JP2010102918A - Light-emitting element, and display equipped with light-emitting element - Google Patents

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Yoshihisa Usami
由久 宇佐美
Masami Hatori
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting element capable of easily improving the light extraction efficiency, and provide a display equipped with the light-emitting element. <P>SOLUTION: The light-emitting element 10 is composed of a light-emitting layer 11 formed on a reference plane, and equipped with an optically-transparent layer 12 including the light-emitting layer to emit light from a light emission face nearly parallel to the reference plane, and protruding parts 13 formed on the optically-transparent layer. A refractive index of the protruding parts is 0.9 times or more of that of the light-emitting layer. The sum of areas of faces nearly orthogonal to the reference planes of the protruding parts is 0.01 times or more of that of the areas of the faces nearly orthogonal to the reference plane of the optically-transparent layer including the light-emitting layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光素子及び該発光素子を備えるディスプレイに関し、特に、有機電界発光素子（有機ＥＬ素子）、無機電界発光素子（無機ＥＬ素子）、及びＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）などの発光素子及び該発光素子を備えるディスプレイに関する。   The present invention relates to a light emitting element and a display including the light emitting element, and in particular, a light emitting element such as an organic electroluminescent element (organic EL element), an inorganic electroluminescent element (inorganic EL element), and an LED (Light Emitting Diode), and the The present invention relates to a display including a light emitting element.

例えば、図１３に示すような有機ＥＬ素子１０５において、反射層１０１上に形成されたＥＬ発光層１０２から光を取り出そうとするとき、ＥＬ発光層１０２と封止層１０３との界面、乃至、封止層１０３と外部１０４との界面で光が反射してしまい、外部への光取出し効率が低下することが知られている。   For example, in the organic EL element 105 as shown in FIG. 13, when light is extracted from the EL light emitting layer 102 formed on the reflective layer 101, the interface between the EL light emitting layer 102 and the sealing layer 103, or the sealing. It is known that light is reflected at the interface between the stop layer 103 and the outside 104, and the light extraction efficiency to the outside is reduced.

ここで、屈折界面での反射率は、該屈折界面が平らである場合、入射側媒質及び出射側媒質の屈折率差と、光の入射角とによって決定される。例えば、入射側媒質と出射側媒質との屈折率差が大きいと、屈折界面での反射率は高まり、また、屈折率の高い媒質から低い媒質への出射は、光の入射角が臨界角より高い角度の場合、１００％反射してしまう。   Here, when the refractive interface is flat, the reflectance at the refractive interface is determined by the refractive index difference between the incident side medium and the outgoing side medium and the incident angle of light. For example, if the refractive index difference between the incident side medium and the output side medium is large, the reflectivity at the refractive interface increases, and the light incident angle from the medium with a high refractive index to the low medium is smaller than the critical angle. When the angle is high, 100% reflection occurs.

なお、臨界角θＣは、屈折率が大きい入射元の物質から屈折率が小さい入射先の物質に光が入り、全反射が起こる最も小さな入射角のことであり、以下のように表される。
θｃ＝ａｒｃｓｉｎ（ｎ２／ｎ１）
ｎ１：入射元の物質の屈折率
ｎ２：入射先の物質の屈折率 The critical angle θ C is the smallest incident angle at which total reflection occurs when light enters the incident material having a small refractive index from the incident material having a large refractive index, and is expressed as follows. .
θc = arcsin (n 2 / n 1 )
n 1 : refractive index of the incident source material n 2 : refractive index of the incident source material

このような屈折率が大きい媒質から屈折率が小さい媒質への出射において生じる全反射が、固体から発光するＬＥＤやＥＬにおいて、特に問題となっていた。   Total reflection that occurs when light is emitted from a medium having a high refractive index to a medium having a low refractive index has been a problem particularly in LEDs and EL that emit light from a solid.

従来より、上記問題を解決するために、光の向きを変えるべく、散乱体を設けたり、屈折界面の形状を変えることがなされていた（例えば、特許文献１）。
また、発光素子の主発光面を基板面に対して斜めに配置した例（例えば、特許文献２）や、発光層における発光部位が錐体形状である例（例えば、特許文献３）や、発光部を凹面構造にした例（例えば、特許文献４）などを開示している。
しかしながら、これらによっては、光の取出し効率を容易に向上することができないという問題があった。
特開２００５−２９４２６６号公報 特開２００５−２２２７３４号公報 特開２００７−１５７５８０号公報 特開平９−１９０８８３号公報 Conventionally, in order to solve the above problem, a scatterer has been provided or the shape of the refractive interface has been changed in order to change the direction of light (for example, Patent Document 1).
In addition, an example in which the main light emitting surface of the light emitting element is disposed obliquely with respect to the substrate surface (for example, Patent Document 2), an example in which the light emitting portion in the light emitting layer has a cone shape (for example, Patent Document 3), The example (for example, patent document 4) etc. which made the part the concave surface structure is disclosed.
However, there is a problem in that the light extraction efficiency cannot be easily improved depending on these factors.
JP 2005-294266 A JP 2005-222734 A JP 2007-157580 A JP-A-9-190883

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明は、光の取出し効率を容易に向上することができる発光素子及び該発光素子を備えるディスプレイを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects.
That is, an object of the present invention is to provide a light emitting element that can easily improve the light extraction efficiency and a display including the light emitting element.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 基準平面上に形成された発光層であって、前記基準平面と略平行な光放出面から光を放出する発光層を含む光透過性層と、前記光透過性層上に形成された凸部とを備え、前記凸部の屈折率が、発光層の屈折率の０．９倍以上であり、前記凸部の前記基準平面と略直交する面の面積の合計が、前記発光層を含む光透過性層の前記基準平面と略直交する面の面積の合計の０．０１倍以上であることを特徴とする発光素子である。
＜２＞ 発光層が固体である前記＜１＞に記載の発光素子である。
＜３＞ 発光層及び凸部を最短距離で透過する光の吸収量が３３％以下である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の発光素子である。
＜４＞ 基板と、前記基板上に形成された複数の発光素子とを備え、前記複数の発光素子のうち少なくとも１つの発光素子が前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の発光素子であることを特徴とするディスプレイである。
＜５＞ 複数の発光素子が方形の表示面を形成し、光放出面側から発光素子を視た場合、前記表示面の少なくとも一の辺方向における凸部の配置対称性が５０％以上である前記＜４＞に記載のディスプレイである。
＜６＞ 表示面の一の辺方向と略直交方向の他の辺方向における凸部の配置対称性が５０％以上である前記＜５＞に記載のディスプレイである。 Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A light-emitting layer formed on a reference plane, the light-transmitting layer including a light-emitting layer that emits light from a light emission surface substantially parallel to the reference plane, and formed on the light-transmitting layer. The refractive index of the convex portion is 0.9 times or more the refractive index of the light emitting layer, and the total area of the surfaces of the convex portion substantially orthogonal to the reference plane is the light emitting layer. The light-emitting element is characterized by being 0.01 times or more of the total area of the surfaces substantially orthogonal to the reference plane of the light-transmitting layer.
<2> The light emitting device according to <1>, wherein the light emitting layer is solid.
<3> The light emitting device according to any one of <1> to <2>, wherein an amount of absorption of light transmitted through the light emitting layer and the convex portion at a shortest distance is 33% or less.
<4> A light emitting device according to any one of <1> to <3>, comprising a substrate and a plurality of light emitting devices formed on the substrate, wherein at least one light emitting device is the light emitting device. It is a display characterized by being.
<5> When the plurality of light emitting elements form a rectangular display surface and the light emitting elements are viewed from the light emitting surface side, the arrangement symmetry of the convex portions in at least one side direction of the display surface is 50% or more. It is a display as described in said <4>.
<6> The display according to <5>, wherein the arrangement symmetry of the convex portions in the other side direction substantially orthogonal to the one side direction of the display surface is 50% or more.

本発明によると、従来における問題を解決することができ、光の取出し効率を容易に向上することができる発光素子及び該発光素子を備えるディスプレイを提供することができる。   According to the present invention, a conventional problem can be solved, and a light-emitting element that can easily improve the light extraction efficiency and a display including the light-emitting element can be provided.

以下、本発明の発光素子及び該発光素子を備えるディスプレイについて、詳細に説明する。   Hereinafter, the light-emitting element of the present invention and a display including the light-emitting element will be described in detail.

（発光素子）
本発明の発光素子としては、少なくとも、発光層を含む光透過性層と、凸部とを有してなり、さらに必要に応じて、その他の部材を有してなる。 (Light emitting element)
The light-emitting device of the present invention has at least a light-transmitting layer including a light-emitting layer and a convex portion, and further includes other members as necessary.

＜発光層＞
前記発光層としては、基準平面上に形成されたものであって、前記基準平面と略平行な光放出面から光を放出するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。 <Light emitting layer>
The light emitting layer is not particularly limited as long as it is formed on a reference plane and emits light from a light emission surface substantially parallel to the reference plane, and is appropriately selected according to the purpose. be able to.

例えば、発光素子が有機ＥＬ素子又は無機ＥＬ素子である場合、発光層は、発光材料を含有する固体の層であることが好ましいが、これに限らず、液体や気体から発光する構成であってもよい。また、例えば、発光素子が、例えば、特開２００６−３３９６２９号公報に示されるようなＬＥＤである場合、ｐ型半導体とｎ型半導体との接合面において、電子と正孔とが再結合することにより発光が得られるため、該接合面が発光層となる。   For example, when the light-emitting element is an organic EL element or an inorganic EL element, the light-emitting layer is preferably a solid layer containing a light-emitting material, but is not limited thereto, and is configured to emit light from a liquid or gas. Also good. For example, when the light emitting element is an LED as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-339629, electrons and holes are recombined at the junction surface between the p-type semiconductor and the n-type semiconductor. Since light emission can be obtained by this, the bonding surface becomes a light emitting layer.

また、発光層は、固体であることが好ましい。発光層が固体である場合、屈折界面での全反射が発生しやすく、取出し効率が低下する問題が発生しやすいが、本発明によれば、後述する凸部を設けることにより、固体の発光層からの取出し効率を飛躍的に向上することができる。   Moreover, it is preferable that a light emitting layer is solid. When the light emitting layer is solid, total reflection at the refractive interface is likely to occur, and the problem of reduction in extraction efficiency is likely to occur. However, according to the present invention, a solid light emitting layer is provided by providing a convex portion described later. It is possible to dramatically improve the extraction efficiency.

＜光透過性層＞
前記光透過性層としては、発光層を含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、発光層のみであってもよい。 <Light transmissive layer>
The light transmitting layer is not particularly limited as long as it includes a light emitting layer, and can be appropriately selected according to the purpose, and may be only the light emitting layer.

例えば、発光素子が有機ＥＬ素子である場合、光透過性層は、透明電極（陽極または陰極）及び有機化合物層（有機発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層など）の積層構造における透明部分（光透過部分）を示す。なお、後述する凸部の発光層側に設けられた封止剤（封止樹脂層）の透明部分は光透過性層に含まれるが、凸部の発光層側の反対側に設けられた封止剤（封止樹脂層）の透明部分は光透過性層に含まれない。   For example, when the light emitting element is an organic EL element, the light transmissive layer includes a transparent electrode (anode or cathode) and an organic compound layer (organic light emitting layer, hole transport layer, electron transport layer, hole block layer, electron block). A transparent portion (light transmission portion) in a laminated structure of a layer, a hole injection layer, an electron injection layer, and the like is shown. In addition, although the transparent part of the sealing agent (sealing resin layer) provided on the light emitting layer side of the convex part described later is included in the light transmissive layer, the sealing provided on the opposite side of the light emitting layer side of the convex part. The transparent portion of the stopper (sealing resin layer) is not included in the light transmissive layer.

また、例えば、発光素子が無機ＥＬ素子である場合、光透過性層は、透明電極、発光層、及び絶縁層の積層構造における透明部分（光透過部分）を示す。   For example, when the light emitting element is an inorganic EL element, the light transmissive layer indicates a transparent portion (light transmissive portion) in a stacked structure of a transparent electrode, a light emitting layer, and an insulating layer.

また、例えば、発光素子がＬＥＤである場合、光透過性層は、透明電極、ｐ型半導体、及びｎ型半導体の積層構造における透明部分（光透過部分）を示す。   For example, when the light emitting element is an LED, the light transmissive layer indicates a transparent portion (light transmissive portion) in a stacked structure of a transparent electrode, a p-type semiconductor, and an n-type semiconductor.

光透過性層の厚みとしては、約０．１μｍ以上５０μｍ以下であり、約０．３μｍであることが好ましい。光透過性層の厚みが０．１μｍ未満であると、発光効率が低くなる場合があり、光透過性層の厚みが５０μｍを超えると、材料の散乱・吸収で光量が低下する場合がある。   The thickness of the light transmissive layer is about 0.1 μm or more and 50 μm or less, and preferably about 0.3 μm. If the thickness of the light-transmitting layer is less than 0.1 μm, the light emission efficiency may be lowered. If the thickness of the light-transmitting layer exceeds 50 μm, the amount of light may be reduced due to scattering / absorption of the material.

＜凸部＞
前記凸部としては、光透過性層上に形成されていれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。 <Convex>
The convex portion is not particularly limited as long as it is formed on the light transmissive layer, and can be appropriately selected according to the purpose.

＜＜各有機ＥＬ発光素子における基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の比＞＞
各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の合計は、各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の０．０１倍以上であり、０．０５倍以上であることが好ましく、０．１倍以上であることがより好ましく、０．２倍以上であることが特に好ましい。
各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の合計が、各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の０．０１倍未満であると、光の取出し効率を十分に向上することができないことがある。
また、各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の合計が、各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の１０倍以下であることが好ましい。各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の合計が、各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の１０倍を超えると、構造形成が困難となることがある。 << Ratio of the area (peripheral area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane in each organic EL light emitting element >>
The total area (circumferential side area) of the surface substantially perpendicular to the reference plane of the convex portion in each light emitting element is 0 of the area (circumferential side area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element. 0.01 times or more, preferably 0.05 times or more, more preferably 0.1 times or more, and particularly preferably 0.2 times or more.
The total area (circumferential side area) of the surface substantially perpendicular to the reference plane of the convex portion in each light emitting element is 0 of the area (circumferential side area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element. If it is less than .01 times, the light extraction efficiency may not be sufficiently improved.
In addition, the total area of the surfaces (circumferential side area) that is substantially orthogonal to the reference plane of the protrusions in each light emitting element is the area of the surface that is substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element (circumferential side area). It is preferable that it is 10 times or less. The sum of the areas (circumferential side areas) of the surfaces substantially orthogonal to the reference plane of the convex portions in each light emitting element is 10 of the area (circumferential side area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element. If it exceeds twice, structure formation may become difficult.

＜＜＜凸部の基準平面と略直交する面の面積＞＞＞
例えば、凸部が略直方体である場合は、凸部の基準平面と略直交する面の面積とは、基準平面と略直交する直方体の周側面（基準平面と略平行な底面及び上面を除いた面）の面積を表す。
また、例えば、凸部が略直方体以外の形状（例えば、錐形状、半円形状等）である場合は、凸部の基準平面と略直交する面の面積とは、側面の面積を表す。
＜＜＜光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）＞＞＞
例えば、光透過性層が略直方体である場合は、光透過性層の基準平面と略直交する面の面積とは、基準平面と略直交する直方体の周側面（基準平面と略平行な底面及び上面を除いた面）の面積を表す。 <<< Area of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion >>>
For example, when the convex portion is a substantially rectangular parallelepiped, the area of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion is the peripheral side surface of the rectangular parallelepiped substantially orthogonal to the reference plane (excluding the bottom surface and the top surface substantially parallel to the reference plane) Area).
For example, when the convex portion has a shape other than a substantially rectangular parallelepiped (for example, a cone shape or a semicircular shape), the area of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion represents the area of the side surface.
<<< Area (peripheral area) of a surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer >>>
For example, when the light-transmitting layer is a substantially rectangular parallelepiped, the area of the surface that is substantially orthogonal to the reference plane of the light-transmitting layer is the peripheral side surface of the rectangular parallelepiped that is approximately orthogonal to the reference plane (the bottom surface substantially parallel to the reference plane and Represents the area of the surface excluding the top surface.

なお、各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）、及び、各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）は、下記のように算出した。   In addition, the area (circumferential side area) of the surface substantially perpendicular to the reference plane of the convex portion in each light emitting element and the area (circumferential side area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element are The calculation was as follows.

＜＜各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の算出方法＞＞
前記各発光素子における凸部の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）は、発光素子の設計図面における設計値に基づいて算出される。 << Calculation method of area (peripheral area) of a surface substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion in each light emitting element >>
The area (circumferential side area) of the surface that is substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion in each light emitting element is calculated based on the design value in the design drawing of the light emitting element.

＜＜各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）の算出方法＞＞
前記各発光素子における光透過性層の基準平面と略直交する面の面積（周側面積）は、発光素子の設計図面に基づいて算出される。 << Calculation method of area (peripheral area) of a surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element >>
The area (peripheral area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer in each light emitting element is calculated based on the design drawing of the light emitting element.

＜＜凸部の材料＞＞
凸部の材料としては、発光層の屈折率の０．９倍以上の屈折率を有するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、色素、透明材料に高屈折率微細粒子を分散した材料などを挙げることができる。
また、凸部の材料としては、発光層の屈折率の２倍以下の屈折率を有するものが好ましい。凸部の材料が、発光層の屈折率の２倍を超える屈折率を有すると、材料選択が困難となることがある。 << Projection Material >>
The material of the convex part is not particularly limited as long as it has a refractive index of 0.9 times or more of the refractive index of the light emitting layer, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a material in which fine particles having a high refractive index are dispersed.
Moreover, as a material of a convex part, what has a refractive index 2 times or less of the refractive index of a light emitting layer is preferable. When the material of the convex portion has a refractive index exceeding twice the refractive index of the light emitting layer, the material selection may be difficult.

＜＜凸部の厚み＞＞
また、凸部の厚みとしては、１μｍ〜１０μｍであることが好ましい。
凸部の厚みが１μｍ未満であると、光の取出し効率を向上する効果が小さくなる場合があり、光透過性層の厚みが１０μｍを超えると、凸部の形成が困難となる場合がある。 << Thickness of convex part >>
Moreover, as thickness of a convex part, it is preferable that they are 1 micrometer-10 micrometers.
If the thickness of the convex portion is less than 1 μm, the effect of improving the light extraction efficiency may be reduced, and if the thickness of the light-transmitting layer exceeds 10 μm, it may be difficult to form the convex portion.

＜＜各発光素子における凸部の数＞＞
また、各発光素子における凸部の数としては、４個以上１００個以下が好ましく、６個以上７０個以下がより好ましく、８個以上５０個以下が特に好ましい。
各発光素子における凸部の数が３個以下であると、所望の周側面積が得られない場合があり、１００個を超えると、発光素子の作製が困難となる場合がある。 << Number of convex portions in each light emitting element >>
Further, the number of convex portions in each light emitting element is preferably 4 or more and 100 or less, more preferably 6 or more and 70 or less, and particularly preferably 8 or more and 50 or less.
If the number of convex portions in each light emitting element is 3 or less, a desired peripheral area may not be obtained, and if it exceeds 100, it may be difficult to manufacture the light emitting element.

＜その他の部材＞
前記その他の部材としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができる。 <Other members>
The other members are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.

また、光透過性層及び凸部を最短距離で透過する光の吸収量が３３％以下であることが好ましい。光透過性層及び凸部を最短距離で透過する光の吸収量が３３％を超えると、得られる光量が少なくなる場合がある。   Moreover, it is preferable that the absorption amount of the light which permeate | transmits a light transmissive layer and a convex part in the shortest distance is 33% or less. If the amount of light that passes through the light-transmitting layer and the convex portion at the shortest distance exceeds 33%, the amount of light obtained may be reduced.

図１Ａは、本発明の発光素子としての有機ＥＬ素子を説明するための断面図である。
図１Ａにおいて、有機ＥＬ素子１０は、光放出面から光を放出する発光層を含む光透過性層１２と、光透過性層１２上に形成された凸部１３とを備え、凸部１３の屈折率が、発光層の屈折率の０．９倍以上であり、凸部１３の基準平面と略直交する面の面積(周側面積)の合計が、光透過性層１２の基準平面と略直交する面の面積(周側面積)の合計の０．０１倍以上である。
このように、凸部１３が設けられた有機ＥＬ素子１０では、界面に対する光の入射角が小さくなりやすく、反射によって光透過性層１２内部に閉じ込められる光が減少して、光の取出し効率が向上される。例えば、光透過性層１２における発光層で発生した光は、矢印で示すようにして外部に放出される。
なお、図１Ａにおいて、凸部１３の基準平面と略直交する面とは、凸部１３の底面１３ａ及び上面１３ｂ以外の周側面を表し、光透過性層１２の基準平面と略直交する面とは、光透過性層１２の底面１２ａ及び上面１２ｂ以外の周側面を表す。 FIG. 1A is a cross-sectional view for explaining an organic EL element as a light emitting element of the present invention.
In FIG. 1A, the organic EL element 10 includes a light transmissive layer 12 including a light emitting layer that emits light from a light emitting surface, and a convex portion 13 formed on the light transmissive layer 12. The refractive index is 0.9 times or more of the refractive index of the light emitting layer, and the total area (peripheral area) of the surface substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion 13 is substantially the same as the reference plane of the light transmissive layer 12 It is 0.01 times or more of the total area (peripheral area) of orthogonal surfaces.
As described above, in the organic EL element 10 provided with the convex portion 13, the incident angle of light with respect to the interface tends to be small, and the light confined inside the light transmissive layer 12 by reflection is reduced, so that the light extraction efficiency is improved. Be improved. For example, light generated in the light emitting layer in the light transmissive layer 12 is emitted to the outside as indicated by an arrow.
In FIG. 1A, the surface substantially orthogonal to the reference plane of the convex portion 13 represents a peripheral side surface other than the bottom surface 13a and the upper surface 13b of the convex portion 13, and a surface substantially orthogonal to the reference plane of the light transmissive layer 12. Represents a peripheral side surface of the light transmissive layer 12 other than the bottom surface 12a and the top surface 12b.

＜発光素子の製造方法＞
前記発光素子の製造方法としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、以下の製造方法により製造した。 <Method for manufacturing light-emitting element>
The method for producing the light emitting device is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, the light emitting device was produced by the following production method.

まず、発光層を含む光透過性層を形成し、さらに、材料を塗布などにより形成しエッチングにより、形成された光透過性層上に、凸部を形成する。   First, a light transmissive layer including a light emitting layer is formed, and further, a material is formed by coating or the like, and a convex portion is formed on the formed light transmissive layer by etching.

前記発光素子の一例として、有機ＥＬ素子が挙げられ、以下、有機ＥＬ素子について詳述するが、これに限定されるものではなく、前記発光素子が、例えば、無機ＥＬ素子、ＬＥＤなどであってもよい。   An example of the light emitting element is an organic EL element. Hereinafter, the organic EL element will be described in detail. However, the light emitting element is not limited thereto, and the light emitting element is, for example, an inorganic EL element or an LED. Also good.

＜有機ＥＬ素子＞
前記有機ＥＬ素子は、基板上に陰極と陽極を有し、両電極の間に有機発光層を含む有機化合物層を有する。発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明であることが好ましい。 <Organic EL device>
The organic EL element has a cathode and an anode on a substrate, and an organic compound layer including an organic light emitting layer between both electrodes. In view of the properties of the light emitting element, at least one of the anode and the cathode is preferably transparent.

前記有機化合物層の積層の形態としては、陽極側から、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と陽極との間に正孔注入層、及び／又は有機発光層と電子輸送層との間に、電子輸送性中間層を有する。また、有機発光層と正孔輸送層との間に正孔輸送性中間層を、同様に陰極と電子輸送層との間に電子注入層を設けてもよい。
尚、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
有機発光層は前記発光層に対応し、陽極、陰極、有機化合物の積層構造のうち透明な（光透過性を有する）ものは前記光透過性層に対応する。 The organic compound layer is preferably laminated in the order of the hole transport layer, the organic light emitting layer, and the electron transport layer from the anode side. Further, a hole injection layer is provided between the hole transport layer and the anode, and / or an electron transport intermediate layer is provided between the organic light emitting layer and the electron transport layer. In addition, a hole transporting intermediate layer may be provided between the organic light emitting layer and the hole transport layer, and similarly, an electron injection layer may be provided between the cathode and the electron transport layer.
Each layer may be divided into a plurality of secondary layers.
The organic light-emitting layer corresponds to the light-emitting layer, and the transparent (having light-transmitting) layer structure of the anode, cathode, and organic compound corresponds to the light-transmitting layer.

有機化合物層を構成する各層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、転写法、印刷法、塗布法、インクジェット法、およびスプレー法等いずれによっても好適に形成することができる。   Each layer constituting the organic compound layer can be suitably formed by any of dry film forming methods such as vapor deposition and sputtering, transfer methods, printing methods, coating methods, ink jet methods, and spray methods.

＜＜陽極＞＞
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、通常、透明陽極として設けられる。 << Anode >>
The anode usually has a function as an electrode for supplying holes to the organic compound layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element. , Can be appropriately selected from known electrode materials. As described above, the anode is usually provided as a transparent anode.

陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物が好適に挙げられる。陽極材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはＩＴＯが好ましい。   Suitable examples of the material for the anode include metals, alloys, metal oxides, conductive compounds, and mixtures thereof. Specific examples of the anode material include conductive metals such as tin oxide doped with antimony and fluorine (ATO, FTO), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO). Metals such as oxides, gold, silver, chromium, nickel, and mixtures or laminates of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, etc. Organic conductive materials, and a laminate of these and ITO. Among these, conductive metal oxides are preferable, and ITO is particularly preferable from the viewpoints of productivity, high conductivity, transparency, and the like.

陽極は、例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式などの中から、陽極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って、前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料として、ＩＴＯを選択する場合には、陽極の形成は、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って行うことができる。   The anode is composed of, for example, a wet method such as a printing method and a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, and a chemical method such as a CVD and a plasma CVD method. It can be formed on the substrate according to a method appropriately selected in consideration of suitability with the material to be processed. For example, when ITO is selected as the anode material, the anode can be formed according to a direct current or high frequency sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like.

前記有機ＥＬ素子において、陽極の形成位置としては、特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができるが、前記基板上に形成されるのが好ましい。この場合、陽極は、基板における一方の表面の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。   In the organic EL element, the formation position of the anode is not particularly limited and can be appropriately selected according to the use and purpose of the light-emitting element, but is preferably formed on the substrate. In this case, the anode may be formed on the entire one surface of the substrate, or may be formed on a part thereof.

なお、陽極を形成する際のパターニングとしては、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。   The patterning for forming the anode may be performed by chemical etching such as photolithography, or may be performed by physical etching such as laser, or vacuum deposition or sputtering with a mask overlapped. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

陽極の厚みとしては、陽極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常、１０ｎｍ〜５０μｍ程度であり、５０ｎｍ〜２０μｍが好ましい。   The thickness of the anode can be appropriately selected depending on the material constituting the anode and cannot be generally defined, but is usually about 10 nm to 50 μm, and preferably 50 nm to 20 μm.

陽極の抵抗値としては、１０３Ω／□以下が好ましく、１０２Ω／□以下がより好ましい。陽極が透明である場合は、無色透明であっても、有色透明であってもよい。透明陽極側から発光を取り出すためには、その透過率としては、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。 The resistance value of the anode is preferably 10 3 Ω / □ or less, and more preferably 10 2 Ω / □ or less. When the anode is transparent, it may be colorless and transparent or colored and transparent. In order to take out light emission from the transparent anode side, the transmittance is preferably 60% or more, and more preferably 70% or more.

なお、透明陽極については、沢田豊監修「透明導電膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９）に詳述があり、ここに記載される事項を本発明に適用することができる。耐熱性の低いプラスティック基材を用いる場合は、ＩＴＯ又はＩＺＯを使用し、１５０℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。   The transparent anode is detailed in Yutaka Sawada's “New Development of Transparent Conductive Film” published by CMC (1999), and the matters described here can be applied to the present invention. In the case of using a plastic substrate having low heat resistance, a transparent anode formed using ITO or IZO at a low temperature of 150 ° C. or lower is preferable.

＜＜陰極＞＞
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。 << Cathode >>
The cathode usually has a function as an electrode for injecting electrons into the organic compound layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element, It can select suitably from well-known electrode materials.

陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としてはアルカリ金属（たとえば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）、アルカリ土類金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、およびイッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。   Examples of the material constituting the cathode include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof. Specific examples include alkali metals (eg, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys, lithium-aluminum alloys, magnesium. -Rare earth metals such as silver alloys, indium and ytterbium. These may be used alone, but two or more can be suitably used in combination from the viewpoint of achieving both stability and electron injection.

これらの中でも、陰極を構成する材料としては、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１質量％〜１０質量％のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。 Among these, as a material constituting the cathode, an alkali metal or an alkaline earth metal is preferable from the viewpoint of electron injecting property, and a material mainly composed of aluminum is preferable from the viewpoint of excellent storage stability.
The material mainly composed of aluminum is aluminum alone, an alloy of aluminum and 0.01% by mass to 10% by mass of alkali metal or alkaline earth metal, or a mixture thereof (for example, lithium-aluminum alloy, magnesium-aluminum alloy). Etc.).

なお、陰極の材料については、特開平２−１５５９５号公報、特開平５−１２１１７２号公報に詳述されており、これらの広報に記載の材料は、本発明においても適用することができる。   The materials for the cathode are described in detail in JP-A-2-15595 and JP-A-5-121172, and the materials described in these public relations can also be applied in the present invention.

陰極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式などの中から、前記した陰極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。例えば、陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その１種又は２種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って行うことができる。   There is no restriction | limiting in particular about the formation method of a cathode, According to a well-known method, it can carry out. For example, the cathode described above is configured from a wet method such as a printing method or a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a chemical method such as CVD or plasma CVD method. It can be formed according to a method appropriately selected in consideration of suitability with the material. For example, when a metal or the like is selected as the cathode material, one or more of them can be simultaneously or sequentially performed according to a sputtering method or the like.

陰極を形成するに際してのパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。   Patterning when forming the cathode may be performed by chemical etching such as photolithography, physical etching by laser, or the like, or by vacuum deposition or sputtering with the mask overlaid. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

前記有機ＥＬ素子において、陰極形成位置は特に制限はなく、有機化合物層上の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。
また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を０．１ｎｍ〜５ｎｍの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成することができる。 In the organic EL element, the cathode forming position is not particularly limited, and may be formed on the entire organic compound layer or a part thereof.
Further, a dielectric layer made of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride or oxide may be inserted between the cathode and the organic compound layer with a thickness of 0.1 nm to 5 nm. This dielectric layer can also be regarded as a kind of electron injection layer. The dielectric layer can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０ｎｍ〜５μｍ程度であり、５０ｎｍ〜１μｍが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を１ｎｍ〜１０ｎｍの厚みに薄く成膜し、さらにＩＴＯやＩＺＯ等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。 The thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material constituting the cathode and cannot be generally defined, but is usually about 10 nm to 5 μm, and preferably 50 nm to 1 μm.
Further, the cathode may be transparent or opaque. The transparent cathode can be formed by depositing a thin cathode material to a thickness of 1 nm to 10 nm and further laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO.

＜＜有機化合物層＞＞
前記有機ＥＬ素子は、有機発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を有しており、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層、等の各層が挙げられる。 << Organic compound layer >>
The organic EL element has at least one organic compound layer including an organic light emitting layer, and other organic compound layers other than the organic light emitting layer include a hole transport layer, an electron transport layer, a hole block layer, Examples thereof include an electron blocking layer, a hole injection layer, and an electron injection layer.

前記有機ＥＬ素子において、有機化合物層を構成する各層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布方式、転写法、印刷法、インクジェット方式等いずれによっても好適に形成することができる。   In the organic EL element, each layer constituting the organic compound layer can be suitably formed by any of a dry film forming method such as a vapor deposition method and a sputtering method, a wet coating method, a transfer method, a printing method, and an ink jet method. .

＜＜＜有機発光層＞＞＞
前記有機発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
前記有機発光層は、発光材料のみで構成されていてもよく、ホスト材料と発光性ドーパントの混合層とした構成でもよい。発光性ドーパントは蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料を混合した構成が挙げられる。さらに、有機発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。
また、有機発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。 <<< Organic Luminescent Layer >>>
The organic light emitting layer receives holes from an anode, a hole injection layer, or a hole transport layer when an electric field is applied, receives electrons from a cathode, an electron injection layer, or an electron transport layer, and recombines holes and electrons. It is a layer having a function of providing light and emitting light.
The organic light emitting layer may be composed only of a light emitting material, or may be a mixed layer of a host material and a light emitting dopant. The luminescent dopant may be a fluorescent material or a phosphorescent material, and may be two or more kinds. The host material is preferably a charge transport material. The host material may be one type or two or more types, and examples thereof include a configuration in which an electron transporting host material and a hole transporting host material are mixed. Furthermore, the organic light emitting layer may contain a material that does not have charge transporting properties and does not emit light.
Further, the organic light emitting layer may be one layer or two or more layers, and each layer may emit light in different emission colors.

前記発光性ドーパントとしては、燐光性発光材料、蛍光性発光材料等いずれもドーパント（燐光発光性ドーパント、蛍光発光性ドーパント）として用いることができる。
前記有機発光層は、色純度を向上させるためや発光波長領域を広げるために２種類以上の発光性ドーパントを含有することもできる。前記発光性ドーパントは、さらに前記ホスト化合物との間で、イオン化ポテンシャルの差（ΔＩｐ）と電子親和力の差（ΔＥａ）が、１．２ｅＶ＞△Ｉｐ＞０．２ｅＶ、及び／又は１．２ｅＶ＞△Ｅａ＞０．２ｅＶの関係を満たすドーパントであることが駆動耐久性の観点で好ましい。 As the luminescent dopant, any of a phosphorescent luminescent material, a fluorescent luminescent material, and the like can be used as a dopant (phosphorescent dopant, fluorescent luminescent dopant).
The organic light emitting layer may contain two or more kinds of luminescent dopants in order to improve color purity or to expand a light emission wavelength region. The luminescent dopant further has an ionization potential difference (ΔIp) and an electron affinity difference (ΔEa) of 1.2 eV>ΔIp> 0.2 eV and / or 1.2 eV> with the host compound. A dopant satisfying the relationship of ΔEa> 0.2 eV is preferable from the viewpoint of driving durability.

前記燐光発光性ドーパントとしては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
前記遷移金属原子としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が好ましく、レニウム、イリジウム、及び白金がより好ましく、イリジウム、白金が特に好ましい。
ランタノイド原子としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、およびルテシウムが挙げられる。中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。 The phosphorescent dopant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include a complex containing a transition metal atom or a lanthanoid atom.
The transition metal atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, gold, silver, copper, and platinum, and rhenium. , Iridium, and platinum are more preferable, and iridium and platinum are particularly preferable.
The lanthanoid atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.For example, lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium Lutesium. Among these, neodymium, europium, and gadolinium are preferable.

錯体の配位子としては、例えば、Ｇ．Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ等著，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ社１９８７年発行、Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著，「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」 Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
配位子としては、ハロゲン配位子（塩素配位子が好ましい）、芳香族炭素環配位子（例えば、シクロペンタジエニルアニオン、ベンゼンアニオン、ナフチルアニオンなどが挙げられ、炭素数５〜３０が好ましく、炭素数６〜３０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらにより好ましくは、炭素数６〜１２が特に好ましい）、含窒素ヘテロ環配位子（例えば、フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビピリジル、フェナントロリンなどが挙げられ、炭素数５〜３０が好ましく、炭素数６〜３０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらに好ましく、炭素数６〜１２が特に好ましい）、ジケトン配位子（例えば、アセチルアセトンなどが挙げられる）、カルボン酸配位子（例えば、酢酸配位子などが挙げられ、炭素数２〜３０が好ましく、炭素数２〜２０がより好ましく、炭素数２〜１６が特に好ましい）、アルコラト配位子（例えば、フェノラト配位子などが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらに好ましい）、シリルオキシ配位子（例えば、トリメチルシリルオキシ配位子、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリルオキシ配位子、トリフェニルシリルオキシ配位子などが挙げられ、炭素数３〜４０が好ましく、炭素数３〜３０がより好ましく、炭素数３〜２０が特に好ましい）、一酸化炭素配位子、イソニトリル配位子、シアノ配位子、リン配位子（例えば、トリフェニルフォスフィン配位子などが挙げられ、炭素数３〜４０が好ましく、炭素数３〜３０がより好ましく、炭素数３〜２０がさらに好ましく、炭素数６〜２０が特に好ましい）、チオラト配位子（例えば、フェニルチオラト配位子などが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数６〜２０がさらに好ましい）、フォスフィンオキシド配位子（例えば、トリフェニルフォスフィンオキシド配位子などが挙げられ、炭素数３〜３０が好ましく、炭素数８〜３０がより好ましく、炭素数１８〜３０が特に好ましくい）が好ましく、含窒素ヘテロ環配位子がより好ましい。
上記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、２つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。 Examples of the ligand of the complex include G.I. Wilkinson et al., Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press, 1987, H.C. Examples include ligands described in Yersin's "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds" published by Springer-Verlag 1987, Akio Yamamoto "Organic Metal Chemistry-Fundamentals and Applications-" .
Examples of the ligand include a halogen ligand (preferably a chlorine ligand), an aromatic carbocyclic ligand (for example, a cyclopentadienyl anion, a benzene anion, a naphthyl anion, etc.). Preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, and nitrogen-containing heterocyclic ligands (for example, phenylpyridine, benzoquinoline, quinolinol) , Bipyridyl, phenanthroline and the like, preferably having 5 to 30 carbon atoms, more preferably having 6 to 30 carbon atoms, further preferably having 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably having 6 to 12 carbon atoms), a diketone ligand ( For example, acetylacetone etc. are mentioned), carboxylic acid ligands (for example, acetic acid ligand etc. are mentioned, and C2-C30 is preferable. , More preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 16 carbon atoms), an alcoholate ligand (for example, a phenolate ligand), preferably 1 to 30 carbon atoms, and 1 to 20 carbon atoms. More preferably, C6-C20 is more preferable), silyloxy ligands (for example, trimethylsilyloxy ligand, dimethyl-tert-butylsilyloxy ligand, triphenylsilyloxy ligand, etc., carbon A number 3 to 40 is preferable, a number 3 to 30 is more preferable, a number 3 to 20 is particularly preferable, a carbon monoxide ligand, an isonitrile ligand, a cyano ligand, a phosphorus ligand (for example, A triphenylphosphine ligand, and the like, preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, still more preferably 3 to 20 carbon atoms, and 6 carbon atoms. 20 is particularly preferred), thiolato ligands (for example, phenylthiolato ligands, etc. are mentioned, preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and further preferably 6 to 20 carbon atoms). Phosphine oxide ligands (for example, triphenylphosphine oxide ligands, etc., preferably having 3 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 18 to 30 carbon atoms) Are preferred, and nitrogen-containing heterocyclic ligands are more preferred.
The complex may have one transition metal atom in the compound, or may be a so-called binuclear complex having two or more. Different metal atoms may be contained at the same time.

これらの中でも、発光性ドーパントとしては、例えば、ＵＳ６３０３２３８Ｂ１、ＵＳ６０９７１４７、ＷＯ００／５７６７６、ＷＯ００／７０６５５、ＷＯ０１／０８２３０、ＷＯ０１／３９２３４Ａ２、ＷＯ０１／４１５１２Ａ１、ＷＯ０２／０２７１４Ａ２、ＷＯ０２／１５６４５Ａ１、ＷＯ０２／４４１８９Ａ１、ＷＯ０５／１９３７３Ａ２、特開２００１−２４７８５９、特開２００２−３０２６７１、特開２００２−１１７９７８、特開２００３−１３３０７４、特開２００２−２３５０７６、特開２００３−１２３９８２、特開２００２−１７０６８４、ＥＰ１２１１２５７、特開２００２−２２６４９５、特開２００２−２３４８９４、特開２００１−２４７８５９、特開２００１−２９８４７０、特開２００２−１７３６７４、特開２００２−２０３６７８、特開２００２−２０３６７９、特開２００４−３５７７９１、特開２００６−２５６９９９、特開２００７−１９４６２、特開２００７−８４６３５、特開２００７−９６２５９等の特許文献に記載の燐光発光化合物などが挙げられる。中でも、Ｉｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｃｕ錯体、Ｒｅ錯体、Ｗ錯体、Ｒｈ錯体、Ｒｕ錯体、Ｐｄ錯体、Ｏｓ錯体、Ｅｕ錯体、Ｔｂ錯体、Ｇｄ錯体、Ｄｙ錯体、Ｃｅ錯体が好ましく、Ｉｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｒｅ錯体がより好ましい。中でも、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むＩｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｒｅ錯体が、さらにより好ましい。さらに、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、３座以上の多座配位子を含むＩｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｒｅ錯体が特に好ましい。   Among these, as the luminescent dopant, for example, US6303238B1, US6097147, WO00 / 57676, WO00 / 70655, WO01 / 08230, WO01 / 39234A2, WO01 / 41512A1, WO02 / 02714A2, WO02 / 15645A1, WO02 / 44189A1, WO05 / 19373A2, JP-A No. 2001-247859, JP-A No. 2002-302671, JP-A No. 2002-117978, JP-A No. 2003-133074, JP-A No. 2002-233502, JP-A No. 2003-123982, JP-A No. 2002-170684, EP No. 121157, JP-A No. 2002-2002 226495, JP 2002-234894, JP 2001-247859, JP 2001-298470, JP 2002-1736 4, JP 2002-203678, JP 2002-203679, JP 2004-357799, JP 2006-256999, JP 2007-19462, JP 2007-84635, JP 2007-96259, etc. Examples include phosphorescent light emitting compounds. Among them, Ir complex, Pt complex, Cu complex, Re complex, W complex, Rh complex, Ru complex, Pd complex, Os complex, Eu complex, Tb complex, Gd complex, Dy complex, and Ce complex are preferable, and Ir complex, Pt More preferred are complexes and Re complexes. Among these, Ir complexes, Pt complexes, and Re complexes containing at least one coordination mode of metal-carbon bond, metal-nitrogen bond, metal-oxygen bond, and metal-sulfur bond are even more preferable. Furthermore, from the viewpoints of luminous efficiency, driving durability, chromaticity, etc., an Ir complex, a Pt complex, and a Re complex containing a tridentate or higher multidentate ligand are particularly preferable.

前記蛍光発光性ドーパントとしては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物（アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、またはペンタセンなど）、８−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、およびこれらの誘導体などが挙げられる。   The fluorescent light-emitting dopant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. , Pyran, perinone, oxadiazole, aldazine, pyralidine, cyclopentadiene, bisstyrylanthracene, quinacridone, pyrrolopyridine, thiadiazolopyridine, cyclopentadiene, styrylamine, aromatic dimethylidin compound, condensed polycyclic aromatic compound (anthracene, Phenanthroline, pyrene, perylene, rubrene, or pentacene), metal complexes of 8-quinolinol, various metal complexes represented by pyromethene complexes and rare earth complexes, polythio E down, polyphenylene, polyphenylene vinylene polymer compounds such as organosilanes, and derivatives thereof.

発光性ドーパントとしては、例えば下記のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the luminescent dopant include the following, but are not limited thereto.

有機発光層中の発光性ドーパントは、有機発光層中に一般的に有機発光層を形成する全化合物質量に対して、０．１質量％〜５０質量％含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から１質量％〜５０質量％含有されることが好ましく、２質量％〜４０質量％含有されることがより好ましい。   The light-emitting dopant in the organic light-emitting layer is contained in an amount of 0.1% by mass to 50% by mass with respect to the total compound mass generally forming the organic light-emitting layer in the organic light-emitting layer. From the viewpoint of efficiency, the content is preferably 1% by mass to 50% by mass, and more preferably 2% by mass to 40% by mass.

有機発光層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、２ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、中でも、外部量子効率の観点で、３ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、５ｎｍ〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。   The thickness of the organic light emitting layer is not particularly limited, but is usually preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 3 nm to 200 nm, and more preferably 5 nm to 100 nm, from the viewpoint of external quantum efficiency. It is particularly preferred.

前記ホスト材料としては、正孔輸送性に優れる正孔輸送性ホスト材料（正孔輸送性ホストと記載する場合がある）及び電子輸送性に優れる電子輸送性ホスト化合物（電子輸送性ホストと記載する場合がある）を用いることができる。   As the host material, a hole-transporting host material having excellent hole-transporting property (may be described as a hole-transporting host) and an electron-transporting host compound having excellent electron-transporting property (described as an electron-transporting host) May be used).

有機発光層内の正孔輸送性ホストとしては、例えば、以下の材料が挙げられる。
ピロール、インドール、カルバゾール、アザインドール、アザカルバゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン、カーボン膜、及び、それらの誘導体等が挙げられる。
インドール誘導体、カルバゾール誘導体、芳香族第三級アミン化合物、チオフェン誘導体であることが好ましく、分子内にカルバゾール基を有するものがより好ましく、ｔ−ブチル置換カルバゾール基を有する化合物が特に好ましい。 Examples of the hole transporting host in the organic light emitting layer include the following materials.
Pyrrole, indole, carbazole, azaindole, azacarbazole, triazole, oxazole, oxadiazole, pyrazole, imidazole, thiophene, polyarylalkane, pyrazoline, pyrazolone, phenylenediamine, arylamine, amino-substituted chalcone, styrylanthracene, fluorenone, hydrazone , Stilbene, silazane, aromatic tertiary amine compound, styrylamine compound, aromatic dimethylidin compound, porphyrin compound, polysilane compound, poly (N-vinylcarbazole), aniline copolymer, thiophene oligomer, polythiophene, etc. Conductive polymer oligomers, organic silanes, carbon films, and derivatives thereof.
Indole derivatives, carbazole derivatives, aromatic tertiary amine compounds, and thiophene derivatives are preferable, those having a carbazole group in the molecule are more preferable, and compounds having a t-butyl-substituted carbazole group are particularly preferable.

有機発光層内の電子輸送性ホストとしては、耐久性向上、駆動電圧低下の観点から、電子親和力Ｅａが２．５ｅＶ以上３．５ｅＶ以下であることが好ましく、２．６ｅＶ以上３．４ｅＶ以下であることがより好ましく、２．８ｅＶ以上３．３ｅＶ以下であることが特に好ましい。また、耐久性向上、駆動電圧低下の観点から、イオン化ポテンシャルＩｐが５．７ｅＶ以上７．５ｅＶ以下であることが好ましく、５．８ｅＶ以上７．０ｅＶ以下であることがより好ましく、５．９ｅＶ以上６．５ｅＶ以下であることが特に好ましい。   The electron transporting host in the organic light emitting layer preferably has an electron affinity Ea of 2.5 eV or more and 3.5 eV or less from the viewpoint of improving durability and lowering driving voltage, and is 2.6 eV or more and 3.4 eV or less. More preferably, it is 2.8 eV or more and 3.3 eV or less. Further, from the viewpoint of improving durability and reducing driving voltage, the ionization potential Ip is preferably 5.7 eV or more and 7.5 eV or less, more preferably 5.8 eV or more and 7.0 eV or less, and 5.9 eV or more. It is particularly preferable that it is 6.5 eV or less.

このような電子輸送性ホストとしては、具体的には、例えば、以下の材料が挙げられる。
ピリジン、ピリミジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾ−ル、オキサゾ−ル、オキサジアゾ−ル、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、フッ素置換芳香族化合物、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン、およびそれらの誘導体（他の環と縮合環を形成してもよい）、８−キノリノ−ル誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾ−ルやベンゾチアゾ−ルを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。 Specific examples of such an electron transporting host include the following materials.
Pyridine, pyrimidine, triazine, imidazole, pyrazole, triazole, oxazole, oxadiazol, fluorenone, anthraquinodimethane, anthrone, diphenylquinone, thiopyran dioxide, carbodiimide, fluorenylidenemethane, distyrylpyrazine, Fluorine-substituted aromatic compounds, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, phthalocyanines, and derivatives thereof (may form condensed rings with other rings), metal complexes and metals of 8-quinolinol derivatives Examples include various metal complexes represented by metal complexes having phthalocyanine, benzoxazole or benzothiazol as a ligand.

電子輸送性ホストとしては、金属錯体、アゾール誘導体（ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾピリジン誘導体等）、アジン誘導体（ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体等）が好ましく、中でも、耐久性の点から、金属錯体化合物がより好ましい。金属錯体化合物（Ａ）は、金属に配位する窒素原子、酸素原子及び硫黄原子の少なくともいずれかを有する配位子を有する金属錯体がより好ましい。
金属錯体中の金属イオンは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ベリリウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、亜鉛イオン、インジウムイオン、錫イオン、白金イオン、又はパラジウムイオンであることが好ましく、ベリリウムイオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、亜鉛イオン、白金イオン、又はパラジウムイオンがより好ましく、アルミニウムイオン、亜鉛イオン、又はパラジウムイオンが特に好ましい。 As the electron transporting host, metal complexes, azole derivatives (benzimidazole derivatives, imidazopyridine derivatives, etc.) and azine derivatives (pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, etc.) are preferable. Is more preferable. The metal complex compound (A) is more preferably a metal complex having a ligand having at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom coordinated to the metal.
The metal ion in the metal complex is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but beryllium ion, magnesium ion, aluminum ion, gallium ion, zinc ion, indium ion, tin ion, platinum ion, or Palladium ions are preferable, beryllium ions, aluminum ions, gallium ions, zinc ions, platinum ions, or palladium ions are more preferable, and aluminum ions, zinc ions, or palladium ions are particularly preferable.

前記金属錯体中に含まれる配位子としては種々の公知の配位子が有るが、例えば、「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社、Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著、１９８７年発行、「有機金属化学−基礎と応用−」、裳華房社、山本明夫著、１９８２年発行等に記載の配位子が挙げられる。   There are various known ligands contained in the metal complex. For example, “Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds”, Springer-Verlag, H.C. Examples include the ligands described in Yersin, published in 1987, “Organometallic Chemistry: Fundamentals and Applications”, Sakai Hanafusa, Yamamoto Akio, published in 1982, and the like.

前記配位子としては、含窒素ヘテロ環配位子（炭素数１〜３０が好ましく、炭素数２〜２０がより好ましく、炭素数３〜１５が特に好ましい）が好ましい。また、前記配位子としては、単座配位子であっても２座以上の配位子であってもよいが、２座以上６座以下の配位子であることが好ましい。また、２座以上６座以下の配位子と単座の混合配位子も好ましい。
前記配位子としては、例えば、アジン配位子（例えば、ピリジン配位子、ビピリジル配位子、ターピリジン配位子などが挙げられる。）、ヒドロキシフェニルアゾール配位子（例えば、ヒドロキシフェニルベンズイミダゾール配位子、ヒドロキシフェニルベンズオキサゾール配位子、ヒドロキシフェニルイミダゾール配位子、ヒドロキシフェニルイミダゾピリジン配位子などが挙げられる。）、アルコキシ配位子（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシロキシなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１０が特に好ましい。）、アリールオキシ配位子（例えば、フェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、２，４，６−トリメチルフェニルオキシ、４−ビフェニルオキシなどが挙げられ、炭素数６〜３０が好ましく、炭素数６〜２０がより好ましく、炭素数６〜１２が特に好ましい）などが挙げられる。 As said ligand, a nitrogen-containing heterocyclic ligand (C1-C30 is preferable, C2-C20 is more preferable, C3-C15 is especially preferable). Further, the ligand may be a monodentate ligand or a bidentate or more ligand, but is preferably a bidentate or more and a hexadentate or less ligand. Also preferred are bidentate to hexadentate ligands and monodentate mixed ligands.
Examples of the ligand include an azine ligand (for example, a pyridine ligand, a bipyridyl ligand, a terpyridine ligand, etc.), a hydroxyphenylazole ligand (for example, hydroxyphenylbenzimidazole). Ligands, hydroxyphenylbenzoxazole ligands, hydroxyphenylimidazole ligands, hydroxyphenylimidazopyridine ligands, etc.), alkoxy ligands (eg, methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyl). Siloxy etc. are mentioned, C1-C30 is preferable, C1-C20 is more preferable, C1-C10 is especially preferable.), An aryloxy ligand (for example, phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy, 2,4,6-trimethylphenyloxy, 4- Such as phenyloxy and the like, 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms) and the like.

ヘテロアリールオキシ配位子（例えば、ピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１２が特に好ましい。）、アルキルチオ配位子（例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１２が特に好ましい。）、アリールチオ配位子（例えば、フェニルチオなどが挙げられ、炭素数６〜３０が好ましく、炭素数６〜２０がより好ましく、炭素数６〜１２が特に好ましい。）、ヘテロアリールチオ配位子（例えば、ピリジルチオ、２−ベンズイミゾリルチオ、２−ベンズオキサゾリルチオ、２−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数１〜２０がより好ましく、炭素数１〜１２が特に好ましい。）、シロキシ配位子（例えば、トリフェニルシロキシ基、トリエトキシシロキシ基、トリイソプロピルシロキシ基などが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましい、炭素数３〜２５がより好ましい、炭素数６〜２０が特に好ましい。）、芳香族炭化水素アニオン配位子（例えば、フェニルアニオン、ナフチルアニオン、およびアントラニルアニオンなどが挙げられ、炭素数６〜３０が好ましく、炭素数６〜２５がより好ましく、炭素数６〜２０が特に好ましい。）、芳香族ヘテロ環アニオン配位子（例えば、ピロールアニオン、ピラゾールアニオン、ピラゾールアニオン、トリアゾールアニオン、オキサゾールアニオン、ベンゾオキサゾールアニオン、チアゾールアニオン、ベンゾチアゾールアニオン、チオフェンアニオン、およびベンゾチオフェンアニオンなどが挙げられ、炭素数１〜３０が好ましく、炭素数２〜２５がより好ましく、炭素数２〜２０が特に好ましい。）、インドレニンアニオン配位子などが挙げられ、含窒素ヘテロ環配位子、アリールオキシ配位子、ヘテロアリールオキシ基、シロキシ配位子などが好ましく、含窒素ヘテロ環配位子、アリールオキシ配位子、シロキシ配位子、芳香族炭化水素アニオン配位子、芳香族ヘテロ環アニオン配位子などがさらに好ましい。   Heteroaryloxy ligands (for example, pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy, etc. are mentioned, preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). Alkylthio ligands (for example, methylthio, ethylthio and the like are mentioned, preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably having 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms), arylthio ligands (for example, Phenylthio etc. are mentioned, C6-C30 is preferable, C6-C20 is more preferable, C6-C12 is especially preferable,) heteroarylthio ligand (for example, pyridylthio, 2-benzimidazole). Ruthio, 2-benzoxazolylthio, 2-benzthiazolylthio and the like, and those having 1 to 30 carbon atoms More preferably, carbon number 1-20 is more preferable, and carbon number 1-12 is particularly preferable.), Siloxy ligand (for example, triphenylsiloxy group, triethoxysiloxy group, triisopropylsiloxy group, etc.) Numbers 1-30 are preferable, C3-25 are more preferable, C6-20 are particularly preferable, and aromatic hydrocarbon anion ligands (for example, phenyl anion, naphthyl anion, anthranyl anion, etc.) 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 25 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 20 carbon atoms), an aromatic heterocyclic anion ligand (for example, a pyrrole anion, a pyrazole anion, a pyrazole anion, Triazole anion, oxazole anion, benzoxazole anion, thiazole anion , Benzothiazole anion, thiophene anion, benzothiophene anion, etc., preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 25 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 20 carbon atoms. And a nitrogen-containing heterocyclic ligand, an aryloxy ligand, a heteroaryloxy group, a siloxy ligand, and the like. A nitrogen-containing heterocyclic ligand, an aryloxy ligand, and a siloxy ligand are preferred. More preferred are ligands, aromatic hydrocarbon anion ligands, aromatic heterocyclic anion ligands and the like.

金属錯体電子輸送性ホストの例としては、例えば、特開２００２−２３５０７６、特開２００４−２１４１７９、特開２００４−２２１０６２、特開２００４−２２１０６５、特開２００４−２２１０６８、特開２００４−３２７３１３等に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the metal complex electron transporting host include, for example, JP-A-2002-2335076, JP-A-2004-214179, JP-A-2004-221106, JP-A-2004-221105, JP-A-2004-221068, JP-A-2004-327313, etc. And the compounds described.

有機発光層において、前記ホスト材料の三重項最低励起準位（Ｔ１）が、前記燐光発光材料のＴ１より高いことが色純度、発光効率、駆動耐久性の点で好ましい。   In the organic light emitting layer, the triplet lowest excitation level (T1) of the host material is preferably higher than T1 of the phosphorescent light emitting material in terms of color purity, light emission efficiency, and driving durability.

また、ホスト化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、発光効率、駆動電圧の観点から、発光層を形成する全化合物質量に対して１５質量％以上９５質量％以下であることが好ましい。   In addition, the content of the host compound is not particularly limited, but may be 15% by mass or more and 95% by mass or less with respect to the total compound mass forming the light emitting layer from the viewpoint of luminous efficiency and driving voltage. preferable.

＜＜＜正孔注入層、正孔輸送層＞＞＞
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いる正孔注入材料、正孔輸送材料は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。 <<< Hole Injection Layer, Hole Transport Layer >>>
The hole injection layer and the hole transport layer are layers having a function of receiving holes from the anode or the anode side and transporting them to the cathode side. The hole injection material and the hole transport material used for these layers may be a low molecular compound or a high molecular compound.
Specifically, pyrrole derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styryl Anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, thiophene derivatives, organosilane derivatives, carbon, And the like.

有機ＥＬ素子の正孔注入層あるいは正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。正孔注入層、あるいは正孔輸送層に導入する電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。   An electron-accepting dopant can be contained in the hole injection layer or the hole transport layer of the organic EL element. As the electron-accepting dopant introduced into the hole-injecting layer or the hole-transporting layer, an inorganic compound or an organic compound can be used as long as it has an electron-accepting property and oxidizes an organic compound.

具体的には、無機化合物は塩化第二鉄や塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモンなどのハロゲン化金属、五酸化バナジウム、および三酸化モリブデンなどの金属酸化物などが挙げられる。   Specifically, examples of the inorganic compound include metal halides such as ferric chloride, aluminum chloride, gallium chloride, indium chloride, and antimony pentachloride, metal oxides such as vanadium pentoxide, and molybdenum trioxide.

有機化合物の場合は、置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基などを有する化合物、キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレンなどを好適に用いることができる。
この他にも、特開平６−２１２１５３、特開平１１−１１１４６３、特開平１１−２５１０６７、特開２０００−１９６１４０、特開２０００−２８６０５４、特開２０００−３１５５８０、特開２００１−１０２１７５、特開２００１−１６０４９３、特開２００２−２５２０８５、特開２００２−５６９８５、特開２００３−１５７９８１、特開２００３−２１７８６２、特開２００３−２２９２７８、特開２００４−３４２６１４、特開２００５−７２０１２、特開２００５−１６６６３７、特開２００５−２０９６４３等に記載の化合物を好適に用いることが出来る。 In the case of an organic compound, a compound having a nitro group, halogen, cyano group, trifluoromethyl group or the like as a substituent, a quinone compound, an acid anhydride compound, fullerene, or the like can be preferably used.
In addition, JP-A-6-212153, JP-A-11-111463, JP-A-11-251067, JP-A-2000-196140, JP-A-2000-286054, JP-A-2000-315580, JP-A-2001-102175, JP-A-2001-2001. -160493, JP2002-252085, JP2002-56985, JP2003-157981, JP2003-217862, JP2003-229278, JP2004-342614, JP2005-72012, JP20051666667 The compounds described in JP-A-2005-209643 and the like can be preferably used.

このうちヘキサシアノブタジエン、ヘキサシアノベンゼン、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、ｐ−フルオラニル、ｐ−クロラニル、ｐ−ブロマニル、ｐ−ベンゾキノン、２，６−ジクロロベンゾキノン、２，５−ジクロロベンゾキノン、１，２，４，５−テトラシアノベンゼン、１，４−ジシアノテトラフルオロベンゼン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノベンゾキノン、ｐ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、ｏ−ジニトロベンゼン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，３−ジニトロナフタレン、１，５−ジニトロナフタレン、９，１０−アントラキノン、１，３，６，８−テトラニトロカルバゾール、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，３，５，６−テトラシアノピリジン、またはフラーレンＣ６０が好ましく、ヘキサシアノブタジエン、ヘキサシアノベンゼン、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、ｐ−フルオラニル、ｐ−クロラニル、ｐ−ブロマニル、２，６−ジクロロベンゾキノン、２，５−ジクロロベンゾキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，２，４，５−テトラシアノベンゼン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノベンゾキノン、または２，３，５，６−テトラシアノピリジンがより好ましく、テトラフルオロテトラシアノキノジメタンが特に好ましい。   Among these, hexacyanobutadiene, hexacyanobenzene, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, p-fluoranyl, p-chloranil, p-bromanyl, p-benzoquinone, 2,6-dichlorobenzoquinone, 2 , 5-dichlorobenzoquinone, 1,2,4,5-tetracyanobenzene, 1,4-dicyanotetrafluorobenzene, 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone, p-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, o-dinitrobenzene, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, 1,3-dinitronaphthalene, 1,5-dinitronaphthalene, 9,10-anthraquinone, 1,3,6,8-tetranitrocarbazole, 2,4,7-trinitro-9- Luenone, 2,3,5,6-tetracyanopyridine, or fullerene C60 is preferred, and hexacyanobutadiene, hexacyanobenzene, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, p-fluoranyl, p- Chloranil, p-bromanyl, 2,6-dichlorobenzoquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, 1,2,4,5-tetracyanobenzene, 2,3-dichloro-5,6-dicyano Benzoquinone or 2,3,5,6-tetracyanopyridine is more preferred, and tetrafluorotetracyanoquinodimethane is particularly preferred.

これらの電子受容性ドーパントは、単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料に対して０．０１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜２０質量％であることがさらに好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることが特に好ましい。   These electron-accepting dopants may be used alone or in combination of two or more. Although the usage-amount of an electron-accepting dopant changes with kinds of material, it is preferable that it is 0.01 mass%-50 mass% with respect to hole transport layer material, and it is 0.05 mass%-20 mass%. More preferably, it is especially preferable that it is 0.1 mass%-10 mass%.

正孔注入層、正孔輸送層の厚みは、駆動電圧を下げるという観点から、各々５００ｎｍ以下であることが好ましい。
正孔輸送層の厚みとしては、１ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、５ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのがさらに好ましい。また、正孔注入層の厚みとしては、０．１ｎｍ〜２００ｎｍであるのが好ましく、０．５ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍであるのがさらに好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。 The thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of lowering the driving voltage.
The thickness of the hole transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and even more preferably 10 nm to 100 nm. In addition, the thickness of the hole injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.5 nm to 100 nm, and further preferably 1 nm to 100 nm.
The hole injection layer and the hole transport layer may have a single-layer structure composed of one or more of the materials described above, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. .

＜＜＜電子注入層、電子輸送層＞＞＞
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いる電子注入材料、電子輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。 <<< Electron injection layer, electron transport layer >>
The electron injection layer and the electron transport layer are layers having a function of receiving electrons from the cathode or the cathode side and transporting them to the anode side. The electron injection material and the electron transport material used for these layers may be a low molecular compound or a high molecular compound.
Specifically, pyridine derivatives, quinoline derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, phthalazine derivatives, phenanthroline derivatives, triazine derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone Derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, naphthalene, perylene and other aromatic ring tetracarboxylic acid anhydrides, phthalocyanine derivatives, 8-quinolinol derivative metal complexes, Metal phthalocyanines, various metal complexes represented by metal complexes with benzoxazole and benzothiazole as ligands, organosilane derivatives represented by siloles Body, or the like is preferably a layer containing.

本発明の有機ＥＬ素子の電子注入層あるいは電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。電子注入層、あるいは電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Ｌｉなどのアルカリ金属、Ｍｇなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が４．２ｅＶ以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｓｍ、Ｇｄ、およびＹｂなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。
この他にも、特開平６−２１２１５３、特開２０００−１９６１４０、特開２００３−６８４６８、特開２００３−２２９２７８、特開２００４−３４２６１４等に記載の材料を用いることが出来る。 The electron injection layer or the electron transport layer of the organic EL device of the present invention can contain an electron donating dopant. The electron donating dopant introduced into the electron injecting layer or the electron transporting layer only needs to have an electron donating property and a property of reducing an organic compound, such as an alkali metal such as Li or an alkaline earth metal such as Mg. Transition metals including rare earth metals and reducing organic compounds are preferably used. As the metal, a metal having a work function of 4.2 eV or less can be preferably used. Specifically, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Cs, La, Sm, Gd , And Yb. Examples of the reducing organic compound include nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, and phosphorus-containing compounds.
In addition, materials described in JP-A-6-212153, JP-A-2000-196140, JP-A-2003-68468, JP-A-2003-229278, JP-A-2004-342614, and the like can be used.

これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して０．１質量％〜９９質量％であることが好ましく、１．０質量％〜８０質量％であることがさらに好ましく、２．０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。   These electron donating dopants may be used alone or in combination of two or more. The amount of the electron donating dopant varies depending on the type of material, but is preferably 0.1% by mass to 99% by mass, and 1.0% by mass to 80% by mass with respect to the electron transport layer material. Is more preferable, and 2.0 mass% to 70 mass% is particularly preferable.

電子注入層、電子輸送層の厚みは、駆動電圧を下げるという観点から、各々５００ｎｍ以下であることが好ましい。
電子輸送層の厚みとしては、１ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、５ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。また、電子注入層の厚みとしては、０．１ｎｍ〜２００ｎｍであるのが好ましく、０．２ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、０．５ｎｍ〜５０ｎｍであるのが特に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。 The thicknesses of the electron injection layer and the electron transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of lowering the driving voltage.
The thickness of the electron transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm. In addition, the thickness of the electron injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.2 nm to 100 nm, and particularly preferably 0.5 nm to 50 nm.
The electron injection layer and the electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

＜＜＜正孔ブロック層＞＞＞
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。
正孔ブロック層を構成する化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
正孔ブロック層の厚みとしては、１ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、５ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。 <<< hole blocking layer >>>
The hole blocking layer is a layer having a function of preventing holes transported from the anode side to the light emitting layer from passing through to the cathode side. As the organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side, a hole blocking layer can be provided.
Examples of the compound constituting the hole blocking layer include aluminum complexes such as BAlq, triazole derivatives, phenanthroline derivatives such as BCP, and the like.
The thickness of the hole blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm.
The hole blocking layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

＜＜＜電子ブロック層＞＞＞
電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が、陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として、電子ブロック層を設けることができる。
電子ブロック層を構成する化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが適用できる。
電子ブロック層の厚みとしては、１ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、５ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。 <<< Electronic Block Layer >>>
The electron blocking layer is a layer having a function of preventing electrons transported from the cathode side to the light emitting layer from passing through to the anode side. In the present invention, an electron blocking layer can be provided as the organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the anode side.
As examples of the compound constituting the electron blocking layer, for example, those mentioned as the hole transport material described above can be applied.
The thickness of the electron blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm.
The hole blocking layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

＜＜保護層＞＞
有機ＥＬ素子全体は、保護層によって保護されていてもよい。
保護層に含まれる材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。
その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ等の金属窒化物、ＭｇＦ２、ＬｉＦ、ＡｌＦ３、ＣａＦ２等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。 << Protective layer >>
The entire organic EL element may be protected by a protective layer.
As a material contained in the protective layer, any material may be used as long as it has a function of preventing materials that promote device deterioration such as moisture and oxygen from entering the device.
Specific examples thereof include metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, and Ni, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO, NiO, CaO, BaO, and Fe 2 O. 3 , metal oxides such as Y 2 O 3 , TiO 2 , metal nitrides such as SiN x , SiN x O y , metal fluorides such as MgF 2 , LiF, AlF 3 , CaF 2 , polyethylene, polypropylene, polymethyl Monomer mixture containing methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, tetrafluoroethylene and at least one comonomer Copolymer obtained by copolymerization, cyclic in the copolymer main chain Examples thereof include a fluorine-containing copolymer having a structure, a water-absorbing substance having a water absorption of 1% or more, and a moisture-proof substance having a water absorption of 0.1% or less.

保護層の形成方法については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法、印刷法、転写法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular about the formation method of a protective layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a vacuum evaporation method, sputtering method, reactive sputtering method, MBE (molecular beam epitaxy) method, cluster ion beam method , Ion plating method, plasma polymerization method (high frequency excitation ion plating method), plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, gas source CVD method, coating method, printing method, transfer method and the like.

＜＜封止＞＞
さらに、有機ＥＬ素子は、封止容器を用いて素子全体を封止してもよい。
また、封止容器と発光素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。水分吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、酸化マグネシウムなどが挙げられる。不活性液体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、塩素系溶剤、シリコーンオイル類などが挙げられる。 << Sealing >>
Furthermore, the organic EL element may seal the whole element using a sealing container.
Further, a moisture absorbent or an inert liquid may be sealed in a space between the sealing container and the light emitting element. The moisture absorbent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, barium oxide, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, phosphorus pentoxide, chloride Examples thereof include calcium, magnesium chloride, copper chloride, cesium fluoride, niobium fluoride, calcium bromide, vanadium bromide, molecular sieve, zeolite, and magnesium oxide. There is no restriction | limiting in particular as an inert liquid, According to the objective, it can select suitably, For example, fluorinated solvents, such as paraffins, liquid paraffins, perfluoroalkane, perfluoroamine, and perfluoroether, chlorine type Examples include solvents and silicone oils.

また、下記に示す、樹脂封止層にて封止する方法も好適に用いられる。   Moreover, the method of sealing with the resin sealing layer shown below is also used suitably.

＜＜＜樹脂封止層＞＞＞
有機ＥＬ素子は、樹脂封止層により大気との接触を防ぎ、酸素や水分による素子性能の劣化を抑制することが好ましい。 <<< Resin sealing layer >>>
The organic EL element is preferably prevented from contact with the atmosphere by a resin sealing layer and suppressed deterioration of element performance due to oxygen or moisture.

樹脂封止層の樹脂素材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、ゴム系樹脂、またはエステル系樹脂等が挙げられる。中でも、エポキシ樹脂が、水分防止機能の点で、好ましい。エポキシ樹脂の中でも熱硬化型エポキシ樹脂、光硬化型エポキシ樹脂がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a resin raw material of a resin sealing layer, According to the objective, it can select suitably, For example, an acrylic resin, an epoxy resin, a fluorine resin, a silicone resin, a rubber resin, or ester resin Etc. Among these, an epoxy resin is preferable from the viewpoint of moisture prevention function. Among epoxy resins, a thermosetting epoxy resin and a photocurable epoxy resin are more preferable.

樹脂封止層の作製方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂溶液を塗布する方法、樹脂シートを圧着または熱圧着する方法、蒸着やスパッタリング等により乾式重合する方法などが挙げられる。   The method for producing the resin sealing layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, a method of applying a resin solution, a method of press-bonding or thermocompression-bonding a resin sheet, a dry process such as vapor deposition or sputtering. The method of superposing | polymerizing etc. is mentioned.

樹脂封止層の厚みは、１μｍ以上、１ｍｍ以下が好ましく、５μｍ以上、１００μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下が特に好ましい。１μｍよりも薄いと、第２の基板を装着時に上記無機膜を損傷する恐れがある。また、１ｍｍよりも厚いと電界発光素子自体の厚みが厚くなり、有機ＥＬ素子の特徴である薄膜性を損なうことになる。   The thickness of the resin sealing layer is preferably 1 μm or more and 1 mm or less, more preferably 5 μm or more and 100 μm or less, and particularly preferably 10 μm or more and 50 μm or less. If the thickness is less than 1 μm, the inorganic film may be damaged when the second substrate is mounted. On the other hand, if the thickness is greater than 1 mm, the thickness of the electroluminescent element itself is increased, and the thin film property that is characteristic of the organic EL element is impaired.

＜＜＜封止接着剤＞＞＞
封止に用いられる封止接着剤は、端部よりの水分や酸素の侵入を防止する機能を有する。 <<< sealing adhesive >>>
The sealing adhesive used for sealing has a function of preventing intrusion of moisture and oxygen from the end portion.

前記封止接着剤の材料としては、前記樹脂封止層で用いる材料と同じものを用いることができる。中でも、水分防止の点からエポキシ系の接着剤が好ましく、光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤がより好ましい。   As the material of the sealing adhesive, the same material as that used in the resin sealing layer can be used. Among these, epoxy adhesives are preferable from the viewpoint of moisture prevention, and photocurable adhesives and thermosetting adhesives are more preferable.

また、上記材料にフィラーを添加することも好ましい。
封止剤に添加されているフィラーとしては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ（酸化ケイ素）、ＳｉＯＮ（酸窒化ケイ素）またはＳｉＮ（窒化ケイ素）等の無機材料が好ましい。フィラーの添加により、封止剤の粘度が上昇し、加工適正が向上し、および耐湿性が向上する。 It is also preferable to add a filler to the above material.
The filler added to the sealant is preferably an inorganic material such as SiO 2 , SiO (silicon oxide), SiON (silicon oxynitride) or SiN (silicon nitride). Addition of the filler increases the viscosity of the sealant, improves processing suitability, and improves moisture resistance.

封止接着剤は乾燥剤を含有しても良い。乾燥剤としては、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムが好ましい。
封止接着剤に対する乾燥剤の添加量は、０．０１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上１５質量％以下であることがより好ましい。０．０１質量％よりも少ないと、乾燥剤の添加効果が薄れることになる。また、２０質量％よりも多い場合には、封止接着剤中に乾燥剤を均一分散させることが困難になり好ましくない。 The sealing adhesive may contain a desiccant. As the desiccant, barium oxide, calcium oxide, and strontium oxide are preferable.
The addition amount of the desiccant with respect to the sealing adhesive is preferably 0.01% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably 0.05% by mass or more and 15% by mass or less. If the amount is less than 0.01% by mass, the effect of adding the desiccant is diminished. Moreover, when more than 20 mass%, it becomes difficult to uniformly disperse the desiccant in the sealing adhesive, which is not preferable.

〔封止接着剤の処方〕
・ポリマー組成、濃度、
封止接着剤としては特に限定されることはなく、前記のものを用いることができる。例えば光硬化型エポキシ系接着剤としては長瀬ケムテック（株）製のＸＮＲ５５１６を挙げることができる。そこに直接前記乾燥剤を添加し、分散せしめれば良い。
・厚み
封止接着剤の塗布厚みは１μｍ以上１ｍｍ以下であることが好ましい。１μｍよりも薄いと封止接着剤を均一に塗れなくなり好ましくない。また、１ｍｍよりも厚いと、水分が侵入する道筋が広くなり好ましくない。 [Prescription of sealing adhesive]
・ Polymer composition, concentration,
It does not specifically limit as a sealing adhesive agent, The said thing can be used. For example, XNR5516 manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd. can be cited as a photo-curable epoxy adhesive. What is necessary is just to add and disperse | distribute the said desiccant directly there.
-Thickness The coating thickness of the sealing adhesive is preferably 1 μm or more and 1 mm or less. If it is thinner than 1 μm, the sealing adhesive cannot be applied uniformly, which is not preferable. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the route through which moisture enters is not preferable.

上記乾燥剤の入った封止接着剤をディスペンサー等により任意量塗布し、塗布後第２基板を重ねて、硬化させることにより機能素子を得ることができる。   A functional element can be obtained by applying an arbitrary amount of the sealing adhesive containing the desiccant with a dispenser or the like, and stacking and curing the second substrate after application.

＜＜駆動＞＞
有機ＥＬ素子は、陽極と陰極との間に直流（必要に応じて交流成分を含んでもよい）電圧（通常２ボルト〜１５ボルト）、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
有機ＥＬ素子の駆動方法については、特開平２−１４８６８７号、同６−３０１３５５号、同５−２９０８０号、同７−１３４５５８号、同８−２３４６８５号、同８−２４１０４７号の各公報、特許第２７８４６１５号、米国特許５８２８４２９号、同６０２３３０８号の各明細書、等に記載の駆動方法を適用することができる。 << Drive >>
The organic EL element can obtain light emission by applying a direct current (which may include an alternating current component if necessary) voltage (usually 2 to 15 volts) or a direct current between the anode and the cathode. .
As for the driving method of the organic EL element, JP-A-2-148687, JP-A-6-301355, JP-A-5-29080, JP-A-7-134558, JP-A-8-234658, and JP-A-8-214447, patents The driving methods described in Japanese Patent No. 2784615, US Pat. Nos. 5,828,429 and 6023308, and the like can be applied.

有機ＥＬ素子は、種々の公知の工夫により、光取り出し効率をさらに向上させることができる。例えば、基板表面形状を加工する（例えば微細な凹凸パターンを形成する）、基板・ＩＴＯ層・有機層の屈折率を制御する、基板・ＩＴＯ層・有機層の膜厚を制御すること等により、光の取り出し効率をさらに向上させ、外部量子効率をさらに向上させることが可能である。   The organic EL element can further improve the light extraction efficiency by various known devices. For example, by processing the substrate surface shape (for example, forming a fine concavo-convex pattern), controlling the refractive index of the substrate / ITO layer / organic layer, controlling the film thickness of the substrate / ITO layer / organic layer, etc. It is possible to further improve the light extraction efficiency and further improve the external quantum efficiency.

有機ＥＬ素子は、陽極側から発光を取り出す、いわゆる、トップエミッション方式であってもよい。   The organic EL element may be a so-called top emission type in which light emission is extracted from the anode side.

有機ＥＬ素子は、さらに発光効率を向上させるため、複数の発光層の間に電荷発生層が設けた構成をとることができる。
前記電荷発生層は、電界印加時に電荷（正孔及び電子）を発生する機能を有すると共に、発生した電荷を電荷発生層と隣接する層に注入させる機能を有する層である。 In order to further improve the light emission efficiency, the organic EL element can take a configuration in which a charge generation layer is provided between a plurality of light emitting layers.
The charge generation layer is a layer having a function of generating charges (holes and electrons) when an electric field is applied and a function of injecting the generated charges into a layer adjacent to the charge generation layer.

前記電荷発生層を形成する材料は、上記の機能を有する材料であれば何でもよく、単一化合物で形成されていても、複数の化合物で形成されていてもよい。
具体的には、導電性を有するものであっても、ドープされた有機層のように半導電性を有するものであっても、また、電気絶縁性を有するものであってもよく、特開平１１−３２９７４８や、特開２００３−２７２８６０や、特開２００４−３９６１７に記載の材料が挙げられる。
さらに、具体的には、ＩＴＯ、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などの透明導電材料、Ｃ６０等のフラーレン類、オリゴチオフェン等の導電性有機物、金属フタロシアニン類、無金属フタロシアニン類、金属ポルフィリン類、無金属ポルフィリン類等などの導電性有機物、Ｃａ、Ａｇ、Ａｌ、Ｍｇ：Ａｇ合金、Ａｌ：Ｌｉ合金、Ｍｇ：Ｌｉ合金などの金属材料、正孔伝導性材料、電子伝導性材料、及びそれらを混合させたものが挙げられる。
前記正孔伝導性材料は、例えば、２−ＴＮＡＴＡ、ＮＰＤなどの正孔輸送有機材料にＦ４−ＴＣＮＱ、ＴＣＮＱ、ＦｅＣｌ３などの電子求引性を有する酸化剤をドープさせたものや、Ｐ型導電性高分子、Ｐ型半導体などが挙げられ、前記電子伝導性材料は電子輸送有機材料に４．０ｅＶ未満の仕事関数を有する金属もしくは金属化合物をドープしたものや、Ｎ型導電性高分子、Ｎ型半導体が挙げられる。Ｎ型半導体としては、Ｎ型Ｓｉ、Ｎ型ＣｄＳ、Ｎ型ＺｎＳなどが挙げられ、Ｐ型半導体としては、Ｐ型Ｓｉ、Ｐ型ＣｄＴｅ、Ｐ型ＣｕＯなどが挙げられる。
また、前記電荷発生層として、Ｖ２Ｏ５などの電気絶縁性材料を用いることもできる。 The material for forming the charge generation layer may be any material having the above functions, and may be formed of a single compound or a plurality of compounds.
Specifically, it may be a conductive material, a semiconductive material such as a doped organic layer, or an electrically insulating material. 11-329748, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-272860, and the material of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-39617 are mentioned.
More specifically, transparent conductive materials such as ITO and IZO (indium zinc oxide), fullerenes such as C60, conductive organic materials such as oligothiophene, metal phthalocyanines, metal-free phthalocyanines, metal porphyrins, Conductive organic materials such as metal porphyrins, metal materials such as Ca, Ag, Al, Mg: Ag alloy, Al: Li alloy, Mg: Li alloy, hole conductive materials, electron conductive materials, and mixtures thereof Can be mentioned.
The hole conductive material is, for example, a material obtained by doping a hole transporting organic material such as 2-TNATA or NPD with an oxidant having an electron withdrawing property such as F4-TCNQ, TCNQ, or FeCl 3. Examples thereof include conductive polymers, P-type semiconductors, etc. The electron conductive material is an electron transporting organic material doped with a metal or metal compound having a work function of less than 4.0 eV, an N-type conductive polymer, An N-type semiconductor is mentioned. Examples of the N-type semiconductor include N-type Si, N-type CdS, and N-type ZnS. Examples of the P-type semiconductor include P-type Si, P-type CdTe, and P-type CuO.
Further, an electrically insulating material such as V 2 O 5 can be used for the charge generation layer.

前記電荷発生層は、単層でも複数積層させたものでもよい。複数積層させた構造としては、透明伝導材料や金属材料などの導電性を有する材料と正孔伝導性材料、または、電子伝導性材料を積層させた構造、上記の正孔伝導性材料と電子伝導性材料を積層させた構造の層などが挙げられる。   The charge generation layer may be a single layer or a stack of a plurality of layers. A structure in which a plurality of layers are stacked includes a conductive material such as a transparent conductive material and a metal material and a hole conductive material, or a structure in which an electron conductive material is stacked, and the above hole conductive material and electron conductive And a layer having a structure in which a functional material is laminated.

前記電荷発生層は、一般に、可視光の透過率が５０％以上になるよう、膜厚・材料を選択することが好ましい。また膜厚は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５〜２００ｎｍが好ましく、１〜１００ｎｍがより好ましく、３〜５０ｎｍがさらに好ましく、５〜３０ｎｍが特に好ましい。
電荷発生層の形成方法は、特に限定されるものではなく、前述した有機化合物層の形成方法を用いることができる。 In general, it is preferable to select a film thickness and a material for the charge generation layer so that the visible light transmittance is 50% or more. The film thickness is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 0.5 to 200 nm, more preferably 1 to 100 nm, further preferably 3 to 50 nm, and particularly preferably 5 to 30 nm. .
The method for forming the charge generation layer is not particularly limited, and the above-described method for forming the organic compound layer can be used.

電荷発生層は前記二層以上の発光層間に形成するが、電荷発生層の陽極側および陰極側には、隣接する層に電荷を注入する機能を有する材料を含んでいてもよい。陽極側に隣接する層への電子の注入性を上げるため、例えば、ＢａＯ、ＳｒＯ、Ｌｉ２Ｏ、ＬｉＣｌ、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＣａＦ２などの電子注入性化合物を電荷発生層の陽極側に積層させてもよい。
以上で挙げられた内容以外にも、特開２００３−４５６７６号公報、米国特許第６３３７４９２号、同第６１０７７３４号、同第６８７２４７２号等に記載を元にして、電荷発生層の材料を選択することができる。 The charge generation layer is formed between the two or more light emitting layers. The charge generation layer may include a material having a function of injecting charges into adjacent layers on the anode side and the cathode side. In order to improve the electron injection property to the layer adjacent to the anode side, for example, an electron injection compound such as BaO, SrO, Li 2 O, LiCl, LiF, MgF 2 , MgO, and CaF 2 is added to the anode side of the charge generation layer. May be laminated.
In addition to the contents mentioned above, the material for the charge generation layer should be selected based on the descriptions in JP-A-2003-45676, US Pat. Nos. 6,337,492, 6,107,734, 6,872,472, and the like. Can do.

有機ＥＬ素子は、共振器構造を有してもよい。例えば、透明基板上に、屈折率の異なる複数の積層膜よりなる多層膜ミラー、透明または半透明電極、発光層、および金属電極を重ね合わせる。発光層で生じた光は多層膜ミラーと金属電極を反射板としてその間で反射を繰り返し共振する。
別の好ましい態様では、透明基板上に、透明または半透明電極と金属電極がそれぞれ反射板として機能して、発光層で生じた光はその間で反射を繰り返し共振する。
共振構造を形成するためには、２つの反射板の有効屈折率、反射板間の各層の屈折率と厚みから決定される光路長を所望の共振波長の得るのに最適な値となるよう調整される。第一の態様の場合の計算式は、特開平９−１８０８８３号明細書に記載されている。第２の態様の場合の計算式は、特開２００４−１２７７９５号明細書に記載されている。 The organic EL element may have a resonator structure. For example, a multilayer mirror made of a plurality of laminated films having different refractive indexes, a transparent or translucent electrode, a light emitting layer, and a metal electrode are superimposed on a transparent substrate. The light generated in the light emitting layer resonates repeatedly with the multilayer mirror and the metal electrode as a reflection plate.
In another preferred embodiment, a transparent or translucent electrode and a metal electrode each function as a reflector on a transparent substrate, and light generated in the light emitting layer repeats reflection and resonates between them.
In order to form a resonant structure, the optical path length determined from the effective refractive index of the two reflectors and the refractive index and thickness of each layer between the reflectors is adjusted to an optimum value to obtain the desired resonant wavelength. Is done. The calculation formula in the case of the first aspect is described in JP-A-9-180883. The calculation formula in the case of the second aspect is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-127795.

（ディスプレイ）
本発明のディスプレイとしては、基板と、前記基板上に形成された複数の発光素子とを備え、前記複数の発光素子のうち少なくとも１つの発光素子が本発明の発光素子であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。 (display)
The display of the present invention includes a substrate and a plurality of light emitting elements formed on the substrate, and there is no particular limitation as long as at least one of the plurality of light emitting elements is the light emitting element of the present invention. And can be appropriately selected according to the purpose.

なお、十分な効果を得る観点から、ディスプレイを有する発光素子の総数に対し、５０％以上の発光素子が、所定の断面形状を有する本発明の発光素子であることが好ましく、その割合は６０％以上がより好ましく、７０％以上が特に好ましい。   From the viewpoint of obtaining a sufficient effect, it is preferable that 50% or more of the light emitting elements with respect to the total number of light emitting elements having a display are the light emitting elements of the present invention having a predetermined cross-sectional shape, and the ratio is 60%. The above is more preferable, and 70% or more is particularly preferable.

なお、ディスプレイにおける本発明の発光素子が占める割合は、設計値より算出する。   In addition, the ratio for which the light emitting element of this invention accounts in a display is computed from a design value.

複数の発光素子が形成する略方形の表示面の少なくとも一の辺方向における凸部の配置対称性が５０％以上であることが好ましく、表示面の一の辺方向と略直交方向の他の辺方向における凸部の配置対称性が５０％以上であることがさらに好ましい。   The arrangement symmetry of the convex portions in at least one side direction of the substantially square display surface formed by the plurality of light emitting elements is preferably 50% or more, and the other side in a direction substantially orthogonal to one side direction of the display surface More preferably, the arrangement symmetry of the convex portions in the direction is 50% or more.

なお、凸部の配置対称性の定義は、以下のとおりであり、点対称に配置された凸部は、上下及び左右の配置対称性が共に１００％である。   In addition, the definition of the arrangement | positioning symmetry of a convex part is as follows, and the convex part arrange | positioned point-symmetrically has 100% of the vertical and left-right arrangement | positioning symmetry.

＜＜配置対称性の定義＞＞
図１Ｂに示すように、ディスプレイの表示面２０の辺２０ａ，２０ｂと平行な辺で構成され、単数乃至複数の凸部１３と外接する方形の外接四角形２１を描き、表示面２０の一の辺２０ａに平行な外接四角形２１の辺２１ａの中点２１ｘを互いに結んだ線を一の仮想線２２とし、該一の仮想線２２によって、有機ＥＬ発光素子の上面（光放出面側から視た面）を２つの領域に分割し、分割された第１の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ａと、分割された第２の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ｂとを比較し、面積の合計が小さい方の領域に存在する凸部１３を、仮想線２１を対称軸として対称移動する。対称移動された一方の領域の凸部１３と他方の領域の凸部１３との重複部分の面積の合計Ｃを、面積の合計Ａ及び面積の合計Ｂのうち大きい方の面積の合計で除した値（％）を配置上下対称性の指標とした。
また、ディスプレイの表示面２０の辺と平行な辺２０ａ，２０ｂで構成され、単数乃至複数の凸部１３と外接する方形の外接四角形２１を描き、表示面２０の他の辺２０ｂに平行な外接四角形２１の辺２１ｂの中点２１ｙを互いに結んだ線を他の仮想線２３とし、該他の仮想線２３によって、有機ＥＬ発光素子の上面を２つの領域に分割し、配置上下対称性の場合と同様に、重複部分の面積の合計Ｃを、面積の合計Ａ及び面積の合計Ｂのうち大きい方の面積の合計で除した値（％）を配置左右対称性の指標とした。 << Definition of configuration symmetry >>
As shown in FIG. 1B, a rectangular circumscribed rectangle 21 that is composed of sides parallel to the sides 20 a and 20 b of the display surface 20 of the display and circumscribes the one or more convex portions 13 is drawn, and one side of the display surface 20 is drawn. A line connecting the midpoints 21x of the sides 21a of the circumscribed square 21 parallel to 20a is defined as one imaginary line 22, and the upper surface of the organic EL light emitting element (surface viewed from the light emitting surface side) is defined by the one imaginary line 22. ) Is divided into two regions, and the total area A of the upper surface of the convex portion 13 existing in the divided first region and the total area of the upper surface of the convex portion 13 existing in the divided second region Compared with B, the convex portion 13 existing in the region with the smaller total area is moved symmetrically with the virtual line 21 as the axis of symmetry. The total area C of the overlapping portions of the convex portion 13 of one region and the convex portion 13 of the other region that are moved symmetrically is divided by the sum of the larger areas of the total area A and the total area B. The value (%) was used as an index of arrangement vertical symmetry.
Further, it is composed of sides 20a and 20b that are parallel to the side of the display surface 20 of the display, draws a rectangular circumscribed rectangle 21 that circumscribes the single or plural convex portions 13, and is circumscribed in parallel to the other side 20b of the display surface 20. A line connecting the midpoints 21y of the side 21b of the rectangle 21 is defined as another virtual line 23, and the upper surface of the organic EL light-emitting element is divided into two regions by the other virtual line 23. Similarly, the value (%) obtained by dividing the total area C of the overlapping portions by the larger area of the total area A and the total area B was used as an index of the arrangement symmetry.

＜基板＞
前記基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機化合物層から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。その具体例としては、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、およびポリ（クロロトリフルオロエチレン）等の有機材料が挙げられる。
例えば、基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。 <Board>
There is no restriction | limiting in particular as said board | substrate, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that it is a board | substrate which does not scatter or attenuate the light emitted from an organic compound layer. Specific examples include yttria-stabilized zirconia (YSZ), inorganic materials such as glass, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, and polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, and polycycloolefin. , Norbornene resins, and organic materials such as poly (chlorotrifluoroethylene).
For example, when glass is used as the substrate, alkali-free glass is preferably used as the material in order to reduce ions eluted from the glass. Moreover, when using soda-lime glass, it is preferable to use what gave barrier coatings, such as a silica. In the case of an organic material, it is preferable that it is excellent in heat resistance, dimensional stability, solvent resistance, electrical insulation, and workability.

基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。   There is no restriction | limiting in particular about the shape of a board | substrate, a structure, a magnitude | size, It can select suitably according to the use, purpose, etc. of a light emitting element. In general, the shape of the substrate is preferably a plate shape. The structure of the substrate may be a single layer structure, a laminated structure, may be formed of a single member, or may be formed of two or more members.

基板は、無色透明であっても、有色透明であってもよいが、有機発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。   The substrate may be colorless and transparent or colored and transparent, but is preferably colorless and transparent in that it does not scatter or attenuate light emitted from the organic light emitting layer.

基板には、その表面又は裏面に透湿防止層（ガスバリア層）を設けることができる。
透湿防止層（ガスバリア層）の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。透湿防止層（ガスバリア層）は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
熱可塑性基板を用いる場合には、さらに必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。 The substrate can be provided with a moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) on the front surface or the back surface.
As a material for the moisture permeation preventive layer (gas barrier layer), inorganic materials such as silicon nitride and silicon oxide are preferably used. The moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) can be formed by, for example, a high frequency sputtering method.
When a thermoplastic substrate is used, a hard coat layer, an undercoat layer, or the like may be further provided as necessary.

前記ディスプレイをフルカラータイプのものとする方法としては、例えば「月刊ディスプレイ」、２０００年９月号、３３〜３７ページに記載されているように、色の３原色（青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ））に対応する光をそれぞれ発光する有機ＥＬ素子を基板上に配置する３色発光法、白色発光用の有機ＥＬ素子による白色発光をカラーフィルターを通して３原色に分ける白色法、青色発光用の有機ＥＬ素子による青色発光を蛍光色素層を通して赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ）に変換する色変換法、などが知られている。
また、上記方法により得られる異なる発光色の有機ＥＬ素子を複数組み合わせて用いることにより、所望の発光色の平面型光源を得ることができる。例えば、青色および黄色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、青色、緑色、赤色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、等である。 For example, as described in “Monthly Display”, September 2000 issue, pages 33 to 37, a method for making the display of a full color type includes three primary colors (blue (B), green (G ), A three-color light emitting method in which organic EL elements each emitting light corresponding to red (R)) are arranged on a substrate, a white method in which white light emission by an organic EL element for white light emission is divided into three primary colors through a color filter, A color conversion method for converting blue light emission by a blue light-emitting organic EL element into red (R) and green (G) through a fluorescent dye layer is known.
Moreover, the planar light source of a desired luminescent color can be obtained by using combining the organic EL element of the different luminescent color obtained by the said method. For example, a white light-emitting light source that combines blue and yellow light-emitting elements, a white light-emitting light source that combines blue, green, and red light-emitting elements.

（ディスプレイの製造方法）
本発明のディスプレイの製造方法では、発光素子の各部材の製造成法について、特に制限はなく、例えば、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、転写法、印刷法、塗布法、インクジェット法、およびスプレー法等から適宜選択することができる。 (Display manufacturing method)
In the manufacturing method of the display of the present invention, there is no particular limitation on the manufacturing method of each member of the light emitting element. For example, a dry film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method, a transfer method, a printing method, a coating method, an ink jet method. , And a spray method or the like.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
＜有機ＥＬ発光素子の作製＞
ガラス基板上に、Ａｌ膜を１００ｎｍの膜厚で蒸着する。これをフォトリソグラフィ工程によりパターニングし、Ａｌ走査電極パターンを、幅が２００μｍで間隔が１０μｍになるように、平行に形成する。更にＩＴＯ膜を５０ｎｍの膜厚で形成し、フォトリソグラフィにより同様の形状をＡｌ膜上に形成する。
次に、このようにして形成したＩＴＯ電極パターン上に、蒸着マスクを使い、正孔輸送層を構成するα−ＮＰＤ膜と発光層兼電子輸送層を構成するＡｌｑ３膜を、それぞれ５０ｎｍの膜厚に真空蒸着により順次形成し、さらに電子輸送層上にＬｉＦ膜を０．５ｎｍの厚みに形成した後、蒸着マスクを使い、幅が１５０μｍで厚みが１０ｎｍのＡｌデータ電極パターンを１０μｍ間隔で形成する。更にＩＴＯ膜を１００ｎｍ形成した。
さらに、ＳｉＯＮ膜をマスクにより所望の形態で厚み１００ｎｍの凸部を形成した。なお、形成された凸部の屈折率は、Ａｌｑ３膜（発光層）の屈折率の１．０３倍であった。
最後に、基板上にガラスよりなる封止板を、表示領域を覆うように窒素雰囲気中において被せ、紫外線硬化型接着剤により接着する。
下側のＩＴＯ走査電極パターンを陽極、上側の１０ｎｍ厚Ａｌに積層したＩＴＯデータ電極パターンを陰極として各画素を点灯させたところ、発光層より緑色の発光が得られた。
以上より、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.
Example 1
<Preparation of organic EL light emitting device>
On the glass substrate, an Al film is deposited with a film thickness of 100 nm. This is patterned by a photolithography process, and Al scanning electrode patterns are formed in parallel so that the width is 200 μm and the interval is 10 μm. Further, an ITO film is formed with a thickness of 50 nm, and a similar shape is formed on the Al film by photolithography.
Next, on the ITO electrode pattern thus formed, an α-NPD film constituting the hole transport layer and an Alq 3 film constituting the light emitting layer / electron transport layer are respectively deposited to 50 nm using a vapor deposition mask. After sequentially forming the thickness by vacuum vapor deposition and further forming a LiF film on the electron transport layer to a thickness of 0.5 nm, an Al data electrode pattern having a width of 150 μm and a thickness of 10 nm is formed at intervals of 10 μm using a vapor deposition mask. To do. Further, an ITO film was formed to 100 nm.
Further, a convex portion having a thickness of 100 nm was formed in a desired form using the SiON film as a mask. In addition, the refractive index of the formed convex part was 1.03 times the refractive index of the Alq 3 film (light emitting layer).
Finally, a sealing plate made of glass is placed on the substrate in a nitrogen atmosphere so as to cover the display region, and is adhered with an ultraviolet curable adhesive.
When each pixel was turned on using the lower ITO scanning electrode pattern as an anode and the upper ITO data electrode pattern laminated on 10 nm thick Al as a cathode, green light emission was obtained from the light emitting layer.
As described above, when the organic EL light emitting device was viewed from the light emitting surface side, an organic EL light emitting device in which the convex portion 13 was formed as shown in FIG. 2 was produced.

＜配置対称性の評価＞
作製した有機ＥＬ発光素子について、凸部の配置対称性を評価した。結果を表１に示す。なお、凸部の配置対称性の定義は、以下のとおりであり、点対称に配置された凸部は、上下及び左右の配置対称性が共に１００％である。 <Evaluation of arrangement symmetry>
About the produced organic EL light emitting element, the arrangement | positioning symmetry of a convex part was evaluated. The results are shown in Table 1. In addition, the definition of the arrangement | positioning symmetry of a convex part is as follows, and the convex and convex arrangement | positioning arrange | positioned at point symmetry has 100% of the vertical and left-right arrangement | positioning symmetry.

＜＜配置対称性の定義＞＞
図１Ｂに示すように、ディスプレイの表示面２０の辺と平行な辺で構成され、単数乃至複数の凸部１３と外接する方形の外接四角形２１を描き、表示面２０の一の辺２０ａに平行な外接四角形２１の辺２１ａの中点２１ｘを互いに結んだ線を一の仮想線２２とし、該一の仮想線２２によって、有機ＥＬ発光素子の上面（光放出面側から視た面）を２つの領域に分割し、分割された第１の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ａと、分割された第２の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ｂとを比較し、面積の合計が小さい方の領域に存在する凸部１３を、仮想線２１を対称軸として対称移動する。対称移動された一方の領域の凸部１３と他方の領域の凸部１３との重複部分の面積の合計Ｃを、面積の合計Ａ及び面積の合計Ｂのうち大きい方の面積の合計で除した値（％）を配置上下対称性の指標とした。
また、ディスプレイの表示面２０の辺と平行な辺で構成され、単数乃至複数の凸部１３と外接する方形の外接四角形２１を描き、表示面２０の他の辺２０ｂに平行な外接四角形２１の辺２１ｂの中点２１ｙを互いに結んだ線を他の仮想線２３とし、該他の仮想線２３によって、有機ＥＬ発光素子の上面を２つの領域に分割し、配置上下対称性の場合と同様に、重複部分の面積の合計Ｃを、面積の合計Ａ及び面積の合計Ｂのうち大きい方の面積の合計で除した値（％）を配置左右対称性の指標とした。
例えば、後述する図８に示すように凸部１３が配置された場合、仮想線８０を対称軸として対称移動された凸部と重なった凸部の面積の合計Ｃが、仮想線８０より左側（右側）の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ａ（Ｂ）と同じであるので、配置左右対称性を１００％とした。また、仮想線８１を対称軸として対称移動された凸部と重なった凸部の面積の合計Ｃが、仮想線８１より下側の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ｂよりも小さく、面積の合計Ｃが面積の合計Ｂの７５％であるので、配置上下対称性を７５％とした。
例えば、後述する図９に示すように凸部１３が配置された場合、仮想線９０を対称軸として対称移動された凸部と重なった凸部の面積の合計Ｃが、仮想線９０より左側の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ａよりも小さく、また、仮想線９１を対称軸として面積の合計Ｃが面積の合計Ａの７５％であるので、配置左右対称性を７５％とした。また、対称移動された凸部と重なった凸部の面積の合計Ｃが、仮想線９１より上側（下側）の領域に存在する凸部１３の上面の面積の合計Ａ（Ｂ）と同じであるので、配置上下対称性を１００％とした。 << Definition of configuration symmetry >>
As shown in FIG. 1B, a rectangular circumscribed rectangle 21 that is formed by a side parallel to the side of the display surface 20 of the display and circumscribes the one or more convex portions 13 is drawn and parallel to one side 20 a of the display surface 20. A line connecting the midpoints 21x of the sides 21a of the circumscribed rectangle 21 is defined as one imaginary line 22, and the upper surface of the organic EL light emitting element (the surface viewed from the light emitting surface side) is 2 by the imaginary line 22. The total area A of the upper surface of the convex part 13 existing in the divided first area and the total area B of the upper surface of the convex part 13 existing in the divided second area are divided into two areas. In comparison, the convex portion 13 existing in the region with the smaller total area is moved symmetrically with the virtual line 21 as the symmetry axis. The total area C of the overlapping portions of the convex portion 13 of one region and the convex portion 13 of the other region that are moved symmetrically is divided by the sum of the larger areas of the total area A and the total area B. The value (%) was used as an index of arrangement vertical symmetry.
Further, a rectangular circumscribed rectangle 21 which is composed of a side parallel to the side of the display surface 20 of the display and circumscribes the one or more convex portions 13 is drawn, and the circumscribed rectangle 21 parallel to the other side 20 b of the display surface 20 is drawn. A line connecting the midpoints 21y of the side 21b is defined as another imaginary line 23, and the upper surface of the organic EL light emitting element is divided into two regions by the other imaginary line 23. A value (%) obtained by dividing the total area C of the overlapping portions by the larger area total of the total area A and the total area B was used as an indicator of the arrangement symmetry.
For example, when the convex portion 13 is arranged as shown in FIG. 8 to be described later, the total area C of the convex portions that overlap with the convex portion that is symmetrically moved with the virtual line 80 as the symmetry axis is the left side of the virtual line 80 ( Since it is the same as the total area A (B) of the upper surface of the convex portion 13 existing in the right side region, the arrangement left-right symmetry is set to 100%. Further, the total area C of the convex portions overlapping the convex portions symmetrically moved with the virtual line 81 as the symmetry axis is larger than the total area B of the upper surface of the convex portions 13 existing in the region below the virtual line 81. Since the total area C is 75% of the total area B, the arrangement vertical symmetry is set to 75%.
For example, when the convex portion 13 is arranged as shown in FIG. 9 to be described later, the total area C of the convex portions that overlap with the convex portion symmetrically moved with the virtual line 90 as the symmetry axis is on the left side of the virtual line 90. Since the total area C of the upper surface of the convex portion 13 existing in the region is smaller than the total area A and the virtual line 91 is the axis of symmetry, the total area C is 75% of the total area A. It was. Further, the total area C of the convex portions overlapping with the symmetrically moved convex portions is the same as the total area A (B) of the upper surface of the convex portions 13 existing in the region above (lower) the virtual line 91. Therefore, the arrangement vertical symmetry is set to 100%.

＜各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比の評価＞
作製した有機ＥＬ発光素子について、下記方法により、各有機ＥＬ発光素子における凸部の周側面積と、各有機ＥＬ発光素子における光透過性層の周側面積とを測定し、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比（「各有機ＥＬ発光素子における凸部の周側面積の合計」／「各有機ＥＬ発光素子における光透過性層の周側面積」）を計算した。結果を表１に示す。 <Evaluation of ratio of peripheral area in each organic EL light emitting element>
About the produced organic EL light emitting element, the peripheral side area of the convex part in each organic EL light emitting element and the peripheral side area of the light transmissive layer in each organic EL light emitting element are measured by the following method, and each organic EL light emitting element is measured. The ratio of the peripheral area in “(total sum of peripheral areas of convex portions in each organic EL light emitting element) /“ peripheral area of light transmissive layer in each organic EL light emitting element ”was calculated. The results are shown in Table 1.

＜＜各有機ＥＬ発光素子における凸部の周側面積の算出方法＞＞
各有機ＥＬ発光素子における凸部の周側面積は、発光素子の設計図面における設計値に基づいて算出した。実際には、周部分はマスク成膜やフォトリソグラフィにより、完全な垂直とはなっていない。完全な垂直とならずとも基準面に対して斜めになっていることが、効率向上に効果がある。この設計値に基づく値が増えることが、効率向上の指標となる。 << Calculation method of peripheral area of convex portion in each organic EL light emitting element >>
The peripheral area of the convex portion in each organic EL light emitting element was calculated based on the design value in the design drawing of the light emitting element. Actually, the peripheral portion is not completely vertical due to mask film formation or photolithography. Even if it is not completely vertical, it is effective to improve efficiency because it is inclined with respect to the reference plane. An increase in the value based on the design value is an index for improving efficiency.

＜＜各有機ＥＬ発光素子における光透過性層の周側面積の算出方法＞＞
各有機ＥＬ発光素子における光透過性層の周側面積は、発光素子の設計図面における設計値に基づいて算出した。光透過性層は、下側のＩＴＯから上側のＩＴＯまでの部分で、厚みは合計２６０．５ｎｍであった。 << Calculation Method of Peripheral Area of Light-Transparent Layer in Each Organic EL Light Emitting Element >>
The peripheral area of the light transmissive layer in each organic EL light emitting element was calculated based on the design value in the design drawing of the light emitting element. The light transmissive layer was a portion from the lower ITO to the upper ITO, and the thickness was 260.5 nm in total.

＜光取出し効率の評価＞
作製した有機ＥＬ発光素子について、下記方法により光取出し効率を測定した。結果を表１に示す。 <Evaluation of light extraction efficiency>
About the produced organic EL light emitting element, the light extraction efficiency was measured by the following method. The results are shown in Table 1.

＜＜測定方法＞＞
光取出し効率は、オーシャンオプティクス社製のマルチチャネル分光器を用いて測定した。 << Measurement method >>
The light extraction efficiency was measured using a multi-channel spectrometer manufactured by Ocean Optics.

＜視野角依存性の評価＞
作製した有機ＥＬ発光素子について、下記方法により視野角依存性を測定した。結果を表１に示す。 <Evaluation of viewing angle dependency>
About the produced organic electroluminescent element, viewing angle dependence was measured with the following method. The results are shown in Table 1.

＜＜測定方法＞＞
左右乃至上下方向において、正面と斜め４５度の光量比をマルチチャネル分光器（オーシャンオプティクス社製）を用いて測定した。また、実施例１の値を１とした場合の数値を比例計算した。 << Measurement method >>
In the left-right or up-down direction, the light quantity ratio of 45 degrees diagonally with the front was measured using a multi-channel spectrometer (manufactured by Ocean Optics). In addition, the numerical value when the value of Example 1 is 1 was proportionally calculated.

（実施例２）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図３に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 2)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex shape as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例３）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図４に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 3)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex shape as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例４）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図５に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 Example 4
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例５）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図６に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 5)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex shape as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例６）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図７に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 6)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例７）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図８に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 7)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex shape as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例８）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図９に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 8)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例９）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図１０に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 Example 9
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例１０）
実施例１において、光放出面側から有機ＥＬ発光素子を視た場合に、図２に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、図１１に示すように凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 10)
In Example 1, when the organic EL light emitting device is viewed from the light emitting surface side, instead of producing the organic EL light emitting device in which the convex portion 13 is formed as shown in FIG. 2, the convex as shown in FIG. Except that the organic EL light-emitting element in which the portion 13 was formed was manufactured, the organic EL light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1, and the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light-emitting element, the light The extraction efficiency and viewing angle dependence were evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例１１）
実施例１において、厚み１００ｎｍの凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、厚み２０ｎｍの凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 11)
Example 1 is different from Example 1 except that an organic EL light-emitting device having a 20 nm-thick convex portion 13 was formed instead of producing an organic EL light-emitting device having a convex portion 13 having a thickness of 100 nm. Similarly, an organic EL light emitting device was produced, and the evaluation of the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light emitting device, the light extraction efficiency, and the viewing angle dependency was performed. The results are shown in Table 1.

（実施例１２）
実施例１において、凸部１３の屈折率を実施例１の凸部１３の屈折率の０．９倍とした有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 Example 12
In Example 1, the organic EL light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the organic EL light emitting device in which the refractive index of the convex portion 13 was 0.9 times the refractive index of the convex portion 13 of Example 1 was produced. A light emitting element was manufactured, and evaluation of arrangement symmetry, a ratio of a peripheral area in each organic EL light emitting element, light extraction efficiency, and viewing angle dependency was performed. The results are shown in Table 1.

（実施例１３）
実施例１において、厚み１００ｎｍの凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、厚み２ｎｍの凸部１３が形成された有機ＥＬ発光素子を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 13)
Example 1 is different from Example 1 except that an organic EL light-emitting element having a 2 nm-thick protrusion 13 was formed instead of manufacturing an organic EL light-emitting element having a 100-nm thick protrusion 13 formed thereon. Similarly, an organic EL light emitting device was produced, and the evaluation of the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light emitting device, the light extraction efficiency, and the viewing angle dependency was performed. The results are shown in Table 1.

（比較例１）
実施例１において、凸部が形成された有機ＥＬ発光素子を作製した代わりに、凸部が形成されていない有機ＥＬ発光素子（図１２）を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ発光素子を作製し、配置対称性、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比、光取出し効率、視野角依存性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Comparative Example 1)
In Example 1, instead of producing an organic EL light emitting element having a convex portion, the same procedure as in Example 1 was conducted except that an organic EL light emitting element having no convex portion (FIG. 12) was produced. Then, an organic EL light emitting device was prepared, and evaluation of the arrangement symmetry, the ratio of the peripheral area in each organic EL light emitting device, the light extraction efficiency, and the viewing angle dependency was performed. The results are shown in Table 1.

表１より、各有機ＥＬ発光素子における凸部の屈折率が発光層の屈折率の０．９倍以上であり、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比（凸部／光透過性層）が０．０１倍以上である実施例１〜１３は、各有機ＥＬ発光素子における周側面積の比（凸部／光透過性層）が０倍である比較例１と比較して、光取出し効率が向上していることがわかる。   From Table 1, the refractive index of the convex part in each organic EL light emitting element is 0.9 times or more the refractive index of the light emitting layer, and the ratio of the peripheral area in each organic EL light emitting element (convex part / light transmissive layer) In Examples 1 to 13 in which the ratio is 0.01 times or more, the light extraction is compared with Comparative Example 1 in which the ratio of the peripheral area in each organic EL light emitting element (projection / light transmissive layer) is 0 times. It can be seen that the efficiency is improved.

本発明の発光素子は、表示素子、ディスプレイ（発光型フラットパネルディスプレイ（有機ＥＬ、無機ＥＬ、プラズマ））、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信、ＬＥＤ、蛍光管等に好適に利用できる。   The light emitting device of the present invention includes a display device, a display (light emitting flat panel display (organic EL, inorganic EL, plasma)), backlight, electrophotography, illumination light source, recording light source, exposure light source, reading light source, sign, signboard, It can be suitably used for interiors, optical communications, LEDs, fluorescent tubes, and the like.

図１Ａは、本発明の発光素子としての有機ＥＬ素子を説明するための断面図である。FIG. 1A is a cross-sectional view for explaining an organic EL element as a light emitting element of the present invention. 図１Ｂは、配置対称性を説明するための図である。FIG. 1B is a diagram for explaining the arrangement symmetry. 図２は、実施例１で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 2 is a top view of the organic EL element produced in Example 1. FIG. 図３は、実施例２で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 3 is a top view of the organic EL element produced in Example 2. FIG. 図４は、実施例３で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。4 is a top view of the organic EL element produced in Example 3. FIG. 図５は、実施例４で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 5 is a top view of the organic EL element produced in Example 4. FIG. 図６は、実施例５で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 6 is a top view of the organic EL element produced in Example 5. FIG. 図７は、実施例６で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 7 is a top view of the organic EL element produced in Example 6. FIG. 図８は、実施例７で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 8 is a top view of the organic EL element produced in Example 7. 図９は、実施例８で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 9 is a top view of the organic EL element produced in Example 8. 図１０は、実施例９で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 10 is a top view of the organic EL element produced in Example 9. 図１１は、実施例１０で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 11 is a top view of the organic EL element produced in Example 10. FIG. 図１２は、比較例１で作製した有機ＥＬ素子の上面図である。FIG. 12 is a top view of the organic EL element produced in Comparative Example 1. FIG. 図１３は、従来の発光素子を説明するための断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view for explaining a conventional light emitting device.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 発光素子
１１ 反射層
１２ 光透過性層
１２ａ 底面
１２ｂ 上面
１３ 凸部
１３ａ 底面
１３ｂ 上面
１０１ 反射層
１０２ ＥＬ発光層
１０３ 封止層
１０４ 外部
１０５ 有機ＥＬ素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light emitting element 11 Reflective layer 12 Light transmissive layer 12a Bottom surface 12b Upper surface 13 Convex part 13a Bottom surface 13b Upper surface 101 Reflective layer 102 EL light emitting layer 103 Sealing layer 104 External 105 Organic EL element

Claims (5)

基準平面上に形成された発光層であって、前記基準平面と略平行な光放出面から光を放出する発光層を含む光透過性層と、前記光透過性層上に形成された凸部とを備え、
前記凸部の屈折率が、発光層の屈折率の０．９倍以上であり、
前記凸部の前記基準平面と略直交する面の面積の合計が、前記発光層を含む光透過性層の前記基準平面と略直交する面の面積の合計の０．０１倍以上であることを特徴とする発光素子。 A light-emitting layer formed on a reference plane, the light-transmitting layer including a light-emitting layer that emits light from a light-emitting surface substantially parallel to the reference plane, and a convex portion formed on the light-transmitting layer And
The refractive index of the convex portion is 0.9 times or more the refractive index of the light emitting layer,
The total area of the surfaces of the protrusions substantially perpendicular to the reference plane is 0.01 times or more of the total area of the surfaces substantially orthogonal to the reference plane of the light-transmitting layer including the light emitting layer. A light emitting device characterized. 発光層が固体である請求項１に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting layer is solid. 基板と、前記基板上に形成された複数の発光素子とを備え、前記複数の発光素子のうち少なくとも１つの発光素子が請求項１から２のいずれかに記載の発光素子であることを特徴とするディスプレイ。   3. A light emitting device according to claim 1, comprising a substrate and a plurality of light emitting devices formed on the substrate, wherein at least one light emitting device is the light emitting device according to claim 1. Display. 複数の発光素子が方形の表示面を形成し、
光放出面側から発光素子を視た場合、前記表示面の少なくとも一の辺方向における凸部の配置対称性が５０％以上である請求項３に記載のディスプレイ。 A plurality of light emitting elements form a square display surface,
The display according to claim 3, wherein when the light emitting element is viewed from the light emitting surface side, the arrangement symmetry of the convex portions in at least one side direction of the display surface is 50% or more. 表示面の一の辺方向と略直交方向の他の辺方向における凸部の配置対称性が５０％以上である請求項４に記載のディスプレイ。   The display according to claim 4, wherein the arrangement symmetry of the convex portions in the other side direction substantially orthogonal to the one side direction of the display surface is 50% or more.
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