JP7049354B2 - 髪処理デバイス - Google Patents
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Description
機械的応力を該髪に施与する為の少なくとも1つの機械的応力適用デバイス(20)と、
該機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたマイクロ波不透過チャンバー(4)と、
前記機械的応力適用デバイス(20)内に配置された螺旋状のマイクロ波放出アンテナ(30)と、
を備えており、
ここで、マイクロ波不透過チャンバー(4)が、前記機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたハウジング(6)を有し、前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記マイクロ波不透過チャンバー(4)内に配置されており、前記機械的応力適用デバイス(20)を受容する前記ハウジング(6)が、前記機械的応力適用デバイス(20)の設置及び除去を可能にする開放位置と、前記マイクロ波不透過チャンバー(4)がマイクロ波不透過であり且つ前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記機械的応力適用デバイス(20)に近付くところの閉鎖位置との間で、前記マイクロ波放出アンテナ(30)に相対的に移動可能なドロワー(50)によって少なくとも部分的に画定され、
前記機械的応力適用デバイス(20)がカーラーであり、前記処理デバイスが、前記マイクロ波放出アンテナ(30)を保持するケーシング(40)を保持し、前記ドロワー(50)が、前記ケーシング(40)の長手方向軸に沿って滑り、前記マイクロ波放出アンテナ(30)の前記軸が、前記ドロワー(50)の滑り軸に平行であり、前記ケーシング(40)が、前記ドロワー(50)の対応するスライド(51)に係合される、アーク形状のラグ(41)を含み、前記ハウジング(6)の内面が、伝導性コーティング(7)で覆われており、髪用の出口スリット(19)が、前記ケーシング(40)と前記ドロワー(50)との間に形成されており、前記コーティングは、髪が存在しない状態では、静止状態になって前記スリット(19)をふさぐように構成されており、前記処理デバイスは、前記ケーシング(40)の反対側の端部で前記ハウジング(6)を閉鎖する端板(54)を有する、
前記処理デバイスを記載する。
また、本発明は、少なくとも一房の髪を処理する為のデバイス(以下、処理デバイスともいう)であって、
機械的応力を該髪に施与する為の少なくとも1つの機械的応力適用デバイス(20)と、
該機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたマイクロ波不透過チャンバー(4)と、
前記マイクロ波不透過チャンバー(4)内に配置された螺旋状のマイクロ波放出アンテナ(30)と、
を備えており、
ここで、マイクロ波不透過チャンバー(4)が、前記機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたハウジング(6)を有するケーシング(10)によって、並びに前記ハウジング(6)へのアクセスを与える開放位置と閉鎖位置との間で前記ケーシング(10)に相対的に旋回するカバー(11)によって、少なくとも部分的に画定されており、前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記ハウジング(6)内に配置されており、前記ハウジング(6)が、前記カバー(11)が開けられたときに、前記ケーシング(10)に相対的に軸方向運動によって前記機械的応力適用デバイス(20)の設置及び除去が可能になるように一端(5)で開放されており、並びに前記機械的応力適用デバイス(20)及び前記マイクロ波放出アンテナ(30)は、前記機械的応力適用デバイス(20)が前記ハウジング(6)内の所定位置に置かれたときに前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記機械的応力適用デバイス(20)内に挿入されるように配置構成されている、
前記処理デバイスを記載する。
本明細書は、髪を処理する為の美容的方法であって、少なくとも下記工程:
・a)少なくとも一房の髪を受容するように意図される受容表面を有する機械的応力適用デバイスを介して機械的応力を該髪に施与する工程、ここで、該表面は、上記房に垂直な方向の幅Lが大きい、
・b)機械的応力下でこのように配置された髪を、機械的応力適用デバイス内に配置されたマイクロ波放出アンテナによってマイクロ波に曝露する工程、ここで、このアンテナは、少なくともL/2に等しい距離Dにわたって軸方向に延在し、機械的応力適用デバイス及び処理されるべき該房の少なくとも一部は、マイクロ波不透過チャンバー内で受容される、
にある工程を含む、上記方法を記載する。
語「マイクロ波」は、500MHz~300GHzの周波数を持つ電磁放射線を意味すると理解されるべきである。
施与される機械的応力は、他の機械的動作の間での、曲げ、引張り、捻り、及び/又は圧縮でありうる。
好ましくは、工程b)でのマイクロ波への曝露は、髪に接触させた溶媒の存在下で実施される。
該チャンバーは、少なくとも工程b)中、処理される髪と、機械的応力を施与する為のデバイスとを備えている。
該方法を行う為の処理デバイスは、例えば該チャンバーからのマイクロ波の漏出及び/又は該チャンバー内の過剰な温度を使用者に警告する為に、可聴式及び/又は発光式警告システムを含みうる。
本発明に従う方法は、更に、髪に少なくとも1種の髪処理組成物を施与することにある、少なくとも1つの工程c)を含みうる。
還元組成物
還元剤
髪整形組成物は、1以上の還元剤を含む還元組成物でありうる。
- 次の式(1)のチオグリコール酸: HS-CH2-COOH (1)、
- 下記の式(2)のチオ乳酸:
- 次の式(4)のシステアミン: HS-CH2-CH2-NH2 (4)、
- 次の式(5)のシステイン: HS-CH2-CH(NH2)-CO2H (5)
- 並びに、それらの塩、及びそれらのエステル、
- ホスフィン、スルファイト、ボロヒドライド
から選択されることができる。
還元組成物は、1以上の添加剤も含み得る。
a)水性アンモニア、
b)アルカノールアミン、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミン、またそれらの誘導体、
c)オキシエチレン化及び/又はオキシプロピレン化エチレンジアミン、
d)アルカリ金属シリケート、例えばメタケイ酸ナトリウム、
e)アミノ酸、好ましくは塩基性アミノ酸、例えばアルギニン、リジン、オルニチン、シトルリン及びヒスチジン、
f)特に第一球、第二級、若しくは第三級アミン(アンモニウム)の、又はアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の、(ビ)カーボネート、並びに
g)下記の式(II)の化合物:
から選択されることができる。
1つの好ましい実現例において、工程a)の前及び/又は工程b)の後に施与される場合、還元組成物は、例えば1~50分、好ましくは1~30分、の期間にわたり作用させたままにしうる。
長期継続髪整形組成物は、1以上の水酸化物化合物を含みうる。
語「水酸化物化合物」は、水酸化物イオンを放出することが可能な化合物と理解されるべきである。ラントナイゼーションプロセスで通常使用される全ての水酸化物化合物は、本発明の文脈において、髪整形組成物中で使用されることができる。
水酸化物化合物を含む髪整形組成物は、少なくとも部分的にエマルジョンの、好ましくは水中油又は油中水エマルジョン、の形態でありうる。
両性乳化剤、例えばN-アシルアミノ酸、例えばN-アルキルアミノアセテート及びココアンホ二酢酸二ナトリウム、及びアミンオキシド、例えばステアラミンオキシド、
陰イオン性乳化剤、例えばアシルグルタメート、例えば「二ナトリウム水素化牛脂グルタメート」(味の素社により販売されるAmisoft HS-21(登録商標);カルボン酸及びその塩、例えばステアリン酸ナトリウム;リン酸エステル及びその塩、例えば「DEAオレス-10ホスフェート」;スルホスクシネート、例えば「二ナトリウムPEG-5シトレートラウリルスルホスクシネート」及び「二ナトリウムリシノールアミドMEAスルホスクシネート」、
陽イオン性乳化剤、例えばアルキルイミダゾリジニウム、例えばイソステアリルエチルイミドニウムエトスルフェート;アンモニウム塩、例えばN,N,N-トリメチル-1-ドコサナミニウム塩化物(塩化ベヘントリモニウム)、及び
非イオン性乳化剤、例えば糖エステル及びエーテル、例えばステアリン酸スクロース、ヤシ脂肪酸スクロース、並びにステアリン酸ソルビタンとヤシ脂肪酸スクロースとの混合物であって、ICI社によりArlatone 2121(登録商標)という名称で販売されているもの;ポリオールエステル、例えばグリセロール又はソルビトールエステル、例えばステアリン酸グリセリル、ステアリン酸ポリグリセリル-2、ステアリン酸ソルビタン;グリセロールエーテル;オキシエチレン化及び/又はオキシプロピレン化エーテル、例えば、25個のオキシエチレン化基及び25個のオキシプロピレン化基を含有するラウリルアルコールのオキシエチレン化、オキシプロピレン化エーテル(CTFA名「PPG-25ラウレス-25」)、及び7個のオキシエチレン化基を含むC12~C15脂肪アルコールの混合物のオキシレチレン化エーテル(CTFA名「C12~C15パレス-7」)、エチレングリコールのポリマー、例えばPEG-100、及びこれらの混合物が利用されうる。
1つの好ましい実現例において、工程a)の前及び/又は工程b)の後に施与させる場合、水酸化物化合物を含む組成物は、例えば5~60分間、好ましくは10~20分間、の期間にわたり、作用させたままである。
語「酸組成物」は、例えば1以上のカルボン酸、スルホン酸、リン酸、又はリン酸官能基を含む酸から選択される1以上の酸を含む組成物と理解される。
固定組成物は、酸化組成物である。
その観点のもう1つに従うと、本発明は、特に上記定義された方法を行う為の髪処理デバイスであって、下記:
処理される髪に対して少なくとも1つの捻れ、引張り、又は圧縮拘束を発揮するように特に構成された、少なくとも一房の髪に機械的応力を施与する為の少なくとも1つのデバイス、
機械的応力適用デバイス及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたマイクロ波不透過チャンバー、
チャンバー内に、好ましくは機械的応力適用デバイス内に、配置されたマイクロ波放出アンテナ
を含む上記デバイスに関する。
少なくとも一房の髪に機械的応力を施与する為のデバイス、好ましくはカーラー、
機械的応力適用デバイス及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたハウジングを有する、マイクロ波不透過チャンバー、
チャンバー内に配置されたマイクロ波放出アンテナ
を含み、
機械的拘束適用デバイスを受容する為の該ハウジングは、機械的拘束適用デバイスの設置及び除去を可能にする開放位置と、チャンバーがマイクロ波不透過であり且つアンテナが機械的拘束適用デバイスに近付くところの閉鎖位置との間で、アンテナに相対的に移動可能なドロワーによって少なくとも部分的に画定される
上記デバイスでもある。
少なくとも一房の髪に機械的応力を施与する為のデバイス、好ましくはカーラー、と、
機械的応力適用デバイス及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたハウジングを有するケーシングによって、並びにハウジングへのアクセスを与える開放位置と閉鎖位置との間でケーシングに相対的に旋回するカバーによって、少なくとも部分的に画定されたチャンバーと
を含み、マイクロ波放出アンテナはハウジング内に配置されており、ハウジングは、カバーが開けられたときに、ケーシングに相対的に軸方向運動によって機械的拘束適用デバイスの設置及び除去が可能になるように一端で開放されており、並びに機械的拘束適用デバイス及びアンテナは、機械的拘束適用デバイスがハウジング内の所定位置に置かれたときにアンテナが機械的拘束適用デバイス内に挿入されるように配置構成されている
上記デバイスである。
ガラスで作製された中空誘電体管から形成された中心ストレート部分を含む真っ直ぐなアンテナを持ち、2つの端部が中心部分のどちらかの側に配置されたPTFEディスクにより形成されたところのカーラーが使用される。
反射出力(Pr)における減少、
同一のカーラーに関する、上記真っ直ぐなアンテナと上記螺旋状アンテナとの間での、該カーラーに沿った温度の均質性における改善。
Claims (10)
- 少なくとも一房の髪を処理する為のデバイス(以下、処理デバイスともいう)であって、
機械的応力を該髪に施与する為の少なくとも1つの機械的応力適用デバイス(20)と、
該機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたマイクロ波不透過チャンバー(4)と、
前記機械的応力適用デバイス(20)内に配置された螺旋状のマイクロ波放出アンテナ(30)と、
を備えており、
ここで、マイクロ波不透過チャンバー(4)が、前記機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき髪の少なくとも一部を受容するように構成されたハウジング(6)を有し、前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記マイクロ波不透過チャンバー(4)内に配置されており、前記機械的応力適用デバイス(20)を受容する前記ハウジング(6)が、前記機械的応力適用デバイス(20)の設置及び除去を可能にする開放位置と、前記マイクロ波不透過チャンバー(4)がマイクロ波不透過であり且つ前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記機械的応力適用デバイス(20)に近付くところの閉鎖位置との間で、前記マイクロ波放出アンテナ(30)に相対的に移動可能なドロワー(50)によって少なくとも部分的に画定され、
前記機械的応力適用デバイス(20)がカーラーであり、前記処理デバイスが、前記マイクロ波放出アンテナ(30)を保持するケーシング(40)を保持し、前記ドロワー(50)が、前記ケーシング(40)の長手方向軸に沿って滑り、前記マイクロ波放出アンテナ(30)の前記軸が、前記ドロワー(50)の滑り軸に平行であり、前記ケーシング(40)が、前記ドロワー(50)の対応するスライド(51)に係合される、アーク形状のラグ(41)を含み、前記ハウジング(6)の内面が、伝導性コーティング(7)で覆われており、髪用の出口スリット(19)が、前記ケーシング(40)と前記ドロワー(50)との間に形成されており、前記コーティングは、髪が存在しない状態では、静止状態になって前記スリット(19)をふさぐように構成されており、前記処理デバイスは、前記ケーシング(40)の反対側の端部で前記ハウジング(6)を閉鎖する端板(54)を有する、
前記処理デバイス。 - 前記機械的応力適用デバイス(20)が該少なくとも一房の髪を受容するように意図される受容表面を有し、該受容表面は、幅Lにわたって拡がり、前記マイクロ波放出アンテナ(30)が、前記受容表面の前記幅Lの少なくとも80%に等しい距離Dにわたって軸方向に延在する、請求項1に記載の処理デバイス。
- 使用されるマイクロ波周波数が、厳密に2GHz超且つ3GHz未満である、請求項1又は2に記載の処理デバイス。
- 前記マイクロ波放出アンテナ(30)が4~5mmの固定された螺旋ピッチを有し、該螺旋の半径が好ましくは一定である、請求項3に記載の処理デバイス。
- 前記マイクロ波放出アンテナ(30)の軸方向の延び(D)が、15~80mmである、請求項3又は4に記載の処理デバイス。
- 前記マイクロ波放出アンテナ(30)及び前記機械的応力適用デバイス(20)が、前記ドロワー(50)の閉鎖位置において、前記マイクロ波放出アンテナ(30)が前記機械的応力適用デバイス(20)内に係合されるように配置構成されている、請求項1に記載の処理デバイス。
- 前記マイクロ波不透過チャンバー(4)を出す為の、前記髪の為のスリット(19)を含み、このスリットは、前記マイクロ波不透過チャンバー(4)が閉じられたときに前記マイクロ波不透過性を生成する為に前記髪にフィットする導電性コーティング(7)によって縁取りがされている、請求項1~6のいずれか1項に記載の処理デバイス。
- 前記マイクロ波放出アンテナ(30)の長さ(D)が、前記機械的応力適用デバイス(20)の長さ(N)の少なくとも50%を表す、請求項1~7のいずれか1項に記載の処理デバイス。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の、前記処理デバイスを用いて髪を処理する為の美容的方法であって、少なくとも下記工程:・a)少なくとも一房の髪に、該少なくとも一房の髪を受容するように意図される受容表面を有する機械的応力適用デバイス(20)を介して機械的応力を施与すること、ここで、該受容表面は、幅Lにわたって拡がる、
・b)機械的応力下でこのように配置された髪を、前記機械的応力適用デバイス(20)内に配置されたマイクロ波放出アンテナ(30)によってマイクロ波に曝露すること、ここで、該マイクロ波放出アンテナ(30)は、少なくともL/2に等しい距離Dにわたって軸方向に延在し、該機械的応力適用デバイス(20)及び処理されるべき該房の少なくとも一部は、マイクロ波不透過チャンバー(4)内で受容される、
を含む、上記方法。 - 前記機械的応力の適用がカーラーで実行され、前記マイクロ波放出アンテナ(30)が螺旋状であり且つ前記カーラー内に配置される、請求項9に記載の方法。
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