RU2004127920A - Способ очистки поверхности материала, покрытого органическим веществом, генератор и устройство для осуществления способа - Google Patents
Способ очистки поверхности материала, покрытого органическим веществом, генератор и устройство для осуществления способа Download PDFInfo
- Publication number
- RU2004127920A RU2004127920A RU2004127920/02A RU2004127920A RU2004127920A RU 2004127920 A RU2004127920 A RU 2004127920A RU 2004127920/02 A RU2004127920/02 A RU 2004127920/02A RU 2004127920 A RU2004127920 A RU 2004127920A RU 2004127920 A RU2004127920 A RU 2004127920A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- voltage
- pulses
- dielectric
- strip
- generator
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 13
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 title claims 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32348—Dielectric barrier discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/335—Cleaning
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Claims (13)
1. Способ непрерывной очистки поверхности материала (2), покрытого органическим веществом, отличающийся тем, что содержит этапы, заключающиеся в помещении указанного материала (2) в зону обработки, питаемую газовым потоком, содержащим кислород, в подключении указанного материала (2) к массе, в генерировании плазмы путем размещения электрического поля между указанным материалом (2) и по меньшей мере одним электродом (3), покрытым диэлектриком, при этом указанное электрическое поле является импульсным и содержит последовательность импульсов с положительными и отрицательными значениями напряжения по отношению к указанному материалу (2), при этом максимальное напряжение положительных импульсов U+ превышает значение напряжения возникновения дуги Ua, а максимальное напряжение отрицательных импульсов U- меньше по абсолютной величине напряжения возникновения дуги Ua.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что фронт нарастания напряжения указанного поля меньше или равен 600 нс.
3. Способ по любому из п.1 или 2, отличающийся тем, что частота положительных импульсов превышает или равна 20 кГц.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанный газовый поток состоит из воздуха или кислорода.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанный материал (2) является металлическим материалом.
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что указанный материал (2) является углеродистой сталью.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что указанное органическое вещество является маслом для временной антикоррозионной защиты или нестабильной механической эмульсией.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что материал (2) имеет форму движущейся полосы, и тем, что различные этапы способа осуществляют в непрерывном режиме при помощи установок, последовательно размещенных на пути перемещения движущейся полосы.
9. Генератор (4), используемый для осуществления способа по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что содержит источник электрического питания низкого напряжения, выдающий импульсы низкого напряжения на частоте от 1 до 200 кГц, и тем, что содержит элементы, обеспечивающие преобразование указанных импульсов низкого напряжения в импульсы высокого напряжения.
10. Генератор по п.9, отличающийся тем, что фронт нарастания напряжения меньше или равен 600 нс.
11. Устройство для осуществления способа по п.8, содержащее средства перемещения (1) указанной полосы (2), соединенные с массой, ряд электродов (3), покрытых диэлектриком и расположенных напротив обрабатываемой поверхности указанной полосы (2), при этом указанные электроды соединены с генератором (4) по любому из пп.9 или 10, средства подачи газа, расположенные вблизи поверхности полосы (2), и средства удаления газообразных продуктов разложения органического вещества, покрывающего полосу (2).
12. Устройство по п.11, отличающееся тем, что указанный диэлектрик выполнен из глинозема.
13. Устройство по п.11, отличающееся тем, что указанный диэлектрик выполнен из стуматита.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0202047A FR2836157B1 (fr) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | Procede de nettoyage de la surface d'un materiau enduit d'une susbstance organique, generateur et dispositif de mise en oeuvre |
| FR02/02047 | 2002-02-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2004127920A true RU2004127920A (ru) | 2005-06-10 |
| RU2308546C2 RU2308546C2 (ru) | 2007-10-20 |
Family
ID=27636284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2004127920/02A RU2308546C2 (ru) | 2002-02-19 | 2003-02-19 | Способ очистки поверхности материала, покрытого органическим веществом, генератор и устройство для осуществления способа |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7662237B2 (ru) |
| EP (1) | EP1476588B1 (ru) |
| JP (2) | JP4704686B2 (ru) |
| KR (1) | KR100929538B1 (ru) |
| CN (2) | CN1311100C (ru) |
| AT (1) | ATE340278T1 (ru) |
| AU (1) | AU2003238140B2 (ru) |
| BR (2) | BRPI0307889B8 (ru) |
| CA (1) | CA2476184C (ru) |
| DE (1) | DE60308484T2 (ru) |
| ES (1) | ES2273007T3 (ru) |
| FR (1) | FR2836157B1 (ru) |
| MX (1) | MXPA04007930A (ru) |
| PL (1) | PL202796B1 (ru) |
| PT (1) | PT1476588E (ru) |
| RU (1) | RU2308546C2 (ru) |
| WO (1) | WO2003078692A1 (ru) |
| ZA (1) | ZA200406609B (ru) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2865420B1 (fr) | 2004-01-28 | 2007-09-14 | Saint Gobain | Procede de nettoyage d'un substrat |
| EP1570921A1 (de) * | 2004-03-02 | 2005-09-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Plasmareinigung eines Bauteils |
| US20060246218A1 (en) * | 2005-04-29 | 2006-11-02 | Guardian Industries Corp. | Hydrophilic DLC on substrate with barrier discharge pyrolysis treatment |
| AT502351A1 (de) * | 2005-09-12 | 2007-03-15 | Ziger Peter | Anlage zur plasmaprozessierung von endlosmaterial |
| SK287455B6 (sk) * | 2006-06-08 | 2010-10-07 | Fakulta Matematiky, Fyziky A Informatiky Univerzity Komensk�Ho | Zariadenie a spôsob čistenia, leptania, aktivácie a následné úpravy povrchu skla, povrchu skla pokrytého kysličníkmi kovov a povrchu iných materiálov pokrytých SiO2 |
| JP2009032651A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-02-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| DE102007052573B4 (de) * | 2007-11-03 | 2015-04-09 | Manroland Web Systems Gmbh | Feuchtwerk |
| US9168988B2 (en) * | 2010-12-27 | 2015-10-27 | Loch Stock and Barrel LLC | Method of cleaning a rotating object |
| TWI463922B (zh) * | 2011-03-09 | 2014-12-01 | Creating Nano Technologies Inc | 電漿產生裝置 |
| WO2012155174A1 (en) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | Dbd Innovations Pty Ltd | Method of analyzing a material |
| CN106660078B (zh) * | 2014-06-05 | 2021-01-29 | 伊利诺斯工具制品有限公司 | 用于清洁物体的***和方法 |
| CN104342714B (zh) * | 2014-10-22 | 2016-08-24 | 河北大学 | 一种去除不锈钢表面氧化皮的方法 |
| US10722925B2 (en) * | 2017-12-04 | 2020-07-28 | Suss Micro Tec Photomask Equipment Gmbh & Co Kg | Treatment head, treatment system and method for treating a local surface area of a substrate |
| RU2739195C1 (ru) * | 2020-04-07 | 2020-12-21 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Нтц Тонкопленочных Технологий В Энергетике" | Вакуумная напылительная установка с системой лазерной очистки паллет (варианты) |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2867912A (en) * | 1956-05-11 | 1959-01-13 | Horace Dawson | Method for the decontamination of metal foils |
| US4189650A (en) * | 1978-10-24 | 1980-02-19 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Isolated trigger pulse generator |
| JPS5944797A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-13 | 増田 閃一 | 物体の静電的処理装置 |
| DE3322341A1 (de) * | 1983-06-22 | 1985-01-03 | Siegfried Dr.-Ing. 5135 Selfkant Strämke | Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von werkstuecken durch glimmentladung |
| DE3405754A1 (de) * | 1984-02-17 | 1985-08-22 | Babcock-BSH AG vormals Büttner-Schilde-Haas AG, 4150 Krefeld | Furniertrockner fuer messerfurniere |
| US4642440A (en) * | 1984-11-13 | 1987-02-10 | Schnackel Jay F | Semi-transferred arc in a liquid stabilized plasma generator and method for utilizing the same |
| US5208067A (en) * | 1986-04-14 | 1993-05-04 | International Business Machines Corporation | Surface modification of organic materials to improve adhesion |
| US5443998A (en) * | 1989-08-01 | 1995-08-22 | Cypress Semiconductor Corp. | Method of forming a chlorinated silicon nitride barrier layer |
| JP2811820B2 (ja) * | 1989-10-30 | 1998-10-15 | 株式会社ブリヂストン | シート状物の連続表面処理方法及び装置 |
| US5472783A (en) * | 1990-09-14 | 1995-12-05 | Sermatech International, Inc. | Coated article |
| US5389195A (en) * | 1991-03-07 | 1995-02-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Surface modification by accelerated plasma or ions |
| US5182000A (en) * | 1991-11-12 | 1993-01-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of coating metal using low temperature plasma and electrodeposition |
| US5938854A (en) * | 1993-05-28 | 1999-08-17 | The University Of Tennessee Research Corporation | Method and apparatus for cleaning surfaces with a glow discharge plasma at one atmosphere of pressure |
| DE4332866C2 (de) * | 1993-09-27 | 1997-12-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Direkte Oberflächenbehandlung mit Barrierenentladung |
| US5458927A (en) * | 1995-03-08 | 1995-10-17 | General Motors Corporation | Process for the formation of wear- and scuff-resistant carbon coatings |
| WO1997013266A2 (en) * | 1995-06-19 | 1997-04-10 | The University Of Tennessee Research Corporation | Discharge methods and electrodes for generating plasmas at one atmosphere of pressure, and materials treated therewith |
| JPH09245995A (ja) * | 1996-03-01 | 1997-09-19 | Nissin Electric Co Ltd | ラジカル源の複数電極を用いた荷電粒子除去機構 |
| CA2205817C (en) * | 1996-05-24 | 2004-04-06 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof |
| US6106659A (en) * | 1997-07-14 | 2000-08-22 | The University Of Tennessee Research Corporation | Treater systems and methods for generating moderate-to-high-pressure plasma discharges for treating materials and related treated materials |
| US6633017B1 (en) * | 1997-10-14 | 2003-10-14 | Advanced Energy Industries, Inc. | System for plasma ignition by fast voltage rise |
| JP3391245B2 (ja) * | 1997-12-30 | 2003-03-31 | 株式会社島津製作所 | 薄膜形成装置 |
| GB9928781D0 (en) * | 1999-12-02 | 2000-02-02 | Dow Corning | Surface treatment |
| EP1162646A3 (en) * | 2000-06-06 | 2004-10-13 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Plasma treatment apparatus and method |
| DE10051508C2 (de) * | 2000-10-18 | 2003-08-07 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zündspannung von Leistungspulsen gepulst betriebener Plasmen |
| CN2455368Y (zh) * | 2000-12-13 | 2001-10-24 | 广州市环境保护设备厂 | 一种油烟净化装置 |
-
2002
- 2002-02-19 FR FR0202047A patent/FR2836157B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-02-19 CN CNB038041618A patent/CN1311100C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 WO PCT/FR2003/000541 patent/WO2003078692A1/fr active IP Right Grant
- 2003-02-19 BR BRPI0307889A patent/BRPI0307889B8/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-02-19 CA CA2476184A patent/CA2476184C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 CN CN200710085733XA patent/CN101014222B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 US US10/504,966 patent/US7662237B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 KR KR1020047012824A patent/KR100929538B1/ko active IP Right Grant
- 2003-02-19 RU RU2004127920/02A patent/RU2308546C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-02-19 PL PL370588A patent/PL202796B1/pl unknown
- 2003-02-19 ES ES03735758T patent/ES2273007T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-02-19 JP JP2003576679A patent/JP4704686B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 MX MXPA04007930A patent/MXPA04007930A/es active IP Right Grant
- 2003-02-19 BR BRBR122012007163-3A patent/BR122012007163B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-02-19 AU AU2003238140A patent/AU2003238140B2/en not_active Ceased
- 2003-02-19 AT AT03735758T patent/ATE340278T1/de active
- 2003-02-19 PT PT03735758T patent/PT1476588E/pt unknown
- 2003-02-19 EP EP03735758A patent/EP1476588B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2003-02-19 DE DE60308484T patent/DE60308484T2/de not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-08-19 ZA ZA2004/06609A patent/ZA200406609B/en unknown
-
2009
- 2009-06-16 US US12/485,552 patent/US9502214B2/en active Active
- 2009-10-16 JP JP2009239119A patent/JP2010031377A/ja active Pending
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2004127920A (ru) | Способ очистки поверхности материала, покрытого органическим веществом, генератор и устройство для осуществления способа | |
| JP2006526442A5 (ru) | ||
| EP1096837A3 (en) | Plasma treatment apparatus and plasma generation method using the apparatus | |
| AU2004318738B2 (en) | Welding torch with plasma assist | |
| ATE334235T1 (de) | Verfahren zum plasmareinigen von mit einer organischen substanz beschichteten materialoberflächen und vorrichtung dafür | |
| EP1091462A3 (en) | ArF excimer laser device | |
| JP2005322416A (ja) | 大気圧低温プラズマ装置と表面処理方法 | |
| JP2005235448A (ja) | プラズマ処理方法及びその装置 | |
| KR20020071694A (ko) | 대기압 플라즈마를 이용한 표면 세정방법 및 장치 | |
| WO2005078762A3 (en) | High-intensity electromagnetic radiation apparatus and methods | |
| DE50307658D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung der äusseren oberfläche eines metalldrahts, insbesondere als beschichtungsvorbehandlung | |
| DK1131181T3 (da) | Forbedret svejseanordning og fremgangsmåde til svejsning | |
| HUP9900992A2 (hu) | Eljárás és berendezés ingadozó teljesítményű plazma előállítására | |
| Nikiforov et al. | Breakdown process and corona to spark transition between metal and liquid electrodes | |
| UA148462U (uk) | Високочастотний бар'єрний озонатор | |
| KR100356404B1 (en) | Method and apparatus for eliminating specified hazardous substance in water using electric field | |
| JPH07155529A (ja) | ガス処理装置とそれの運転方法 | |
| RU94035486A (ru) | Импульсный генератор с выходным трансформатором на ферритовом магнитопроводе |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20210220 |