layer is preferably 1 µm to 1 mm, more preferably 5 µm to 100 µm, and particularly preferably 10 µm to 50 µm. If the thickness is thinner than 1 mu m, there is a possibility that the inorganic film is damaged when the second substrate is attached. If the thickness is larger than 1 mm, the thickness of the EL element itself may be increased, resulting in deterioration of thin film characteristics characteristic of the organic EL element.

<<밀봉 접착제>><< sealing adhesive >>

밀봉에 사용되는 밀봉 접착제는 유기 EL 소자의 원위말단으로부터 유기 EL 소자안으로 수분 및 산소가 침입하는 것을 방지하는 기능을 갖는다.The sealing adhesive used for sealing has a function of preventing the ingress of moisture and oxygen into the organic EL element from the distal end of the organic EL element.

밀봉 접착제의 재료로서는 수지 밀봉층의 재료와 동일한 것을 사용할 수 있다. 그 재료 중에서 방습성의 관점에서 에폭시 접착제가 바람직하고, 광경화성 접착제 및 열경화성 접착제가 더욱 바람직하다.As a material of a sealing adhesive agent, the same thing as the material of a resin sealing layer can be used. Among the materials, an epoxy adhesive is preferred from the viewpoint of moisture resistance, and a photocurable adhesive and a thermosetting adhesive are more preferable.

또한, 상술한 재료에 필러를 첨가하는 것이 바람직하다. 밀봉제에 첨가되는 필러로서는 SiO₂, SiO(산화 규소), SiON(산질화 규소), SiN(질화 규소) 등과 같은 무기 재료가 바람직하다. 필러를 밀봉제에 첨가함으로써 밀봉제의 점도가 증가하여 가공 적합성 및 내습성이 향상된다.Moreover, it is preferable to add a filler to the above-mentioned material. As the filler to be added to the sealant, inorganic materials such as SiO ₂ , SiO (silicon oxide), SiON (silicon oxynitride), SiN (silicon nitride) and the like are preferable. By adding the filler to the sealant, the viscosity of the sealant is increased to improve processing suitability and moisture resistance.

밀봉 접착제는 건조제를 함유해도 좋다. 건조제로서는 산화 바륨, 산화 칼슘, 산화 스트론튬이 바람직하다.The sealing adhesive may contain a desiccant. As a desiccant, barium oxide, calcium oxide, and strontium oxide are preferable.

밀봉제에 첨가되는 건조제의 양은 바람직하게는 0.01질량%~20질량%, 더욱 바람직하게는 0.05질량%~15질량%이다. 첨가량이 0.01질량% 미만일 경우에는 건조제 첨가 효과가 저감된다. 20질량%를 초과할 경우에는 건조제가 밀봉 접착제에 균일하게 분산되기 어려워 바람직하지 않다.The amount of the desiccant added to the sealant is preferably 0.01% by mass to 20% by mass, more preferably 0.05% by mass to 15% by mass. When the addition amount is less than 0.01% by mass, the effect of adding the desiccant is reduced. When it exceeds 20 mass%, desiccant is hard to disperse | distribute uniformly to a sealing adhesive, and it is unpreferable.

[밀봉 접착제의 포뮬레이션][Formulation of sealing glue]

ㆍ폴리머의 조성 및 농도ㆍ polymer composition and concentration

밀봉 접착제는 특별히 한정되지 않고, 상술한 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 광경화성 에폭시계 접착제로서 Nagase Chemtech Co. 제품의 XNR5516가 예시된다. 이 밀봉 접착제는 건조제에 직접 첨가되어 분산된다.The sealing adhesive is not specifically limited, The above-mentioned thing can be used. For example, as a photocurable epoxy adhesive, Nagase Chemtech Co. The XNR5516 of the product is illustrated. This sealing adhesive is added directly to the desiccant and dispersed.

ㆍ두께ㆍ Thickness

밀봉 접착제의 코팅 두께는 바람직하게는 1㎛~1mm이다. 코팅 두께가 1㎛보다 얇으면 밀봉 접착제가 균일하게 도포되지 않아 바람직하지 않다. 1mm를 초과하면 수분이 유기 EL 소자의 내부로 침입하는 누설로가 넓어져서 바람직하지 않다.Coating thickness of a sealing adhesive becomes like this. Preferably it is 1 micrometer-1 mm. If the coating thickness is thinner than 1 mu m, the sealing adhesive is not applied uniformly, which is not preferable. If it exceeds 1 mm, the leakage path in which moisture penetrates into the organic EL element becomes wider, which is not preferable.

건조제를 함유하는 밀봉 접착제를 디스펜서 등을 사용하여 기판 표면에 소정량 도포하고, 그 도포된 기판 상에 제 2 기판을 겹쳐 놓은 후 경화시킴으로써 기능 소자를 얻을 수 있다.A functional element can be obtained by apply | coating predetermined amount to the surface of a board | substrate using a dispenser etc. using a dispenser, superimposing a 2nd board | substrate on the apply | coated board | substrate, and hardening | curing.

<<구동>><< driving >>

애노드와 캐소드 사이에 DC(필요에 따라 AC 성분이 포함되어도 좋음) 전압(일반적으로 2볼트~15볼트)을 인가함으로써 또는 DC 전류를 임가함으로써 본 발명의 유기 EL 소자의 발광을 얻을 수 있다.Light emission of the organic EL device of the present invention can be obtained by applying a DC (may include an AC component, if necessary) voltage (generally 2 volts to 15 volts) between the anode and the cathode, or by adding a DC current.

유기 EL 소자의 구동방법으로는 일본 특허공개 평2-14867호, 평6-301355호, 평5-29080호, 평7-134558호, 평8-234685호, 평8-241047호, 일본 특허 제2784615호, 미국 특허 제5828429호 및 제6023308호에 개시된 구동방법을 본 발명에 적용할 수 있다.As a method of driving an organic EL device, Japanese Patent Laid-Open Nos. Hei 2-14867, Hei 6-301355, Hei 5-29080, Hei 7-134558, Hei 8-234685, Hei 8-241047, and Japanese Patent No. The driving method disclosed in 2784615, U.S. Pat.Nos. 5828429 and 6023308 can be applied to the present invention.

유기 EL 소자는 각종 공지된 수단에 의해서 광추출 효율이 향상될 수 있다. 예를 들면, 기판 표면의 형태를 가공(예를 들면 미세 요철 패턴의 형성)함으로써, 기판, ITO층 및 유기층의 굴절률을 조정함으로써, 또한 기판, ITO층 및 유기층의 두께를 조정함으로써 광추출 효율 및 외부양자효율을 개선할 수 있다.In the organic EL device, light extraction efficiency can be improved by various known means. For example, by processing the shape of the substrate surface (for example, forming a fine concavo-convex pattern), by adjusting the refractive indices of the substrate, the ITO layer and the organic layer, and by adjusting the thicknesses of the substrate, the ITO layer and the organic layer, External quantum efficiency can be improved.

본 발명의 유기 EL 소자는 애노드측으로부터 광을 집광하는 전면발광계로 불리우는 것이어도 좋다.The organic EL device of the present invention may be referred to as a front light emitting system that collects light from the anode side.

본 발명의 유기 EL 소자는 발광효율을 향상시키기 위해서 전하 발생층이 복수의 발광층 사이에 형성된 구조를 가져도 좋다.The organic EL device of the present invention may have a structure in which a charge generation layer is formed between a plurality of light emitting layers in order to improve luminous efficiency.

전하 발생층은 전장의 적용시 전하(정공 및 전자)를 발생시키고 그 발생된 전하를 전하 발생층에 인접한 층으로 주입하는 기능을 갖는다. The charge generating layer has a function of generating charges (holes and electrons) upon application of the electric field and injecting the generated charges into a layer adjacent to the charge generating layer.

전하 발생층을 형성하는 재료로는 상기 기능을 갖는 것이면 어느 재료를 사용해도 좋고, 전하 발생층은 단일 화합물 도는 복수 화합물을 함유해도 좋다.As a material for forming the charge generating layer, any material may be used as long as it has the above function, and the charge generating layer may contain a single compound or a plurality of compounds.

구체적으로, 상기 재료는 전도성을 갖는 재료이어도 좋고, 도프 유기층과 같이 반도전체성을 갖는 재료이어도 좋고, 또는 전기절연성을 갖는 재료이어도 좋고, 상기 재료의 예로는 일본 특허공개 평11-329748호, 2003-272860호 및 2004-39617호에 개시된 것을 들 수 있다.Specifically, the material may be a conductive material, may be a material having semiconductivity, such as a dope organic layer, or may be a material having electrical insulation. Examples of the material include JP-A-11-329748, 2003. And those disclosed in -272860 and 2004-39617.

더욱 구체적으로, ITO 및 IZO(산화 아연인듐)과 같은 투명 전도성 재료, C60과 같은 풀러렌, 올리고티오펜과 같은 전도성 유기 재료, 금속 프탈로시아닌, 무금속 프탈로시아닌, 금속 포르피린 및 무금속 포르피린과 같은 전도성 유기 재료, Ca, Ag, Al, Mg:Ag 합금, Al:Li 합금 및 Mg:Li 합금과 같은 금속 재료, 정공 전도성 재료, 전자 전도성 재료, 및 이들 재료의 혼합물을 사용해도 좋다.More specifically, transparent conductive materials such as ITO and IZO (indium zinc oxide), fullerenes such as C60, conductive organic materials such as oligothiophene, conductive organic materials such as metal phthalocyanine, metal phthalocyanine, metal porphyrin and metal free porphyrin , Metal materials such as Ca, Ag, Al, Mg: Ag alloys, Al: Li alloys, and Mg: Li alloys, hole conductive materials, electron conductive materials, and mixtures of these materials may be used.

정공 전도성 재료로는, 예를 들면 2-TNATA 및 NPD와 같은 정공 전송성 유기 재료에 F4-TCNQ, TCNQ, FeCl₃과 같은 전자 구인성을 갖는 산화제를 도핑함으로써 얻어지는 재료, P형 전도성 폴리머, 및 P형 반도체가 예시된다. 전자 전도성 재료로서, 예를 들면 일함수 4.0eV 미만의 금속 또는 금속 화합물을 전자 전송성 유기 재료에 도핑함으로써 얻어진 재료, N형 전도성 폴리머, 및 N형 반도체가 예시된다. N형 반도체로서는 N형 Si, N형 CdS 및 N형 ZnS가 예시되고, P형 반도체, P형 Si, P형 CdTe 및 P형 CuO가 예시된다.As the hole conductive material, for example, a material obtained by doping a hole transporting organic material such as 2-TNATA and NPD with an electron withdrawing agent such as F4-TCNQ, TCNQ, FeCl ₃ , a P-type conductive polymer, and P-type semiconductors are illustrated. As the electron conductive material, for example, a material obtained by doping a metal or metal compound having a work function of less than 4.0 eV to an electron transporting organic material, an N type conductive polymer, and an N type semiconductor are exemplified. Examples of the N-type semiconductors include N-type Si, N-type CdS, and N-type ZnS, and P-type semiconductors, P-type Si, P-type CdTe, and P-type CuO are illustrated.

또한, V₂O₅와 같은 전기절연성 재료도 전하 발생층으로서 사용될 수 있다.In addition, electrically insulating materials such as V ₂ O ₅ can also be used as the charge generating layer.

전하 발생층은 단층 또는 복수층의 적층체이어도 좋다. 복수층의 적층 구조로서는 투명 전도성 재료 또는 금속 재료와 정공 전도성 재료 또는 전자 전도성 재료와 같은 전도성을 갖는 재료의 적층 구조를 갖는 층, 및 정공 전도성 재료와 전자 전도성 재료의 적층 구조를 갖는 층이 예시된다.The charge generating layer may be a single layer or a laminate of a plurality of layers. Examples of the laminated structure of a plurality of layers include a layer having a laminated structure of a transparent conductive material or a metal material and a conductive material such as a hole conductive material or an electron conductive material, and a layer having a laminated structure of a hole conductive material and an electron conductive material. .

일반적으로, 전하 발생층의 막두께 및 재료는 가시광 투과율이 50% 이상이 되도록 선택하는 것이 바람직하다. 막두께는 특별히 한정되지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 바람직하게는 0.5nm~200nm, 보다 바람직하게는 1nm~100nm, 더욱 바람직하게는 3nm~50nm이고, 특히 바람직하게는 5nm~30nm이다.In general, the film thickness and the material of the charge generating layer are preferably selected so that the visible light transmittance is 50% or more. The film thickness is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. Preferably it is 0.5 nm-200 nm, More preferably, it is 1 nm-100 nm, More preferably, it is 3 nm-50 nm, Especially preferably, it is 5 nm-30 nm.

전하 발생층의 형성방법은 특별히 한정되지 않고, 유기 화합물층의 형성방법을 사용할 수 있다.The formation method of a charge generation layer is not specifically limited, The formation method of an organic compound layer can be used.

전하 발생층은 복수의 발광층의 각각의 2층 사이에 형성되고, 전하 발생층의 애노드층과 캐소드층은 인접한 층에 전하를 주입하는 기능을 갖는 재료를 함유해도 좋다. 애노드측에 인접한 층에 대한 전자 주입특성을 향상시키기 위해서, BaO, SrO, Li₂O, LiCl, LiF, MgF₂, MgO, CaF₂와 같은 전자 주입 화합물을 전하 발생층의 애노드층 상에 적층해도 좋다.The charge generating layer is formed between each of two layers of the plurality of light emitting layers, and the anode layer and the cathode layer of the charge generating layer may contain a material having a function of injecting charges into adjacent layers. In order to improve the electron injection characteristics of the layer adjacent to the anode side, an electron injection compound such as BaO, SrO, Li ₂ O, LiCl, LiF, MgF ₂ , MgO, CaF ₂ may be laminated on the anode layer of the charge generation layer. good.

상술한 것 이외에, 전하 발생층의 재료는 일본 특허공개 2003-45676호, 미국 특허 6337492호, 6107734호 및 6872472호를 참조하여 선택할 수 있다.In addition to the above, the material of the charge generating layer can be selected with reference to Japanese Patent Laid-Open Nos. 2003-45676, US Pat. Nos. 6337492, 6107734, and 6872472.

유기 EL 소자는 공진기 구조를 가져도 좋다. 예를 들면, 유기 EL 소자는 투명 기판 상에 굴절률이 다른 복수 적층막, 투명 또는 반투명 전극, 발광층 및 금속 전극을 중첩에 의해 포함하는 다층막 미러를 갖는다. 발광층으로부터 발생된 광은 반사체로서의 다층막 미러와 금속 전극 사이에서 반사와 공진을 반복한다.The organic EL element may have a resonator structure. For example, the organic EL device has a multilayer film mirror including a plurality of laminated films, transparent or translucent electrodes, light emitting layers, and metal electrodes having different refractive indices on a transparent substrate by overlapping. Light generated from the light emitting layer repeats reflection and resonance between the multilayer film mirror as the reflector and the metal electrode.

다른 바람직한 실시형태로서는 투명 또는 반투명 전극과 금속 전극이 투명 기판 상에서 반사체로서 각각 기능하여 발광층으로부터 발생된 광이 그들 사이에서 반사와 공진을 반복한다.In another preferred embodiment, the transparent or translucent electrode and the metal electrode function as reflectors on the transparent substrate, respectively, so that the light generated from the light emitting layer repeats reflection and resonance therebetween.

공진 구조를 형성하기 위해서는 2개의 반사체의 효과적인 굴절률, 상기 굴절률에 의해 결정되는 광로 및 상기 반사체 사이의 각 층의 두께는 소망한 공진파장이 얻어지도록 최적치로 조정된다. 제 1 실시형태의 경우에 대해서는 일본 특허공개 평9-180883호에 개시되어 있다. 제 2 실시형태의 경우에 대해서는 일본 특허공개 2004-127795호에 개시되어 있다.In order to form a resonant structure, the effective refractive index of the two reflectors, the optical path determined by the refractive indices, and the thickness of each layer between the reflectors are adjusted to an optimum value so that a desired resonance wavelength is obtained. The case of 1st Embodiment is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 9-180883. The case of 2nd Embodiment is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-127795.

<미립자 함유층><Particulate containing layer>

미립자 함유층은 발광층으로부터 방출된 광의 광로 내에 투명 전극(예를 들면, ITO 애노드)에 인접하여 위치한다. 고굴절률의 투명 전극(예를 들면, ITO 애노드)에 인접하여 미립자 함유층을 위치시킴으로써 투명 전극(예를 들면, ITO 애노드)과 미립자 함유층 사이에 굴절률 단차를 제공할 수 있으므로 광추출 효율을 현저히 향상시킬 수 있다.The fine particle containing layer is located adjacent to the transparent electrode (for example, ITO anode) in the optical path of the light emitted from the light emitting layer. By placing the fine particle containing layer adjacent to the high refractive index transparent electrode (e.g., ITO anode), it is possible to provide a refractive index step between the transparent electrode (e.g., ITO anode) and the fine particle containing layer, thereby significantly improving the light extraction efficiency. Can be.

미립자 함유층은 적어도 유기 수지 재료 및 미립자를 함유하고, 또한 필요에 따라서 기타 성분을 더 함유한다.The fine particle-containing layer contains at least an organic resin material and fine particles, and further contains other components as necessary.

미립자 함유층은 두께가 2㎛~10㎛이면 특별히 한정하지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그러나, 바람직하게는 2㎛~5㎛이다.The fine particle-containing layer is not particularly limited as long as the thickness is 2 µm to 10 µm, and can be appropriately selected depending on the intended use. However, Preferably it is 2 micrometers-5 micrometers.

<<유기 수지 재료>><< organic resin material >>

유기 수지 재료는 투명 전극의 굴절률 이하의 굴절률을 갖는 것이면 특별히 한정하지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 각각 굴절률 1.7 이하의 아크릴 수지, 폴리이미드 수지 및 폴리페닐렌 에테르 수지가 열거된다. The organic resin material is not particularly limited as long as it has a refractive index equal to or less than the refractive index of the transparent electrode, and can be appropriately selected according to the intended use. Examples thereof include acrylic resins having a refractive index of 1.7 or less, polyimide resins, and polyphenylene ether resins, respectively.

<<미립자>><< fine particle >>

미립자는 유기 수지 재료 보다 굴절률이 높은 것이면 특별히 한정하지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 산화 아연(굴절률: 1.9~2.0), 알루미나(굴절률: 약 1.7), 산화 티타늄(TiO₂)(굴절률: 약 2.6), 및 지르코니아(ZrO₂)(굴절률: 약 2.3)과 같은 무기 미립자; 및 멜라민(굴절률: 약 1.6) 및 벤조구아나민(굴절률: 약 1.65)와 같은 유기 미립자가 열거된다.The fine particles are not particularly limited as long as the refractive index is higher than that of the organic resin material, and can be appropriately selected depending on the intended use. Examples include inorganic fine particles such as zinc oxide (refractive index: 1.9 to 2.0), alumina (refractive index: about 1.7), titanium oxide (TiO ₂ ) (refractive index: about 2.6), and zirconia (ZrO ₂ ) (refractive index: about 2.3). ; And organic particulates such as melamine (refractive index: about 1.6) and benzoguanamine (refractive index: about 1.65).

미립자의 중량 평균 입경은 0.5㎛~5㎛이면 특별히 한정하지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그러나, 0.5㎛~2㎛가 바람직하다. 중량 평균 입경이 0.5㎛ 보다 작으면 광추출 효율이 불충분한 경우가 있다. 5㎛를 초과하면 층 표면 상에 요철이 발생하여 TFT 구동에 영향을 미칠 수 있다. 반대로, 중량 평균 입경이 상기 바람직한 범위 내이면 광추출 효율과 TFT 구동 모두를 동시에 만족시키는 이점이 있다.If the weight average particle diameter of microparticles | fine-particles is 0.5 micrometer-5 micrometers, it will not specifically limit, According to the intended use, it can select suitably. However, 0.5 micrometer-2 micrometers are preferable. If the weight average particle diameter is smaller than 0.5 mu m, the light extraction efficiency may be insufficient. If it exceeds 5 mu m, unevenness may occur on the layer surface, which may affect the TFT driving. On the contrary, if the weight average particle diameter is within the above preferred range, there is an advantage of satisfying both the light extraction efficiency and the TFT drive at the same time.

미립자는 바람직하게는 미립자 함유층에 있어서 1차 입자로서 분산(단분산)된다. 미립자를 미립자 함유층에 1차 입자로서 분산시킴으로써, 광추출 효율을 더욱 향상시키고 화상 블리딩을 저감시킬 수 있다.The fine particles are preferably dispersed (monodisperse) as primary particles in the fine particle-containing layer. By dispersing the fine particles in the fine particle-containing layer as primary particles, the light extraction efficiency can be further improved and the image bleeding can be reduced.

미립자를 미립자 함유층에 1차 입자로서 분산시키는 방법은 특별히 한정되지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 초음파의 조사, 후술하는 미립자 분산제의 첨가가 열거된다.The method of disperse | distributing microparticles | fine-particles to a microparticle containing layer as primary particle is not specifically limited, According to the intended use, it can select suitably. Examples thereof include irradiation of ultrasonic waves and addition of a fine particle dispersant described later.

미립자가 1차 입자로서 분산되었는지의 여부는 입자 사이즈 분포계에 의해 측정한 입자 사이즈 분포에 기초하여 확인할 수 있다. 측정된 입자 사이즈 분포가 1개의 피크만을 가질 경우, 이것은 미립자가 1차 입자로서 분산된 것을 의미한다. 측정된 입자 사이즈 분포가 2개 이상의 피크를 가질 경우, 이것은 미립자가 2차 입자로서 분산된 것을 의미한다.Whether or not the fine particles are dispersed as primary particles can be confirmed based on the particle size distribution measured by the particle size distribution meter. If the particle size distribution measured has only one peak, this means that the fine particles are dispersed as primary particles. If the measured particle size distribution has two or more peaks, this means that the fine particles are dispersed as secondary particles.

<<기타 성분>><< other ingredients >>

기타 성분은 특별히 한정하지 않고, 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그 예로는 미립자 분산제가 열거된다. 미립자 분산제는 미립자를 미립자 함유층에 1차 입자로서 분산시키기 위해서 첨가된다.The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended use. Examples include particulate dispersants. The fine particle dispersant is added to disperse the fine particles as the primary particles in the fine particle containing layer.

(분산제)(Dispersant)

본 발명의 미립자의 분산에 있어서는 음이온기를 갖는 분산제를 사용하는 것이 바람직하다. 음이온기로서는 카르복실기, 술폰산기(술포기), 인산기(포스포노기) 및 술폰아미드기, 또는 그 염과 같은 산성 프로톤을 갖는 기가 유효하다. 이들 중에서, 카르복실기, 술폰산기, 인산기 또는 그 염이 바람직하고, 카르복실기 및 인산기가 특히 바람직하다.In the dispersion of the fine particles of the present invention, it is preferable to use a dispersant having an anionic group. As an anionic group, the group which has acidic protons, such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo group), a phosphoric acid group (phosphono group), a sulfonamide group, or its salt is effective. Among these, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group or its salt is preferable, and a carboxyl group and a phosphoric acid group are especially preferable.

분산제의 분자당 함유된 음이온기의 수는 하나 이상인 것이 충분하다. 미립자의 분산성을 향상시키기 위해서 분자당 복수개의 음이온기가 분산제에 함유되어도 좋다. 분자당 음이온기의 수는 2개 이상인 것이 바람직하고, 5개 이상인 것이 더욱 바람직하고, 10개 이상인 것이 특히 바람직하다. 또한, 분산제의 분자당 복수 형태의 음이온기가 함유되어 있어도 좋다.It is sufficient that the number of anionic groups contained per molecule of the dispersant is one or more. In order to improve the dispersibility of microparticles | fine-particles, a some anion group per molecule may be contained in a dispersing agent. It is preferable that the number of anion groups per molecule is two or more, It is more preferable that it is five or more, It is especially preferable that it is ten or more. In addition, a plurality of types of anionic groups may be contained per molecule of the dispersant.

음이온 극성기를 갖는 분산제의 구체예로는 "PHOSPHANOL"(PE-510, PE-610, LB-400, EC-6103, RE-410 등; Toho Chemical Industry Co., Ltd. 제품), "DISPERBYK"(-110, -111, -116, -140, -161, -162, -163, -164, -170, -171 등; Byk Chemie Japan 제품)이 열거된다.Specific examples of the dispersant having an anionic polar group include "PHOSPHANOL" (PE-510, PE-610, LB-400, EC-6103, RE-410, etc .; manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.), "DISPERBYK" ( -110, -111, -116, -140, -161, -162, -163, -164, -170, -171 and the like; manufactured by Byk Chemie Japan.

바람직하게는, 분산제는 가교성 또는 중합성 관능기를 더 함유한다. 가교성 또는 중합성 관능기의 예로는 라디칼종에 의해 가교반응/중합반응할 수 있는 에틸렌성 불포화기(예를 들면, (메타)아크릴로일기, 아릴기, 스티릴기, 비닐옥시기 등), 양이온 중합성기(에폭시기, 옥세타닐기, 비닐옥시기 등), 및 중축합 반응성기(가수분해성 실릴기, N-메틸올기 등)이 열거된다. 바람직하게는 에틸렌성 불포화기를 갖는 관능기이다.Preferably, the dispersant further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (eg, (meth) acryloyl groups, aryl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can be crosslinked / polymerized by radical species, cations The polymerizable group (epoxy group, oxetanyl group, vinyloxy group, etc.), and polycondensation reactive group (hydrolyzable silyl group, N-methylol group etc.) are mentioned. Preferably it is a functional group which has an ethylenically unsaturated group.

본 발명에 있어서의 미립자의 분산에 사용되는 분산제는 음이온기와 가교성 또는 중합성 관능기를 갖고 또한 측쇄에 가교성 도는 중합성 관능기를 갖는 분산제인 것이 바람직하다.It is preferable that the dispersing agent used for disperse | distributing the microparticles | fine-particles in this invention is a dispersing agent which has an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group, and has a crosslinkable or polymerizable functional group in a side chain.

본 발명에 있어서, 분산제의 질량 평균 분자량(Mw)은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1,000 이상이다. 보다 바람직한 분산제의 질량 평균 분자량(Mw)은 2,000~1,000,000이고, 더욱 바람직하게는 5,000~200,000이고, 특히 바람직하게는 10,000~100,000이다.In this invention, although the mass mean molecular weight (Mw) of a dispersing agent is not specifically limited, Preferably it is 1,000 or more. The mass average molecular weight (Mw) of a more preferable dispersing agent is 2,000-1,000,000, More preferably, it is 5,000-200,000, Especially preferably, it is 10,000-100,000.

본 발명에 특히 바람직하게 사용될 수 있는 분산제의 구체적 화합물은 일본 특허공개 2004-29705호의 [0109]~[0110] 단락에 기재되어 있다.Specific compounds of the dispersant which may be particularly preferably used in the present invention are described in paragraphs [0109] to [0110] of Japanese Patent Laid-Open No. 2004-29705.

미립자에 대한 분산제의 첨가량은 바람직하게는 1질량%~50질량%이고, 더욱 바람직하게는 5질량%~30질량%이고, 가장 바람직하게는 5질량%~20질량%이다. 분산제로서 2종 이상의 분산제를 조합하여 사용해도 좋다.The amount of the dispersant added to the fine particles is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, and most preferably 5% by mass to 20% by mass. You may use combining a 2 or more types of dispersing agent as a dispersing agent.

<기타 부재><Other members>

기타 부재는 특별히 한정하지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 기판이 예시된다.The other member is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. For example, a substrate is illustrated.

<<기판>><< board >>

기판은 특별히 한정되지 않고 목적한 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 그러나, 유기 화합물층으로부터 방출된 광을 산란 또는 감쇄시키지 않는 기판이 바람직하다. 기판 재료의 구체예로는, 예를 들면 이트리아 안정화 지르코니아(YSZ), 유리 등과 같은 무기 재료, 및 예를 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등과 같은 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리알릴레이트, 폴리이미드, 폴리시클로올레핀, 노르보르넨 수지, 폴리(클로로트리플루오로에틸렌) 등과 같은 유기 재료가 열거된다. The substrate is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use. However, substrates that do not scatter or attenuate light emitted from the organic compound layer are preferred. Specific examples of the substrate material include inorganic materials such as yttria stabilized zirconia (YSZ), glass, and the like, and polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, etc. Organic materials such as polyethersulfone, polyallylate, polyimide, polycycloolefin, norbornene resin, poly (chlorotrifluoroethylene) and the like.

예를 들면, 유리를 기판으로서 사용할 경우, 유리로부터 이온의 용리를 저감시키기 위해서는 무알칼리 유리를 재료로서 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 소다라임유리를 사용할 경우, 실리카와 같은 배리어 코트를 제공하는 것이 바람직하다. 유기 재료의 경우, 내열성, 치수 안정성, 내용매성, 전기절연성 및 가공성이 우수한 재료를 사용하는 것이 바람직하다.For example, when using glass as a board | substrate, in order to reduce elution of an ion from glass, it is preferable to use an alkali free glass as a material. In addition, when using soda lime glass, it is preferable to provide a barrier coat such as silica. In the case of an organic material, it is preferable to use the material excellent in heat resistance, dimensional stability, solvent resistance, electrical insulation, and workability.

기판의 형태, 구조 및 사이즈는 특별히 제한하지 않고, 이들은 발광 소자의 목적한 용도 및 목적에 따라서 임의로 선택할 수 있다. 일반적으로, 기판은 판상인 것이 바람직하다. 기판의 구조는 단층 구조이어도 좋고 또는 적층 구조이어도 좋고, 또한 단일 부재로 이루어져도 좋고 또는 2종 이상의 부재로 형성되어도 좋다.The form, structure, and size of the substrate are not particularly limited, and they can be arbitrarily selected according to the intended use and purpose of the light emitting device. In general, the substrate is preferably plate-shaped. The structure of the substrate may be a single layer structure, a laminated structure, a single member, or may be formed of two or more members.

기판은 무색 투명해도 좋고, 또는 착색 투명해도 좋지만, 유기 발광층으로부터 방출된 광을 산란 또는 감쇄시키지 않는 점에서 무색 투명한 기판이 바람직하게 사용된다.The substrate may be colorless transparent or colored transparent, but a colorless transparent substrate is preferably used in that it does not scatter or attenuate light emitted from the organic light emitting layer.

기판에는 정면 또는 배면 상에 투습 방지층(가스 배리어층)을 형성할 수 있다.The substrate can be provided with a moisture barrier layer (gas barrier layer) on the front surface or the rear surface.

기판은 투습 방지층(가스 배리어층)의 재료로서는 질화 규소 및 산화 규소와 같은 무기 재료가 바람직하게 사용된다. 투습 방지층(가스 배리어층)은, 예를 들면 고주파 스퍼터링법에 의해 형성할 수 있다.As the material of the moisture barrier layer (gas barrier layer), an inorganic material such as silicon nitride and silicon oxide is preferably used for the substrate. The moisture barrier layer (gas barrier layer) can be formed by, for example, a high frequency sputtering method.

열가소성 기판을 사용하는 경우, 필요에 다라서 하드코트층 및 언더코트층을 더 형성해도 좋다.When using a thermoplastic substrate, you may further form a hard coat layer and an undercoat layer as needed.

기판 상에 TFT의 형성시 패시베이션층을 TFT의 베이스로서 형성해도 좋다.The passivation layer may be formed as a base of the TFT when the TFT is formed on the substrate.

<전면발광형 유기 EL 표시장치><Front light emitting organic EL display device>

전면발광형 유기 EL 표시장치에는, 예를 들면 도 1에 도시한 바와 같이 유리 기판(1)(굴절률: 약 1.5), 유리 기판(1) 상에 배치되고 SiN_x, SiON 등으로 이루어진 패시베이션층(2), 패시베이션층(2) 상에 배치되고 아크릴 수지 등으로 이루어진 층간 절연층(3), 패시베이션층(2) 상에 배치되고 층간 절연층(3)에 인접하여 있는 유기 박막 트랜지스터(TFT)(4), 층간 절연층(3) 상에 배치되고 알루미늄 및 은과 같은 금속으로 이루어진 반사판(5), 반사판(5) 상에 배치되고 유기 수지 재료(굴절률: 약 1.5), 미립자(굴절률: 1.5 초과) 등을 함유하는 미립자 함유층(6), 미립자 함유층(6) 상에 배치되고 ITO 등으로 이루어진 투명 전극(애노드)(7)(굴절률: 약 1.9), 투명전극(애노드)(7) 상에 배치되고 발광층 등을 포함하는 유기 화합물층(8)(굴절률: 약 1.8), 유기 화합물층(8) 상에 배치되고 알루미늄, 은 등으로 이루어진 카운터 전극(반투과형)(9), 미립자 함유층(6) 상에 투명 전극(애노드)(7), 유기 화합물층(8) 및 카운터 전극(반투과형 캐소드)(9)에 인접하도록 배치되고 아크릴 수지 등으로 이루어진 뱅크(10), 카운터 전극(반투과형 캐소드)(9) 상에 배치되고 SiNx, SiON 등으로 이루어진 밀봉층(11)(굴절률: 약 1.75), 밀봉층(11) 상에 배치되고 에폭시 수지 등으로 이루어진 접착제층(12)(굴절률: 약 1.55), 및 접착제층(12) 상에 배치되고 유리 등으로 이루어진 기판(13)(굴절률: 약 1.5)이 설치되어 있다. In the top emission type organic EL display device, for example, as shown in FIG. 1, a passivation layer (refractive index: about 1.5), a passivation layer made of SiN _x , SiON, or the like disposed on the glass substrate 1 ( 2) an organic thin film transistor (TFT) disposed on the passivation layer 2 and made of an acrylic resin or the like, an organic thin film transistor (TFT) disposed on the passivation layer 2 and adjacent to the interlayer insulating layer 3 ( 4), a reflector 5 disposed on the interlayer insulating layer 3 and made of a metal such as aluminum and silver, disposed on the reflector 5 and having an organic resin material (refractive index: about 1.5), fine particles (refractive index: greater than 1.5) ) Is disposed on the particulate-containing layer 6, the particulate-containing layer 6, and the transparent electrode (anode) 7 (refractive index: about 1.9) made of ITO or the like, and disposed on the transparent electrode (anode) 7. And disposed on the organic compound layer 8 (refractive index: about 1.8) including the light emitting layer and the like, and the organic compound layer 8 A counter electrode (semi-transmissive) 9 made of aluminum, silver, or the like, a transparent electrode (anode) 7, an organic compound layer 8, and a counter electrode (semi-transmissive cathode) 9 are formed on the fine particle-containing layer 6. A bank 10 made of acrylic resin or the like, a sealing layer 11 (refractive index: about 1.75) made of SiNx, SiON, or the like, disposed on the counter electrode (semi-transmissive cathode) 9 and the sealing layer 11 The adhesive layer 12 (refractive index: about 1.55) arrange | positioned on an epoxy resin etc., and the board | substrate 13 (refractive index: about 1.5) arrange | positioned on the adhesive bond layer 12, and consist of glass are provided.

층간 절연층(3) 및 미립자 함유층(6)은 유기 박막 트랜지스터(TFT)(4)를 평탄화하기 위한 평탄화 막으로서도 기능한다.The interlayer insulating layer 3 and the fine particle containing layer 6 also function as planarization films for planarizing the organic thin film transistor (TFT) 4.

층간 절연층(3), 반사판(5) 및 미립자 함유층(6) 내를 통하여 투명 전극(애노드)(7)과 유기 박막 트랜지스터(TFT)(4)가 서로 접속하도록 콘택트홀(14)이 형성되어 있다. A contact hole 14 is formed so that the transparent electrode (anode) 7 and the organic thin film transistor (TFT) 4 are connected to each other through the interlayer insulating layer 3, the reflecting plate 5, and the fine particle containing layer 6. have.

미립자 함유층(6)은 2㎛~10㎛의 얇은 두께를 갖기 때문에 콘택트홀(14)이 용이하게 형성될 수 있으므로 제조비용을 절감할 수 있다.Since the fine particle-containing layer 6 has a thin thickness of 2 μm to 10 μm, the contact hole 14 can be easily formed, thereby reducing the manufacturing cost.

또한, 미립자 함유층(6)에는 굴절률이 유기 수지 재료보다 높은 미립자가 함유되고, 유기 화합물층(8)의 발광층으로부터 방출된 광이 투명 전극(애노드)(7)을 투과하여 반사판(5)의 표면에서 반사되고, 그 반사광이 산란되므로 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, the fine particle-containing layer 6 contains fine particles having a refractive index higher than that of the organic resin material, and the light emitted from the light emitting layer of the organic compound layer 8 passes through the transparent electrode (anode) 7 to the surface of the reflecting plate 5. It is reflected, and the reflected light is scattered so that the light extraction efficiency can be improved.

<배면발광형 유기 EL 표시장치><Back-emitting organic EL display device>

배면발광형 유기 EL 표시장치에는, 예를 들면 도 2에 도시한 바와 같이 유기 기판(1)(굴절률: 약 1.5), 유리 기판(1) 상에 배치되고 SiN_x, SiON 등으로 이루어진 패시베이션층(2), 패시베이션층(2) 상에 배치되고 유기 수지 재료(굴절률: 약 1.5) 및 미립자(굴절률: 1.5 초과 등)로 이루어진 미립자 함유층(6), 미립자 함유층(6) 상에 배치되고 ITO 등으로 이루어진 투명 전극(애노드)(7)(굴절률: 약 1.9), 투명 전극(애노드)(7) 상에 배치되고 발광층 등을 포함하는 유기 화합물층(8)(굴절률: 약 1.8),, 유기 화합물층(8) 상에 배치되고 알루미늄, 은 등으로 이루어진 카운터 전극(캐소드)(20), 미립자 함유층(6) 상에 투명 전극(애노드)(7), 유기 화합물층(8) 및 카운터 전극(캐소드)(20)에 인접하도록 배치되고 아크릴 수지 등으로 이루어진 뱅크(10), 패시베이션층(2), 미립자 함유층(6), 투명 전극(애노드)(7), 유기 화합물층(8) 및 카운터 전극(캐소드)(20)을 밀봉하는 밀봉 유리(21), 및 밀봉 유리(21)의 내면 상에 유기 기판(1)과 대면하도록 세팅된 건조제(22)가 설치되어 있다. 그리고, 드라이 질소가 밀봉 유리(21)에 의해 밀봉된 밀봉 영역(23)에 도입된다.For example, as shown in FIG. 2, a back light-emitting organic EL display device includes a passivation layer formed on an organic substrate 1 (refractive index: about 1.5), a glass substrate 1 and made of SiN _x , SiON, or the like ( 2), disposed on the passivation layer 2 and disposed on the particulate-containing layer 6, the particulate-containing layer 6 made of an organic resin material (refractive index: about 1.5) and fine particles (refractive index: more than 1.5, etc.) and made of ITO or the like. A transparent electrode (anode) 7 (refractive index: about 1.9), an organic compound layer 8 (refractive index: about 1.8) disposed on the transparent electrode (anode) 7 and including a light emitting layer, and the organic compound layer 8 ), A counter electrode (cathode) 20 made of aluminum, silver, or the like, a transparent electrode (anode) 7, an organic compound layer 8, and a counter electrode (cathode) 20 on the particulate-containing layer 6. Bank 10, a passivation layer 2, a particulate-containing layer 6, which are disposed adjacent to and formed of an acrylic resin, or the like, The sealing glass 21 for sealing the bright electrode (anode) 7, the organic compound layer 8 and the counter electrode (cathode) 20, and the organic substrate 1 to face the inner surface of the sealing glass 21. The set desiccant 22 is installed. Then, dry nitrogen is introduced into the sealing region 23 sealed by the sealing glass 21.

미립자 함유층(6)은 유기 박막 트랜지스터(TFT)(4)를 평탄화시키기 위한 평탄화 막으로서도 기능한다.The fine particle containing layer 6 also functions as a planarization film for planarizing the organic thin film transistor (TFT) 4.

미립자 함유층(6)에는 투명 전극(애노드)(7)과 유기 박막 트랜지스터(4)가 서로 접속하도록 콘택트홀(14)이 형성되어 있다. The contact hole 14 is formed in the fine particle containing layer 6 so that the transparent electrode (anode) 7 and the organic thin film transistor 4 may mutually connect.

미립자 함유층(6)은 2㎛~10㎛의 얇은 두께를 갖기 때문에 콘택트홀(14)이 용이하게 형성될 수 있으므로 제조 비용을 절감할 수 있다.Since the fine particle-containing layer 6 has a thin thickness of 2 μm to 10 μm, the contact hole 14 can be easily formed, thereby reducing the manufacturing cost.

유기 EL 표시장치를 풀컬러로 제조하는 방법으로는, 예를 들면 Monthly Display, pp. 33-37(2000년 9월)에 기재된 바와 같이 기판 상에 색 중 3원색(청색(B), 녹색(G), 및 적색(R))에 대응하는 광을 방출하는 유기 EL 소자를 배열하는 3색 발광법, 백색 발광용 유기 EL 소자에 의한 백색 발광을 컬러필터를 통해 3색으로 분리하는 백색법, 및 청색 발광용 유기 EL 소자에 의한 청색 발광을 형광 색소층을 통해 적색(R) 및 녹색(G)으로 변색시키는 변색법이 공지되어 있다.As a method of manufacturing the organic EL display in full color, for example, Monthly Display, pp. Arranging organic EL elements emitting light corresponding to three primary colors (blue (B), green (G), and red (R)) of colors on a substrate as described in 33-37 (September 2000) The red color (R) and the white method for separating the white light emission by the three-color light emission method, the white light emission by the organic EL device for white light emission into three colors through the color filter, and the blue light emission by the organic EL device for the blue light emission through the fluorescent dye layer and It is known to change the color to green (G).

또한, 상기 방법에 의해 얻어질 수 있는 발광색이 다른 복수의 유기 EL 소자를 조합하여 사용함으로써, 소망의 발광색의 면광원을 얻을 수 있다. 예를 들면, 청색 발광장치와 황색 발광장치를 조합한 백색 발광원, 및 청색, 녹색 및 적색의 발광장치를 조합한 백색 발광원이 열거된다.In addition, by using a plurality of organic EL elements having different emission colors obtained by the above method in combination, a surface light source of a desired emission color can be obtained. For example, a white light emitting source combining a blue light emitting device and a yellow light emitting device, and a white light emitting source combining a blue, green, and red light emitting device are listed.

실시예Example

이하, 본 발명을 구체적 실시예를 참조하여 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명이 이것에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail with reference to a specific Example, this invention is not limited to this.

(실시예 1)(Example 1)

<미립자 분산액의 제조>Preparation of Particulate Dispersion

산화 아연(중량 평균 입경: 0.8㎛, 굴절률: 2.0, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. 제품)을 프로필렌글리콜 모노메틸아세테이트(PGMEA) 용매에 분체의 양이 30중량%가 되도록 첨가하고, 빙냉시키면서 초음파를 10분간 가하여 분산시켜 분산액을 제조했다. 얻어진 분산액을 농혼합형 입자 사이즈 분석기 FPAR-1000(Otsuka Electronics Co., Ltd. 제품)을 사용하여 분산 입자 사이즈 분포를 측정하고 피크치 1.1㎛의 단분산인 것을 알았다.Zinc oxide (weight average particle diameter: 0.8 mu m, refractive index: 2.0, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) is added to a propylene glycol monomethyl acetate (PGMEA) solvent so that the amount of powder is 30% by weight, and ultrasonically cooled with ice Was added for 10 minutes to disperse to prepare a dispersion. The obtained dispersion was measured for dispersion particle size distribution using a concentrated mixed particle size analyzer FPAR-1000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) and found to be monodispersed with a peak value of 1.1 µm.

<아크릴 수지 용액의 제조><Production of Acrylic Resin Solution>

아크릴 수지 용액으로서 메타크릴산-벤질메타크릴레이트 코폴리머의 용액(중량 평균 분자량: 약 10,000; 메타크릴산-벤질메타크릴레이트=3:7(몰비); 아크릴산 수지의 굴절률: 1.53; 고형분 함유량: 45%; 용매: 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, Fujikura Kasei Co., Ltd. 제품)을 제조했다.Solution of methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer as the acrylic resin solution (weight average molecular weight: about 10,000; methacrylic acid-benzyl methacrylate = 3: 7 (molar ratio); refractive index of the acrylic acid resin: 1.53; solid content: Solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.).

<미립자 함유층의 제조><Production of Particle-containing Layer>

미립자 분산액을 상기 아크릴 수지 용액에 교반하면서 첨가하고, 상기 수지에 대한 산화 아연 미립자의 체적 분율이 20%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 제조했다.A fine particle dispersion was added to the acrylic resin solution while stirring, to prepare a fine particle-containing layer forming liquid such that the volume fraction of the zinc oxide fine particles relative to the resin was 20%.

<유기 EL 표시장치의 제조><Production of Organic EL Display Device>

절연 기판(31)으로서의 유리 기판 상에 SiO₂ 막으로 이루어진 버퍼층(32)을 CVD법에 의해 형성하고, 상기 버퍼층(32) 상에 다결정 규소층을 CVD법에 의해 증착시키고, 이어서 섬 형상의 다결정 규소층(33)을 통상적으로 사용되는 광에칭법에 의해 형성하여 적층체를 형성했다(도 3a).A buffer layer 32 made of a SiO ₂ film is formed on the glass substrate as the insulating substrate 31 by CVD, and a polycrystalline silicon layer is deposited on the buffer layer 32 by CVD, followed by island-shaped polycrystals. The silicon layer 33 was formed by the photoetching method normally used, and the laminated body was formed (FIG. 3A).

이어서, 이렇게 형성된 적층체의 전면에 SiO₂ 막을 CVD법에 의해 증착한 후, AlNd 막을 스퍼터링에 의해 증착한 다음, SiO₂ 막과 AlNd 막의 패터닝을 통상적으로 사용되는 광에칭법에 의해 행하여 게이트 절연막(34)과 게이트 전극(35)을 형성했다(도 3b).Subsequently, an SiO ₂ film is deposited on the entire surface of the thus formed laminate by CVD method, and then an AlNd film is deposited by sputtering, and then patterning of the SiO ₂ film and AlNd film is performed by a photoetching method which is commonly used. 34) and the gate electrode 35 were formed (FIG. 3B).

다음에, 상기 섬 형상 다결정 규소층(33)에, 예를 들면 마스크로서 게이트 전극(35)을 사용하여 이온주입법에 의해 인 이온을 이온주입하여 섬 형상 다결정 규소층(33)에 있어서의 게이트 전극(35)의 양측 모두에 소오스 영역(36) 및 드레인 영역(37)을 형성하고, 섬 형상 다결정 규소층(33)의 나머지 부분은 채널층(38)으로서 제공했다(도 3c).Next, phosphorus ions are ion-implanted into the island-like polycrystalline silicon layer 33 by the ion implantation method using the gate electrode 35 as a mask, for example, and the gate electrode in the island-like polycrystalline silicon layer 33. The source region 36 and the drain region 37 were formed on both sides of the 35, and the remaining portion of the island-like polycrystalline silicon layer 33 was provided as the channel layer 38 (FIG. 3C).

다음에, SiN 막으로 이루어진 층간 절연막(39)을 적층체의 전면에 CVD법에 의해 증착한 후, 통상적으로 사용되는 광에칭법에 의해 콘택트홀(40, 41)을 소오스 영역(36) 및 드레인 영역(37) 각각에 도달하도록 형성했다(도 3d).Next, an interlayer insulating film 39 made of a SiN film is deposited on the entire surface of the laminate by CVD, and then the contact holes 40 and 41 are formed by the source etching 36 and the drain by the conventional photoetching method. It was formed so as to reach each of the regions 37 (FIG. 3D).

다음에, Al/Ti/Al로 이루어진 다층 전도성층을 적층체의 전면에 증착하고, 통상적으로 사용되는 광에칭법에 의해 패터닝을 행하여 소오스 전극(42) 및 드레인 전극(45)을 형성함으로써 유기 EL용 TFT 기판을 제조했다(도 4). 이렇게 제조된 유기 EL용 TFT 기판 상에 제조하여 둔 아크릴 수지를 스핀코팅에 의해 도포하여 두께 0.8㎛의 층간 절연층을 형성하고, 상기 층간 절연층 상에 스퍼터링에 의해 알루미늄을 증착하여 두께 10nm의 Al 반사판을 형성했다.Next, a multilayer conductive layer made of Al / Ti / Al is deposited on the entire surface of the laminate, and patterned by a photoetching method commonly used to form the source electrode 42 and the drain electrode 45 to form an organic EL. A TFT substrate was prepared (FIG. 4). The acrylic resin prepared on the TFT substrate for organic EL thus prepared was applied by spin coating to form an interlayer insulating layer having a thickness of 0.8 μm, and aluminum was deposited on the interlayer insulating layer by sputtering to form Al having a thickness of 10 nm. A reflector was formed.

또한, 상기 Al 반사판 상에 제조하여 둔 미립자 함유층 형성액을 스핀코팅에 의해 도포하여 두께 3㎛의 미립자 함유층을 형성했다. 상기 미립자 함유층, Al 반사판 및 층간 절연층에 콘택트홀(유기 박막 트랜지스터(TFT) 및 후술하는 ITO 전극(애노드)을 접속함)을 형성한 다음, 적층체의 표면 상에 ITO(굴절률: 약 1.9)를 증착하여 두께 100nm의 ITO 전극(애노드)을 형성했다.Further, the fine particle-containing layer forming solution prepared on the Al reflector was applied by spin coating to form a fine particle-containing layer having a thickness of 3 µm. A contact hole (connecting an organic thin film transistor (TFT) and an ITO electrode (anode) to be described later) was formed in the particulate-containing layer, the Al reflector and the interlayer insulating layer, and then ITO (refractive index: about 1.9) on the surface of the laminate. Was deposited to form an ITO electrode (anode) having a thickness of 100 nm.

또한, 상기 ITO 전극(애노드) 상에 유기 화합물층(정공 주입층, 정공 전송층, 발광층 및 전자 주입층)을 이 순서로 형성했다. 우선, 2-TNATA[4,4',4"-트리스(2-나프틸페닐아미노)트리페닐아민]을 두께 50nm로 증착하여 정공 전송층을 형성했다.Further, an organic compound layer (hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, and electron injection layer) was formed on this ITO electrode (anode) in this order. First, 2-TNATA [4,4 ', 4 "-tris (2-naphthylphenylamino) triphenylamine] was deposited to a thickness of 50 nm to form a hole transport layer.

또한, 정공 주입층 상에 α-NPD[N,N'-(디나프틸페닐아미노)피렌]을 두께 50nm로 증착하여 정공 전송층을 형성했다. 또한, 정공 전송층 상에 Alq3[8-퀴놀리놀-알루미늄 착체]를 두께 50nm로 증착하여 발광층을 형성했다. 최후로, 발광층 상에 피리딘 유도체를 두께 25nm로 증착하여 전자 주입층을 형성했다.Further, α-NPD [N, N '-(dinaphthylphenylamino) pyrene] was deposited to a thickness of 50 nm on the hole injection layer to form a hole transport layer. Further, Alq3 [8-quinolinol-aluminum complex] was deposited to a thickness of 50 nm on the hole transport layer to form a light emitting layer. Finally, a pyridine derivative was deposited to a thickness of 25 nm on the light emitting layer to form an electron injection layer.

그 후, 반투과형 캐소드(Al 전극과 Ag 전극)를 이 순서로 증착에 의해 형성했다.Thereafter, a semi-transmissive cathode (Al electrode and Ag electrode) was formed in this order by vapor deposition.

우선, Al 전극을 두께 100nm로 알루미늄을 증착시켜 형성하고, 은을 두께 100nm로 더 증착시켰다.First, an Al electrode was formed by depositing aluminum with a thickness of 100 nm, and silver was further deposited with a thickness of 100 nm.

또한, SiON을 증착시켜 두께 25㎛의 밀봉층을 형성했다. 이 밀봉층 상에 광경화형 에폭시 접착제를 도포하여 두께 100nm의 접착제층을 형성하고, 이 밀봉용 접착제층 상에 유기 기판을 설치함으로써 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다.In addition, SiON was deposited to form a sealing layer having a thickness of 25 μm. The photocurable epoxy adhesive was apply | coated on this sealing layer, the adhesive layer of thickness 100nm was formed, and the organic light emitting type organic electroluminescence display was manufactured by providing an organic substrate on this sealing adhesive layer.

이렇게 제조된 유기 EL 표시장치의 전체 픽셀을 턴온(turn on)하고, 결함 픽셀이 있는지의 여부를 평가했다. 그 결과는 하기 5등급에 따라 평가했다: 결함 픽셀이 전혀 포함되어 있지 않은 경우를 "1"; 전체 픽셀에 대한 결함 픽셀의 비율이 0% 초과 5% 미만인 경우를 "2"; 전체 픽셀에 대한 결함 픽셀의 비율이 5% 이상 10% 미만인 경우를 "3"; 전체 픽셀에 대한 결함 픽셀의 비율이 10% 이상 50% 미만인 경우를 "4"; 전체 픽셀에 대한 결함 픽셀의 비율이 50% 이상인 경우를 "5"로 했다. 그 평가 결과를 표 1에 나타낸다.All the pixels of the organic EL display thus manufactured were turned on to evaluate whether there were any defective pixels. The results were evaluated according to the following five grades: "1" in which no defective pixel was included at all; &Quot; 2 " when the ratio of defective pixels to total pixels is greater than 0% and less than 5%; &Quot; 3 " when the ratio of defective pixels to total pixels is not less than 5% and less than 10%; &Quot; 4 " when the ratio of defective pixels to total pixels is not less than 10% and less than 50%; The case where the ratio of the defective pixel with respect to all the pixels was 50% or more was made into "5". The evaluation results are shown in Table 1.

<전체 광강도의 측정><Measurement of total light intensity>

상기 제조된 유기 EL 표시장치에 광센서를 구비한 적분구 장치를 장착했다. 그 다음, 유기 EL 표시장치에 5V 전압을 인가하여 발광시키고, 그 광추출면에서 방출된 광의 전체량을 측정했다. 구체적으로, 상대 전체 광강도(후술하는 비교예 1의 유기 EL 표시장치의 전체 광량을 "1"이라고 했을 때의 전체 광강도)를 서로 비교했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.An integrating sphere device equipped with an optical sensor was attached to the organic EL display device manufactured above. Then, a 5V voltage was applied to the organic EL display device to emit light, and the total amount of light emitted from the light extraction surface was measured. Specifically, relative total light intensities (total light intensities when the total amount of light in the organic EL display device of Comparative Example 1 described later is "1") were compared with each other. The results are shown in Table 1.

<화상 블리딩 평가><Image Bleeding Evaluation>

상기 제조된 유기 EL 표시장치의 스크린 상에 화상 및 글자를 표시시키고, 화상 블리딩 레벨을 목시로 관찰하고 하기 기준에 따라 평가했다. 평과 결과를 표 1에 나타낸다.Images and letters were displayed on the screen of the organic EL display device manufactured above, and the image bleeding level was visually observed and evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 1.

<<평가 기준>><< evaluation criteria >>

ㆍ화상 블리딩이 전혀 관찰되지 않음: 1No image bleeding observed: 1

ㆍ화상 블리딩이 거의 관찰되지 않음: 2Almost no image bleeding is observed: 2

ㆍ화상 블리딩이 약간 관찰됨: 3Image bleeding slightly observed: 3

ㆍ화상 블리딩이 관찰됨: 4Image bleeding observed: 4

ㆍ화상 블리딩이 관찰되었고 가시성이 심각하게 열화되었음: 5Image bleeding was observed and visibility was severely degraded: 5

(비교예 1)(Comparative Example 1)

미립자 함유층 형성액으로서 미립자 분산액이 첨가된 아크릴 수지 용액을 사용하는 대신에 미립자 분산액을 첨가하지 않고 제조한 아크릴 수지 용액을 직접 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩의 평가를 행했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.A front light emitting organic EL display device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the acrylic resin solution prepared without adding the fine particle dispersion was used instead of using the acrylic resin solution containing the fine particle dispersion as the fine particle containing layer forming liquid. did. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding were evaluated for the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 1.

(실시예 2)(Example 2)

10분간 초음파 분산을 행한 단분산 미립자 분산액(분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 1.1㎛)을 사용하는 대신에 10분간 초음파 분산을 행하지 않은 다분산 미립자 분산액(분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 2.8㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 전면노광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩의 평가를 행했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Instead of using the monodisperse fine particle dispersion (measured peak value of the dispersed particle size distribution: 1.1 μm) which was ultrasonically dispersed for 10 minutes, the polydisperse fine particle dispersion (measured peak value of the dispersed particle size distribution: 2.8 μm) which was not ultrasonically dispersed for 10 minutes. A front exposure type organic EL display device was manufactured in the same manner as in Example 1 except for using. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding were evaluated for the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 1.

(실시예 3)(Example 3)

산화 아연(중량 평균 입경: 0.8㎛, 굴절률: 2.0, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 1.1㎛)을 사용하여 산화 아연 미립자의 체적 분율이 20%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 형성하여 두께 3㎛의 미립자 함유층을 형성하는 것 대신에 멜라민(중량 평균 입경: 2.0㎛, 굴절률: 1.65, Nissan Chemical Industries Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 2.3㎛)을 사용하여 수지에 대한 멜라민 미립자 체적 분율이 15%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 형성하여 두께 10㎛의 미립자 함유층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Volume of the zinc oxide fine particles using a fine particle dispersion (monodispersion, measured peak value of dispersed particle size distribution: 1.1 μm) of zinc oxide (weight average particle diameter: 0.8 μm, refractive index: 2.0, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.). A fine particle dispersion of melamine (weight average particle diameter: 2.0 μm, refractive index: 1.65, manufactured by Nissan Chemical Industries Ltd.) instead of forming a fine particle containing layer forming liquid so that the fraction is 20%, thereby forming a fine particle containing layer having a thickness of 3 μm. Measurement peaks of the dispersed and dispersed particle size distribution: 2.3 µm), except that the particulate-containing layer forming liquid was formed so that the volume fraction of melamine fine particles to the resin was 15% to form a particulate-containing layer having a thickness of 10 µm. In the same manner, a front light emitting organic EL display device was manufactured. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 1.

(실시예 4)(Example 4)

산화 아연(중량 평균 입경: 0.8㎛, 굴절률: 2.0, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 1.1㎛)을 사용하고, 아크릴 수지 용액으로서 메타크릴산-벤질메타크릴레이트 코폴리머의 용액(중량 평균 분자량: 약 10,000; 메타크릴산-벤질메타크릴레이트=3:7(몰비); 아크릴산 수지의 굴절률: 1.53; 고형분 함유량: 45%; 용매: 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, Fujikura Kasei Co., Ltd. 제품)을 제조하여 산화 아연 미립자의 체적 분율이 20%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 형성하여 두께 3㎛의 미립자 함유층을 형성하는 것 대신에, 지르코니아(중량 평균 입경: 0.6㎛, 굴절률: 2.3, Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 0.7㎛)을 사용하고, 아크릴 수지 용액으로서 폴리이미드 수지 용액(고형분 함유량: 45%; 용매: 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, Fujikura Kasei Co., Ltd. 제품)을 제조하여 지르코니아 미립자의 체적 분율이 10%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 형성하여 두께 2㎛의 미립자 함유층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.As an acrylic resin solution, a fine particle dispersion (monodispersion, measured peak value of dispersed particle size distribution: 1.1 μm) of zinc oxide (weight average particle diameter: 0.8 μm, refractive index: 2.0, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was used. Solution of methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer (weight average molecular weight: about 10,000; methacrylic acid-benzyl methacrylate = 3: 7 (molar ratio); refractive index of acrylic acid resin: 1.53; solid content: 45%; solvent : Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), instead of forming a fine particle containing layer forming liquid such that the volume fraction of the zinc oxide fine particles is 20% to form a fine particle containing layer having a thickness of 3 탆. And acrylic resin using a fine particle dispersion (monodispersion, measured peak value of dispersed particle size distribution: 0.7 μm) of zirconia (weight average particle diameter: 0.6 μm, refractive index: 2.3, manufactured by Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd.). A polyimide resin solution (solid content: 45%; solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was prepared as a solution to form a fine particle-containing layer forming liquid such that the volume fraction of zirconia fine particles was 10%. To produce a front-emitting organic EL display device in the same manner as in Example 1, except that a fine particle-containing layer having a thickness of 2 μm was formed. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 1.

상기 폴리이미드 수지는 폴리이미드 전구체로부터 얻어졌으며, 폴리이미드 전구체의 합성은 하기 과정에 따라 행했다.The polyimide resin was obtained from a polyimide precursor, and the synthesis of the polyimide precursor was performed according to the following procedure.

N,N-디메틸아세토아미드(DMAc)(40mL)에 4,4'-디아미노디페닐에테르(DDE)(4.9g)를 용해시켜서 제조한 용액에 피로멜리트산 이무수물(PMDA)의 등몰의 분말(5.5g)을 서서히 첨가하고 약 3시간 교반하여 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산(PAA)을 얻었다.Equimolar powder of pyromellitic dianhydride (PMDA) in a solution prepared by dissolving 4,4'-diaminodiphenyl ether (DDE) (4.9 g) in N, N-dimethylacetoamide (DMAc) (40 mL). (5.5g) was added gradually and it stirred for about 3 hours, and obtained polyamic acid (PAA) which is a precursor of polyimide.

(실시예 5)(Example 5)

미립자 함유층 형성액을 수지에 대한 지르코니아 미립자의 체적 분율이 10%가 되도록 제조하고, 두께 0.8㎛의 층간 절연층을 형성하고, 두께 2㎛의 미립자 함유층을 형성하는 것 대신에, 미립자 함유층 형성액을 수지에 대한 지르코니아 미립자의 체적 분율이 8%가 되도록 제조하고, 두께 1.0㎛의 층간 절연층을 형성하고, 두께 5㎛의 미립자 함유층을 형성한 것 이외에는 실시예 4와 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.The microparticle-containing layer-forming liquid was prepared so that the volume fraction of the zirconia microparticles relative to the resin was 10%, to form an interlayer insulating layer having a thickness of 0.8 µm, and to form a microparticle-containing layer having a thickness of 2 µm. The front-emitting organic EL was manufactured in the same manner as in Example 4, except that the volume fraction of the zirconia fine particles relative to the resin was 8%, the interlayer insulating layer having a thickness of 1.0 μm was formed, and the fine particle containing layer having a thickness of 5 μm was formed. The display device was manufactured. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 1.

(실시예 6)(Example 6)

수지에 대한 지르코니아 미립자의 체적 분율이 10%가 되도록 지르코니아(중량 평균 입경: 0.6㎛, 굴절률: 2.3, Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 0.7㎛)을 사용하여 두께 2㎛의 미립자 함유층을 형성하는 것 대신에, 벤조구아나민(중량 평균 입경: 0.55㎛, 굴절률: 1.66, Nippon Shokubai Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 0.55㎛)을 사용하여 수지에 대한 벤조구아나민 미립자의 체적 분율이 17%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 제조하여 두께 5㎛의 미립자 함유층을 형성한 것 이외에는 실시예 4와 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Measurement of the fine particle dispersion (monodispersion, dispersed particle size distribution) of zirconia (weight average particle diameter: 0.6 micrometer, refractive index: 2.3, Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. product) so that the volume fraction of zirconia microparticles | fine-particles may be 10% with respect to resin. Instead of forming a fine particle-containing layer having a thickness of 2 μm using a peak value of 0.7 μm, a fine particle dispersion of benzoguanamine (weight average particle diameter: 0.55 μm, refractive index: 1.66, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) Measurement and measurement of the dispersed and dispersed particle size distribution peak value: 0.55 µm), except that a particulate-containing layer-forming liquid was prepared so that the volume fraction of benzoguanamine fine particles to the resin was 17% to form a particulate-containing layer having a thickness of 5 µm. A front light emitting organic EL display device was manufactured in the same manner as in Example 4. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 2.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

수지에 대한 지르코니아 미립자의 체적 분율이 10%가 되도록 지르코니아(중량 평균 입경: 0.6㎛, 굴절률: 2.3, Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 0.7㎛)을 사용하여 두께 2㎛의 미립자 함유층을 형성하는 것 대신에, 실리카(중량 평균 입경: 1.0㎛, 굴절률: 1.43, Nippon Shokubai Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 1.0㎛)을 사용하여 수지에 대한 실리카 미립자의 체적 분율이 15%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 제조하여 두께 4㎛의 미립자 함유층을 형성한 것 이외에는 실시예 4와 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Measurement of the fine particle dispersion (monodispersion, dispersed particle size distribution) of zirconia (weight average particle diameter: 0.6 micrometer, refractive index: 2.3, Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. product) so that the volume fraction of zirconia microparticles | fine-particles may be 10% with respect to resin. A fine particle dispersion (monodispersion) of silica (weight average particle diameter: 1.0 μm, refractive index: 1.43, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) instead of forming a fine particle containing layer having a thickness of 2 μm using a peak value of 0.7 μm. Measurement peak value of the dispersed particle size distribution: 1.0 mu m) was prepared in the same manner as in Example 4 except that a fine particle containing layer forming liquid was prepared so that the volume fraction of silica fine particles relative to the resin was 15%. The front emission type organic EL display device was manufactured by the method. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 2.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 4의 유기 EL 표시장치의 제조과정을 후술하는 제조과정으로 변경하여 배면발광형 유기 EL 표시장치를 제조한 것 이외에는 실시예 4와 동일한 방법으로 배면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.A rear light emitting organic EL display device was manufactured in the same manner as in Example 4 except that the manufacturing process of the organic EL display device of Example 4 was changed to a manufacturing process to be described later to produce a back light emitting organic EL display device. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 2.

<유기 EL 표시장치의 제조><Production of Organic EL Display Device>

다음에, Al/Ti/Al로 이루어진 다층 전도성층을 적층체의 전면에 증착하고, 통상적으로 사용되는 광에칭법에 의해 패터닝을 행하여 소오스 전극(42) 및 드레인 전극(45)을 형성함으로써 유기 EL용 TFT 기판을 제조했다(도 4). 이렇게 제조된 유기 EL용 TFT 기판 상에 제조하여 둔 미립자 함유층 형성액을 스핀코팅에 의해 도포하여 두께 2㎛의 미립자 함유층을 형성했다. 상기 미립자 함유층에 콘택트홀(유기 박막 트랜지스터(TFT)와 후술하는 ITO 전극(애노드)을 접속함)을 형성하고, 적층체의 표면 상에 ITO(굴절률: 약 1.9)를 증착하여 두께 100nm의 ITO 전극(애노드)을 형성했다.Next, a multilayer conductive layer made of Al / Ti / Al is deposited on the entire surface of the laminate, and patterned by a photoetching method commonly used to form the source electrode 42 and the drain electrode 45 to form an organic EL. A TFT substrate was prepared (FIG. 4). The fine particle-containing layer forming solution prepared on the TFT substrate for organic EL thus produced was applied by spin coating to form a fine particle-containing layer having a thickness of 2 μm. A contact hole (connecting an organic thin film transistor (TFT) and an ITO electrode (anode) to be described later) is formed in the fine particle-containing layer, and ITO (refractive index: about 1.9) is deposited on the surface of the laminate to deposit an ITO electrode having a thickness of 100 nm. Formed the (anode).

또한, 상기 ITO 전극(애노드) 상에 유기 화합물층(정공 주입층, 정공 전송층, 발광층 및 전자 주입층)을 이 순서로 형성했다. 우선, 2-TNATA[4,4',4"-트리스(2-나프틸페닐아미노)트리페닐아민]을 두께 50nm로 증착하여 정공 전송층을 형성했다. 또한, 정공 주입층 상에 α-NPD[N,N'-(디나프틸페닐아미노)피렌]을 두께 50nm로 증착하여 정공 전송층을 형성했다. 또한, 정공 전송층 상에 Alq3[8-퀴놀리놀-알루미늄 착체]를 두께 50nm로 증착하여 발광층을 형성했다. 최후로, 발광층 상에 피리딘 유도체를 두께 25nm로 증착하여 전자 주입층을 형성했다.Further, an organic compound layer (hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, and electron injection layer) was formed on this ITO electrode (anode) in this order. First, 2-TNATA [4,4 ', 4 "-tris (2-naphthylphenylamino) triphenylamine] was deposited to a thickness of 50 nm to form a hole transport layer. Further, α-NPD was formed on the hole injection layer. [N, N '-(dinaphthylphenylamino) pyrene] was deposited to a thickness of 50 nm to form a hole transport layer, and Alq3 [8-quinolinol-aluminum complex] to a thickness of 50 nm on the hole transport layer. The light emitting layer was formed by vapor deposition Finally, a pyridine derivative was deposited to a thickness of 25 nm on the light emitting layer to form an electron injection layer.

그 후, 캐소드(Al 전극과 Ag 전극)를 이 순서로 증착에 의해 형성했다.Thereafter, cathodes (Al electrodes and Ag electrodes) were formed in this order by vapor deposition.

또한, 건조제가 부착된 밀봉 유리를 제공하여 적층체를 밀봉하고, 드라이 질소를 밀봉 영역에 도입함으로써 배면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 이 배면발광형 유기 EL 표시장치를 사용한 평가 시험 결과를 표 2에 나타낸다.Furthermore, a back light-emitting organic EL display device was manufactured by providing a sealing glass with a desiccant, sealing the laminate, and introducing dry nitrogen into the sealing region. Table 2 shows the results of the evaluation test using this rear light emitting organic EL display device.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

미립자 함유층 형성액으로서 미립자 분산액이 첨가된 폴리이미드 수지 용액을 사용하는 대신에 미립자 분산액을 첨가하지 않고 제조한 폴리이미드 수지 용액을 직접 사용한 것 이외에는 실시예 7과 동일한 방법으로 배면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 이미지 블리딩을 평가했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Back-emitting organic EL display device in the same manner as in Example 7, except that the polyimide resin solution prepared without adding the fine particle dispersion was used instead of using the polyimide resin solution to which the fine particle dispersion was added as the fine particle-containing layer forming liquid. Prepared. The organic EL display device obtained was then evaluated for TFT driving, total light intensity, and image bleeding. The evaluation results are shown in Table 2.

(실시예 8)(Example 8)

산화 아연(중량 평균 입경: 0.8㎛, 굴절률: 2.0, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액을 사용하고, 아크릴 수지 용액으로서 메타크릴산-벤질메타크릴레이트 코폴리머의 용액(중량 평균 분자량: 약 10,000; 메타크릴산-벤질메타크릴레이트=3:7(몰비); 아크릴산 수지의 굴절률: 1.53; 고형분 함유량: 45%; 용매: 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, Fujikura Kasei Co., Ltd. 제품)을 제조하고, 아크릴 수지에 대한 산화 아연 미립자의 체적 분율이 20%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 제조하여 두께 0.8㎛의 층간 절연층을 형성하고 두께 3㎛의 미립자 함유층을 형성하는 것 대신에, 산화 티타늄(중량 평균 입경: 0.5㎛, 굴절률: 2.6, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. 제품)의 미립자 분산액(단분산, 분산 입자 사이즈 분포의 측정 피크치: 0.7㎛)을 사용하고, 폴리페닐렌에테르 수지 용액을 제조하고, 상기 폴리페닐렌에테르 수지에 대한 산화 티타늄 미립자의 체적 분율이 10%가 되도록 미립자 함유층 형성액을 제조하여 두께 1㎛의 층간 절연층을 형성하고 두께 2㎛의 미립자 함유층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 전면발광형 유기 EL 표시장치를 제조했다. 그 다음, 얻어진 유기 EL 표시장치를 TFT 구동, 전체 광강도 및 화상 블리딩 평가를 행했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.A solution of a methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer (weight average) using a fine particle dispersion of zinc oxide (weight average particle diameter: 0.8 mu m, refractive index: 2.0, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), as an acrylic resin solution Molecular weight: about 10,000; methacrylic acid-benzylmethacrylate = 3: 7 (molar ratio); refractive index of acrylic acid resin: 1.53; solid content: 45%; solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate, Fujikura Kasei Co., Ltd. Product) and prepare a particulate-containing layer forming liquid such that the volume fraction of the zinc oxide fine particles relative to the acrylic resin is 20% to form an interlayer insulating layer having a thickness of 0.8 mu m and a fine particle containing layer having a thickness of 3 mu m. And polyphenyl using a fine particle dispersion (monodispersion, measured peak value of dispersed particle size distribution: 0.7 μm) of titanium oxide (weight average particle diameter: 0.5 μm, refractive index: 2.6, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) An ether resin solution was prepared, and a fine particle containing layer forming solution was prepared such that the volume fraction of the titanium oxide fine particles relative to the polyphenylene ether resin was 10% to form an interlayer insulating layer having a thickness of 1 μm, and the fine particle containing layer having a thickness of 2 μm. A light emitting organic EL display device was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the formation. Next, TFT drive, total light intensity, and image bleeding evaluation were performed on the obtained organic EL display device. The evaluation results are shown in Table 2.

상기 폴리페닐렌에테르 수지 용액의 제조는 하기 방법에 의해 행해진다.Preparation of the said polyphenylene ether resin solution is performed by the following method.

우선, 6.0mL 톨루엔에 3-메틸카테콜(4.96g) 및 디히드로피란(1.81mL)을 용해하고, 반응계를 0~5℃의 온도로 유지하면서 피리디늄 p-톨루엔술포네이트 0.025g을 첨가했다. 반응계를 수분간 교반한 후, 반응계에 톨루엔 2.0mL에 용해시킨 디히드로피란 3.62mL를 서서히 적하했다. 또한, 이것에 피리디늄 p-톨루엔 술포네이트 0.025g을 첨가하고, 반응계를 질소 분위기하 실온에서 1시간 교반했다. 반응용액을 60mL로 희석하고 0.2% 수산화 나트륨 수용액으로 세정하여 에테르층을 얻었다. 형성된 에테르층을 황산 나트륨으로 건조하여 에테르 성분을 증류제거했다. 남겨진 무색의 유상 물질을 컬럼 크로마토그래피(실리카겔, 톨루엔)에 의해 정제하여 2-(테트라히드로피란-일)옥시-6-메틸페놀을 얻었다.First, 3-methylcatechol (4.96 g) and dihydropyran (1.81 mL) were dissolved in 6.0 mL toluene, and 0.025 g of pyridinium p-toluenesulfonate was added while maintaining the reaction system at a temperature of 0 to 5 ° C. . After stirring a reaction system for several minutes, 3.62 mL of dihydropyrans melt | dissolved in 2.0 mL of toluene was dripped gradually. Furthermore, 0.025 g of pyridinium p-toluene sulfonate was added to this, and the reaction system was stirred at room temperature under nitrogen atmosphere for 1 hour. The reaction solution was diluted with 60 mL and washed with 0.2% aqueous sodium hydroxide solution to obtain an ether layer. The ether layer formed was dried over sodium sulfate to distill off the ether component. The colorless oily substance remaining was purified by column chromatography (silica gel, toluene) to give 2- (tetrahydropyran-yl) oxy-6-methylphenol.

다음에, 0.030g 염화 제 1 동에 0.1mL 피리딘을 첨가하고, 질소 분위기 하에서 교반하여 동(II)-피리딘 착체 용액을 얻었다. 이 용액에 2-(테트라히드로피란-2-일)옥시-6-메틸페놀과 2,6-크실레놀 합계량 6.0mmol(몰비: 75:25), 및 톨루엔과 혼합된 황산 나트륨 50mL를 첨가하고 실온에서 2시간 반응시켰다. 반응 종료시, 반응용액을 메탄올에 투입하여 갈색 침전물을 얻었다. 이 침전물을 여과한 후 테트라히드로푸란에 용해시켰다. 침전물에 미량의 염산을 첨가하여 탈보호했다. 또한, 상기 침전물을 염산 수용액에 투입하여 침전물을 얻었다. 그 다음, 이 침전물을 여과하고 물로 세정하여 폴리페닐렌에테르 수지(중량 평균 분자량: 23,000, 굴절률: 1.64)를 얻었다.Next, 0.1 mL pyridine was added to 0.030 g of copper chloride, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere to obtain a copper (II) -pyridine complex solution. To this solution was added 6.0 mmol (molar ratio: 75:25) of 2- (tetrahydropyran-2-yl) oxy-6-methylphenol and 2,6-xylenol, and 50 mL of sodium sulfate mixed with toluene. The reaction was carried out at room temperature for 2 hours. At the end of the reaction, the reaction solution was poured into methanol to obtain a brown precipitate. This precipitate was filtered off and dissolved in tetrahydrofuran. The precipitate was deprotected by addition of traces of hydrochloric acid. In addition, the precipitate was added to an aqueous hydrochloric acid solution to obtain a precipitate. This precipitate was then filtered and washed with water to obtain a polyphenylene ether resin (weight average molecular weight: 23,000, refractive index: 1.64).

30질량부의 폴리페닐렌에테르 수지를 시클로헥사논(Kanto Kagaku K.K. 제품) 70질량부에 용해시켜 폴리페닐렌에테르 수지 용액을 제조했다.30 mass parts polyphenylene ether resin was melt | dissolved in 70 mass parts of cyclohexanone (made by Kanto Kagaku K.K.), and the polyphenylene ether resin solution was produced.

표 1 및 표 2에 나타낸 결과로부터, 미립자 함유층의 유기 수지 재료의 굴절률은 투명 전극(ITO 애노드)의 굴절률 약 1.9 보다 낮은 1.53~1.64이고, 미립자 함유층의 미립자의 굴절률은 유기 수지 재료의 굴절률 1.53~1.64 보다 높은 1.65~2.6이고, 또한 미립자 함유층의 중량 평균 입경 및 두께가 각각 0.5㎛~5㎛, 2㎛~10㎛인 실시예 1~8의 유기 EL 표시장치는 미립자 함유층이 제공되지 않은 비교예 1 및 3의 유기 EL 표시장치와 미립자 함유층 중의 미립자의 굴절률이 유기 수지 재료의 굴절률보다 낮은 비교예 2의 유기 EL 표시장치와 비교하여 광추출 효율(전체 광강도)이 향상된 것을 알 수 있다.From the results shown in Table 1 and Table 2, the refractive index of the organic resin material of the fine particle-containing layer is 1.53 to 1.64 lower than the refractive index of about 1.9 of the transparent electrode (ITO anode), and the refractive index of the fine particles of the fine particle-containing layer is 1.53 to The organic EL display device of Examples 1 to 8, which is 1.65 to 2.6 higher than 1.64, and whose weight average particle diameter and thickness of the fine particle containing layer are 0.5 μm to 5 μm and 2 μm to 10 μm, respectively, is a comparative example in which the fine particle containing layer is not provided. It can be seen that the light extraction efficiency (total light intensity) is improved compared to the organic EL display device of Comparative Example 2 in which the refractive indexes of the organic EL displays 1 and 3 and the fine particles in the fine particle-containing layer are lower than the refractive indexes of the organic resin material.

또한, 측정된 미립자의 분산 입자 사이즈가 단분산인 실시예 1, 2 및 4~8의 유기 EL 표시장치가 측정된 미립자의 분산 입자 사이즈가 다분산인 실시예 3의 유기 EL 표시장치보다 광추출 효율(전체 광강도)이 더욱 향상되었으며 화상 블리딩의 평가 결과가 더욱 우수한 것을 알 수 있다.In addition, the organic EL display device of Examples 1, 2 and 4 to 8 in which the measured particle size of the dispersed particles was monodisperse was light extracted from the organic EL display device of Example 3, wherein the measured particle size of the dispersed particles was polydisperse. It can be seen that the efficiency (total light intensity) is further improved and the evaluation result of the image bleeding is better.

본 발명의 유기 EL 표시장치는 광추출 효율을 향상시킬 수 있고, 휘도를 갖고, 또한 배면발광형 유기 EL 표시장치와 전면발광형 유기 EL 표시장치 모두에 대해 적합하다. 예를 들면 유기 EL 조명 등에 적합하게 사용된다.The organic EL display device of the present invention can improve light extraction efficiency, has brightness, and is suitable for both a back light emitting organic EL display device and a top light emitting organic EL display device. For example, it is used suitably for organic electroluminescent illumination.

Claims

투명 전극, 카운터 전극, 및 상기 투명 전극과 카운터 전극 사이에 형성된 유기 화합물층을 포함하는 유기 EL 소자로서, 상기 유기 화합물층은 발광층을 포함하는 유기 EL 소자; 및
상기 발광층으로부터 방출된 광의 광로에 상기 투명 전극에 인접하여 위치한 미립자 함유층을 포함하는 유기 EL 표시장치로서:
상기 미립자 함유층은 투명 전극의 굴절률 이하의 굴절률을 갖는 유기 수지 재료, 및 상기 유기 수지 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖고 중량 평균 입경이 0.5㎛~5㎛인 미립자를 함유하고, 상기 미립자 함유층의 두께는 2㎛~10㎛인 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.An organic EL device comprising a transparent electrode, a counter electrode, and an organic compound layer formed between the transparent electrode and the counter electrode, wherein the organic compound layer comprises an organic EL device; And
An organic EL display device comprising a fine particle containing layer located adjacent to the transparent electrode in an optical path of light emitted from the light emitting layer:
The particulate-containing layer contains an organic resin material having a refractive index equal to or less than the refractive index of the transparent electrode, and fine particles having a refractive index higher than that of the organic resin material and having a weight average particle diameter of 0.5 µm to 5 µm, and the thickness of the particulate-containing layer is It is 2 micrometers-10 micrometers, The organic electroluminescence display characterized by the above-mentioned.

제 1 항에 있어서,
상기 미립자 함유층 중의 미립자는 1차 입자인 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The method of claim 1,
The fine particles in the fine particle-containing layer are primary particles.

제 1 항에 있어서,
상기 미립자 함유층은 미립자 분산제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The method of claim 1,
The fine particle containing layer further contains a fine particle dispersant.

제 1 항에 있어서,
상기 투명 전극이 설치된 표면 반대측의 미립자 함유층 표면에 배치된 반사판, 상기 미립자 함유층에 인접한 표면 반대측의 반사판 표면에 배치된 층간 절연층, 및 상기 반사판에 인접한 표면 반대측의 층간 절연층 표면에 배치된 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The method of claim 1,
A reflection plate disposed on the surface of the particle-containing layer opposite to the surface on which the transparent electrode is installed, an interlayer insulation layer disposed on the surface of the reflection plate opposite to the surface adjacent to the particle-containing layer, and a substrate disposed on the surface of the interlayer insulation layer opposite the surface adjacent to the reflection plate. An organic EL display device further comprising.

제 1 항에 있어서, 상기 투명 전극이 설치된 표면 반대측의 미립자 함유층 표면에 배치된 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The organic EL display device according to claim 1, further comprising a substrate disposed on the surface of the fine particle containing layer on the opposite side of the surface on which the transparent electrode is provided.

제 4 항에 있어서,
패시베이션층 상에 배치된 유기 박막 트랜지스터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The method of claim 4, wherein
And an organic thin film transistor disposed on the passivation layer.

제 6 항에 있어서,
상기 유기 EL 표시장치의 구동방식은 박막 트랜지스터 구동인 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The method according to claim 6,
The organic EL display device is characterized in that the driving method of the organic EL display device is thin film transistor driving.

제 6 항에 있어서,
상기 미립자 함유층에는 상기 투명 전극과 상기 유기 박막 트랜지스터를 접속시키기 위해 콘택트홀이 형성된 것을 특징으로 하는 유기 EL 표시장치.The method according to claim 6,
And a contact hole in the fine particle containing layer to connect the transparent electrode and the organic thin film transistor.