JP3664285B2 - Transfer sheet - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰ）における下地層、誘電体層、障壁層、電極層或いはフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、蛍光表示ディスプレイ、液晶表示装置等のディスプレイ、あるいは多層プリント配線板等における絶縁層等を転写により形成するのに適した転写シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰや多層プリント配線板等においては、一般に、ガラス基板からのアルカリ分の溶出による電極層の保護を目的とした下地層や絶縁性を高める観点、或いは駆動電圧を制御する観点から誘電体層をその層構成中に有している。ＰＤＰを例としてその構造を説明する。
【０００３】
図２にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、２枚のガラス基板１、２が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板２上に互いに平行に設けられたセル障壁３により一定の間隔に保持されている。前面板となるガラス基板１の背面側には、放電維持電極である透明電極４とバス電極である金属電極５とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されており、さらにその上に保護層（ＭｇＯ層）が形成されている。また、背面板となるガラス基板２の前面側には介して前記複合電極と直交するようにセル障壁３の間に位置してアドレス電極８が互いに平行に形成されており、さらにセル障壁３の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光面９が設けられている。
【０００４】
また、図３に示すように、背面板となるガラス基板２に誘電体からなる下地層１０を形成した後、アドレス電極８を設け、更にその上に誘電体層６′を積層した後、セル障壁３、蛍光体面９を設けた構造としたものもある。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、空間に漏れた電界で放電させる構造である。この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応して変化する。
【０００５】
なお、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は誘電体層で被覆されていない構造を有する点で相違するが、その放電現象は同一である。そして、この放電により生じる紫外線により蛍光体９を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認できるものである。
【０００６】
従来、このような層を形成するには、厚膜ペーストを用いてスクリーン印刷により形成されているが、膜厚分布が大きい、メッシュ目等の表面の凹凸が大きい、更に量産性に劣るといった問題を有する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ＰＤＰや多層電極板における構成層を別途用意した転写シートにより形成するシステムに使用するのに適した転写シートであって、作製時間を短縮でき、転写抜け等がなく転写性に優れ、歩留りを向上させることができるものであり、更に、形成層の表面平滑性に優れ、かつ膜厚が均一で分布精度の良好な層形成を可能とする転写シートの提供にある。
【０００８】
本発明の転写シートは、ベースフイルム上に、少なくもガラスフリットを有する無機粒子および焼成により除去される樹脂とを含有するインキ層を有する転写シートにおいて、該インキ層が無機粒子１００重量部に対して焼成により除去される樹脂を２重量部〜７０重量部の割合で含有すると共に、該インキ層の乾燥膜厚より粒子径が大である無機粒子が、全無機粒子中４．０６２５重量％〜３０重量％の割合であり、プラズマディスプレイパネルにおける誘電体形成層または下地形成層作製用であることを特徴とする。
【０００９】
上記の転写シートは、プラズマディスプレイパネル作製用転写シートであることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の転写シートの断面図であり、図中、１１はベースフイルム、１２はインキ層である。まず、インキ層１２がＰＤＰにおける下地形成層や誘電体層形成層である場合について説明する。
【００１１】
ベースフイルム１１は、インキ層形成用塗液における溶剤に侵されず、また、溶剤の乾燥工程、転写工程での加熱処理により収縮延伸しないことが必要でありポリエチレンテレフタレート、１，４−ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリサルホン、アラミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セロハン、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロン、ポリイミド、アイオノマー等の各フイルム、シート、更にアルミニウム、銅等の金属箔が例示され、膜厚４μｍ〜４００μｍ、好ましくは４．５μｍ〜２００μｍのものである。
【００１２】
次に、インキ層１２は、少なくともガラスフリットを有する無機粒子と焼成により除去される樹脂とからなる。
【００１３】
ガラスフリットとしては、その軟化点が３５０℃〜６５０℃で、熱膨張係数α₃₀₀ が６０×１０^-7／℃〜１００×１０^-7／℃のものが挙げられる。ガラスフリットの軟化点が６５０℃を越えると焼成温度を高くする必要があり、その積層対象によっては熱変形したりするので好ましくなく、また、３５０℃より低いと熱可塑性樹脂等が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中に空隙等の発生が生じるので好ましくない。また、熱膨張係数が６０×１０^-7／℃〜１００×１０^-7／℃の範囲外であると、ＰＤＰの場合、ガラス基板の熱膨張係数との差が大きく、歪み等を生じるので好ましくない。
【００１４】
また、無機粒子として、ガラスフリットの他に無機骨材、無機顔料をそれぞれ２種以上を混合して使用してもよい。
【００１５】
無機骨材は、必要に応じて添加されるものであり、焼成に際しての流延防止、緻密性向上を目的とし、ガラスフリットより軟化点が高いものである。例えば酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の各無機骨材が利用できる。 無機骨材の使用割合はガラスフリット１００重量部に対して０重量部〜３０重量部とするとよい。
【００１６】
また、無機顔料としては、例えばＰＤＰの外光反射を低減し、実用上のコントラストを向上させるために必要に応じて添加されるものであり、暗色にする場合には、耐火性の黒色顔料として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等が挙げられる。また、耐火性の白色顔料としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。
【００１７】
次に、焼成により除去される樹脂としては、ＰＤＰや多層電極板作製に際して焼成除去されるものであり、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂等が使用される。
【００１８】
これらの樹脂は、無機粒子のバインダーとして、また、転写性の向上を目的として含有させるものであり、熱可塑性樹脂としては、例えばメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキプロピルアクリレート、ヒドロキプロピルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等の１種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。
【００１９】
特に、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキプロピルアクリレート、ヒドロキプロピルメタクリレート等の１種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセルロースが好ましい。
【００２０】
また、硬化性樹脂としては、硬化後、焼成に際して分解・除去されるものであり、公知の電離放射線硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線或いは電子線硬化性樹脂等が使用でき、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び／または単量体を適宜混合した組成物を用いることができる。プレポリマー、オリゴマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、エポキシ樹脂、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート等のアクリレート類が挙げられる。
【００２１】
単量体としては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられる。例えばアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び上記のアクリレート体をメタクリレート体に変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン等の１種または２種以上の混合物が挙げられる。
【００２２】
特に、紫外線硬化型の場合には、前記組成物に光開始剤として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、α−アミノアセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンゾチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイル、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組合せ等が挙げられ、また、これらの光開始剤の１種または２種以上を組み合わせて使用してもよい。
硬化性樹脂として、感光性樹脂を使用する場合には、マスクを介して電極形成層等のパターニングが可能とできる。
【００２３】
無機粒子と樹脂との使用割合は、無機粒子１００重量部に対して樹脂２重量部〜７０重量部、好ましくは５重量部〜５０重量部の割合からなる。インキ層において、樹脂が２重量部より少ないと、インキ層の保持性が低く、特に、巻き取った状態での保存性、取り扱い性に問題を生じ、また、７０重量部より多くなると、焼成後の膜中にカーボンが残り、品質が低下するので好ましくない。
【００２４】
また、インキ層には、必要に応じて可塑剤、分散剤、沈降防止剤、消泡剤、剥離剤、レベリング剤等が添加される。
【００２５】
可塑剤は、転写性、インキの流動性を向上させることを目的として添加され、例えばジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル類、トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジー２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジー２−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジー２−エチルヘキシルセバケート、ジー２−エチルヘキシルマレート、アセチル−トリ−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチル−トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコールベンゾエート、トリエチレングリコール−ジ−（２−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等のグリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリセロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸などからなるポリエステル系、分子量３００〜３，０００の低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−２−エチルヘキシルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリシノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポリエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリアセテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エステル類が例示される。
【００２６】
分散剤、沈降防止剤としては、無機粒子の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例えば燐酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル系、各種界面滑性剤等が例示され、消泡剤としては、例えばシリコーン系、アクリル系、各種界面滑性剤等が例示され、剥離剤としては、例えばシリコーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタイプが例示され、レベリング剤としては、例えばフッ素系、シリコーン系、各種界面滑性剤等が例示され、それぞれ、適宜量添加される。
【００２７】
上記の形成用材料は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン等のアノン類、塩化メチレン、３−メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、α−若しくはβ−テルピオネール等のテルペン類に溶解、または分散させ、ベースフイルム上にダイコート、ブレードコート、コンマコート、ロールコート、グラビアリバースコート法、グラビアダイレクト法、スリットリバース法等により塗布し、乾燥させ、所定の膜厚とされる。
【００２８】
次に、インキ層１２がＰＤＰにおける電極形成層である場合について説明する。電極形成層は少なくともガラスフリットからなる無機粒子、焼成により除去される樹脂、導電性粒子、必要に応じて増粘剤とから構成される。
【００２９】
まず、焼成により除去される樹脂が熱可塑性樹脂の場合について説明する。無機粒子としては、上述したガラスフリット、無機骨材、無機顔料と同様のものが使用でき、無機骨材はガラスフリット１００重量部に対して０重量部〜１０重量部とするとよい。また、熱可塑性樹脂としては、上述した誘電体層形成層における樹脂と同様のものが使用され、樹脂成分の電極形成層形成用ペースト中の含量は、２〜７０重量％、好ましくは５〜５０重量％である。
【００３０】
導電性粒子としては、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の球形金属粒子が挙げられ、導電性粒子１００重量部に対してガラスフリットを２重量部〜２０重量部とするとよい。
【００３１】
増粘剤は、粘度を増大させるものであり、公知のものを使用できるが、例えばヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ソーダ、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、キサンタンガム、ポリビニルアルコール、ポリエーテルウレン変性物、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、モンモタロナイト、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸アルミニウム、水添加ひまし油、ひまし油エステル、脂肪酸アマイド、酸化ポリエチレン、デキストリン脂肪酸エステル、ジベンジリデンソルビトール、植物油系重合油、表面処理炭酸カルシウム、有機ベントナイト、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ等の微粉末等が挙げられる。増粘剤の含有量は、導電性粉末１００重量部に対して０．１重量部〜２０重量部、好ましくは０．１重量部〜１０重量部であり、０．１重量部未満であると増粘効果がなく、２０重量部より多いと電極としての特性に断線等の悪影響を引き起こす。
【００３２】
また、電極形成層には、その塗布性等を改善するために、可塑剤、分散剤、沈降防止剤、消泡剤、剥離剤、レベリング剤を添加してもよく、いずれも、上述した誘電体層形成層で記載したと同様のものを同様の溶剤と混合され、ロールミルにより混練してペースト状の塗液とするか、またはポールミル等により混練してスラリー状の塗液とされる。
【００３３】
次に、焼成により除去される樹脂が硬化型樹脂の場合について説明する。硬化性の電極形成層形成用ペーストは、少なくともガラスフリットからなる無機粒子、硬化性樹脂、導電性粒子とから構成される。
【００３４】
無機粒子としては、上述した誘電体層形成層における無機粒子で記載したガラスフリット、無機骨材、無機顔料と同様のものが使用できる。また、硬化性樹脂としては、上述した誘電体層形成層に記載する硬化性樹脂が同様に使用できる。硬化性樹脂の電極形成層形成用ペースト中の含量は、５〜９５重量％、好ましくは１０〜５０重量％である。また、導電性粒子については上述と同様であり、導電性粉末の電極形成層形成用ペースト中の含量は９５〜３０重量％、好ましくは９５〜６０重量％である。
【００３５】
また、電極形成層形成用ペーストには、必要に応じて可塑剤、分散剤、沈降防止剤、消泡剤、剥離剤、レベリング剤を添加してもよく、いずれも、上述した誘電体層形成層で記載したものを同様に溶剤と混合され、ロールミルにより混練してペースト状の塗液とするか、またはポールミル等により混練してスラリー状の塗液とされる。
【００３６】
塗液は、特願平８−１２４００３号に記載する凹版オフセット印刷による方法、また、特開平７−３２４７６号公報に記載する凹版ロールを使用する方法にり、電極形成層をベースフイルム上にパターン状に形成することができるが、凹版ロールを使用する方法においては、焼成により除去される樹脂として、好ましくは感光性硬化性樹脂を使用するよい。また、塗液をベタ塗布し、焼成により除去される樹脂が熱可塑性樹脂の場合にはフォトリソグラフィー法により電極パターン化してもよく、また、感光性樹脂の場合にはマスクを介してパターン露光し、電極パターン形状としてもよい。さらに、ベースフイルム上に塗液をベタ塗布し、基板に転写した後、電極形成層をフォトリソグラフィー法により電極パターン形状としてもよい。
【００３７】
このようなＰＤＰ作製用転写シートにおいて、インキ層１２が下地形成層の場合には、乾燥膜厚としては５μｍ〜３０μｍ、好ましくは１５μｍ〜２５μｍとされる。また、誘電体層形成層の場合には、乾燥膜厚としては５μｍ〜３０μｍ、好ましくは８μｍ〜２５μｍとされる。電極形成層の場合には、乾燥膜厚としては２μｍ〜１５μｍ、好ましくは３μｍ〜８μｍとされる。
【００３８】
本発明の転写シートは、所望するインキ層の乾燥膜厚に対して、そのインキ層成分中におけるガラスフリット、必要に応じて添加される無機骨材、無機顔料等の無機粒子の粒径が大である無機粒子分が、全無機粒子中３０重量％以下、好ましくは０重量％とするとよい。インキ層の乾燥膜厚より粒径が大の無機粒子が３０重量％より多く含まれていると、転写層表面がマット状となり転写しにくくなるという問題や、また、転写に際して気泡が混入し、転写不良となるという問題が発生する。
【００３９】
そのため、無機粒子は、ガラスフリット、無機骨材、無機顔料それぞれの粒子径分布において、所望する乾燥膜厚より大の粒子の割合が３０重量％以下のものを選択して使用するか、又はメッシュによる篩分けにより、所望する乾燥膜厚より大きい粒径の粒子を除去して使用するとよい。
【００４０】
本発明の転写シートにおいては、インキ層１２上には保護フイルムが必要に応じて積層されてもよく、また、保護フイルムはインキ層１２上に必要に応じて接着層を介して積層されてもよい。また、転写性を向上させることを目的として、インキ層１２とベースフイルム１１の間に必要に応じて剥離層を設けてもよく、更に、ベースフイルム１１におけるインキ層１２を設けた面とは反対側の面には、必要に応じて耐熱層が設けられてもよい。
【００４１】
本発明の転写シートは、ＰＤＰの層構成の積層に際して、そのインキ層を、熱ロール、レーザー光、サーマルヘッド、熱プレス等の方法によりＰＤＰ基板上に転写されるのに使用されるが、そのインキ層表面は平滑であり、転写性に優れるものであり、また、気泡等を巻き込まないものとできる。
【００４２】
ＰＤＰ基板上に転写されたそれぞれのインキ層は、３５０℃〜６５０℃の焼成温度でインキ層における樹脂等の有機成分を気化、分解、揮発させ、また、溶融したガラスフリットにより無機骨材が緻密に結合したものとできるものであり、転写されたインキ層の表面もベースフイルムの平滑性に対応した平滑面とできる。
【００４３】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
【００４４】
（実施例１）・・・（誘電体層形成用転写シート）
組成

をビーズミルを使用して混合分散処理した後、ポリエチレンテレフタレートフイルム上にコンマコート塗布し、１００℃で乾燥し、膜厚２０±２μｍのインキ層を形成した。形成されたインキ層表面は、平滑性に優れるものであった。そのインキ層表面上にポリエチレンフイルムをラミネートし、本発明の転写シートを作製した。
【００４５】
得られた転写シートを、曲げ試験（ＪＩＳ Ｋ５４００ ６．１６ 耐屈曲性試験）したところが、１０ｍｍに耐え、インキ層は剥離せず、良好に保持されていた。
【００４６】
次いで、ポリエチレンフイルムを剥離し、オートカットラミネーター（旭化成（株）製、型式ＡＣＬ−９１００）を使用し、基板プレヒート温度８０℃、ラミロール温度１００℃の転写条件で、電極付きガラス基板上にラミネートした。
【００４７】
ポリエチレンテレフタレートフイルムを剥離し、転写性について目視、光学顕微鏡及び電子顕微鏡により確認したところ、抜けもなく、きれいに転写した。
【００４８】
次に、ピーク温度５７０℃で焼成し、誘電体層を形成した。焼成後の膜厚は１０±１μｍであり、表面平滑性に優れる誘電体層を形成できた。
【００４９】
（実施例２）・・・（下地層形成用転写シート）
組成

をビーズミルを使用して混合分散処理した後、ポリエチレンテレフタレートフイルム上にロールコート塗布し、１００℃で乾燥し、膜厚２０±２μｍのインキ層を形成した。形成されたインキ層表面は、平滑性に優れるものであった。そのインキ層表面上にポリエチレンフイルムをラミネートし、本発明の転写シートを作製した。
【００５０】
得られた転写シートを、曲げ試験（ＪＩＳ Ｋ５４００ ６．１６ 耐屈曲性試験）したところが、１０ｍｍに耐え、インキ層は剥離せず、良好に保持されていた。
【００５１】
次いで、ポリエチレンフイルムを剥離し、オートカットラミネーター（旭化成（株）製、型式ＡＣＬ−９１００）を使用し、基板プレヒート温度６０℃、ラミロール温度１００℃の転写条件で、ガラス基板上にラミネートした。
【００５２】
ポリエチレンテレフタレートフイルムを剥離し、転写性について目視、光学顕微鏡及び電子顕微鏡により確認したところ、気泡の抱き込み等がなく、また、抜けのない、転写性に優れるものであった。
【００５３】
次いで、ピーク温度６００℃で焼成し、ガラス基板上に下地層を形成した。焼成後の膜厚は９±１μｍであり、表面平滑性に優れた下地層を形成できた。
【００５４】
（参考例）・・・（電極形成層形成用転写シート）
下記組成
・感光性樹脂（下記組成） ・・・・ ２０重量部
・銀粉（平均粒径１μｍ、粒径が１５μｍ以上の粒子が０重量％）
・・・・ ７０重量部
・ガラスフリット｛主成分；Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、Ｂ₂ Ｏ₃ （無アルカリ）平均粒径１μｍ、粒径が１５μｍ以上の粒子が０重量％、軟化点６００℃｝
・・・・ ５重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ・・・・ ２０重量部
（感光性樹脂内訳
・アルカリ現像型バインダーポリマー（メチルメタクリレート／メタクリル酸共 重合体にグリシジルアクリレートを７ｍｏｌ％添加したもの、酸価１００ｍｇ ＫＯＨ／ｇ） ・・ １００重量部
・ポリオキシエチル化トリメチロープロパントリアクリレート
・・・ ６０重量部
・光開始剤（チバガイギー社製「イルガキュア９０７」）
・・・ １０重量部）
の電極形成層形成用塗布液を、ポリエチレンテレフタレートフイルム上にスリットリバースコート法により塗布し、乾燥膜厚１５μｍの電極形成層を有する電極形成用転写シートを作製した。形成された電極形成層表面は、平滑性に優れるものであった。
【００５５】
実施例２において、ガラス基板上に転写形成した下地形成層上に、上記で作製した電極形成用転写シートを電極形成層側から９０℃の熱ロールを使用してラミネートした。
【００５６】
次いで、ポリエチレンテレフタレートフイルム上からＰＤＰのアドレス電極のネガパターンマスクを介して紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ² 照射した後、ポリエチレンテレフタレートフイルムを剥離し、０．５％炭酸ナトリウム水溶液現像液を使用し未露光部を剥離し、現像した。
【００５７】
得られたついてアドレス電極を目視、光学顕微鏡及び電子顕微鏡により確認したところ、抜けもなく、転写性に優れるものであった。
【００５８】
次いで、基板全体を６００℃で焼成し、膜厚９μｍの下地層と膜厚６μｍ、幅７０μｍのＰＤＰ用アドレス電極パターンを形成できた。
【００５９】
（比較例）
組成

をビーズミルを使用して混合分散処理した後、ポリエチレンテレフタレートフイルム上にコンマコート塗布し、１００℃で乾燥し、膜厚２０±２μｍのインキ層を形成した。形成されたインキ層表面はマット状であった。
【００６０】
次いで、オートカットラミネーター（旭化成（株）製、型式ＡＣＬ−９１００）を使用し、基板プレヒート温度８０℃、ラミロール温度１００℃の転写条件で、電極付きガラス基板上にラミネートした。ポリエチレンテレフタレートフイルムを剥離し、転写性について目視、光学顕微鏡及び電子顕微鏡により確認したところ、転写面に抜けが生じ、転写シートとしては使用できないものであった。
【００６１】
【発明の効果】
本発明の転写シートは、例えば、ＰＤＰ構成層を別途用意した転写シートにより形成するシステムに使用するのに適し、作製時間を短縮でき、歩留りを向上させることができると共に、転写抜け等がなく転写性に優れる転写シートとでき、また、転写により形成されるＰＤＰ構成層は、ベースフイルムの表面に対応したものであるので表面平滑性に優れ、かつ膜厚が均一で分布精度の良好なものとできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の転写シートをその断面で説明するための図である。
【図２】 ＡＣ型プラズマディスプレイパネルを説明するための図である。
【図３】 ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの他の例を説明するための図である。
【符号の説明】
１は前面板、２は背面板、３はセル障壁、４は維持電極、５はバス電極、６、６′は誘電体層、７はＭｇＯ層、８はアドレス電極、９は蛍光体層、１０は下地層、１１はベースフイルム、１２はインキ層である。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an underlayer, a dielectric layer, a barrier layer, an electrode layer or a field emission display (FED) in a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), a display such as a fluorescent display, a liquid crystal display, or a multilayer printed wiring board. The present invention relates to a transfer sheet suitable for forming an insulating layer or the like by transfer.
[0002]
[Prior art]
In PDPs and multilayer printed wiring boards, in general, a dielectric layer is used for the purpose of protecting the base layer and the insulation for the purpose of protecting the electrode layer by elution of alkali from the glass substrate, or from the viewpoint of controlling the driving voltage. It has in its layer structure. The structure will be described using a PDP as an example.
[0003]
FIG. 2 shows a configuration example of the AC type PDP. This figure shows a state in which the front plate and the back plate are separated from each other. Two glass substrates 1 and 2 are arranged in parallel and facing each other, and both are disposed on the glass substrate 2 serving as a back plate. Are held at a constant interval by cell barriers 3 provided in parallel to each other. On the back side of the glass substrate 1 serving as the front plate, a composite electrode composed of a transparent electrode 4 serving as a discharge sustaining electrode and a metal electrode 5 serving as a bus electrode is formed in parallel to each other, covering the dielectric layer 6 is formed, and a protective layer (MgO layer) is further formed thereon. Further, address electrodes 8 are formed in parallel with each other so as to be positioned between the cell barriers 3 so as to be orthogonal to the composite electrode through the front side of the glass substrate 2 serving as a back plate. A phosphor screen 9 is provided so as to cover the wall surface and the cell bottom surface.
[0004]
Further, as shown in FIG. 3, after forming a base layer 10 made of a dielectric on a glass substrate 2 serving as a back plate, an address electrode 8 is provided, and a dielectric layer 6 'is further laminated thereon, and then a cell is formed. Some have a structure in which a barrier 3 and a phosphor surface 9 are provided. This AC type PDP is a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between the composite electrodes on the front plate and an electric field leaks into the space. In this case, since alternating current is applied, the direction of the electric field changes corresponding to the frequency.
[0005]
The DC type PDP is different in that the electrode has a structure not covered with a dielectric layer, but the discharge phenomenon is the same. And the fluorescent substance 9 is light-emitted by the ultraviolet-ray which arises by this discharge, and an observer can visually recognize the light which permeate | transmits a front plate.
[0006]
Conventionally, such a layer is formed by screen printing using a thick film paste, but the problem is that the film thickness distribution is large, the surface irregularities such as meshes are large, and the mass productivity is inferior. Have
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is a transfer sheet suitable for use in a system for forming a constituent layer in a PDP or a multilayer electrode plate using a separately prepared transfer sheet, which can shorten the production time and eliminate transfer loss and the like. In addition, the present invention provides a transfer sheet capable of forming a layer with excellent surface smoothness, uniform film thickness, and good distribution accuracy.
[0008]
The transfer sheet of the present invention is a transfer sheet having an ink layer containing, on a base film, inorganic particles having at least glass frit and a resin removed by baking. The ink layer is based on 100 parts by weight of the inorganic particles. The inorganic particles having a particle size larger than the dry film thickness of the ink layer are contained in a proportion of 2 to 70 parts by weight of the resin removed by baking, and 4.0625% by weight to the total inorganic particles It is a ratio of 30% by weight and is characterized in that it is for producing a dielectric forming layer or a base forming layer in a plasma display panel.
[0009]
The transfer sheet is a transfer sheet for producing a plasma display panel.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a cross-sectional view of a transfer sheet of the present invention, in which 11 is a base film, and 12 is an ink layer. First, the case where the ink layer 12 is a base forming layer or a dielectric layer forming layer in a PDP will be described.
[0011]
The base film 11 is not affected by the solvent in the coating liquid for forming the ink layer, and it is necessary that the base film 11 is not contracted and stretched by the heat treatment in the solvent drying process and the transfer process, so that polyethylene terephthalate or 1,4-polycyclohexyl is required. Range methylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polystyrene, polypropylene, polysulfone, aramid, polycarbonate, polyvinyl alcohol, cellophane, cellulose derivatives such as cellulose acetate, polyethylene, polyvinyl chloride, nylon, polyimide, ionomer films and sheets Furthermore, metal foils, such as aluminum and copper, are illustrated, and the film thickness is 4 μm to 400 μm, preferably 4.5 μm to 200 μm.
[0012]
Next, the ink layer 12 includes at least inorganic particles having glass frit and a resin removed by baking.
[0013]
Examples of the glass frit include those having a softening point of 350 ° C. to 650 ° C. and a thermal expansion coefficient α ₃₀₀ of 60 × 10 ⁻⁷ / ° C. to 100 × 10 ⁻⁷ / ° C. If the softening point of the glass frit exceeds 650 ° C., it is necessary to increase the firing temperature, and it is not preferable because it may be thermally deformed depending on the object to be laminated, and if it is lower than 350 ° C., the thermoplastic resin etc. decomposes and volatilizes. Since the glass frit is previously fused and voids are generated in the layer, it is not preferable. Further, if the thermal expansion coefficient is outside the range of 60 × 10 ⁻⁷ / ° C. to 100 × 10 ⁻⁷ / ° C., in the case of PDP, the difference from the thermal expansion coefficient of the glass substrate is large, and distortion is caused. Absent.
[0014]
In addition to the glass frit, two or more kinds of inorganic aggregates and inorganic pigments may be mixed and used as the inorganic particles.
[0015]
The inorganic aggregate is added as necessary, and has a higher softening point than glass frit for the purpose of preventing casting during casting and improving the denseness. For example, inorganic aggregates such as aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, and calcium carbonate can be used. The use ratio of the inorganic aggregate is preferably 0 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the glass frit.
[0016]
In addition, as an inorganic pigment, for example, it is added as necessary in order to reduce external light reflection of PDP and improve practical contrast. Co-Cr-Fe, Co-Mn-Fe, Co-Fe-Mn-Al, Co-Ni-Cr-Fe, Co-Ni-Mn-Cr-Fe, Co-Ni-Al-Cr-Fe, Co -Mn-Al-Cr-Fe-Si etc. are mentioned. Examples of the fire resistant white pigment include titanium oxide, aluminum oxide, silica, calcium carbonate and the like.
[0017]
Next, as the resin to be removed by firing, it is the one to be removed by firing during the production of PDP or multilayer electrode plate, and a thermoplastic resin, a curable resin, or the like is used.
[0018]
These resins are included as binders for inorganic particles and for the purpose of improving transferability. Examples of thermoplastic resins include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl Acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-o Such as til acrylate, n-octyl methacrylate, n-decyl acrylate, n-decyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, N-vinyl-2-pyrrolidone, etc. Examples thereof include one or more polymers or copolymers, and cellulose derivatives such as ethyl cellulose.
[0019]
In particular, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate , Tert-butyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate and the like, a polymer or copolymer consisting of one or more, and ethyl cellulose are preferred.
[0020]
Moreover, as a curable resin, after hardening, it is decomposed | disassembled and removed at the time of baking, and a well-known ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin can be used. As the ionizing radiation curable resin, an ultraviolet ray or an electron beam curable resin can be used, and a composition in which a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule is appropriately mixed is used. Can be used. As prepolymers and oligomers, unsaturated polyesters such as condensation products of unsaturated dicarboxylic acids and polyhydric alcohols, methacrylates such as epoxy resins, polyester methacrylates, polyether methacrylates, polyol methacrylates, polyester acrylates, polyether acrylates, polyols Examples include acrylates such as acrylate.
[0021]
Monomers include compounds having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond. For example, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxy Propyl acrylate, isobornyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4- pig Diol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, Glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyltri Methylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetrio Triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diacrylate, diallyl fumarate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the above acrylate bodies were changed to methacrylate bodies. Or a mixture of two or more of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone and the like.
[0022]
In particular, in the case of an ultraviolet curable type, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, α -Aminoacetophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy- 2-methylpropiophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxy Tilacetal, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberon, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (P-azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propane Dione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2 (O-benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, naphthalenesulfonyl chloride, quinolinesulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azo Photoreductive dyes such as bisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenylsulfone, benzoyl peroxide, eosin, methylene blue and ascorbic acid, triethanol Examples include combinations of reducing agents such as amines, and one or more of these photoinitiators may be used in combination.
When a photosensitive resin is used as the curable resin, patterning of the electrode forming layer and the like can be performed through a mask.
[0023]
The use ratio of the inorganic particles and the resin is a ratio of 2 parts by weight to 70 parts by weight, preferably 5 parts by weight to 50 parts by weight of the resin with respect to 100 parts by weight of the inorganic particles. In the ink layer, if the resin is less than 2 parts by weight, the ink layer is poorly retained, particularly causing problems in storage and handling in the wound state, and if it exceeds 70 parts by weight, This is not preferable because carbon remains in the film and the quality deteriorates.
[0024]
In addition, a plasticizer, a dispersant, an anti-settling agent, an antifoaming agent, a release agent, a leveling agent, and the like are added to the ink layer as necessary.
[0025]
Plasticizers are added for the purpose of improving transferability and ink fluidity. For example, normal alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, diisodecyl phthalate Phthalates such as butyl benzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, tri-2-ethylhexyl trimellitate, tri-n-alkyl trimellitate, triisononyl trimellitate Trimellitic acid esters such as tate, triisodecyl trimellitate, dimethyl adipate, dibutyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, diisodecyl adipate, dibutyl diglycol adipate, di -Ethylhexyl azetate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di-2-ethylhexyl malate, acetyl-tri- (2-ethylhexyl) citrate, acetyl-tri-n-butyl citrate, acetyl tributyl Aliphatic dibasic esters such as citrate, polyethylene glycol benzoate, glycol derivatives such as triethylene glycol di- (2-ethylhexoate), polyglycol ether, glycerol such as glycerol triacetate and glycerol diacetyl monolaurate Derivatives, polyesters composed of sebacic acid, adipic acid, azelaic acid, phthalic acid, low molecular weight polyethers having a molecular weight of 300 to 3,000, low molecular weight poly-α-styrene, low molecular weight polymers Restyrene, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate, 2- Orthophosphoric acid esters such as ethylhexyl diphenyl phosphate, ricinoleic acid esters such as methylacetylricinoleate, poly-1,3-butanediol adipate, polyester / epoxidized esters such as epoxidized soybean oil, glycerin triacetate, 2- Examples include acetates such as ethylhexyl acetate.
[0026]
The dispersant and the anti-settling agent are intended to improve the dispersibility of the inorganic particles and the anti-settling property, and examples thereof include phosphate ester-based, silicone-based, castor oil ester-based, various interfacial lubricants, and the like. Examples of the antifoaming agent include silicone-based, acrylic-based and various interfacial lubricants, and examples of the release agent include silicone-based, fluorine oil-based, paraffin-based, fatty acid-based, fatty acid ester-based, castor oil-based, wax. Examples of the leveling agent include fluorine-based, silicone-based, various interfacial slipping agents, and the like, each of which is added in an appropriate amount.
[0027]
The above forming materials are methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, cyclohexanone and other anones, methylene chloride, 3-methoxybutyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol alkyl ether acetates, Diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether acetates, α- or β- Dissolve or disperse in terpenes such as terpione, and apply DAIKO on the base film. Coating, blade coating, comma coating, roll coating, gravure reverse coating method, gravure direct method, slit reverse method, etc., and drying to obtain a predetermined film thickness.
[0028]
Next, the case where the ink layer 12 is an electrode forming layer in the PDP will be described. The electrode forming layer is composed of at least inorganic particles made of glass frit, a resin removed by baking, conductive particles, and, if necessary, a thickener.
[0029]
First, the case where the resin removed by baking is a thermoplastic resin will be described. As the inorganic particles, the same glass frit, inorganic aggregate and inorganic pigment as described above can be used, and the inorganic aggregate is preferably 0 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the glass frit. Further, as the thermoplastic resin, the same resin as that in the dielectric layer forming layer described above is used, and the content of the resin component in the electrode forming layer forming paste is 2 to 70% by weight, preferably 5 to 50%. % By weight.
[0030]
Examples of the conductive particles include spherical metal particles such as gold, silver, copper, nickel, and aluminum. The glass frit may be 2 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductive particles.
[0031]
Thickeners are those that increase viscosity, and known ones can be used, such as hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate, casein, sodium caseinate, xanthan gum, polyvinyl alcohol, modified polyetherurene, Polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, montotalonite, aluminum stearate, zinc stearate, aluminum octylate, water-added castor oil, castor oil ester, fatty acid amide, oxidized polyethylene, dextrin fatty acid ester, dibenzylidene sorbitol, vegetable oil-based polymerization Examples thereof include fine powders of oil, surface-treated calcium carbonate, organic bentonite, silica, titania, zirconia, alumina, and the like. The content of the thickener is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, and less than 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductive powder. If there is no thickening effect and the amount is more than 20 parts by weight, the characteristics as an electrode are adversely affected such as disconnection.
[0032]
In addition, a plasticizer, a dispersing agent, an anti-settling agent, an antifoaming agent, a release agent, and a leveling agent may be added to the electrode forming layer in order to improve the coating property and the like. The same thing as described in the body layer forming layer is mixed with the same solvent and kneaded by a roll mill to obtain a paste-like coating liquid, or kneaded by a pole mill or the like to obtain a slurry-like coating liquid.
[0033]
Next, the case where the resin removed by baking is a curable resin will be described. The curable electrode forming layer forming paste includes at least inorganic particles made of glass frit, a curable resin, and conductive particles.
[0034]
As the inorganic particles, the same glass frit, inorganic aggregates, and inorganic pigments as those described for the inorganic particles in the dielectric layer forming layer described above can be used. Moreover, as curable resin, the curable resin described in the dielectric material layer formation layer mentioned above can be used similarly. The content of the curable resin in the electrode forming layer forming paste is 5 to 95% by weight, preferably 10 to 50% by weight. The conductive particles are the same as described above, and the content of the conductive powder in the electrode forming layer forming paste is 95 to 30% by weight, preferably 95 to 60% by weight.
[0035]
In addition, a plasticizer, a dispersant, an anti-settling agent, an antifoaming agent, a release agent, and a leveling agent may be added to the electrode forming layer forming paste as necessary. Similarly, the layers are mixed with a solvent and kneaded with a roll mill to form a paste-like coating liquid, or kneaded with a pole mill or the like to form a slurry-like coating liquid.
[0036]
The coating liquid is a method using intaglio offset printing described in Japanese Patent Application No. 8-124003, or a method using an intaglio roll described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-32476. The electrode forming layer is patterned on the base film. In the method using an intaglio roll, a photosensitive curable resin is preferably used as the resin removed by baking. In addition, when the resin to be removed by baking is a thermoplastic resin, electrode patterning may be performed by a photolithography method. In the case of a photosensitive resin, pattern exposure is performed through a mask. Alternatively, an electrode pattern shape may be used. Furthermore, after the coating liquid is solid-coated on the base film and transferred to the substrate, the electrode forming layer may be formed into an electrode pattern shape by photolithography.
[0037]
In such a PDP production transfer sheet, when the ink layer 12 is a base forming layer, the dry film thickness is 5 to 30 μm, preferably 15 to 25 μm. In the case of the dielectric layer forming layer, the dry film thickness is 5 μm to 30 μm, preferably 8 μm to 25 μm. In the case of the electrode forming layer, the dry film thickness is 2 μm to 15 μm, preferably 3 μm to 8 μm.
[0038]
The transfer sheet of the present invention has a large particle size of inorganic particles such as glass frit in the ink layer component, inorganic aggregate added as needed, inorganic pigment, etc., relative to the desired dry film thickness of the ink layer. The content of the inorganic particles is 30% by weight or less, preferably 0% by weight, based on the total inorganic particles. When inorganic particles having a particle size larger than the dry film thickness of the ink layer are contained in an amount of more than 30% by weight, the transfer layer surface becomes mat-shaped and difficult to transfer, and bubbles are mixed during transfer. The problem of transfer failure occurs.
[0039]
Therefore, the inorganic particles are used by selecting particles having a particle size distribution of glass frit, inorganic aggregate, and inorganic pigment each having a ratio of particles larger than a desired dry film thickness of 30% by weight or less. The particles having a particle size larger than the desired dry film thickness may be removed by sieving using the method.
[0040]
In the transfer sheet of the present invention, a protective film may be laminated on the ink layer 12 as necessary, and the protective film may be laminated on the ink layer 12 via an adhesive layer as necessary. Good. Further, for the purpose of improving transferability, a peeling layer may be provided between the ink layer 12 and the base film 11 as necessary, and further, the surface opposite to the surface of the base film 11 on which the ink layer 12 is provided. A heat-resistant layer may be provided on the side surface as necessary.
[0041]
The transfer sheet of the present invention is used to transfer the ink layer onto a PDP substrate by a method such as a hot roll, a laser beam, a thermal head, or a hot press when the PDP layer structure is laminated. The surface of the ink layer is smooth, has excellent transferability, and does not entrain bubbles or the like.
[0042]
Each ink layer transferred onto the PDP substrate vaporizes, decomposes and volatilizes organic components such as resin in the ink layer at a baking temperature of 350 ° C. to 650 ° C., and the inorganic aggregate is densely formed by the molten glass frit. The surface of the transferred ink layer can also be a smooth surface corresponding to the smoothness of the base film.
[0043]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.
[0044]
Example 1 (Transfer sheet for forming a dielectric layer)
composition

After being mixed and dispersed using a bead mill, a comma coat was applied onto a polyethylene terephthalate film and dried at 100 ° C. to form an ink layer having a thickness of 20 ± 2 μm. The surface of the formed ink layer was excellent in smoothness. A polyethylene film was laminated on the surface of the ink layer to produce a transfer sheet of the present invention.
[0045]
When the obtained transfer sheet was subjected to a bending test (JIS K5400 6.16 bending resistance test), it withstood 10 mm and the ink layer was not peeled off and was held well.
[0046]
Next, the polyethylene film was peeled off and laminated on a glass substrate with an electrode using an auto-cut laminator (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., model ACL-9100) under transfer conditions of a substrate preheating temperature of 80 ° C. and a laminol temperature of 100 ° C. .
[0047]
The polyethylene terephthalate film was peeled off and the transferability was confirmed by visual observation, an optical microscope and an electron microscope.
[0048]
Next, firing was performed at a peak temperature of 570 ° C. to form a dielectric layer. The film thickness after firing was 10 ± 1 μm, and a dielectric layer excellent in surface smoothness could be formed.
[0049]
(Example 2) (Transfer sheet for forming the underlayer)
composition

After being mixed and dispersed using a bead mill, it was roll-coated on a polyethylene terephthalate film and dried at 100 ° C. to form an ink layer having a thickness of 20 ± 2 μm. The surface of the formed ink layer was excellent in smoothness. A polyethylene film was laminated on the surface of the ink layer to produce a transfer sheet of the present invention.
[0050]
When the obtained transfer sheet was subjected to a bending test (JIS K5400 6.16 bending resistance test), it withstood 10 mm and the ink layer was not peeled off and was held well.
[0051]
Subsequently, the polyethylene film was peeled off and laminated on a glass substrate using an autocut laminator (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., model ACL-9100) under transfer conditions of a substrate preheating temperature of 60 ° C. and a lamellar temperature of 100 ° C.
[0052]
The polyethylene terephthalate film was peeled off, and the transferability was confirmed by visual observation, an optical microscope and an electron microscope. As a result, there was no inclusion of bubbles and the transferability was excellent.
[0053]
Next, the substrate was baked at a peak temperature of 600 ° C. to form an underlayer on the glass substrate. The film thickness after firing was 9 ± 1 μm, and an underlayer excellent in surface smoothness could be formed.
[0054]
(Reference example) ... (Transfer sheet for forming electrode forming layer)
The following composition ・ Photosensitive resin (the following composition) ・ ・ ・ ・ 20 parts by weight ・ Silver powder (average particle diameter is 1 μm, particles having a particle diameter of 15 μm or more is 0% by weight)
··· 70 parts by weight · Glass frit {main component; Bi ₂ O ₃ , SiO ₂ , B ₂ O ₃ (non-alkali) average particle size 1 µm, particles with a particle size of 15 µm or more 0% by weight, softening point 600 ° C}
··· 5 parts by weight · Propylene glycol monomethyl ether ··· 20 parts by weight (Breakdown of photosensitive resin · Alkali developable binder polymer (methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer with 7 mol% glycidyl acrylate added, acid 100 mg KOH / g) ・ ・ 100 parts by weight ・ Polyoxyethylated trimethylopropane triacrylate
... 60 parts by weight-Photoinitiator ("Irgacure 907" manufactured by Ciba Geigy)
... 10 parts by weight)
The electrode forming layer forming coating solution was applied on a polyethylene terephthalate film by a slit reverse coating method to prepare an electrode forming transfer sheet having an electrode forming layer having a dry film thickness of 15 μm. The formed electrode forming layer surface was excellent in smoothness.
[0055]
In Example 2, the electrode-forming transfer sheet prepared above was laminated on the base-forming layer transferred and formed on the glass substrate using a 90 ° C. hot roll from the electrode-forming layer side.
[0056]
Next, after irradiating the polyethylene terephthalate film with 700 mJ / cm ^{2 of} ultraviolet light through the negative pattern mask of the PDP address electrode, the polyethylene terephthalate film was peeled off, and the unexposed area was removed using a 0.5% aqueous sodium carbonate developer. Was peeled off and developed.
[0057]
When the obtained address electrode was confirmed by visual observation with an optical microscope and an electron microscope, it was found that the address electrode was not missing and was excellent in transferability.
[0058]
Next, the whole substrate was baked at 600 ° C., and an address layer electrode for PDP having a thickness of 9 μm and a thickness of 6 μm and a width of 70 μm could be formed.
[0059]
(Comparative example)
composition

After being mixed and dispersed using a bead mill, a comma coat was applied onto a polyethylene terephthalate film and dried at 100 ° C. to form an ink layer having a thickness of 20 ± 2 μm. The surface of the formed ink layer was matte.
[0060]
Next, an auto-cut laminator (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., model ACL-9100) was used and laminated on a glass substrate with an electrode under transfer conditions of a substrate preheating temperature of 80 ° C. and a lami roll temperature of 100 ° C. The polyethylene terephthalate film was peeled off and the transferability was confirmed by visual observation, an optical microscope and an electron microscope. As a result, the transfer surface was missing and could not be used as a transfer sheet.
[0061]
【The invention's effect】
The transfer sheet of the present invention is suitable for use in, for example, a system in which a PDP constituent layer is formed by a separately prepared transfer sheet, can reduce the production time, improve the yield, and transfer without any transfer omission. The PDP constituent layer formed by the transfer corresponds to the surface of the base film, so it has excellent surface smoothness, uniform film thickness and good distribution accuracy. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view for explaining a transfer sheet of the present invention in a cross section thereof.
FIG. 2 is a diagram for explaining an AC type plasma display panel.
FIG. 3 is a diagram for explaining another example of an AC type plasma display panel.
[Explanation of symbols]
1 is a front plate, 2 is a back plate, 3 is a cell barrier, 4 is a sustain electrode, 5 is a bus electrode, 6 and 6 'are dielectric layers, 7 is an MgO layer, 8 is an address electrode, 9 is a phosphor layer, 10 is a base layer, 11 is a base film, and 12 is an ink layer.

Claims (1)

ベースフイルム上に、少なくもガラスフリットを有する無機粒子および焼成により除去される樹脂とを含有するインキ層を有する転写シートにおいて、該インキ層が無機粒子１００重量部に対して焼成により除去される樹脂を２重量部〜７０重量部の割合で含有すると共に、該インキ層の乾燥膜厚より粒子径が大である無機粒子が、全無機粒子中４．０６２５重量％〜３０重量％の割合であり、プラズマディスプレイパネルにおける誘電体形成層または下地形成層作製用であることを特徴とする転写シート。In a transfer sheet having an ink layer containing inorganic particles having at least glass frit and a resin to be removed by baking on a base film, the resin from which the ink layer is removed by baking with respect to 100 parts by weight of the inorganic particles In an amount of 4.0625 wt% to 30 wt% of the total inorganic particles. Ri, transfer sheet, wherein the dielectric layer or the undercoat layer der Rukoto for manufacturing the plasma display panel.

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