KR20020082490A - 승화 정제 방법 및 장치 - Google Patents
승화 정제 방법 및 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20020082490A KR20020082490A KR1020027012548A KR20027012548A KR20020082490A KR 20020082490 A KR20020082490 A KR 20020082490A KR 1020027012548 A KR1020027012548 A KR 1020027012548A KR 20027012548 A KR20027012548 A KR 20027012548A KR 20020082490 A KR20020082490 A KR 20020082490A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sublimation
- unit
- electromagnetic induction
- sublimable
- collection unit
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/20—Oxygen atoms
- C07D215/24—Oxygen atoms attached in position 8
- C07D215/26—Alcohols; Ethers thereof
- C07D215/30—Metal salts; Chelates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/0011—Heating features
- B01D1/0017—Use of electrical or wave energy
- B01D1/0023—Induction heating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D7/00—Sublimation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B63/00—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/82—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/82—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
- C07C209/84—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/84—Separation, e.g. from tar; Purification
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
Description
Claims (7)
- 전자기 유도에 의해 열을 발생하는 재료로 만들어진 가열 유닛, 승화 유닛 및 수집 유닛을 포함하고, 각각 전자기 유도 가열에 의해 온도가 독립적으로 제어될 수 있고, 승화 가능한 물질에 대해 불활성인 재료가 상기 승화 유닛의 내부 표면 또는 내부 관 및/또는 상기 승화 가능한 물질과 접촉하는 상기 수집 유닛으로 사용되는 것을 특징으로 하는 승화 정제 장치.
- 제1항에 있어서, 전자기 유도에 의해 열을 발생하는 상기 재료는 금속성 재료인 것을 특징으로 하는 승화 정제 장치.
- 제1항에 있어서, 전자기 유도에 의해 열을 발생하는 상기 재료는 비금속성 재료인 것을 특징으로 하는 승화 정제 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 승화 유닛 및/또는 상기 수집 유닛은 전자기 유도에 의해 열을 발생하는 재료의 층을 함유하는 둘 이상의 층들의 재료로 만들어지고, 상기 승화 가능한 물질과 접촉하는 상기 내부 층의 재료는 상기 승화 가능한 물질에 대해 불활성 재료인 것을 특징으로 하는 승화 정제 장치.
- 제1항에 있어서, 승화 가능한 물질에 대해 불활성인 상기 재료는 금속, 글래스, 세라믹 및 플루오로폴리머로부터 선택된 재료인 것을 특징으로 하는 승화 정제 장치.
- 전자기 유도에 의해 열을 발생하는 재료로 만들어진 열 발생 유닛, 승화 유닛 및 수집 유닛을 포함하고, 각각 전자기 유도 가열에 의해 독립적으로 온도가 제어될 수 있고, 금속, 글래스 및 세라믹과 같은 승화 가능한 물질에 대해 불활성인 재료가 상기 승화 유닛의 내부 표면 또는 내부 관 및/또는 상기 승화 가능한 물질과 접촉하는 상기 수집 유닛으로 사용되는 승화 정제 장치에서,상기 장치의 상기 승화 유닛으로 상기 승화 가능한 물질을 인도하는 단계;전자기 유도에 의해 상기 승화 유닛에서 열을 발생하여 상기 승화 가능한 물질을 승화하는 단계;전자기 유도 가열에 의해 온도가 제어되는 구역을 포함하는 상기 수집 유닛으로 상기 승화된 재료를 인도하는 단계; 및목적하는 상기 승화 물질을 수집하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 승화 정제 방법.
- 제 6항에 있어서, 상기 승화 가능한 물질은 금속 화합물 또는 유기 EL 장치 재료로서 사용할 수 있는 유기 화합물인 것을 특징으로 하는 승화 정제 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000082195 | 2000-03-23 | ||
JPJP-P-2000-00082195 | 2000-03-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020082490A true KR20020082490A (ko) | 2002-10-31 |
KR100599428B1 KR100599428B1 (ko) | 2006-07-12 |
Family
ID=18599027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020027012548A KR100599428B1 (ko) | 2000-03-23 | 2001-03-19 | 승화 정제 방법 및 장치 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6878183B2 (ko) |
EP (1) | EP1273330B1 (ko) |
JP (1) | JP4866527B2 (ko) |
KR (1) | KR100599428B1 (ko) |
CN (1) | CN1256998C (ko) |
AU (1) | AU2001241197A1 (ko) |
DE (1) | DE60132763T2 (ko) |
TW (1) | TWI233836B (ko) |
WO (1) | WO2001070364A1 (ko) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100582663B1 (ko) * | 2004-07-21 | 2006-05-23 | 제일모직주식회사 | 유기물질의 승화정제방법 |
KR100674680B1 (ko) * | 2005-05-18 | 2007-01-25 | (주)루디스 | 고체 재료 연속 고순도 정제장치 |
KR100754902B1 (ko) * | 2005-12-09 | 2007-09-04 | (주) 디오브이 | 유기전계 발광재료의 정제방법 |
KR101309010B1 (ko) * | 2013-02-26 | 2013-09-17 | 희성소재 (주) | 승화 정제 장치 |
KR101337336B1 (ko) * | 2012-03-13 | 2013-12-12 | 주식회사 피브이디 | 독립적인 가열부를 구비한 유기물 승화 정제장치 |
KR20150094009A (ko) * | 2014-02-10 | 2015-08-19 | 희성소재 (주) | 저온 승화 정제 장치 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100434273B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2004-06-05 | 엘지전자 주식회사 | 유기물질의 정제방법 |
JP2004067527A (ja) * | 2002-08-02 | 2004-03-04 | Nippon Shokubai Co Ltd | 昇華性物質の回収方法 |
WO2005108372A1 (en) * | 2004-04-05 | 2005-11-17 | Albemarle Corporation | Process to make metal complexes with volatile liquid metal compounds |
US20060263279A1 (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-23 | Laurencin Cato T | Adjustable path sublimator system and related method of use |
US20060289289A1 (en) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Christian Kloc | Purification of organic compositions by sublimation |
JP2007246424A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 有機材料の精製方法 |
KR101296430B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2013-08-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 수직형 승화 정제 장치 및 방법 |
US20090246077A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-01 | Ufc Corporation | Container assembly for sublimation |
US9312037B2 (en) * | 2011-09-29 | 2016-04-12 | Uchicago Argonne, Llc | Methods for producing Cu-67 radioisotope with use of a ceramic capsule for medical applications |
JP2013116879A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機材料の精製装置及び有機材料の精製方法 |
CN102380224B (zh) * | 2011-11-25 | 2013-12-18 | 苏州华微特粉体技术有限公司 | 一种升华器 |
KR20130096370A (ko) * | 2012-02-22 | 2013-08-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기물 정제장치 |
EP3033155B1 (de) | 2013-08-13 | 2017-12-13 | Merck Patent GmbH | Apparat und verfahren zur vakuumaufreinigung |
JP6111171B2 (ja) * | 2013-09-02 | 2017-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法及び成膜装置 |
WO2015122686A1 (ko) * | 2014-02-14 | 2015-08-20 | 한국생산기술연구원 | 이온성 액체를 이용한 유기소재 정제방법 및 정제장치 |
JP6586293B2 (ja) * | 2015-05-26 | 2019-10-02 | 高周波熱錬株式会社 | マグネシウムの精製方法及びマグネシウム精製装置 |
CN104926571A (zh) * | 2015-06-19 | 2015-09-23 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | 制备高纯度***的升华装置及方法 |
CN105481616B (zh) * | 2015-11-27 | 2018-04-27 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | ***颗粒表面包覆的装置及方法 |
US11090577B2 (en) | 2016-04-08 | 2021-08-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Purification method and purification apparatus |
JP2019111507A (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-11 | 株式会社 エイエルエステクノロジー | 精製装置 |
US11168394B2 (en) | 2018-03-14 | 2021-11-09 | CeeVeeTech, LLC | Method and apparatus for making a vapor of precise concentration by sublimation |
CN108299516A (zh) * | 2018-04-03 | 2018-07-20 | 江西佳因光电材料有限公司 | 一种超高纯茂金属源的升华提纯装置及其提纯超高纯茂金属源的方法 |
JP6432874B1 (ja) * | 2018-06-26 | 2018-12-05 | 株式会社奥本研究所 | 精製装置 |
CN109011679B (zh) * | 2018-09-30 | 2024-05-31 | 深圳普瑞材料技术有限公司 | 一种有机化合物升华提纯的收集装置 |
CN109821268B (zh) * | 2019-03-06 | 2021-06-22 | 江苏惠利生物科技有限公司 | 一种5-甲基吡嗪-2-羧酸粗品的纯化方法 |
RU201951U1 (ru) * | 2020-09-16 | 2021-01-22 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева» (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Реактор для очистки веществ методом вакуумной сублимации |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB510196A (en) * | 1937-03-27 | 1939-07-28 | Magnesium Elektron Ltd | Improved apparatus for the thermal production of magnesium |
GB536821A (en) * | 1939-11-24 | 1941-05-28 | John Hugo Rutherford | Improvements in or relating to the recovery of magnesium from alloys |
GB552234A (en) * | 1942-02-03 | 1943-03-29 | Int Alloys Ltd | Apparatus for use in distilling metals by electric induction heating |
NL244298A (ko) * | 1959-10-13 | |||
GB1279208A (en) * | 1970-03-24 | 1972-06-28 | Standard Telephones Cables Ltd | Method of and apparatus for producing fine powder |
JP2583306B2 (ja) * | 1989-02-10 | 1997-02-19 | 日本電信電話株式会社 | 試薬の精製装置とその精製方法 |
JPH03143506A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 精製装置及び精製方法 |
EP0522920B1 (fr) * | 1991-07-09 | 1997-11-26 | Institut Français du Pétrole | Dispositif de distillation-réaction et son utilisation pour la réalisation de réactions équilibrées |
JPH0543203A (ja) | 1991-08-13 | 1993-02-23 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩酸蒸留装置 |
JPH05331564A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-12-14 | Ogihara:Kk | 誘導加熱式真空蒸発回収方法およびその装置 |
US5131634A (en) * | 1991-10-07 | 1992-07-21 | Westinghouse Electric Corp. | Sublimer-reactor system with weighing means |
JPH06263438A (ja) | 1993-03-09 | 1994-09-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 高純度無水塩化アルミニウムの製造方法 |
JP3246060B2 (ja) * | 1993-04-14 | 2002-01-15 | 日本電信電話株式会社 | フッ化物原料の精製方法 |
JPH0724205A (ja) * | 1993-07-05 | 1995-01-27 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 昇華方法 |
JP3070829B2 (ja) * | 1996-08-13 | 2000-07-31 | 株式会社瀬田技研 | 電磁誘導加熱による分離装置及び分離方法 |
JP4795502B2 (ja) * | 1998-09-25 | 2011-10-19 | 新日鐵化学株式会社 | 昇華精製方法及び装置 |
TW585895B (en) * | 1999-09-02 | 2004-05-01 | Nippon Steel Chemical Co | Organic EL material |
-
2001
- 2001-03-19 US US10/239,064 patent/US6878183B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-19 KR KR1020027012548A patent/KR100599428B1/ko active IP Right Grant
- 2001-03-19 DE DE60132763T patent/DE60132763T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-19 WO PCT/JP2001/002173 patent/WO2001070364A1/ja active IP Right Grant
- 2001-03-19 CN CNB018070043A patent/CN1256998C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-19 AU AU2001241197A patent/AU2001241197A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-19 JP JP2001568551A patent/JP4866527B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-19 EP EP01912491A patent/EP1273330B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-22 TW TW090106791A patent/TWI233836B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100582663B1 (ko) * | 2004-07-21 | 2006-05-23 | 제일모직주식회사 | 유기물질의 승화정제방법 |
KR100674680B1 (ko) * | 2005-05-18 | 2007-01-25 | (주)루디스 | 고체 재료 연속 고순도 정제장치 |
KR100754902B1 (ko) * | 2005-12-09 | 2007-09-04 | (주) 디오브이 | 유기전계 발광재료의 정제방법 |
KR101337336B1 (ko) * | 2012-03-13 | 2013-12-12 | 주식회사 피브이디 | 독립적인 가열부를 구비한 유기물 승화 정제장치 |
KR101309010B1 (ko) * | 2013-02-26 | 2013-09-17 | 희성소재 (주) | 승화 정제 장치 |
KR20150094009A (ko) * | 2014-02-10 | 2015-08-19 | 희성소재 (주) | 저온 승화 정제 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1273330A1 (en) | 2003-01-08 |
JP4866527B2 (ja) | 2012-02-01 |
EP1273330B1 (en) | 2008-02-13 |
DE60132763T2 (de) | 2009-02-12 |
WO2001070364A1 (fr) | 2001-09-27 |
EP1273330A4 (en) | 2003-06-04 |
CN1419466A (zh) | 2003-05-21 |
DE60132763D1 (de) | 2008-03-27 |
US6878183B2 (en) | 2005-04-12 |
CN1256998C (zh) | 2006-05-24 |
US20030030193A1 (en) | 2003-02-13 |
TWI233836B (en) | 2005-06-11 |
AU2001241197A1 (en) | 2001-10-03 |
KR100599428B1 (ko) | 2006-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100599428B1 (ko) | 승화 정제 방법 및 장치 | |
JP4795502B2 (ja) | 昇華精製方法及び装置 | |
CN108085518B (zh) | 一种真空蒸馏设备及超高纯铟的制备方法 | |
WO1993020933A1 (en) | Device for magnetic inductive heating of vessels | |
JP3929397B2 (ja) | 有機el素子の製造方法及び装置 | |
JP4522709B2 (ja) | 基板を被覆する方法および装置 | |
JPH0710519A (ja) | ジシランの製造方法及びこれに使用する反応器 | |
JPH0849067A (ja) | 蒸着方法 | |
US3010797A (en) | High purity elemental silicon | |
US6932852B2 (en) | Method and apparatus for enhanced purification of high-purity metals | |
JP4722403B2 (ja) | シリコン精製装置及びシリコン精製方法 | |
JPH01108322A (ja) | 蒸留精製方法 | |
JP2005225690A (ja) | SiOの製造方法及び製造装置 | |
US3243174A (en) | Dissociation-deposition apparatus for the production of metals | |
WO2002053250A1 (fr) | Procede et dispositif de purification et distillation pour materiaux organiques a point de fusion eleve | |
US4231755A (en) | Process for purifying solid substances | |
JP6865067B2 (ja) | マグネシウムの精製方法及びマグネシウムの精製装置 | |
US5684218A (en) | Preparation of tetrafluoroethylene | |
JP2005307354A (ja) | 有機el素子の製造方法及び装置 | |
JPS62235466A (ja) | 蒸着物質発生装置 | |
JPH03143506A (ja) | 精製装置及び精製方法 | |
US3008798A (en) | Preparation of cyanogen fluoride | |
JP3958789B2 (ja) | テトラフルオロエチレンの製造法 | |
JPH03181452A (ja) | N―ビニルホルムアミドの製造方法 | |
JPH06145986A (ja) | 銅膜形成用材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130628 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140619 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150630 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160629 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170627 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180628 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190702 Year of fee payment: 14 |