KR102299870B1 - 헤어 처리 디바이스 - Google Patents

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Abstract

적어도 하나의 헤어 타래를 처리하기 위한 디바이스로서, - 헤어 타래를 수용하도록 된 수용 표면을 갖는, 기계적 응력을 헤어에 적용하기 위한 적어도 하나의 디바이스 (20) 로서, 상기 표면은 상기 타래에 수직인 방향으로 폭 (L) 이 보다 큰, 상기 적어도 하나의 디바이스 (20), - 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 와 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 마이크로파 차폐 챔버, - 챔버 내부에 배치된 마이크로파 방출 안테나 (30) 를 포함하고, 상기 안테나는 적어도 L/2 인 거리 (D) 에 걸쳐 축선 방향으로 연장된다.

Description

헤어 처리 디바이스
본 발명은 헤어 처리 프로세스들 및 디바이스들에 관한 것이다.
오래 지속되는 헤어 셰이핑을 위한 미용 처리는 주로 화학 제품들을 사용하여 수행된다.
케라틴 (시스틴) 에 존재하는 -S-S- 디술피드 본드들의 분열에 모두 기반한 두 가지 기술이 일반적으로 영구적인 헤어 재셰이핑을 위해 사용된다.
제 1 기술은 예를 들어 티오글리콜산 유형의 환원제를 포함하는 조성물을 사용하여 디술피드 본드들을 개방하는 것으로 구성된 제 1 단계를 포함한다. 이런 제 1 환원 단계는 일반적으로 8 내지 9 의 pH 에서 수행된다.
그 후, 이런 제 1 기술은 바람직하게 헤어를 헹군 후, 고정제로서 알려진 산화 조성물을 헤어에 적용하여 디술피드 본드들을 재구성하는 것으로 구성된 제 2 단계를 포함한다. 헤어는 환원 조성물을 적용하기 전 컬러들 (curlers) 과 같은 적절한 디바이스들에 의해 응력을 받거나 곧게 펴질 수 있다. 산화 단계는 약 3 의 pH 에서 수행될 수도 있고 새로운 디술피드 브리지들의 형성을 가능하게 할 수 있어서 머리카락을 원하는 형상으로 유지할 수 있게 한다.
제 2 기술은 수산화물 군에 속하는 염기를 포함하는 조성물을 사용하여 란티오닌화 (lanthionization) 하는 단계를 포함한다. 란티오닌화 단계는 일반적으로 약 13 의 염기성 pH 에서 수행된다. 란티오닌화는 디술피드 브리지들을 모노술피드 브리지들로 변환하는 것이다. 이런 유형의 처리는 주로 자연스럽게 곱슬곱슬한 헤어를 셰이핑하는데 사용된다.
셰이핑 내구성 면에서 만족스러운 성능을 얻기 위해서, 종래 기술에 공지된 처리들에 사용된 조성물들은 비교적 고농도의 화학 활성제들 (예를 들어, 환원제들 또는 수산화물 화합물들) 을 포함할 수도 있다. 따라서, 티오글리콜산은 특정 조성물들에서 6% 내지 11% 의 질량 농도로 사용되고 수산화나트륨은 2% 로 사용될 수 있다.
티오글리콜산을 포함하는 제품들은 적용하는 동안 존재할 수도 있는 불쾌한 냄새를 가지며, 일단 처리가 수행되면 헤어에서 또한 지속될 수도 있다.
또한, 전술한 처리는 헤어 섬유의 고유 특성들의 변화에 의해 유도된 비가역적인 헤어 분해를 유발할 수도 있다.
이런 처리들은, 정확히 수행되지 않으면, 화학 활성제들의 비교적 높은 농도로 인해 두피에 또한 자극을 줄 수도 있다.
따라서, 화학 시약들과 접촉 시간을 줄이기 위해서 그리고/또는 이들의 농도 감소를 가능하게 하기 위해서 이 프로세스들을 활성화할 필요성이 있다.
따라서, 이런 프로세스들을 활성화하기 위해서 처리 중 열을 공급하는 것은 공지된 관행이다. 열을 제공하기 위한 공지된 기술은 미용 성능 품질을 개선시키는 것을 가능하게 할 수 있지만, 항상 고농도의 화학 활성제들을 포함하며 따라서 전술한 처리들과 동일한 결점들을 가질 수도 있다.
문헌들 WO 2002/051 281, US 2006/0 042 649, US 2004/0 250 830, WO 2002/100 210, US 2000/680 432, US 6 079 422, US 5 988 182, US 5 819 763, US 5 773 802, US 5 676 871, JP 09075125, JP 09051813, AU 9664467, US 5 494 598, EP 197 824, US 4 710 609, US 4 743 726, US 4 952 360, US 5 030 820 및 US 5 286 949 는 가정용 전자레인지에서 가열된 후 건조 및 헤어 세팅에 사용될 수도 있는 물건들, 예를 들어, 컬러들을 기술한다.
미국 특허 제 3,958,340 호는 마이크로파 방사선에 의해 가열된 공기를 사용하여 가발을 신속하게 건조시키는 프로세스를 기술한다.
특허 CH 541 304 는 타래 (lock) 지지 표면 및 커플링 부품을 둘러싸는 실질적으로 전자기적으로 폐쇄된 공진기 또는 공진기 내 어댑터를 포함하는 헤어 처리 디바이스를 기술한다. 공진기는 커플링 부품에 연결된 전송선에 의해 고주파 교류 발생기에 연결되고, 커플링 부품은 공진기의 특징들을 발생기 및 전송선의 특성들과 일치시킨다.
FR 2 118 945 는 공진기를 형성하는 실질적으로 전자기적으로 폐쇄된 엔벨로프 및 상기 공진기에서 소산된 고주파 에너지를 발생시키기 위한 수단을 포함하는 헤어 처리 디바이스를 개시한다. 전자기적으로 폐쇄된 엔벨로프로 발생된 고주파 전자기 에너지를 도입하기 위한 전기 코일들은 절연 재료로 제조된 코어에 의해 지지되고, 처리될 헤어 타래가 코어 둘레에 감겨진다. 공진기는 그것의 중심에 커플링 요소를 포함할 수도 있다.
특허 출원 US 2007/0 056 960 은 마이크로파를 사용하여 젖은 헤어 타래를 컬링하고, 곧게 펴고 건조시키는 셰이핑 도구를 기술한다. 이 도구는 마그네트론이 내부에 배치되어 있고 헤어 타래가 주위에 감겨 있는 챔버를 포함한다. 변형예로서, 마그네트론은 챔버 외부에 배치되고, 챔버 내로 연장되는 도파관에 의해 연결된다.
특허 DE 3148538 은, 헤어 타래가 둘레에 감겨 있는, 벽으로 보호된 원통형 도구를 기술한다. 타래는 실린더와 벽 사이 공간으로 확산된 마이크로파를 사용하여 건조되어 세팅된다.
출원 FR 2 178 049 는 다양한 재료들에서 전자기 에너지를 방출하기 위한 디바이스들을 개시한다.
또한, 전자기 방사선을 사용하여 헤어를 가열 및 건조하기 위한 프로세스들은 FR 2 114 540 및 FR 2 118 945 에 공지되어 있다.
출원 FR 2 959 917 은 마이크로파로 헤어를 처리하기 위한 프로세스를 기술한다.
영구적으로 헤어를 재셰이핑하기 위한 신규한 프로세스들 및 디바이스들에 대한 필요성이 있다. 화학 제품들의 사용을 최소화하거나 심지어 제거하는 동시에 개선된 지속적인 셰이핑 성능을 얻기 위한 프로세스들을 제공하는데 특히 관심이 있다.
본 발명은 이러한 필요성을 충족하기 위한 것이다.
제 1 양태에 따르면, 본 발명은 적어도 하기로 구성된 단계들을 포함하는 헤어를 처리하기 위한 미용 프로세스에 관한 것이다:
a) 헤어 타래를 수용하도록 된 수용 표면을 가지는, 기계적 응력 적용 디바이스를 통하여, 적어도 하나의 헤어 타래에 기계적 응력을 적용하는 단계로서, 이 표면은 상기 타래에 수직인 방향으로 폭 (L) 이 보다 큰 단계,
b) 기계적 응력 적용 디바이스 내부에 배치된 마이크로파 방출 안테나에 의해 이와 같이 기계적 응력을 받는 헤어를 마이크로파에 노출하는 단계로서, 이 안테나는 적어도 L/2 인 거리 (D) 에 걸쳐 축선 반향으로 연장되고, 기계적 응력 적용 디바이스 및 처리될 타래의 적어도 일부는 마이크로파 차폐 챔버에 수용되는 단계.
본 발명은 일부 공지된 처리들보다 두피 및 헤어에 덜 공격적인 오래 지속되는 헤어 셰이핑 처리를 허용할 수도 있다.
특히, 마이크로파의 존재 하에 헤어에 기계적 응력을 적용하면 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물이 실제로 존재하지 않을 때 오래 지속되고 개선된 헤어 셰이핑을 획득하는 것을 가능하게 한다.
비교적 긴 안테나를 갖는 마이크로파의 방출은 파 및 대응하는 가열의 보다 균일한 분포를 얻는 것을 용이하게 한다. 바람직하게, 안테나는 L 의 적어도 60%, 보다 양호하게 70%, 보다 더 양호하게 80% 인 거리 (D) 에 걸쳐 축선 방향으로 연장된다. 안테나의 축선 방향 연장부는 바람직하게 어떤 것에도 연결되지 않은, 즉 연장부의 자유 단부와 자유 단부에 대향한 연결된 단부 사이에서 측정되고, 안테나의 연결된 단부는 예를 들어 도파관을 통하여 RF 발생기에 연결된다.
"헤어에 적용된 기계적 응력" 이라는 표현은 상기 헤어 길이의 적어도 일부에 적용된 기계적 응력을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 고려되는 실시형태와 관계 없이, 단계 a) 에서 처리된 헤어는 한 가지 이상의 기계적 구속들 (constraints) 을 부여받을 수도 있다. 기계적 구속(들)은 벤딩, 스트레이트닝, 압축, 토션 및/또는 트랙션 구속들에서 선택될 수도 있다. 적용된 구속들은 헤어를 컬링하거나 반대로 헤어를 펴기 위한 것일 수 있다. 적용된 구속들은 또한 헤어 길이의 일 부분에 대해 헤어를 컬링하고 헤어 길이의 다른 부분에 대해 헤어를 펴도록 의도될 수도 있다.
마이크로파
"마이크로파" 라는 용어는 500 ㎒ 내지 300 ㎓ 의 주파수를 갖는 전자기 방사선을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.
단계 b) 동안 마이크로파 주파수는 우선적으로 1 ㎓ 내지 10 ㎓ 이며, 더 양호하게 2 ㎓ ~ 3 ㎓ 의 범위에 있으며, 특히 엄격히 2 ㎓ 보다 크고 3 ㎓ 미만이며, 예를 들어 약 2.45 ㎓ 이다.
단계 b) 동안 사용된 마이크로파의 전력은 500W 이하, 바람직하게는 30 내지 300W, 더 양호하게는 100 ~ 250W, 보다 더 양호하게는 100 ~ 200W 또는 100 내지 175W 일 수도 있다. 100W 보다 우수한 전력은 제한된 기간에 헤어를 보다 효율적으로 처리할 수 있는 장점을 갖는다.
마이크로파는 기계적 응력 적용 디바이스 또는 마이크로파 차폐 챔버 내부에서 또는 마이크로파 발생기, 예를 들어, 마그네트론과 같은 고체 상태 발생기에 의해 외부에서 발생될 수도 있다. 외부 마이크로파 발생기는 특히 가요성 도파관들에 의해 본 발명에 따른 하나 이상의 디바이스를 공급할 수 있다.
바람직하게, 발생기는 챔버 외부에 있다.
이 경우에, 발생기는 복수의 안테나들에 연결될 수 있고, 각각의 안테나는 기계적 응력 적용 디바이스에 링크된다.
각각의 안테나는 발생기에 대응하는 고주파 스테이지에 연결될 수 있다.
변형예에서, 여러 안테나들이 발생기의 하나의 동일한 고주파 스테이지에 연결될 수 있다.
다른 변형예에서, 발생기는 챔버 내부에, 특히 기계적 응력 적용 디바이스 내부에 위치된다.
본 발명의 바람직한 일 실시형태에 따르면, 마이크로파 방출은 비선형, 바람직하게는 나선형 안테나에 의해 실시된다.
안테나는 루프들의 지지를 위한 임의의 홀딩 또는 로드를 요구하지 않도록, 예를 들어 1 내지 3 ㎜ 의 직경을 갖는 충분히 강성의 와이어로 형성될 수도 있다. 일 변형예에서, 안테나는, 특히 나선형인, 지지 구조체 상에 배치된 가요성 와이어 또는 전도성 부분을 포함한다. 이 지지 구조체는 임의의 유전 재료로 만들어질 수도 있고, 바람직하게 PTFE 또는 유리로 만들어질 수도 있다.
안테나는, 그것이 나선형일 때, 예를 들어 4 내지 5 ㎜ 의 고정된 나선형 피치를 바람직하게 갖는다. 나선의 반경은 바람직하게 일정하고, 예를 들어 4 내지 10 ㎜ 이다. 안테나의 손상은 예를 들어 8 내지 10 ㎜ 이다.
안테나의 축선 방향 연장부는 예를 들어 50 ㎜ 내지 80 ㎜ 이고, 보다 더 양호하게는 65 ㎜ 내지 75 ㎜ 이다.
안테나는 특히 일 단부가 폐쇄된 튜브에 배치될 수도 있다. 이 튜브는 PTFE 또는 다른 유전 재료로 만들어질 수도 있다.
안테나는 바람직하게 가요성인, 특히 실리콘인 유전 재료에 또한 임베딩 (embed) 될 수도 있다.
나선형 안테나 형상은, 제조하기에 용이하고 안테나가 기계적 응력 적용 디바이스로 삽입하기에 적합한 비교적 작은 직경을 유지할 수 있도록 허용하고, 비교적 균일한 마이크로파 분포를 획득하는 것을 가능하게 한다는 점에서 특히 유리하다.
상기 단계 a) 중, 마이크로파 방사선은 이미 존재할 수도 있고 또는 존재하지 않을 수도 있다. 환언하면, 단계 a) 및 단계 b) 는 동시에 또는 연속적으로 일어날 수도 있다.
기계적 응력 적용
적용된 기계적 응력은 다른 기계적 작용들간 벤딩, 인장, 비틀림 및/또는 압축일 수도 있다.
바람직하게, 기계적 응력 적용 디바이스는 컬러이다. "컬러" 라는 용어는 규정된 직경에 따라 디바이스의 종방향 축선 둘레에 헤어를 감아서, 직경에 의존하는 기계적 응력을 생성하기 위한 디바이스를 나타낸다. 기계적 응력 적용 디바이스가 컬러일 때, 안테나가 나선형인 것이 가장 특히 유리하다.
안테나의 축선 방향 치수는, 특히 기계적 응력 적용 디바이스가 컬러 유형일 때, 상기 디바이스의 길이 (N) 의 적어도 50%, 바람직하게 적어도 70% 이다.
처리 디바이스는 여러 기계적 응력 적용 디바이스들을 사용할 수 있도록 구성될 수도 있다. 이 적용 디바이스들은 예를 들어 헤어를 컬링하거나 반대로 헤어를 펴는 역할을 하는 상이한 구속들을 가할 수 있다. 기계적 응력 적용 디바이스들은 사용자에 의해 교환될 수 있다.
기계적 응력 적용은 마이크로파에 노출 중 처리된 헤어를 평평하게 두도록 적절히 구성될 수도 있다.
처리 디바이스는 사용된 구속 적용 디바이스를 적절한 경우 예를 들어 전기 접촉부들 또는 하나 이상의 스위치들에 의해 자동으로 인식하도록 배열될 수도 있다.
적절한 경우, 기계적 응력 적용 디바이스 및 안테나는 챔버 내로 도입되는 유닛 어셈블리를 형성한다. 특히 상기 디바이스에 대해 가능한 최선의 방식으로 안테나를 배열하기 위해서, 각각의 기계적 구속 적용 디바이스에 특정한 안테나를 가질 수 있다.
기계적 구속 적용 디바이스는 그것이 컬러로 구성될 때 2 개의 환형부들을 연결하는 여러 가요성 브랜치들을 포함할 수 있다. 브랜치들은 헤어를 수용하기 위한 표면을 규정한다. 이 표면은 치형부들에 의해 방사상으로 구획될 수 있고 상기 치형부들은 그것들의 베이스에서 대응하는 환형부에 연결된다. 센터링 블록들은 환형부들에 만들어질 수 있다. 이 블록들은 또한 적절히 헤어를 유지하기 위한 탄성 밴드들을 부착하는 역할을 할 수 있다.
기계적 구속 적용 디바이스는 PTFE 또는 다른 유전 재료, 특히 열가소성 수지로 만들 수 있다.
용매
바람직하게, 단계 b) 에서 마이크로파에 대한 노출은 헤어와 접촉하는 용매의 존재 하에 실시된다.
용매는 바람직하게 처리 중 증기 형태이다.
용매는 처리된 헤어와 접촉시 마이크로파의 방출 전 존재하는 화합물일 수 있다.
바람직하게, 처리된 헤어는 마이크로파의 전체 작용을 통해 완전히 건조되지 않는다. 환언하면, 헤어는 바람직하게 상기 노출 동안 항상 용매로 함침된 상태로 유지된다.
용매로 헤어 함침을 용이하게 하기 위해서, 용매는 기계적 응력을 적용하기 전 헤어에 분무될 수 있다.
바람직하게, 마이크로파에 대한 노출을 통하여 헤어를 완전히 건조하지 않으면서 처리가 실시된다. "헤어를 완전히 건조하지 않으면서" 이라는 표현은 단계 b) 후 헤어가 축축한 느낌이 드는 것을 의미한다. 따라서, 헤어는 단계 b) 전 존재하는 액체 화합물의 중량의 적어도 1%, 특히 적어도 2% 또는 심지어 5% 를 그와 접촉시 보존할 수 있고, 상기 액체 화합물들은 처리 전 헤어의 자연 습도를 증가시킨다.
마이크로파 차폐 챔버
챔버는 적어도 단계 b) 동안 처리될 헤어 및 기계적 응력을 적용하기 위한 디바이스를 포함한다.
"헤어를 함유한다" 라는 용어는 헤어 길이의 전부 또는 일부에 걸쳐 그리고 주어진 폭에 걸쳐 헤어를 함유하는 의미로서 이해되어야 한다.
챔버는 예를 들어 5 ㎝ 이상의 길이에 걸쳐 헤어를 커버할 수 있다. 따라서, 적어도 5 ㎝ 길이의 헤어가 챔버에 처리될 수 있다.
챔버는 마이크로파의 방출 중 처리된 헤어에 대해 움직일 수 없거나 헤어에 대해 움직일 수 있어서, 보다 긴 길이의 헤어를 처리하는 것을 가능하게 한다. 챔버는 증기 형태로 전술한 용매를 외부 환경으로 방출하지 않도록, 또는 예를 들어 용매의 재순환에 의해 소량만 방출하도록 구성될 수 있으며, 용매의 응축 후, 예를 들어, 증기 또는 액체 형태로, 재순환이 일어난다.
챔버는 증기 형태의 용매를 흡수하도록 구성된 재료를 포함할 수도 있다. 챔버는 용매가 응축되는 냉각 벽 및/또는 증기 형태의 용매를 흡입하기 위한 루프를 포함할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 프로세스는 단계 b) 중 및/또는 후에 예를 들어 증기 및/또는 액체 형태의 그리고/또는 재료에 흡수된 용매를 재수집하는 단계를 포함할 수도 있다.
챔버는 예를 들어 탄성적으로 변형 가능한 도전성 재료의 적어도 하나의 시일을 포함할 수 있어서, 단계 b) 동안 사용된 마이크로파를 차단하면서 헤어가 챔버에서 리브 (leave) 되는 것을 허용할 수 있다. 시일은 도전성 입자들로 충전된 발포체, 도전성 강모들로 형성된 브러시 또는 금속 치형부들을 포함하는 콤 (comb) 을 포함할 수도 있다.
헤어 출구 슬릿으로 주행하도록 배치되는 전도성 발포체로 구속 적용 디바이스를 수용한 하우징을 코팅할 수 있다. 이것은 슬릿에서 발포체의 변형 가능성에 의하여 양호한 폐쇄 시일을 얻는 것을 가능하게 한다.
챔버가 후드의 형태일 때, 챔버는 처리된 헤어가 통과할 수 있는 전자기 차폐부를 포함할 수도 있다. 이러한 차폐부는 방출된 마이크로파로부터 사용자의 두개골을 보호하면서 사용자의 헤어를 처리할 수 있게 한다.
전자기 차폐부는, 예를 들어, 그레이트 또는 금속 그레이팅에 의해 형성된다.
다양한 특징들
프로세스를 수행하기 위한 처리 디바이스는, 예를 들어 챔버에서 마이크로파 누출 및/또는 챔버 내부의 과도한 온도를 사용자에게 경고하기 위한 청각 및/또는 발광 경고 시스템을 포함할 수도 있다.
처리 디바이스는 유리하게도 챔버가 폐쇄되지 않은 동안 그리고/또는 비정상적 작동, 예를 들어 마이크로파 누출, 과도한 온도의 경우에 그리고/또는 용매의 부재시 마이크로파의 방출을 방지하기 위한 안전 시스템을 포함한다.
처리 디바이스는 헤어를 손상시키기 쉬운 처리 지속 기간에 도달하지 않도록 마이크로파 방출 지속 기간을 제어하도록 구성될 수도 있다.
본 발명에 따른 프로세스는, 단계 b) 전, 챔버의 폐쇄를 검출하는 단계를 포함할 수도 있다. 예를 들어, 접촉기는 챔버가 폐쇄될 때 작동된다.
마이크로파 방출은 챔버의 폐쇄 검출로 조절될 수도 있다. 마이크로파가 전송된 후, 특히 챔버 외부에 배치된 마이크로파 감지 센서를 사용하여 마이크로파 누출을 감지하지 않으면 마이크로파 방출 연속성이 조절될 수 있다.
본 발명에 따른 프로세스는 또한 단계 b) 전 처리하고자 하는 헤어 배치를 검출하는 단계를 포함할 수도 있다. 이 검출 단계는 예를 들어 광학 센서 및/또는 기계 필러 (feeler) 에 의해 수행될 수도 있다. 기계적 응력 적용 디바이스의 배치를 검출함으로써 검출은 적절히 간접적으로 실시될 수도 있다.
본 발명에 따른 프로세스는, 예를 들어, 단계 b) 동안 처리된 헤어가 부여받는 온도를 측정하는 단계를 포함할 수도 있다. 이 온도 측정 단계는 헤어와 접촉하지 않으면서 온도계에 의해 수행될 수도 있다.
처리 디바이스는 동일한 핸드헬드 피스 내에 마이크로파 발생기 및 기계적 응력 적용 디바이스를 포함할 수도 있다. "핸드헬드 피스 (hand-held piece)" 라는 용어는 헤어 처리 중 사용자에 의해 한 손으로 조작되는 피스를 나타낸다.
발생기로부터 챔버로 마이크로파를 운반하는데 사용될 수도 있는 운반 수단으로서, 도파관들, 예를 들어, 10 m 미만의 길이, 바람직하게 5 m 미만의 길이이고, 외부 직경이 5 ㎝ 미만이고 바람직하게 2 ㎝ 미만인 가요성 동축 케이블이 언급될 수도 있다.
용매는 예를 들어 200 ℃ 미만의 비등점을 갖는 액체이다. 바람직하게, 이 용매는 물을 포함한다. 더욱 더 우선적으로, 이 용매는 물이다.
용매는, 증기 형태일 때, 헤어의 영역에서 그리고/또는 헤어와 접촉시, 단계 b) 중 80 내지 200 ℃, 바람직하게 100 내지 150 ℃, 예를 들어 120 내지 150 ℃ 의 온도를 가질 수도 있다.
처리된 헤어가 부여받는 압력은, 단계 b) 중, 105 내지 106 ㎩ (1 ~ 10 bar), 바람직하게 105 내지 5×105 ㎩ (1 ~ 5 bar) 일 수도 있다.
처리 디바이스는 헤어 특징, 예를 들어 색상, 기계적 강도, 표면 상태 또는 습도에 민감한 센서를 포함할 수도 있고, 처리 디바이스는 이와 같이 검출된 특성의 함수로서 적어도 하나의 처리 파라미터, 예를 들어 마이크로파 에너지, 용매 온도, 처리 지속 기간 및/또는 가해지는 기계적 구속을 제어할 수도 있다.
하나 또는 헤어 조성물들의 적용
본 발명에 따른 프로세스는, 추가로, 헤어에 적어도 하나의 헤어 처리 조성물을 적용하는 것으로 구성된 적어도 하나의 단계 c) 를 포함할 수도 있다.
"헤어 처리 조성물" 이라는 표현은 헤어의 화학적 성질 또는 그것의 셰이핑을 변경할 수 있는 조성물을 의미하도록 의도된다.
당해 미용 특성은 풀림 (disentangling), 유연성 및 광택이다.
헤어 셰이핑은 오래 지속되거나 일시적인 헤어 셰이핑일 수 있다.
"일시적 헤어 셰이핑 조성물" 이라는 표현은, 일단 헤어에 적용되면, 케라틴 내에 존재하는 디술피드 본드들을 열지 않고 셰이핑을 허용하는 조성물인 것으로 이해되어야 한다.
그러면, 일시적 헤어 셰이핑은 바람직하게 하나 이상의 고정 폴리머들을 포함하는 조성물을 본 발명에서 사용을 통해 얻어지며, 상기 폴리머의 성질은 음이온성, 비이온성, 양이온성 또는 양쪽성일 수 있다.
"오래 지속되는 헤어 셰이핑 조성물" 이라는 표현은, 일단 헤어에 적용되면, 케라틴 내에 존재하는 디술피드 본드들의 개방을 허용하는 조성물인 것으로 이해되어야 한다.
본 발명의 오래 지속되는 헤어 셰이핑 조성물은 바람직하게는 환원제들 또는 수산화물 화합물들로부터 선택되는, 디술피드 본드들을 파괴하기 위한 하나 이상의 제제들을 포함한다.
바람직한 환원제들은 티올이다.
바람직하게, 단계 c) 의 조성물은 오래 지속되는 헤어 셰이핑 조성물이다.
단계 c) 는 단계 a) 전 및/또는 단계 b) 후 일어날 수 있다.
단계 a) 및 단계 b)는 헤어 셰이핑 조성물의 작용을 보강할 수 있고, 예를 들어, 활성제들의 함량을 감소시키거나, 동일한 함량으로, 그것의 유효성을 증가시키거나 상기 조성물의 리브-온 시간 (leave-on time) 을 감소시키는 것을 가능하게 할 수 있다.
본 발명에 따른 프로세스는, 추가로, 헤어에 적어도 하나의 고정 조성물을 적용하는 것으로 구성된 적어도 하나의 단계 d) 를 단계 c) 후에 포함할 수도 있다.
"고정 조성물 (fixing composition)" 이라는 표현은 일단 헤어에 적용되면 케라틴 내에 존재하는 디술피드 본드들을 재구성할 수 있어서 헤어스타일을 원하는 형태로 유지하는데 기여하는 조성물인 것으로 이해되어야 한다. 고정 조성물은 또한 헤어 셰이핑 조성물의 작용에 의해 획득된 형태 지속성을 개선할 수도 있다.
이 단계 d) 는 단계 a) 전 그리고/또는 단계 b) 후에 일어날 수 있고 동시에 단계 c) 후에 잔류할 수 있다.
단계 b) 의 지속 기간은 예를 들어 원하는 셰이핑 성능 품질 및 헤어 성질에 따라 달라질 수도 있다.
고려된 구현 예들과는 무관하게, 단계 b) 의 지속 기간은 1 초 내지 30 분, 바람직하게는 1 초 내지 10 분일 수도 있다.
고려되는 실시형태들과 무관하게, 단계 b) 는 예를 들어 0 내지 10 회, 우선적으로 0 내지 5 회 반복될 수도 있다.
예를 들어 적합한 적용 시스템에 의해, 헤어가 챔버 내에 존재하는 동안 헤어 셰이핑 또는 고정 조성물들이 적용될 수도 있다. 적용 시스템은, 챔버 내 또는 챔버 외부, 예를 들어 챔버에서 나오거나 들어가는 헤어 경로에 배열된, 예를 들어, 패드, 콤, 하나 이상의 분배 오리피스들 또는 분무 노즐을 포함한다.
헤어 셰이핑 조성물 및/또는 고정 조성물은 적절히 마이크로파 방사선을 부여받을 수도 있다.
오래 지속되는 헤어 셰이핑 조성물
환원 조성물
환원제들
헤어 셰이핑 조성물은 하나 이상의 환원제들을 포함하는 환원 조성물일 수도 있다.
환원제는 예를 들어 하기로부터 선택될 수 있다:
- 화학식 (1) 의 티오글리콜산: HS-CH2-COOH (1),
- 화학식 (2) 의 티오글리콜산:
Figure 112019081460823-pct00001
- 화학식 (3) 의 3-메르캅토프로피온산: HS-CH2-CH2-COOH (3),
- 화학식 (4) 의 시스테아민: HS-CH2-CH2-NH2 (4),
- 화학식 (5) 의 시스테인: HS-CH2-CH(NH2)-CO2H
- 그리고 또한 이들의 염들 및 이들의 에스테르,
- 포스핀, 설파이트, 수소화붕소.
상기 생성물들 (1) 내지 (4) 의 미용적으로 허용되는 염들 중에서, 예를 들어 암모늄 염들, 1 차, 2 차 또는 3 차 아민 염들 및 알칼리 토류 금속 염들을 언급할 수 있다. 1 차, 2 차 또는 3 차 아민 염들로서, 모노에탄올아민, 디이소프로판올아민 및 트리에탄올아민을 각각 언급할 수 있다.
상기 화합물들 (1) 내지 (4) 의 에스테르 중에서, 글리세릴 모노티오글리콜레이트, 에틸렌 글리콜 모노티오글리콜레이트, 특허 출원 FR-A-2 679 448 에 기재된 2-히드록시프로필 티오글리콜레이트 및 히드록시-2-메틸-1-에틸 티오글리콜레이트의 공비 혼합물, 글리세릴 모노티오락테이트, 에틸렌 글리콜 모노티오락테이트, 글리세릴 3-메르캅토프로피오네이트 및 에틸렌 글리콜 3-메르캅토프로피오네이트를 언급할 수 있다.
화학적 환원제(들)는 환원 조성물의 총 중량에 대해, 예를 들어, 0.01 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게 0.1 중량% 내지 10 중량%, 더욱 양호하게는 0.3 중량% 내지 3 중량% 의 함량으로 존재할 수도 있다.
환원 조성물에 존재하는 첨가제들
환원 조성물은 또한 하나 이상의 첨가제들을 포함할 수도 있다.
첨가제들은 환원 조성물에서 단독으로 또는 혼합물들로 사용될 수도 있다.
환원 조성물은 적어도 하나의 계면활성제, 예를 들어 비이온성, 음이온성, 양이온성 또는 양쪽성 계면활성제를 포함할 수도 있고, 이들 중에서, 알킬 설페이트, 알킬 벤젠 설페이트, 알킬 에테르 설페이트, 알킬설포네이트, 4 급 암모늄 염들, 알킬베타인, 옥시에틸렌화 알킬페놀, 지방산 알카놀아미드, 옥시에틸렌화 지방산 에스테르 및 또한 히드록시프로필 에테르 및 알킬 폴리글리코시드 유형의 다른 비이온성 계면활성제들을 언급할 수있다.
계면활성제(들)는 예를 들어 생성 조성물의 총 중량에 대해 30 중량% 미만, 바람직하게 0.5 중량% 내지 10 중량% 의 함량으로 존재할 수도 있다.
헤어의 미용적 특성을 개선하거나 그렇지 않으면 그 특성의 저하를 감소 및/또는 방지하는 목적으로, 환원 조성물은 또한 양이온성, 음이온성, 비이온성 또는 양쪽성 성질의 적어도 하나의 처리제를 포함할 수도 있다.
특히 바람직한 처리제들 중에서, 프랑스 특허 출원들 FR 2 598 613 및 FR 2 470 596 에 기재된 처리제들이 언급될 수 있다.
또한, 처리제들로서, 휘발성 또는 비휘발성, 선형 또는 시클릭 실리콘 및 이들의 혼합물들, 폴리디메틸실록산, 프랑스 특허 출원 FR 2 535 730 에 기재된 것들과 같은, 4 차화 (quaternized) 폴리오가노실록산, 출원 US 4 749 732 에 기재된 것들과 같은, 알콕시카르보닐알킬 기들로 개질된 아미노알킬 기들을 포함하는 폴리오가노실록산, 영국 특허 출원 GB 2 197 352 에 기재된, 디메티콘 코폴리올 유형의 폴리디메틸실록산-폴리옥시알킬 코폴리머, 스테아록시- 말단 기들을 포함하는 폴리디메틸실록산 (스테아록시디메티콘), 폴리디메틸실록산-디알킬암모늄 아세테이트 코폴리머 또는 폴리디메틸실록산-폴리알킬베타인 코폴리머와 같은, 폴리오가노실록산, 프랑스 특허 FR 1 530 369 및 유럽 특허 출원 EP 295 780 에 기재된 것들과 같은 메르캅토 또는 메르캅토알킬 기들에 의해 유기 개질된 폴리실록산, 및 또한 스테아록시트리메틸실란과 같은 실란이 사용될 수도 있다.
환원 조성물은 또한 다른 처리제들, 예를 들어 프랑스 특허들 FR 2 472 382 및 FR 2 495 931 의 조성물들에서 사용된 것들과 같은 양이온성 폴리머들, 그렇지 않으면 룩셈부르크 특허 제 83703 호의 조성물들에서 사용된 것들과 같은 요넨 유형의 양이온성 폴리머들을 포함할 수도 있다. 그것은 또한 염기성 아미노산, 예를 들어 리신 또는 아르기닌, 또는 산성 아미노산, 예를 들어 글루탐산 또는 아스파르트산, 펩티드 및 이들의 유도체들, 단백질 가수 분해물들, 왁스들, 팽윤제 및 침투제, 또는 환원제의 효율을 보강할 수 있는 제제들, 예로 SiO2/PDMS (폴리디메틸실록산) 혼합물, 디메틸이소소르비톨, 우레아 및 이들의 유도체들, 피롤리돈, N-알킬피롤리돈, 용매들, 예를 들어 알킬렌 글리콜 알킬 에테르 또는 디알킬렌 글리콜 알킬 에테르, 예로 예를 들어 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 및 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, C3-C6 알칸디올, 예로 예를 들어 1,2-프로판디올 및 1,2-부탄디올, 2-이미다졸리디논, 및 또한 기타 화합물들, 예로 지방 알코올, 라놀린 유도체들, 활성 성분들, 예컨대 판토텐산, 탈모 감소제들, 비듬 방지제들, 증점제들, 현탁제들, 격리제들 (sequestrants), 유백제들, 염료들, 자외선 차단제들과 또한 향료들 및 보존제들을 포함할 수도 있다.
환원 조성물들의 pH 는 바람직하게 6 내지 11 이고, 더 양호하게는 7 내지 10 이다.
환원 조성물은, pH 를 조절하기 위해, 적어도 하나의 염기화제를 포함할 수도 있다.
바람직하게, 본 발명에 따른 조성물들에 사용된 염기화제는 그것이 존재하는 조성물(들)의 pH 를 증가시킬 수 있는 제제이다.
염기화제는 브론스테드, 로리 또는 루이스 염기일 수도 있다.
염기화제는 무기물 또는 유기물일 수도 있다.
염기화제는 예를 들어 하기로부터 선택될 수 있다:
a) 수성 암모니아,
b) 모노에탄올아민, 디에탄올 아민 및 트리에탄올 아민과 같은 알카놀아민 및 이들의 유도체들,
c) 옥시에틸렌화 및/또는 옥시프로필렌화 에틸렌디아민,
d) 알칼리 금속 실리케이트, 예로 메타 규산 나트륨,
e) 아미노산, 바람직하게는 아르기닌, 리신, 오르니틴, 시트룰린 및 히스티딘과 같은 염기성 아미노산,
f) 특히 1 차, 2 차 또는 3 차 아민 (암모늄) 또는 알칼리 금속 또는 알칼리 토류 금속의 (중)탄산염, 및
g) 하기 화학식 (Ⅱ) 의 화합물들:
(Ⅱ),
Figure 112019081460823-pct00002
여기에서 W 는 히드록실 기 또는 C1-C4 알킬 라디칼로 임의로 치환된 프로필렌 잔기이다. Ra, Rb, Rc 및 Rd 기들은 동일하거나 상이하고 그것은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼일 수 있다.
바람직한 염기화제는 수성 암모니아 및 모노에탄올아민일 수도 있다.
예를 들어 상기 규정된 바와 같은 염기화제(들)는 바람직하게 환원 조성물의 중량에 대하여 0.001 중량% 내지 10 중량%, 예를 들어 0.005 중량% 내지 8 중량% 의 함량으로 존재할 수도 있다. 이 농도는 특히 환원 조성물의 원하는 pH 에 의존할 수 있다.
환원 조성물을 적용하기 위한 조건들
바람직한 일 구현 예에서, 단계 a) 전 및/또는 단계 b) 후 적용될 때, 환원 조성물은 예를 들어 1 내지 50 분, 바람직하게는 1 내지 30 분의 기간 동안 작용하도록 남겨질 수도 있다.
단계 a) 전 적용하는 경우에, 마이크로파의 적용 중 온도가 상승할 것이다. 게다가, 환원 조성물은 바람직하게 젖어 있고 깨끗한 헤어 섬유들에 적용된다.
수산화물 화합물을 포함하는 조성물
오래 지속되는 헤어 셰이핑 조성물은 하나 이상의 수산화물 화합물들을 포함할 수도 있다.
수산화물 화합물
"수산화물 화합물" 이라는 용어는 수산화물 이온들을 방출할 수 있는 화합물인 것으로 이해되어야 한다. 란토닌화 (lanthonization) 프로세스들에서 통상적으로 사용되는 모든 수산화물 화합물들은 본 발명과 관련하여 사용된 헤어 셰이핑 조성물에서 사용될 수 있다.
적어도 하나의 수산화물 화합물은 바람직하게 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토류 금속 수산화물, 전이 금속 수산화물, 란타나이드 금속 수산화물, 악티니드 금속 수산화물, Ⅲ 족 금속 수산화물, Ⅳ 족 금속 수산화물, Ⅴ 족 금속 수산화물, Ⅵ 족 금속 수산화물, 유기 수산화물, 및 적어도 하나의 부분 가수 분해 가능한 수산화물 성분을 포함한 화합물들에서 선택될 수 있다.
본 발명과 관련해서 사용될 수 있는 수산화물 화합물로서, 예를 들어, 수산화 나트륨, 수산화 구아니디늄, 수산화 리튬, 수산화 칼슘, 수산화 바륨, 수산화 마그네슘, 수산화 알루미늄, 수산화 구리, 수산화 스트론튬, 수산화 몰리브덴, 수산화 망간, 수산화 아연 및 수산화 코발트가 언급될 수도 있다.
바람직한 수산화물 화합물들은 수산화 나트륨 및 수산화 구아니디늄이다. 바람직하게, 이들의 농도는 조성물의 pH 가 12 내지 14 가 되도록 한다.
수산화물 화합물(들)은 0.2 내지 1 M, 바람직하게 0.4 내지 0.6 M 의 농도로 헤어 셰이핑 조성물에 존재할 수도 있다.
유화제들
수산화물 화합물을 포함하는 헤어 셰이핑 조성물은 적어도 부분적으로 에멀전, 바람직하게 수중유 또는 유중수 에멀전의 형태일 수도 있다.
후자의 경우에, 상기 조성물은 적어도 하나의 비이온성, 음이온성, 양이온성, 양쪽성 유화제를 포함할 수도 있다.
유화제들은 계면활성제들이고 획득될 에멀전, 예를 들어 유중수 (W/O) 또는 수중유 (O/W) 에멀전에 따라 선택된다.
예를 들어 전술한 대로 에멀전을 포함하는 헤어 셰이핑 조성물을 얻으려고 할 때, 하기가 사용될 수도 있다:
- 양쪽성 유화제들, 예를 들어 N-아실 아미노산, 예로 N-알킬 아미노 아세테이트 및 디소듐 코코암포디아세테이트, 및 아민 옥사이드, 예로 스테아라민 옥사이드,
- 음이온성 유화제들, 예를 들어 아실 글루타메이트, 예로 "디소듐 수소화 탈로우 글루타메이트" (AJINOMOTO 사에 의해 시판되는 Amisoft HS-21®); 카르복실산 및 이들의 염들, 예로 스테아르산 나트륨; 인산 에스테르 및 이들의 염들, 예로 "DEA 올레스-10 포스페이트"; "디소듐 PEG-5 시트레이트 라우릴 술포숙시네이트" 및 "디소듐 리시놀아미도 MEA 술포숙시네이트"와 같은 술포숙시네이트,
- 양이온성 유화제들, 예를 들어 알킬 이미다졸리늄, 예로 이소스테아릴 에틸이미도늄 에토설페이트; 암모늄 염들, 예로 N, N, N-트리메틸-1-도코산아미늄 클로라이드 (베헨트리모늄 클로라이드), 및
- 비이온성 유화제들, 예를 들어, 수크로오스 스테아레이트, 수크로오스 코코에이트, 및 ICI 사에 의해 Arlatone 2121® 이라는 명칭으로 시판된 수크로오스 코코에이트와 소르비탄 스테아레이트의 혼합물과 같은 사카라이드 에스테르 및 에테르; 폴리올 에스테르, 예를 들어 글리세릴 스테아레이트, 폴리글리세릴-2 스테아레이트, 소르비탄 스테아레이트와 같은 글리세롤 또는 소르비톨 에스테르; 글리세롤 에테르; 25 개의 옥시에틸렌화 기들 및 25 개의 옥시프로필렌화 기들을 함유하는 라우릴 알코올의 옥시에틸렌화, 옥시프로필렌화 에테르 (CTFA 명칭 "PPG-25 라우레스-25") 및 7 개의 옥시에틸렌화 기들을 포함하는 C12-C15 지방 알코올들의 혼합물의 옥시에틸렌화 에테르 (CTFA 명칭 "C12-C15 파레스-7") 와 같은 옥시에틸렌화 및/또는 옥시프로필렌화 에테르, PEG-100 과 같은 에틸렌 글리콜의 폴리머들 및 이들의 혼합물들.
이들 유화제들 중 하나가 사용될 수도 있다.
유중수 (W/O) 에멀전에 대해, 유화제들의 예로서, 폴리올 지방 에스테르, 특히 글리세롤 또는 소르비톨 지방 에스테르, 특히 폴리올 이소스테아릭, 올레익 및 리시놀레익 에스테르, 예로 Goldschmidt 사에 의해 Protegin W® 이라는 명칭으로 시판되는 페트롤레이텀, 폴리글리세릴-3 올레이트, 글리세릴 이소스테아레이트, 수소화 파마자유 및 오조케라이트의 혼합물, 소르비탄 이소스테아레이트, 폴리글리세릴 디이소스테아레이트, 폴리글리세릴-2 세스퀴이소스테아레이트; 폴리사카라이드 에스테르 및 에테르, 예로 "메틸 글루코오스 디올레이트"; 지방 에스테르, 예로 마그네슘 라놀레이트; 디메티콘 코폴리올 및 알킬 디메티콘 코폴리올, 예로 Dow Corning 사에 의해 Dow Corning 5200 Formulation Aid 의 명칭으로 시판되는 라우릴 메티콘 코폴리올, Goldschmidt 사에 의한 Abil EM 90® 이라는 명칭으로 시판되는 세틸 디메티콘 코폴리올, 및 디메티콘 코폴리올; 및 이들의 혼합물들이 언급될 수도 있다.
에멀전의 오일은 식물 오일, 광유, 실리콘 오일, 액체 에스테르, 또는 선형 또는 분지형 C7-C16 탄화수소일 수도 있다.
수산화물 화합물을 포함한 조성물을 적용하기 위한 조건들
바람직한 일 구현 예에서, 단계 a) 전 및/또는 단계 b) 후 적용될 때, 수산화물 화합물을 포함한 조성물은 예를 들어 5 내지 60 분, 바람직하게는 10 내지 20 분의 기간 동안 작용하도록 리브된다.
수산화물 화합물을 포함하는 조성물을 적용하는 단계 후, 그리고 선택적 리브-온 시간 후, 알칼리성 잔류물들을 제거하기 위해서, 바람직하게는 흐르는 물과 삼투압 처리수로, 또는 심지어 산성 조성물로 헤어를 헹굴 수도 있다.
산성 조성물
"산성 조성물" 이라는 용어는, 예를 들어 하나 이상의 카르복실, 술폰, 인 또는 인산 작용기들을 포함하는 산으로부터 선택된, 하나 이상의 산을 포함하는 조성물로 이해되어야 한다.
산은 다른 화학적 작용기들, 특히 히드록실 또는 아미노 작용기들을 포함할 수도 있다.
산은 포화되거나 불포화될 수 있다.
사용될 수 있는 산으로서, 예를 들어, 아세트산, 프로판산, 부탄산, 젖산, 글리콜산, 아스코르브산, 말레산, 프탈산, 숙신산, 타우린 및 시트르산이 언급될 수도 있다.
한 가지 바람직한 산은 시트르산이다.
조성물에 존재하는 무기산(들)은 모노산 또는 폴리산인 산으로부터 선택될 수도 있다.
예를 들어, 염산, 오르토인산, 황산 및 붕산이 언급될 수도 있다.
산성 조성물은 예를 들어 2 내지 7, 바람직하게 3 내지 4 의 pH 를 가질 수도 있다.
산화 조성물
고정 조성물은 산화 조성물이다.
"산화 조성물" 이라는 표현은 예를 들어 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브롬산염, 폴리티오네이트 및 과붕산염, 과탄산염 및 과황산염과 같은 과산염에서 선택된 예를 들어 하나 이상의 산화제들을 포함하는 조성물들을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.
산화제는 바람직하게 과산화수소이다.
산화제(들)는 산화 조성물의 총 중량에 대해, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게 0.5 중량% 내지 5 중량% 의 함량으로 존재할 수도 있다.
바람직하게, 산화제가 수용액에서 과산화수소인 경우, 본 발명에 따른 프로세스에서 사용된 산화 조성물은 과산화수소 수용액의 적어도 하나의 안정화제를 함유한다.
예를 들어, 피로 인산 사나트륨, 알칼리 금속 또는 알칼리 토류 금속 주석산염, 페나세틴 또는 옥시퀴놀린 산 염들, 예컨대 옥시퀴놀린 설페이트와 같은 알칼리 금속 또는 알칼리 토류 금속 피로포스페이트가 언급될 수도 있다. 더욱 더 유리하게도, 선택적으로 적어도 하나의 피로포스페이트와 조합하여 적어도 하나의 주석산염이 사용된다.
수성 과산화수소의 안정화제(들)는 산화 조성물의 총 중량에 대해, 0.0001 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게 0.01 중량% 내지 2 중량% 의 함량으로 존재할 수도 있다.
특히 산화제가 과산화수소인 경우, 산화 조성물은 예를 들어 1.5 내지 4.5, 바람직하게 2 내지 3.5 의 pH 를 가질 수도 있다.
바람직한 일 구현 예에서, 단계 a) 전 및/또는 단계 b) 후 적용될 때, 위에서 규정된 바와 같은 산화 조성물은 약 2 ~ 30 분 동안, 바람직하게 2 ~ 15 분 동안, 보다 특히 2 ~ 7 분 동안 작용하도록 리브된다. 산화 조성물은 바람직하게 젖은 헤어를 닦는데 적용된다.
환원 및 산화 조성물들의 담체는 바람직하게 물로 이루어진 수성 매질이고 유리하게 에틸 알코올, 이소프로필 알코올, 벤질 알코올 및 페닐에틸 알코올과 같은 알코올, 또는 폴리올 또는 폴리올 에테르, 예를 들어 에틸렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 또는 이의 에테르, 예를 들어 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 부틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 또한 디에틸렌 글리콜 알킬 에테르, 예를 들어 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 또는 모노부틸 에테르를 보다 특히 포함하는, 미용적으로 허용되는 유기 용매들을 함유할 수 있다. 그러면, 유기 용매들은 조성물의 총 중량에 대해, 약 0.1 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게 약 1 중량% 내지 10 중량% 의 농도들로 존재할 수도 있다.
본 발명에 따른 프로세스에서 산화 조성물의 pH 는 환원 조성물에 이미 언급된 것들과 같은 하나 이상의 염기화제들 또는 예를 들어 염산, 아세트산, 젖산, 붕산, 시트르산 및 인산과 같은 산성화제를 첨가함으로써 통상적으로 수득 및/또는 조절될 수 있다.
본 발명에 따른 프로세스에서 사용된 모든 조성물들은, 서로 독립적으로, 증점 또는 비증점 로션, 크림, 젤 또는 무스의 형태일 수 있다.
처리 디바이스들
다른 양태에 따르면, 본 발명은 하기를 포함하는, 상기 규정된 바와 같이 특히 프로세스를 수행하기 위한 헤어 처리 디바이스에 관한 것이다:
- 특히 처리될 헤어에 적어도 하나의 비틀림, 인장 또는 압축 구속을 가하도록 구성된, 적어도 하나의 헤어 타래에 기계적 응력을 적용하기 위한 적어도 하나의 디바이스,
- 기계적 응력 적용 디바이스와 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 마이크로파 차폐 챔버,
- 챔버 내부에, 바람직하게 기계적 응력 적용 디바이스 내부에 배치된 마이크로파 방출 안테나.
상기 프로세스에 관하여 언급된 모든 특징들은 이 처리 디바이스에 적용된다.
따라서, 안테나는 바람직하게 나선형이다.
기계적 구속 적용 디바이스는 폭 L 에 걸쳐 연장되는 헤어를 수용하기 위한 표면을 가지며, 안테나는 바람직하게 L/2 이상의 거리에 걸쳐 축선 방향으로 연장된다.
본 발명의 주제는 또한, 전술한 바에 독립적으로 또는 조합하여 특히 상기 규정된 바와 같은 프로세스를 수행하기 위한 헤어 처리 디바이스로,
- 기계적 응력을 적어도 하나의 헤어 타래에 적용하기 위한 디바이스, 바람직하게 컬러,
- 처리될 헤어의 적어도 일부와 기계적 응력 적용 디바이스를 수용하도록 구성된 하우징을 가지는 마이크로파 차폐 챔버,
- 챔버 내부에 배치된, 마이크로파 방출 안테나를 포함하고,
기계적 구속 적용 디바이스를 수용하기 위한 하우징은 기계적 구속 적용 디바이스의 배치 및 제거를 가능하게 하는 개방 위치, 및 챔버는 마이크로파를 막고 안테나가 기계적 구속 적용 디바이스에 접근하는 폐쇄 위치 사이에서 안테나에 대해 움직일 수 있는 드로어 (drawer) 에 의해 적어도 부분적으로 규정된다.
바람직하게, 안테나 및 기계적 구속 적용 디바이스는 드로어의 폐쇄 위치에서 상기 안테나가 기계적 구속 적용 디바이스 내부에 맞물리는 방식으로 배열된다.
본 발명의 이 양태에 따르면, 마이크로파 방출 안테나는 임의의 마이크로파 방출 안테나일 수도 있지만, 그것은 바람직하게 전술한 길이 및 형상 특성들을 갖는다.
이 양태에 따르면, 본 발명은 특히 헤어 타래가 디바이스에 감긴 상태에서 기계적 구속 적용 디바이스를 용이하게 배치하고 제거할 수 있는 장점을 갖는다.
더욱이, 드로어 위치의 검출은 마이크로파 방출의 트리거링 전 챔버의 정확한 폐쇄를 확인하는 간단한 수단을 제공한다.
드로어는 드로어가 폐쇄된 위치에 있을 때 챔버를 폐쇄하는 안테나 대향 측에 단부 벽을 가지고 제조될 수 있다.
바람직하게, 드로어는 안테나를 수용하는 케이싱에 대해, 특히 케이싱의 종 방향에 평행한 슬라이딩 축선을 따라 슬라이딩한다. 바람직하게, 드로어는 슬라이딩 축선 둘레에서 회전 운동 없이 케이싱에 대해 슬라이딩한다.
바람직하게 슬라이딩 축선에 평행한 방향을 따라 연장되는 슬릿은 헤어가 빠져나갈 수 있도록 폐쇄된 위치에서 드로어와 이 케이싱 사이에 만들어진다.
이 슬릿은 도전성 코팅, 바람직하게는 챔버가 폐쇄될 때 마이크로파 방지성을 생성하도록 헤어에 끼워지는 가요성 발포체로 유리하게 에지 형성된다.
다른 양태에 따르면, 본 발명의 주제는 또한, 발명에 따른 프로세스에 관하여 개시된 것에 독립적으로 또는 조합하여, 특히 상기 규정된 바와 같은 프로세스를 수행하기 위한 헤어 처리 디바이스로,
- 기계적 응력을 적어도 하나의 헤어 타래에 적용하기 위한 디바이스, 바람직하게 컬러,
- 기계적 응력 적용 디바이스 및 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 하우징을 갖는 케이싱에 의해, 그리고 하우징으로 접근을 허용하는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 케이싱에 대해 피봇하는 커버에 의해 적어도 부분적으로 규정된 챔버를 포함하고, 마이크로파 방출 안테나는 하우징 내부에 배치되고, 커버가 개방될 때 케이싱에 대한 축선 방향 운동에 의해 기계적 구속 적용 디바이스의 배치 및 제거를 허용하도록 하우징은 일 단부에서 개방되고, 하우징 내 제 위치에 놓일 때 기계적 구속 적용 디바이스로 안테나를 삽입하도록 기계적 구속 적용 디바이스 및 안테나가 배열된다.
본 발명의 이 양태에 따르면, 마이크로파 방출 안테나는 임의의 마이크로파 방출 안테나일 수도 있지만, 그것은 바람직하게 전술한 길이 및 형상 특성들을 갖는다.
이 양태에 따르면, 본 발명은 특히 헤어 타래가 디바이스에 감긴 상태에서 기계적 구속 적용 디바이스를 용이하게 배치하고 제거할 수 있는 장점을 갖는다.
더욱이, 커버 위치의 검출은 마이크로파 방출의 트리거링 전 챔버의 정확한 폐쇄를 확인하는 간단한 수단을 제공한다.
커버는 단부 벽으로 만들어질 수 있고 상기 단부 벽은 커버의 회전 축선에 횡단하여 연장되어서 하우징의 개구를 형성하고 이 개구를 통하여 기계적 구속 적용 디바이스를 도입하거나 빼낸다.
적어도 하나의 커버 및 하우징은 챔버의 마이크로파 방지성을 보장하기 위해서 커버가 폐쇄될 때 헤어에 끼워지는 도전성 코팅을 갖출 수 있다.
바람직하게, 헤어 출구 슬릿은 힌지 대향 측에 만들어지고 힌지를 통하여 커버가 케이싱에 관절 연결된다. 커버의 피봇팅은 헤어에서 도전성 코팅을 가압하기 위한 추가적인 조임 효과를 제공한다.
케이싱 및 커버는 커버의 상승을 용이하게 하기 위해서 이 출구 슬릿에 접하는 보강부로 만들어질 수 있다.
본 발명은 비제한적인 구현 예들의 이하의 상세한 설명을 판독함으로써 그리고 첨부된 도면을 참조함으로써 더 잘 이해될 것이다.
- 도 1 은 본 발명에 따른 처리 디바이스의 실시예의 부분 개략도이다.
- 도 2 는 개방된 핸드헬드 피스 및 일단 빼내었을 때 기계적 응력 적용 디바이스이다.
- 도 3 은 폐쇄된 핸드헬드 피스이다.
- 도 4 는 도 3 의 핸드헬드 피스의 측면도이다.
- 도 5 는 도 4 의 V-Ⅴ 를 따른 종단면도이다.
- 도 6 은 도 5 의 Ⅵ-Ⅵ 를 따른 단면도이다.
- 도 7 은 도 5 의 VⅡ-VⅡ 을 따른 종단면도이다.
- 도 8 은 챔버가 폐쇄될 때, 도 6 과 유사한 도면이다.
- 도 9 는 핸드헬드 피스의 실시형태 변형예의, 도 2 와 유사한 도면이다.
- 도 10 은 폐쇄된 위치에서 도 9 의 핸드헬드 피스이다.
- 도 11 은 구속 적용 디바이스가 핸드헬드 피스의 대응하는 하우징 내 제 위치에 있는 개방 위치에서 핸드헬드 피스의 측면도이다.
- 도 12 는 핸드헬드 피스의 단면도이다.
- 도 13 은 도 12 의 XⅢ-XⅢ 을 따른 종단면도이다.
- 도 14 는 본 발명에 따른 처리 디바이스의 변형예의 도 1 과 유사한 도면이다.
- 도 15 및 도 16 은 비교 테스트 결과들을 나타낸다.
도 1 은 마이크로파 발생기를 포함하는 베이스 스테이션 (1) 에 가요성 도파관 (2) 을 통하여 연결된 핸드헬드 피스 (3) 를 포함하는 본 발명에 따른 처리 디바이스 (100) 를 보여준다.
가요성 도파관 (2) 은 차폐 케이블로 구성된다.
핸드헬드 피스 (3) 는 도시된 바와 같이 적어도 하나의 헤어 (H) 타래를 처리하기 위해 사람의 머리에 근접하게 배치되도록 사용자에 의해 조작될 것으로 예상된다.
핸드헬드 피스 (3) 는 다양한 방식으로 제조될 수 있고 마이크로파 방지 처리 챔버 (4) 를 규정한다.
도 2 내지 도 8 은 핸드헬드 피스 (3) 의 제 1 실시형태 예를 보여준다.
가요성 도파관 (2) 은 이 도면들에서 단지 매우 부분적으로 나타내었다.
핸드헬드 피스 (3) 는, 커버 (11) 가 축선 (12) 에 의해 관절 연결된 케이싱 (10) 을 포함한다.
케이싱 (10) 은, 당해 실시예에서, 컬러 (20) 에 의해 구성된 기계적 구속 적용 디바이스를 수용하기 위한 하우징을 규정한다.
상기 컬러는 컬러 (20)의 종방향 축선 (X) 을 따라 측정된 폭 (L) 의, 헤어 (H) 를 수용하기 위한, 표면을 규정하는 여러 브랜치들 (21) 을 포함한다.
축선 (X) 은, 이 실시예에서, 커버 (11) 의 회전 축선에 평행하다.
당해 실시예에서, 컬러 (20) 는 4 개의 브랜치들 (21) 을 포함하고, 상기 브랜치들 (21) 은 축선 (X) 을 향해 약간 만곡되고 대략 중간 길이에서 축선 (X) 에 대한 최소 거리만큼 통과한다.
브랜치들 (21) 은 바람직하게 가능한 한 균일하게 전체 폭 (L) 을 점유하면서, 브랜치들 (21) 상에 펼쳐진 타래를 유지하는 것을 보조하기 위해 축선 (X) 에 수직으로 배향된 리브들 (23) 을 가질 수 있다.
브랜치들 (21) 은 이들의 단부들에서 환형부들 (25) 에 연결된다.
컬러 (20) 는, 헤어를 수용하기 위한 표면을 측방향으로 구획하는 브랜치들 (21) 의 단부들에 치형부들 (26) 을 갖는다.
컬러 (20) 는 임의의 유전 재료, 바람직하게 PTFE 로 만들어질 수 있다.
컬러 (20) 는 축선 (X) 에 수직인 중간 대칭 평면에 대해 대칭 회전 형태를 갖는 것이 바람직하다.
케이싱 (10) 은, 도시된 실시예에서, 컬러 (20) 가 제 위치에 있을 때 축선 (X) 과 합류하는 종방향 축선 (7) 에 대해 나선형인 안테나 (30) 를 지지한다.
안테나 (30) 는, 당해 실시예에서, 유전 재료, 예를 들어 실리콘 또는 PTFE 의 튜브 (32) 에 배치된, 나선형 금속 와이어로 구성된다.
이 튜브 (32) 의 존재는 컬러 (20) 로 안테나의 삽입을 용이하게 한다.
케이싱 (10) 은 컬러 (20) 가 배치되는 하우징 (6) 을 규정한다.
안테나 (30) 는 반원형 아웃라인을 갖는 케이싱 (10) 의 플레이트 (14) 에 의해 케이싱 (10) 의 축선 방향 단부에서 지지된다.
커버 (11) 는 하우징 (6) 의 개구 (5) 를 폐쇄하는, 대향 측의 유사한 플레이트 (15) 를 가지고, 상기 개구에 의해 컬러 (20) 가 핸드헬드 피스 (3) 로 도입된다.
하우징 (6) 의 내부 표면은, 마이크로파를 반사할 수 있고 챔버 (4) 를 마이크로파 방지하게 하는 도전성 코팅 (7) 에 의해 규정된다.
컬러 (20) 는, 하우징 (6) 의 중심에 컬러를 유지하도록, 도 8 에 도시된 바와 같이, 코팅 (7) 을 가압하는 대응하는 환형부들 (25) 과 베이스에서 연결되는 확장된 헤드를 갖는 블록들 (27) 을 포함한다.
블록들 (27) 은 예를 들어 도시된 대로 치형부들 (26) 사이에 위치된다.
코팅 (7) 은 플레이트 (15) 용 디스크 및 플레이트 (14) 용 링의 형태로 커버 및 케이스 상의 컬러를 따라 예를 들어 반원통형인 전도성 발포체로 형성될 수 있다.
케이싱 (10) 과 커버 (11) 는 힌지의 축선 (12) 에 대향한 측에서, 보강부 (18) 의 바닥에 위치된, 헤어를 위한 출구 슬릿 (19) 을 규정한다.
도 8 에서 알 수 있는 바와 같이, 코팅 (7) 은 바람직하게는 헤어가 통과하더라도 양호한 폐쇄 시일을 생성하도록 헤어를 위한 슬릿 (19) 으로 돌출한다.
따라서,도 6 에 도시된 바와 같이, 코팅의 에지는 슬릿 (19) 을 폐쇄하기 위해 커버 몸체의 에지와 케이싱의 에지를 17 에서 약간 넘어갈 수 있다.
핸드헬드 피스 (3) 는 도시되지 않은 폐쇄 위치에서 커버를 잠그기 위한 부재와 또한 개구 검출기를 포함한다.
슬릿 (19) 의 폭 (W) 은 L 보다 약간 더 클 수 있고, 하우징 (6) 의 길이는 컬러 (20) 의 길이와 실질적으로 동일하여서, 컬러는 약간의 유극 내에서 축선 방향 및 반경 방향으로 하우징 (6) 에서 고정된다.
핸드헬드 피스 (3) 를 사용하기 위해서, 젖은 헤어 타래를 컬러 (20) 에 감은 후, 개구 (5) 에 의해 컬러를 도입하면서, 컬러를 상기 케이싱에 대해 측방향으로 이동시킴으로써 컬러는 케이싱 (10) 내에 배치된다. 커버 (11) 는 그 후 다시 폐쇄되고, 헤어는 슬릿 (19) 을 통하여 나간다. 일단 마이크로파 노출이 수행되고 나면, 역순으로 조작을 수행함으로써 헤어 타래를 빼낸다.
핸드헬드 피스 (3) 의 변형예는 도 9 내지 도 13 을 참조하여 이하 설명될 것이다.
상기 핸드헬드 피스는 케이싱 (40) 및 케이싱의 종방향 축선을 따라 슬라이딩할 수 있는 드로어 (50) 를 포함한다.
케이싱 (14) 은 특히 도 12 에 도시된 바와 같이 드로어 (50) 의 대응하는 슬라이드 (51) 에 맞물린 원호형 러그 (41) 를 포함할 수 있다. 러그 (41) 는 러그 (41) 를 슬라이드 (51) 에서 유지하도록 대응하는 웰 내에 보유되는 단부에 두꺼운 부분 (42) 을 구비할 수 있다.
케이싱 (40) 은 안테나 (30) 를 지지한다.
안테나 (30) 의 축선은 드로어 (50) 의 슬라이딩 축선에 평행하다.
컬러를 수용하기 위한 하우징 (6) 의 내부 표면은 전술한 실시예에서와 같이 전도성 코팅 (7) 으로 커버된다.
헤어를 위한 출구 슬릿 (19) 이 케이싱 (40) 과 드로어 (50) 사이에 형성되며, 도 12 에 도시된 바와 같이 이 슬릿을 차단하기 위해서 헤어가 없을 때 코팅은 정지하게 된다.
단부 플레이트 (54) 는 하우징 (6) 을 케이싱 (40) 에 대향한 단부에서 폐쇄한다.
핸드헬드 피스 (3) 를 사용하기 위해서, 도 9 에 도시된 바와 같이, 드로어가 개방 위치에 있는 동안, 타래가 감겨있는 컬러는 하우징 (6) 으로 도입된다. 이 위치에서, 안테나가 컬러 배치를 손상시키지 않도록 드로어는 충분히 전진된다.
안테나 (30) 의 자유 단부는 하우징 (6) 내 제 위치에 있는 컬러 (20) 로부터 거리 (m), 예를 들어 2 내지 10 ㎜ 에 있다.
그 후, 케이싱 (40) 은 하우징 (6) 을 폐쇄하도록 슬라이딩된다. 이 때, 헤어는 슬릿 (19) 을 통하여 나간다.
처리된 모발을 빼내기 위해서, 조작은 역순으로 수행된다.
22 ㎜ 의 컬러의 몸체의 내부 직경에 대해 안테나 (30) 의 외부 직경은 예를 들어 9.2 ㎜ 이다.
온도 검출기는 처리된 헤어 타래의 온도를 측정하도록 챔버 (4) 내, 예를 들어 그것의 내부 표면에 존재할 수 있고, 제어 시스템, 예를 들어 마이크로프로세서 시스템은 미리 규정된 한계치를 초과하는 검출된 온도의 경우에 마이크로파 방출을 차단하거나 변경하는 것을 가능하게 할 수도 있다.
도 14 에 도시된 대로, 여러 핸드헬드 피스들 (3) 은 하나의 동일한 발생기 (1) 에 연결될 수도 있다.
비교 테스트들: 선형 안테나를 구비한 컬러 및 나선형 안테나를 구비한 컬러
중심 부분의 양측에 위치한 PTFE 디스크들에 의해 형성된 2 개의 단부들을 갖는 유리로 만들어진 중공 유전 튜브로 형성된 중심 직선부를 포함하는 직선 안테나를 구비한 컬러가 사용된다.
나선형 안테나를 구비한 컬러는 취급 및 컬러로 도입을 용이하게 하기 위해서 얇은 PTFE 글러브 핑거에 의해 보호되는, 원통형 PTFE 바에 감긴 나선형의 금속 안테나를 포함한다.
Figure 112019081460823-pct00003
직선형 안테나를 구비한 컬러들 및 나선형 안테나를 구비한 컬러들에 감긴 헤어에 대한 시간 경과에 따른 온도 상승은 도 15 및 도 16 에 각각 도시되어 있다.
직선형 안테나의 경우에, 등가 전기 회로는 코어와 벽들 사이에 용량 (C) 을 가지며 용량 커플링이 있다.
입사 필드는 임의의 지점에서 코어의 표면에 수직이며, 따라서 컬러의 벽들에 또한 수직이다.
나선형 안테나의 경우, 코어와 벽들 사이의 것에 추가된 커플링, 즉 안테나의 루프들 사이의 커플링이 있다. 이것은 용량성 및 유도성 커플링들을 유도한다.
필드 (F) 는 임의의 지점에서 안테나의 표면에 수직이며, 따라서 모든 지점들에서 컬러의 벽들에 수직은 아니다. 따라서 타래의 전체 부피에 걸쳐 더 양호하게 분배되어 있는 열원들과 필드 최대치를 합치고, 이는 온도를 균일하게 만드는데 기여한다.
안테나의 길이를 증가시키면 안테나 주위의 전계의 최대치 및 최소치 수를 증가시키고 결과적으로 헤어 타래에서 열원의 수를 증가시킨다.
또한, 나선형 안테나의 경우, 다음이 관찰된다:
- 반사 전력 (Pr) 감소,
- 하나의 동일한 컬러를 위한 직선형 안테나와 나선형 안테나 사이 컬러를 따라 온도 균질성 개선.
따라서, 타래를 따라 다수의 열원들을 생성하는 것을 가능하게 하는, 특히 나선형인, 비교적 긴 길이를 가지는 안테나의 장점을 이 테스트들로부터 알 수 있다. 이러한 소스들은 원하는 가열을 균일하게 하는데 기여하도록 아주 가까이 있다. 타래에서 마이크로파의 전파 방법은 유전 특성의 변화에 의해 영향을 받지 않는다.

Claims (14)

  1. 적어도 하나의 헤어 타래 (lock) 를 처리하기 위한 처리 디바이스로서,
    - 기계적 응력을 헤어에 적용하기 위한 적어도 하나의 디바이스 (20),
    - 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 및 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 마이크로파 차폐 챔버 (4),
    - 상기 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 내부에 배치된 나선형 마이크로파 방출 안테나 (30)
    를 포함하고,
    상기 챔버는 상기 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 및 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 하우징 (6) 을 가지고, 상기 마이크로파 방출 안테나 (30) 는 상기 챔버 내부에 배치되고, 기계적 구속 적용 디바이스를 수용하기 위한 하우징 (6) 은, 상기 기계적 구속 적용 디바이스 (20) 의 배치 및 제거를 허용하는 개방 위치와, 상기 챔버가 마이크로파 방지성이고 상기 안테나 (30) 가 상기 기계적 구속 적용 디바이스 (20) 에 접근하는 폐쇄 위치 사이에서 상기 안테나 (30) 에 대해 움직이는 드로어 (50; drawer) 에 의해 적어도 부분적으로 규정되고,
    상기 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 는 컬러 (curler) 이고, 상기 디바이스는 상기 안테나 (30) 를 지지하는 케이싱 (40) 을 포함하고, 상기 드로어 (50) 는 상기 케이싱 (40) 의 종방향 축선을 따라 슬라이딩하고, 상기 안테나 (30) 의 축선은 상기 드로어 (50) 의 슬라이딩 축선에 평행하고, 상기 케이싱 (40) 은 상기 드로어 (50) 의 대응하는 슬라이드 (51) 에 맞물린 원호형 러그 (41) 를 포함하고, 상기 하우징 (6) 의 내부 표면은 전도성 코팅 (7) 으로 커버되고, 헤어용 출구 슬릿 (19) 은 상기 케이싱 (40) 과 상기 드로어 (50) 사이에 형성되고, 상기 코팅은 상기 슬릿 (19) 을 차단하기 위해서, 헤어가 없을 때, 정지하도록 구성되고, 상기 디바이스는 상기 케이싱 (40) 에 대향한 단부에서 상기 하우징 (6) 을 폐쇄하는 단부 플레이트 (54) 를 포함하는, 처리 디바이스.
  2. 적어도 하나의 헤어 타래 (lock) 를 처리하기 위한 처리 디바이스로서,
    - 기계적 응력을 헤어에 적용하기 위한 적어도 하나의 디바이스 (20),
    - 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 및 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 마이크로파 차폐 챔버 (4),
    - 상기 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 내부에 배치된 나선형 마이크로파 방출 안테나 (30)
    를 포함하고,
    상기 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 및 처리될 헤어의 적어도 일 부분을 수용하도록 구성된 하우징 (6) 을 갖는 케이싱 (10) 에 의해, 그리고 하우징으로 접근을 허용하는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 상기 케이싱 (10) 에 대해 피봇하는 커버 (11) 에 의해 상기 챔버는 적어도 부분적으로 규정되고, 상기 마이크로파 방출 안테나는 상기 하우징 내부에 배치되고, 상기 커버가 개방될 때 상기 케이싱에 대한 축선 방향 운동에 의해 기계적 구속 적용 디바이스 (20) 의 배치 및 제거를 허용하도록 상기 하우징은 일 단부 (5) 에서 개방되고, 상기 하우징 내 제 위치에 놓일 때 상기 기계적 구속 적용 디바이스로 상기 안테나를 삽입하도록 상기 기계적 구속 적용 디바이스 및 상기 안테나가 배열되는, 처리 디바이스.
  3. 제 1 항에 있어서,
    기계적 응력을 헤어에 적용하기 위한 상기 적어도 하나의 디바이스 (20) 는 헤어 타래를 수용하도록 된 수용 표면을 갖고, 상기 수용 표면은 폭 (L) 에 걸쳐 연장되고,
    상기 안테나는 상기 수용 표면의 폭 (L) 의 적어도 80% 인 거리 (D) 에 걸쳐 축선 방향으로 연장되는, 처리 디바이스.
  4. 제 1 항에 있어서,
    사용된 마이크로파 주파수는 엄격히 2 ㎓ 보다 크고 3 ㎓ 미만인, 처리 디바이스.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 안테나는 4 내지 5 ㎜ 의 고정된 나선형 피치를 가지는, 처리 디바이스.
  6. 제 5 항에 있어서,
    나선의 반경은 일정하고, 4 내지 10 ㎜ 인, 처리 디바이스.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 안테나의 축선 방향 연장부 (D) 는 15 내지 80 ㎜, 또는 65 내지 75 ㎜ 인, 처리 디바이스.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 안테나 (30) 및 상기 기계적 구속 적용 디바이스 (20) 는 상기 드로어 (50) 의 폐쇄 위치에서 상기 안테나가 기계적 구속 적용 디바이스 (20) 내부에 맞물리는 방식으로 배열되는, 처리 디바이스.
  9. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 안테나 (30) 의 길이 (D) 는 상기 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 의 길이 (N) 의 적어도 50%, 또는 적어도 70% 를 나타내는, 처리 디바이스.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항의 처리 디바이스를 이용하여 헤어를 처리하기 위한 미용 프로세스로서,
    a) 헤어 타래를 수용하도록 된 수용 표면을 가지는, 기계적 응력 적용 디바이스 (20) 를 통하여, 적어도 하나의 헤어 타래에 기계적 응력을 적용하는 적용 단계로서, 상기 수용 표면은 폭 (L) 에 걸쳐 연장되는, 상기 적용 단계,
    b) 상기 기계적 응력 적용 디바이스 내부에 배치된 마이크로파 방출 안테나 (30) 에 의해 이와 같이 기계적 응력을 받는 헤어를 마이크로파에 노출하는 단계 노출 단계로서, 상기 안테나는 적어도 L/2 인 거리 (D) 에 걸쳐 축선 반향으로 연장되고, 상기 기계적 응력 적용 디바이스 및 처리될 타래의 적어도 일부는 마이크로파 차폐 챔버 (4) 에 수용되는 노출 단계
    를 적어도 포함하는, 헤어를 처리하기 위한 미용 프로세스.
  11. 제 10 항에 있어서,
    기계적 응력의 적용은 컬러로 실시되고, 상기 안테나 (30) 는 나선형이고 상기 컬러 내부에 배치되는, 헤어를 처리하기 위한 미용 프로세스.
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