KR19980032844A - Transfer sheet and pattern forming method - Google Patents

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KR19980032844A
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Abstract

본 발명은 플라즈마디스플레이패널, 화상표시장치, 서멀헤드, 집적회로 등의 제조공정에 있어서의 전극층이나 유전체층, 장벽층 등의 고정밀도 패턴을 형성하는 데 적절하고 제작시간을 단축시킬 수 있음과 더불어 원료에 대한 제품의 비율을 향상시킬 수 있고 또 표면평활성이 뛰어나고 또한 막두께가 균일하고 분포정밀도가 양호한 전사시트 및 패턴형성방법을 제공하는 것을 과제로 하고 본 발명의 전사시트는 오목형상 패턴을 일측의 면에 형성한 베이스필름(11)에 있어서의 오목형상패턴부(12)에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 잉크층(13)이 충전된 것으로 또 상기 잉크층이 충전된 오목형상패턴상에 제 2 잉크층이 적층되어도 되는 것이고 또 상기 제 2 잉크층상에 제 3 잉크층이 적층되어도 되는 것이다. 또, 본 발명의 패턴형성방법은 전사시트를 잉크층 측에서 피전사체로 라미네이트해서 오목형상패턴을 피전사체로 전사하고 이어서 오목형상패턴을 갖는 피전사체를 소성하는 것이다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitable for forming high-precision patterns such as an electrode layer, a dielectric layer, and a barrier layer in a manufacturing process of a plasma display panel, an image display device, a thermal head, an integrated circuit and the like, To provide a transfer sheet and a pattern forming method which can improve the ratio of the product to the transfer sheet and which is excellent in surface smoothness and in which the film thickness is uniform and the distribution accuracy is good. In the transfer sheet of the present invention, The concave pattern portion 12 of the base film 11 formed on the surface is filled with an ink layer 13 composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing, A second ink layer may be laminated on the filled concave pattern, and a third ink layer may be laminated on the second ink layer This is what we are. Further, in the pattern forming method of the present invention, the transfer sheet is laminated with the transfer body on the ink layer side, the concave pattern is transferred to the transfer body, and then the transfer body having the concave pattern is fired.

Description

전사시트 및 패턴형성방법Transfer sheet and pattern forming method

본 발명은 플라즈마디스플레이패널(이하, PDP), 필드에미션디스플레이(FED), 액정표시장치(LCD), 형광표시장치, 혼성집적회로 등에 있어서의 전극층이나 유전체층, 장벽층등 고정밀도 패턴을 형성하는 데 적절한 전사시트 및 패턴형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a high-precision pattern such as an electrode layer, a dielectric layer, and a barrier layer in a plasma display panel (hereinafter referred to as a PDP), a field emission display (FED), a liquid crystal display And a method of forming a pattern.

종래로부터 이 종류의 패턴형성방법으로서는 글래스나 세라믹스 등의 기판상에 도체 혹은 절연체용의 잉크를 스크린인쇄에 의해 패턴형상으로 도포한 후 소성공정을 거쳐 기판에 밀착된 두꺼운 막 패턴을 형성하는 방법이 알려져 있다. 이 방법은 예를 들면 선폭 100㎛, 높이 100㎛의 가는 선을 형성하기 위해서 겹침인쇄를 여러번 계속 반복해서 형성하고 있다.Conventionally, as a pattern forming method of this kind, there is a method of applying a conductor or insulator ink on a substrate such as glass or ceramics in the form of a pattern by screen printing and then forming a thick film pattern adhered to the substrate through a baking process It is known. In this method, for example, in order to form a thin line having a line width of 100 mu m and a height of 100 mu m, overlap printing is repeatedly formed repeatedly and repeatedly.

그러나, 스크린인쇄에 의한 여러번의 패턴인쇄로 패턴을 형성하는 방법은 제 1 로 인쇄에 사용하는 스크린의 신축이 불가피하고 실제로는 각종 패턴을 겹쳐서 형성하는 경우가 대부분이기 때문에 다른 패턴과의 위치어긋남이 발생하기 쉬운 점, 제 2 로 판에 스크린을 사용하고 있기 때문에 패턴이 일그러지기 쉽고 미세패턴화가 곤란하고 제 3 으로 패턴형성재료가 스크린판으로의 역회전을 일으크기 때문에 매회 닦는세정이 필요하여 자동화가 곤란하고, 제 4 로 스크린인쇄법에 의해 형성가능한 패턴치수는 폭 100㎛정도로 한정되고 또 형상도 반치폭과 바닥부폭과의 비(반치폭/바닥부폭, 반치폭이란 패턴형성층 높이의 1/2의 위치에 있어서의 패턴형성층의 폭을 말함)이 0.5정도이므로 예를 들면 건조상태에서 150∼200㎛정도의 두께로 도포할 필요가 있는 PDP에 있어서의 장벽층의 경우, 바닥면적도 크게하지 않으면 안되어 정밀하고 미세한 패턴형성을 할 수 없고 또 한 번에 형성할 수는 없으므로 순차적으로 위치를 맞추면서 적층하고 있으나 그 위치정밀도를 높이는 것이 곤란하다는 문제가 있다. 또, 잉크가 갖는 유동성으로 인해 아랫부분이 넓어지기 때문에 높은 아스팩트화의 두꺼운 막패턴을 형성할 수 없고 또한 개방계이기 때문에 이물의 혼입방지 등의 조건관리가 어렵고 제작에 있어서도 막대한 시간을 요하는 것이 현실이다.However, in the method of forming a pattern by printing a plurality of patterns by screen printing, it is necessary to first elongate and contract a screen used for printing, and in many cases, actually, various patterns are overlaid, The pattern is easily distorted and it is difficult to make a fine pattern. Third, since the pattern forming material causes a reverse rotation to the screen plate, it is necessary to perform cleaning every time, The pattern size that can be formed by the fourth screen printing method is limited to a width of about 100 mu m and the ratio of the half width to the bottom width (half width / bottom width, half width) ) Is about 0.5, it is necessary to coat it in a dry state at a thickness of about 150 to 200 mu m In the case of the barrier layer in the PDP, since the bottom area must be increased, precise and fine pattern formation can not be performed, and since the barrier layer can not be formed again, it is difficult to increase the positional accuracy of the barrier layer while sequentially aligning the positions there is a problem. In addition, since the lower part is widened due to the fluidity of the ink, it is impossible to form a thick film pattern with high asphalt, and since it is an open system, it is difficult to control the conditions such as prevention of foreign matter mixing, It is a reality.

또, 다른 방법으로는 기판상에 스크린인쇄의 여러번 매트인쇄로 패턴형성층을 형성한 후, 그 패턴형성층상에 감광성레지스트로 샌드블라스트용 마스크를 형성하고 이어서 연마재를 분사해서 패턴형성층의 패터닝을 행하는 소위 샌드블라스트법이 알려져 있다.In another method, a pattern-forming layer is formed on the substrate by a plurality of times of screen printing, and then a sandblasting mask is formed on the pattern-forming layer with a photosensitive resist, and then an abrasive is sprayed to pattern the pattern- Sandblasting is known.

그러나, 샌드블라스트법을 이용해서 패턴을 형성하는 방법에 있어서도 패턴형성층을 스크린인쇄로 형성하면 겹침인쇄 공정이 길어질 뿐 아니라 개방계이기 때문에 조건관리가 곤란해지는 문제가 있다. 또, 그 형성할 패턴층마다 도포와 건조를 계속해서 반복하고나서 패터닝을 행할 필요가 있어 그 때문에 설비코스트가 걸리고 그들 장치를 위한 스페이스가 증가하는 문제가 생긴다.However, even in the method of forming a pattern using the sand blast method, if the pattern forming layer is formed by screen printing, not only the lapped printing process becomes long, but also an open system, so that there is a problem that condition management becomes difficult. In addition, it is necessary to perform patterning after repetition of coating and drying for each pattern layer to be formed, which causes a cost of equipment and increases the space for these devices.

본 발명의 제 1 목적은 PDP, 액정 등의 화상표시장치, 서멀헤드, 집적회로 등에 있어서의 전극, 저항체, 장벽 등의 미세한 패턴형성에 적절한 전사시트를 제공하는 데 있다.A first object of the present invention is to provide a transfer sheet suitable for forming fine patterns such as electrodes, resistors, and barriers in an image display apparatus such as a PDP and a liquid crystal, a thermal head, an integrated circuit and the like.

본 발명의 제 2 목적은 제작시간을 단축할 수 있고 보류를 향상시킬 수 있음과 더불어 표면평활성이 뛰어나고 또 막두께가 균일하여 분포정밀도가 양호한 패턴형성방법의 제공에 있다.A second object of the present invention is to provide a pattern forming method capable of shortening a fabrication time, improving retention, excellent surface smoothness, uniform film thickness, and good distribution accuracy.

도 1 은 오목형상패턴을 형성한 베이스필름을 그 단면으로 설명하기 위한 도면BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a view for explaining a base film on which a concave pattern is formed,

도 2 는 본 발명의 제 1 전사시트를 그 단면으로 설명하기 위한 도면Fig. 2 is a view for explaining the first transfer sheet of the present invention in its section; Fig.

도 3 은 오목판롤을 사용해서 베이스필름에 오목형상패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 도면3 is a view for explaining a method of forming a concave pattern on a base film by using a concave roll;

도 4 는 롤오목판, 전사시트, 피전사체상에 얻어진 패턴형상의 관계를 설명하기 위한 도면Fig. 4 is a view for explaining a relationship of pattern shapes obtained on a roll concave plate, a transfer sheet,

도 5 는 본 발명의 제 1 패턴형성방법의 일예를 설명하기 위한 도면5 is a view for explaining an example of the first pattern forming method of the present invention

도 6 은 전사시트의 오목부형상과 피전사체상에 얻어진 패턴형상의 관계에 대한 다른 예를 설명하기 위한 도면6 is a view for explaining another example of the relationship between the concave shape of the transfer sheet and the pattern shape obtained on the transferred body;

도 7 은 오목형상패턴형성재료로서 전이방사선 붕괴성수지를 사용하는 경우의 전사방법을 설명하기 위한 도면Fig. 7 is a view for explaining a transfer method in the case of using a transdifferential collapsing resin as a concave pattern forming material

도 8 은 본 발명의 제 2 전사시트를 그 단면으로 설명하기 위한 도면8 is a view for explaining the second transfer sheet of the present invention in cross section;

도 9 는 본 발명의 제 2 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면9 is a view for explaining the second pattern forming method of the present invention

도 10 은 본 발명의 제 2 전사시트를 사용해서 피전사체에 패턴이 전사된 상태를 설명하기 위한 도면10 is a view for explaining a state in which a pattern is transferred to a transferred body using the second transfer sheet of the present invention

도 11 은 본 발명의 제 3 전사시트를 그 단면으로 설명하기 위한 도면11 is a view for explaining the third transfer sheet of the present invention in cross section;

도 12 는 본 발명의 제 3 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면12 is a view for explaining the third pattern forming method of the present invention

도 13 은 본 발명의 제 3 전사시트를 사용해서 피전사체에 패턴이 전사된 상태를 설명하기 위한 도면13 is a view for explaining a state in which a pattern is transferred to a transferred body using the third transfer sheet of the present invention

도 14 는 본 발명의 제 3 전사시트의 제작방법의 일예를 설명하기 위한 도면14 is a view for explaining an example of a method for manufacturing a third transfer sheet of the present invention

도 15 는 본 발명의 제 4 패턴형성방법에 있어서의 제 1 내지 제 4 공정인 전사시트형성장치를 설명하는 도면15 is a view for explaining a transfer sheet forming apparatus which is the first to fourth steps in the fourth pattern forming method of the present invention

도 16 은 본 발명의 제 4 패턴형성방법에 있어서의 제 5 공정, 제 6 공정을 설명하기 위한 도면16 is a view for explaining the fifth step and the sixth step in the fourth pattern forming method of the present invention

도 17 은 본 발명의 제 5 패턴형성방법의 공정도17 is a process diagram of the fifth pattern forming method of the present invention

도 18 은 본 발명의 제 5 패턴형성방법의 다른 예를 나타낸 공정도18 is a process diagram showing another example of the fifth pattern forming method of the present invention

도 19 는 롤오목판의 판오목부형상의 일예를 나타낸 단면도 및 사시도19 is a cross-sectional view showing one example of the shape of the plate recess of the roll concave plate,

도 20 은 롤오목판의 판오목부형상의 다른 예를 나타낸 단면도 및 사시도20 is a cross-sectional view showing another example of the shape of the plate recess of the roll concave plate,

도 21 은 AC형 플라즈마디스플레이패널을 설명하기 위한 도면21 is a view for explaining an AC type plasma display panel

도 22 는 AC형 플라즈마디스플레이패널의 다른 예를 설명하기 위한 도면22 is a view for explaining another example of the AC type plasma display panel

도면의 주요부호에 대한 설명DESCRIPTION OF THE REFERENCE SYMBOLS

1,2: 유리기판 3: 셀장벽1,2: glass substrate 3: cell barrier

4: 투명전극 5: 금속전극4: transparent electrode 5: metal electrode

6,6': 유전체층 8: 어드레스전극6,6 ': dielectric layer 8: address electrode

9: 형광체면 10: 하지층9: phosphor surface 10: ground layer

11: 베이스필름 12: 오목형상패턴11: Base film 12: Concave pattern

13: 잉크층 13': 제1잉크층13: ink layer 13 ': first ink layer

13a: 비패턴부 14: 피전사체13a: non-pattern portion 14:

15: 제2잉크층 16: 제3잉크층15: second ink layer 16: third ink layer

19: 이형제층 21: 접착제층19: release agent layer 21: adhesive layer

22: 마스크 32: 누름롤22: mask 32: press roll

33: 롤오목판 34: 오목부33: roll concave plate 34:

35: 수지공급장치 36: 경화성수지35: Resin feeding device 36: Curable resin

37: 경화장치 38: 반사경37: hardening device 38: reflector

39: 박리롤 40: 도공부39: peeling roll 40: coating part

44: 급지감기롤 45: 급지측보내기롤44: feed roll 45: feed roll

47: 컨벤세이터롤 48: 배지감기롤47: Conveyor roll 48: Feed roll roll

50: 전사시트 51: 오목부50: Transfer sheet 51:

60: 오목판 60a: 오목부60: concave plate 60a:

101: 오목판 102: 판오목부101: concave plate 102: plate concave portion

본 발명의 제 1 전사시트는 오목부형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 잉크층이 충전된 것을 특징으로 한다.The first transfer sheet of the present invention is characterized in that an ink layer composed of an inorganic component composed of at least a glass frit and a resin component removed by firing is filled in a concave portion of a base film having a concave- .

제 1 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 잉크층이 전극형성층인 것을 특징으로 한다.Wherein the first transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel and the ink layer is an electrode forming layer.

전극형성층이 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 도전성잉크층, 또는 상기 도전성잉크층중에 암색(暗色) 안료를 함유하는 암색도전성잉크층, 또는 상기 도전성잉크층과 상기 암색도전성잉크층의 적층으로 이루어지는 것임을 특징으로 한다.Wherein the electrode forming layer comprises a conductive ink layer comprising at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing or a dark color conductive ink layer containing a dark color pigment in the conductive ink layer, And a dark-colored conductive ink layer.

제 1 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 잉크층이 장벽형성층인 것을 특징으로 한다.The first transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel and the ink layer is a barrier formation layer.

상기 제 1 전사시트에 있어서의 장벽형성층이 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 백색잉크층, 또는 암색잉크층, 또는 백색잉크층과 암색잉크층의 적층으로 이루어지는 것임을 특징으로 한다.Wherein the barrier layer in the first transfer sheet is formed by laminating at least a white ink layer composed of an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing or a dark ink layer or a white ink layer and a dark ink layer .

본 발명의 제 2 전사시트는 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전됨과 더불어 상기 제 1 잉크층이 충전된 상기 오목형상패턴상에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층이 적층된 것을 특징으로 한다.The second transfer sheet of the present invention is characterized in that a first ink layer composed of at least an inorganic component composed of a glass frit and a resin component removed by firing is filled in a concave portion of a base film having a concave pattern formed on one side thereof And a second ink layer composed of an inorganic component composed of at least a glass frit and a resin component removed by firing is laminated on the concave pattern filled with the first ink layer.

제 2 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 제 1 잉크층이 전극형성층, 제 2 잉크층이 하지형성층인 것을 특징으로 한다.The second transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, the first ink layer is an electrode forming layer, and the second ink layer is an undercoat layer.

제 2 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 제 1 잉크층이 장벽형성층, 제 2 잉크층이 유전체형성층인 것을 특징으로 한다.The second transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, the first ink layer is a barrier-forming layer, and the second ink layer is a dielectric-forming layer.

상기 제 2 전사시트에 있어서의 장벽형성층이 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 백색잉크층, 또는 암색잉크층, 또는 백식잉크층과 암색잉크층의 적층으로 이루어지는 것임을 특징으로 한다.Wherein the barrier layer in the second transfer sheet is formed by laminating at least a white ink layer composed of an inorganic component composed of a glass frit and a resin component removed by firing or a dark ink layer or a white ink layer and a dark ink layer .

본 발명의 제 3 전사시트는 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전됨과 더불어 상기 제 1 잉크층이 충전된 상기 오목형상패턴상에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층이 적층되고 또한 상기 제 2 잉크층상에 제 3 잉크층이 적층된 것을 특징으로 한다.The third transfer sheet of the present invention is characterized in that a first ink layer made of a resin component removed by firing and an inorganic component composed of at least a glass frit is filled in a concave portion of a base film formed with a concave pattern on one side And a second ink layer composed of at least an inorganic component composed of a glass frit and a resin component removed by firing is laminated on the concave pattern filled with the first ink layer and a third ink layer Are stacked.

제 3 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고, 제 1 잉크층이 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 백색잉크층, 또는 암새잉크층, 또는 백색잉크층과 암색잉크층의 적층으로 이루어지는 장벽형성층임과 더불어 제 2 잉크층이 유전체형성층, 제 3 잉크층이 전극형성층인 것을 특징으로 한다.The third transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel and the first ink layer is a transfer sheet made of at least an inorganic component composed of glass frit and a white ink layer composed of a resin component removed by firing, A second ink layer is a dielectric forming layer, and a third ink layer is an electrode forming layer.

본 발명의 제 1 패턴형성방법은 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 잉크층이 충전된 전사시트를 상기 잉크층으로부터 피전사체에 라미네이트해서 잉크층을 피전사체에 전사하고, 상기 잉크층이 전사된 피전사체를 소성하는 것을 특징으로 한다.A first pattern forming method of the present invention is a method for forming a pattern on a base film having a concave pattern formed on one side thereof, comprising the steps of: The sheet is laminated to the transfer object from the ink layer to transfer the ink layer to the transfer object, and the transfer object to which the transfer of the ink layer is transferred is fired.

본 발명의 제 2 패턴형성방법은 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전되고 또한 상기 오목형상패턴상에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층을 적층한 전사시트를 상기 제 2 잉크층측으로부터 피전사체로 라미네이트해서 제 1 및 제 2 잉크층을 동시에 전사하고, 상기 제 1 및 제 2 잉크층이 전사된 피전사체를 소성하는 것을 특징으로 한다.The second pattern forming method of the present invention is characterized in that a first ink layer composed of at least an inorganic component consisting of a glass frit and a resin component removed by firing is filled in a concave portion of a base film formed with a concave pattern on one side And a second ink layer formed by laminating an inorganic component composed of at least a glass frit and a resin component removed by firing on the concave pattern is laminated from the second ink layer side to the transfer body to form first and second Two ink layers are transferred at the same time, and the transferred object onto which the first and second ink layers are transferred is fired.

본 발명의 제 3 패턴형성방법은 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전됨과 더불어 상기 오목형상패턴상에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층이 적층되고 또한 상기 제 2 잉크층상에 제 3 잉크층을 적층한 전사시트를 상기 제 3 잉크층측으로부터 피전사체로 라미네이트해서 제 1 내지 제 3 잉크층을 동시세 전사하고, 상기 제 1 내지 제 3 잉크층이 전사된 피전사체를 소성하는 것을 특징으로 한다.The third pattern forming method of the present invention is characterized in that a first ink layer composed of at least an inorganic component composed of a glass frit and a resin component removed by firing is filled in a concave portion of a base film formed with a concave pattern on one side And a second ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is laminated on the concave pattern and a third ink layer is laminated on the second ink layer, The first to third ink layers are laminated with the transfer body from the third ink layer side, and the transferred body onto which the first to third ink layers are transferred is fired.

상기 패턴형성방법이 플라즈마 디스플레이패널 형성방법이고 피전사체가 플라즈마디스플레이패널기판이고, 잉크층패턴이 플라즈마 디스플레이패널부재패턴인 것을 특징으로 한다.Wherein the pattern forming method is a plasma display panel forming method, the body is a plasma display panel substrate, and the ink layer pattern is a plasma display panel member pattern.

또 본 발명의 제 4 패턴형성방법은,In the fourth pattern forming method of the present invention,

(1) 오목형상패턴을 일측 면에 형성한 롤오목판을 회전시켜 그 롤오목판의 오목부에 적어도 글래스플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 경화성수지성분으로 이루어지는 잉크층을 충전하는 제 1 공정과,(1) a first step of rotating a roll concave plate having a concave pattern formed on one side thereof to fill an ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a curable resin component removed by burning in a concave portion of the roll concave plate and,

(2) 상기 제 1 공정으로 상기 롤오목판에 충전된 상기 잉크층에 대해서 상기 롤오목판의 회전방향으로 동기해서 주행하는 베이스필름을 접촉시키는 제 2 공정과,(2) a second step of bringing the base film, which runs in synchronism with the rotational direction of the roll concave plate, into contact with the ink layer filled in the roll concave plate in the first step,

(3) 상기 제 2 공정으로 상기 베이스필름이 상기 롤오목판에 접촉하고 있는 사이에 상기 롤오목판과 상기 베이스필름사이에 있는 상기 잉크층을 경화시킴과 더불어 경화하는 잉크층과 상기 베이스필름을 밀착시키는 제 3 공정과,(3) In the second step, the ink layer between the roll concave plate and the base film is cured while the base film is in contact with the roll concave plate, and the ink layer, which is cured, A third step,

(4) 상기 제 3 공정으로 밀착한 패턴형상의 경화잉크층과 상기 베이스필름을 상기 롤오목형상판으로부터 박리해서 전사시트를 형성하는 제 4 공정과,(4) a fourth step of peeling the patterned cured ink layer adhering to the third step and the base film from the roll concave plate to form a transfer sheet, and

(5) 제 4 공정에서 얻은 전사시트를 그 패턴형상의 경화잉크층측에서 글래스기판상에 적층한 후 베이스필름을 박리해서 패턴형상의 경화잉크층을 글래스기판상에 전사하는 제 5 공정과,(5) a fifth step of laminating the transfer sheet obtained in the fourth step on the glass substrate at the side of the patterned cured ink layer, then peeling the base film to transfer the patterned cured ink layer onto the glass substrate,

(6) 제 5 공정에서 얻은 패턴형상의 경화잉크층을 갖는 글래스기판을 소성하는 제 6 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.(6) A sixth step of firing the glass substrate having the patterned cured ink layer obtained in the fifth step.

상기 패턴이 플라즈마디스플레이패널부재에 있어서의 전극층패턴, 장벽층패턴인 것을 특징으로 한다.And the pattern is an electrode layer pattern and a barrier layer pattern in a plasma display panel member.

또, 본 발명의 제 5 패턴형성방법은,In the fifth pattern forming method of the present invention,

(1) 목적패턴은 대응하는 오목부가 형성된 오목판에 있어서의 상기 오목부내에 광경화성 잉크층을 충전하는 제 1 공정,(1) A target pattern is formed by a first step of filling a photo-curable ink layer in the concave portion of a concave plate on which a corresponding concave portion is formed,

(2) 이형제층(離型劑層)을 형성한 필름을 그 이형제층이 상기 오목부에 대향하도록하여 상기 오목판에 라미네이트하는 제 2 공정,(2) a second step of laminating a film on which a releasing agent layer is formed to the concave plate such that the releasing agent layer faces the concave portion;

(3) 상기 필름을 상기 오목판에서 박리해서 상기 오목부내의 잉크층을 필름측에 전이시키는 제 3 공정,(3) a third step of separating the film from the concave plate to transfer the ink layer in the concave portion to the film side,

(4) 기판상에 상기 필름을 그 잉크층이 당접 하도록 하여 중합하는 제 4 공정,(4) a fourth step of polymerizing the film with the ink layer in contact with the substrate,

(5) 상기 잉크층의 상기 기판에 대한 접착강도를 증가시키기 위하여 자외선을 조사하는 제 5 공정,(5) a fifth step of irradiating ultraviolet light to increase the adhesion strength of the ink layer to the substrate,

(6) 상기 필름을 박리해서 상기 기판상에 잉크층을 남기는 제 6 공정,(6) a sixth step of peeling off the film to leave an ink layer on the substrate,

(7) 상기 기판전체를 소성하므로써 상기 잉크층을 기판에 밀착시키는 제 7 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.(7) a seventh step of bringing the ink layer into close contact with the substrate by firing the entire substrate.

또, 본 발명의 제 5 패턴형성방법의 다른 실시형태는,In another embodiment of the fifth pattern forming method of the present invention,

(1) 목적패턴에 대응하는 오목부가 형성되고 그 오목부가 있는 측의 요철면에 이형처리를 실시해서 이루어지는 오목판에 있어서의 상기 오목부내를 포함하는 판면상에 광경화성의 잉크층을 코팅하는 제 1 공정,(1) a first step of coating a photocurable ink layer on a plate surface including a concave portion corresponding to a target pattern and including an inside of the concave portion formed by performing a mold releasing treatment on the concave and convex side of the concave portion; fair,

(2) 코팅한 상기 잉크층상에 접착제를 통해서 기판을 압착하는 제 2 공정,(2) a second step of pressing the substrate on the coated ink layer through an adhesive,

(3) 상기 오목부에 대응하는 마스크를 통해서 노광하므로써 오목부내의 잉크층을 경화시키는 제 3 공정,(3) a third step of curing the ink layer in the concavity by exposing through a mask corresponding to the concavity,

(4) 상기 기판을 상기 오목판에서 박리하므로써 기판상에 잉크층을 전이시키는 제 4 공정,(4) a fourth step of transferring the ink layer onto the substrate by peeling the substrate from the concave plate,

(5) 상기 기판전체를 소성하므로써 상기 잉크층을 기판에 밀착시키는 제 5 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.(5) a fifth step of adhering the ink layer to the substrate by firing the entire substrate.

이하, 본 발명의 전사시트 및 패턴형성방법에 대해서 PDP제작을 예로서 설명한다.Hereinafter, the transfer sheet and the pattern forming method of the present invention will be described by way of examples of PDP fabrication.

AC형 PDP는 예를 들면 도 21 에 나타낸 바와 같이, 2장의 유리기판(1), (2)이 서로 평행으로 또한 대향해서 배치되어 설치되어 있고, 양자는 배면판이 되는 유리기판(2)상에 서로 평행으로 설치된 셀장벽(3)에 의해 일정한 간격으로 유지되어 있다. 전면판이 되는 유리기판(1)의 배면측에는 방전유지전극인 투명전극(4)과 버스전극인 금속전극(5)으로 구성되는 복합전극이 서로 평행하게 형성되고, 이것을 덮는 유전체층(6)이 형성되어 있고 또한 보호층(MgO층)이 형성되어 있다. 또, 배면판이 되는 유리기판(2)의 전면측에는 상기 복합전극과 직교하도록 셀장벽(3)의 사이에 위치해서 어드레스전극(8)이 서로 평행으로 형성되어 있고 또한 셀장벽(3)의 벽면과 셀바닥면을 덮도록 형광체면(9)이 형성되어 있다.In the AC type PDP, for example, as shown in Fig. 21, two glass substrates 1 and 2 are arranged so as to be parallel and opposite to each other, and both of them are formed on a glass substrate 2 And are held at regular intervals by a cell barrier 3 provided parallel to each other. A composite electrode composed of a transparent electrode 4 serving as a discharge sustaining electrode and a metal electrode 5 serving as a bus electrode is formed parallel to each other on the back side of the glass substrate 1 which is to be a front plate and a dielectric layer 6 covering the transparent electrodes 4 is formed And a protective layer (MgO layer) is formed. On the front side of the glass substrate 2 serving as a back plate, address electrodes 8 are formed in parallel with each other and located between the cell barrier 3 so as to be perpendicular to the composite electrode, And a phosphor face 9 is formed so as to cover the cell bottom face.

또, 도 22 에 나타낸 바와 같이 하지층(10)을 배면판이 되는 유리기판(2)에 형성한 후 어드레스전극(8), 유전체층(6'), 셀장벽(3), 형광체면(9)을 순차적으로 형성한 구조로 하는 경우도 있다.22, the base layer 10 is formed on the glass substrate 2 to be the back plate, and then the address electrodes 8, the dielectric layer 6 ', the cell barrier 3, Or may be formed in a sequential manner.

이 AC형 PDP는 면방전형으로 전면판상의 복합전극사이에 교류전압을 인가해서 공간에 누설 전계로 방전시키는 구조이다. 이 경우, 교류가 걸려있기 때문에 전계의 방향은 주파수에 대응해서 변화한다. 그리고, 이 방전에 의해 생기는 자외선에 의해 형광체면(9)을 발광시켜 전면판을 투과하는 광을 관찰자가 시인할 수 있는 것이다. 또, DC형 PDP에 있어서는 전극은 유전체층에서 피복되지 않은 구조를 갖는 점에서 상위하나 그 방전현상은 동일하다.This AC type PDP is a face-to-face type in which alternating voltage is applied between composite electrodes on the front plate to discharge into a space by a leakage electric field. In this case, since an alternating current is applied, the direction of the electric field changes corresponding to the frequency. The ultraviolet rays generated by this discharge cause the phosphor surface 9 to emit light, allowing the observer to see the light transmitted through the front plate. In the DC type PDP, the electrodes are different from each other in that they have a structure not covered with the dielectric layer, but their discharge phenomena are the same.

본 발명의 제 1 전사시트는 이와 같은 PDP 등의 제작에 있어서 사용되는 것이다. 이하, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.The first transfer sheet of the present invention is used in the production of such a PDP or the like. Hereinafter, this will be described in detail with reference to the drawings.

도 1 은 오목형상패턴(12)을 형성한 베이스필름(11)의 단면도이고, 도 2 는 본 발명의 제 1 전사시트의 단면도이다. 도면중 11은 베이스필름, 12는 오목형상패턴, 13은 잉크층이다.1 is a cross-sectional view of a base film 11 on which a concave pattern 12 is formed, and Fig. 2 is a cross-sectional view of a first transfer sheet of the present invention. In the figure, 11 is a base film, 12 is a concave pattern, and 13 is an ink layer.

베이스필름(11)상으로의 오목형상패턴(12)의 형성방법으로서는 오목판이나 롤오목판에 경화성수지, 예를 들면 전이방사선경화성수지, 전이방사선 붕괴성수지, 열경화성수지 등 또는 열가소성수지 등으로 이루어지는 잉크를 충전한 후 베이스필름상에 전사해서 형성하면 된다. 오목판으로서는 평오목판 또는 롤오목판을 들 수 있다.As a method of forming the concave pattern 12 on the base film 11, a method of forming a concave pattern 12 on a concave plate or a roll concave plate using a curable resin such as a transition radiation curable resin, a transition radiation degradable resin, a thermosetting resin, And then transferred onto the base film. The concave plate may be a flat concave plate or a roll concave plate.

전리방사선 경화성수지로서는 자외선 혹은 전자선경화성수지 등을 들 수 있고, 분자중에 중합성불포화결합 또는 에폭시기를 갖는 프리폴리머, 올리고머 및 또는 단량체를 적절히 혼합한 조성물을 사용할 수 있다.Examples of the ionizing radiation curing resin include ultraviolet ray or electron beam hardening resin, and a composition in which a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule is appropriately mixed can be used.

프리폴리머, 올리고머로서는 불포화디칼본산과 다가알콜의 축합물 등의 불포화폴리에스테르류, 에폭시수지, 폴리에스테르메타크릴레이트, 폴리에테르메타크릴레이트, 폴리올메타크릴레이트, 폴리글리시딜메타크릴레이트, 클로로메틸화폴리나프틸메타크릴레이트 등의 메타크릴레이트류, 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 폴리올아크릴레이트 등의 아크릴레이트류, 기타 클로로메틸화폴리스틸렌, 염소화폴리메틸스틸렌, 요소화폴리스틸렌, 폴리메타크릴레이트-마레인산 공증합체, 폴리글리시딜메타크릴레이트-아크릴산에틸 공중합체, 글리시딜메타크릴레이트-스틸렌 공중합체, 에폭시화폴리부타디엔, 폴리디아릴프타레이트, 부분크롤화폴리비닐톨루엔, 클로로메틸화폴리디페닐시록산 등을 들 수 있다.Examples of the oligomers include unsaturated polyesters such as condensates of unsaturated dicarboxylic acids and polyhydric alcohols, epoxy resins, polyester methacrylates, polyether methacrylates, polyol methacrylates, polyglycidyl methacrylates, chloromethylated Methacrylates such as polymethacrylate and polynaphthyl methacrylate, acrylates such as polyester acrylate, polyether acrylate and polyol acrylate, and other chloromethylated polystyrene, chlorinated polymethyl styrene, urea polystyrene, polymethacrylate - maleic anhydride copolymer, polyglycidyl methacrylate-ethyl acrylate copolymer, glycidyl methacrylate-styrene copolymer, epoxylated polybutadiene, polydiarylphthalate, partially-covalently polyvinyltoluene, chloromethylated Polydiphenylsiloxane and the like.

단량체로서는 적어도 적어도 하나의 중합가능한 탄소-탄소불포화결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 예를 들면 아릴아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시에틸렌글리콜아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시플로필아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 이소덱실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1, 4-부탄디올디아크릴레이트, 1, 5-펜탄디올디아크릴레이트, 1, 6-헥산디올디아크릴레이트, 1, 3-플로판디올디아크릴레이트, 1, 4-시클로헥산디올디아크릴레이트, 2, 2-디메티롤플로판디아크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 글리세롤트리아크릴레이트, 트리메티롤플로판트리아크릴레이트, 폴리옥시에틸화트리메티롤플로판트리아크릴레이트, 펜타에리슬리톨트리아크릴레이트, 펜타에리슬리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리옥시플로필트리메티롤플로판트리아크릴레이트, 부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1, 2, 4-부탄톨리올트리아크릴레이트, 2, 2, 4-트리메틸-1, 3-펜탄디올디아크릴레이트, 디아릴후마레이트, 1, 10-데칸디올디메틸아크릴레이트, 디펜타에리슬리톨헥사아크릴레이트 및 상기 아크릴레이트체를 메타크릴레이트체로 바꾼 것, γ-메타크릴록시플로필트리메톡시시란, 1-비닐-2-필로리돈 등의 1종류 또는 2종류이상의 혼합물을 들 수 있다.As the monomer, a compound having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond can be mentioned. And examples thereof include alkyl acrylates such as aryl acrylate, benzyl acrylate, butoxy ethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol Acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2- But are not limited to, ethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1, 3-fluoradiole diacrylate, 1,4-cyclohexanediol di Acrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, Acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxyfilyl trimethylol propane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2, Butanediol diacrylate, 4-butanediol triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diacrylate, diaryl fumarate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Methacryloxypropyl trimethoxy silane, 1-vinyl-2-pyrrolidone and the like, or a mixture of two or more kinds of them It can be given.

특히, 자외선경화형의 경우에는 상기 조성물에 광개시제로서 벤조페놀, o-벤졸안식향산메틸, 4, 4-비스(디메틸아미노)벤조페놀, 4, 4-비스(디에틸아미노)벤조페논, α-아미노아세토페논, 4, 4-디클로로벤조페논, 4-벤졸-4-메틸디페닐케톤, 디벤질케톤, 플루오레논, 2, 2-디에톡시아세토페논, 2, 2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸플로피오페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-이소플로필티옥산톤, 디에틸티옥산톤, 벤질디메틸케탈, 벤질메톡시에틸아세탈, 벤조인메틸에테르, 벤조인부틸에테르, 안토라키논, 2-tert-부틸안트라키논, 2-아민안트라키논, β-클로로안트라키논, 안토론, 벤즈안토론, 디벤즈스베론, 메틸안트론, 4-아지도벤질아세토페논, 2, 6-비스(p-아지도벤질리덴)시클로헥산, 2, 6-비스(p-아지도벤질리덴)-4-메틸시클로헥사논, 2-페닐-1, 2-부타디온-2-(o-메톡시카르보닐)옥심, 1-페닐-플로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 1, 3-디페닐-플로판톨리온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 1-페닐-3-에톡시-플로판톨리온-2-(o-벤조일)옥심, 미히라케톤, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰포리노-1-프로판, 나프탈렌술포닐클로라이드, 키노린술포닐클로라이드, n-페닐티오아크리돈, 4, 4-아조비스이소부티로니트릴, 디페닐디술피드, 벤조티아졸디술피드, 트리페닐호스핀, 칸파키논, 사취소화탄소, 트리부로모페닐술폰, 과산화벤존, 에오신, 메틸렌블루 등 광환원성의 색소와 아스코르빈산, 트리에탄올아민 등 환원제의 조합 등을 들 수 있다. 또, 이들 광개시제의 1종 또는 2종이상을 조합해서 첨가해도 된다.Particularly, in the case of the ultraviolet curing type, it is preferable to add a photoinitiator such as benzophenol, o-benzoyl benzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenol, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, Phenol, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy- 2-methylpropionate, 2-hydroxypropionate, 2-hydroxy-2-methylpropylphenone, p-tert- Benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butyl anthraquinone, 2-amine anthraquinone,? -Chloroanthraquinone,? -Chloroanthraquinone, Bis (p-azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azide) benzene, benzene sulfonate, dibenzosuberone, methyl anthrone, 2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-flodhadione-2- (o-ethoxycarb 2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-flophantolol-2- (o-benzoyl) oxime, Naphthalenesulfonyl chloride, quinolinesulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azo-2-methyl- [4- A light reducing pigment such as bisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenyl phosphine, canpakinone, carbon tetrachloride, tri-bromophenylsulfone, benzoin peroxide, And combinations of reducing agents such as cornic acid, triethanolamine, and the like. One or more of these photoinitiators may be added in combination.

또, 열경화수지로서는 페놀·폴마린수지, 요소·폴마린수지, 멜라민·폴마린수지, 페놀·풀푸랄수지, 풀푸랄·아세톤수지, 풀푸릴알콜수지, 키시렌·포름알데히드수지, 케톤·포름알데히드수지, 알키드수지, 페놀수지, 우레탄수지, 요소수지, 에폭시수지, 풀푸랄수지, 멜라민수지, 불포화폴리에스테르수지, 트리아릴시아눌레이트수지, 아크로레인계수지, 아릴수지, 열경화성실리콘수지, 이들의 공중합수지, 혼합수지 등이 예시된다.Examples of the thermosetting resin include phenol / polygonal resin, urea / polygonal resin, melamine / polygonal resin, phenol / fulfull resin, fulfulol acetone resin, furfuryl alcohol resin, kisylene formaldehyde resin, An epoxy resin, a fullerene resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a triaryl cyanurate resin, an acrolein resin, an aryl resin, a thermosetting silicone resin, a thermosetting silicone resin, A copolymer resin thereof, a mixed resin and the like.

또한, 전리방사선붕괴성수지로서는 상술한 전리방사선경화성수지와 마찬가지로 전리방사선의 조사에 의해 경화시킬 수 있는 것이며, 예를 들면 메틸메타크릴레이트, 메틸이소프로페닐케톤, 테트라플루오로플로필메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸메타크릴레이트, 트리클로로에틸메타크릴레이트, 트리클로로에틸-α-클로로아크릴레이트 등의 단량체와, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸 등의 다른 상술한 광개시제를 광개시제로 하는 것으로 이루어진다. 또, 나프토키논디아지드화합물을 감광제로 하고 클레졸노보락수지를 바인더로 하는 포지형레지스트도 사용할 수 있다.The ionizing radiation decaying resin can be cured by irradiation with ionizing radiation as in the above ionizing radiation curing resin, and examples thereof include methyl methacrylate, methyl isopropenyl ketone, tetrafluorophyll methacrylate , Hexafluorobutyl methacrylate, trichloroethyl methacrylate, trichloroethyl-? -Chloroacrylate, and other above-described photoinitiators such as benzophenone and methyl benzoylbenzoate as photoinitiators . Also, a positive type resist using a naphthoquinone diazide compound as a photosensitizer and a clezol novolak resin as a binder may be used.

오목형상패턴형성재료를 전리방사선붕괴성수지로 하는 경우에는 오목형상패턴(12)을 전사시트에 경화형성하기까지는 상술한 전리방사선경화성수지와 마찬가지나 피전사체에는 잉크층(13)과 함께 전사된다. 그리고, 피전사체에 전사된 후 예를 들면 조사량 1×10-3C/㎠, 가속전압 10㎸∼30㎸의 전리방사선조사 등의 붕괴조건으로 노광하거나 또는 전자빔을 오목형상패턴형상으로 조사해서 경화수지의 주쇄를 절단해서 현상액가용성으로 하고 전사한 오목형상패턴을 현상제거하여 잉크층만으로 할 수 있다. 또, 현상처리를 하지 않아도 피전사체를 소성할 때에 소성제거해도 된다.When the concave pattern forming material is ionized radiation decaying resin, the concave pattern 12 is transferred together with the ink layer 13 to the transferred body in the same manner as the ionizing radiation curable resin described above until the concave pattern 12 is cured on the transfer sheet. Then, after being transferred to a transfer target, exposure is performed under a collapse condition such as irradiation with ionizing radiation of, for example, a dose of 1 × 10 -3 C / cm 2 and an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV, or irradiation of an electron beam in a concave- The main chain of the resin is cut to make the developer soluble, and the transferred concave pattern may be developed and removed to make only the ink layer. Further, even if the development process is not performed, plasticity may be removed when the transfer target is fired.

또, 열가소성수지로서는 예를 들면 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-플로필아크릴레이트, n-플로필메타크릴레이트, 이소플로필아크릴레이트, 이소플로필메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, n-펜틸아크릴레이트, n-펜틸메타크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, n-헥실메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, n-옥틸메타크릴레이트, n-데실아크릴레이트, n-데실메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시플로필아크릴레이트, 히드록시플로피닐메타크릴레이트, 스틸렌, α-메틸스틸렌, N-비닐-2-필로리돈 등의 1종이상으로 이루어지는 폴리머 또는 코폴리머, 에틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스유도체, 폴리부틴유도체 등을 들 수 있다.As the thermoplastic resin, for example, there may be mentioned methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-flow methacrylate, isopropyl acrylate, Butyl acrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl Methacrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, , n-decyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropylmethacrylate, styrene,? -methylstyrene, N- Nyl-2-pyrrolidone and the like, a cellulose derivative such as ethyl cellulose, and a polybutene derivative.

열가소성수지를 사용하는 경우에는 발포체, 필요에 따라서 발포촉진제나 발포억제제를 함유시키므로써 오목형상패턴이 냉각될 때의 수축작용을 이용해서 오목형상패턴의 오목판으로부터의 박리성, 전사성을 개선시킬 수 있다.When a thermoplastic resin is used, the foaming property and the transfer property of the concave pattern can be improved by using the foaming agent and, if necessary, the foaming promoter and the foaming inhibitor, by using the shrinkage action when the concave pattern is cooled have.

이와 같은 발포제로서는 고온으로 분해해서 산소, 탄산가스, 질소 등의 가스를 발생시키는 니트로펜타메틸렌테트라민, 디아조아미노벤센, 아조비스이소부티로니트릴, 아조디카르보아미드 등의 분해형발포제, 부탄, 벤탄 등의 저비점액체를 폴리염화피닐리덴, 폴리아크릴로니트릴 등의 수지로 마이크로캡슐로 한 마이크로발룬 등의 발포체, 또한 이들 마이크로발룬을 미리 발포시킨 발포체를 들 수 있다. 특히 바람직한 발포제는 비교적 저온으로 발포처리가 가능한 것을 사용하면 좋고 예를 들면 마쯔모또유지제약 주식회사 제품에서 입수할 수 있는 각종 그레이드의 마이크로발룬이 바람직하다. 발포제 또는 발포체의 함유량은 기포를 함유하는 발포배율이 1.5∼20배정도의 범위가 되는 비율로 하면 된다.Examples of such foaming agents include decomposable foaming agents such as nitropentamethylenetetramine, diazoaminobenzene, azobisisobutylonitrile and azodicarbonamide which decompose at high temperatures to generate gases such as oxygen, carbon dioxide gas and nitrogen, A foam such as a microbalun having a low boiling point liquid such as benzene formed by microcapsules of a resin such as polyvinylidene chloride or polyacrylonitrile, or a foam obtained by previously foaming these microbaluns. Particularly preferred foaming agents are those capable of foaming at a relatively low temperature. For example, microvaludines of various grades available from Matsumoto Yushi Pharmaceutical Co., Ltd. are preferred. The content of the foaming agent or the foam may be such that the foaming magnification containing bubbles falls within a range of 1.5 to 20 times.

발포조건은 열가소성수지로 이루어지는 가열발포성수지층의 연화점, 연화시의 가소성, 유동성, 사용하는 발포제의 발포온도, 필요에 따라서 첨가되는 발포촉진제, 또는 발포억제제 등의 조합, 또 이들의 배합비에 의해 상위하고 또 발포체의 세포구조, 형상에 따라서도 상위하나 예를 들면 폴리염화비닐수지 50∼75중량부에 대해서 발포제로서 아조디카르본아미드를 0.1중량부∼20중량부 첨가해서 발포촉진제로서 연, 아연 등을 주체로하는 카르본산염, 발포억제제로서 무수트리메리트산을 사용해서 180℃∼210℃로 1∼3분간의 가열온도조건으로 하면 된다. 가열방법으로는 온풍분사, 적회선조사, 유전가열 등의 방법이 사용된다.The foaming conditions are determined depending on the combination of the softening point of the heat-expandable resin layer made of a thermoplastic resin, plasticity at the time of softening, fluidity, foaming temperature of the foaming agent to be used, a foaming promoter or foam inhibitor to be added as required, And 0.1 to 20 parts by weight of azodicarbonamide as a foaming agent is added to 50 to 75 parts by weight of a polyvinyl chloride resin, for example, depending on the cell structure and shape of the foam, and zinc stearate And trimellitic anhydride as the foaming inhibitor may be used for heating at 180 to 210 캜 for 1 to 3 minutes. As the heating method, methods such as hot air blowing, infrared ray irradiation, and dielectric heating are used.

또, 형상기억성수지를 사용해도 되고 오목형상패턴의 형상안정성에 뛰어난 것으로 할 수 있다.Further, the shape memory resin may be used, and the shape stability of the concave pattern may be excellent.

잉크의 충전방법으로는 상기한 패턴형성재료를 잉크화해서 오목판이나 롤형상오목판에 있어서 오목부중의 덕트브레이드방식, 롤도포방식, 에어프레스나 진공당김에 의해 충전하는 방법외에 스키지, 덕트, 도랑에 담는 등의 방식에의해 충전해서 과잉분을 스크레퍼, 필름와이핑, 에어나이프 등에 의해 제거하는 방식을 들 수 있다. 이들중 어느 방식에 있어서도 점도저하에 의해 도포속도향상을 목적으로 한 온도조절이나 탈포를 목적으로한 초음파처리를 병용할 수 있다.Examples of the filling method of the ink include a method of filling the above pattern forming material with an ink and filling the concave or the roll type concave with a duct braiding method, a roll coating method, an air press or a vacuum pulling method in the concave portion as well as a method of filling the squeegee, Or the like, and the excess portion is removed by a scraper, a film wiping, an air knife or the like. In any of these methods, ultrasonic treatment for the purpose of temperature control or defoaming for the purpose of improving the coating speed can be used in combination with lowering of the viscosity.

오목형상패턴의 전사성을 향상시키는 것을 목적으로하여 오목판면, 또는 롤형상오목판면에 박리층을 형성하면 좋고 또 오목형상패턴형성재료중에 박리제를 혼련해도 된다. 박리제로서는 예를 들면 폴리에틸렌왁스, 아미드왁스, 테프론파우더, 실리콘왁스, 칼나바왁스, 아크릴왁스, 파라핀왁스 등의 왁스류, 불소계수지, 멜라민계수지, 폴리오레핀수지, 전리방사선경화형의 다관능아크릴레이트수지, 폴리에스테르수지, 에폭시수지, 아미노변성, 에폭시변성, OH변성, COOH변성, 촉매경화형, 광경화형, 열경화형의 실리콘오일, 또는 실리콘수지가 예시된다. 박리층을 형성하는 경우에는 두꺼운 막 1∼100㎛의 것이 된다. 오목형상패턴형성재료중에 박리제를 혼련할 경우 오목형상패턴형성재료중에 0.01중량%∼10중량%의 정도로하면 된다.The release layer may be formed on the concave surface or the roll-shaped concave surface for the purpose of improving the transferability of the concave pattern, or the release agent may be kneaded in the concave pattern-forming material. Examples of the releasing agent include waxes such as polyethylene wax, amide wax, Teflon powder, silicone wax, calabana wax, acrylic wax and paraffin wax, fluorine resins, melamine resins, polyolefin resins, ionizing radiation curable polyfunctional acrylates Epoxy resins, epoxy-modified, epoxy-modified, OH-modified, COOH-modified, catalyst-cured, photo-curable, thermosetting silicone oils, or silicone resins. When a release layer is formed, a thick film is 1 to 100 mu m thick. When the releasing agent is kneaded in the concave-shaped pattern-forming material, it may be about 0.01 to 10% by weight in the concave pattern-forming material.

또, 오목판으로부터의 오목형상패턴의 박리성은 베이스필름에 대한 접착성을 고려해서 적절히 설정하면 된다. 예를 들면 오목형상패턴형성재료가 전리방사선 경화성수지, 열경화성수지나 열가소성수지인 경우에는 후술하는 바와 같이 잉크층(13)만을 피전사체(14)에 전사시킬 필요가 있으므로 베이스필름에 대한 오목형상패턴의 접착성이 있는 편이 낳고 베이스필름에 접척제층을 형성해도 된다.The peelability of the concave pattern from the concave plate may be suitably set in consideration of the adhesion to the base film. For example, when the concave pattern forming material is an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, or a thermoplastic resin, it is necessary to transfer only the ink layer 13 to the transferred body 14 as described later, The adhesive layer may be formed on the base film.

다음으로 도 3 에 의해 오목형상패턴(12)의 형성방법의 일예로서 롤오목판을 사용해서 경화성수지로 이루어지는 오목형상패턴을 형성하는 방법을 설명한다.Next, referring to Fig. 3, a method of forming a concave pattern made of a curable resin by using a roll concave plate as an example of a method of forming the concave pattern 12 will be described.

도면중 11은 베이스필름, 12는 오목형상패턴, 33은 롤오목판, 34는 오목부, 35는 수지공급장치, 36은 경화성수지, 37은 경화장치, 39는 박리롤, 40은 도공부, 44는 급지감기롤, 45는 급지측보내기롤, 47은 컨벤세이터롤, 48은 배지감기롤이다.In the drawings, reference numeral 11 denotes a base film, 12 denotes a concave pattern, 33 denotes a roll concave plate, 34 denotes a concave portion, 35 denotes a resin feeding device, 36 denotes a curable resin, 37 denotes a curing device, 39 denotes a peeling roll, A feed roll 45, a feed side feed roll 47, a conveyor roll 47, and a feed roll 48.

오목형상패턴형성장치는 베이스필름(11)을 공급하는 급지감기롤(44), 급지측보내기롤(45), 컨벤세이터롤(47) 및 배지감기롤(48)로 구성된다. 상기 도공부(40)는 베이스필름(11)을 누르는 누름롤(32), 오목부(34)가 각설되어있던 롤오목판(33), 경화성수지(36)(이 시점에서는 미경화 액상이다)를 롤오목판(33)에 도공하기 위한 수지공급장치(35), 롤오목판의 오목부(34)에 충전된 액상의 경화성수지(36)를 경화시켜서 고체화시키는 경화장치(37) 및 박리롤(39)로 이루어진다.The concave pattern forming apparatus is constituted by a paper feed winding roll 44 for feeding the base film 11, a paper feed side feed roll 45, a conveyor roll 47 and a paper feed roll 48. The coating portion 40 includes a pressing roll 32 for pressing the base film 11, a roll concave 33 on which the concave portion 34 is formed, and a curing resin 36 (in this case, uncured liquid phase) A curing device 37 for curing and solidifying the liquid curable resin 36 filled in the concave portion 34 of the roll concave plate and a peeling roll 39 for solidifying the cured resin 36, .

도공부(40)에는 누름롤(32)에 의해 베이스필름(11)이 눌려지고, 베이스필름(11)이 누름롤(32)과 박리롤(39) 사이의 위치에 수지공급장치에 의해 도공된 경화성수지(36)를 통해서 오목판(33)의 판면에 밀착된다. 그리고, 롤오목판(33)은 전동기 등으로 구동되는 구동장치(도시하지 않음)에 의해 베이스필름(11)의 보내기속도와 롤오목판(33)의 주속도가 동조하도록 회전구동되고 있고, 롤오목판(33)과 상기 롤오목판(33)에 밀착된 베이스필름(11)과의 사이에 롤오목판사이의 오목부(34)에 충전된 경화성수지(36)가 그대로의 상태로 경화장치(37)에 의해 경화되어 고체화되므로써 베이스필름상에 접착되고, 그 후 박리롤(39)에 의해 베이스필름(11)이 롤오목판(33)에서 박리되어 베이스필름상에 오목형상패턴(12)이 형성된다.The base film 11 is pressed against the coating portion 40 by the pressing roll 32 and the base film 11 is coated on the position between the pressing roll 32 and the peeling roll 39 by the resin feeding device And is brought into close contact with the surface of the concave plate 33 through the curable resin 36. The roll concave plate 33 is rotationally driven by a driving device (not shown) driven by an electric motor or the like so as to synchronize the sending speed of the base film 11 and the main speed of the roll concave plate 33, 33 and the base film 11 adhered to the roll concave 33 by the curing device 37 in a state in which the curing resin 36 filled in the concave portion 34 between the roll concave plates remains intact And then the base film 11 is peeled off from the roll concave 33 by the peeling roll 39 to form the concave pattern 12 on the base film.

상기 누름롤(32)은 베이스필름(11)을 롤오목판의 판면에 누를 수 있으면 되는데, 통상 직경 50∼300㎜정도이고 금속제의 축심 주위에 실리콘고무, 천연고무 등을 피복한 것이다.The pressing roll 32 is required to be able to press the base film 11 on the plate surface of the roll concave plate. Normally, the pressing roll 32 has a diameter of about 50 to 300 mm and is covered with silicone rubber, natural rubber or the like around the metal shaft.

경화장치(37)는 경화성수지의 종류에 따라서 적절히 선택할 수 있으나 전자파 또는 하전입자선중 경화성수지를 가교·중합시키는 에너지양자를 갖는 방사선을 조사하는 장치를 들 수 있다. 이와 같은 방사선으로서 공업적으로 이용할 수 있는 것은 적외선, 가시광, 자외선 혹은 전자선 등이 있고 그외 마이크로파나 X선 등의 전자파도 이용할 수 있다. 또, 도면중 38은 선원에서 발하는 방사선을 효율적으로 롤오목판에 조사하기 위한 반사경이다. 또, 경화장치(37)는 1기의 롤오목판에 대해서 2기설치되어 있고, 또 이들 2기의 경화장치의 선원(S1, S2)은 롤오목판의 중심(O)과 묶은 각S1OS2가 70∼110°의 각도범위, 바람직하게는 90°의 각도로 설정되어 있다.The curing device 37 may be appropriately selected depending on the kind of the curable resin, but includes an apparatus for irradiating radiation having both energy for crosslinking and polymerizing the curable resin in the electromagnetic wave or charged particle beam. As such radiation, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, or electron rays can be used industrially, and electromagnetic waves such as microwaves and X rays can also be used. In the figure, reference numeral 38 denotes a reflector for efficiently irradiating the roll concave plate with radiation emitted from the source. In addition, the curing device 37 and the second term installation for the roll intaglio of the first group, and the crew of the curing apparatus of the two groups (S1, S2) are each S 1 OS 2 enclosed with the center of the roll intaglio (O) Is set to an angle range of 70 to 110 °, preferably an angle of 90 °.

롤오목판(33)은 전자조각, 에칭, 밀누름, 전주(電鑄) 등의 방법으로 소정의 오목부(34)를 형성한 것이면 되고 이 롤오목판으 재질은 크롬을 표면에 도금한 동, 철 등의 금속, 초자, 석영 등의 세라믹스, 아크릴, 실리콘수지 등의 합성수지 등이 사용된다 또, 시트상에 전리방사선경화성수지 등에 의해 패턴을 형성한 시트를 그 패턴면을 외부면으로해서 롤에 감은 것이어도 된다. 롤오목판의 크기는 특히 한정되지 않으나 통상 직경150∼1000㎜, 선폭300∼2000㎜정도이다. 또, 베이스필름으로서는 경화할 때 방사선의 경화성수지로의 도달을 저해하지 않은 것이 바람직하다.The roll concave 33 may be any one formed by forming a predetermined concave portion 34 by means of electronic engraving, etching, pressing of a mill, electric pole or the like. The material of the concave plate of the roll is copper, iron Ceramics such as chalcopyrite, quartz and the like, synthetic resin such as acrylic resin and silicone resin are used. In addition, a sheet on which a pattern is formed by an ionizing radiation curable resin or the like is used as the outer surface of the sheet, . The size of the roll concave plate is not particularly limited, but usually the diameter is about 150 to 1000 mm and the line width is about 300 to 2000 mm. It is preferable that the base film does not inhibit the radiation from reaching the curable resin when curing.

또, 경화수지의 공급충전은 도 3 에 나타낸 바와 같이 롤오목판에 롤코트법에 의해 직접공급하는 것 외에 T다이 등의 다이에서 롤오목판에 직접공급하거나 혹은 베이스필름이 롤오목판에 당접하기 전에 상기 베이스필름기재상에 미리 롤코트법 등에 의해 도포형성해서 공급해도 된다.3, the supply of the cured resin is directly supplied to the roll concave plate by a roll coating method, or is supplied directly to the roll concave plate in a die such as a T-die, or before the base film comes into contact with the roll concave plate, It may be coated and supplied on the base film substrate by roll coating or the like in advance.

여기서, 전사시트를 제작하기 위하여 사용하는 오목판이나 롤오목판의 형상과 전사시트의 오목부형상 및 목적으로 하는 PDP 등의 패턴형상과의 3자의 관계에 대해서 설명해둔다.Here, the three-letter relationship between the shape of the concave plate or roll concave plate used for manufacturing the transfer sheet, the concave shape of the transfer sheet, and the pattern shape of the target PDP or the like will be described.

도 4(a)에는 오목판(101)과 그 판오목부(102)를 (b)에는 (a)의 오목판을 사용해서 얻을 수 있는 전사시트(50)와 그 오목부(51)를 (c)는 (b)의 전사시트를 사용해서 얻을 수 있는 피전사체(14)상의 잉크층(13)을 나타낸다. 잉크층(13)은 목적으로 하는 PDP 등의 패턴이 되는 것이다.4 (a) shows the concave plate 101 and its plate concave portion 102. Fig. 4 (b) shows the transfer sheet 50 obtained by using the concave plate shown in Fig. 4 (a) Shows the ink layer 13 on the transferred body 14 which can be obtained using the transfer sheet of (b). The ink layer 13 is a pattern of a target PDP or the like.

즉, 오목판에 있어서의 관오목부(102)는 전사시트에 있어서의 오목형상패턴(12)의 형상에 대응한다. 한편, 전사시트(50)에 있어서의 오목부(51)는 목적으로 하는 PDP 등의 패턴에 있어서의 잉크층(13)과 동일한 형상이 된다.That is, the pipe concave portion 102 in the concave plate corresponds to the shape of the concave pattern 12 in the transfer sheet. On the other hand, the concave portion 51 in the transfer sheet 50 has the same shape as that of the ink layer 13 in a pattern of a target PDP or the like.

이상의 형성방법 외에 베이스필름상으로의 오목형상패턴형성방법으로서 베이스필름상에 전리방사선경화성수지(네가형), 전리방사선붕괴성수지(포지형)으로 이루어지는 잉크를 베타도포한 후 오목형상패턴을 포토리소그라피에 의해 형성하는 방법에 의해 형성해도 된다.In addition to the above-mentioned formation method, as a method of forming concave pattern on base film, an ink consisting of an ionizing radiation curable resin (negative type) and an ionizing radiation decaying resin (positive type) is applied on a base film by Beta, Or may be formed by lithography.

이 방법은 베이스필름상에 알칼리현상형의 전리방사선경화성수지로 이루어지는 잉크를 베타도포한 후 포토마스크를 사용해서 노광부를 경화시킨 후 미노광부를 현상제거하므로써 베이스필름상에 오목형상패턴을 형성할 수 있다. 또, 전리방사선붕괴성수지를 사용하는 경우에는 베이스필름상에 전리방사선붕괴성수지로 이루어지는 잉크를 베타도포하고 전면노광해서 경화시킨 후 포토마스크를 사용해서 예를 들면 조사량 1×10-3C/㎠, 가속전압 10㎸∼30㎸의 전리방사선조사 등의 붕괴조건으로 노광하거나 또는 전자빔을 오목형상패턴형상에 조사해서 노광부에 있어서의 경화수지의 주쇄를 절단해서 현상액가용성으로 하여 현상제거하므로써 오목형상패턴을 형성할 수 있다.In this method, a base film is coated with an ink of an ionizing radiation-curable resin of an alkali development type, and then a photomask is used to cure the exposed portion. Then, the unexposed portion is developed and removed to form a concave pattern on the base film have. In the case of using an ionizing radiation decayable resin, an ink composed of an ionizing radiation decaying resin is applied on a base film, and the entire surface is exposed and cured. Then, using a photomask, for example, a radiation dose of 1 × 10 -3 C / The main chain of the cured resin in the exposed portion is cut off by exposure to a collapsing condition such as an ionizing radiation irradiation of an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV, or an electron beam is irradiated to a concave pattern, Can be formed.

또, 다른 방법으로는 베이스필름자체의 표면을 엔보스가공이나 에칭가공에 의해 형성하거나 또는 그 표면에 오목형상패턴을 갖도록 고분자필름을 성형가공하는 방법 등에 의해서도 된다.As another method, the surface of the base film itself may be formed by embossing or etching, or a method of forming a polymer film so as to have a concave pattern on the surface thereof.

본 발명의 제 1 전사시트에 대해서 도 2 에 의해 설명한다.The first transfer sheet of the present invention will be described with reference to Fig.

베이스필름(11)은 잉크층(13)에 있어서의 용제가 침투할수 없고, 또 공정중에 있어서의 가열처리에 의해 수축연신하지 않을 필요가 있으며, 고분자재료로서는 예를 들면 폴리에틸렌텔레프타레이트, 1, 4-폴리시클로헥실렌디메틸렌텔레프타레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리페닐렌설파이드, 폴리스틸렌, 폴리프로필렌, 폴리살폰, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리비닐알콜, 셀로판, 초산셀룰로오스 등의 셀룰로오스유도체, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 나일론, 폴리이미드, 아이오노머 등의 각 필름, 시트 또는 알루미늄, 동, 인버재료(36Ni-Fe합금, 42Ni-Fe합금) 등의 금속이나 합금시트, 또한 유리나 무기재료로 이루어지는 세라믹시트 혹은 이들의 복합시트를 들 수 있다. 특히 복합시트로서 고분자필름과 세라믹시트 또는 열변형이 작은 금속시트와의 적층시트를 사용하면 유연하고 기계적 강도가 강하며 열변형이 작은 시트를 얻을 수 있으므로 바람직하다.It is necessary that the base film 11 can not infiltrate the solvent in the ink layer 13 and that the base film 11 is not stretched or contracted by heat treatment in the process. Examples of the polymer material include polyethylene terephthalate, Cellulose derivatives such as polyethylene terephthalate, 4-polycyclohexylenedimethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polystyrene, polypropylene, polysulfone, aramid, polycarbonate, polyvinyl alcohol, cellophane and cellulose acetate, A sheet or a metal or alloy sheet such as aluminum, copper or an alloy material (36Ni-Fe alloy, 42Ni-Fe alloy), or a ceramic sheet made of glass or inorganic material or the like And a composite sheet thereof. Particularly, when a laminated sheet of a polymer film and a ceramic sheet or a metal sheet having a small thermal deformation is used as the composite sheet, a sheet which is flexible and has a strong mechanical strength and a small thermal deformation can be obtained.

또, 기체는 통과시키나 액체(잉크성분)는 통과시키지 않는 다공질필름을 사용해도 된다. 이 경우에는 오목형상패턴에 있어서의 오목부에 패턴형성재료를 충전하고 피전사체에 전사할 때에 베이스필름의 배면측에서 에어를 보내므로써 충전된 패턴형성재료의 박리성을 개선시킬 수 있고 잉크층의 전사성이 뛰어난 것으로 할 수 있다. 베이스필름의 막두께로서는 10㎛∼500㎛, 바람직하게는 20㎛∼300㎛로 하면 좋다.In addition, a porous film may be used in which a gas is passed but a liquid (ink component) is not passed. In this case, when the pattern forming material is filled in the concave portion in the concave pattern and air is fed from the back side of the base film when transferring the pattern forming material to the transfer body, the peelability of the filled pattern forming material can be improved, The transferability can be excellent. The film thickness of the base film may be 10 占 퐉 to 500 占 퐉, preferably 20 占 퐉 to 300 占 퐉.

오목형상패턴(12)에 있어서의 오목부공간형상은 제작되는 전극이나 장벽패턴 등에 대응되는 형상을 갖는 것이다. 오목부의 깊이는 오목형상패턴을 전극패턴으로 할 경우에는 5㎛∼50㎛, 장벽패턴으로 하는 경우에는 100㎛∼200㎛, 하지패턴으로 할 경우에는 5㎛∼50㎛, 유전체패턴으로 할 경우에는 5㎛∼50㎛정도이다.The concave space shape of the concave pattern 12 has a shape corresponding to an electrode to be manufactured, a barrier pattern, or the like. The depth of the concave portion is 5 占 퐉 to 50 占 퐉 when the concave pattern is used as the electrode pattern, 100 占 퐉 to 200 占 퐉 when the barrier pattern is used, and 5 占 퐉 to 50 占 퐉 when the concave pattern is used as the base pattern, 5 mu m to 50 mu m.

본 발명의 전사시트는 도 2 나타낸 바와 같이 평판형뿐만아니라 롤형상이어도 된다.The transfer sheet of the present invention may be in the form of a roll as well as a plate as shown in Fig.

잉크층(13)으로서는 그 용도가 PDP 등의 하지형성층, 유전체형성층과 같은 저항체층이나 장벽층의 경우에는 적어도 유리플릿을 갖는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어진다.The ink layer 13 is composed of a resistive layer such as a foundation forming layer such as a PDP or a dielectric forming layer or an inorganic component having at least a glass frit in the case of a barrier layer and a resin component removed by firing.

유리플릿으로서는 그 연화점이 350℃∼650℃이고, 열팽창계수α300가 60×10-7/℃∼100×10-7/℃의 것을 들 수 있다. 유리플릿의 연화점이 650℃를 넘으면 소성온도를 높일 필요가 있고 그 적층대상에 따라서는 열변형하기도 하므로 바람직하지 않고 또 350℃보다 낮으면 수지 등이 분해, 휘발하기 전에 유리플릿이 융착하고 층중에 빈간격등이 발생하게되므로 바람직하지 않다. 또, 열팽창계수가 60×10-7/℃∼100×10-7/℃의 범위외이면 유리기판의 열팽창계수와의 차이가 커 기울어지므로 바람직하지 않다.As the glass frit, and the softening point is 350 ℃ ~650 ℃, there may be mentioned that the thermal expansion coefficient α 300 is 60 × 10 -7 / ℃ of ~100 × 10 -7 / ℃. When the softening point of the glass frit exceeds 650 캜, it is necessary to increase the firing temperature. Depending on the object to be laminated, it is not preferable because it is thermally deformed. If it is lower than 350 캜, the glass frit is fused before the resin decomposes and volatilizes, An empty space or the like is generated. The thermal expansion coefficient is 60 × 10 -7 / ℃ ~100 × 10 -7 / ℃ of range of the tilting is not preferable because the difference between the thermal expansion coefficient of the glass substrate increases.

또, 무기성분으로서 유리플릿의 다른 무기분체, 무기안료를 각각 2종류이상을 혼합해서 사용해도 된다.As the inorganic component, two or more kinds of other inorganic powders and inorganic pigments of glass frit may be mixed and used.

무기분체로서는 골재로서 필요에 따라 첨가된다. 무기분체는 소성할 때의 유연방지(流延防止), 치밀성향상을 목적으로하는 것으로 유리플릿보다 연화점이 높은 것으로서, 예를 들면 산화알루미늄, 산화붕소, 실리카, 산화티탄, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화스트롬티움, 산화발륨, 탄산칼슘 등의 각 무기분체를 사용할 수 있고 평균입자 직경 0.1㎛∼20㎛의 것이 예시된다. 무기분체의 사용비율은 유리플릿 100중량부에 대해서 무기분체 0중량부∼30중량부로하면 된다.As the inorganic powder, it is added as an aggregate as needed. The inorganic powder is a material having a higher softening point than glass frit for the purpose of preventing softening (casting prevention) and improving denseness when firing, and examples thereof include aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide, magnesium oxide, Oxidized strontium, valium oxide, calcium carbonate, and the like, and an average particle diameter of 0.1 to 20 m is exemplified. The inorganic powder may be used in an amount of 0 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the glass frit.

또, 무기안료로서는 외광반사를 저감시키고 실용상의 콘트라스트를 향상시키기 위하여 필요에 따라 첨가시키는 것으로 암색으로 할 경우에는 내화성의 암색안료로서 Co-Cr-Fe, Co-Mn-Fe, Co-Fe-Mn-Al, Co-Mi-Cr-Fe, Co-Ni-Mn-Cr-Fe, Co-Ni-Al-Cr-Fe, Co-Mn-Al-Cr-Fe-Si 등을 들 수 있다. 또, 내화성의 백색안료로서는 산화티탄, 산화알루미늄, 실리카, 탄산칼슘 등을 들 수 있다. 무기안료는 유리플릿 100중량부에 대해서 0중량부∼30중량부 함유시키면 된다.Co-Cr-Fe, Co-Mn-Fe, and Co-Fe-Mn are used as the inorganic pigments in order to reduce the external light reflection and improve the practical contrast. -Al, Co-Mi-Cr-Fe, Co-Ni-Mn-Cr-Fe, Co-Ni-Al-Cr-Fe and Co-Mn-Al-Cr-Fe-Si. Examples of the refractory white pigment include titanium oxide, aluminum oxide, silica, and calcium carbonate. The inorganic pigment may be contained in an amount of 0 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the glass frit.

소성에 의해 제거되는 수지성분은 무기성분의 바인더로서 또 전사성의 향상을 목적으로하여 함유시키는 것으로서 열가소성수지, 전리방사선경화성수지, 현상형감광성수지 등을 들 수 있다.The resin component to be removed by firing is contained as a binder for an inorganic component and for the purpose of improving the transfer property, and examples thereof include a thermoplastic resin, an ionizing radiation curable resin, and a developing type photosensitive resin.

열가소성수지로서는 상술한 오목형상패턴형성재료로 기재한 열가소성수지를 사용할 수 있으나 바람직하게는 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-플로필아크릴레이트, n-플로필메타크릴레이트, 이소플로필아크릴레이트, 이소플로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시플로필아크릴레이트, 히드록시플로필메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 등의 1종이상으로 이루어지는 폴리머 또는 코폴리머, 에틸셀룰로오스, 폴리부틴유도체가 바람직하다.As the thermoplastic resin, a thermoplastic resin described as the above-mentioned concave pattern forming material can be used, but it is preferable to use a thermoplastic resin such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n- Butyl methacrylate, n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, iso-propyl methacrylate, isobutyl methacrylate, Butyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, 2-ethylhexyl Methacrylate, and 2-ethylhexyl acrylate, ethyl cellulose, polybutene derivatives It is preferred.

전리방사선경화성수지로서는 상기한 오목형상패턴(12)으로 기재한 것과 동일한 자외선 혹은 전자선경화성수지 등을 들 수 있고, 분자중에 중합성불포화결합 또는 에폭시기를 갖는 프레폴리머, 올리고머 및/또는 단량체를 적절히 혼합한 조성물을 사용할 수 있다.Examples of the ionizing radiation curable resin include ultraviolet or electron beam hardening resins similar to those described with the concave pattern 12 described above, and a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule Mixed compositions may be used.

무기성분과 열가소성수지나 전리방사선경화성수지 등의 수지성분과의 사용비율은 무기성분 100중량부에 대해서 수지성분 3중량부∼50중량부, 바람직하게는 5중량부∼30중량부의 비율로 이루어진다. 수지성분이 3중량부보다 적으면 패턴형상지지성이 나쁘고 PDP 등의 제작에 지장을 주는 문제가 발생한다. 또, 50중량부보다 많아지면 소성 후의 막중에 카본이 남고 품질이 저하하므로 바람직하지 않다.The ratio of the inorganic component to the resin component such as thermoplastic resin or ionizing radiation curable resin is 3 parts by weight to 50 parts by weight, preferably 5 parts by weight to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the inorganic component. When the amount of the resin component is less than 3 parts by weight, the pattern-like supportability is poor and problems such as the generation of problems such as the generation of PDPs occur. On the other hand, when the amount is more than 50 parts by weight, carbon is left in the film after firing, and the quality is deteriorated.

또, 필요에 따라 가소제, 증점제, 분산제, 침강방지제, 소포제, 박리제, 레벨링제 등이 첨가된다.If necessary, a plasticizer, a thickener, a dispersing agent, an anti-settling agent, a defoaming agent, a stripping agent, a leveling agent and the like are added.

또, 소성에 의해 제거되는 수지성분으로서 현상형의 감광성수지를 사용해도 된다.As the resin component removed by firing, a developing type photosensitive resin may be used.

현상형의 감광성수지는 바인더폴리머와 중합성모노머로 이루어지고 필요에 따라서 광개시제, 증감제, 중합정지제, 연쇄이동제가 첨가되고 또 필요에 따라서 가소제, 분산제, 침강방지제, 소포제, 박리제, 레벨링제 등이 첨가된다.The development type photosensitive resin is composed of a binder polymer and a polymerizable monomer and is optionally added with a photoinitiator, a sensitizer, a polymerization terminator, a chain transfer agent, and optionally a plasticizer, a dispersant, an anti-settling agent, a defoaming agent, .

바인더폴리머로서는 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-플로필아크릴레이트, n-플로필메타크릴레이트, 이소플로필아크릴레이트, 이소플로필메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, n-펜틸아크릴레이트, n-펜틸메타크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, n-헥실메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, n-옥틸메타크릴레이트, n-데실아크릴레이트, n-데실메타크릴레이트, 스틸렌, α-메틸술폰, N-비닐필로리돈의 1종류이상으로 이루어지는 코폴리머 또 이들 코폴리머를 2종류이상 혼합한 것이어도 되고 또 이들 코폴리머에 에틸렌성 불포화화합물을 부가시킨 폴리머이어도 되고, 중량평균분자량이 5,000∼300,000, 바람직하게는 10,000∼200,000의 것을 들 수 있다.Examples of the binder polymer include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec Butyl acrylate, n-butyl methacrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n Hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, Acrylate, n-decyl acrylate, n-decyl methacrylate, styrene,? -Methylsulfone, N-vinylpyrrolidone, or a mixture of two or more of these copolymers And there is also a copolymer thereof may be a ethylenically unsaturated compound polymer was added, the weight average molecular weight be that of 5000-300000, preferably 10000-200000.

중합성모노머, 광개시제는 상기 오목형상패턴(12)으로 기재한 것과 동일한 것이 사용되고 중합성모노머의 사용량은 바인더폴리머 100중량부에 대해서 20중량부∼200중량부함유시키면 좋다. 감광성수지는 네가형의 경우 전무기성분의 합계량 100중량부에 대해서 2중량부∼60중량부, 바람직하게는 2중량부∼30중량부의 비율로 함유시키면 좋다. 감광성수지는 60중량부보다 많으면 소성후의 막중에 카본이 남아 품질이 저하하므로 바람직하지 않다.The polymerizable monomer and the photoinitiator may be the same as those described with the concave pattern 12, and the amount of the polymerizable monomer may be 20 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder polymer. The photosensitive resin may be contained in a proportion of 2 parts by weight to 60 parts by weight, preferably 2 parts by weight to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of all inorganic components in the case of the negative type. If the amount of the photosensitive resin is more than 60 parts by weight, carbon remains in the film after firing, and the quality is deteriorated, which is not preferable.

가소제는 전사성이나 잉크의 유동성을 향상시키는 것을 목적으로하여 첨가되고, 예를 들면 디메틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 디-n-옥틸프탈레이트 등의 노말알킬프탈레이트류, 디-2-에틸헥실프탈레이트, 디이소데실프탈레이트, 부틸벤질프탈레이트, 디이소노닐프탈레이트, 에틸프탈에틸글리콜레이트, 부틸프타릴부틸글리콜레이트 등의 프탈산에스테르류, 트리-2-에틸헥실트리메리테이트, 트리-n-알킬트리메리테이트, 트리이소노닐트리메리테이트, 트리이소데실트리메리테이트 등의 트리메릿산에스테르, 디메틸아지페이트, 디부틸아지페이트, 디-2-에틸헥실아지페이트, 디이소데실아지페이트, 디부틸디글리콜아지페이트, 디-2-에틸헥실아세테이트, 디메틸세바케이트, 디부틸세바케이트, 디-2-에틸헥실세바케이트, 디-2-에틸헥실마레이트, 아세틸-트리-(2-에틸헥실)시트레이트, 아세틸-트리-n-부틸시트레이트, 아세틸트리부틸시트레이트 등의 지방족이염기산에스테르류, 폴리에틸렌클리콜벤조에이트, 트리에틸렌글리콜-디-(2-에틸핵소에이트), 폴리글리콜에테르 등의 글리콜유도체, 글리세롤트리아세테이트, 글리세롤디아세틸모노라우레이트 등의 글리세린유도체, 세바신산, 아지핀산, 아제라인산, 프탈산 등으로 이루어지는 폴리에스테르계, 분자량 300∼3,000의 저분자량폴리에테르, 동저분자량폴리-α-스틸렌, 동저분자량폴리스틸렌, 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리-2-에틸헥실포스페이트, 트리부톡시에틸포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리클레질포스페이트, 트리키시레닐포스페이트, 클레질디페닐포스페이트, 키시레닐디페닐포스페이트, 2-에틸헥실디페닐포스페이트 등의 정인산에스테르류, 메틸아세틸리시놀레이트 등의 리시놀산에스테르류, 폴리-1, 3-부탄디올아지페이트, 에폭시화 대두유 등의 폴리에스테르·에폭시화에스테르류, 글리세린트리아세테이트, 2-에틸헥실아세테이트 등의 초산에스테르류가 예시된다.The plasticizer is added for the purpose of improving the transferability and the fluidity of the ink, and examples thereof include normal alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, dibutyl phthalate and di-n-octyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, Phthalic acid esters such as isopropyl phthalate, isobutyl phthalate, isopropyl phthalate, isopropyl phthalate, isopropyl phthalate, isopropyl phthalate, isopropyl phthalate, isobutyl phthalate, Trimellitic acid esters such as triisostearyl trimellitate, triisononyl trimellitate and triisodecyl trimellitate, dimethyl azide, dibutyl azide, di-2-ethylhexyl adipate, diisodecyl adipate, dibutyl diglycol adipate Di-2-ethylhexyl acetate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di- Aliphatic dibasic acid esters such as tri- (2-ethylhexyl) citrate, acetyl-tri-n-butyl citrate and acetyl tributyl citrate, polyethylene glycol benzoate, triethylene glycol di- A glycol derivative such as polyglycol ether, a glycerol triacetate, a glycerol derivative such as glycerol diacetyl monolaurate, a polyesters such as sebacic acid, azinic acid, azelaic acid, phthalic acid, etc., a low molecular weight 300-3,000 Molecular weight polyether, homopolar molecular weight poly-α-styrene, homopoly molecular weight polystyrene, trimethylphosphate, triethylphosphate, tributylphosphate, tri-2-ethylhexylphosphate, tributoxyethylphosphate, triphenylphosphate, triclezylphosphate, Tricyclyenylphosphate, clezediphenylphosphate, xylylenediphenylphosphate, 2-ethylhexyldi Epoxidized esters such as poly-1, 3-butanediol azepate and epoxidized soybean oil, glycerin triacetate, glycerin triacetate, 2-ethyl And acetic acid esters such as hexyl acetate.

증점제는 잉크에 있어서의 점도를 증대시키는 것을 목적으로하여 필요에 따라 첨가되는 것으로서 공지의 것을 사용할 수 있는데 예를 들면 히드록시에틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 아르긴산소다, 카제인, 카제인산소다, 키산단감, 폴리비닐알콜, 폴리에테르우렌변성물, 폴리아크릴산에스테르, 폴리메타크린산에스테르, 몸모타로나이트, 스테아린산알루미늄, 스테아린산아연, 옥틸산알루미늄, 수첨가히마시유, 히마시유에스테르, 지방산아마이드, 산화폴리에틸렌, 덱스트린지방산에스테르, 디벤질리덴솔비톨, 식물유계중합유, 표면처리탄산칼슘, 유기벤트나이트, 실리카, 티타니아, 질루코니아, 알루미나 등의 미세분말 등을 들 수 있다.The thickening agent may be a known one added to the ink for the purpose of increasing the viscosity of the ink. Examples of the thickening agent include hydroxyethylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose, arginic acid, casein, casein Polyvinyl alcohol, polyether urea denatured product, polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, body motoronite, aluminum stearate, zinc stearate, aluminum octylate, water-added hymacillus oil, , Fine particles of fatty acid amide, polyethylene oxide, dextrin fatty acid ester, dibenzylidene sorbitol, vegetable oil based mixed oil, surface treated calcium carbonate, organic bentonite, silica, titania, zirconia, alumina and the like.

분산제, 침강방지제로서는 무기성분의 분산성이나 침강방지성의 향상을 목적으로 하는 것으로 예를 들면 인산에스테르계, 실리콘계, 히마시유의 에스테르계, 각종 계면활성제 등이 예시되고 소포제로서는 예를 들면 실리콘계, 아크릴계, 각종 계면활성제 등이 예시되고 박리제로서는 예를 들면 실리콘계, 불소유계, 파라핀계, 지방산계, 지방산에스테르계, 히마시유계, 왁스계, 콤파운드타이프가 예시되고 레벨링제로서는 예를 들면 불소계, 실리콘계, 각종 계면활성제 등이 예시되고 각각 적절량이 첨가된다.Examples of the dispersing agent and the sedimentation preventing agent are those for the purpose of improving the dispersibility of the inorganic component and the sedimentation preventing property, and examples thereof include phosphoric ester type, silicone type, hippurate oil type ester and various surfactants. Examples of the defoaming agent include silicon type, acrylic type Examples of the releasing agent include silicones, fluorine oils, paraffins, fatty acids, fatty acid esters, hammers oils, waxes and compound types. Examples of the leveling agents include fluorine, silicon, Various surfactants and the like are exemplified, and each is added in an appropriate amount.

상기 잉크재료는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 키실렌, 시클로헥사논 등의 아논류, 염화메틸렌, 3-메톡시부틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 에틸렌글리콜알킬에테르아세트이트류, 디에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노알킬에테르류, 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 디프로필렌글리콜모노알킬에테르류, 디프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, α- 혹은 β-텔피오넬 등의 델펜류에 용해, 또는 분산시켜서 잉크가 된다. 또, 이와 같은 용제를 사용하지 않는 난솔타이프의 잉크이어도 된다.The ink material may be at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, cyclohexanone and other anthrines, methylene chloride, 3-methoxybutyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ethers, Propylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ether ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether ethers, Or alpha-or beta -traphene, in the form of an ink. It is also possible to use an ink of a nosol type type without using such a solvent.

또, 잉크층이 전극형성용일 경우에는 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분, 소성에 의해 제거되는 수지성분, 도전성분말로 구성된다.When the ink layer is for electrode formation, it is composed of at least an inorganic component composed of glass frit, a resin component removed by firing, and a conductive component.

무기성분으로서는 상술한 장벽층 등 잉크층의 항에서 기재한 유리플릿, 무기분체, 무기안료를 사용할 수 있다. 무기분체는 유리플릿 100중량부에 대해서 0중량부∼10중량부인 것으로 하면 된다.As the inorganic component, the glass frit, the inorganic powder, and the inorganic pigment described in the item of the ink layer such as the above-mentioned barrier layer can be used. The inorganic powder may be 0 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the glass frit.

수지성분으로서는 상술한 장벽층 등 잉크층의 항에서 기재한 수지를 사용할 수 있고 소성에 의해 제거되는 수지성분의 전극형성층 형성용잉크 중의 함량은 3중량%∼60중량%, 바람직하게는 5중량%∼30중량%이다.As the resin component, the resin described in the item of the ink layer such as the above-described barrier layer can be used. The content of the resin component removed by firing in the electrode forming layer forming ink is 3 wt% to 60 wt%, preferably 5 wt% To 30% by weight.

도전성분말로서는 금, 은 동, 니켈, 알루미늄 등의 금속분말을 들 수 있고 평균 입자 직경이 0.1㎛∼5㎛의 구형금속분말이 바람직하다. 도전성분말과 유리플릿과의 사용역할은 도전성분말 100중량부에 대해서 유리플릿은 2중량부∼20중량부이다.As the conductive component, metal powder such as gold, silver, copper, nickel, or aluminum may be used, and a spherical metal powder having an average particle diameter of 0.1 탆 to 5 탆 is preferable. The conductive powder and the glass frit are used in an amount of 2 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the conductive powder.

또, 전극형성층 형성용잉크에는 필요에 따라서 가소제, 분산제, 침강방지제, 소포제, 박리제, 레벨링제를 첨가해도 좋고 모두 상술한 장벽층 등을 형성하는 항에서 기재한 것을 사용할 수 있다. 전극형성층 형성용잉크로 하는데는 상기한 구성재료를 필요에 따라 상술한 유전체층 등을 형성하는 항에서 기재한 것과 동일한 용제와 혼합시켜 롤밀, 비즈밀 등에 의해 혼련해서 잉크형상의 도액으로 하거나 또는 폴밀 등에 의해 혼련해서 슬라이형상의 도액이 된다.A plasticizer, a dispersant, an anti-settling agent, a defoaming agent, a stripping agent, and a leveling agent may be added to the ink for forming an electrode forming layer as required, and those described in the section for forming the above-mentioned barrier layer and the like may be used. The ink for forming an electrode forming layer may be prepared by mixing the above constituent materials with the same solvent as described in the section for forming a dielectric layer or the like as required and kneading them with a roll mill or a bead mill to form an ink- To form a sliced coating.

오목형상패턴에 있어서의 잉크층은 안료를 상위시킨 다수층 이상의 적층구조로해도 된다. 예를 들면 장벽형성층용패턴으로서 오목부패턴의 바닥부에는 우선 암색잉크층을 적층한 후 이어서 그 암색잉크층상에 백색잉크층을 적층해서 암색잉크층과 백색잉크층의 2층으로 이루어지는 충전구조로 해도 된다. 또, 오목부패턴의 바닥부에 우선 투명잉크층을 적층한 후 이어서 암색잉크층, 백색잉크층을 순차적으로 적층한 3층구성으로 해도 된다. 이와 같이 다수층으로 하면 오목형상패턴에 있어서의 잉크층이 피전사체에 전사된 상태로는 PDP기판층에서 볼 때 백색층상에 암색층이 적층된 다수층구성의 장벽형성층으로 할 수 있다. 이와 같이 장벽에 있어서 관찰측이 암색이 되므로 PDP에 있어서의 콘트라스트가 향상된다.The ink layer in the recessed pattern may have a laminated structure of a plurality of layers or more in which the pigment is different. For example, as a pattern for a barrier-forming layer, a dark-colored ink layer is first laminated on the bottom of the concave pattern, and then a white ink layer is laminated on the dark-colored ink layer to form a filling structure composed of a dark ink layer and a white ink layer You can. Alternatively, a three-layer structure may be employed in which a transparent ink layer is first laminated on the bottom of the concave pattern, and then a dark ink layer and a white ink layer are sequentially laminated. When the ink layer in the concave pattern is transferred to the body, the barrier layer may have a multi-layer structure in which a dark color layer is laminated on the white layer when viewed from the PDP substrate layer. As described above, since the viewing side becomes darker on the barrier, the contrast in the PDP is improved.

또, 전극형성용패턴으로서 오목형상패턴의 바닥부에 도전성잉크층을 형성한 후 그 도전성층상에 암색잉크층을 적층하여 동일한 적층구조로 해도 된다. 이 경우에도 관찰측이 암색이 되므로 PDP에 있어서의 콘트라스트가 향상되는 점에서 장벽형성층과 동일하다. 암색잉크층은 상술한 장벽형성층용잉크와 마찬가지로 유리플릿, 무기분체, 암색무기안료, 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 비도전성잉크층이어도 되나 바람직하게는 무기분체대신에 도전성분말을 함유하는 도전성잉크층으로 하면 좋고 상술한 장벽형성층 등의 잉크층의 항에서 기재한 암색안료를 유리플릿 100중량부에 대해서 2중량부∼700중량부함유시키면 좋다.Alternatively, a conductive ink layer may be formed on the bottom of the concave pattern as an electrode-forming pattern, and a dark-color ink layer may be laminated on the conductive layer to have the same lamination structure. Also in this case, it is the same as the barrier formation layer in that contrast on the PDP is improved because the observer side becomes a dark color. The dark-colored ink layer may be a glass frit, an inorganic powder, a dark-colored inorganic pigment, a non-conductive ink layer composed of a resin component removed by firing as in the above-described ink for a barrier-forming layer, but preferably a conductive layer containing conductive powder It may be an ink layer, and 2 to 700 parts by weight of the dark pigment described in the item of the ink layer such as barrier-forming layer described above may be contained in 100 parts by weight of the glass frit.

잉크층(13)의 전사성을 향상시키는 것을 목적으로하여 오목형상패턴(12)표면에 박리층을 형성해도 되고 또 오목형상패턴재료중 또는 잉크층(13)형성재료중 박리제를 혼련해도 된다.A release layer may be formed on the surface of the concave pattern 12 for the purpose of improving the transferability of the ink layer 13 or the release agent may be kneaded in the concave pattern material or in the material for forming the ink layer 13. [

박리제로서는 예를 들면 폴리에틸렌왁스, 아미드왁스, 테프론파우더, 실리콘왁스, 카르나바왁스, 아크릴왁스, 파라핀왁스 등의 왁스류, 불소계수지, 멜라민계수지, 폴리오레핀수지, 전리방사선경화형 다관능아크릴레이트수지, 폴리에스테르수지, 에폭시수지, 아미노변성, 에폭시변성, OH변성, COOH변성, 촉매경화형, 광경화형, 열경화형의 실리콘오일, 또는 실리콘수지가 예시되고 오목형상패턴(12), 또는 잉크층(13)중에 0.01중량%∼10중량% 함유시키면 좋다. 또, 오목형상패턴표면에 박리층을 형성할 경우에는 그 막두께는 0.1∼50㎛, 바람직하게는 1㎛∼10㎛의 것이 된다.Examples of the releasing agent include waxes such as polyethylene wax, amide wax, Teflon powder, silicone wax, carnauba wax, acrylic wax and paraffin wax, fluorine resins, melamine resin, polyolefin resin, ionizing radiation curable polyfunctional acrylate resin A concave pattern 12 or an ink layer 13, which is exemplified by a silicone resin, a polyester resin, an epoxy resin, an amino modification, an epoxy modification, an OH modification, a COOH modification, a catalyst curing type, a light curing type, ) To 0.01% by weight to 10% by weight. When a release layer is formed on the concave pattern surface, the thickness of the release layer is 0.1 to 50 mu m, preferably 1 to 10 mu m.

또, 전사성을 향상시키는 방법으로서 냉각시 잉크층의 수축성을 이용해도 된다. 오목형상패턴 형성재료의 냉각시 수축률과 잉크층재료의 수축률과는 차이를 가지게 해서 충전시에 잉크층의 온도를 높여 전사시에는 냉각하므로써 박리성·전사성을 향상시킬 수 있다. 또, 잉크층이 열가소성수지로 이루어질 경우에는 상술한 오목형상패턴형성시에 있어서 기재한 발포제나 발포체를 마찬가지로 첨가하여 냉각시에 있어서의 수축성을 이용할 수 있어 박리성에 뛰어난 것이 된다.In addition, as a method of improving the transfer property, the shrinkage of the ink layer during cooling may be used. The degree of shrinkage upon cooling of the concave-shaped pattern-forming material and the shrinkage percentage of the ink layer material are made different from each other, the temperature of the ink layer during charging is increased, and the releasing property and the transferring property can be improved by cooling during transfer. When the ink layer is made of a thermoplastic resin, shrinkability at the time of cooling can be used by adding the foaming agent or the foam described above at the time of forming the concave-shaped pattern in the same manner, so that the peelability is excellent.

전사시트에 있어서의 오목형상패턴중으로의 잉크의 충전방법으로는 덕트브레이드방식, 롤도포방식, 에어프레스나 진공당김에 의한 방법외에 스키지, 덕트, 도랑에 담는 등의 방식에 의해 충전하고 과잉분을 스크레이퍼, 필름완핑, 에어나이프 등에 의해 제거하는 방식을 들 수 있다. 이들중 어느 방식에 있어서도 점도저하에 의한 도포속도향상을 목적으로 한 온도조절이나 탈포를 목적으로 하는 초음파처리를 병용할 수 있다.As the method of filling the ink into the concave pattern in the transfer sheet, the ink may be filled by a method such as a duct braiding method, a roll coating method, an air press or a vacuum pulling method, a squeegee, a duct, Is removed by a scraper, film buffing, air knife, or the like. Any of these methods can be used in combination with ultrasonic treatment for temperature control or degassing for the purpose of improving the coating speed by the decrease in viscosity.

또, 잉크층(13)을 용제를 사용하지 않은 논솔타이프로 할 경우에는 예를 들면 잉크층(13)을 장벽형성층, 유전체형성층 등으로 할 경우에는 유리플릿, 무기분체나 무기안료, 유기성분으로 이루어지는 고체분말, 혹은 유리플릿 등의 무기성분말만을 또 전극형성층으로 하는 경우에는 유전성금속분말, 유리플릿으로 이루어지는 분말을 베이스필름의 오목형상패턴내에 분체인 채, 혹은 적당히 습기를 준 형으로 밀어넣어 진공끌기 등의 방법으로 눌러넣으므로써 충전하면 좋다.When the ink layer 13 is made of a non-sol type without using a solvent, for example, when the ink layer 13 is a barrier-forming layer or a dielectric layer, the ink layer 13 may be formed of glass frit, inorganic powder, In the case where only the inorganic powder such as the solid powder or the glass frit is to be used as the electrode forming layer, the powder made of the dielectric metal powder or the glass frit is poured into the concave pattern of the base film in powder form or in an appropriate wet type It can be charged by pushing in vacuum pull method.

이와 같은 논솔타이프의 경우에는 전사성의 향상을 목적으로하여 오목형상패턴중에 박리제를 넣은것으로 하거나 또 오목형상패턴표면을 박리처리해두면 좋다. 또, 베이스필름의 배면에서 누르거나 오목형상패턴으로부터 잉크층을 밀어내어 전사시켜도 좋으나 전사할 때에 있어서 잉크층에 있어서의 유리플릿성분이 일부 연화하는 온도(항복점)까지 가열할 때의 잉크층 수축작용을 이용해서 전사해도 된다. 또, 오목형상패턴을 전리방사선붕괴성수지로 형성해두고 잉크층과 함께 피전사체에 전사한 후 전리방사선을 조사해서 현상액가용성으로 하고 현상제거해도 되고 또 PDP제작을 할 때의 소성시에도 소성제거해도 된다.In the case of such a non-sol type, it may be considered that the release agent is put in the concave pattern or the surface of the concave pattern is peeled for the purpose of improving transferability. Alternatively, the ink layer may be pushed out from the back surface of the base film or transferred from the concave pattern, and may be transferred. However, when the ink layer is heated to a temperature (yield point) at which the glass frit component in the ink layer partially softens May also be used. Alternatively, the concave pattern may be formed of an ionizing radiation decayable resin, transferred to a transfer body together with the ink layer, irradiated with ionizing radiation to make the developing solution soluble and removed, or may be removed even when the PDP is produced .

다음으로 본 발명의 제 1 패턴의 형성방법에 대해서 설명한다.Next, a method of forming the first pattern of the present invention will be described.

도 5 는 잉크층(13)만을 전사시키는 경우에 대해서 설명하는 것으로 잉크층(13)을 (a)와 같이 스키지(X)를 사용해서 충전한 베이스필름(11)을 피전사체(14)에 라미네이트한 후 베이스필름(11)의 배면에서 눌러 베이스필름(11)과 오목형상패턴(12)을 박리해서 (b)와 같이 잉크층(13)만을 피전사체(14)상에 전사시킨다.5 shows a case where only the ink layer 13 is transferred and the base film 11 in which the ink layer 13 is filled with the squeegee X as shown in Fig. The base film 11 and the concave pattern 12 are peeled off from the back surface of the base film 11 after the lamination and only the ink layer 13 is transferred onto the transferred body 14 as shown in FIG.

전사시트와 피전사체(14)와의 누름방법으로서 평프레스, 롤프레스, 흡착다공질롤프레스, 원호프레스 등을 들 수 있다. 평프레스는 프레스판이 평판형상이고 얼라인먼트를 용이하게 잡을 수 있고 원호프레스도 동일하다. 롤프레스는 롤을 회전시키면서 배면에서 이간시킨 전사시트와 피전사체를 눌러 잉크층(13)을 전사시킴과 더불어 전사후에는 베이스필름(전사시트)를 박리시키는 것이므로 작업성이 뛰어난 반면, 전사시트가 늘어나게되어 패턴끼리의 얼라이먼트에 곤란성이 있다. 전사시에는 예를 들면 전사시트에 있어서의 장벽패턴과 피전사체에 있어서의 전극패턴상호와 같이 서로의 위치정밀도가 중요하다.Examples of the pressing method of the transfer sheet and the transfer body 14 include a flat press, a roll press, an adsorption porous roll press, and an arc press. The flat press is in the form of a flat plate and the alignment can easily be grasped and the arc press is the same. Since the roll press is to transfer the ink layer 13 by pressing the transfer sheet and the transfer object separated from the back surface while rotating the roll, and to release the base film (transfer sheet) after the transfer, the workability is excellent, And there is a difficulty in aligning the patterns. At the time of transfer, for example, the positional accuracy of each other as well as the barrier pattern in the transfer sheet and the electrode pattern in the transferred body are important.

그에 대해서, 흡착다공질롤프레스는 작업성과 더불어 전사시트의 늘어남을 방지할 수 있는 점에서 뛰어나다. 흡착다공질롤프레스는 롤을 다공질로하여 전사시트를 배면에서 흡착하는 흡착에어를 갖고 그 흡착, 탈착을 부분부분으로 절환할 수 있는 것으로 다공질롤을 회전시키면서 전사시트의 배면에서 떨어져 간격을 둔 전사시트와 피전사체를 누르고 잉크층(13)을 전사함과 더불어 전사후에 베이스필름을 박리하는 데 있어서 전사시트를 흡착한 상태에서 누를 수 있으므로 전사시트를 텐션커트(무장력화)할 수 있고 패턴의 늘어짐을 방지할 수 있고 또 작업성에도 뛰어난 것이다.On the other hand, the adsorption porous roll press is superior in workability as well as in preventing elongation of the transfer sheet. The adsorption porous roll press has adsorption air which makes the roll porous and adsorbs the transfer sheet on the back surface. The adsorption / desorption can be switched to a partial portion. The adsorption porous roll press can transfer a transfer sheet The transfer sheet can be pressed in a state in which the transfer sheet is adsorbed in order to transfer the ink layer 13 by pressing the transfer body and to peel off the base film after transferring the transfer layer. Therefore, the transfer sheet can be subjected to tension cut And it is also excellent in workability.

또, 전사시트에 있어서의 텐션을 완전히 커트하기 위해서는 전사시트를 피전사체의 크기로 커트해서 평프레스, 원호프레스에 의해 전사하는 소위시트매엽전사로 해도 된다. 또한, 전사시트에 있어서의 텐션을 완전히 커트하기 위하여 금속필름을 전사시트이면에 점착한 것이어도 된다. 이 방법에 의하면 상술한 롤프레스 등에 있어서의 문제점을 해소할 수 있고 또 전사시트를 엔드레스화시킬 수 있으며 작업성이 뛰어난 것으로 할 수 있다. 그리고, 금속필름을 전사시트이면에 점착한 것으로 하면 전사시트에 오목형상패턴을 형성하는 경우에 있어서도 위치정밀도가 좋고 오목형상패턴을 베이스필름에 형성할 수 있다.In order to completely cut the tension in the transfer sheet, the transfer sheet may be cut to the size of the transfer subject and transferred by a flat press or an arc press. Further, in order to completely cut the tension in the transfer sheet, the metal film may be adhered to the back of the transfer sheet. According to this method, it is possible to solve the problems in the above-described roll presses and the like, to make the transfer sheet endless, and to provide excellent workability. If the metal film is adhered to the back surface of the transfer sheet, even when the concave pattern is formed on the transfer sheet, the positional accuracy is good and the concave pattern can be formed on the base film.

또, 전사시에 잉크층에 있어서의 수지성분이 열가소성수지일 경우에는 열롤, 열프레스 등의 수단을 상술한 전사방법으로 조립하고 가열압착시켜 잉크층만을 전사시키면 좋다. 또, 전사시에 전사성의 향상을 목적으로하여 잉크층을 용제처리해서 잉크층에 점착성을 갖게 하는 소위웨트(wet)전사하여도 좋고 필요에 따라 가열압착해도 된다.When the resin component in the ink layer at the time of transfer is a thermoplastic resin, means such as hot roll or thermal press may be assembled by the above-described transfer method and heated and pressed to transfer only the ink layer. For the purpose of improving the transfer property at the time of transfer, the ink layer may be subjected to a solvent treatment to wet the ink layer so as to impart adhesiveness to the ink layer.

또, 잉크층에 있어서의 수지성분이 전리방사선경화성수지, 현상형감광성수지나 열경화성수지일 경우에는 전사시에 자외선, 적외광, 레이저광, 전자선 등의 전리방사선의 경화수단을 적절히 조립시키면 좋다. 또, 전사 후에 경화시키면 좋다.When the resin component in the ink layer is an ionizing radiation curable resin, a developing type photosensitive resin, or a thermosetting resin, curing means for ionizing radiation such as ultraviolet rays, infrared light, laser light, and electron beams at the time of transferring may be suitably assembled. Further, it may be cured after transferring.

도 6 은 전사시트에 있어서의 오목부형상과 기판상에 얻어지는 패턴형상의 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining another example of the concave shape in the transfer sheet and the pattern shape obtained on the substrate.

본 발명의 전사시트에 의해 얻어진 패턴형상으로는 도 5 에 나타낸 바와 같은 대형형상 외에 (a)에 나타낸 바와 같이 분리한 3각형상, (b)에 나타낸 바와 같이 분리한 직방체형상, (c)에 나타낸 바와 같이 분리한 곡선형상 예를 들면 PDP셀에 대해서는 전면판측에 볼록이 되는 곡선형상, 예를 들면 반타원형상으로 할 수 있다. 또, PDP셀에 있어서는 이들 단면은 예를 들면 사방이 막힌 셀의 한변을 형성하는 예를 들면 장벽층의 종단면형상을 나타내는 것으로 셀의 평면형상은 상관없다.As the pattern shape obtained by the transfer sheet of the present invention, in addition to the large shape as shown in Fig. 5, a triangular shape separated as shown in (a), a rectangular parallelepiped shape separated as shown in (b) For example, the PDP cell may have a curved shape that is convex on the front plate side, for example, a semi-elliptical shape. In the PDP cell, these cross-sections show, for example, the shape of a longitudinal section of a barrier layer forming one side of a cell in which four cells are closed, for example.

다음으로 오목형상패턴(12)이 전리방사선붕괴성수지로 이루어질 경우에는 오목형상패턴(12)과 잉크층(13)을 함께 피전사체(14)상에 전사하고 오목형상패턴(12)을 갖지 않는 베이스필름(11)만을 박리한다. 오목형상패턴(12)과 잉크층(13)이 함께 전사된 피전사체(14)는 도 7 에 나타낸 바와 같이 전리방사선을 조사하면 오목형상패턴은 현상액가용성이 되므로 용해제거할 수 있고 잉크층(13)만을 피전사체상에 잔재시킬 수 있다.Next, when the concave pattern 12 is made of ionizing radiation collapsible resin, the concave pattern 12 and the ink layer 13 are transferred together on the transferred body 14 and the base 12 having no concave pattern 12 Only the film 11 is peeled off. As shown in FIG. 7, when the concave pattern 12 and the ink layer 13 are transferred together, the concave pattern becomes soluble in the developing solution when irradiated with ionizing radiation as shown in FIG. 7, ) Can be left on the transferred body.

피전사체(14)는 패턴이 PDP부재에 있어서의 전극층인 경우에는 하지층을 갖는 유리기판 또는 소유리이고 PDP부재에 있어서의 장벽층인 경우에는 하지층을 갖거나 혹은 갖지 않은 유기기판상에 전극층만, 혹은 전극층, 유전체층을 순차적으로 적층한 것을 들 수 있다.In the case where the pattern is the electrode layer in the PDP member, the transferred body 14 is a glass substrate having a ground layer, or in the case of a barrier layer in a PDP member, only an electrode layer , Or an electrode layer and a dielectric layer are sequentially laminated.

제 1 전사시트를 사용해서 패턴전사하는데 있어서는 소망의 막두께를 얻기 위하여 동일패턴으로 충전조작-전사조작을 여러번 계속해서 반복해도 된다.In transferring the pattern using the first transfer sheet, the filling operation-transfer operation may be continuously repeated in the same pattern several times in order to obtain a desired film thickness.

본 발명의 제 1 전사시트를 사용한 패턴형성방법은 특히 전극층, 장벽층 등의 고정세(高精細)한 패턴을 형성하는데 적절한 것으로 제작시간을 단축시킬 수 있고 원료에 대한 제품의 비율을 향상시킬 수 있다. 또, 표면평활성이 뛰어나고 또 막두께가 균일하고 분포정밀도가 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The pattern forming method using the first transfer sheet of the present invention is particularly suitable for forming a high definition pattern such as an electrode layer and a barrier layer, and can shorten the production time and improve the ratio of the product to the raw material have. In addition, a pattern having excellent surface smoothness, uniform film thickness, and good distribution accuracy can be obtained.

피전사체에 잉크층이 패턴형상으로 전사된 후, 350℃∼650℃의 소성온도로 잉크층에 있어서의 유기성분을 기화, 분해, 휘발시키므로써 용융한 유리플릿에 의해 무기분체가 치밀하게 결합한 것으로 할 수 있고 소성에 의해 전극층, 장벽층, 하지층, 유전체층 등이 된다.After the ink layer is transferred in the form of a pattern on the body to be transferred, the inorganic powder is densely bonded by the glass frit melted by vaporizing, decomposing and volatilizing the organic component in the ink layer at a firing temperature of 350 to 650 ° C And can be an electrode layer, a barrier layer, a ground layer, a dielectric layer, and the like by firing.

다음으로 본 발명의 제 2 전사시트에 대해서 설명한다. 도 8 은 본 발명의 제 2 전사시트의 단면도이고 또 도 9 와 도 10 은 본 발명의 제 2 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면이다. 도면중 13'는 제 1 잉크층, 15는 제 2 잉크층이고, 도 5와 동일부호는 동일내용을 나타낸다.Next, the second transfer sheet of the present invention will be described. FIG. 8 is a cross-sectional view of a second transfer sheet of the present invention, and FIGS. 9 and 10 are views for explaining a second pattern forming method of the present invention. In the figure, reference numeral 13 'denotes a first ink layer and reference numeral 15 denotes a second ink layer, and the same reference numerals as those in FIG. 5 denote the same contents.

본 발명의 제 2 전사시트는 오목형상패턴(12)을 일측면에 형성한 베이스필름(11)에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층(13')이 충전되고 또한 상기 제 1 잉크층(13')상에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층(15)이 적층된 것이다.The second transfer sheet of the present invention is characterized in that an inorganic component composed of at least a glass frit and a resin component removed by firing are formed in the concave portion of the base film 11 having the concave pattern 12 formed on one side thereof And a second ink layer 15 made of a resin component which is filled with one ink layer 13 'and which is removed by firing and an inorganic component composed of at least glass frit on the first ink layer 13' .

PDP제작용 전사시트의 경우 (1) 제 1 잉크층을 전극형성층, 제 2 잉크층을 하지형성층으로 하는 것, (2) 제 1 잉크층을 장벽형성층, 제 2 잉크층을 유전체형성층으로 하는 것으로 피전사체(14)에 제 1 잉크층과 제 2 잉크층을 동시에 전사할 수 있다. 각각의 층 형성재료는 상술한 제 1 전사시트에 기재한 것과 동일한 것이다. 장벽형성층의 경우에는 상술한 바와 같이 오목형상패턴으로의 충전층으로서 암색잉크층을 사용하면 PDP에 있어서의 콘트라스트가 높은 것으로 할 수 있다는 것은 마찬가지다.In the case of the transfer sheet for PDP production, (1) the first ink layer is used as the electrode forming layer and the second ink layer is used as the undercoat layer, (2) the first ink layer is made to be the dielectric layer, The first ink layer and the second ink layer can be simultaneously transferred to the subject 14. The respective layer-forming materials are the same as those described in the first transfer sheet described above. In the case of the barrier-forming layer, as described above, the use of a dark-colored ink layer as the filling layer in the concave pattern is also applicable to a high contrast in the PDP.

제 2 잉크층(15)은 제 1 잉크층이 충전된 오목형상패턴(12)상에 하지층, 유전체층 각각의 패턴에 따른 형상으로 적층된다. 제 2 잉크층은 제 1 잉크층을 그 오목부에 충전한 오목형상패턴(12)상에 스크린인쇄 등에 의해 도포되나 예를 들면 장벽형성층인 제 1 잉크층을 오목형상패턴중에 충전하는 데 있어서 건조처리되면 체적수축을 일으켜 간격이 생긴다. 이와 같은 방법에 의하면 그 간격부에 유전체형성재료를 보충할 수 있고 보다 장벽형성층을 정밀도가 좋게 제작할 수 있다. 또, 다른 필름상에 제 2 잉크층이 도포되어 제작된 전사시트를 사용하여 제 1 잉크층을 그 오목부에 충전한 오목형상패턴(12)상에 제 2 잉크층을 전사에 의해 형성해도 된다 또, 제 2 잉크층을 전리방사선경화성수지나 전리방사선붕괴성수지 등의 감광성수지로 이루어지는 잉크를 사용해서 패턴형성해도 되고 예를 들면 알칼리현상형감광성수지로 이루어지는 잉크를 베타도포한 후 포토마스크를 통해서 패턴형상으로 노광, 현상하므로써 형성해도 된다.The second ink layer 15 is laminated on the concave pattern 12 filled with the first ink layer in the shape corresponding to the patterns of the underlying layer and the dielectric layer. The second ink layer is applied by screen printing or the like onto the concave pattern 12 filled with the first ink layer in the concave portion. For example, the first ink layer, which is a barrier formation layer, When processed, volumetric shrinkage causes gaps. According to this method, the dielectric forming material can be supplemented to the gap portion, and the barrier formation layer can be made more precisely. Alternatively, the second ink layer may be formed on the concave pattern 12 filled with the first ink layer by transfer using a transfer sheet prepared by applying a second ink layer on another film Alternatively, the second ink layer may be patterned using an ink made of a photosensitive resin such as an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation decaying resin. Alternatively, for example, an ink composed of an alkali developing type photosensitive resin may be applied to the ink, Or may be formed by exposure and development in a pattern shape.

제 2 잉크층이 하지형성층인 경우 그 막두께는 5㎛∼50㎛이고 또 유전체형성층의 경우에는 그 막두께는 5㎛∼50㎛이다.When the second ink layer is the under-formed layer, the film thickness thereof is 5 to 50 占 퐉, and in the case of the dielectric-forming layer, the film thickness thereof is 5 to 50 占 퐉.

본 발명의 제 2 패턴형성방법은 제 2 전사시트를 피전사체(14)와 겹쳐 제 1 잉크층과 제 2 잉크층을 동시에 피전사체상에 전사하는 것이나 그 전사방법은 상술한 제 1 패턴형성방법과 동일하다.The second pattern forming method of the present invention is a method in which the second transfer sheet is superimposed on the transferred body 14 to transfer the first ink layer and the second ink layer onto the transferred body at the same time, .

피전사체로의 전사성을 향상시키기 위해서는 제 2 잉크층상에 접착제층을 필요에 따라 형성해도 된다. 접착제로서는 상술한 소성에 의해 제거할 수 있는 열가소성수지단독, 또는 이 열가소성수지에 가소제 또는 반응성모노머 등을 첨가한 것이 예시된다.An adhesive layer may be optionally formed on the second ink layer in order to improve the transfer property to the object to be transferred. As the adhesive, a thermoplastic resin which can be removed by the above-described firing alone or a thermoplastic resin to which a plasticizer or a reactive monomer is added is exemplified.

전사후에는 제 1 전사시트를 사용한 경우와 마찬가지로 소성되고 PDP로 된다.After the transfer, the sheet is baked and turned into a PDP as in the case of using the first transfer sheet.

오목형상패턴중에 잉크층을 충전하는 경우, 건조 또는 고화한 단계에서 그 충전면은 수축성에서 베이스필름면보다 낮아져 전사성이 악화된다. 이 현상은 잉크층이 막두께가 두꺼운 장벽형성층과 같은 경우에는 현저하나 본 발명의 제 2 피전사방법, 패턴형성방법에 의하면 오목형상패턴상에 잉크층을 형성하므로 피전사체와의 접촉면적이 커져 전사성하기 쉬워진다는 이점이 있다.When the ink layer is filled in the concave pattern, the filling surface of the ink layer is shrunk at the stage of drying or solidification lower than the surface of the base film, and the transferability is deteriorated. This phenomenon is conspicuous when the ink layer is the same as a barrier-forming layer with a thick film thickness. However, according to the second method of transferring and patterning the present invention, since the ink layer is formed on the concave pattern, the contact area with the transferred body becomes large It has an advantage that it becomes easy to be transferred.

또, 제 2 전사시트를 사용하면 다수층을 동시에 전사하므로써 형성할 수 있으므로 작업성에 뛰어남과 더불어 층사이의 얼라이먼트를 전사시트의 단계에서 행할 수 있으므로 위치정밀도가 높은 PDP로 할 수 있다.Moreover, since the second transfer sheet can be formed by transferring multiple layers at the same time, workability is improved, and alignment between the layers can be performed at the stage of the transfer sheet, so that the PDP having high positional accuracy can be obtained.

다음으로 본 발명의 제 3 전사시트에 대해서 설명한다. 도 11 은 본 발명의 제 3 전사시트의 단면도로서 또 도 12와 도 13은 본 발명의 제 3 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면이다. 도면중 16 은 제 3 잉크층으로 도 5, 도 8과 동일부호는 동일내용을 나타낸다.Next, the third transfer sheet of the present invention will be described. Fig. 11 is a sectional view of a third transfer sheet of the present invention, and Figs. 12 and 13 are views for explaining a third pattern forming method of the present invention. In the figure, reference numeral 16 denotes a third ink layer, and the same reference numerals as in Figs. 5 and 8 denote the same contents.

본 발명의 제 3 전사시트는 오목형상패턴(12)을 일측면에 형성한 베이스필름(11)에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층(13')이 충전됨과 더불어 상기 제 1 잉크층(13')이 충전된 상기 오목형상패턴(12)상에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층(15)이 적층되고 상기 제 2 잉크층(15)상에 제 3 잉크층(16)이 적층된 구조를 갖는다.The third transfer sheet of the present invention is characterized in that an inorganic component composed of at least a glass frit and a resin component removed by firing are formed in the concave portion of the base film 11 having the concave pattern 12 formed on one side thereof The first ink layer 13 'is filled with an inorganic component composed of at least a glass frit and the resin component removed by firing on the concave pattern 12 filled with the first ink layer 13' 2 ink layer 15, and a third ink layer 16 is laminated on the second ink layer 15. The second ink layer 15 has a structure in which a second ink layer 15 is laminated and a third ink layer 16 is laminated on the second ink layer 15. [

PDP제작용 전사시트의 경우 제 1 잉크층을 장벽형성층, 제 2 잉크층을 유전체형성층, 제 3 잉크층을 전극형성층으로 하는 것으로 피전사체(14)에 제 1 내지 제 3 의 잉크층을 동시에 전사할 수 있는 것이다.In the transfer sheet for PDP production, the first to third ink layers are simultaneously transferred to the transferred body 14 by using the first ink layer as the barrier forming layer, the second ink layer as the dielectric forming layer and the third ink layer as the electrode forming layer You can do it.

각각의 층의 형성재료는 상술한 제 1 전사시트에 기재한 것과 동일하나 제 2, 제 3 잉크층은 제 1 잉크층이 충전된 오목형상패턴(12)상에 유전체층, 전극형성층 각각의 패턴에 따른 형상으로 순차적으로 적층된다.The formation material of each layer is the same as that described in the first transfer sheet described above, but the second and third ink layers are formed on the concave pattern 12 filled with the first ink layer with the dielectric layer, As shown in FIG.

제 2, 제 3의 잉크층은 제 1 잉크층이 충전된 오목형상패턴(12)상에 스크린인쇄에 의해 순차적으로 적층해도 되고 또 순차적 전사에 의해 형성해도 된다. 또, 제 2, 제 3 잉크층을 각각 전리방사선경화성수지나 전리방사선붕괴성수지 등의 감광성수지를 사용해서 형성해도 되고 이 경우에는 베타도포한 후 포토마스크를 통해서 패턴형상으로 노광, 현상하므로써 형성된다.The second and third ink layers may be sequentially laminated on the concave pattern 12 filled with the first ink layer by screen printing or may be formed by sequential transfer. The second and third ink layers may be formed by using a photosensitive resin such as an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation decaying resin. In this case, after the beta coating, the ink is exposed and developed in a pattern shape through a photomask to form do.

또, 제 3 잉크층을 전극형성층으로 할 경우, 우선 제 1 잉크층을 장벽형성층으로 하고 또 제 2 잉크층을 유전체형성층으로 해서 형성한 후 알칼리현상형감광성수지로 이루어지는 전극형성용도포액을 베타도포해서 전극패턴을 포토마스크를 통해서 노광·현상해서 형성해도 된다. 또, 도 14 에 나타낸 바와 같이 제 1 잉크층(13)을 암색잉크층으로 이루어지는 장벽형성층으로 하고 제 2 잉크층(15)을 유전체형성층으로하여 형성한 후, 또한 제 3 잉크층(16)으로서 알칼리현상형감광성수지로 이루어지는 전극형성용도포액을 베타도포하여 포토마스크(17)를 사용해서 베이스필름(11)측에서 노광·현상하면 암색잉크층이 마스크가 되어 (c)에 나타낸 바와 같이 전극패턴(16)을 형성할 수 있다. 이 방법에 의하면 장벽패턴과 전극패턴의 얼라이먼트가 정확하게 잡히므로 바람직하다. 제 2 잉크층이 유전체형성층일 경우에는 그 막두께는 5㎛∼50㎛이고, 제 3 잉크층이 전극형성층일 경우에는 그 막두께는 5㎛∼50㎛이다.When the third ink layer is formed as an electrode forming layer, first, the first ink layer is formed as a barrier-forming layer and the second ink layer is formed as a dielectric forming layer, and then a solution for forming electrodes for electrode formation, which is made of an alkali developing photosensitive resin, The electrode pattern may be exposed and developed through a photomask. 14, the first ink layer 13 is formed as a barrier-forming layer composed of a dark-color ink layer and the second ink layer 15 is formed as a dielectric-forming layer, and then, as the third ink layer 16 When the base material film 11 side is exposed and developed by using the photomask 17 by applying a balloon for forming an electrode composed of an alkali developing photosensitive resin, the dark ink layer becomes a mask, and as shown in Fig. (16) can be formed. This method is preferable because the alignment of the barrier pattern and the electrode pattern can be precisely performed. When the second ink layer is a dielectric-forming layer, its film thickness is 5 to 50 m, and when the third ink layer is an electrode-forming layer, its film thickness is 5 to 50 m.

또, 제 3 잉크층을 전극형성층으로하여 전극패턴형상으로 형성한 후에는 필요에 따라 하지형성층을 전극패턴상에 막두께 5㎛∼50㎛로 적층해도 된다.After the third ink layer is formed into an electrode pattern using the electrode forming layer, the undercoating layer may be laminated on the electrode pattern with a thickness of 5 to 50 占 퐉, if necessary.

본 발명의 제 3 패턴형성방법은 제 3 전사시트를 피전사체(14)와 겹쳐 제 1 내지 제 3 잉크층을 동시에 피전사체상에 전사하는 것이나 그 전사방법은 상술한 제 1 패턴형성방법과 동일하다. 또, 피전사체로의 전사성의 향상을 목적으로하여 제 3 잉크층상, 또는 하지형성층상에 상술한 접착제층을 필요에 따라 형성해도 된다.The third pattern forming method of the present invention is the same as the first pattern forming method described above in which the third transfer sheet is superimposed on the transferred body 14 to transfer the first through third ink layers onto the transferred body at the same time, Do. The above-described adhesive layer may be optionally formed on the third ink layer or the under-formation layer for the purpose of improving the transfer property to the object to be transferred.

피전사체로의 전사후에는 제 1 전사시트를 사용한 경우와 마찬가지로 피전사체는 소성되어 PDP로 된다.After the transfer to the object to be transferred, the transferred body is fired to become a PDP as in the case of using the first transfer sheet.

본 발명의 제 3 전사시트, 패턴형성방법은 제 2 전사시트와 마찬가지로 전사성에 뛰어난 것으로 할 수 있고 또 여러층의 잉크층을 동시에 전사할 수 있으므로 작업성이 뛰어난 것이다. 또, 각층사이의 얼라이먼트를 전사시트의 단계에서 행할 수 있으므로 위치정밀도가 높은 PDP로 할 수 있다.The third transfer sheet and the pattern forming method of the present invention are excellent in transferability as in the case of the second transfer sheet and can transfer multiple layers of ink at the same time. Since alignment between layers can be performed at the stage of the transfer sheet, a PDP having high positional accuracy can be obtained.

다음으로 본 발명의 제 4 패턴형성방법에 대해서 설명한다.Next, the fourth pattern forming method of the present invention will be described.

제 4 패턴형성방법은 상술한 제 1 패턴형성방법의 다른 실시형태이다.The fourth pattern forming method is another embodiment of the first pattern forming method described above.

도 15 는 본 발명의 제 4 패턴형성방법에 있어서의 제 1 내지 제 4 공정을 설명하기 위한 도면으로 제 1 내지 제 4 공정은 전사시트형성장치에 의해 행해진다. 도면중, 11은 베이스필름, 13은 패턴형상의 경화잉크층이고 또 도 3과 동일부호는 동일내용을 나타낸다.Fig. 15 is a diagram for explaining the first to fourth steps in the fourth pattern forming method of the present invention, wherein the first to fourth steps are performed by a transfer sheet forming apparatus. Fig. In the figure, reference numeral 11 denotes a base film, and reference numeral 13 denotes a patterned cured ink layer, and the same reference numerals as those in Fig. 3 denote the same contents.

전사시트형성장치는 베이스필름(11)을 공급하는 급지감기롤(44), 급지측보냄롤(45), 컨벤세이터롤(47), 및 배지감기롤(48)로 구성되어 있다. 도공부(40)는 베이스필름(11)을 누르는 누름롤(32), 오목부(34)가 각설되어 있던 롤오목판(33), 잉크(36)(이 시점에서는 미경화의 액상임)를 롤오목판(33)에 도공하기 위한 잉크공급장치(35), 롤오목판의 오목부(34)에 충전된 액상의 잉크(36)를 경화시켜서 고화시키는 경화장치(37), 및 박리롤(39)로 이루어진다.The transfer sheet forming apparatus is composed of a paper feed winding roll 44 for feeding the base film 11, a paper feed side feed roll 45, a conveyor roll 47, and a paper roll winding roll 48. The coating portion 40 is provided with a pressing roll 32 for pressing the base film 11, a roll concave plate 33 on which the concave portions 34 are formed, and an ink 36 (liquid cured at this time) An ink supply device 35 for coating the concave plate 33, a curing device 37 for curing and solidifying the liquid ink 36 filled in the concave portion 34 of the roll concave plate, and a peeling roll 39 .

도공부(40)에서는 누름롤(32)에 의해 베이스필름(11)이 눌려져서 베이스필름(11)이 누름롤(32)과 박리롤(39) 사이의 위치에서 잉크공급장치에 의해 도공된 잉크(36)를 통해서 롤오목판(33)의 판면에 밀착된다. 그리고, 롤오목판(33)은 전동기 등에서 구동되는 구동장치(도시하지 않음)에 의해 베이스필름(11)의 보냄속도와 롤오목판(33)의 주속도가 동조하도록 회전구동되어 있고 롤오목판(33)과 상기 롤오목판(33)에 밀착된 베이스필름(11)과의 사이에서 롤오목판의 오목부(34)에 충전된 잉크(36)가 그대로의 상태로 경화장치(37)에 의해 경화되어 고정되므로써 베이스필름상에 접착되고 그 후 박리롤(39)에 의해 베이스필름(11)이 롤오목판(33)으로부터 박리된다. 베이스필름상에 패턴형상의 경화잉크층(13)이 형성된 전사시트가 형성된다.In the coating portion 40, the base film 11 is pressed by the pressing roll 32 so that the base film 11 is pressed by the ink supply device at the position between the press roll 32 and the peeling roll 39 (36) to the plate surface of the roll concave plate (33). The roll concave 33 is rotationally driven by a driving device (not shown) driven by an electric motor or the like so as to synchronize the conveying speed of the base film 11 and the main speed of the roll concave 33, The ink 36 filled in the concave portion 34 of the roll concave plate is cured and fixed by the curing device 37 as it is between the base film 11 and the base film 11 adhered to the roll concave plate 33 And then the base film 11 is peeled from the roll concave 33 by the peeling roll 39. A transfer sheet on which a patterned cured ink layer 13 is formed on a base film is formed.

상기 누름롤(32)은 베이스필름(11)을 롤오목판의 판면에 누를 수 있으면 좋으나 통상 직경 50 내지 300㎜정도이고 금속제의 축심 주위에 실리콘고무, 천연고무 등을 피복한 것이다.The pressing roll 32 may have a base film 11 pressed on a plate surface of a roll concave plate, but usually has a diameter of about 50 to 300 mm and is covered with a silicone rubber, natural rubber or the like around the axis of the metal.

경화장치(37)는 경화성수지의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있으나 전자파 또는 하전입자선중 경화성수지를 가교·중합시키는 에너지양자를 갖는 방사선을 조사하는 장치를 들 수 있다. 이와 같은 방사선으로서 공업적으로 이용할 수 있는 것은 적외선, 가시광, 자외선 혹은 전자선 등이 있고 기타 마이크로파나 X선 등의 전자파도 이용할 수 있다. 또, 오목판중에서 자외선 등에 의해 경화시킬 때에 가교밀도를 콘트롤해서 완전히 경화시키지 않은채 두고 패턴전사시에 전사시트와 기판을 적층한 상태에서 자외선 등에 의해 경화시키면 패턴과 기판과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 그때의 자외선조사면은 필름면, 기판면중 어느 하나이어도 된다. 또, 도면중 38은 전원에서 발하는 방사선을 효율적으로 롤오목판에 조사하기 위한 반사경이다. 또, 경화장치(37)는 1개의 롤오목판에 대해서 2기설치되어 있고 또 이들 2기의 경화장치의 선원(S1),(S2)은 롤오목판의 중심(O)을 연결한 각(S1OS2)이 70∼110°의 각도범위, 혹은 90°의 각도로 설정되어 있다.The curing device 37 may be appropriately selected depending on the type of the curable resin, but includes an apparatus for irradiating radiation having both energy for crosslinking and polymerizing the curable resin in the electromagnetic wave or charged particle beam. As such a radiation, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, or electron rays can be used industrially, and electromagnetic waves such as microwaves and X rays can also be used. In addition, when the concave plate is cured by ultraviolet rays or the like, it is possible to improve the adhesion between the pattern and the substrate by controlling the crosslinking density and curing the plate with ultraviolet rays while the transfer sheet and the substrate are laminated while the pattern is transferred without completely curing . The ultraviolet irradiation surface at that time may be either a film surface or a substrate surface. In the figure, reference numeral 38 denotes a reflector for efficiently irradiating the roll concave plate with radiation emitted from a power source. Two sets of the curing device 37 are provided for one roll concave plate and the sources S 1 and S 2 of the two sets of curing devices are set at angles S 1 OS 2 ) is set to an angle range of 70 to 110 ° or an angle of 90 °.

롤오목판(33)은 전자조각, 에칭, 밀누름, 전주(電鑄)의 방법으로 소정의 오목부(34)를 형성한 것이어도 되고 이 롤오목판의 재질은 크롬을 표면에 도금한 동, 철 등의 금속, 초자, 석영 등의 세라믹스, 아크릴, 실리콘수지 등의 합성수지 등이 사용된다. 또, 시트상에 전리방사선경화성수지, 열경화성수지 등에 의해 패턴을 형성한 시트를 패턴면을 외부면으로 해서 롤에 감은 것이어도 된다. 롤오목판의 크기는 특히 한정되지 않으나 통상 직경150∼1000㎜, 선폭 300∼2000㎜정도이다.The roll concave 33 may be formed by forming a predetermined concave portion 34 by the method of electronic engraving, etching, pressing of a mill or electroforming. The material of the roll concave plate is copper, iron Ceramics such as chrysotile and quartz, and synthetic resins such as acrylic and silicone resin are used. Alternatively, a sheet on which a pattern is formed by an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, or the like may be wound on a roll with the pattern surface as an outer surface. The size of the roll concave plate is not particularly limited, but usually the diameter is about 150 to 1000 mm and the line width is about 300 to 2000 mm.

롤오목판에 형성되는 오목부(34)의 크기형상은 소망하는 패턴형상에 대응해서 설정된다.The size shape of the concave portion 34 formed on the roll concave plate is set corresponding to a desired pattern shape.

베이스필름(11)은 제 1 전사시트에 있어서의 베이스필름과 동일하고 또 잉크(36)는 그 용도가 장벽층 등인 경우에는 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 경화성수지성분으로 이루어진다.The base film 11 is the same as the base film of the first transfer sheet and the ink 36 is composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a curable resin component removed by firing when the application is a barrier layer or the like .

유리플릿으로 이루어지는 무기성분은 제 1 전사시트에 있어서의 장벽층 등의 잉크층(13)과 동일하고 또 소성에 의해 제거되는 경화성수지성분은 제 1 의 전사시트에 있어서의 잉크층(13)에 있어서의 전리방사선경화성수지, 열경화성수지와 동일하고 동일한 잉크재료를 사용할 수 있다.The inorganic component made of glass frit is the same as the ink layer 13 such as the barrier layer in the first transfer sheet and the curable resin component removed by firing is transferred to the ink layer 13 in the first transfer sheet The same and the same ink materials as those of the ionizing radiation curing resin and the thermosetting resin can be used.

또, 잉크층이 전극형성용일 경우에 잉크(36)는 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분, 소성에 의해 제거되는 경화성수지성분, 도전성분말로 구성된다.When the ink layer is for forming electrodes, the ink 36 is composed of at least an inorganic component composed of glass frit, a curable resin component removed by firing, and a conductive component.

유리플릿으로 이루어지는 무기성분, 도전성분말로서는 제 1 전사시트에 있어서의 전극층의 잉크층(13)과 동일하고 또, 경화성수지성분으로서는 제 1 전사시트에 있어서의 잉크층(13)에 있어서의 전리방사선경화성수지, 열경화성수지와 동일하고 동일한 잉크재료를 사용할 수 있다.The inorganic component and the conductive component made of glass frit are the same as the ink layer 13 of the electrode layer in the first transfer sheet and the curable resin component is the same as the ink layer 13 in the ink layer 13 in the first transfer sheet The same and the same ink materials as those of the radiation curable resin and the thermosetting resin can be used.

도 16 은 본 발명의 패턴형성방법에 있어서의 제 5 공정, 제 6 공정을 설명하기 위한 도면으로 제 1 내지 제 4 공정에서 제작한 전사시트를 사용한 패턴형상의 경화잉크층의 전사공정이다. 도면중, 14는 유리기판이다.16 is a view for explaining the fifth step and the sixth step in the pattern forming method of the present invention, and is a step of transferring a patterned cured ink layer using the transfer sheet produced in the first to fourth steps. In the figure, reference numeral 14 denotes a glass substrate.

도 16(a)는 제 1 내지 제 4 공정에서 제작한 전사시트의 단면도이고, (b)에 나타낸 바와 같이 패턴형상의 경화잉크층(13)측에서 유리기판(14)상에 전사된다. 그리고, (c)에 나타낸 바와 같이 베이스필름(11)을 박리해서 유리기판(14)상에 패턴형상의 경화잉크층(13)이 형성된다.16 (a) is a cross-sectional view of the transfer sheet produced in the first to fourth steps, and is transferred onto the glass substrate 14 from the patterned cured ink layer 13 side as shown in (b). The base film 11 is peeled off to form a patterned cured ink layer 13 on the glass substrate 14 as shown in Fig.

도 16(a)에 나타낸 바와 같이 전사시트에는 그 패턴형상의 경화잉크층(13)상에 필요에 따라 후술하는 보호필름이 접착되어도 된다.As shown in Fig. 16 (a), a protective film, which will be described later, may be adhered to the transfer sheet, if necessary, on the cured ink layer 13 in the pattern.

또, 상기한 것에 있어서 전사시트는 일단 배지감기롤(48)에 감았으나 감기전에 유리기판(14)상에 경화잉크층(13)을 전사해도 된다.In the above-described case, the transfer sheet may be once wound on the paper roll 48, but the cured ink layer 13 may be transferred onto the glass substrate 14 before winding.

도 16(b)에 있어서 패턴형상의 경화잉크층(13)이 전극패턴인 경우에는 유리기판상에는 소성한 하지층, 또는 미소성의 하지형성층을 통해서 적층되어도 된다. 미소성의 하지형성층의 경우에는 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 열가소성수지 또는 경화성수지로 이루어지는 잉크층을 도포, 건조해서 하지형성층을 형성해두고 도 16(a)에 나타낸 전사시트와 열압착 또는 경화시켜서 패턴형상의 경화잉크층(13)을 전사시키면 좋다. 또 소성된 하지층의 경우에는 소성에 의해 제거되는 접착제를 사용해서 전사성을 얻을 수도 있다.When the patterned cured ink layer 13 is an electrode pattern in FIG. 16 (b), it may be laminated on a glass substrate through a baked ground layer or a micro-ground layer. In the case of the unfabricated undercoat layer, at least an ink layer made of a glass frit, an ink layer made of a thermoplastic resin or a curable resin is applied and dried to form an undercoat layer and thermally contacted or cured with the transfer sheet shown in Fig. 16 Shaped cured ink layer 13 may be transferred. In the case of the fired base layer, the transfer property can also be obtained by using an adhesive which is removed by firing.

또, 패턴형상의 경화잉크층이 장벽패턴인 경우에는 유리기판상에 소성한 하지층 또는 미소성의 하지형성층, 그 위에 전극형성층, 또한 소성한 유전체층 또는 미소성의 유전체층형성층을 순차적으로 적층한 위에 전사시트가 겹쳐지고 패턴형상의 경화잉크층이 적층된다. 또, 하지층 또는 하지형성층은 있어도 되고 없어도 된다.When the patterned cured ink layer is a barrier pattern, a base layer or an unfired underfill layer baked on a glass substrate, an electrode forming layer thereon, a fired dielectric layer or a unbaked dielectric layer forming layer are sequentially laminated, A superposed and patterned cured ink layer is laminated. The undercoat layer or the undercoat layer may or may not be present.

유전체층형성층을 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 열가소성수지 또는 경화성수지로 이루어지는 미소성의 것으로 하고 전사시트와 열압착 또는 경화시키므로써 패턴형상 경화잉크층(12)의 전사성을 얻을 수 있다. 또, 소성된 유전체층의 경우에는 소성에 의해 제거되는 접착제를 사용해서 전사성을 얻을 수도 있다.The dielectric layer forming layer is at least made of an inorganic component composed of glass frit and a thermoplastic resin or a curable resin and is thermally press-bonded or cured with the transfer sheet, whereby the transferability of the patterned cured ink layer 12 can be obtained. In the case of the fired dielectric layer, the transfer property can also be obtained by using an adhesive which is removed by firing.

전사시트와 기판(14)과의 열압착수단으로서는 열롤, 레이저광, 열프레스 등의 방법이 있고 또 도 15 에서는 잉크층을 베이스필름(11)상에 형성하는 시점에서 경화시켰으나 잉크층(13)을 베이스필름(11)상에 형성한 후 경화시켜도 된다.15, the ink layer 13 is cured at the time when the ink layer is formed on the base film 11, but the ink layer 13 is cured at the time when the ink layer is formed on the base film 11, May be formed on the base film 11 and cured.

패턴형상의 경화잉크층(13)이 전사된 유리기판은 350℃∼650℃의 소성온도로 잉크층에 있어서의 유기성분을 기화, 분해, 휘발시키므로써 용융한 유리플릿에 의해 무기분체가 치밀하게 결합한 것으로 할 수 있다.The glass substrate onto which the patterned cured ink layer 13 has been transferred is vaporized, decomposed, and volatilized in the ink layer at a firing temperature of 350 ° C to 650 ° C, so that the inorganic powder is densely It can be combined.

본 발명의 전사시트를 사용한 패턴형성방법은 특히 전극층, 장벽층 등의 고정세한 패턴을 형성하는데 적절한 것으로 저코스트이고 또 제작시간을 단축시킬 수 있고 원료에 대한 제품의 비율을 향상시킬 수 있음과 더불어 표면평활성에 뛰어나고 또 막두께가 균이하고 분포정도가 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The pattern forming method using the transfer sheet of the present invention is suitable for forming a fine three-dimensional pattern such as an electrode layer and a barrier layer at low cost and can shorten the production time and can improve the ratio of the product to the raw material In addition, it is possible to obtain a pattern which is excellent in surface smoothness, has a uniform film thickness and a good distribution.

또 본 발명에 있어서의 전사시트를 사용해서 특히 PDP에 있어서의 전극층을 형성하는 데 있어서 유리기판상에 상술한 하지형성층을 통해서 적층하면 하지층과 전극층을 동시에 소성형성할 수 있는 것이다. 또, 장벽층을 형성하는데 있어서 유리기판상에 상술한 하지형성층, 전극형성층, 유전체층형성층을 통해서 적층하면 하지층, 전극층, 유전체층, 장벽층을 동시에 소성형성할 수 있다.In the case of forming the electrode layer in the PDP using the transfer sheet in the present invention, the base layer and the electrode layer can be simultaneously fired by laminating them on the glass base plate through the base formation layer described above. In forming the barrier layer, the base layer, the electrode layer, the dielectric layer, and the barrier layer can be simultaneously fired by being laminated on the glass substrate through the above-described base forming layer, the electrode forming layer, and the dielectric layer forming layer.

본 발명의 각각의 전사시트에 있어서는 각각의 잉크층표면에 방상(防傷), 쓰레기혼입방지, 블로킹방지 등을 목적으로하여 필요에 따라 보호필름을 접착해두면 좋다.In each transfer sheet of the present invention, a protective film may be adhered to the surface of each ink layer, if necessary, for the purpose of preventing scratches, prevention of waste mixing, prevention of blocking, and the like.

보호필름은 예를 들면 폴리에틸렌텔레프탈레이트필름, 1, 4-폴리시클로헥실렌디메틸렌텔레프탈레이트필름, 폴리에틸렌나프탈레이트필름, 폴리페닐렌설파이드필름, 폴리스틸렌필름, 폴리프로필렌필름, 폴리살폰필름, 아라미드필름, 폴리카보네이트필름, 폴리비닐알콜필름, 셀로판, 초산셀룰로오스 등의 셀룰로오스유도체필름, 폴리에틸렌필름, 폴리염화비닐필름, 나일론필름, 폴리이미드필름, 아이오노머필름 등으로 적층면이 실리콘처리, 아클릴멜라민처리, 왁스처리 등에 의해 박리처리된 막두께 1㎛∼400㎛, 바람직하게는 4.5㎛∼200㎛의 것이다.Examples of the protective film include a polyethylene terephthalate film, a 1,4-polycyclohexylenedimethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polyphenylene sulfide film, a polystyrene film, a polypropylene film, a polysulfone film, an aramid film, Cellulose derivatives such as polycarbonate film, polyvinyl alcohol film, cellophane and cellulose acetate, polyethylene film, polyvinyl chloride film, nylon film, polyimide film and ionomer film, The thickness of the film peeled off by wax treatment or the like is from 1 mu m to 400 mu m, preferably from 4.5 mu m to 200 mu m.

또, 베이스필름의 오목부내에 잉크를 충전해서 필요에 따라 보호필름을 점합(貼合)한 후 시트를 일단 걸어도 되고 또 필요한 길이로 베이스필름을 재단하고나서 잉크를 충전하여 전사에 사용해도 된다.In addition, the ink may be filled in the concave portion of the base film, the protective film may be stuck to the base film as necessary, and then the sheet may be temporarily stuck. Alternatively, the base film may be cut to a required length and filled with ink.

다음으로 본 발명의 제 5 패턴형성방법에 대해서 설명한다.Next, the fifth pattern forming method of the present invention will be described.

제 5 패턴형성방법은 상술한 제 1 패턴형성방법 외의 실시형태로 특히 PDP 등에 있어서의 전극, 장벽층의 제작에 적절하다.The fifth pattern forming method is an embodiment other than the above-described first pattern forming method, and is particularly suitable for manufacturing electrodes and barrier layers in PDP and the like.

도 17 은 제 5 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면이다. 도면중, 60은 오목판, 19는 이형제층이고 도 5와 동일부호는 동일내용을 나타낸다.17 is a view for explaining the fifth pattern forming method. In the figure, 60 is a concave plate, 19 is a release agent layer, and the same reference numerals as in Fig. 5 indicate the same contents.

도 17(a)에 나타낸 바와 같이 목적패턴에 대응하는 오목부(60a)가 형성된 오목판(60)을 준비하고 그 오목부(60a)내에 광경화성의 잉크층(13)을 스키이지(X)에 의해 충전한다. 오목판(60)의 재료로서는 금속판이나 유리판을 사용할 수 있고 오목부(60a)는 샌드블라스트가공 혹은 에칭에 의해 형성할 수 있다. 광경화성의 잉크층은 아크릴계, 메타크릴레이트계의 광중합성모노머, 올리고머와 무기분체를 혼련해서 만들 수 있다.A concave plate 60 having concave portions 60a corresponding to the target pattern is prepared as shown in Fig. 17 (a), and a photo-curable ink layer 13 is formed in the concave portion 60a, . As the material of the concave plate 60, a metal plate or a glass plate can be used, and the concave portion 60a can be formed by sandblasting or etching. The photo-curable ink layer can be made by kneading acrylic, methacrylate-based photopolymerizable monomer, oligomer and inorganic powder.

이어서, 도 17(b)에 나타낸 바와 같이 이형제층(19)을 형성한 베이스필름(11)을 그 이형제층(19)이 오목부(60a)에 대향하도록하여 오목판(60)에 라미네이트한다.17 (b), the base film 11 on which the releasing agent layer 19 is formed is laminated on the concave plate 60 such that the releasing agent layer 19 faces the concave portion 60a.

그리고, 도 17(c)에 나타낸 바와 같이 베이스필름(11)을 오목판(60)에서 박리하면 오목부(60a)내의 잉크층(13)이 베이스필름(11)측으로 이전해서 제 1 전사시트가 제작된다. 이 경우, 충전된 잉크층(13)의 50∼60%가 베이스필름(11)측으로 이행한다.17 (c), when the base film 11 is peeled off from the concave plate 60, the ink layer 13 in the concave portion 60a is transferred to the base film 11 side so that the first transfer sheet is produced do. In this case, 50 to 60% of the filled ink layer 13 shifts to the base film 11 side.

이어서, 도 17(d)에 나타낸 바와 같이 유리기판(14)상에 베이스필름(11)을 그 잉크층(13)이 당접하도록 겹친상태로하여 자외선을 조사해서 잉크층(13)의 유리기판(14)에 대한 접착강도를 높인다. 그 후, 베이스필름(11)을 박리해서 유리기판(14)상에 잉크층(13)을 남기고나서 기판전체를 소성해서 잉크층(13)을 유리기판(14)에 밀착시키므로써 도 17(e)에 나타낸 바와 같이 유리기판(14)상에 전극이나 장벽 등의 패턴(13)이 형성된다.17 (d), the base film 11 is placed in contact with the ink layer 13 so as to be in contact with the glass substrate 14, and ultraviolet rays are irradiated to the glass substrate 14 of the ink layer 13 14). Thereafter, the base film 11 is peeled off, the ink layer 13 is left on the glass substrate 14, and the entire substrate is fired to adhere the ink layer 13 to the glass substrate 14, A pattern 13 such as an electrode or a barrier is formed on the glass substrate 14 as shown in Fig.

또, 본 발명의 제 5 패턴형성방법에 있어서는 전사시트의 제작을 생략할 수도 있다.In the fifth pattern forming method of the present invention, the production of the transfer sheet may be omitted.

도 18 은 그 공정도이다. 도면중, 21은 접착제층, 22는 마스크이고, 도 17과 동일부호는 동일내용을 나탄낸다.18 is a process diagram thereof. In the figure, reference numeral 21 denotes an adhesive layer, and reference numeral 22 denotes a mask, and the same reference numerals as in Fig. 17 denote the same contents.

도 18(a)에 나타낸 바와 같이 목적패텬에 대응하는 오목부(60a)가 형성됨과 더불어 그 오목부(60a)가 있는 측의 요철면에 이형제층(19)을 형성판 오목판(60)을 준비한다. 이 오목판을 얻기 위해서는 금속판이나 유리판에 대해서 샌드블라스트가공 혹은 에칭에 의해 오목부를 형성해서 요철면에 실리콘 등의 이형제를 코팅해서 이형처리를 행하면 된다.A concave portion 60a corresponding to the target filament is formed as shown in Fig. 18 (a), and a plate concave plate 60 in which the releasing agent layer 19 is formed on the uneven surface on the side of the concave portion 60a is prepared do. In order to obtain this concave plate, a concave portion is formed by sand blasting or etching on a metal plate or a glass plate, and a releasing agent such as silicone is coated on the concave and convex surface to perform the releasing treatment.

이어서, 도 18(b)에 나타낸 바와 같이 오목판(60)의 오목부(60a)내를 포함하는 판면상에 광경화성의 잉크층(13)을 코팅한다. 이 광경화성의 잉크층으로서는 상온에서 액상이고 경화수축률이 10%이상 있는 것을 사용하는 것이 바람직하다.18 (b), a photocurable ink layer 13 is coated on the plate surface including the inside of the concave portion 60a of the concave plate 60. Next, as shown in Fig. As the photo-curable ink layer, it is preferable to use a liquid at room temperature and having a hardening shrinkage of 10% or more.

다음에 도 18(c)에 나타낸 바와 같이, 코팅한 잉크층(13) 위에 광경화성의 접착제(21)를 통하여 유리기판(14)을 눌러붙이고, 이 상태에서 오목부(60a)에 대응하는 마스크(22)를 통하여 자외선을 노광한다. 이 노광에 의하여 오목부(60a)내의 잉크층(13) 및 오목부(60a)위의 접착제층(21)만을 경화시킨다. 이 때, 잉크층(13)이 수축하여 오목부(60a) 내의 잉크층(13)이 박리하기 쉬워진다. 또한, 접착제층(21)은 광경화성의 것이아니라도 좋으며 또 점착제라도 좋으나, 잉크층(13)과의 상성을 고려하면 광경화성의 것이 바람직하다.Next, as shown in Fig. 18 (c), the glass substrate 14 is pressed on the coated ink layer 13 through the photocurable adhesive 21, and in this state, the mask corresponding to the concave portion 60a (22). Only the ink layer 13 in the concave portion 60a and the adhesive layer 21 on the concave portion 60a are cured by this exposure. At this time, the ink layer 13 shrinks and the ink layer 13 in the concave portion 60a is easily peeled off. The adhesive layer 21 may be a photo-curable adhesive or a pressure-sensitive adhesive, but it is preferable that the adhesive layer 21 has photo-curability in consideration of compatibility with the ink layer 13.

이어서, 유리기판(14)을 오목판(60)으로부터 박리하면, 도 18(d)에 나타낸 바와 같이, 유리기판(14) 위에 잉크층(13)이 전이한다. 여기서, 도시한 바와 같이 잉크층(13)의 비패턴부(13a)가 함께 전이되는 경우에는 해당부분을 블라스트나 현상에 의해 제거하여 도 18(e)에 나타낸 바와 같이 패턴부만의 잉크층(13)을 남긴다. 또한, 비패턴부(13a)는 미노광부이므로 현상으로 제거할 수 있다. 마지막으로 기판 전체를 소성함으로써 잉크층을 기판에 밀착시킨다.Subsequently, when the glass substrate 14 is peeled off from the concave plate 60, the ink layer 13 is transferred onto the glass substrate 14 as shown in Fig. 18 (d). As shown in the drawing, when the non-pattern portions 13a of the ink layer 13 are transferred together, the corresponding portions are removed by blasting or development to form the ink layer (only the pattern portion) 13). Since the non-pattern portion 13a is an unexposed portion, it can be removed by development. Finally, the entire substrate is fired to adhere the ink layer to the substrate.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.

우선, 본 발명의 제 1 전사시트 및 제 1 패턴형성방법에 관하여 실시예 1∼실시예 5에 의해 설명한다.First, the first transfer sheet and the first pattern forming method of the present invention will be described with reference to the first to fifth embodiments.

(실시예 1)(Example 1)

자외선 경화형 잉크(니혼가약구 주식회사제, DKF-901)를 도 3에 나타낸 장치에 장전함과 동시에, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(막두께 75μm)을 베이스필름으로 하였다. 또, 선원(線源)은 자외선조사(600mJ/cm2)로 하고, 베이스필름 위에 오목판 로울의 회전속도 5m/min이고, 피치 200㎛이며, 선폭 70㎛, 깊이 20㎛의 전극패턴 오목부를 도 1에 나타낸 바와 같이 형성하였다.An ultraviolet curable ink (DKF-901, manufactured by Nippon Kayaku Kogyo Co., Ltd.) was placed in the apparatus shown in Fig. 3, and a polyethylene terephthalate film (film thickness 75 m) was used as a base film. An electrode pattern recess having a line speed of 5 m / min, a pitch of 200 m, a line width of 70 m, and a depth of 20 m was formed on the base film with ultraviolet irradiation (600 mJ / cm 2 ) 1.

다음에, 조성Next,

·은가루(평균 입자직경 1㎛) … 80중량부· Silver powder (average particle diameter 1 μm) ... 80 parts by weight

·유리 플릿｛주성분 PbO, SiO2,B2O3(무알칼리) 평균입자직경 1㎛, 연화점 500℃｝… 5중량부Glass frit (main components: PbO, SiO 2, B 2 O 3 (non-alkali) average particle diameter 1 μm, softening point 500 ° C.) 5 parts by weight

열팽창계수 α300= 75 × 10-7/℃Thermal expansion coefficient α 300 = 75 × 10 -7 / ° C.

폴리브텐(니혼유시 주식회사제 200N) … 8중량부Polybutene (Nihon Yushi Co., Ltd. 200N) ... 8 parts by weight

폴리브텐(니혼유시 주식회사제 5N) … 2중량부Polybutene (Nippon Oil Corporation 5N) ... 2 parts by weight

를 3개 로울을 사용하여 혼합분산처리하고, 전극형층 형성용 잉크를 제작하고, 상기에서 얻은 오목부를 가지는 베이스필름에 덕트방식에 의해 잉크를 도포하고, 오목부에 충전한 후, 폴리에틸렌필름을 라미네이트하고, 본 발명의 제 1전사시트를 형성하였다.Was mixed and dispersed using three rollers to prepare an ink for forming an electrode-type layer, and ink was applied to the base film having the recesses obtained by the above method by a ducting method. After filled in the recesses, a polyethylene film was laminated To form a first transfer sheet of the present invention.

전사시트의 폴리에틸렌필름을 박리한 후, 오토캣트 라미네이터 (아사히 가세이 주식회사제, 형식 ACL-9100)을 사용하여 기판 플레히트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 바탕층이 부착된 유리기판 위에 라미네이트하였다.After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, a glass substrate with a base layer adhered thereto under the transfer conditions of a substrate plate temperature of 80 캜 and a lamellar temperature of 100 캜 using an autocath laminator (Asahi Kasei Corporation, type ACL-9100) Lt; / RTI >

이어서, 베이스필름을 박리하고, 잉크층을 전사한 후, 피크온도 570℃에서 소성하고, 패턴형상의 전극층을 형성하였다. 소성 후 전극층의 선폭 65㎛, 막두께는 7±2㎛ 이었다.Subsequently, the base film was peeled off, the ink layer was transferred, and then baked at a peak temperature of 570 占 폚 to form a patterned electrode layer. The line width of the electrode layer after firing was 65 μm and the film thickness was 7 ± 2 μm.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1에 있어서, 베이스 필름에서의 오목부 패턴의 형상이, 장벽층 패턴인 피치 250㎛이고, 바닥폭 70㎛, 천장폭 100㎛, 깊이 180㎛의 오목부를 형성하였다.In Example 1, the concave portion of the base film had a recess having a pitch of 250 mu m as a barrier layer pattern, a bottom width of 70 mu m, a ceiling width of 100 mu m, and a depth of 180 mu m.

조성Furtherance

·글라스플리트（MB-008, 송량 글라스 고교 주식회사 제)Glass fleece (MB-008, manufactured by Songyang Glass Co., Ltd.)

… 65중량부... 65 parts by weight

·α-알루미나 RA-40 (암곡 가가쿠 고교) … 10중량부· Α-alumina RA-40 (Amagogagaku High School) ... 10 parts by weight

·다이필로키사이드 블랙 # 9510 (다이니치세이카 고교 주식회사제)Diphenyl Kiesel Black # 9510 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)

… 10중량부... 10 parts by weight

·n-부틸메타크릴레이트/ 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트 공중합체(8/2)N-butyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (8/2)

… 8중량부... 8 parts by weight

·폴리옥시에틸렌화 트리메티롤 프로판트리 아크릴레이트· Polyoxyethylated trimethylol propane triacrylate

… 8 중량부... 8 parts by weight

·실리콘수지(신에츠가가쿠고교 주식회사제 X-24-8300)Silicone resin (Shin-Etsu Kagaku Kogyo Co., Ltd., X-24-8300)

… 1중량부... 1 part by weight

·광개시제(치바가이기사제 「일가큐어 369」)· Photo initiator ("Ilgacure 369" manufactured by Chiba Kagi)

… 3중량부... 3 parts by weight

·프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 … 10중량부· Propylene glycol monomethyl ether ... 10 parts by weight

·이소프로필 알콜 … 10 중량부· Isopropyl Alcohol ... 10 parts by weight

를 세라믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 장벽층 형성용 잉크를 조제하였다.Was mixed and dispersed using a bead mill using ceramic beads to prepare an ink for forming a barrier layer.

이 잉크를 상기에서 얻은 오목부를 가지는 베이스필름 위의 오목부에 잉크를 덕트에 의해 충전하고, 100℃, 5분간 건조시킨 후, 폴리에틸렌필름을 라미네이트하여 본 발명의 제 1전사시트를 형성하였다.The ink was filled in the concave portion on the base film having the concave portion obtained above by means of a duct, dried at 100 DEG C for 5 minutes, and then a polyethylene film was laminated to form the first transfer sheet of the present invention.

전사시트의 폴리에틸렌 필름을 박리한 후, 오토캣트 라미네이터(아사히 가세이 주식회사제, 형식 ACL-9100)을 사용하고, 기판 플레히트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 하지층, 전극층, 유전체층을 차례로 설치한 유리기판 위에 라미네이트 하였다.After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, an undercoating layer, an electrode layer, and a dielectric layer were formed under the transfer conditions of an autocatalyst laminator (Type ACL-9100, manufactured by Asahi Kasei Corporation) at a substrate plate temperature of 80 ° C and a lamellar temperature of 100 ° C. Were sequentially laminated on a glass substrate.

이어서, 베이스 필름을 박리하고, 570℃에서 소성하였다. 소성 후의 장벽층의 천장폭 50㎛, 바닥폭 80㎛, 막두께는 120±10m 이었다.Subsequently, the base film was peeled off and fired at 570 캜. The thickness of the barrier layer after firing was 50 占 퐉, the bottom width was 80 占 퐉, and the film thickness was 120 占 10m.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1에 있어서, 베이스 필름에서의 오목부 패턴의 형상이, 장벽층 패턴인 피치 250㎛이고 바닥폭 70㎛, 천장폭 100㎛,, 깊이 180㎛의 오목부를 형성하였다.In Example 1, the concave portion of the base film had a shape of a barrier layer pattern having a pitch of 250 mu m, a bottom width of 70 mu m, a ceiling width of 100 mu m, and a depth of 180 mu m.

(암색 잉크로 이루어지는 장벽형성재료)(Barrier forming material composed of dark ink)

조성Furtherance

·유리플릿(주성분 PbO, SiO2, B2O3, 무알칼리) … 53중량부· Glass frit (main components PbO, SiO 2 , B 2 O 3 , non-alkali) ... 53 parts by weight

·α-알루미나 RA-40(암곡가가쿠고교) … 12중량부· Α-alumina RA-40 (Reagan Gakugei) ... 12 parts by weight

·다이필로키사이드 블랙 # 9510 (다이니치 세이가고교 주식회사제)Diphenyl Kiesel Black # 9510 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)

… 8중량부... 8 parts by weight

상기의 무기성분 혼합체의 열팽창계수(30∼300℃) 74×107, 연화점 580℃ ·n-부틸메타크릴레이트/2-히드록시 에틸메타크릴레이트 공중합체(7/3)The above inorganic component mixture had a thermal expansion coefficient (30 to 300 占 폚) of 74 占07 , a softening point of 580 占 폚, n-butyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (7/3)

… 5중량부... 5 parts by weight

·후탈산 비스(2-에틸핵실) … 3 중량부· Hexacetic acid bis (2-ethylhexyl) ... 3 parts by weight

·디브틸프탈레이트 … 5중량부· Dibutyl phthalate ... 5 parts by weight

·프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 … 10중량부· Propylene glycol monomethyl ether ... 10 parts by weight

·N-메틸-2-피로리돈 … 10중량부· N-methyl-2-pyrrolidone ... 10 parts by weight

를 세라믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 암색 장벽층 형성용 잉크를 조제하였다.Was mixed and dispersed using a bead mill using ceramic beads to prepare an ink for forming a dark barrier layer.

(백색 잉크로 이루어지는 장벽형성재료)(Barrier formation material composed of white ink)

조성Furtherance

·유리플릿(주성분 PbO, SiO2, B2O3, 무알칼리) … 53중량부· Glass frit (main components PbO, SiO 2 , B 2 O 3 , non-alkali) ... 53 parts by weight

·α-알루미나 RA-40(암곡가가쿠고교) … 12중량부· Α-alumina RA-40 (Reagan Gakugei) ... 12 parts by weight

·산화티탄 …8중량부· Titanium oxide ... 8 parts by weight

상기의 무기성분 혼합체의 열팽창계수(30∼300℃) 72×107, 연화점 575℃The thermal expansion coefficient (30 to 300 占 폚) of the above inorganic component mixture is 72 占07 , the softening point is 575 占 폚

·n-부틸메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체(7/3)N-butyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (7/3)

…5중량부... 5 parts by weight

·후탈산 비스(2-에틸핵실) … 3중량부· Hexacetic acid bis (2-ethylhexyl) ... 3 parts by weight

·디부틸프탈레이트 … 5중량부· Dibutyl phthalate ... 5 parts by weight

·프로필렌글리콜모노메틸에테르 … 10중량부· Propylene glycol monomethyl ether ... 10 parts by weight

·N-메틸-2-피로리돈 … 10중량부· N-methyl-2-pyrrolidone ... 10 parts by weight

를 세라믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 백색 장벽층 형성용 잉크를 조제하였다.Was mixed and dispersed using a bead mill using ceramic beads to prepare an ink for forming a white barrier layer.

상기에서 얻은 베이스필름 위의 오목부 내에 우선 암색잉크를 40㎛의 막두께, 암색 잉크층 위에 백색 잉크를 각각 덕트에 의해 도포하고, 암색잉크층 위에 백색 잉크층이 적층한 잉크층을 충전하고, 150℃, 30분간 건조시킨 후, 폴리에틸렌필름을 라미네이트하여 본 발명의 제 1전사시트를 형성하였다.In the recesses on the base film obtained above, a dark-colored ink was first applied at a thickness of 40 占 퐉 and a white ink was applied to a dark-colored ink layer by a duct, and the ink layer in which the white ink layer was laminated on the dark- After drying at 150 DEG C for 30 minutes, a polyethylene film was laminated to form a first transfer sheet of the present invention.

전사시트의 폴리에틸렌필름을 박리한 후, 오토캣트 라미네이터(아사히 가세이 주식회사제, 형식 ACL-9100)을 사용하고, 기판 플레히트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 하지층, 전극층, 유전체층을 차례로 형성한 유리기판 위에 라미네이트하였다.After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, an undercoating layer, an electrode layer, and a dielectric layer were formed under the transfer conditions of an autocatalyst laminator (Type ACL-9100, manufactured by Asahi Kasei Corporation) at a substrate plate temperature of 80 ° C and a lamellar temperature of 100 ° C. Were sequentially laminated on a glass substrate.

이어서, 베이스필름을 박리하고, 570℃에서 소성하였다. 소성 후의 장벽층의 천정폭 50㎛, 바닥폭 80㎛, 막두께는 120±10 m 이었다.Subsequently, the base film was peeled off and fired at 570 캜. The thickness of the barrier layer after firing was 50 占 퐉, the bottom width was 80 占 퐉, and the film thickness was 120 占 10 m.

이 소성물을 사용하여 PDP를 조립하였더니 콘트라스트가 뛰어났다.When the PDP was assembled using this fired product, the contrast was excellent.

(실시예 4)(Example 4)

(전사시트의 제작)(Production of transfer sheet)

필름 기초재로서, 두께 25㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트필름(히가시레 주식회사제, T-60)의 한쪽면에, 도 3에 나타낸 장치와 하기에 나타낸 판오목부가 정사각뿔형상의 오목부 공간을 가지는 로울 오목판 및 전리방사선 경화성 수지조성물을 사용하고, 또한, 하기의 조건에 의해 셀장벽과 역요철형상의 셀장벽부의 자형이 형성된 제 1전사시트를 얻었다.On one side of a polyethylene terephthalate film (T-60, manufactured by Higashire Co., Ltd.) having a thickness of 25 占 퐉 as a film base material, the device shown in Fig. 3 and the plate recesses shown below were formed into a concave- A concave plate and an ionizing radiation curable resin composition were used and a first transfer sheet having a cell barrier and an inverted concave / convex shaped cell barrier was formed under the following conditions.

(1) 로울 오목판(1) Rolled concave plate

판면의 단면형상 : 도 19에 나타낸 바와 같이 종단면은 분리한 시이트형, 수평단면은 스트라이프형상Cross-sectional shape of the plate surface: As shown in Fig. 19, the longitudinal section has a separated sheet shape, the horizontal section has a stripe shape

셀피치 : 200㎛Cell pitch: 200 탆

셀홈폭 W : 윗바닥 180㎛, 아래바닥 150㎛Cell width W: upper floor 180 탆, lower floor 150 탆

셀 깊이 D : 150㎛Cell depth D: 150 탆

(2) 전리방사선 경화성 수지조성물(2) ionizing radiation curable resin composition

·펜타에리스리톨트리아크릴레이트 … 90중량부· Pentaerythritol triacrylate ... 90 parts by weight

·우레탄아크릴레이트올리고마 … 10중량부· Urethane acrylate oligomer ... 10 parts by weight

(3) 조사조건(3) Irradiation conditions

커텐빔형 전자선 조사장치로 10Mrad 의 전자선을 조사Irradiated electron beam of 10 Mrad with a curtain beam type electron beam irradiating device

전자시트의 자형부에 저융점 유리플릿, 내열안료 등을 유기바인더 중에 분산시킨 잉크를 블레이드를 사용하여 충전한 후, 잉크층면을 PDP유리기판 위에 맞붙였다. 전사시트를 박리하여 잉크층을 유리기판 위에 전사하였다.The ink in which the low-melting point glass frit, the heat-resistant pigment and the like are dispersed in the organic binder in the shape of the electronic sheet was charged using a blade, and then the ink layer surface was stuck onto the PDP glass substrate. The transfer sheet was peeled off and the ink layer was transferred onto the glass substrate.

이어서, 셀장벽 형상으로 전사된 잉크 층을 가지는 유리기판을 피크온도 585℃, 가열시간 15분의 조건으로 소성하고, PDP유리기판 위에 셀장벽을 형성하였다.Subsequently, the glass substrate having the ink layer transferred in the form of cell barrier was fired at a peak temperature of 585 캜 for a heating time of 15 minutes to form a cell barrier on the PDP glass substrate.

(실시예 5)(Example 5)

(전사시트의 제작)(Production of transfer sheet)

실시예 4에 있어서, 전사시트 제작에 관한 로울 오목판, 전리방사선 경화성 수지조성물,조사조건을 하기와 같이 변경한 것 이외는 실시예 4와 마찬가지로 하여 셀장벽을 유리기판 위에 형성하였다.A cell barrier was formed on a glass substrate in the same manner as in Example 4, except that the roll concave plate, the ionizing radiation curable resin composition and the irradiation conditions were changed as follows in Example 4 for manufacturing a transfer sheet.

(1) 로울 오목판(1) Rolled concave plate

판면의 단면형상 : 도 20에 나타낸 바와 같이 종단면은 분리한 시이트형, 수평단면은 정방형Cross-sectional shape of the plate surface: As shown in Fig. 20, the longitudinal section has a separated sheet-like shape,

셀피치 : 500㎛Cell pitch: 500 탆

셀홈폭 W : 윗바닥 450㎛, 아래바닥 100㎛Cell width W: upper floor 450 탆, lower floor 100 탆

셀 깊이 D : 150㎛Cell depth D: 150 탆

(2) 전리방사선 경화성 수지조성물(2) ionizing radiation curable resin composition

·펜타에리스리톨트리아크릴레이트 … 90중량부· Pentaerythritol triacrylate ... 90 parts by weight

·우레탄아크릴레이트올리고마 … 10중량부· Urethane acrylate oligomer ... 10 parts by weight

ㆍ2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(멜크사제, 다로키야 1173)ㆍㆍㆍ0.7중량부- 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (DERKEYA 1173 made by MELCK) 0.7 parts by weight

(3) 조사조건(3) Irradiation conditions

오존을 갖는 고압수은등, 160W/㎝ × 2등High pressure mercury lamp with ozone, 160W / cm x 2 lights

다음에 본발명의 제2전사시트 및 제2패턴형성방법에 대해서 실시예 6에 의해 설명한다.Next, a second transfer sheet and a second pattern forming method of the present invention will be described with reference to a sixth embodiment.

(실시예 6)ㆍㆍㆍ(베이스필름의 형성)(Example 6) (Formation of base film)

자외선경화형잉크(다이니치 세이가고교 주식회사제,세이가빔XD-808)을 도 3에 나타낸 장치에 장저함과 더불어 폴리에틸렌테레프탈레이트필름(막두께 100μm)을 베이스필름으로 하였다. 또한 선원은 자외선조사(160W/㎠)로 하고, 베이스필름상에 오목판롤의 회전속도 5m/min 로서 장벽패턴을 피치 250μm이며, 바닥폭 70μm, 천장폭 100μm, 깊이 180μm의 오목부를 도 1에 나타낸 바와 같이 형성 하였다.A ultraviolet curable ink (Seiga Beam XD-808, manufactured by Dainichisei Kogyo Co., Ltd.) was added to the apparatus shown in Fig. 3 and a polyethylene terephthalate film (film thickness of 100 m) was used as a base film. 1, a concave portion having a bottom width of 70 占 퐉, a ceiling width of 100 占 퐉 and a depth of 180 占 퐉 is formed on the base film at a rotational speed of 5 m / min at a rotating speed of the concave plate roll Lt; / RTI >

상기에서 얻은 베이스필름상의 오목부내에 우선 실시예 3에서 기재한 암색잉크를 40μm의 막두께, 암색잉크층상에 실시예 3에서 기재한 백색잉크를 각각 덕터에 의해 도포하고 암색잉크층상에 백색잉크층이 적층된 잉크층을 충전하여 150℃, 30분간 건조 시켰다.In the recesses on the base film obtained above, the dark-colored ink described in Example 3 was applied in a thickness of 40 占 퐉, and the white ink described in Example 3 was applied on the dark-colored ink layer by the respective conductors to form a white ink layer The laminated ink layer was filled and dried at 150 DEG C for 30 minutes.

(유전체 형성층)(Dielectric forming layer)

조성Furtherance

ㆍ유리플릿(주성분 Bi2O3,ZnO, B2O3,무알칼리, 평균입자직경 3μm) ㆍㆍ 70주량부,Glass frit (main component Bi 2 O 3, ZnO, B 2 O 3, non-alkali, average particle diameter 3 μm) 70 parts by weight,

ㆍα-알미나RA-40(암곡 가가쿠 고교)ㆍㆍㆍ7중량부? -Almina RA-40 (Amagogagaku Kogyo) 7 parts by weight

ㆍ산화티탄ㆍㆍㆍ3중랑부≪ tb > Titanium oxide < sep >

상기 무기성분혼합체의 열팽창계수(30∼300℃) 81×107, 연화점 580℃The thermal expansion coefficient (30 to 300 占 폚) of the inorganic component mixture is 81 占07 , the softening point is 580 占 폚

ㆍn-부틸메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체(7/3)ㆍㆍㆍ13중량부N-butyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (7/3) 13 parts by weight

ㆍ디브틸프탈레이트ㆍㆍㆍ7중량부Dibutyl phthalate 7 parts by weight

ㆍ프로필렌글리콜모노메틸에테르ㆍㆍㆍ20중량부Propylene glycol monomethyl ether 20 parts by weight

를 세라믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 유전체층형성용 잉크를 조제하였다.Was mixed and dispersed with a bead mill using ceramic beads to prepare an ink for dielectric layer formation.

이 유전체층형성용 잉크를 상기에서 얻은 베이스필름상의 목부내에 장벽형성잉크층을 충전한 오목형상패턴상에 도 8에 나타낸 바와 같이 스크린인쇄에 의해 유전체층패턴형상에 도포하고, 150℃, 30분간 건조시켜 막두께20㎛의 유전체형성층을 적층한 후, 폴리에틸렌필름을 라미네이트하여 본 발명의 제2전사시트를 형성하였다. 암벽형성층은 유전체형성층용 잉크로 피복되어 형상이 뛰어났다.The ink for forming the dielectric layer was applied on the concave pattern filled with the barrier ink layer in the neck portion on the base film obtained above by screen printing to form a dielectric layer pattern and dried at 150 DEG C for 30 minutes A dielectric forming layer having a thickness of 20 mu m was laminated, and then a polyethylene film was laminated to form a second transfer sheet of the present invention. The rock-forming layer was covered with the ink for the dielectric-forming layer, and the shape was excellent.

전사시트의 폴리에틸렌필름을 박리한 후, 오토캣트 라미네이터(아사히 가세이 주식회사제, 형식ACL-9100)을 사용하고, 기판플레히트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 하지층, 전극층을 차례로 형성한 유리기판 위에 라미네이트 하였다.After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, an undercoat layer and an electrode layer were sequentially laminated in the autocatalyst laminator (Type ACL-9100, manufactured by Asahi Kasei Corporation) under the transfer conditions of a substrate plate temperature of 80 캜 and a lamellar temperature of 100 캜 And then laminated on the formed glass substrate.

다음으로 베이스필름을 박리하고, 570℃로 소성 하였다. 소성후 유도체층의 막두께는 10μm, 또는 장벽층의 천장폭 50μm, 바닥폭 80μm, 막두께는 120±10m 이었다. 다음에 본 발명의 제3전사시트 및 제3패턴 형성방법에 대하여 실시예7 내지 실시예9에 의해 설명한다. (실시예 7) (전극형성용 잉크조성) ㆍ유리플릿(평균직경 1μm, 무알칼리, 연화점 550℃, 열팽창계수(30∼300℃ 73×107)ㆍㆍㆍ5중량부 ㆍn-부틸메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트공중합체(7/3)ㆍㆍㆍ 12중량부 ㆍ디브틸프탈레이트ㆍㆍㆍ5중량부 ㆍ프로필렌 글리콜모노메틸에테르ㆍㆍㆍ15중량부Next, the base film was peeled off and fired at 570 캜. The film thickness of the derivative layer after firing was 10 占 퐉, or the ceiling width of the barrier layer was 50 占 퐉, the bottom width was 80 占 퐉, and the film thickness was 120 占 10 m. Next, the third transfer sheet and the third pattern forming method of the present invention will be described with reference to the seventh to ninth embodiments. (Example 7) (Composition of ink for electrode formation) Glass frit (average diameter 1 占 퐉, alkali-free, softening point 550 占 폚, thermal expansion coefficient (30 to 300 占 폚 73 占107 ) 5 parts by weight n-butyl Acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (7/3) 12 parts by weight dibutyl phthalate 5 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 15 parts by weight

를 세라믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 전극형성용 잉크를 조제하였다.Was mixed and dispersed with a bead mill using ceramic beads to prepare an ink for electrode formation.

이 전극형성용 잉크를 실시예6에서 얻은 제2전사시트에있어서의 폴리에틸렌The ink for electrode formation was applied onto the polyethylene obtained in the second transfer sheet obtained in Example 6

필름을 박리한 후 그 유전체 형성층상에 스크린인쇄에 의해 전극패턴 형상After the film was peeled off, an electrode pattern shape was formed on the dielectric-forming layer by screen printing

으로 도포하고, 150℃, 30분간 건조시켜 막두께 20㎛의 전극형성층을 적층하고, 다시 폴리에티렌필름을 라미네이터하여 도 11에 나타낸 본 발명 제 3전사시트를 형성 하였다., And dried at 150 캜 for 30 minutes to form an electrode forming layer having a thickness of 20 탆. Then, a polyetylene film was laminated again to form a third transfer sheet of the present invention shown in Fig. 11.

전사시트의 폴리에틸렌필름을 박리한 후 오토캣트 라미네이터 (아사히 가세이 주식회사제, 형식 ACL-9100)를 사용하고,기판플레이트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 하지층을 형성한 유리기판 위에 라미네이트 하였다.After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, an autocatalyst laminator (Type ACL-9100, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) was used, and on a glass substrate on which a base layer was formed under transfer conditions of a substrate plate temperature of 80 캜 and a lamellar temperature of 100 캜 Lt; / RTI >

이어서, 베이스필름을 박리하고, 570℃에서 소성 하였다. 소성후 전극의 막 두께는 10μm, 유전체층의 막두께는 10μm, 또한 장벽층의 천정폭 50μm, 바닥폭 80μm, 막두께는 120±10m 이었다.Subsequently, the base film was peeled off and fired at 570 캜. The film thickness of the electrode after firing was 10 占 퐉, the thickness of the dielectric layer was 10 占 퐉, the ceiling width of the barrier layer was 50 占 퐉, the bottom width was 80 占 퐉, and the film thickness was 120 占 10 m.

(실시예 8)(Example 8)

(감광성전극형성용 잉크조성)(Ink composition for forming photosensitive electrode)

ㆍ은분(구형, 평균입자직경 1μm)ㆍㆍㆍ70중량부Silver powder (spherical, average particle diameter 1 占 퐉) 70 parts by weight

ㆍ유리플릿(평균입자직경 1μm, 무알칼리, 연화점550℃, 열팽창계수(30∼Glass frit (average particle diameter 1 μm, non-alkali, softening point 550 ° C., thermal expansion coefficient

300℃) 73×107)ㆍㆍㆍ5중량부300 占 폚) 73 占07 ) 5 parts by weight

ㆍ감광성 수지성분ㆍㆍㆍ18중량부Photosensitive resin component 18 parts by weight

(내역(History

ㆍ알칼리현상형 폴리머(메틸메타크릴레이트/메타크릴산 고중합체에 있어서 그 측쇄로 이중결합을 7몰%함유, 산가 100mgKOH/g)ㆍㆍㆍ50중량부ㆍ Alkali developing type polymer (containing 7 mol% of double bonds in the side chain of methyl methacrylate / methacrylic acid high polymer, acid value of 100 mgKOH / g) 50 parts by weight

ㆍ에틸렌옥사이드변성트리메티롤프로판트리아크릴레이트ㆍㆍㆍ30중량부Ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate 30 parts by weight

ㆍ광개시제(차바가이기사제, 일가큐어369)ㆍㆍㆍ3중량부ㆍ Photo initiator (IGACURE 369, manufactured by Chava Co., Ltd.) 3 parts by weight

ㆍ프로필렌 글리콜 모노메틸에테르ㆍㆍㆍ15중량부)占 propylene glycol monomethyl ether 占 쏙옙 占 15 parts by weight)

를 세리믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 감광성Was mixed and dispersed using a bead mill using ceramic beads,

전극형성용 잉크를 조제하였다.To prepare an ink for electrode formation.

실시예 6에서 얻은 제 2의 전사시트에 있어서의 폴리에틸렌필름을 박리 한 후 그 유전체형성층상에 감광성전극 형성용 잉크를 덕트방식에 의해 도포 하고, 건After the polyethylene film of the second transfer sheet obtained in Example 6 was peeled off, the ink for forming a photosensitive electrode was applied on the dielectric-forming layer by the duct system,

조막두께 20μm로 하였다.And a film thickness of 20 mu m.

얻어진 적층시트를 그 베이스필름측에서자외선조사(200mJ/㎠)한 후 전극형The obtained laminated sheet was irradiated with ultraviolet rays (200 mJ / cm < 2 >) on the side of the base film,

성층을 0.2%농도의 탄산나트륨 수용액에서 현상하여 미노광 부분을 제거했The stratum corneum was developed in an aqueous sodium carbonate solution at a concentration of 0.2% to remove unexposed portions

다. 장벽형성층이 마스크로되어 장벽형성층 사이에 전극형성층을 위치정밀도 좋게 형성되었다.All. The barrier formation layer was used as a mask, and the electrode formation layer was formed between the barrier formation layers with high positional accuracy.

건조후 전극형성층상에 폴리에틸렌필름을 점착하여 도 11에 나타낸 본발명의 제3전사시트를 형성 하였다.After drying, the polyethylene film was adhered onto the electrode-forming layer to form the third transfer sheet of the present invention shown in Fig.

전사시트의 폴리에틸렌필름을 박리한 후 오토캣트 라미네이터(아사히 가세이 주식회사제, 형식 ACL-9100)를 사용하여 기판플레이트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 하지층을 형성한 유리기판상에 라미네이트 하였다.After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, a laminate was laminated on a glass substrate having a base layer formed under the transfer conditions of a substrate plate temperature of 80 캜 and a lamellar temperature of 100 캜 using an autocatalyst laminator (Asahi Kasei Corporation, type ACL-9100) Respectively.

이어서, 베이스필름을 박리하고 570℃에서 소성했다. 소성 후 전극의막 두께Then, the base film was peeled off and fired at 570 캜. Thickness of electrode after firing

는 10μm, 유전체의 막두께는 10μm, 또 장벽층의 천장폭 50μm, 바닥폭80The thickness of the dielectric film is 10 mu m, the ceiling width of the barrier layer is 50 mu m, the bottom width 80

μm, 막두께는 120±10m 이었다.μm, and the film thickness was 120 ± 10 m.

(실시예 9)(Example 9)

(하지형성층형성용 잉크)(Ink for forming an undercoat layer)

조성Furtherance

ㆍ유리플릿(주성분 : PbO, SiO2,B2O3(무알칼리), 열팽창계수(30∼300℃)82×Glass frit (main component: PbO, SiO 2 , B 2 O 3 (alkali-free), thermal expansion coefficient (30 to 300 ° C.) 82 ×

107, 연화점 575℃)ㆍㆍㆍ65중량부10 7 , softening point: 575 ° C) 65 parts by weight

ㆍα-알루미나RA-40(암곡가가쿠고교)ㆍㆍㆍ11중량부? -Alumina RA-40 (Reagan Gakko) 11 parts by weight

ㆍ산화동(CuO)ㆍㆍㆍ4중량부Copper oxide (CuO) 4 parts by weight

ㆍn-부틸메타크릴레이트/2히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체(8/2)ㆍㆍㆍN-butyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (8/2)

11중량부11 parts by weight

ㆍ벤질브틸프탈레이트ㆍㆍㆍ3중량부Benzylbutyl phthalate 3 parts by weight

ㆍ디브틸프탈레이트ㆍㆍㆍ3중량부3 parts by weight of dibutyl phthalate

ㆍ프로필렌 글리콜 모노메틸에테르ㆍㆍㆍ20중량부Propylene glycol monomethyl ether 20 parts by weight

를 세라믹 비즈를 사용한 비즈밀을 사용하여 혼합처리분산하고, 하지층형성Were mixed and dispersed using a bead mill using ceramic beads,

용 잉크를 조제하였다.Was prepared.

실시예8에서 얻은 전사시트에 있어서의 폴리에틸렌필름을 박리한 후그 전극The polyethylene film in the transfer sheet obtained in Example 8 was peeled off,

형성층상에 하지층형성용 잉크를 스크린인쇄에 의해 하지층패턴형상에 도포The base layer forming ink was applied to the base layer pattern shape by screen printing on the formed layer

하고, 건조막두께 20μm의 하지형성층을 형성한 후 폴리에틸렌필름을 점착To form a foundation layer having a dry film thickness of 20 mu m, and then a polyethylene film was adhered

했다.did.

전사시트의 폴리에틸렌필름을 박리한 후 오토캣트 라미네이터(아시히 가세이 주식회사제, 형식 ACL-9100)를 사용하여 기판플레히트 온도80℃, 라미로울온도After the polyethylene film of the transfer sheet was peeled off, the substrate plate temperature was 80 占 폚, the lamellar temperature (占 폚) was measured using an autocatalyst laminator (Asahi Kasei Corporation, model ACL-9100)

100℃의 전사조건에서 유리기판상에 라미네이트 하였다.Lt; RTI ID = 0.0 > 100 C < / RTI >

이어서, 베이스필름을 박리하고 570℃에서 소성했다. 소성 후 하지층의 막Then, the base film was peeled off and fired at 570 캜. After the firing,

두께는 10μm, 전극의 막두께는 10μm, 유전체층의 막두께는 10μm, 또 장The thickness of the electrode is 10 mu m, the thickness of the dielectric layer is 10 mu m,

벽층의 천장폭 50μm, 바닥폭 80μm, 막두께는 120±10m 이었다.The ceiling width of the wall layer was 50 탆, the bottom width was 80 탆, and the film thickness was 120 짹 10 m.

이방법에 의해 유리기판상에 하지층, 전극층, 유전체층, 장벽층을 동시에 보By this method, the base layer, the electrode layer, the dielectric layer, and the barrier layer are simultaneously transferred onto the glass substrate

다 위치정밀도 좋게 형성할 수 있었다.And it was able to be formed with good multi-position accuracy.

도 4의 패턴형성방법에 대하여 실시예10 내지 실시예실시예 13에 설명한다.The pattern forming method of Fig. 4 will be described in the tenth to thirteenth embodiments.

(실시예 10)ㆍㆍㆍ(전극형성층 형성용 전시시트의 형성)(Example 10) (Formation of an electrode formation layer-forming exhibition sheet)

조성Furtherance

감광성수지(하기조성)ㆍㆍㆍ20중량부Photosensitive resin (composition below) 20 parts by weight

ㆍ은분(평균입자직경 1μm)ㆍㆍㆍ70중량부Silver powder (average particle diameter 1 占 퐉) 70 parts by weight

ㆍ유리플릿(주성분 ; Bi2O3,SiO2, B2O3(무알칼리) 평균입자직경 1μm, 연화Glass frit (main component: Bi 2 O 3, SiO 2 , B 2 O 3 (non-alkali) average particle diameter 1 μm,

점600℃)ㆍㆍㆍ5중량부600 ° C) 5 parts by weight

(감광성수지내역(Photosensitive resin history

ㆍ바인더폴리머｛폴리(n-부틸아크릴레이트)｝ㆍㆍㆍ100중량부ㆍ Binder polymer {poly (n-butyl acrylate)} 100 parts by weight

ㆍ폴리옥시에틸화 트리메치로 프로판 트리아크릴레이터 ㆍㆍㆍ60중량부Polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate 占 60 parts by weight

ㆍ광개시제(치바가이기사제 「일가큐어 369」)ㆍㆍㆍ10중량부)ㆍ Photoinitiator ("IGACURE 369" manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) 10 parts by weight)

를 3개의 로울밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 전극형성층형성용 잉크Was mixed and dispersed using three roll mills, and the electrode forming layer-forming ink

를조제하였다..

이 전극형성층형성용 잉크를 도15에 나타낸 장치에 장전함과 더불어 폴리The ink for forming the electrode forming layer was placed in the apparatus shown in Fig. 15,

에틸렌테레프탈레이트필름(막두께 75μm)을 베이스필름으로 하였다.An ethylene terephthalate film (film thickness 75 μm) was used as the base film.

또한 선원은 자외선조사(700mJ/㎠)로 하고, 오목판로울의 회전속도 5m/min 로 전극패턴인 선폭 70μm, 막두께 15μm의 경화잉크층을 형성하여 전사시트를 제작 하였다.In addition, the source was irradiated with ultraviolet rays (700 mJ / cm 2), and a cured ink layer having a line width of 70 μm and a film thickness of 15 μm was formed as an electrode pattern at a rotational speed of 5 m / min.

(피전사체의 형성)(Formation of the transferred body)

다음에, 조성Next,

ㆍ유리플릿｛주성분 ; PbO, SiO2,B2O3(무알칼리)｝(유리플리트의 연화점ㆍ Glass frit (main component; PbO, SiO 2, B 2 O 3 (alkali-free)} (softening point of glass pleat

570℃, Tg 480℃, 열팽창계수 α300＝83×10-7/℃, 평균입자직경1μm)ㆍㆍㆍ65570 占 폚, Tg 480 占 폚, thermal expansion coefficient? 300 = 83 占10-7 / 占 폚, average particle diameter 1 占 퐉) 65

중량부Weight portion

ㆍAl2O3ㆍㆍㆍ11중량부Al 2 O 3 11 parts by weight

ㆍCuOㆍㆍㆍ4중량부- CuO - - > 4 parts by weight

ㆍ에틸셀룰로오스ㆍㆍㆍ10중량부- Ethylcellulose - 10 parts by weight

ㆍ에틸셀로솔브ㆍㆍㆍ20중량부ㆍ Ethyl Cellosolve ㆍ 20 parts by weight

를 비즈밀을 사용해서 혼합분산처리한 후 유리기판상에 다이코드도포하고,Is mixed and dispersed using a bead mill, and then a die cord is applied on a glass substrate,

100℃로 건조하여 막두께 18±2μm의 하지형성층을 형성 하였다.Followed by drying at 100 ° C to form a ground formation layer having a film thickness of 18 ± 2 μm.

(전사공정)(Transferring step)

상기에서 얻은 전사시트와 피전사체를 중합시켜 오토캣트 라미네이터(아사히 가세이 주식회사제, ACL-9100)를 사용하고, 기판플레히트 온도 80℃, 라미로울 온도 100℃의 전사조건에서 라미네이트 하였다.The transfer sheet thus obtained and the transfer object were laminated under the transfer conditions of an autocath laminator (ACL-9100, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) with a substrate plate temperature of 80 캜 and a lamellar temperature of 100 캜.

이어서, 베이스필름을 박리하고 패턴형상의 경화잉크층을 전사한 후 피크 온도 570℃로 소성하고 패턴형상의 전극층을 형성 하였다. 소성후의 전극층의 선폭 65μm, 막두께는 6±2μm 이고, 그 표면의 평활성이 우수한 것이었다.Subsequently, the base film was peeled off, the patterned cured ink layer was transferred, and then baked at a peak temperature of 570 ° C to form a patterned electrode layer. The line width of the electrode layer after firing was 65 占 퐉, the film thickness was 6 占 퐉 2 占 퐉, and the smoothness of the surface was excellent.

(실시예 11)ㆍㆍ(장벽형성층 형성용 전사시트의 형성)(Example 11) (Formation of transfer sheet for forming barrier wall layer)

조성Furtherance

ㆍ감광성수지(하기조성)ㆍㆍㆍ20중량부ㆍ Photosensitive resin (composition below) 20 parts by weight

ㆍ유리플릿(MB-008, 송량 유리 고교 주식회사제)ㆍㆍㆍ65중량부ㆍ Glass frit (MB-008, manufactured by Songyang Glass Co., Ltd.) ㆍ 65 parts by weight

ㆍα-알루미나 RA-40(암곡 가가쿠 고교)ㆍㆍㆍ10중량부? -Alumina RA-40 (Amagogagaku Kogyo) 10 parts by weight

ㆍ다이필로키사이드 블랙#9510(다이니치세이카고교주식회사제)ㆍㆍㆍDiphenyl Kiesel Black # 9510 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)

10중량부10 parts by weight

(감광성수지 내역)(Details of photosensitive resin)

ㆍ폴리(n-부틸아크릴레이트(평균분자량 10,000)ㆍㆍㆍ100중량부Poly (n-butyl acrylate (average molecular weight 10,000) 占 100 parts by weight

ㆍ폴리옥시에틸렌화 트리메트리메티롤프로판트리아크릴레이트ㆍㆍㆍ40중량부Polyoxyethylenated trimetrimethylolpropane triacrylate 40 parts by weight

ㆍ디브틸프탈레이트ㆍㆍㆍ20중량부Dibutyl phthalate 20 parts by weight

를 비즈밀을 사용하여 혼합분산처리하고, 장벽형성층성용 잉크를 조제 했다.Was mixed and dispersed using a bead mill to prepare an ink for barrier-forming layer.

이 장벽형성층형성용 잉크를 도 15에 나탄낸 장치에 장전함과 더불어 선원This barrier-forming layer-forming ink was placed in a device shown in Fig. 15,

으로서 전자선조사(160kV, 5Mrad) 하고, 폴리에틸렌테레프터레이트 필름상에 장벽패턴인 선폭 70μm, 막두께 180μm 패턴형상의 잉크층을 형성하고, 권취함이 없이 하기의 피전사체로의 전사에 사용 하였다.(160 kV, 5 Mrad), and an ink layer having a line width of 70 mu m and a film thickness of 180 mu m, which is a barrier pattern, was formed on a polyethylene terephthalate film, and was used for transfer to the following object without winding .

(피전사체의 형성)(Formation of the transferred body)

유리기판상에 하지형성층, 패턴형상의 전극형성층을 차례로 형성한 후,A base-forming layer and a pattern-shaped electrode-forming layer are sequentially formed on a glass substrate,

조성Furtherance

ㆍ유리플리트｛주성분 ;Bi2O,ZnO2,B2O3(무알칼리)평균입자직경ㆍㆍㆍ70중량부Glass frit (main component: Bi 2 O, ZnO 2 , B 2 O 3 (non-alkali) average particle diameter: - 70 parts by weight

ㆍTiO2ㆍㆍㆍ3중량부- TiO 2 - 3 parts by weight

ㆍAl2O3ㆍㆍㆍ7중량부- Al 2 O 3 - - 7 parts by weight

(상기 무기성분혼합체의 연화점 570℃, Tg485℃, 열팽창계수 α300＝ 80 × 10-7/℃)(Softening point of the inorganic component mixture: 570 캜, Tg 485 캜, thermal expansion coefficient α 300 = 80 × 10 -7 / ° C.)

ㆍn-부틸메타크릴레이트/히드록시 에틸헥실 메타 크릴레이트공중합체(8/2)ㆍ ㆍㆍ10중량부N-butyl methacrylate / hydroxyethylhexyl methacrylate copolymer (8/2) 10 parts by weight

ㆍ벤질브틸프탈레이트ㆍㆍㆍ7중량부Benzylbutyl phthalate 7 parts by weight

ㆍ이소프로필알콜ㆍㆍㆍ15중량부Isopropyl alcohol 15 parts by weight

ㆍ메틸에틸케톤ㆍㆍㆍ5중량부Methyl ethyl ketone 5 parts by weight

를 비즈를 사용해서 혼합분산처리한 후 폴리에틸렌테레프탈레이트필름상에Was mixed and dispersed using beads, and the mixture was dispersed on a polyethylene terephthalate film

콘마코드 도포하고, 100℃에서 건조하여 막두께 20±2μm의 유전체층형성And then dried at 100 ° C. to form a dielectric layer having a thickness of 20 ± 2 μm

층을 형성 하였다.Layer.

(전사공정)(Transferring step)

상기에서 얻은 전사시트와 피전사체를 중합시켜 패턴형상의 경화 잉크층을 전사한 후 베이스필름을 박리하고 피크 온도 570℃에서 소성하여 패턴형상의 장벽After transferring the patterned cured ink layer by polymerizing the transfer sheet and the transfer body obtained above, the base film was peeled off and fired at a peak temperature of 570 ° C to form a patterned barrier

층을 형성하였다. 소성후 장벽층의 선폭 50μm, 막두께는120±10μm 이며, 그 표면의 평활성이 우수한 것이었다.Layer. After firing, the barrier layer had a line width of 50 mu m and a film thickness of 120 +/- 10 mu m, and the smoothness of the surface was excellent.

두께 25μm인 폴리에스테르필름(도우레 주식회사제, T-60)의 편면에 도15에 나타낸 장치와 하기에 나타낸 판오목부가 정사각 추형상의 오목부공간을 갖는 로울 오목판 및 저융점 유리플릿을 함유하는 전리방사선경화성수지조성물을 사용하고, 또 하기의 조건에 의해 셀장벽부의 형상을 갖는 경화된 잉크층을 형성했다.On one side of a polyester film (T-60, made by Doure Co., Ltd.) having a thickness of 25 占 퐉, the device shown in Fig. 15 and a plate concave portion shown below were filled with a rutile plate having a concave space of square- An ionizing radiation curable resin composition was used and a cured ink layer having the shape of a cell barrier portion was formed under the following conditions.

(1) 로울 오목판(1) Rolled concave plate

판면의 단면형상 : 도 19에 도시한 바와 같이 종단면은 분리한 받침대형, 수평단면은 스트라이프형상Cross-sectional shape of the plate surface: As shown in Fig. 19, the vertical cross-section is a separated base plate, the horizontal cross-section is a stripe shape

셀피치 : 200μmCell pitch: 200 탆

셀도랑 폭(W) : 상부바닥 180μm, 하부바닥 150μmCell ditch width (W): upper floor 180 탆, lower floor 150 탆

셀깊이(D) : 150μmCell depth (D): 150 mu m

(2) 저융점 유리플릿을 함유한 전리방사선경화성수지조성물(2) an ionizing radiation curable resin composition containing a low melting glass frit

ㆍ무기성분(이산화규소, 산화연)ㆍㆍㆍ75중량부ㆍ inorganic component (silicon dioxide, oxidized lead) 75 parts by weight

ㆍ펜타에리스트릴트리아크릴레이트ㆍㆍㆍ22중량부ㆍ Pentaerythrityl triacrylate 22 parts by weight

ㆍ우레탄아크릴레이트올리고마ㆍㆍㆍ2중량부Urethane acrylate oligomer 2 parts by weight

(3) 조사조건카텐빔형 전자선조사장치에서 10Mrad의 전자선을 조사한 다음(3) Irradiation conditions A 10-Mrad electron beam was irradiated from a Ketten-beam type electron beam irradiation apparatus

에 상기에서 얻은 폴리에스테르필름에 형성된 장벽형성층을 PDP유리기판The barrier-forming layer formed on the polyester film obtained above was referred to as a PDP glass substrate

상에 압접하고, 유리기판상에 장벽형성층을 형성했다.And a barrier-forming layer was formed on a glass substrate.

(실시예 13)(Example 13)

실시예 12에 있어서 로울오목판, 전리방사선경화성수지조성물, 조사조건을 하기와 같이 변경한 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 셀 장벽을 유리기판A cell barrier was formed in the same manner as in Example 12 except that the roll concave plate, the ionizing radiation curable resin composition and the irradiation conditions were changed as follows,

상에 형성했다..

(1) 로울 오목판(1) Rolled concave plate

판면의 단면형상 : 도 20에 도시한 바와 같이 종단면을 분리한 받침대형,Cross-sectional shape of the plate surface: As shown in Fig. 20,

수 평단면은 정방형The horizontal section is square

셀피치 : 500μmCell pitch: 500 m

셀도랑폭(W) : 상부바닥면 450μm, 하부바닥면 100μmCell ditch width (W): Upper floor 450μm, Lower floor 100μm

셀깊이(D) : 150μmCell depth (D): 150 mu m

(2) 저융점 유리플릿을 함유한 전리방사선경화성수지조성물(2) an ionizing radiation curable resin composition containing a low melting glass frit

ㆍ무기성분 : 펜타에리스트릴트리아크릴레이트ㆍㆍㆍ75중량부- Inorganic component: pentaerythritol triacrylate 75 parts by weight

ㆍ우레탄아크릴레이트올리고마ㆍㆍㆍ22중량부Urethane acrylate oligomer 22 parts by weight

ㆍ2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(멜크사제, 다로키야1173)ㆍㆍㆍ2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (manufactured by Merck, Darokiya 1173)

0.2 중량부0.2 parts by weight

(3) 조사조건(3) Irradiation conditions

오존을 갖는 고압수은등, 160W/㎝×2등High pressure mercury lamp with ozone, 160W / cm x 2 lights

본 발명의 전사시트는 PDP, 화상표시장치, 서멀헤드, 집적회로 등에 있어서의 전극층, 유전체층, 장벽층을 제작할 때 제작시간을 단축시킬수 있고 보류를 향상시킬수 있다. 또, 얻어진 패턴은 전사에 의해 형성하기 때문에 표면평활성이 뛰어나고 또 막 두께가 균일하고 분포정밀도가 양호한 층형성이 가능하다. 또, 패턴부만을 전사시킬수 있기 때문에 재료의 사용을 적게 할수있어 저코스트화를 도모할수 있다.The transfer sheet of the present invention can shorten the fabrication time and improve the retention time when fabricating the electrode layer, the dielectric layer, and the barrier layer in the PDP, the image display device, the thermal head, the integrated circuit and the like. Further, since the obtained pattern is formed by transfer, it is possible to form a layer having excellent surface smoothness, uniform thickness, and good distribution accuracy. In addition, since only the pattern portion can be transferred, the use of the material can be reduced and the cost can be reduced.

그리고, 본 발명의 패턴형성방법은 종래와 같이 패턴을 인쇄, 소성을 계속된 반복으로 행할 필요가 없이 한번의 인쇄, 소성에 의해 패턴이 얻어지므로 처리시간이 단축됨과 더불어 패턴의 치수정밀도, 위치정밀도가 뛰어난 것으로 할수 있다.Since the pattern forming method of the present invention does not need to repeatedly perform printing and firing as in the conventional method, the pattern can be obtained by one printing and firing, so that the processing time is shortened and the dimensional accuracy of the pattern, Can be said to be excellent.

Claims (19)

오목부형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 잉크층이 충전된 것을 특징으로 하는 전사시트.Characterized in that an ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is filled in the concave portion of the base film having the concave portion pattern on one side. 제 1항에 있어서, 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 잉크층이 전극형성층인 것을 특징으로 하는 전사시트.The transfer sheet according to claim 1, wherein the transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, and the ink layer is an electrode forming layer. 제 2 항에 있어서, 전극형성층이 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 도전성잉크층, 또는 상기 도전성잉크층중에 암색(暗色) 안료를 함유하는 암색도전성잉크층, 또는 상기 도전성잉크층과 상기 암색도전성잉크층의 적층으로 이루어지는 것임을 특징으로 하는 전사시트.The inkjet recording method according to claim 2, wherein the electrode forming layer is a conductive ink layer comprising at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing, or a dark color conductive ink layer containing a dark color pigment in the conductive ink layer, Wherein the conductive ink layer is formed by laminating the conductive ink layer and the dark-colored conductive ink layer. 제 1 항에 있어서, 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 잉크층이 장벽형성층인 것을 특징으로 하는 전사시트.The transfer sheet according to claim 1, wherein the transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, and the ink layer is a barrier-forming layer. 제 4 항에 있어서, 장벽형성층이 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 지거되는 수지성분으로 이루어지는 백색잉크층, 또는 암색잉크층, 또는 백색잉크층과 암색잉크층의 적층으로 이루어지는 것임을 특징으로 하는 전사시트.5. The inkjet recording apparatus according to claim 4, wherein the barrier-forming layer is formed by laminating a white ink layer composed of an inorganic component composed of at least glass frit and a resin component fired or a dark ink layer or a white ink layer and a dark- Transfer sheet. 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전됨과 더불어 상기 제 1 잉크층이 충전된 상기 오목형상패턴상에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층이 적층된 것을 특징으로 하는 전사시트.A first ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is filled in the recessed portion of the base film having the concave pattern formed on one side thereof, And a second ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is laminated on said concave pattern. 제 6 항에 있어서, 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 제 1 잉크층이 전극형성층, 제 2 잉크층이 하지형성층인 것을 특징으로 하는 전사시트.The transfer sheet according to claim 6, wherein the transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, the first ink layer is an electrode forming layer, and the second ink layer is an undercoat layer. 제 6 항에 있어서, 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고 제 1 잉크층이 전극형성층, 제 2 잉크층이 유전체형성층인 것을 특징으로 하는 전사시트.The transfer sheet according to claim 6, wherein the transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, the first ink layer is an electrode forming layer, and the second ink layer is a dielectric forming layer. 제 8 항에 있어서, 장벽형성층이 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 백색잉크층, 또는 암색잉크층, 또는 백식잉크층과 암색잉크층의 적층으로 이루어지는 것임을 특징으로 하는 전사시트.9. The inkjet recording apparatus according to claim 8, wherein the barrier-forming layer is formed by laminating a white ink layer, a dark ink layer, or a white ink layer and a dark-color ink layer composed of an inorganic component composed of at least glass frit and a resin component removed by firing Transfer sheet. 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전됨과 더불어 상기 제 1 잉크층이 충전된 상기 오목형상패턴상에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층이 적층되고 또한 상기 제 2 잉크층상에 제 3 잉크층이 적층된 것을 특징으로 하는 전사시트.A first ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is filled in the recessed portion of the base film having the concave pattern formed on one side thereof, Characterized in that a second ink layer comprising at least an inorganic component consisting of glass frit and a resin component removed by firing is laminated on said recessed pattern and a third ink layer is laminated on said second ink layer Sheet. 제 10 항에 있어서, 전사시트가 플라즈마 디스플레이패널 제작용 전사시트이고, 제 1 잉크층이 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 백색잉크층, 또 암색잉크층, 또는 백색잉크층과 암색잉크층의 적층으로 이루어지는 장벽형성층임과 더불어 제 2 잉크층이 유전체형성층, 제 3 잉크층이 전극형성층인 것을 특징으로 하는 전사시트.The method for producing a plasma display panel according to claim 10, wherein the transfer sheet is a transfer sheet for manufacturing a plasma display panel, and the first ink layer comprises at least an inorganic component composed of glass frit and a white ink layer composed of a resin component removed by firing, Wherein the second ink layer is a dielectric forming layer and the third ink layer is an electrode forming layer, wherein the second ink layer is a dielectric forming layer and the third ink layer is an electrode forming layer. 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 잉크층이 충전된 전사시트를 상기 잉크층측으로부터 피전사체에 라미네이트해서 잉크층을 피전사체에 전사하고, 상기 잉크층이 전사된 피전사체를 소성하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.A transfer sheet in which an ink layer composed of at least an inorganic component composed of a glass frit and a resin component removed by firing is filled in a concave portion of a base film having a concave pattern formed on one side thereof is transferred from the ink layer side to a transfer body And transferring the ink layer onto the transfer target body, and firing the transfer target body onto which the ink layer has been transferred. 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전되고 또한 상기 오목형상패턴상에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층을 적층한 전사시트를 상기 제 2 잉크층측으로부터 피전사체로 라미네이트해서 제 1 및 제 2 잉크층을 동시에 전사하고, 상기 제 1 및 제 2 잉크층이 전사된 피전사체를 소성하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.A first ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is filled in the concave portion of the base film having the concave pattern formed on one side surface, A transfer sheet obtained by laminating an inorganic component made of glass frit and a second ink layer made of a resin component removed by firing is laminated from the second ink layer side to a transfer body to simultaneously transfer the first and second ink layers, And firing the transferred body onto which the first and second ink layers have been transferred. 오목형상패턴을 일측면에 형성한 베이스필름에 있어서의 오목형상부내에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 1 잉크층이 충전됨과 더불어 상기 오목형상패턴상에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 수지성분으로 이루어지는 제 2 잉크층이 적층되고 또한 상기 제 2 잉크층상에 제 3 잉크층을 적층한 전사시트를 상기 제 3 잉크층측으로부터 피전사체로 라미네이트해서 제 1 내지 제 3 잉크층을 동시세 전사하고, 상기 제 1 내지 제 3 잉크층이 전사된 피전사체를 소성하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.A first ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a resin component removed by firing is filled in the concave portion of the base film having the concave pattern formed on one side thereof, A transfer sheet obtained by laminating a second ink layer comprising an inorganic component made of glass frit and a resin component removed by firing and a third ink layer laminated on the second ink layer is laminated from the third ink layer side to the transferred body, And the first to third ink layers are simultaneously transferred, and the transferred body onto which the first to third ink layers are transferred is fired. 제 12 항 내지 제 14 항중 어느 한항에 있어서, 패턴형성방법이 플라즈마 디스플레이패널 형성방법이고 피전사체가 플라즈마디스플레이패널기판이며, 잉크층패턴이 플라즈마 디스플레이패널부재패턴인 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.15. The pattern forming method according to any one of claims 12 to 14, wherein the pattern forming method is a plasma display panel forming method, the body is a plasma display panel substrate, and the ink layer pattern is a plasma display panel member pattern. (1) 오목형상패턴을 일측 면에 형성한 롤오목판을 회전시켜 그 롤오목판의 오목부에 적어도 유리플릿으로 이루어지는 무기성분과 소성에 의해 제거되는 경화수지성분으로 이루어지는 잉크층을 충전하는 제 1 공정과,(1) a first step of rotating a roll concave plate provided with a concave pattern on one side thereof to fill an ink layer composed of at least an inorganic component composed of glass frit and a cured resin component removed by burning in a concave portion of the roll concave plate and, (2) 상기 제 1 공정으로 상기 롤오목판에 충전된 상기 잉크층에 대해서 상기 롤오목판의 회전방향에 동기해서 주행하는 베이스필름을 접촉시키는 제 2 공정과,(2) a second step of bringing the base film, which runs in synchronism with the rotational direction of the roll concave plate, into contact with the ink layer filled in the roll concave plate in the first step, (3) 상기 제 2 공정으로 상기 베이스필름이 상기 롤오목판에 접촉하고 있는 사이에 상기 롤오목판과 상기 베이스필름사이에 있는 상기 잉크층을 경화시킴과 더불어 경화하는 잉크층과 상기 베이스필름을 밀착시키는 제 3 공정과,(3) In the second step, the ink layer between the roll concave plate and the base film is cured while the base film is in contact with the roll concave plate, and the ink layer, which is cured, A third step, (4) 상기 제 3 공정으로 밀착한 패턴형상의 경화잉크층과 상기 베이스필름을 상기 롤오목판으로부터 박리해서 전사시트를 형성하는 제 4 공정과,(4) a fourth step of peeling the patterned cured ink layer in close contact with the third step and the base film from the roll concave plate to form a transfer sheet, (5) 제 4 공정에서 얻은 전사시트를 그 패턴형상의 경화잉크층측에서 유리기판상에 적층한 후 베이스필름을 박리해서 잉크층의 경화물을 기판상에 전사하는 제 5 공정과,(5) a fifth step of laminating the transfer sheet obtained in the fourth step on a glass substrate on the side of the patterned cured ink layer, then peeling off the base film to transfer the cured product of the ink layer onto the substrate, (6) 제 5 공정에서 얻은 패턴형상의 경화잉크층을 갖는 유리기판을 소성하는 제 6 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.(6) A sixth step of firing the glass substrate having the patterned cured ink layer obtained in the fifth step. 제 16 항에 있어서, 패턴이 플라즈마디스플레이패널부재에 있어서의 전극층패턴, 장벽층패턴인 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.The pattern forming method according to claim 16, wherein the pattern is an electrode layer pattern or a barrier layer pattern in the plasma display panel member. (1) 목적패턴에 대응하는 오목부가 형성된 오목판에 있어서의 상기 오목부내에 광경화성 잉크층을 충전하는 제 1 공정,(1) a first step of filling a photo-curable ink layer in the concave portion of the concave plate provided with the concave portion corresponding to the target pattern, (2) 이형제층(離型劑層)을 형성한 필름을 그 이형제층이 상기 오목부에 대향하도록하여 상기 오목판에 라미네이트하는 제 2 공정,(2) a second step of laminating a film on which a releasing agent layer is formed to the concave plate such that the releasing agent layer faces the concave portion; (3) 상기 필름을 상기 오목판에서 박리해서 상기 오목부내의 잉크층을 필름측에 전이시키는 제 3 공정,(3) a third step of separating the film from the concave plate to transfer the ink layer in the concave portion to the film side, (4) 기판상에 상기 필름을 그 잉크층이 당접하도록하여 중합하는 제 4 공정,(4) a fourth step of polymerizing the film with the ink layer in contact with the substrate, (5) 상기 잉크층의 상기 기판에 대한 접착강도를 증가시키기 위하여 자외선을 조사하는 제 5 공정,(5) a fifth step of irradiating ultraviolet light to increase the adhesion strength of the ink layer to the substrate, (6) 상기 필름을 박리해서 상기 기판상에 잉크층을 남기는 제 6 공정,(6) a sixth step of peeling off the film to leave an ink layer on the substrate, (7) 상기 기판전체를 소성하므로써 상기 잉크층을 기판에 밀착시키는 제 7 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.(7) a seventh step of adhering the ink layer to the substrate by firing the entire substrate. (1) 목적패턴에 대응하는 오목부가 형성되고 그 오목부가 있는 측의 요철면에 이형처리를 실시해서 이루어지는 오목판에 있어서의 상기 오목부내를 포함하는 판면상에 광경화성의 잉크층을 코팅하는 제 1 공정,(1) a first step of coating a photocurable ink layer on a plate surface including a concave portion corresponding to a target pattern and including an inside of the concave portion formed by performing a mold releasing treatment on the concave and convex side of the concave portion; fair, (2) 코팅한 상기 잉크층상에 접착제를 통해서 기판을 압착하는 제 2 공정,(2) a second step of pressing the substrate on the coated ink layer through an adhesive, (3) 상기 오목부에 대응하는 마스크를 통해서 노광하므로써 오목부내의 잉크층을 경화시키는 제 3 공정,(3) a third step of curing the ink layer in the concavity by exposing through a mask corresponding to the concavity, (4) 상기 기판을 상기 오목판에서 박리하므로써 기판상에 잉크층을 전이시키는 제 4 공정,(4) a fourth step of transferring the ink layer onto the substrate by peeling the substrate from the concave plate, (5) 상기 기판전체를 소성하므로써 상기 잉크층을 기판에 밀착시키는 제 5 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.(5) a fifth step of adhering the ink layer to the substrate by firing the entire substrate.
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