KR20040084923A - 유기물 코팅된 재료 표면의 세정 방법 및 그 방법을실행하기 위한 발전기 및 장치 - Google Patents

유기물 코팅된 재료 표면의 세정 방법 및 그 방법을실행하기 위한 발전기 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 유기물 코팅된 재료(2)의 표면을 연속 세정하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은, 산소를 함유하는 가스 스트림(stream)이 공급된 처리 영역에 재료(2)를 도입하는 단계; 상기 재료(2)를 접지하는 단계; 및 상기 재료(2)의 표면과 유전체로 코팅된 적어도 1개의 전극(3) 사이에 전기장을 인가하여 플라즈마를 생성하는 단계를 포함하며, 상기 전기장은 펄스 전기장이거나, 또는 상기 재료(2)에 대하여 연속적으로 양전압 펄스와 음전압 펄스를 포함하는 전기장이다. 또한, 상기 양전압 펄스 U+의 최대 전압은 아크 스트라이킹 전압(arc striking voltage) Ua보다 크고, 상기 음전압 펄스 U-의 최대 전압은 절대값으로 아크 스트라이킹 전압 Ua보다 작다. 아울러, 본 발명은 전술한 방법을 실행하는데 사용되는 발전기 및 장치에 관한 것이다.

Description

유기물 코팅된 재료 표면의 세정 방법 및 그 방법을 실행하기 위한 발전기 및 장치{METHOD OF CLEANING THE SURFACE OF A MATERIAL COATED WITH AN ORGANIC SUBSTANCE AND A GENERATOR AND DEVICE FOR CARRYING OUT SAID METHOD}
통상적으로, 현재 여러 가지 다양한 제조 라인에서 생성된 스트립 산물은 두 가지 기원을 가질 수 있는 오일 필름으로 코팅되어 있다. 먼저, 이러한 필름은 상기 스트립에 보호성 오일을 분무하는 방법을 이용하여 적용될 수 있으며, 이렇게 함으로써 스트립 표면의 부식을 방지할 수 있다. 그러나, 냉간 압연 밀(cold rolling mill)을 이용한 공정이나 스킨-패스(skin-pass) 공정을 거친 스트립에는 잔류 오일의 필름이 있을 수 있다. 전술한 두 가지 경우에 오일 코팅물의 중량은 약 100 ㎎/㎡ 정도이다.
스트립 상에 금속 코팅물 또는 유기 코팅물을 코팅하기 위해서는 세정 또는 오일 제거(degrease) 공정을 통해 오일을 제거한 다음, 상기 코팅물이 스트립에 양호하게 부착되도록 스트립에 증백(brightening) 공정을 수행해야 한다. 산업적으로 통상 이용되는 이러한 조작들에서는 스틸 스트립의 기계적 물성이 유지되도록, 이 스틸 스트립을 과도하게 가열해서는 안 된다는 제한이 따른다.
이에 따라, 이러한 조작들 중 가장 일반적인 방법은 전해 공정(electrolytic process)과 함께 또는 이러한 전해 공정을 수행하지 않은 채, 알칼리성 오일 제거 공정을 수행하는 것이다. 그러나, 환경 문제를 고려해 볼 때, 이 알칼리성 오일 제거 공정은 환경적으로 독성이 있는 공동 산물을 재처리하기 위해 복잡한 부수 설비가 필요하다.
예를 들면, 레이저 절삭 공정과 같이, 유독성 공동 산물의 형성을 억제하기 위한 기타 기법은 유기 화합물을 광화학적으로 탈착시키는 효과가 있으나, 현재로서는 레이저의 파워가 충분치 않아, 스트립을 분 당 수 미터 이상의 속도로 처리할 수가 없다.
미국특허 제5,529,631호에는 바람직한 표면 처리 방법으로서, 헬륨을 주로 포함하는 가스 혼합물 내에서 유전성 배리어 방전(dielectric barrier discharge)에 의해 생성된 고압 플라즈마를 이용하는 것이 기재되어 있다. 사실상, 이 희가스(rare gas)는 안정한 글로우 방전(glow discharge)을 수행하는데 필요한 것으로서, 불균일한 표면 처리를 초래할 수 있는 아크 모드의 진행을 억제한다. 전술한 경우에 있어서는 헬륨 함량이 70 부피%를 초과하도록 하여, 산소 함량을 제한한다. 전술한 특허에 인용된 실시예에는 상기 가스 혼합물 내에서 연속 수행되는 플라즈마 처리 공정이 폴리머의 표면 에너지를 증가시키는 데 충분하다고 기재되어 있다. 그러나, 전술한 바와 같이 금속 재료의 표면을 세정하는데 이용되는 플라즈마 처리의 경우에는 오일 코팅물을 산화시켜 스트립의 탄소 사슬을 휘발성 종으로 전환시키는 것은 오직 플라즈마 내에 형성된 반응성 산소종(O˙ 등)일 뿐이다. 따라서, 산소 함량이 30 부피% 이하인 가스 혼합물을 이용하여 전기 방전을 수행하는 경우에는 아마도 저밀도의 반응성 산소종에 의해서, 전술한 플라즈마 처리 공정이 신속하게 수행되지 않는 것으로 보인다.
이러한 문제를 해결하기 위한 방법으로서, 미국특허 제5,968,377호에는 전극들 사이에 펄스 전기장을 인가한 대기압 플라즈마를 이용한 표면 처리 공정에 대해 기재되어 있다. 상기 특허에서는 펄스 전기장을 인가함으로써, 아크 모드로 진행되기 전에 방전 반응을 종료하고, 이어서 곧바로 방전 반응이 재개될 수 있도록 한다. 상기 특허에서 인가된 전압 펄스는 대칭형이다. 그러나, 본 발명자들은 전술한 공정을 유기물 코팅된 재료를 세정하는데 이용할 수 없다는 것을 알아내었다. 이는 유기물의 일부분만이 산화되어 휘발하고, 다른 부분은 중합된다는 것이 관찰되었기 때문이다. 따라서, 전술한 방법의 경우에는 유기물 표면에 형성된 오일 필름을 플라즈마 내에 장시간 침지시킨 후에도 오일 필름의 일부만이 제거될 수 있다.
본 발명은 유기물 코팅된 재료 표면의 세정 방법, 특히 상기 방법을 실행하기 위한 발전기 및 시스템에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명의 방법은 금속 스트립(metal strip)의 세정을 위한 것이나, 이에 한정되지 않는다.
도면을 참조하여 본 발명의 적용 방법을 더욱 상세하게 설명하나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다:
도 1은 본 발명에 따른 처리 시스템을 도시한 개략도.
도 2a는 상기 시스템의 전력 공급 원리를 도시한 다이어그램이고, 도 2b는 상기 시스템의 블록 다이어그램.
도 3은 본 발명에 따른 발전기를 이용하여 얻어진 전압 변화를 도시한 오실로그램(oscillogram).
도 4는 CH 신축 밴드(CH stretching band)에 해당하는 파장 범위에서의 오일 코팅물 중량에 대해 보정한 시편의 퍼센트 반사율(%R) 변화를 도시한 도면.
도 5는 IRRAS(infrared reflection-absorption spectroscopy) 기록으로부터 수학적 계산을 통해 작성한 보정 곡선을 도시한 도면.
도 6은 처음에 100 ㎎/㎡의 오일로 코팅된 시편에 대해 처리 시간의 함수로서 잔류 오일 코팅물 중량(W)의 변화를 도시한 도면.
도 7은 처음에 53 ㎎/㎡의 오일로 코팅된 시편에 대해 처리 시간의 함수로서 잔류 오일 코팅물 중량(W)의 변화를 도시한 도면.
도 8은 처음에 110 ㎎/㎡의 오일로 코팅된 시편에 대해 처리 시간의 함수로서 잔류 오일 코팅물 중량(W)의 변화를 도시한 도면.
전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 유독성의 공동 산물을 생성하지 않으면서, 10 m/분보다 큰 속도로 기재 표면을 연속 세정하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 유기물 코팅된 재료의 표면을 연속 세정하는 방법으로서, 산소를함유하는 가스 스트림(stream)이 공급된 처리 영역에 상기 재료를 도입하는 단계, 상기 재료를 접지(grounding)하는 단계, 및 상기 재료의 표면과 유전체로 코팅된 적어도 1개의 전극 사이에 전기장을 인가하여 플라즈마를 생성하는 단계를 포함하며, 상기 전기장이 펄스 전기장이거나, 또는 상기 재료에 대하여 연속적으로 양전압 펄스와 음전압 펄스를 포함하는 전기장이며, 상기 양전압 펄스 U+의 최대 전압은 아크 스트라이킹 전압(arc striking voltage) Ua보다 크고, 상기 음전압 펄스 U-의 최대 전압은 절대값으로 아크 스트라이킹 전압 Ua보다 작은 것을 특징으로 한다.
특히, 본 발명자들은 높은 세정률을 얻기 위해서는 처리 영역 내의 플라즈마를 충분히 조밀하게 하기 위해 상기 양전압 펄스가 매우 높은 전압, 즉, 절대값으로 아크 스트라이킹 전압 Ua보다 높은 전압이어야 함을 알아냈다.
또한, 본 발명자들은, 지나치게 높은 음전압을 이용하는 경우에는 오일의 중합 반응이 초래되어 오일 제거 반응을 양호하게 수행할 수 없기 때문에, 상기 두 전극 사이에서의 전기 방전이 개시되지 않도록, 음전압 펄스 U-의 최대 전압을 절대값으로 아크 스트라이킹 전압 Ua보다 작게 하는 것이 필수적인 것임을 확인했다.
상기 아크 스트라이킹 전압값은 대개 반응기 내 가스의 압력 및 전극간의 거리에 좌우된다. 이들 파라미터는 파센의 법칙(Paschen's law)과 관련이 있다.
또한, 본 발명에 따른 방법은 하기의 특징들을 개별적으로 또는 조합하여 포함할 수 있다:
- 상기 전기장의 전압 상승 시간이 600 ns 이하, 바람직하게는 60 ns 이하임,
- 상기 양전압 펄스의 주파수가 20 ㎑ 이상임,
- 상기 가스 스트림이 공기 또는 산소로 구성됨,
- 상기 재료가 금속 재료, 바람직하게는 탄소강(carbon steel)임,
- 상기 유기물이 일시적인 부식 방지를 위해 제공되는 오일, 또는 예를 들면, 금속 재료상에서 수행되는 (스킨-패스) 압연 공정으로부터 유래된 불안정한 기계적 에멀전(오일/물 혼합물)임,
- 상기 재료가 연속 스트립(running strip)의 형태로 되어 있고, 상기 연속 스트립의 경로를 따라 연속 배치된 설비에 의해 상기 방법의 각 단계가 연속 수행됨.
또한, 본 발명은, 1 내지 200 ㎑의 주파수에서 저전압 펄스를 전달하는 저전압 전력 공급원 및 상기 저전압 펄스를 고전압 펄스로 변환시키기 위한 부품을 포함하는, 본 발명의 방법을 실행하는데 사용되는 발전기를 제공한다. 상기 발전기의 전압 상승 시간은 600 ns 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 60 ns 이하이다.
본 발명에 따른 발전기는 비대칭형 전압 펄스를 얻을 수 있다는 점에서, 미국특허 제5,968,377호에 기재된 것과는 상이하다. 미국특허 제5,968,377호에 기재된 발전기와는 달리, 저전압을 제외하고 고전압에서는 펄스 쵸핑(pulse chopping)이 수행되지 않으나, 이어서, 변환기에 의해 신호가 증폭된다. 본 발명에서 "저전압(low voltage)"이란 용어는 1 ㎸ 미만의 전압을 의미하는 것으로 간주한다.
아울러, 본 발명은 스트립을 가동시키기 위한 접지된 가동 수단, 유전체로 피복되어 있고, 처리될 스트립 표면과 대향되도록 배치되며, 본 발명의 발전기에 연결되는 일련의 전극, 상기 스트립의 표면에 근접해 위치하는 가스 공급 수단, 및 상기 스트립에 코팅된 유기물의 분해 반응에 의해 생성되는 가스를 추출하기 위한 수단을 포함하는, 본 발명의 방법을 수행하기 위한 시스템을 제공한다.
본 명세서에서 "유전성(dielectric)"이란 용어는 유전 상수가 6보다 큰 것을 의미하는 것으로 간주된다. 아울러, "유기물(organic substance)"이란 용어는 적어도 탄소, 수소 및 산소를 함유하는 임의의 화합물을 의미하는 것으로 간주된다. 전술한 전압 상승 시간은 전압이 최대값에 도달할 때까지 상승하는 동안의 시간으로서 정의된다.
도 1은 부식 방지 오일로 코팅된 스틸 스트립(2)에서 오일을 제거하기 위한 회전 지지 롤(rotary support roll)(1)을 포함하는 처리 시스템을 도시한 것이다. 상기 롤(1)은 화살표(F) 방향으로 회전하며, 필요에 따라 상기 롤에 대해 냉각 공정을 수행할 수 있다. 상기 롤은 스트립(2)에 의해 접지된다.
유전체로 코팅되고 냉각된 복수 개의 전극(3)들은 상기 롤(1)과 대향되도록 배치된다. 전술한 유전체는 고온에 내성을 나타낼 수 있어야 하기 때문에, 예를 들면, 알루미나 또는 스투마타이트(stumatite)와 같은 세라믹으로부터 선택되는 것이 바람직할 수 있다. 상기 유전체는 유전 상수가 6보다 큰 것을 이용할 수 있으며, 상기 유전체로서, 알루미나의 경우에는 유전 상수가 8 내지 10의 범위인데 반해, 스투마타이트의 경우에는 유전 상수가 6 내지 8의 범위이다.
각각의 전극(3)은 본 발명에 따른 고전압 발전기(4)에 의해 전원이 공급된다. 상기 처리 가스 또는 가스 혼합물은 다양한 방법으로 공급될 수 있으며, 특히 인젝터 레일(injector rail)(5)에 의해 상기 전극(3)의 한쪽에 상기 처리 가스 또는 가스 혼합물이 도입될 수 있다. 아울러, 상기 시스템의 한 쪽에, 전술한 오일 필름의 분해 반응으로부터 생성된 가스 및 휘발성 종을 추출하기 위한 추출 시스템이 제공될 수 있다(본 도면에는 도시되지 않음). 상기 처리 영역에 가스를 용이하게 공급하기 위해서는 상기 처리 영역이 상기 스트립과 상기 전극 주위의 체임버(chamber) 내부에 배치되는 것이 바람직하다.
상기 스틸 스트립(2)은 접지되어 대전극(counterelectrode)으로서 작용한다. 상기 스틸 스트립은 상기 롤(1) 위를 주행하며, 상기 스틸 스트립의 한쪽 표면은 상기 처리 가스에서의 방전 작용에 의해 생성된 반응성 종, 특히 O˙ 타입의 산화된 종의 작용에 노출되어 있다.
1 내지 200 ㎑ 범위에서 변화시킨 주파수 동안, 단극성 전압 펄스(single-polarity voltage pulse), 및 부하에 좌우되는 파형을 공급 출력(supply output)으로 전달하는 상기 발전기(4)에 의해 전기 방전이 유발된다.
도 2a는 스텝-업 변환기(step-up transformer)에 연결되는 MOS 파워 트랜지스터를 이용한 펄스 전압 공급원의 전기 회로 형태를 도시한 도면이다.
도 2b는 특히 본 발명의 방법을 적용하기 위해 고안된 공급원의 블록 다이어그램을 도시한 도면이다. 상기 공급원은 고속 다이오드 블록으로 구성되며, 저항손실(ohmic loss)을 감소시키기 위해 파워 트랜지스터 및 변환기 내에서 전압과 전류를 역방향으로 제어하는 역할을 한다. 상기 변환기는 자성 재료의 포화를 방지하고 낮은 컨덕턴스 및 낮은 기생 용량(parasitic capacitance)을 얻기 위해 특별한 방법으로 실장된다.
도 3은 본 발명에 따른 발전기에 의해 전달된 펄스와 같은 연속한 두 개의 펄스를 전달하는 도중의 전압 변화를 도시한 곡선을 포함한다.
상기 곡선에서, 제1 전압 펄스가 양전압 펄스이고, 약 1.8 ㎲ 정도이며, 이 펄스 다음의 펄스는 더 낮은 진폭의 음전압 펄스로서, 약 48.2 ㎲임을 확인할 수 있다. 전술한 경우, 양전압 펄스 U+의 최대 전압은 12.7 ㎸이고, 음전압 펄스 U-의 최대값은 절대값으로 1.8 ㎸이다. 상기 처리 반응기는 유전성 배리어(Al2O3) 방전 반응을 이용한 것이며, 전극간 거리를 3 ㎜로 세팅한다.
상기 양전압 펄스가 상기 전기 발전기에 의해 유전체 코팅된 전극으로 전달되는 중에, 양전압 펄스가 기록되고, 4 ㎲ 이후에 저진폭의 음전압 펄스가 기록된다. 상기 유전체에서 측정된 전압이 음의 값이면 전류가 실질적으로 0이다. 상기 발전기의 양전압 상승 시간은 약 400 ns이다. 이러한 전압 상승 시간값을 나타내는 경우에는 적어도 전압 5 ㎸에서 방전 반응이 일어난다.
실시예 1
부식 방지 오일(Quaker TINNOL N200)로 코팅된 2개의 연강 스트립(mild steel strip) 시편으로부터 오일을 제거하기 위해, 상기 시편들에 펄스 전기장을 인가하여 처리하였다. 상기 두 스트립의 오일 코팅물 중량은 각각 100 ㎎/㎡ 및53 ㎎/㎡이었다. 상기 각각의 스트립을 대기압, 30 ℓ/분의 산소 스트림 존재 하에 처리하였다.
상기 처리 반응기로는 치수가 25×200 ㎟인 2개의 직교형 전극(rectangular electrode)을 포함할 수 있는 유전성 배리어(Al2O3) 방전 반응을 이용하는 것을 사용하였다. 상기 전극간의 거리는 3 ㎜이다.
상기 두 개의 스트립으로부터 취한 각각의 시편에 대해 플라즈마 처리 지속 시간을 변화시키면서 플라즈마 처리를 수행하였다. 그런 다음, IRRAS(infrared reflection-absorption spectroscopy)를 이용하여, 처리한 각각의 시편에 잔류하는 보호 오일 코팅물의 중량을 측정하였다.
전술한 바와 같은 실험을 통해 상기 코팅물의 중량을 측정하기 전에, 본 실시예에 사용한 것과 동일한 오일(Quaker TINNOL N200)을 이용하고, 역시 전술한 바와 동일한 IRRAS 분석을 통해 코팅물 중량에 대해 보정한 시편을 기준으로 보정 곡선을 작성했다.
도 4는 오일 코팅 중량에 대해 보정한 시편의 퍼센트 반사율(%R) 변화를 CH 신축 밴드에 해당하는 파수(wavenumber)(㎝-1단위로 나타냄) 범위 내에서 도시한 것이다. 상기 보정된 시편은 수평선에 가장 근접한 곡선으로부터 시작하여 10 ㎎/㎡, 32 ㎎/㎡, 50 ㎎/㎡, 71 ㎎/㎡, 100 ㎎/㎡ 및 150 ㎎/㎡의 오일을 포함하였다. 오일을 포함하지 않은 시편에서는 퍼센트 반사율이 100%로 나타났다.
도 5는 보정된 각각의 시편에 대한 IRRAS 기록을 기준으로 작성한 보정 곡선을 도시한 것이다.
도 6은 100 ㎎/㎡의 오일을 갖는 스트립으로부터 취한 시편을 100 ㎑의 주파수를 이용하여 플라즈마 처리한 처리 시간의 변화에 따른 상기 시편에서의 잔류 오일 코팅물 중량의 변화를 도시한 것이다. 상기 도면에서는 상기 스트립의 세정 시간은 7 내지 8초면 충분하다는 것을 확인할 수 있다.
도 7은 53 ㎎/㎡의 오일을 갖는 스트립으로부터 취한 시편을 100 ㎑의 주파수를 이용하여 플라즈마 처리한 처리 시간의 변화에 따른 상기 시편에서의 잔류 오일 코팅물 중량의 변화를 도시한 것이다.
실시예 2
오일 코팅 및 스킨-패스 처리한 연강 스트립을 세정하기 위해, 실시예 1에 기재된 바와 같은 반응기를 이용하고 실시예 1에서의 실험 조건과 동일하게 하여 처리했다. 상기 스트립에서의 오일 코팅물 중량은 110 ㎎/㎡이었다.
스킨 패스 처리한 스트립으로부터 취한 시편에 처리 시간을 변화시키면서, 플라즈마 처리를 수행했다. 그런 다음, 실시예 1에 기재된 방법에 따라 IRRAS를 통해, 각각의 처리 시편에서의 잔류 오일 코팅물 중량을 측정하였다.
도 8은 상기 스트립으로부터 취한 시편을 플라즈마 처리한 처리 시간의 변화에 따른 상기 시편에서의 잔류 오일 코팅물 중량의 변화를 도시한 것이다. 상기 도면에서는 상기 스트립의 세정 시간은 20초면 충분하다는 것을 주목할 수 있다.
실시예 3
150 ㎎/㎡의 Quaker TINNOL N200 오일막으로 코팅된 스틸 스트립을 이용하여, 실시예 1에서의 수행을 반복하였다.
상기 스트립으로부터 취한 시편에 전기장을 변화시키면서 인가하여 처리했다. 이들 시편 표면과 대조군 시편 표면의 XPS(X-ray photoelectron spectroscopy) 스펙트럼을 얻고, 해당 피크를 적분하여 Fe/C 및 O/C 비율을 계산하였다.
이렇게 하여 얻어진 결과 및 실험 조건을 하기 표에 나타낸다.
처리 시간(s) 산소(1/h) Fe/C
오일 코팅한 대조군 - 0
용매-오일 제거된 대조군 - 0.30
10 ㎑ 펄스의 DC 발전기를 이용한 플라즈마 75180 650 0.190.23
20 ㎑ 펄스의 DC 발전기를 이용한 플라즈마 45 650 0.20
40 ㎑ 펄스의 DC 발전기를 이용한 플라즈마 22 650 0.26
100 ㎑ 펄스의 DC 발전기를 이용한 플라즈마 10 650 0.23
Fe/C의 비값이 클수록, 금속 표면의 세정률이 높게 나타났다.
펄스 DC 발전기를 이용하여 얻어진 3개의 결과를 비교해 볼 때, 양전압 펄스가 적어도 20 ㎑의 주파수를 갖는 경우, 오일 제거 처리 속도가 현저하게 개선됨을 확인할 수 있다.
또한, 40 ㎑의 주파수를 갖는 펄스를 이용한 경우에는 상기 스트립이 22초 후에 완전히 오일 제거된 반면, 100 ㎑의 주파수를 갖는 펄스를 이용한 경우에는스트립에서 오일을 완전히 제거하는데 10초 이하의 시간이 소요됨을 확인할 수 있다.

Claims (13)

  1. 산소를 함유하는 가스 스트림(stream)이 공급된 처리 영역에 재료(2)를 도입하는 단계, 상기 재료(2)를 접지(grounding)하는 단계, 및 상기 재료(2)의 표면과 유전체로 코팅된 적어도 1개의 전극(3) 사이에 전기장을 인가하여 플라즈마를 생성하는 단계를 포함하며,
    상기 전기장이 펄스 전기장이거나, 또는 상기 재료(2)에 대하여 연속적으로 양전압 펄스와 음전압 펄스를 포함하는 전기장이며, 상기 양전압 펄스 U+의 최대 전압은 아크 스트라이킹 전압(arc striking voltage) Ua보다 크고, 상기 음전압 펄스 U-의 최대 전압은 절대값으로 아크 스트라이킹 전압 Ua보다 작은 것을 특징으로 하는, 유기물 코팅된 재료(2)의 표면을 연속 세정하는 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전기장의 전압 상승 시간이 600 ns 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 양전압 펄스의 주파수가 20 ㎑이상인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스 스트림이 공기 또는 산소로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 재료(2)가 금속 재료인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 재료(2)가 탄소강(carbon steel)인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 유기물이 일시적인 부식 방지를 위해 제공되는 오일, 또는 불안정한 기계적 에멀전인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 재료(2)가 연속 스트립(running strip)의 형태로 되어 있고, 상기 연속 스트립의 경로를 따라 연속 배치된 설비에 의해 상기 방법의 각 단계가 연속 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 1 내지 200 ㎑의 주파수에서 저전압 펄스를 전달하는 저전압 전력 공급원 및 상기 저전압 펄스를 고전압 펄스로 변환시키기 위한 부품을 포함하는 것을 특징으로 하는, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항 기재의 방법을 실행하는데 사용되는 발전기(4).
  10. 제9항에 있어서,
    전압 상승 시간이 600 ns 이하인 것을 특징으로 하는 발전기.
  11. 스트립(2)을 가동시키기 위한 접지된 가동 수단(1), 유전체로 피복되어 있고, 처리될 스트립(2) 표면과 대향되도록 배치되며, 제9항 또는 제10항 기재의 발전기(4)에 연결되는 일련의 전극(3), 상기 스트립(2)의 표면에 근접해 위치하는 가스 공급 수단, 및 상기 스트립(2)에 코팅된 유기물의 분해 반응에 의해 생성되는 가스를 추출하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는, 제8항 기재의 방법을 수행하기 위한 시스템.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 유전체가 알루미나로 구성된 것을 특징으로 하는 시스템.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 유전체가 스투마타이트(stumatite)로 구성된 것을 특징으로 하는 시스템.
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