KR102282647B1 - 옥심 에스테르 광개시제 - Google Patents
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Abstract
구체적 벤조 (불포화 5-원 고리)-카르보닐 기를 갖는 옥심 에스테르 화합물 및 광중합성 조성물에서의, 특히 디스플레이 응용, 예를 들어 액정 디스플레이 (LCD), 유기 발광 다이오드 (OLED) 및 터치 패널을 위한 포토레지스트 배합물에서의 광개시제로서의 그의 용도가 개시된다.
Description
본 발명은 구체적 벤조-(불포화 5-원 고리)-카르보닐 기를 갖는 새로운 옥심 에스테르 화합물 및 광중합성 조성물에서의, 특히 디스플레이 응용, 예를 들어 액정 디스플레이 (LCD), 유기 발광 다이오드 (OLED) 및 터치 패널을 위한 포토레지스트 배합물에서의 광개시제로서의 그의 용도에 관한 것이다.
헤테로아릴 모이어티를 갖는 옥심 에스테르 화합물은 관련 기술분야에 공지되어 있다. 예를 들어 CN103044581A에는 거대분자 광개시제, 그의 제조 방법 및 광경화성 조성물에서의 그의 응용이 제공되어 있다. KR1225695B1에는 광중합 개시제로서 α-케톡심 에스테르 화합물이 개시되어 있다. KR2013003305A에는 푸란-2-일, 3-메틸티오펜-2-일 또는 2-메틸페닐 기를 함유하는 옥시미노 디티오카르보네이트 화합물이 광개시제로 기재되어 있다. CN102492060B에는 O 또는 S-함유 헤테로시클릭 라디칼 치환된 아릴 또는 O 또는 S를 함유하는 적어도 1개의 치환기를 갖는 아릴을 포함하는 디-페닐 술피드 옥심 에스테르 유형 광개시제가 개시되어 있다.
위치특이적 및 입체특이적 방식의 그의 각각의 카르보닐 전구체로부터의 특정 이미노 나프토[2,3-b]푸란 유도체의 합성은 문헌 [Bioorganic & Medicinal Chemistry, Volume: 18, Issue: 14, Pages: 5172-5182]에 기재되어 있다. KR2013010621A에는 탈수 축합 반응에 의해 9H-카르바졸-기재 화합물을 디시클로헥실카르보디이미드와 반응시키는 것에 의한 옥심 에스테르 화합물의 제조가 개시되어 있다.
추가의 옥심 에스테르 화합물은 예를 들어 WO2010/060702 및 WO08138724에 제공되어 있다. WO 2004050653 A2에는 헤테로방향족 기를 갖는 옥심 에스테르 광개시제가 개시되어 있다.
유리 기재 상에 블랙 매트릭스 및 적색, 녹색 및 청색 픽셀을 포함하는, LCD 및 백색 OLED용 컬러 필터 (CF)는 라디칼 광중합성 레지스트를 사용하는 포토리소그래피에 의해 제조된다.
LCD용 오버코트 층은 컬러 필터의 표면을 평탄화하고 액정의 배향을 증진시키고 CF에서 액정으로의 이온 용리를 방지하기 위해 사용된다. 오버코트는, 예를 들어, 220℃에서 30분 동안 가열함으로써 또는 후-베이킹 공정 전에 포토리소그래피와 조합으로 컬러 필터 상에 아크릴레이트 수지 및/또는 에폭시 수지를 기재로 하는 열경화성 수지를 사용하여 제조된다. 열적 안정성, 내광성, 접착력, 경도 및 투명성이 요구된다.
LCD 패널에서 액정 층의 셀 간극을 제어하는 LCD용 스페이서는 감광성 조성물을 사용하는 포토리소그래피에 의해 높은 위치상 정밀도로 형성된다. 포토스페이서는 오버코트 또는 컬러 필터 상에 라디칼 중합성 레지스트를 사용하는 포토리소그래피에 의해 제조된다. 포토리소그래피 후에, 포토스페이서를, 예를 들어, 220℃에서 60분 동안 베이킹하여 열적 안정성, 기계적 강도, 접착력, 셀 간극 제어성 및 높은 변형 복원성을 수득한다.
투명한 칼럼 스페이서는 LCD 기술에 광범위하게 사용되어 왔으나, 투명한 스페이서는 편광을 방해하여 콘트라스트 비를 감소시킨다. 가능한 해결책 중 하나는 흑색 착색제와 혼합하여 편광을 산란시키는 것이 아니라 흡수하는 것, 즉 블랙 칼럼 스페이서이다. 블랙 칼럼 스페이서는 또한 LCD 기술에 사용된다.
또한, LCD 및 OLED용 백플레인에서의 패시베이션 층은 포토리소그래피, 뿐만 아니라 OLED용 뱅크 층/픽셀 한정 층에 의해 제조될 수 있다.
추가로, 터치 패널용 투명 전도성 층은 포토리소그래피에 의해 제조될 수 있다.
따라서, 에너지 소비를 감소시키고, 더 높은 생산성에 대한 더 짧은 택트 타임 및/또는 디스플레이 응용을 위한 물질의 선택에서의 더 많은 자유를 달성하기 위해, 고도로 감광성인 광개시제에 대한 강한 요구가 시장에 존재한다. 따라서, 감광성 수지에 사용되는 광개시제는 고도로 반응성이고 제조하기 용이하고 취급하기 용이해야 한다. 예를 들어, 컬러 필터 레지스트 응용에서, 고도로 안료처리된 레지스트가 높은 색 품질 특성을 위해 요구된다. 안료 함량의 증가로, 컬러 레지스트의 경화는 더 어려워진다. 따라서, 높은 감수성을 갖는 광개시제가 요구된다. 게다가, 또한 이러한 새로운 광개시제는, 예를 들어, 용이한 취급, 높은 용해도, 열적 안정성 및 저장 안정성과 같은 특성에 관한 산업의 높은 요건을 충족시켜야 한다. 게다가, 디스플레이 응용에서의 개시제는 패턴의 표면 평활도, 기재에의 접착력 등에 기여하여야 한다. 또한, 화합물의 제조를 위한 상응하는 중간체에 대한 용이한 접근법이 주어져야 한다. 따라서, 상기 주어진 바와 같은 요건의 완벽한 균형, 예를 들어, 제조 방법의 관점에서의 접근가능성과 공정 뿐만 아니라 예를 들어 감수성, 용해도 등으로서의 화합물의 특성 사이의 허용되는 균형을 제공하는 광개시제 화합물이 여전히 필요하다.
본 발명에 이르러, 하기 화학식 I 또는 II의 화합물이 상기 요건을 충족시키는 것으로 밝혀졌다.
<화학식 I>
<화학식 II>
상기 식에서
X는 
이고;
A는 O, S, NR5 또는 CR16R17이고;
R1은 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는
할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C3-C8시클로알킬,
1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R1은 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는
R1은 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 이들 각각은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재되거나; 또는
R1은 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 SO2-R1a에 의해 치환되거나; 또는
R1은 C1-C20알콕시이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C10알킬, C1-C4할로알킬, 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐 또는 C1-C8알콕시페닐에 의해 치환되거나; 또는
R1은 C2-C20알콕시이며, 이는 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재되거나; 또는
R1은 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이며, 상기 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 SO2R1a에 의해 치환되고;
R1a는 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, CN, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C8시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되고, 상기 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환되거나; 또는
R1a는 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)-(C1-C8알킬), (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환되거나; 또는
R1a는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 이들 각각은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5a 또는 COOR3a가 개재되거나; 또는
R1a는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)-(C1-C8알킬), 벤조일 또는 SO2-(C1-C4할로알킬)에 의해 치환되거나; 또는
R1a는 C1-C20알콕시이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C10알킬, C1-C4할로알킬, 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐 또는 C1-C8알콕시페닐에 의해 치환되거나; 또는
R1a는 C2-C20알콕시이며, 이는 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재되거나; 또는
R1a는 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이며, 상기 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)(C1-C8알킬), SO2-(C1-C4할로알킬), 벤조일, 또는 
에 의해 치환되고, 상기 벤조일 또는 
은 비치환되거나 또는 
에 의해 치환되고;
R2는 수소, CN, (CO)R1a, (CO)OR3, CONR5R6, NO2, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a이거나; 또는
R2는 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, (CO)OR3, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R2는 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는
R2는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재되거나; 또는
R2는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는
할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)-R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5R6, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되고;
R2a는 수소, CN, (CO)R1a, (CO)OR3a, CONR5aR6a, NO2, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a이거나; 또는
R2a는 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는
할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, CN, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C8시클로알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R2a는 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환되거나; 또는
R2a는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5a 또는 COOR3a가 개재되거나; 또는
R2a는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)R1a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5aR6a, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5a가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되고;
R3은 수소, (CO)R1a, (CO)OR3a, CONR5R6, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, CN, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C8시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R3은 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환되거나; 또는
R3은 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5a 또는 COOR3a가 개재되거나; 또는
R3은 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)R1a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5aR6a, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5a가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R3은, R2의 탄소 원자 중 1개 또는 M과 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재되고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)R1a, NO2, 할로겐, C1-C4-할로알킬, CN, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, 
또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되고;
R3a는 수소, (CO)O(C1-C8알킬) 또는 CON(C1-C8알킬)2이거나; 또는
R3a는 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OH, SH, CN, C3-C8알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), O(CO)(C1-C8알킬), O(CO)(C2-C4)알케닐, O(CO)페닐, (CO)OH, (CO)O(C1-C8알킬), C3-C8시클로알킬, SO2(C1-C4할로알킬), O(C1-C4할로알킬), 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐 및 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R3a는 1개 이상의 O, S, N(C1-C8알킬), CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)(C1-C8알킬), (CO)O(C1-C8알킬), (CO)N(C1-C8알킬)2, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, C1-C8알콕시, C1-C8알킬술파닐 또는 N(C1-C8알킬)2에 의해 치환되거나; 또는
R3a는 C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, N(C1-C8알킬) 또는 COO(C1-C8알킬)이 개재되거나; 또는
R3a는 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐이며, 상기 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN, NO2, OH, C1-C8알킬, C1-C4할로알킬, C1-C8알콕시, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C8알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C8알킬)2, 디페닐아미노, (CO)O(C1-C8알킬), (CO)C1-C8알킬 또는 (CO)N(C1-C8)2, 페닐 또는 벤조일에 의해 치환되거나; 또는
R3a는 C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이며, 상기 C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, OH, C1-C8알콕시, 페녹시, C1-C8알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C8알킬)2 또는 디페닐아미노에 의해 치환되고;
R4는 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, CN, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C8시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R4는 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환되거나; 또는
R4는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5a 또는 COOR3a가 개재되거나; 또는
R4는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)R1a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5aR6a, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5a가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R4는, R2의 탄소 원자 중 1개 또는 M과 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재되고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)R1a, NO2, 할로겐, C1-C4-할로알킬, CN, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, 
또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되고;
R4a는 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 할로겐, OH, SH, CN, C3-C8알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), O(CO)(C1-C8알킬), O(CO)(C2-C4)알케닐, O(CO)페닐, (CO)OH, (CO)O(C1-C8알킬), C3-C8시클로알킬, SO2(C1-C4할로알킬), O(C1-C4할로알킬), 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐 및 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R4a는 1개 이상의 O, S, N(C1-C8알킬), CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)(C1-C8알킬), (CO)O(C1-C8알킬), (CO)N(C1-C8알킬)2, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, C1-C8알콕시, C1-C8알킬술파닐 또는 N(C1-C8알킬)2에 의해 치환되거나; 또는
R4a는 C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, N(C1-C8알킬) 또는 COO(C1-C8알킬)이 개재되거나; 또는
R4a는 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐이며, 상기 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN, NO2, OH, C1-C8알킬, C1-C4할로알킬, C1-C8알콕시, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C8알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C8알킬)2, 디페닐아미노, (CO)O(C1-C8알킬), (CO)C1-C8알킬, (CO)N(C1-C8)2, 페닐 또는 벤조일에 의해 치환되거나; 또는
R4a는 C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이며, 상기 C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, OH, C1-C8알콕시, 페녹시, C1-C8알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C8알킬)2 또는 디페닐아미노에 의해 치환되고;
R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, S(O)mR1a, O(CO)R1a, (CO)R1a 또는 CONR5aR6a이거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, CN, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C8시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5a 또는 COOR3a가 개재되거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)R1a, (CO)NR5aR6a, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5aR6a, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5a가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 OR3a, SR4a 또는 NR5aR6a에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 C1-C20알콕시이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C8알킬페닐 또는 C1-C8알콕시페닐에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 C2-C20알콕시이며, 이는 1개 이상의 O, S, NR5a, CO, SO 또는 SO2가 개재되거나; 또는
R5 및 R6은 서로 독립적으로 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이며, 상기 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)R1a 또는 SO2R1a에 의해 치환되거나; 또는
R5는, R2의 탄소 원자 중 1개 또는 M과 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재되고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)R1a, NO2, 할로겐, C1-C4-할로알킬, CN, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, 
또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6은 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재되고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)R1a, NO2, 할로겐, C1-C4-할로알킬, CN, 페닐, 
또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되고;
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, S(O)m(C1-C8알킬), O(CO)(C1-C8알킬), (CO)(C1-C8알킬), (CO)O(C1-C8알킬) 또는 CON(C1-C8알킬)2이거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 1개 이상의 할로겐, OH, SH, CN, C3-C8알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), O(CO)(C1-C8알킬), O(CO)(C2-C4)알케닐, O(CO)페닐, (CO)OH, (CO)O(C1-C8알킬), C3-C8시클로알킬, SO2(C1-C4할로알킬), O(C1-C4할로알킬), 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C3-C8시클로알킬 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 1개 이상의 O, S, N(C1-C8알킬), CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)(C1-C8알킬), (CO)O(C1-C8알킬), (CO)N(C1-C8알킬)2, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, C1-C8알콕시, C1-C8알킬술파닐 또는 N(C1-C8알킬)2에 의해 치환되거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬이며, C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, N(C1-C8알킬) 또는 COO(C1-C8알킬)이 개재되거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐이며, 상기 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN, NO2, OH, C1-C8알킬, C1-C4할로알킬, C1-C8알콕시, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C8알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C8알킬)2, 디페닐아미노, (CO)O(C1-C8알킬), (CO)C1-C8알킬, (CO)N(C1-C8알킬)2, 페닐 또는 벤조일에 의해 치환되거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이며, 상기 C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, OH, C1-C8알콕시, 페녹시, C1-C8알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C8알킬)2 또는 디페닐아미노에 의해 치환되거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 C1-C20알콕시이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C8알킬페닐 또는 C1-C8알콕시페닐에 의해 치환되거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 C2-C20알콕시이며, 이는 1개 이상의 O, S, N(C1-C8알킬), CO, SO 또는 SO2가 개재되거나; 또는
R5a 및 R6a는 서로 독립적으로 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이며, 상기 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C8알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, C1-C8알콕시, C1-C8알킬술파닐, N(C1-C8알킬)2, CO(OC1-C8알킬), (CO)(C1-C8알킬) 또는 SO2-(C1-C8알킬)에 의해 치환되거나; 또는
R5a 및 R6a는, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 N(C1-C8알킬)이 개재되고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C8알킬, C1-C8알콕시, C1-C8알킬술파닐, N(C1-C8알킬)2, NO2, 할로겐, C1-C4할로알킬, CN, 페닐 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 N(C1-C8알킬)이 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되고;
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, 할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
이며, 여기서 치환기 OR3, SR4 또는 NR5R6은 기 X 상의 추가의 치환기와 함께 라디칼 R3, R4, R5 또는 R6을 통해 5- 또는 6-원 고리를 임의로 형성하거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, (CO)OR3, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재되거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5R6, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R8 및 R9, R9 및 R10, 또는 R10 및 R11은 
이고;
R12, R13, R14 및 R15는 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, 할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
이며, 여기서 치환기 OR3, SR4 또는 NR5R6은 기 X 상의 추가의 치환기와 함께 라디칼 R3, R4, R5 또는 R6을 통해 5- 또는 6-원 고리를 임의로 형성하거나; 또는
R12, R13, R14 및 R15는 서로 독립적으로 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, (CO)OR3, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, PO(OR1a)2 또는 S(O)mR1a에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는
R12, R13, R14 및 R15는 서로 독립적으로 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는
R12, R13, R14 및 R15는 서로 독립적으로 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재되거나; 또는
R12, R13, R14 및 R15는 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)m-R1a, 
,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3a, CONR5R6, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되고;
R16 및 R17은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, (CO)OR3, (CO)NR5R6, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R16 및 R17은 서로 독립적으로 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는
R16 및 R17은 서로 독립적으로 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이며, 상기 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재되거나; 또는
R16 및 R17은 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 SO2R1a에 의해 치환되거나; 또는
R16 및 R17은, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재되고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)R1a, NO2, 할로겐, C1-C4할로알킬, CN, 페닐 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5a가 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되고;
Ar1은 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일, C3-C20헤테로아릴카르보닐 또는 
이며, 상기 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일, C3-C20헤테로아릴카르보닐 또는 
은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
,
페닐 고리 상의 추가의 치환기와 함께 라디칼 R3, R4, R5 또는 R6을 통해 5- 또는 6-원 고리를 임의로 형성하는 치환기 OR3, SR4, NR5R6,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3, CONR5R6, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된 C1-C20알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5가 개재된 C2-C20알킬,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재된, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬,
비치환되거나 또는 OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
Ar1은 
이고;
Ar2는 페닐렌, 나프틸렌, 페닐렌카르보닐, 나프틸렌카르보닐, 
이며, 상기 페닐렌, 나프틸렌, 페닐렌카르보닐, 나프틸렌카르보닐, 
은 비치환되거나 또는 할로겐, CN, NO2, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, PO(OR1a)2, S(O)mR1a, 
, OR3, SR4, NR5R6,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3, CONR5R6, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된 C1-C20알킬,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재된, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬,
1개 이상의 O, S 또는 NR5가 개재된 C2-C20알킬,
비치환되거나 또는 OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되고;
M은 C1-C20알킬렌이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, (CO)OR3, (CO)NR5R6,
비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
M은 1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬렌이며, 상기 C2-C20알킬렌은 비치환되거나 또는 C3-C8시클로알킬, OH, SH, O(CO)R1a, (CO)OR3, (CO)NR5R6, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되고, 여기서 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아릴카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C8알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는
M은 C2-C12알케닐렌 또는 C3-C20시클로알킬렌이며, 상기 C2-C12알케닐렌 또는 C3-C20시클로알킬렌은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR5 또는 COOR3이 개재되거나; 또는
M은 C6-C20아릴렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌이며, 상기 C6-C20아릴렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 SO2R1a에 의해 치환되고;
Y는 직접 결합, O, S, NR5 또는 CO이고;
Z1은 O, S, CO 또는 CR16(R17)이고;
Z2는 직접 결합, O, S 또는 NR5이고;
m은 1 또는 2이고;
Q는 CO 또는 직접 결합이다.
화합물은 
기를 함유하는 α-케톡심 에스테르 광중합 개시제이며, 여기서 A, R7, R8, R9, R10 및 R11은 상기 정의된 바와 같다.
C1-C20알킬은 선형 또는 분지형이고, 예를 들어, C1-C18-, C1-C14-, C1-C12-, C1-C8-, C1-C6- 또는 C1-C4알킬이다. 예는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 2,4,4-트리메틸펜틸, 2-에틸헥실, 옥틸, 노닐, 데실, 도데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 옥타데실 및 이코실이다.
C1-C4할로알킬은 할로겐에 의한 모든 H-원자의 교환에 이르기까지 할로겐에 의해 일- 또는 다-치환된 C1-C4알킬이다. 예는 클로로메틸, 트리클로로메틸, 트리플루오로메틸 또는 2-브로모프로필, 특히 트리플루오로메틸 또는 트리클로로메틸이다.
1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬은 정의된 라디칼이 예를 들어 1-9회, 1-7회 또는 1회 또는 2회 개재된다. 기에 1개 초과의 O가 개재된 경우에, 상기 O-원자는 1개 이상의 메틸렌 기에 의해 서로 분리되며, 즉 O-원자는 비-연속적이다. 개재된 알킬 내의 알킬 기는 선형 또는 분지형이다. 예는 하기 구조 단위 -CH2-O-CH3, -CH2CH2-O-CH2CH3, -[CH2CH2O]y-CH3 (여기서 y = 1-9임), -(CH2CH2O)7-CH2CH3, -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3, 또는 -CH2-CH(CH3)-O-CH2CH3 등이다.
C3-C20시클로알킬 또는 C3-C8시클로알킬은 모노- 또는 폴리시클릭 지방족 고리, 예를 들어 모노-, 비- 또는 트리시클릭 지방족 고리, 예를 들어 C3-C18-, C3-C12-, C3-C10시클로알킬이다. 모노시클릭 고리의 예는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 또는 시클로헵틸, 특히 시클로펜틸 및 시클로헥실이다. 폴리시클릭 고리의 예는 퍼히드로안트라실, 퍼히드로페니아트릴, 퍼히드로나프틸, 퍼히드로플루오레닐, 퍼히드로크리세닐, 퍼히드로피세닐, 아다만틸, 비시클로[1.1.1]펜틸, 비시클로[4.2.2]데실, 비시클로[2.2.2]옥틸, 비시클로[3.3.2]데실, 비시클로[4.3.2]운데실, 비시클로[4.3.3]도데실, 비시클로[3.3.3]운데실, 비시클로[4.3.1]데실, 비시클로[4.2.1]노닐, 비시클로[3.3.1]노닐, 비시클로[3.2.1]옥틸, 
등이다.
또한, "스피로"-시클로알킬 화합물, 예를 들어 스피로[5.2]옥틸, 스피로[5.4]데실, 스피로[5.5]운데실은 본 발명의 문맥에서 정의 C3-C20시클로알킬에 포함된다. 본 발명의 화합물에서의 각각의 정의의 대상인 폴리시클릭 시클로알킬 기의 더 많은 예는 EP 878738, 11 및 12면에 나열되어 있으며, 여기서 화학식 (1)-(46)에 "일(yl)"을 달성하기 위한 결합이 첨가되어야 한다. 관련 기술분야의 통상의 기술자는 이 사실을 알고 있다.
1개 이상의 O, S, CO 또는 NR5가 개재된 C3-C8시클로알킬은, 적어도 1개의 C-원자가 O, S, CO 또는 NR5에 의해 대체된, 상기 정의된 바와 같은 C3-C8시클로알킬을 지칭한다.
C2-C12알케닐은 단일 또는 다중불포화, 선형 또는 분지형이고, 예를 들어 C2-C8-, C2-C6- 또는 C2-C4알케닐이다. 예는 알릴, 메트알릴, 비닐, 1,1-디메틸알릴, 1-부테닐, 3-부테닐, 2-부테닐, 1,3-펜타디에닐, 5-헥세닐 또는 7-옥테닐, 특히 알릴 또는 비닐이다.
C1-C20알콕시는 선형 또는 분지형이고, 예를 들어 C1-C18-, C1-C16-, C1-C12-, C1-C8-, C1-C6- 또는 C1-C4-알콕시이다. 예는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부틸옥시, sec-부틸옥시, 이소-부틸옥시, tert-부틸옥시, 펜틸옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 2,4,4-트리메틸펜틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 도데실옥시, 헥사데실옥시, 옥타데실옥시 또는 이코실옥시, 특히 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부틸옥시, sec-부틸옥시, 이소-부틸옥시, tert-부틸옥시, 특히 메톡시이다.
1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알콕시는 정의된 라디칼이 예를 들어 1-9회, 1-7회, 1-4회 또는 1회 또는 2회 개재된다. 기에 1개 초과의 O가 개재된 경우에, 상기 O-원자는 적어도 1개의 메틸렌 기에 의해 서로 분리되며, 즉 O-원자는 비-연속적이다. 예는 하기 구조 단위 -O-CH2-O-CH3, -O--CH2CH2-O-CH2CH3, -O-[CH2CH2O]vCH3 (여기서 v = 1-4임), -O-(CH2CH2O)4CH2CH3, -O-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3, 또는 -O-CH2-CH(CH3)-O-CH2CH3 등이다,
C1-C8알킬술파닐 (=C1-C8알킬티오)은 (상기 정의된 바와 같은) C1-C8알킬이며, 이는 "일" 모이어티에 1개-S-원자를 보유한다. C1-C8알킬술파닐은 선형 또는 분지형, 예를 들어, 메틸술파닐, 에틸술파닐, 프로필술파닐, 이소프로필술파닐, n-부틸술파닐, sec-부틸술파닐, 이소부틸술파닐, tert-부틸술파닐 등이다.
C1-C20알카노일 (=C1-C20알킬카르보닐)은 선형 또는 분지형이고, 예를 들어, C1-C18-, C1-C14-, C1-C12-, C1-C8-, C1-C6- 또는 C1-C4알카노일 또는 C4-C12- 또는 C4-C8알카노일이다. 예는 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부타노일, 이소부타노일, 펜타노일, 헥사노일, 헵타노일, 옥타노일, 노나노일, 데카노일, 도데카노일, 테트라데카노일, 펜타데카노일, 헥사데카노일, 옥타데카노일, 이코사노일, 바람직하게는 아세틸이다.
C3-C12알케노일은 단일불포화 또는 다중불포화이다. 예는 프로페노일, 2-메틸-프로페노일, 부테노일, 펜테노일, 1,3-펜타디에노일, 5-헥세노일 등이다.
할로겐은 플루오린, 염소, 브로민 및 아이오딘, 특히 플루오린, 염소 및 브로민, 바람직하게는 플루오린 및 염소이다.
C1-C20알킬페닐은 페닐 고리에서 알킬에 의해 1회 이상 치환된 페닐에 상응하고, 예를 들어 C1-C12알킬-, C1-C8알킬- 또는 C1-C4알킬페닐이며, 여기서 알킬의 수는 페닐 고리에서의 모든 알킬-치환기 내의 모든 C-원자의 총수에 상응한다. 예는 톨릴, 크실릴, 메시틸, 에틸페닐, 디에틸페닐, 특히 톨릴 및 메시틸이다.
C1-C8알콕시페닐은 페닐 고리에서 알콕실에 의해 1회 이상 치환된 페닐에 상응하고, 예를 들어 C1-C4알콕시페닐이며, 여기서 알콕시의 수는 페닐 고리에서의 모든 알콕시-치환기 내의 모든 C-원자의 총수에 상응한다. 예는 메톡시페닐, 디메톡시페닐, 트리메톡시페닐, 에톡시페닐, 디에톡시페닐 등이다.
C6-C20아릴은 예를 들어 페닐, 나프틸, 안트릴 또는 페난트릴, 특히 페닐 또는 나프틸, 바람직하게는 페닐이다.
나프틸은 1-나프틸 및 2-나프틸에 상응한다.
C6-C20아로일은 C6-C20아릴-CO-에 상응하며, 여기서 C6-C20아릴은 상기와 같이 정의된다. 예는 벤조일, 나프토일 등이다.
C6-C20아릴옥시는 C6-C20아릴-O-에 상응하며, 여기서 C6-C20아릴은 상기와 같이 정의된다. 예는 페닐, 나프틸옥시 등이다.
페닐-C1-C3알킬옥시는 페닐에 의해 치환된 C1-C3알킬옥시 (=C1-C3알콕시)에 상응한다.
C3-C20헤테로아릴은 1개의 고리 또는 다수의 고리계, 예를 들어 융합된 고리계를 포함하도록 의도된다. 예는 티에닐, 벤조[b]티에닐, 나프토[2,3-b]티에닐, 티안트레닐, 푸릴, 디벤조푸릴, 벤조푸릴, 크로메닐, 크산테닐, 티오크산틸, 페녹사티이닐, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 인돌리지닐, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 퓨리닐, 퀴놀리지닐, 이소퀴놀릴, 퀴놀릴, 프탈라지닐, 나프티리디닐, 퀴녹살리닐, 퀴나졸리닐, 신놀리닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, β-카르볼리닐, 페난트리디닐, 아크리디닐, 페리미디닐, 페난트롤리닐, 페나지닐, 이소티아졸릴, 페노티아지닐, 이속사졸릴, 푸라자닐, 페녹사지닐, 7-페난트릴, 안트라퀴논-2-일 (= 9,10-디옥소-9,10-디히드로안트라센-2-일), 3-벤조[b]티에닐, 5-벤조[b]티에닐, 2-벤조[b]티에닐, 4-디벤조푸릴, 4,7-디벤조푸릴, 4-메틸-7-디벤조푸릴, 2-크산테닐, 8-메틸-2-크산테닐, 3-크산테닐, 2-페녹시아티이닐, 2,7-페녹사티이닐, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 5-메틸-3-피롤릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 5-이미다졸릴, 2-메틸-4-이미다졸릴, 2-에틸-4-이미다졸릴, 2-에틸-5-이미다졸릴, 1H-테트라졸-5-일, 3-피라졸릴, 1-메틸-3-피라졸릴, 1-프로필-4-피라졸릴, 2-피라지닐, 5,6-디메틸-2-피라지닐, 2-인돌리지닐, 2-메틸-3-이소인돌릴, 2-메틸-1-이소인돌릴, 1-메틸-2-인돌릴, 1-메틸-3-인돌릴, 1,5-디메틸-2-인돌릴, 1-메틸-3-인다졸릴, 2,7-디메틸-8-퓨리닐, 2-메톡시-7-메틸-8-퓨리닐, 2-퀴놀리지닐, 3-이소퀴놀릴, 6-이소퀴놀릴, 7-이소퀴놀릴, 3-메톡시-6-이소퀴놀릴, 2-퀴놀릴, 6-퀴놀릴, 7-퀴놀릴, 2-메톡시-3-퀴놀릴, 2-메톡시-6-퀴놀릴, 6-프탈라지닐, 7-프탈라지닐, 1-메톡시-6-프탈라지닐, 1,4-디메톡시-6-프탈라지닐, 1,8-나프티리딘-2-일, 2-퀴녹살리닐, 6-퀴녹살리닐, 2,3-디메틸-6-퀴녹살리닐, 2,3-디메톡시-6-퀴녹살리닐, 2-퀴나졸리닐, 7-퀴나졸리닐, 2-디메틸아미노-6-퀴나졸리닐, 3-신놀리닐, 6-신놀리닐, 7-신놀리닐, 3-메톡시-7-신놀리닐, 2-프테리디닐, 6-프테리디닐, 7-프테리디닐, 6,7-디메톡시-2-프테리디닐, 2-카르바졸릴, 3-카르바졸릴, 9-메틸-2-카르바졸릴, 9-메틸-3-카르바졸릴, β-카르볼린-3-일, 1-메틸-β-카르볼린-3-일, 1-메틸-β-카르볼린-6-일, 3-페난트리디닐, 2-아크리디닐, 3-아크리디닐, 2-페리미디닐, 1-메틸-5-페리미디닐, 5-페난트롤리닐, 6-페난트롤리닐, 1-페나지닐, 2-페나지닐, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 2-페노티아지닐, 3-페노티아지닐, 10-메틸-3-페노티아지닐, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 4-메틸-3-푸라자닐, 2-페녹사지닐, 10-메틸-2-페녹사지닐 등이다.
C3-C20헤테로아릴은 특히 티에닐, 벤조[b]티에닐, 푸릴, 벤조푸릴, 티안트레닐, 티오크산틸, 1-메틸-2-인돌릴 또는 1-메틸-3-인돌릴이다.
C3-C20헤테로아릴카르보닐은 C3-C20헤테로아릴-CO-에 상응하며, 여기서 C3-C20헤테로아릴은 상기와 같이 정의된다.
C3-C20헤테로아릴옥시는 C3-C20헤테로아릴-O-에 상응하며, 여기서 C3-C20헤테로아릴은 상기와 같이 정의된다.
C1-C20알킬렌은 선형 또는 분지형이고, 예를 들어, C1-C18-, C1-C14-, C1-C12-, C1-C8-, C1-C6- 또는 C1-C4알킬렌이다. 예는 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 1-메틸에틸렌, 1,1-디메틸에틸렌, 부틸렌, 1-메틸프로필렌, 2-메틸-프로필렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 도데실렌, 테트라데실렌, 헥사데실렌 또는 옥타데실렌이다.
1개 이상의 O, S, NR5, CO, SO 또는 SO2가 개재된 C2-C20알킬렌은 정의된 치환기가, 예를 들어, 1-9회, 예를 들어 1-7회 또는 1회 또는 2회 개재되고, C2-C20알킬렌은 선형 또는 분지형이다. 이것은 구조 단위, 예컨대, 예를 들어, -CH2-O-CH2-, -CH2-S-CH2-, -CH2-N(CH3)-CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-, -[CH2CH2O]y-, -[CH2CH2O]y-CH2- (여기서 y = 1-9임), -(CH2CH2O)7CH2CH2-, -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH(CH3)- 또는 -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH2-를 생성한다. 개재되는 O-원자는 비-연속적이다.
C2-C12알케닐렌은 단일- 또는 다중불포화, 선형 또는 분지형이고, 예를 들어 C1-C8-, C1-C6- 또는 C1-C4알케닐렌이다. 예는 에테닐렌, 1-프로페닐렌, 1-부테닐렌, 3-부테닐렌, 2-부테닐렌, 1,3-펜타디에닐렌, 5-헥세닐렌, 7-옥테닐렌 등이다.
C3-C20시클로알킬렌은 2가의 모노- 또는 폴리시클릭 지방족 고리, 예를 들어 모노-, 비- 또는 트리시클릭 지방족 고리, 예를 들어 C3-C18-, C3-C12-, C3-C10시클로알킬렌으로 이루어진다. 예는 시클로프로필렌, 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌, 시클로옥틸렌, 시클로도데실렌, 
, 특히 시클로펜틸렌 및 시클로헥실렌, 바람직하게는 시클로헥실렌이다.
C6-C20아릴렌은 예를 들어 페닐렌, 비페닐렌, o-, m-및 p-터페닐렌, 트리페닐페닐렌, 나프틸렌, 비나프틸렌, 안트라세닐렌, 페난트릴렌 또는 피레닐렌, 특히 페닐렌 또는 나프틸렌, 특히 페닐렌이다.
C3-C20헤테로아릴렌은 상기 정의된 바와 같은 C3-C20헤테로아릴을 지칭하나, 1가 C3-C20헤테로아릴렌 기 대신에 2가인 것이다.
R5 및 R6이, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우에, 예를 들어 아지리딘, 피롤, 티아졸, 피롤리딘, 옥사졸, 피리딘, 1,3-디아진, 1,2-디아진, 피페리딘 또는 모르폴린의 포화 또는 불포화 고리가 형성된다. 바람직하게는, R5 및 R6이, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, O, S 또는 NR5a가 임의로 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우에, 비개재되거나 또는 O 또는 NR5a, 특히 O가 개재된 5- 또는 6-원 포화 고리가 형성된다.
R5a 및 R6a가, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비개재되거나 또는 O, S 또는 N(C1-C8알킬)이 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우에, N-원자와 함께 고리를 형성하는 R5 및 R6에 대해 상기 기재된 바와 같은 포화 또는 불포화 고리가 형성된다.
R16 및 R17이, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께, 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우에, 예를 들어, 피롤, 티아졸, 피롤리딘, 옥사졸, 피리딘, 피페리딘 또는 모르폴린의 포화 또는 불포화 고리가 형성된다. 바람직하게는, R16 및 R17이, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께, O, S 또는 NR5a가 임의로 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우에, 비개재되거나 또는 O 또는 NR5a, 특히 O가 개재된 5- 또는 6-원 포화 고리가 형성된다.
C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일, C3-C20헤테로아릴카르보닐 또는 
로서의 Ar1이, 페닐 고리 상의 추가의 치환기와 함께 라디칼 R3, R4, R5 또는 R6을 통해 5- 또는 6-원 고리를 형성하는, OR3, SR4, NR5R6으로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 예를 들어
등과 같은 구조가 형성되며, 여기서 E는 O, S 또는 NR5이다 (또한 R1, X, M, Y 및 Z1은 상기 정의된 바와 같음).
치환된 아릴 라디칼 페닐, 나프틸, C6-C20아릴, C5-C20헤테로아릴, C6-C20아릴렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌 등은 각각 1 내지 7회, 1 내지 6회 또는 1 내지 4회, 특히 1, 2 또는 3회 치환된다. 정의된 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 정의된 고리에 있는 유리 "CH" 또는 "NH" 위치보다 많은 치환기를 가질 수는 없다는 것은 분명하다.
페닐 고리 상의 치환기는 바람직하게는 페닐 고리 상의 위치 4에 또는 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- 또는 2,4,6-배위로 있다.
1회 이상 개재된, 개재된 라디칼은 예를 들어 1-19회, 1-15회, 1-12회, 1-9회, 1-7회, 1-5회, 1-4회, 1-3회 또는 1회 또는 2회 개재된다 (개재 원자의 수가 개재되는 C-원자의 수에 따라 달라지는 것은 분명함).
1회 이상 치환된, 치환된 라디칼은 예를 들어 1-7개, 1-5개, 1-4개, 1-3개 또는 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환기를 갖는다.
1개 이상의 정의된 치환기에 의해 치환된 라디칼은 주어진 바와 같은 동일하거나 상이한 정의의 1개의 치환기 또는 그 초과의 치환기를 갖는 것으로 여겨진다.
본 발명의 문맥에서 용어 "및/또는" 또는 "또는/및"은 정의된 대체물 (치환기) 중 하나 뿐만 아니라 여러 정의된 대체물 (치환기), 즉 상이한 대체물 (치환기)의 혼합물도 존재할 수 있음을 나타내는 것으로 여겨진다.
용어 "적어도"는 하나 또는 하나 초과, 예를 들어 하나 또는 둘 또는 셋, 바람직하게는 하나 또는 둘을 정의하는 것으로 여겨진다.
용어 "임의로 치환된"은 언급된 라디칼이 비치환 또는 치환되는 것을 의미한다.
문맥상 달리 요구되지 않는 한, 본 명세서 및 청구범위 전반에 걸쳐, 용어 "포함하다", 또는 "포함한다", 또는 "포함하는"과 같은 변형은 명시된 정수 또는 단계 또는 정수들 또는 단계들의 군을 포함하고, 임의의 다른 정수 또는 단계 또는 정수들 또는 단계들의 군을 배제하지는 않는 것을 의미하는 것으로 이해될 것이다.
본원의 문맥에서 용어 "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 뿐만 아니라 상응하는 메타크릴레이트를 지칭하는 것으로 여겨진다.
본 발명의 문맥에서 본 발명에 따른 화합물에 대해 상기 나타내어진 바람직한 것은 청구범위의 모든 카테고리, 즉 조성물, 용도, 방법 청구항을 또한 지칭하고자 한다.
본 발명은 본원에 개시된 특정한 화합물, 배위, 방법 단계, 기재 및 물질이 다소 달라질 수 있기 때문에, 이러한 화합물, 배위, 방법 단계, 기재 및 물질에 제한되지는 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위 및 그의 등가물에 의해서만 제한되기 때문에, 본원에 사용된 용어는 특정한 실시양태를 기재하는 목적을 위해서만 사용되고, 제한하려는 것은 아닌 것으로 이해되어야 한다.
본 명세서 및 첨부된 청구범위에 사용된 단수 형태는 문맥에서 달리 명백하게 지시하지 않는 한, 복수 지시대상을 포함한다는 것에 유의해야 한다.
달리 정의되지 않는 한, 본원에 사용된 임의의 용어 및 과학 용어는 본 발명이 속하는 관련 기술분야의 통상의 기술자가 통상적으로 이해하는 의미를 갖는 것으로 의도된다.
화학식 I 및 II의 옥심 에스테르는 문헌에 기재된 방법에 의해, 예를 들어 상응하는 옥심과 아실 할라이드, 특히 클로라이드 또는 무수물의, 비활성 용매, 예컨대 예를 들어 t-부틸 메틸 에테르, 테트라-히드로푸란 (THF), 디메톡시에탄, 디메틸아세트아미드 (DMA) 또는 디메틸포름아미드 중에서의 염기 또는 염기의 혼합물, 예를 들어 트리에틸아민 또는 피리딘의 존재 하의, 또는 염기성 용매, 예컨대 피리딘 중에서의 반응에 의해 제조된다. 하기에서 예로서, 화학식 I의 화합물의 제조를 기재한다:
화학식 II의 화합물은 출발 물질로서 하기 적절한 옥심을 사용하여 유사하게 수득될 수 있다:
X, Ar1, M, R1 및 R2는 상기 주어진 바와 같은 의미를 갖는다. Hal은 할로겐 원자, 특히 Cl을 의미한다. R1은 바람직하게는 메틸이다.
이러한 반응은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 널리 공지되어 있고, 일반적으로 -15 내지 +50℃, 바람직하게는 0 내지 25℃의 온도에서 수행된다.
모든 옥심 에스테르 기는 2가지 배위, (Z) 또는 (E)로 존재할 수 있다. 또한, 본 발명은 E 및 Z 배위를 둘 다 포함한다. 통상적인 방법에 의해 이성질체를 분리하는 것이 가능하지만, 이성질체 혼합물을 예컨대 광개시 종으로서 사용하는 것도 또한 가능하다. 따라서, 본 발명은 또한 화학식 I 및 II의 화합물의 배위 이성질체의 혼합물에 관한 것이다.
출발 물질로서 요구되는 옥심은 표준 화학 교과서에 (예를 들어 문헌 [J. March, Advanced Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992]에), 또는 전문 연구논문, 예를 들어, 문헌 [S.R. Sandler & W. Karo, Organic functional group preparations, Vol. 3, Academic Press]에 기재된 다양한 방법에 의해 수득될 수 있다.
가장 편리한 방법 중 하나는, 예를 들어, 알데히드 또는 케톤과 히드록실아민 또는 그의 염의, 극성 용매, 예컨대 DMA, 수성 DMA, 에탄올 또는 수성 에탄올 중에서의 반응이다. 그 경우에, 아세트산나트륨 또는 피리딘과 같은 염기가 반응 혼합물의 pH를 제어하기 위해 첨가된다. 반응 속도는 pH-의존성이고, 염기는 초기에 또는 반응 동안에 연속적으로 첨가될 수 있다. 피리딘과 같은 염기성 용매가 또한 염기 및/또는 용매 또는 공용매로서 사용될 수 있다. 반응 온도는 일반적으로 실온 내지 혼합물의 환류 온도, 통상적으로 약 20-120℃이다.
상응하는 케톤 중간체는 예를 들어 문헌에, 예를 들어 표준 화학 교과서에 (예를 들어 문헌 [J. March, Advanced Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992]에) 기재된 방법에 의해 제조된다. 또한, 연속 프리델-크라프츠(Friedel-Crafts) 반응은 중간체의 합성에 효과적이다. 이러한 반응은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 널리 공지되어 있다.
옥심의 또 다른 편리한 합성은 아질산 또는 알킬 니트라이트에 의한 "활성" 메틸렌 기의 니트로소화이다. 예를 들어 문헌 [Organic Syntheses coll. Vol. VI (J. Wiley & Sons, New York, 1988), pp 199 and 840]에 기재된 바와 같은 알칼리성 조건 및 예를 들어 문헌 [Organic Synthesis coll. vol V, pp 32 and 373, coll. vol. III, pp 191 and 513, coll. vol.II, pp. 202, 204 and 363]에 기재된 바와 같은 산성 조건 둘 다가 본 발명에서 출발 물질로 사용되는 옥심의 제조에 적합하다. 아질산은 통상적으로 아질산나트륨으로부터 생성된다. 알킬 니트라이트는 예를 들어 메틸 니트라이트, 에틸 니트라이트, 이소프로필 니트라이트, 부틸 니트라이트 또는 이소아밀 니트라이트일 수 있다.
상응하는 케톤 중간체에서 X의 벤조시클릭 모이어티는 표준 문헌에 기재된 다양한 방법에 의해 제조될 수 있다. 가장 편리한 방법 중 하나는, 예를 들어 문헌 [Science of Synthesis, 10 (2000), p.25]에 기재된 바와 같은, 할로아세틸아릴 화합물과 o-히드록시벤조일 화합물 (A=O)의, 염기성 조건 하의 극성 용매, 예컨대 아세톤, 디메틸포름아미드, 아세토니트릴 또는 디옥산 중에서의 하기 축합 반응이다.
본 발명의 대상은 또한 하기 화학식 IA 또는 IIA의 상응하는 옥심 화합물을, 하기 화학식 III의 아실 할라이드 또는 화학식 IV의 무수물과, 염기 또는 염기의 혼합물의 존재하에 반응시킴으로써 상기 정의된 바와 같은 화학식 I 또는 II의 화합물을 제조하는 방법; 및
<화학식 IA>
<화학식 IIA>
(상기 식에서 X, Ar1, M 및 R2는 상기 정의된 바와 같음)
<화학식 III>
<화학식 IV>
(상기 식에서 Hal은 할로겐, 특히 Cl이고, R14는 상기 정의된 바와 같음)
하기 화학식 IA 또는 IIA의 화합물이다.
<화학식 IA>
<화학식 IIA>
(상기 식에서 X, Ar1, M 및 R2는 상기 정의된 바와 같음)
X가 
이고;
A가 O, S, NR5 또는 CR16R17이고;
R1이 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, C3-C8시클로알킬 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R1이 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH, O(CO)R1a 또는 (CO)OR3에 의해 치환되거나; 또는
R1이 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이거나; 또는
R1이 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐 또는 C1-C20알킬에 의해 치환되거나; 또는
R1이 C1-C20알콕시, C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이고;
R1a가 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)-(C1-C8알킬) 또는 벤조일에 의해 치환되거나; 또는
R1a가 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이며, 상기 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시는 비치환되거나 또는 벤조일 또는 
에 의해 치환되고, 상기 벤조일 또는 
은 비치환되거나 또는 
에 의해 치환되고;
R2가 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 치환기 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, 
또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R2가 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, O(CO)R1a 또는 (CO)OR3에 의해 치환되거나; 또는
R2가 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이며, 상기 C6-C20아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, NO2, OR3, SR4, COOR3, (CO)-R1a 또는 
에 의해 치환되고;
R2a가 수소, (CO)R1a, (CO)OR3a, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되고;
R3이 수소, (CO)R1a, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되며, 이는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재되거나; 또는
R3이 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH 또는 (CO)OR3a에 의해 치환되거나; 또는
R3이 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이며, 상기 C6-C20아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐 또는 C1-C20알킬에 의해 치환되고;
R3a가 C1-C20알킬이고;
R4가 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 OR3a, (CO)OR3a, C3-C8시클로알킬 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는
R4가 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH 또는 (CO)OR3a에 의해 치환되거나; 또는
R4가 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이거나; 또는
R4가 C6-C20아릴이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬에 의해 치환되고;
R4a가 C1-C20알킬이고;
R5 및 R6이 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, (CO)OR3a, C3-C8시클로알킬 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6이 서로 독립적으로 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 OH 또는 SH에 의해 치환되거나; 또는
R5 및 R6이 서로 독립적으로 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이거나; 또는
R5 및 R6이, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR5a가 개재되고;
R5a 및 R6a가 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C20알킬이고;
R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독립적으로 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, C6-C20아릴 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독립적으로 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 
에 의해 치환되거나; 또는
R8 및 R9, R9 및 R10, 또는 R10 및 R11이 
이고;
R12, R13, R14 및 R15가 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C20알킬이고;
Ar1이 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일, C3-C20헤테로아릴카르보닐 또는 
이며, 상기 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일, C3-C20헤테로아릴카르보닐 또는 
은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3, (CO)R1a, 
, OR3, SR4, NR5R6, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 페닐에 의해 치환되거나; 또는
Ar1이 
이고;
Ar2가 페닐렌, 나프틸렌, 
, 
이며, 상기 페닐렌, 나프틸렌, 
은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR3, (CO)R1a, 
, OR3, SR4, NR5R6, C1-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, 페닐 또는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬에 의해 치환되고;
M이 C1-C20알킬렌, 1개 이상의 O 또는 S가 개재된 C2-C20알킬렌, C2-C12알케닐렌, C3-C20시클로알킬렌 또는 C6-C20아릴렌이고;
Y가 직접 결합, O, S, NR5 또는 CO이고;
Z1이 O, S, CO 또는 CR16(R17)이고;
Z2가 직접 결합, O, S 또는 NR5이고;
Q가 CO 또는 직접 결합인
상기 제시된 바와 같은 화학식 I 또는 II의 화합물이 관심 대상이다.
X가 
이고;
A가 O 또는 S이고;
R1이 C1-C20알킬이고;
R1a가 C6-C20아릴이고;
R2가 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, (CO)OR3 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되고;
R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독립적으로 수소, OR3, C1-C20알킬, (CO)R1a이거나, 또는
R8 및 R9가 
이고;
R12, R13, R14 및 R15가 수소이고;
Ar2가 
이고;
Z2가 O 또는 S인
상기 제시된 바와 같은 화학식 I의 화합물이 바람직하다.
X가 
이고;
A가 O, S 또는 NR5이고;
R1이 C1-C20알킬, C6-C20아릴 또는 C1-C20알콕시이고;
R1a가 C1-C20알킬 또는 C6-C20아릴이고;
R2가 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, SR4, NR5R6, (CO)OR3 또는 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R2가 C6-C20아릴이며, 이는 비치환되거나 또는 C1-C20알킬에 의해 치환되고;
R3이 C1-C20알킬이거나 또는 R3이, R2의 탄소 원자 중 1개와 함께, 5- 또는 6-원, 바람직하게는 6-원, 포화 고리를 형성하고;
R4가 C6-C20아릴이고;
R5 및 R6이 서로 독립적으로 O(CO)R1a, (CO)R1a 또는 C1-C20알킬이고;
R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, 할로겐, NO2, OR3, (CO)R1a 또는 C6-C20아릴이거나; 또는
R8 및 R9가 
이고;
R12, R13, R14 및 R15가 수소 또는 C1-C4알킬, 바람직하게는 수소이고;
R16 및 R17이 수소이거나; 또는
R16 및 R17이, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 고리를 형성하고;
Ar1이 C6-C20아릴 또는 
이고;
Ar2가 
이고;
M이 S가 개재된 C2-C20알킬렌이고;
Y가 직접 결합이고;
Z1이 O, S 또는 CR16(R17)이고;
Z2가 O 또는 S인
화학식 I의 화합물이 관심 대상이다.
X는 예를 들어 
이거나; 또는 예를 들어 
이다. 바람직하게는 X는 
이다.
A는 예를 들어 O, S 또는 NR5이거나; 또는 예를 들어 O, S 또는 CR16R17이거나; 또는 예를 들어 O 또는 S이거나; 또는 예를 들어 O 또는 NR5이거나; 또는 예를 들어 O, S 또는 CR16R17이거나; 또는 예를 들어 O 또는 CR16R17이다. 바람직하게는 A는 O이다.
Ar1은 예를 들어 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, 
, 
이거나; 또는 Ar1은 예를 들어 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아로일이거나; 또는 Ar1은 예를 들어 C6-C20아릴, C6-C20아로일, 
이거나; 또는 Ar1은 예를 들어 C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 또는 C3-C20헤테로아로일이거나; 또는 Ar1은 예를 들어 C6-C20아릴, C6-C20아로일 또는 
이다.
바람직하게는 Ar1은 C6-C20아릴 또는 
이다,
치환된 Ar1은 예를 들어 할로겐, COOR3, (CO)R1a, 
, OR3, SR4, NR5R6, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
예를 들어 할로겐, CN, NO2, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, 
, OR3, SR4, NR5R6, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C3-C20시클로알킬, 페닐 및 나프틸로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
예를 들어 할로겐, COOR3, (CO)R1a, (CO)NR5R6, 
, OR3, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C3-C20시클로알킬, 페닐 및 나프틸로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환된다.
Ar2는 예를 들어 페닐렌, 나프틸렌, 
이거나; 또는
Ar2는 예를 들어 페닐렌, 나프틸렌, 페닐렌카르보닐, 나프틸렌카르보닐, 
이거나; 또는
Ar2는 예를 들어 페닐렌, 페닐렌카르보닐, 
, 
이거나; 또는
Ar2는 예를 들어 페닐렌, 나프틸렌, 페닐렌카르보닐, 나프틸렌카르보닐, 
이거나; 또는
Ar2는 예를 들어 페닐렌, 나프틸렌, 
이거나; 또는
Ar2는 예를 들어 페닐렌, 나프틸렌 또는 
이다.
Ar2는 바람직하게는 
, 특히 
이다.
치환된 Ar2에 대한 예는 Ar1 상의 치환기에 대해 상기 주어진 바와 같다.
M은 예를 들어 C1-C20알킬렌이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, (CO)NR5R6, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬 및 C6-C20아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는 M은 1개 이상의 O 또는 S가 개재된 C2-C20알킬렌, C2-C12알케닐렌, C3-C20시클로알킬렌 또는 C6-C20아릴렌이다.
또는 M은 예를 들어 C1-C20알킬렌, 1개 이상의 O 또는 S가 개재된 C2-C20알킬렌, C2-C12알케닐렌, C3-C20시클로알킬렌 또는 C6-C20아릴렌이다.
바람직하게는 M은 C1-C20알킬렌 또는 1개 이상의 O 또는 S, 특히 S가 개재된 C2-C20알킬렌이다.
또는 M은 특히 1개 이상의 O 또는 S, 특히 S가 개재된 C2-C20알킬렌이다.
Y는 예를 들어 직접 결합, O, S 또는 NR5이거나; 또는 예를 들어 직접 결합, O, S, 또는 CO이거나; 또는 예를 들어 직접 결합, O, NR5 또는 CO이거나; 또는 예를 들어 직접 결합, O 또는 CO이거나; 또는 예를 들어 O, S, NR5 또는 CO이거나; 또는 예를 들어 O, S 또는 CO이거나; 또는 예를 들어 O 또는 CO이다.
Z1은 예를 들어 O, CO 또는 CR16(R17)이거나; 또는 예를 들어 O, S 또는 CR16(R17)이거나; 또는 예를 들어 O, S 또는 CO이거나; 또는 예를 들어 S, CO 또는 CR16(R17)이거나; 또는 예를 들어 O 또는 S이다.
Z2는 예를 들어 직접 결합, O 또는 S이거나; 또는 예를 들어 O, S 또는 NR5이거나; 또는 예를 들어 O 또는 S이거나; 또는 예를 들어 직접 결합 또는 S이거나; 또는 예를 들어 S 또는 NR5이다. 바람직하게는 Z2는 S이다.
Q는 예를 들어 CO 또는 직접 결합, 바람직하게는 직접 결합이다.
R1은 예를 들어 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, CN, C3-C8시클로알킬 및 C6-C20아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는 R1은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시이거나; 또는 R1은 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN, C3-C8시클로알킬 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R1은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시이거나; 또는 R1은 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R1은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시이거나; 또는 R1은 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R1은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 C3-C20시클로알킬, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN 또는 페닐에 의해 치환되거나; 또는 R1은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, 또는 C3-C20시클로알킬, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시이거나; 또는 R1은 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, CN 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R1은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C6알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐 또는 페닐에 의해 치환되며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, OR3, SR4 및/또는 NR5R6에 의해 치환되거나; 또는 R1은 C1-C6알콕시 또는 벤질옥시이다.
또는 R1은 예를 들어 C1-C12알킬, 페닐 또는 C1-C8알콕시이다. 바람직하게는 R1은 C1-C12알킬이다.
R1a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시, C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이며, 상기 C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 페닐, C1-C20알킬페닐, C1-C8알콕시페닐, CN, NO2, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)(C1-C8알킬), SO2-(C1-C4할로알킬), 벤조일, 또는 
에 의해 치환되고, 상기 벤조일 또는 
은 비치환되거나 또는 
에 의해 치환된다.
또는 R1a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알콕시, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알콕시, C6-C20아릴옥시 또는 C3-C20헤테로아릴옥시이다.
또는 R1a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴, 특히 페닐이다.
또는 R1a는 예를 들어 C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R1a는 예를 들어 C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, 또는 C6-C20아릴, 특히 페닐이다.
R1a는 바람직하게는 C6-C20아릴이다.
R2는 예를 들어 수소, (CO)R1a, (CO)OR3 또는 CONR5R6이거나; 또는
R2는 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, (CO)NR5R6, 
, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬,
비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C4할로알킬, OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R2는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH, SH 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는
R2는 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는
할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a, 
, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 OR3, SR4 또는 NR5R6에 의해 치환된, 페닐, 나프틸, 벤조일 및 나프토일
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환된다.
또는 R2는 예를 들어 수소, (CO)R1a, (CO)OR3 또는 CONR5R6이거나; 또는
R2는 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, (CO)NR5R6, 
, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R2는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R2는 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는
할로겐, CN, NO2, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a, 
및 C1-C20알킬
로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환된다.
또는 R2는 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, (CO)NR5R6, 
, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아로일 및 C3-C20헤테로아릴카르보닐로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나; 또는
R2는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이다.
또는 R2는 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, (CO)NR5R6, 
, C3-C8시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기에 의해 치환되거나, 또는 R2는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R2는 예를 들어 C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R2는 예를 들어 C1-C20알킬 또는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이다.
바람직하게는 R2는 C1-C20알킬이다.
R2a는 예를 들어 수소, (CO)R1a, (CO)OR3a, CONR5aR6a, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R2a는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나; 또는 R2a는 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, COOR3a, (CO)R1a, (CO)NR5aR6a 또는 C1-C20알킬에 의해 치환된다.
또는 R2a는 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)OR3a, (CO)NR5aR6a 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는 R2a는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나; 또는 R2a는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R2a는 예를 들어 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, NR5aR6a, (CO)OR3a 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는 R2a는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나; 또는 R2a는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R2a는 예를 들어 C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
특히 R2a는 C1-C20알킬이다.
R3은 예를 들어 수소, (CO)R1a, (CO)OR3a, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는 R3은 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C3-C8시클로알킬, OH 또는 (CO)OR3a에 의해 치환되거나; 또는 R3은 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이거나; 또는 R3은 C6-C20아릴이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐 또는 C1-C20알킬에 의해 치환된다.
또는 R3은 예를 들어 수소, (CO)R1a, (CO)OR3a, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이거나; 또는
R3은 C6-C20아릴이며, 이는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐 또는 C1-C20알킬에 의해 치환된다.
또는 R3은 예를 들어 수소, C1-C20알킬, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이다.
R3a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C8시클로알킬, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이다.
또는 R3a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, C3-C8시클로알킬, C6-C20아릴, C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이다.
또는 R3a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, C3-C8시클로알킬 또는 C1-C20알카노일이다.
또는 R3a는 예를 들어 C1-C20알킬이다.
R4는 예를 들어 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 치환기 OR3a, (CO)OR3a, C3-C8시클로알킬 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R4는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH 또는 (CO)OR3a에 의해 치환되거나; 또는 R4는 C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R4는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐 또는 C3-C20시클로알킬이다.
또는 R4는 예를 들어 C1-C20알킬이다.
R4a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C6-C20아릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이다.
또는 R4a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C1-C20알카노일 또는 C3-C12알케노일이다.
또는 R4a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, 또는 C1-C20알카노일이다.
또는 R4a는 예를 들어 수소, C1-C20알킬 또는 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이다. 또는 예를 들어 R4a는 C1-C20알킬이다.
R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, (CO)OR3a, C3-C8시클로알킬 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R5 및 R6은 서로 독립적으로 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이며, 상기 개재된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH 또는 SH에 의해 치환되거나; 또는 R5 및 R6은 서로 독립적으로 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이거나; 또는 R5 및 R6은, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O 또는 NR5a가 개재된다.
또는 R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬이며, 상기 C1-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3a, SR4a, (CO)OR3a, C3-C8시클로알킬 또는 C6-C20아릴에 의해 치환되거나; 또는 R5 및 R6은 서로 독립적으로 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이거나; 또는 R5 및 R6은, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O 또는 NR5a가 개재된다.
또는 R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, C3-C20시클로알킬 또는 C6-C20아릴이거나; 또는
R5 및 R6은, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O 또는 NR5a가 개재된다.
또는 R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬, 특히 C1-C20알킬이다.
R5a 및 R6a는 예를 들어 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C8시클로알킬, C6-C20아릴, C1-C20알콕시이거나; 또는
R5a 및 R6a는, 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하며, 이는 비개재되거나 또는 O가 개재된다.
또는 R5a 및 R6a는 예를 들어 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬 또는 C3-C8시클로알킬, 특히 C1-C20알킬이다.
R7, R8, R9, R10 및 R11은 예를 들어 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, (CO)OR3, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C8시클로알킬, 또는 C6-C20아로일에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 1개 이상의 O가 개재된 C2-C20알킬이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 
에 의해 치환되거나; 또는
R8 및 R9, R9 및 R10, 또는 R10 및 R11은 
이다.
또는 R7, R8, R9, R10 및 R11은 예를 들어 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a이거나; 또는
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이며, 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR3, SR4, NR5R6, COOR3, (CO)R1a 또는 
에 의해 치환되거나; 또는
R8 및 R9, R9 및 R10, 또는 R10 및 R11은 
이다.
또는 R7, R8, R9, R10 및 R11은 예를 들어 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR3, COOR3, (CO)R1a, C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이거나; 또는 R8 및 R9, R9 및 R10, 또는 R10 및 R11은 
이다.
또는 R7, R8, R9, R10 및 R11은 예를 들어 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬 또는 (CO)R1a이거나; 또는 R8 및 R9는 
, 특히 수소 또는 (CO)R1a이거나 또는 R8 및 R9는 
이다.
R12, R13, R14 및 R15는 예를 들어 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C20알킬, 특히 수소이다.
R16 및 R17은 예를 들어 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C20알킬, 특히 수소이다.
화학식 I 및 II의 화합물은 라디칼 광개시제로서 적합하다.
따라서, 본 발명의 대상은 적어도 1종의 에틸렌계 불포화 광중합성 화합물을 포함하는 조성물의 광중합을 위한, 상기 정의된 바와 같은 화학식 I 또는 II의 화합물의 용도이다.
따라서, 본 발명의 또 다른 대상은
(a) 적어도 1종의 에틸렌계 불포화 광중합성 화합물 및
(b) 광개시제로서, 상기 정의된 바와 같은 화학식 I 또는 II의 적어도 1종의 화합물
을 포함하는 광중합성 조성물이다.
조성물은 광개시제 (b)에 추가로, 적어도 1종의 추가의 광개시제 (c) 및/또는 다른 첨가제 (d)를 포함할 수 있다.
조성물은 광개시제 (b)에 추가로, 적어도 1종의 추가의 광개시제 (c) 또는 다른 첨가제 (d), 또는 적어도 1종의 추가의 광개시제 (c) 및 다른 첨가제 (d) 둘 다를 포함할 수 있다.
다른 첨가제 (d)는 예를 들어 열 라디칼 개시제, 안료, 충전제, 분산제 및 증감제로부터 선택된 1종 이상의 성분이다.
상기 첨가제는 하기에 보다 상세히 기재한다.
조성물을 기준으로 0.05 내지 25 중량%의 광개시제 (b), 또는 광개시제 (b) 및 (c)를 포함하는, 상기 기재된 바와 같은 광중합성 조성물이 관심 대상이다.
불포화 화합물 (a)는 1개 이상의 올레핀계 이중 결합을 포함할 수 있다. 이들은 저분자량 (단량체) 또는 고분자량 (올리고머)을 가질 수 있다.
성분 (a)는 예를 들어 에폭시와 불포화 모노카르복실산의 반응 생성물과 포화 또는 불포화 다염기성 산 무수물과의 반응에 의해 수득된 수지를 포함한다.
따라서, 본 발명의 대상은 또한 성분 (a)가 에폭시 수지와 불포화 모노카르복실산의 반응 생성물과 포화 또는 불포화 다염기성 산 무수물과의 반응에 의해 수득되는 수지인, 상기 기재된 바와 같은 광중합성 조성물이다.
성분 (a)는 예를 들어 알칼리 현상성 수지를 포함한다.
본 발명에 따른 중합성 조성물은, 중합성 조성물의 전체 고체 함량 (즉, 용매(들)를 제외한 모든 성분의 양)을 기준으로, 2 내지 98 중량%, 보다 바람직하게는 5 내지 90 중량%, 특히 10 내지 80 중량%의 양으로 성분 (a)를 포함한다.
바람직하게는, 알칼리 현상성 수지는 유리 카르복실 기를 갖는다. 산가는 바람직하게는 50 내지 600 mg KOH/g, 보다 바람직하게는 100 내지 300 mg KOH/g이다. 본원에 언급된 산가는 DIN EN 12634에 따른 산가이다.
알칼리 현상성 수지의 예는 펜던트 기로서 카르복실산 관능기를 갖는 아크릴 중합체, 에틸렌계 불포화 카르복실산, 예컨대 (메트)아크릴산, 2 카르복시에틸 (메트)아크릴산, 2-카르복시프로필 (메트)아크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 푸마르산, 크로톤산, 말레산, 말레산 무수물, 푸마르산 무수물, 말레산의 하프-에스테르, 신남산, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 숙시네이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 아디페이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 프탈레이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 헥사히드로프탈레이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 말레에이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시프로필] 숙시네이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시프로필] 아디페이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시프로필] 프탈레이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시프로필] 헥사히드로프탈레이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시프로필] 말레에이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시부틸] 숙시네이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시부틸] 아디페이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시부틸] 프탈레이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시부틸] 헥사히드로프탈레이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시부틸] 말레에이트, 3-(알킬카르바모일)아크릴산, α-클로로아크릴산, 모노에스테르화 말레산, 및 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트를, (메트)아크릴산의 에스테르, 예컨대 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 프로필 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 벤질 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트, 히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 모노(메트)아크릴레이트, 디히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 알릴 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 페닐 (메트)아크릴레이트, 메톡시페닐 (메트)아크릴레이트, 메톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 메톡시프로필 (메트)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜 (메트)아크릴레이트, (3-트리메톡시실릴)프로필 (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산 트리메틸실릴 에스테르, 이소보르닐 메트(아크릴레이트), 디시클로펜타디에닐 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 (메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일 (메트)아크릴레이트, 아미노에틸 (메트)아크릴레이트, N, N-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 아미노프로필 (메트)아크릴레이트, N, N-디메틸아미노프로필 (메트)아크릴레이트, 글리시딜 (메트)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜 (메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸 (메트)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸 (메트)아크릴레이트; 비닐 방향족 화합물, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-클로로스티렌, 폴리클로로스티렌, 플루오로스티렌, 브로모스티렌, 에톡시메틸 스티렌, 메톡시스티렌, 4-메톡시-3-메틸스티렌, 디메톡시스티렌, 비닐벤질 메틸 에테르, 비닐벤질 글리시딜 에테르, 인덴, 1-메틸인덴; 1-에테닐-4-실릴-벤젠, 1-에테닐-4-트리메틸실릴-벤젠, t-부틸 디메틸실릴 p-비닐 페닐 에스테르; 아미드 유형 불포화 화합물, 예컨대 (메트)아크릴아미드, 디아세톤 아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N-부톡시메타크릴아미드, N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디에틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디부틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디에틸헥실 (메트)아크릴아미드, N,N-디시클로헥실 (메트)아크릴아미드, N,N-디페닐 (메트)아크릴아미드, N-메틸-N-페닐 (메트)아크릴아미드, N-히드록시에틸-N-메틸 (메트)아크릴아미드, N-메틸 (메트)아크릴아미드, N-에틸 (메트)아크릴아미드, N-프로필 (메트)아크릴아미드, N-부틸 (메트)아크릴아미드, N-히드록시에틸 (메트)아크릴아미드, N-헵틸 (메트)아크릴아미드, N-옥틸 (메트)아크릴아미드, N-에틸헥실 (메트)아크릴아미드, N-히드록시에틸 (메트)아크릴아미드시클로헥실, N-벤질 (메트)아크릴아미드, N-페닐 (메트)아크릴아미드, N-톨릴 (메트)아크릴아미드, N-히드록시페닐 (메트)아크릴아미드, N-나프틸 (메트)아크릴아미드, N-페닐술포닐 (메트)아크릴아미드, N-메틸페닐술포닐 (메트)아크릴아미드 및 N-(메트)아크릴로일모르폴린; 아세탈 에스테르 또는 케탈 에스테르 화합물, 예컨대 노르보르넨, 2,3-비스(트리메틸실릴옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(트리에틸실릴옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(t-부틸디메틸실릴옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(트리메틸게르밀옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(트리에틸게르밀-옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(t-부틸디메틸게르밀옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(t-부틸옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(벤질옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(테트라히드로푸란-2-일옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(시클로펜틸옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(시클로헥실옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(시클로-헵틸옥시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(1-메톡시에톡시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(1-t-부톡시에톡시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(1-벤질옥시에톡시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스[(시클로헥실)(에톡시)메톡시카르보닐]-5-노르보르넨, 2,3-비스(1-메틸-1-메톡시에톡시카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스(1-메틸-1-i-부톡시에톡시-카르보닐)-5-노르보르넨, 2,3-비스[(벤질)(에톡시)메톡시카르보닐]-5-노르보르넨; 1-알킬시클로알킬에스테르 화합물, 예컨대 1-메틸시클로프로필 (메트)아크릴레이트, 1-메틸시클로부틸 (메트)아크릴레이트, 1-메틸시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 1-메틸시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 1-메틸시클로헵틸 (메트)아크릴레이트, 1-메틸시클로옥틸 (메트)아크릴레이트, 1-메틸시클로노닐 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로데실 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로프로필 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로부틸 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로헵틸 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로옥틸 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로노닐 (메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로데실 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로프로필 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로헵틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로옥틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로노닐 (메트)아크릴레이트, 1-i-프로필시클로데실 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로프로필 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로부틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로옥틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로노닐 (메트)아크릴레이트, 1-i-부틸시클로데실 (메트)아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로프로필 (메트)-아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로헵타닐 (메트)아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로옥틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로노닐 (메트)아크릴레이트, 1-i-펜틸시클로데실 (메트)아크릴레이트, 1-i-옥틸시클로프로필 (메트)아크릴레이트, 1-i-옥틸시클로부틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-옥틸시클로헵틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-옥틸시클로옥틸 (메트)아크릴레이트, 1-i-옥틸시클로노닐 (메트)아크릴레이트, 1-i-옥틸시클로데실 (메트)아크릴레이트; 메타크릴산, 예컨대 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-펜타플루오로에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메트일)-2,2-디플루오로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2,4-트리플루오로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2,4,4-테트라플루오로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-3-에틸옥세탄, 2-에틸-3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-펜타플루오로에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-페닐옥세탄, 2,2-디플루오로-3-(메트아크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2,2,4-트리플루오로옥세탄, 3-(메타크릴로일-옥시에틸)-2,2,4,4-테트라플루오로옥세탄; 폴리시클릭 화합물 또는 무수물, 예컨대 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디카르복실비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 무수물; 비닐 또는 알릴 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부틸레이트, 비닐 피발레이트, 비닐 벤조에이트, 비닐 트리메틸아세테이트, 비닐 디에틸아세테이트, 비닐 보레이트, 비닐 카프로에이트, 비닐 클로로아세테이트, 비닐 디클로로아세테이트, 비닐 메톡시아세테이트, 비닐 부톡시아세테이트, 비닐 페닐아세테이트, 비닐 아세테이트, 비닐 아세토아세테이트, 비닐 락테이트, 비닐 페닐부틸레이트, 비닐 시클로헥실카르복실레이트, 비닐 살리실레이트, 비닐 클로로벤조에이트, 비닐 테트라클로로벤조에이트, 비닐 나프토에이트, 비닐 트리에톡시실란, 알릴 아세테이트, 알릴 프로피오네이트, 알릴 부틸레이트, 알릴 피발레이트, 알릴 벤조에이트, 알릴 카프로에이트, 알릴 스테아레이트, 알릴 아세토아세테이트, 알릴 락테이트; 비닐 또는 알릴 에테르, 예컨대 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 비닐 헥실 에테르, 비닐 옥틸 에테르, 비닐 에틸헥실 에테르, 비닐 메톡시에틸 에테르, 비닐 에톡시에틸 에테르, 비닐 클로로에틸 에테르, 비닐 히드록시에틸 에테르, 비닐 에틸부틸 에테르, 비닐 히드록시에톡시에틸 에테르, 비닐 디메틸아미노에틸 에테르, 비닐 디에틸아미노에틸 에테르, 비닐 부틸아미노에틸 에테르, [(에테닐옥시)메틸]트리에틸실란, 비닐 벤질 에테르, 비닐 테트라히드로푸르푸릴 에테르, 비닐 페닐 에테르, 비닐 톨릴 에테르, 비닐 클로로페닐 에테르, 비닐 클로로에틸 에테르, 비닐 디클로로페닐 에테르, 비닐 나프틸 에테르, 비닐 안트릴 에테르, 알릴 글리시딜 에테르; 크로토네이트, 예컨대 부틸 크로토네이트, 헥실 크로토네이트, 글리세린 모노크로토네이트; 이타코네이트, 예컨대 디메틸 이타코네이트, 디에틸 이타코네이트, 디부틸 이타코네이트; 및 말레에이트 또는 푸마레이트, 예컨대 디메틸 말레에이트, 디부틸 푸마레이트; 폴리올레핀 유형 화합물, 예컨대 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등; 메타크릴로니트릴, 메틸 이소프로페닐 케톤, 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 피발레이트, 말레이미드, N-페닐말레이미드, N-메틸페닐말레이미드, N-메톡시페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-알킬말레이미드, 말레산 무수물, 폴리스티렌 거대단량체, 폴리메틸 (메트)아크릴레이트 거대단량체, 폴리부틸 (메트)아크릴레이트 거대단량체를 공중합시킴으로써 수득된 공중합체이다. 공중합체의 예는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트와, 아크릴산 또는 메타크릴산의 및 스티렌 또는 치환된 스티렌의 공중합체, 페놀계 수지, 예를 들어 노볼락, (폴리)히드록시스티렌, 및 히드록시스티렌과 알킬 아크릴레이트, 아크릴산 및/또는 메타크릴산의 공중합체이다. 공중합체의 바람직한 예는 메틸 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산의 공중합체, 메틸 (메트)아크릴레이트/에틸 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/스티렌의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/히드록시에틸 (메트)아크릴레이트의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/글리시딜 (메트)아크릴레이트의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄의 공중합체, 메틸 (메트)아크릴레이트/부틸 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/스티렌의 공중합체, 메틸 (메트)아크릴레이트/벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/히드록시페닐 (메트)아크릴레이트의 공중합체, 메틸 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/폴리메틸 (메트)아크릴레이트 거대단량체의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/폴리메틸 (메트)아크릴레이트 거대단량체의 공중합체, 테트라히드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트/스티렌/(메트)아크릴산의 공중합체, 메틸 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/폴리스티렌 거대단량체의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/폴리스티렌 거대단량체의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대단량체의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대단량체의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-히드록시-3-페녹시프로필 (메트)아크릴레이트/폴리메틸 (메트)아크릴레이트 거대단량체의 공중합체, 메틸 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대단량체의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트/폴리메틸 (메트)아크릴레이트 거대단량체의 공중합체, N-페닐말레이미드/벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 및 스티렌의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/N-페닐말레이미드/모노-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 숙시네이트/스티렌의 공중합체, 알릴 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/N-페닐말레이미드/모노-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 숙시네이트/스티렌의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/N-페닐말레이미드/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체, 벤질 (메트)아크릴레이트/ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/N-페닐말레이미드/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체, 및 벤질 (메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체이다. 상업적 제품의 예는 쇼와 덴코 가부시키가이샤(Showa Denko K.K.)에 의해 공급되는 리폭시(Ripoxy) SPC-2000이다. 본원의 문맥에서 용어 "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 뿐만 아니라 상응하는 메타크릴레이트를 지칭하는 것으로 여겨진다.
1종 이상의 단량체는 규소 함유 단량체, 예컨대 실란, 예컨대 테트라에틸오르토실리케이트 또는 테트라에톡시실란 또는 클로로- 또는 알콕시 관능성 실란, 올레핀, 예컨대 에틸렌, 프로필렌, 스티렌, 비닐피롤리돈, 산소- 또는 질소-함유 단량체, 예컨대 아크릴 유도체, 예를 들어 아크릴산 에스테르 및 아크릴산, 메타크릴산 및 메타크릴산 에스테르, 우레탄, 일- 및 이-관능성 알콜, 카르복실산, 아민, 이소시아네이트, 에폭시드, 방향족 화합물, 예컨대 치환기, 예컨대 알킬 기를 보유하는 방향족 화합물 및 술폰화 방향족 화합물, 방향족 수지, 이미다졸 및 이미다졸 유도체, 피라졸, 4급 암모늄 화합물, 폴리우레탄 예비중합체 및 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택된다.
우수한 알칼리 용해도를 일으키는 화합물 내의 관능기는 바람직하게는 카르복실 기이다. 그러나, 또한 알칼리 용해도를 일으키는 다른 기가 가능하다. 이러한 기에 대한 예는 페놀 기, 술폰산 기 및 무수물 기이다.
활성화 에너지 선에 의해 경화성인 수지의 분자 단위에 존재하는 에틸렌계 불포화 결합의 수가 적을 때, 잉크의 점도를 낮추기 위해 비스-페놀 A 유형 에폭시 화합물을 사용하는 것이 가능하다.
노볼락 유형 에폭시 화합물은 페놀 노볼락 유형 에폭시 수지 및 크레졸 노볼락 유형 에폭시 수지에 의해 나타내어진다. 이러한 화합물은 전형적으로 에피클로로히드린을 노볼락 수지와 반응시킴으로써 제조된다.
상기 언급된 산 무수물의 전형적인 예는 이염기성 산 무수물, 예컨대 예를 들어 말레산 무수물, 숙신산 무수물, 이타콘산 무수물, 프탈산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물, 메틸헥사히드로프탈산 무수물, 엔도-메틸렌테트라히드로프탈산 무수물, 메틸-엔도-메틸렌테트라히드로프탈산 무수물, 클로렌드산 무수물 및 메틸테트라히드로프탈산 무수물; 방향족 폴리카르복실산 무수물, 예컨대 예를 들어 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 무수물 및 벤조페논-테트라카르복실산 이무수물: 및 폴리카르복실산 무수물 유도체, 예컨대 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산 무수물이다.
알칼리 현상성 수지 (a)의 추가의 예는 에폭시 화합물과 불포화 모노카르복실산의 반응 생성물과 적어도 2개의 에틸렌계 불포화 기 및 적어도 1개의 카르복실 관능기를 분자 구조 내에 갖는 중합체 또는 올리고머, 예컨대 포화 또는 불포화 다염기성 산 무수물과의 반응에 의해 수득된 수지이다 (예를 들어, UCB 케미칼스(UCB Chemicals)로부터의 EB9696; 니폰 가야쿠 캄파니 리미티드(Nippon Kayaku Co.Ltd.)로부터의 가야라드(KAYARAD) TCR 1025; 신-나카무라 케미칼 캄파니, 리미티드(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)로부터의 NK OLIGO EA-6340, EA-7440). 이러한 결합제의 다른 예는 JP2002-206014A, JP2004-69754A, JP2004-302245A, JP2005-77451A, JP2005-316449A, JP2005-338328A 및 JP3754065B2에 기재되어 있다.
알칼리 현상성 수지의 추가의 예는 적어도 1개의 에틸렌계 불포화 기를 갖는 상기 언급된 중합체 또는 올리고머이다.
추가의 예는 에폭시 기 함유 불포화 화합물을 카르복실산 기 함유 중합체의 카르복실 기 중 일부에 첨가하여 수득된 반응 혼합물이다 (예를 들어, 다이셀 캄파니(Daicel Co.)로부터의 ACA200, ACA200M, ACA210P, ACA230AA, ACA250, ACA300, ACA320 및 쇼와 덴코 가부시키가이샤에 의해 공급되는 리폭시 SPC-1000). 카르복실산 함유 중합체로서, 불포화 카르복실산 화합물과 1종 이상의 중합성 화합물의 반응으로부터 생성된 상기 언급된 결합제 중합체, 예를 들어, (메트)아크릴산, 벤질 (메트)아크릴레이트, 스티렌과 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산, 스티렌과 α-메틸스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산, N-페닐말레이미드, 스티렌과 벤질 (메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산과 스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산과 벤질 (메트)아크릴레이트의 공중합체, 테트라히드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트, 스티렌과 (메트)아크릴산의 공중합체 등을 들 수 있다.
에폭시 기를 갖는 불포화 화합물의 예는 하기 화학식 (V-1) - (V-15)에 주어진다.
상기 식에서 R50은 수소 또는 메틸 기이고, M3은 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬렌이다.
이들 화합물 중에서, 지환족 에폭시 기를 갖는 화합물이 특히 바람직한데, 이는 이들 화합물이 카르복실 기-함유 수지와의 높은 반응성을 가지며, 따라서 반응 시간이 단축될 수 있기 때문이다. 이들 화합물은 추가로 반응 공정에서의 겔화를 초래하지 않으며, 반응을 안정하게 수행하는 것을 가능하게 한다. 다른 한편으로는, 글리시딜 아크릴레이트 및 글리시딜 메타크릴레이트는 낮은 분자량을 갖기 때문에 감수성 및 내열성의 관점에서 유리하며, 높은 에스테르화 전환율을 수득할 수 있다.
상기 언급된 화합물의 구체적 예는, 예를 들어 스티렌, α-메틸 스티렌 및 아크릴산의 공중합체 또는 메틸 메타크릴레이트과 아크릴산의 공중합체와, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메트)아크릴레이트와의 반응 생성물이다.
다른 예는 에폭시 기 함유 불포화 화합물의, 카르복실산 기 함유 중합체의 카르복실 기 중 일부 또는 전부에 대한 첨가 반응에 이어 다염기성 산 무수물 (예를 들어 쇼와 덴코 가부시키가이샤에 의해 공급되는 리폭시 SPC-3000)과의 추가의 반응에 의해 수득된 생성물이다.
히드록시 기를 갖는 불포화 화합물, 예컨대 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트 및 글리세롤 모노(메트)아크릴레이트가, 상기 언급된 에폭시 기 함유 불포화 화합물 대신에 카르복실산 기 함유 중합체를 위한 반응물로서 사용될 수 있다.
다른 예는 무수물의 하프 에스테르 함유 중합체, 예를 들어 말레산 무수물과 1종 이상의 다른 중합성 화합물의 공중합체와, 알콜성 히드록실 기를 갖는 (메트)아크릴레이트, 예컨대 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트 또는 에폭시 기를 갖는 (메트)아크릴레이트, 예를 들어 예컨대 화학식 (V-1) - (V-15)에 기재된 화합물과의 반응 생성물이다.
알콜성 히드록실 기를 갖는 중합체, 예컨대 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산, 벤질 (메트)아실레이트와 스티렌의 공중합체와, (메트)아크릴산 또는 (메트)아크릴 클로라이드와의 반응 생성물이 또한 사용될 수 있다.
다른 예는 이염기성 산 무수물과 적어도 2개의 에폭시 기를 갖는 화합물의 반응에 이어, 불포화 화합물과의 추가의 반응으로부터 수득되는 말단 불포화 기를 갖는 폴리에스테르와, 다염기성 산 무수물과의 반응 생성물이다.
추가의 예는 상기 언급된 바와 같은 카르복실산 함유 중합체의 카르복실 기 중 전부에 에폭시 기 함유 (메트)아크릴 화합물을 첨가함으로써 수득되는 반응 생성물과 포화 또는 불포화 다염기성 산 무수물과의 반응에 의해 수득되는 수지이다.
다른 예는 에틸렌계 불포화 기 및 적어도 1개의 카르복실 관능기를 갖는 폴리이미드 수지이다. 본 발명에서 폴리이미드 결합제 수지는 폴리이미드 전구체, 예를 들어, 폴리(아미드산)일 수 있다.
알칼리 현상성 수지의 구체적 예는 다음과 같다:
아크릴중합체 유형 수지, 예컨대
카르도 유형 수지 (플루오렌 에폭시 아크릴레이트 기재 수지)
예를 들어, 결합제 수지의 함량은 라디칼 중합성 조성물 내의 고체 함량의 총 중량을 기준으로 2-98 중량%, 바람직하게는 5-90 중량%, 특히 10-80 중량%일 수 있다.
성분 (a)는 예를 들어 아크릴레이트 단량체를 포함한다.
아크릴레이트 단량체는 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 잔기 또는 그의 조합을 함유하는 아크릴레이트 단량체 또는 올리고머를 지칭한다.
이중 결합을 함유하는 화합물의 예는 (메트)아크릴산, 알킬, 히드록시알킬 또는 아미노알킬 (메트)아크릴레이트, 예를 들어 메틸, 에틸, n-부틸, i-부틸, t-부틸, n-프로필, i-프로필, n-헥실, 시클로헥실, 2-에틸헥실, 이소보르닐, 벤질, 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 글리세롤, 페녹시에틸, 메톡시디에틸렌 글리콜, 에톡시디에틸렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 글리시딜, N,N-디메틸아미노에틸, 및 N,N-디에틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트이다. 다른 예는 (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴아미드, N-치환된 (메트)아크릴아미드, 예컨대 N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디에틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디부틸 (메트)아크릴아미드, N-메틸 (메트)아크릴아미드, N-에틸 (메트)아크릴아미드, N-부틸 (메트)아크릴아미드, 및 N-(메트)아크릴로일모르폴린, 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트, 비닐 에테르, 예컨대 i-부틸 비닐 에테르, 스티렌, 알킬-, 히드록시- 및 할로-스티렌, N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, N-비닐 아세토아미드, N-비닐 포름아미드, 비닐 클로라이드 및 비닐리덴 클로라이드이다.
비교적 고분자량 (올리고머)의 다중불포화 화합물의 예는, 에틸렌계 불포화 카르복실레이트를 함유하는, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에테르 및 폴리아미드이다.
특히 적합한 예는 에틸렌계 불포화 카르복실산과 폴리올 또는 폴리에폭시드와의 에스테르이다.
불포화 카르복실산의 예는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 신남산, 및 불포화 지방산, 예컨대 리놀렌산 또는 올레산이다. 아크릴산 및 메타크릴산이 바람직하다.
적합한 폴리올은 방향족, 특히 지방족 및 시클로지방족 폴리올이다. 방향족 폴리올의 예는 히드로퀴논, 4,4'-디히드록시비페닐, 2,2-비스(4-히드록시페닐)에탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시페닐)헥사플루오로프로판, 9,9-비스(4-히드록시페닐)플루오렌, 노볼락 및 레졸이다. 지방족 및 시클로지방족 폴리올의 예는, 바람직하게는 2 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 갖는 알킬렌디올, 예컨대 에틸렌 글리콜, 1,2- 또는 1,3-프로판디올, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-부탄디올, 펜탄디올, 헥산디올, 옥탄디올, 도데칸디올, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 바람직하게는 200 내지 1500의 분자량을 갖는 폴리에틸렌 글리콜, 1,3-시클로펜탄디올, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-시클로헥산디올, 1,4-디히드록시메틸시클로헥산, 글리세롤, 트리에탄올아민, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨 모노옥살레이트, 디펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨과 에틸렌 글리콜 또는 프로필렌 글리콜과의 에테르, 디펜타에리트리톨과 에틸렌 글리콜 또는 프로필렌 글리콜과의 에테르, 소르비톨, 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판 및 9,9-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]플루오렌이다. 다른 적합한 폴리올은 중합체 쇄에서 또는 측기에서 히드록실 기를 함유하는 중합체 및 공중합체이며, 예는 비닐 알콜을 포함하거나 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트를 포함하는 단독중합체 또는 공중합체이다. 적합한 추가의 폴리올은 히드록실 말단 기를 갖는 에스테르 및 우레탄이다.
폴리올은 1종의 불포화 카르복실산 또는 다양한 불포화 카르복실산들로 부분적으로 또는 완전히 에스테르화될 수 있고, 부분 에스테르에서는 유리 히드록실기가 개질될 수 있으며, 예를 들어 다른 카르복실산으로 에테르화되거나 에스테르화될 수 있다.
폴리올을 기재로 하는 에스테르의 예는 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(아크릴로일옥시프로필) 에테르, 트리메틸올에탄 트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라메틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트 모노옥살레이트, 디펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트 모노(2-히드록시에틸) 에테르, 트리펜타에리트리톨 옥타(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디이타코네이트, 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 소르비톨 트리(메트)아크릴레이트, 소르비톨 테트라(메트)아크릴레이트, 소르비톨 펜타(메트)아크릴레이트, 소르비톨 헥사(메트)아크릴레이트, 올리고에스테르 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 디(메트)아크릴레이트 및 트리(메트)아크릴레이트, 200 내지 1500의 분자량을 갖는 폴리에틸렌 글리콜의 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디이타코네이트, 디펜타에리트리톨 트리스이타코네이트, 디펜타에리트리톨 펜타이타코네이트, 디펜타에리트리톨 헥사이타코네이트, 에틸렌 글리콜 디이타코네이트, 프로필렌 글리콜 디이타코네이트, 1,3-부탄디올 디이타코네이트, 1,4-부탄디올 디이타코네이트, 테트라메틸렌 글리콜 디이타코네이트, 소르비톨 테트라이타코네이트, 에틸렌 글리콜 디크로토네이트, 테트라메틸렌 글리콜 디크로토네이트, 펜타에리트리톨 디크로토네이트, 에틸렌 글리콜 디말레에이트, 트리에틸렌 글리콜 디말레에이트, 펜타에리트리톨 디말레에이트, 소르비톨 테트라말레에이트 또는 그의 혼합물이다.
다른 예는 하기 화학식 XII 및 XIII에 제시된 펜타에리트리톨 및 디펜타에리트리톨 유도체이다.
<화학식 XII>
<화학식 XIII>
상기 식에서
M1은 -(CH2CH2O)- 또는 -[CH2CH(CH3)O]-이고,
R100은 -COCH=CH2 또는 -COC(CH3)=CH2이고,
p는 0 내지 6 (p의 총계: 3-24)이고, q는 0 내지 6 (q의 총계: 2-16)이다.
폴리에폭시드의 예는 상기 언급된 폴리올 및 에피클로로히드린을 기재로 하는 것이다. 전형적인 예는 비스(4-글리시딜옥시페닐)메탄, 2,2-비스(4-글리시딜옥시페닐)프로판, 2,2-비스(4-글리시딜옥시페닐)헥사플루오로프로판, 9,9-비스(4-글리시딜옥시페닐)플루오렌, 비스[4-(2-글리시딜옥시에톡시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2-글리시딜옥시에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(2-글리시딜옥시에톡시)페닐]헥사플루오로프로판, 9,9-비스[4-(2-글리시딜옥시에톡시)페닐]플루오렌, 비스[4-(2-글리시딜옥시프로폭시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2-글리시딜옥시프로폭시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(2-글리시딜옥시프로폭시)페닐]헥사플루오로프로판, 9,9-비스[4-(2-글리시딜옥시프로폭시)페닐]플루오렌, 글리세롤 디글리시딜 에테르 및 페놀 및 크레졸 노볼락의 글리시딜 에테르이다.
폴리에폭시드를 기재로 하는 전형적인 예는 2,2-비스[4-{(2-히드록시-3-아크릴옥시)프로폭시}페닐]프로판, 2,2-비스[4-{(2-히드록시-3-아크릴옥시)프로폭시에톡시}페닐]프로판, 9,9-비스[4-{(2-히드록시-3-아크릴옥시)프로폭시}페닐]플루오렌, 9,9-비스[4-{(2-히드록시-3-아크릴-옥시)프로폭시에톡시}페닐]플루오렌, 글리세롤 1,3-디글리세롤레이트 디아크릴레이트, 및 노볼락을 기재로 하는 에폭시 수지와 (메트)아크릴산의 반응 생성물이다.
바람직한 다관능성 (메트)아크릴레이트 단량체 또는 올리고머는 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디-트리메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(2-히드록시 에틸) 이소시아누레이트 트리아크릴레이트를 포함한다.
구체적 예는 다음과 같다:
디펜타에리트리톨-헥사아크릴레이트 (DPHA). 디펜타에리트리톨-펜타아크릴레이트 (DPPA)
2개의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 모이어티를 갖는 상업적으로 입수가능한 아크릴레이트 단량체 또는 올리고머의 예는 아로닉스(Aronix)®M-210, 아로닉스®M-240, 아로닉스®M-6200 (도아고세이 캄파니, 리미티드(TOAGOSEI Co., LDT.)), 가야라드 HDDA, 가야라드 HX-220, 가야라드 HX-620, 가야라드 R-526, 가야라드 UX-2201, 가야라드 MU-2100 (니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드), 비스코트(VISCOAT)-260, 비스코트-355HP (오사카 오가닉 케미칼 인더스트리 리미티드(OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.))이다.
3개 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 모이어티를 갖는 상업적으로 입수가능한 아크릴레이트 단량체 또는 올리고머의 예는 아로닉스®M-309, 아로닉스®M-400, 아로닉스®M-1310, 아로닉스®M-1960, 아로닉스®M-7100, 아로닉스®M-8530, 아로닉스®TO-1450 (도아고세이 캄파니, 리미티드), 가야라드 TMPTA, 가야라드 DPHA, 가야라드 DPCA-20, 가야라드 MAX-3510 (니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드), 비스코트-295, 비스코트-300, 비스코트-GPT, 비스코트-3PA, 비스코트-400 (오사카 오가닉 케미칼 인더스트리 리미티드)이다.
2개 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 모이어티를 갖는 상업적으로 입수가능한 우레탄 아크릴레이트 단량체 또는 올리고머의 예는 뉴 프론티어(NEW FRONTIER) R-1150 (다이-이치 고교 세이야쿠 캄파니, 리미티드(DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO., LTD.)), 가야라드 DPHA-40H, 가야라드 UX-5000 (니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드), UN-9000H (네가미 케미칼 인더스트리얼 캄파니, 리미티드(Negami Chemical Industrial Co., Ltd.))이다.
방사선 경화성 조성물에 존재하는 아크릴레이트의 양은 조성물의 전체 고체 함량, 즉 용매(들)를 제외한 모든 성분의 양을 기준으로 약 2% 내지 80%, 바람직하게는 약 5% 내지 70% 범위이다.
광경화성 조성물에 다른 공지된 광개시제 (c)를 첨가하는 것이 물론 가능하다.
추가의 광개시제의 사용은 중요하지는 않다. 광개시제 (c)는 예를 들어 벤조페논, 비스-이미다졸, 방향족 α-히드록시케톤, 벤질케탈, 방향족 α-아미노케톤, 페닐글리옥살산 에스테르, 모노-아실포스핀옥시드, 비스-아실포스핀옥시드, 트리스-아실포스핀옥시드, 방향족 케톤으로부터 유도된 옥심에스테르 및/또는 카르바졸 유형의 옥심 에스테르로부터 선택된다.
이러한 광개시제의 예는 캄포르 퀴논; 벤조페논, 벤조페논 유도체, 예컨대 2,4,6-트리메틸벤조페논, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2-메톡시카르보닐벤조페논, 4,4'-비스-(클로로메틸)벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4-페닐벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시-벤조페논, [4-(4-메틸페닐티오)페닐]-페닐메타논, 메틸-2-벤조일벤조에이트, 3-메틸-4'-페닐벤조페논, 2,4,6-트리메틸-4'-페닐벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 티오크산톤, 티오크산톤 유도체, 예를 들어 옴니폴(OMNIPOL) TX로서의 중합체 티오크산톤; 예를 들어 벤질디메틸케탈 (이르가큐어(Irgacure)® 651)로서의 케탈 화합물; 아세토페논, 아세토페논 유도체, 예를 들어 α-히드록시-시클로알킬 페닐 케톤 또는 α-히드록시알킬 페닐 케톤, 예컨대 예를 들어 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로파논 (다로큐어(Darocure)®1173), 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤 (이르가큐어®184), 1-(4-도데실벤조일)-1-히드록시-1-메틸-에탄, 1-(4-i-프로필벤조일)-1-히드록시-1-메틸-에탄, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 (이르가큐어®2959); 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]-페닐}-2-메틸-프로판-1-온 (이르가큐어®127); 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-페녹시]-페닐}-2-메틸-프로판-1-온; 디알콕시아세토페논, α-히드록시- 또는 α-아미노아세토페논, 예를 들어 (4-메틸티오벤조일)-1-메틸-1-모르폴리노에탄 (이르가큐어® 907), (2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모르폴린일)페닐]-1-부타논) (이르가큐어® 369), 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 (이르가큐어® 379), (4-(2-히드록시에틸)아미노벤조일)-1-벤질-1-디메틸아미노프로판), (3,4-디메톡시벤조일)-1-벤질-1-디메틸아미노프로판; 4-아로일-1,3-디옥솔란, 벤조인 알킬 에테르 및 벤질 케탈, 예를 들어 디메틸 벤질 케탈, 페닐글리옥살산 에스테르 및 그의 유도체, 예를 들어 메틸 α-옥소 벤젠아세테이트, 옥소-페닐-아세트산 2-(2-히드록시-에톡시)-에틸 에스테르, 이량체 페닐글리옥살산 에스테르, 예를 들어 옥소-페닐-아세트산 1-메틸-2-[2-(2-옥소-2-페닐-아세톡시)-프로폭시]-에틸 에스테르 (이르가큐어® 754); 케토술폰, 예를 들어 에사큐어(ESACURE) KIP 1001 M; 옥심에스테르, 예를 들어 1,2-옥탄디온 1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 에타논 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 메타논 [8-[[(아세틸옥시)이미노][2-(2,2,3,3-테트라-플루오로프로폭시)페닐]메틸]-11-(2-에틸헥실)-11H-벤조[a]카르바졸-5-일](2,4,6-트리메틸페닐), 에타논 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), N-아세톡시-N-{3-[9-에틸-6-(나프탈렌-1-카르보닐)-9H-카르바졸-3-일]-1-메틸-3-아세톡시이미노-프로필}-아세트아미드, 9H-티오크산텐-2-카르복스알데히드 9-옥소-2-(O-아세틸옥심), [(E)-[1-(시클로헥실메틸)-2-옥소-2-(4-페닐술파닐페닐)에틸리덴]아미노] 시클로프로판카르복실레이트), [(E)-[1-(시클로헥실메틸)-2-옥소-2-(4-페닐술파닐-페닐)에틸리덴]아미노] 아세테이트, [(E)-[1-(시클로헥실메틸)-2-[9-에틸-6-(티오펜-2-탄소일)카르바졸-3-일]-2-옥소-에틸리덴]아미노] 아세테이트, [(E)-[1-(o-톨릴)-2-옥소-2-(4-페닐술파닐페닐)에틸리덴]아미노] 아세테이트, [(E)-1-[9-에틸-6-(티오펜-2-카르보닐)카르바졸-3-일]에틸리덴아미노] 아세테이트, [(E)-1-[9-에틸-6-(티오펜-2-카르보닐)카르바졸-3-일]프로필리덴아미노] 아세테이트, WO07/062963, WO07/071797, WO07/071497, WO05/080337, JP2010-049238, WO2008078678, JP2010-15025 및 JP2010-49238에 기재된 옥심 에스테르, 퍼에스테르, 예를 들어 EP 126541에 기재된 바와 같은 벤조페논 테트라카르복실산 퍼에스테르, 모노아실 포스핀 옥시드, 예를 들어 (2,4,6-트리메틸벤조일)디페닐포스핀 옥시드 (이르가큐어® TPO), 에틸 (2,4,6 트리메틸벤조일 페닐) 포스핀산 에스테르; 비스아실포스핀 옥시드, 예를 들어 비스(2,6-디메톡시-벤조일)-(2,4,4-트리메틸-펜틸)포스핀 옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀 옥시드 (이르가큐어® 819), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디펜톡시페닐포스핀 옥시드, 트리아실포스핀 옥시드, 할로메틸트리아진, 예를 들어 2-[2-(4-메톡시-페닐)-비닐]-4,6-비스-트리클로로메틸-[1,3,5]트리아진, 2-(4-메톡시-페닐)-4,6-비스-트리클로로메틸-[1,3,5]트리아진, 2-(3,4-디메톡시-페닐)-4,6-비스-트리클로로메틸-[1,3,5]트리아진, 2-메틸-4,6-비스-트리클로로메틸-[1,3,5]트리아진, 헥사아릴비스이미다졸 / 공개시제 시스템, 예를 들어 2-메르캅토벤조티아졸과 조합된 오르토-클로로헥사페닐-비스이미다졸, 페로세늄 화합물, 또는 티타노센, 예를 들어 비스(시클로펜타디에닐)-비스(2,6-디플루오로-3-피릴-페닐)티타늄 (이르가큐어®784)이다. 또한, 보레이트 화합물이 공개시제로서 사용될 수 있다. 추가의 광개시제 올리고머 화합물, 예컨대 예를 들어 올리고머 알파 히드록실 케톤, 예를 들어 2-히드록시-1-{1-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-페닐]-1,3,3-트리메틸-인단-5-일}-2-메틸-프로판-1-온, 프라텔리 람베르티(Fratelli Lamberti)에 의해 공급된 에사큐어 KIP, 또는 올리고머 알파 아미노 케톤이 또한 사용될 수 있다.
구체적 예는 다음과 같다:
(2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논), 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, 1,2-옥탄디온 1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 에타논 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심).
본 발명에 따른 조성물은 성분 (d)로서 착색제를 포함할 수 있다.
착색제 안료 또는 염료 또는 안료(들) 및 염료(들)의 혼합물이 조성물에 존재할 수 있다. 안료처리된 컬러 필터 레지스트 조성물을 비롯하여, 본 발명에 따른 조성물에 포함될 수 있는 안료는 바람직하게는 가공된 안료이다.
적색 안료는, 예를 들어, 안트라퀴논 유형 안료 단독, 디케토피롤로피롤 유형 안료 단독, 그의 혼합물 또는 이들 중 적어도 1종 및 디스아조 유형 황색 안료 또는 이소인돌린 유형 황색 안료로 이루어진 혼합물, 특히 C. I. 피그먼트 레드 177 단독, C. I. 피그먼트 레드 254 단독, C. I. 피그먼트 레드 177 및 C. I. 피그먼트 레드 254의 혼합물, 또는 C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 레드 242 및 C. I. 피그먼트 레드 254 중 1종 이상의 구성원으로 이루어진 혼합물, 및 C. I. 피그먼트 옐로우 83 또는 C. I. 피그먼트 옐로우 139를 포함한다 ("C.I."는 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지되어 있고 공중 이용가능한 색 지수를 지칭함).
안료에 대한 추가의 적합한 예는 C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 168, 176, 179, 180, 185, 202, 207, 209, 214, 222, 244, 255, 264, 272 및 C.I. 피그먼트 옐로우 12, 13, 14, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 93, 95, 109, 110, 128, 129, 138, 139, 150, 153, 154,155, 166, 168, 185, 199, 213 및 C.I. 피그먼트 오렌지 43 및 71이다.
적색을 위한 염료의 예는 C. I. 솔벤트 레드 25, 27, 30, 35, 49, 83, 89, 100, 122, 138, 149, 150, 160, 179, 218, 230, C. I. 다이렉트 레드 20, 37, 39, 44, 및 C. I. 애시드 레드 6, 8, 9, 13, 14, 18, 26, 27, 51, 52, 87, 88, 89, 92, 94, 97, 111, 114, 115, 134, 145, 151, 154, 180, 183, 184, 186, 198, C. I. 베이직 레드 12, 13, C. I. 디스퍼스 레드 5, 7, 13, 17 및 58이다. 적색 염료는 황색 및/또는 오렌지색 염료와 조합으로 사용될 수 있다.
녹색 안료는 예를 들어 할로겐화 프탈로시아닌 유형 안료 단독 또는 비스아조 유형 황색 안료, 퀴노프탈론 유형 황색 안료 또는 금속 착물과 그의 혼합물, 특히 C. I. 피그먼트 그린 7 단독, C. I. 피그먼트 그린 36 단독, C. I. 피그먼트 58 단독, 또는 C. I. 피그먼트 그린 7, C. I. 피그먼트 그린 36, 피그먼트 그린 58 및 C. I. 피그먼트 옐로우 83 중 적어도 1종의 구성원으로 이루어진 혼합물, C. I. 피그먼트 옐로우 138 또는 C. I. 피그먼트 옐로우 150을 포함한다. 다른 적합한 녹색 안료는 C.I. 피그먼트 그린 15, 25 및 37이다.
적합한 녹색 염료에 대한 예는 C. I. 애시드 그린 3, 9, 16, C. I. 베이직 그린 1 및 4이다.
적합한 청색 안료에 대한 예는 단독으로 또는 디옥사진 유형 바이올렛 안료와 조합으로 사용되는 프탈로시아닌 유형 안료, 예를 들어 C. I. 피그먼트 블루 15:6 단독, C. I. 피그먼트 블루 15:6과 C. I. 피그먼트 바이올렛 23의 조합이다. 청색 안료에 대한 추가의 예는 C. I. 피그먼트 블루 15:3, 15:4, 16, 22, 28 및 60의 것이다. 다른 적합한 안료는 C. I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 37, 177 및 C. I. 오렌지 73이다.
청색 염료는, 예를 들어, 메탄 유형 염료, 안트라퀴논 유형 염료, 아조 유형 염료, 금속 착물 아조 유형 염료, 트리아릴 메탄 유형 염료 또는 프탈로시아닌 유형 염료를 포함한다.
적합한 청색 염료에 대한 예는 C. I. 솔벤트 블루 11, 25, 37, 45,49, 68, 78, 94, C. I. 다이렉트 블루 25, 86, 90, 108, C. I. 애시드 블루 1, 3, 7, 9, 15, 83, 90, 103, 104, 158, 161, 249, C. I. 베이직 블루 1, 3, 7, 9, 25, 105 및 C. I. 디스퍼스 블루 198 및 C.I.모던트 블루 1이다.
블랙 매트릭스를 위한 광중합체 조성물의 안료는 바람직하게는 카본 블랙, 티타늄 블랙, 산화철, 락톤, 락탐 및 페릴렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 구성원을 포함한다. 바람직한 예는 카본 블랙이다. 그러나, 전체적으로 흑색 외관을 제공하는 다른 안료의 혼합물이 또한 사용될 수 있다. 예를 들어, 또한 C. I. 피그먼트 블랙 1, 7, 31, 32 및 이르가포르(Irgaphor)® 블랙 S0100 (바스프 에스이(BASF SE))이 단독으로 또는 조합으로 사용될 수 있다.
컬러 필터에 사용된 염료의 다른 예는 C. I. 솔벤트 옐로우 2, 5, 14, 15, 16, 19, 21, 33, 56, 62, 77, 83, 93, 162, 104, 105, 114, 129, 130, 162, C. I. 디스퍼스 옐로우 3, 4, 7, 31, 54, 61, 201, C. I. 다이렉트 옐로우 1, 11, 12, 28, C. I. 애시드 옐로우 1, 3, 11, 17, 23, 38, 40, 42, 76, 98, C. I. 베이직 옐로우 1, C. I. 솔벤트 바이올렛 13, 33, 45, 46, C. I. 디스퍼스 바이올렛 22, 24, 26, 28, 31, C. I. 애시드 바이올렛 49, C. I. 베이직 바이올렛 2, 7, 10, C. I. 솔벤트 오렌지 1, 2, 5, 6, 37, 45, 62, 99, C. I. 애시드 오렌지 1, 7, 8, 10, 20, 24, 28, 33, 56, 74, C. I. 다이렉트 오렌지 1, C. I. 디스퍼스 오렌지 5, C. I. 다이렉트 브라운 6, 58, 95, 101, 173, C. I. 애시드 브라운 14, C. I. 솔벤트 블랙 3, 5, 7, 27, 28, 29, 35, 45 및 46이다.
컬러 필터를 제조하는 일부 특별한 경우에, 보색, 황색, 마젠타색, 시안색, 및 임의로 녹색이 적색, 녹색 및 청색 대신에 사용된다. 이러한 유형의 컬러 필터를 위한 황색으로서, 상기 언급된 황색 안료 및 염료가 사용될 수 있다. 마젠타색에 적합한 착색제의 예는 C. I. 피그먼트 레드 122, 144, 146, 169, 177, C. I. 피그먼트 바이올렛 19 및 23이다. 시안색의 예는 알루미늄 프탈로시아닌 안료, 티타늄 프탈로시아닌 안료, 코발트 프탈로시아닌 안료 및 주석 프탈로시아닌 안료이다.
컬러 필터 레지스트 조성물 내의 안료는 바람직하게는 평균 입자 직경이 가시 광선의 파장 (400 nm 내지 700 nm)보다 작다. < 100 nm의 평균 안료 직경이 특히 바람직하다.
전체 고체 성분 (다양한 색의 안료 및 수지) 중 안료의 농도는 예를 들어 5 중량% 내지 80 중량% 범위, 특히 20 중량% 내지 65 중량% 범위 내에 있다.
전체 고체 성분 (다양한 색의 염료 및 수지) 중 염료의 농도는 예를 들어 0.5 중량% 내지 95 중량%의 범위, 특히 0.5 중량% 내지 70 중량%의 범위 내에 있다.
필요한 경우에, 안료는 액체 배합물 중 안료의 분산 안정성을 개선시키기 위한 분산제에 의한 안료의 전처리에 의해 감광성 조성물 중에서 안정화될 수 있다. 적합한 첨가제는 하기 기재되어 있다.
첨가제 (d), 예컨대 분산제, 계면활성제, 접착 촉진제, 광증감제 등은 본 발명의 조성물에 임의로 존재한다.
안료가 용이하게 분산되도록 하고 생성된 안료 분산액을 안정화시키기 위해 안료에 표면 처리를 적용하는 것이 바람직하다. 표면 처리 시약은, 예를 들어, 계면활성제, 중합체 분산제, 일반 텍스쳐 개선제, 안료 유도체 및 그의 혼합물이다. 본 발명에 따른 착색제 조성물이 적어도 1종의 중합체 분산제 및/또는 적어도 안료 유도체를 포함하는 경우에 특히 바람직하다.
적합한 계면활성제는 알킬벤젠- 또는 알킬나프탈렌-술포네이트, 알킬술포숙시네이트 또는 나프탈렌 포름알데히드 술포네이트와 같은 음이온성 계면활성제; 예를 들어 4급 염, 예컨대 벤질 트리부틸 암모늄 클로라이드를 포함하는 양이온성 계면활성제; 또는 폴리옥시에틸렌 계면활성제 및 알킬- 또는 아미도프로필 베타인과 같은 비이온성 또는 양쪽성 계면활성제를 각각 포함한다.
계면활성제의 예시적인 예는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 예컨대 폴리옥시에틸렌 라우릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르 및 폴리옥시에틸렌 올레일 에테르; 폴리옥시에틸렌 알킬페닐 에테르, 예컨대 폴리옥시에틸렌 옥틸페닐 에테르 및 폴리옥시에틸렌 노닐페닐 에테르; 폴리에틸렌 글리콜 디에스테르, 예컨대 폴리에틸렌 글리콜 디라우레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 디스테아레이트; 소르비탄 지방산 에스테르; 지방산 개질된 폴리에스테르; 3급 아민 개질된 폴리우레탄; 폴리에틸렌이민; KP (신에쓰 케미칼 캄파니, 리미티드(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd)의 제품)), 폴리플로우(Polyflow) (교에이샤 케미칼 캄파니, 리미티드(KYOEISHA CHEMICAL Co., Ltd)의 제품), F-톱(F-Top) (토켐 프로덕츠 캄파니, 리미티드(Tochem Products Co., Ltd)의 제품), 메가팍(MEGAFAC) (다이니폰 잉크 앤드 케미칼스, 인크.(Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)의 제품), 플루오라드(Fluorad) (스미토모 3M 리미티드(Sumitomo 3M Ltd)의 제품), 아사히 가드(Asahi Guard) 및 서프론(Surflon) (아사히 글래스 캄파니, 리미티드(Asahi Glass Co., Ltd)의 제품) 등의 상표명 하에 입수가능한 것을 포함한다.
이들 계면활성제는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
계면활성제는 착색제 조성물의 100 중량부를 기준으로 일반적으로 50 중량부 이하, 바람직하게는 0 내지 30 중량부의 양으로 사용된다.
중합체 분산제는 안료 친화성 기를 갖는 고분자량 중합체를 포함한다. 예는 다음과 같다: 예를 들어 스티렌 유도체, (메트)아크릴레이트와 (메트)아크릴아미드로부터 구성된 통계적 공중합체, 및 후 개질에 의해 개질된 이러한 통계적 공중합체; 예를 들어 스티렌 유도체, (메트)아크릴레이트와 (메트)아크릴아미드로부터 구성된 블록 공중합체 및/또는 빗살형 중합체, 및 후 개질에 의해 개질된 이러한 블록 공중합체 및/또는 빗살형 중합체; 예를 들어 폴리에스테르로 크라프트된 폴리에틸렌이민; 예를 들어 폴리에스테르로 크라프트된 폴리아민; 및 많은 종류의 (개질된) 폴리우레탄이다.
중합체 분산제가 또한 사용될 수 있다. 적합한 중합체 분산제는 예를 들어 빅(BYK)의 디스퍼빅(DISPERBYK)® 101, 115, 130, 140, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 168, 169, 170, 171, 180, 182, 2000, 2001, 2009, 2020, 2025, 2050, 2090, 2091, 2095, 2096, 2150, 바스프의 에프카(EFKA)® 4008, 4009, 4010, 4015, 4046, 4047, 4050, 4055, 4060, 4080, 4300, 4310, 4330, 4340, 4400, 4401, 4402, 4403, 4406, 4500, 4510, 4520, 4530, 4540, 4550, 4560, 아지노모토 파인 테크노(Ajinomoto Fine Techno)의 PB®711, 821, 822, 823, 824, 827, 루브리졸(Lubrizol)의 솔스퍼스(SOLSPERSE)® 1320, 13940, 17000, 20000, 21000, 24000, 26000, 27000, 28000, 31845, 32500, 32550, 32600, 33500, 34750, 36000, 36600, 37500, 39000, 41090, 44000, 53095 및 그의 조합이다.
에프카® 4046, 4047, 4060, 4300, 4310, 4330, 4340, 디스퍼빅® 161, 162, 163, 164, 165, 166, 168, 169, 170, 2000, 2001, 2020, 2050, 2090, 2091, 2095, 2096, 2105, 2150, PB®711, 821, 822, 823, 824, 827, 솔스퍼스® 24000, 31845, 32500, 32550, 32600, 33500, 34750, 36000, 36600, 37500, 39000, 41090, 44000, 53095 및 그의 조합을 분산제로서 사용하는 것이 바람직하다.
적합한 텍스쳐 개선제는, 예를 들어, 지방산, 예컨대 스테아르산 또는 베헨산 및 지방 아민, 예컨대 라우릴아민 및 스테아릴아민이다. 게다가, 지방 알콜 또는 에톡실화 지방 알콜, 폴리올, 예컨대 지방족 1,2-디올 또는 에폭시화 대두 오일, 왁스, 수지산 및 수지산 염이 이 목적을 위해 사용될 수 있다.
적합한 안료 유도체는, 예를 들어, 구리 프탈로시아닌 유도체, 예컨대 바스프의 에프카® 6745, 루브리졸의 솔스퍼스® 5000, 12000, 빅의 시너지스트(SYNERGIST) 2100 및 아조 유도체, 예컨대 에프카® 6750, 솔스퍼스® 22000 및 시너지스트 2105이다.
안료에 대해 상기 언급된 분산제 및 계면활성제는, 예를 들어, 레지스트 배합물로서, 특히 컬러 필터 배합물에 사용되는 본 발명의 조성물에 사용된다.
본 발명의 대상은 또한 추가의 첨가제로서 분산제 또는 분산제의 혼합물을 포함하는 상기 기재된 바와 같은 광중합성 조성물 뿐만 아니라 추가의 첨가제로서 안료 또는 안료의 혼합물 또는 염료 또는 염료의 혼합물 또는 1종 이상의 안료와 1종 이상의 염료의 혼합물을 포함하는 상기 기재된 바와 같은 광중합성 조성물이다.
본 발명에서, 분산제의 함량은 안료의 질량을 기준으로 바람직하게는 1 내지 80 질량%, 보다 바람직하게는 5 내지 70 질량%, 보다 더 바람직하게는 10 내지 60 질량%이다.
추가의 적합한 첨가제 (d)는 예를 들어 접착 개선제이다. 본 발명의 경화성 조성물은 예컨대 지지체의 경질 표면에 대한 접착을 증가시키기 위한 접착 개선제를 함유할 수 있다. 접착 개선제는 실란 커플링제, 티타늄 커플링제 등일 수 있다.
광중합은 또한 스펙트럼 감수성을 이동시키거나 넓히는 추가의 광증감제 또는 공개시제를 (성분 (d)로서) 첨가함으로써 가속될 수 있다. 이들은, 특히 방향족 화합물, 예를 들어 벤조페논 및 그의 유도체, 티오크산톤 및 그의 유도체, 안트라퀴논 및 그의 유도체, 쿠마린 및 페노티아진 및 그의 유도체, 및 또한 3-(아로일메틸렌)티아졸린, 로다닌, 캄포르퀴논, 및 또한 에오신, 로다민, 에리트로신, 크산텐, 티오크산텐, 아크리딘, 예를 들어 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 시아닌 및 메로시아닌 염료이다.
이러한 화합물의 구체적 예는 다음과 같다.
1. 티오크산톤
티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로프옥시-티오크산톤, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 1-메톡시카르보닐티오크산톤, 2-에톡시카르보닐티오크산톤, 3-(2-메트-옥시에톡시카르보닐)-티오크산톤, 4-부톡시카르보닐티오크산톤, 3-부톡시카르보닐-7-메틸티오크산톤, 1-시아노-3클로로티오크산톤, 1-에톡시카르보닐-3-클로로티오크산톤, 1-에톡시카르보닐-3-에톡시티오크산톤, 1-에톡시카르보닐-3-아미노티오크산톤, 1-에톡시카르보닐-3-페닐술푸릴티오크산톤, 3,4-디-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시카르보닐]-티오크산톤, 1,3-디메틸-2-히드록시-9H티오크산텐-9-온 2-에틸헥실에테르, 1-에톡시카르보닐-3-(1-메틸-1-모르폴리노에틸)-티오크산톤, 2-메틸-6-디메톡시-메틸-티오크산톤, 2-메틸-6-(1,1-디메톡시벤질)-티오크산톤, 2-모르폴리노-메틸티오크산톤, 2-메틸-6-모르폴리노메틸티오크산톤, N-알릴티오크산톤-3,4-디카르복스이미드, N-옥틸티오크산톤-3,4-디카르복스이미드, N-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-티오크산톤-3,4-디카르복스이미드, 1-페녹시티오크산톤, 6-에톡시카르보닐-2-메톡시-티오크산톤, 6-에톡시카르보닐-2-메틸티오크산톤, 티오크산톤-2-카르복실산 폴리에틸렌글리콜 에스테르, 2-히드록시-3-(3,4-디메틸-9-옥소-9H-티오크산톤-2-일옥시)-N,N,N-트리메틸-1-프로판아미늄 클로라이드;
2. 벤조페논
벤조페논, 4-페닐 벤조페논, 4-메톡시 벤조페논, 4,4'-디메톡시 벤조페논, 4,4'-디메틸 벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논 4,4'-비스(디-메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(메틸-에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(p-이소프로필페녹시)벤조페논, 4-메틸 벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4-(4-메틸티오페닐)-벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시 벤조페논, 메틸-2-벤조일벤조에이트, 4-(2-히드록시에틸티오)-벤조페논, 4-(4-톨릴티오)벤조페논, 1-[4-(4-벤조일-페닐술파닐)-페닐]-2-메틸-2-(톨루엔-4-술포닐)-프로판-1-온, 4-벤조일-N,N,N-트리메틸벤젠메탄아미늄 클로라이드, 2-히드록시-3-(4-벤조일페녹시)-N,N,N-트리메틸-1-프로판아미늄 클로라이드 1수화물, 4-(13-아크릴로일1,4,7,10,13-펜타옥사트리데실)-벤조페논, 4-벤조일-N,N-디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐)옥시]에틸-벤젠메탄아미늄 클로라이드;
3. 쿠마린
쿠마린 1, 쿠마린 2, 쿠마린 6, 쿠마린 7, 쿠마린 30, 쿠마린 102, 쿠마린 106, 쿠마린 138, 쿠마린 152, 쿠마린 153, 쿠마린 307, 쿠마린 314, 쿠마린 314T, 쿠마린 334, 쿠마린 337, 쿠마린 500, 3-벤조일 쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디메톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디프로폭시쿠마린, 3-벤조일-6,8-디클로로쿠마린, 3-벤조일-6-클로로-쿠마린, 3,3'-카르보닐-비스[5,7-디(프로폭시)쿠마린], 3,3'-카르보닐-비스(7-메톡시쿠마린), 3,3'-카르보닐-비스(7-디에틸아미노-쿠마린), 3-이소부틸로일쿠마린, 3-벤조일-5,7-디메트-옥시-쿠마린, 3-벤조일-5,7-디에톡시-쿠마린, 3-벤조일-5,7-디부톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(메톡시에톡시)-쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(알릴옥시)쿠마린, 3-벤저일-7-디메틸아미노쿠마린, 3-벤조일-7-디에틸아미노쿠마린, 3-이소부틸로일-7-디-메틸아미노쿠마린, 5,7-디메톡시-3-(1-나프토일)-쿠마린, 5,7-디에톡시-3-(1-나프토일)-쿠마린, 3-벤조일벤조[f]쿠마린, 7-디에틸아미노-3-티에노일쿠마린, 3-(4-시아노벤조일)-5,7-디메톡시쿠마린, 3-(4-시아노벤조일)-5,7-디프로폭시쿠마린, 7-디메틸아미노-3-페닐쿠마린, 7-디에틸아미노-3-페닐쿠마린, JP09-179299-A 및 JP09-325209-A에 개시된 쿠마린 유도체, 예를 들어 7-[{4-클로로-6-(디에틸아미노)-S-트리아진-2-일}아미노]-3-페닐쿠마린;
4. 3-(아로일메틸렌)-티아졸린
3-메틸-2-벤조일메틸렌-β-나프토티아졸린, 3-메틸-2-벤조일메틸렌-벤조티아졸린, 3-에틸-2-프로피오닐메틸렌-β-나프토티아졸린;
5. 로다닌
4-디메틸아미노벤잘로다닌, 4-디에틸아미노벤잘로다닌, 3-에틸-5-(3-옥틸-2-벤조티아졸리닐리덴)-로다닌, JP08-305019A에 개시된 화학식 [1], [2], [7]의 로다닌 유도체;
6. 다른 화합물
아세토페논, 3-메톡시아세토페논, 4-페닐아세토페논, 벤질, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤질, 2-아세틸나프탈렌, 2-나프트알데히드, 단실 산 유도체, 9,10-안트라퀴논, 안트라센, 피렌, 아미노피렌, 페릴렌, 페난트렌, 페난트렌퀴논, 9-플루오레논, 디벤조수베론, 쿠르쿠민, 크산톤, 티오미힐러 케톤, α-(4-디메틸아미노벤질리덴) 케톤, 예를 들어 2,5-비스(4-디에틸아미노벤질리덴)시클로펜타논, 2-(4-디메틸아미노-벤질리덴)-인단-1-온, 3-(4-디메틸아미노-페닐)-1-인단-5-일-프로페논, 3-페닐티오프탈이미드, N-메틸-3,5-디(에틸티오)-프탈이미드, N-메틸-3,5-디(에틸티오)프탈이미드, 페노티아진, 메틸페노티아진, 아민, 예를 들어 N-페닐글리신, 에틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 부톡시에틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노아세토페논, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 2-(디메틸아미노)에틸 벤조에이트, 폴리(프로필렌글리콜)-4-(디메틸아미노) 벤조에이트.
광증감제는 예를 들어 벤조페논 및 그의 유도체, 티오크산톤 및 그의 유도체, 안트라퀴논 및 그의 유도체, 또는 쿠마린 및 그의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된다.
광중합을 가속하기 위해, 아민, 예를 들어 트리에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 에틸-p-디메틸아미노벤조에이트, 2-(디메틸아미노)에틸 벤조에이트, 2-에틸헥실-p-디메틸아미노벤조에이트, 옥틸-파라-N,N-디메틸아미노벤조에이트, N-(2-히드록시에틸)-N-메틸-파라-톨루이딘 또는 미힐러 케톤을 첨가하는 것이 가능하다. 아민의 작용은 벤조페논 유형의 방향족 케톤의 첨가에 의해 강화될 수 있다. 산소 스캐빈저로서 사용될 수 있는 아민의 예는 EP339841에 기재된 바와 같은 치환된 N,N-디알킬아닐린이다. 다른 가속화제, 공개시제 및 자가산화제는, 예를 들어 EP438123에, GB2180358에 및 JP 공개 (평) 6-68309에 기재된 바와 같은 티올, 티오에테르, 디술피드, 포스포늄 염, 포스핀 옥시드 또는 포스핀이다.
중합을 열적으로 가속하기 위해, 열 경화 촉진제, 예를 들어, WO2012/101245에 기재된 바와 같은 옥심 술포네이트, 예를 들어, WO2012/108835에, WO2001090113에, WO03029332에 및 WO04081100에 기재된 바와 같은 히드록실아민 에스테르, 예를 들어, JP2003015288에 및 JP10010718에 기재된 바와 같은 유기 퍼옥시드 또는 히드로퍼옥시드와 같은 퍼옥시드, 및 예를 들어 JP2003015288에 기재된 바와 같은 아조 화합물을 첨가하는 것이 가능하다.
첨가제(들)의 선택은 응용 분야 및 이 분야에 요구되는 특성에 따라 이루어진다. 상기 기재된 첨가제는 관련 기술분야에서 통상적이고, 따라서 각 응용에서 통상적인 양으로 첨가된다.
열 억제제 (추가의 첨가제 (d)로서)는 조기 중합을 방지하고자 하며, 예는 히드로퀴논, 히드로퀴논 유도체, p-메톡시페놀, β-나프톨 또는 입체 장애 페놀, 예컨대 2,6-디-t-부틸-p-크레졸이다. 어둠 속에서의 저장에 대한 안정성을 증가시키기 위해, 예를 들어, 구리 화합물, 예컨대 구리 나프테네이트, 스테아레이트 또는 옥토에이트, 인 화합물, 예를 들어 트리페닐포스핀, 트리부틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리페닐 포스페이트 또는 트리벤질 포스페이트, 4급 암모늄 화합물, 예를 들어 테트라메틸암모늄 클로라이드 또는 트리메틸벤질암모늄 클로라이드, 또는 히드록실아민 유도체, 예를 들어 N-디에틸히드록실아민을 사용하는 것이 가능하다. 중합 동안 대기중 산소를 배제하기 위해, 중합체 중 부적당한 용해도를 가지며, 중합 초기에 표면으로 이동하여 공기의 유입을 방지하는 투명한 표면 층을 형성하는 파라핀 또는 유사한 왁스-유사 물질을 첨가하는 것이 또한 가능하다. 산소-불투과성 층을 적용하는 것도 또한 가능하다.
소량으로 첨가될 수 있는 광 안정화제는 UV 흡수제, 예를 들어 히드록시페닐벤조트리아졸, 히드록시페닐-벤조페논, 옥살아미드 또는 히드록시페닐-s-트리아진 유형의 것이다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물로, 입체 장애 아민 (HALS)의 존재 또는 부재하에 사용될 수 있다.
이러한 UV 흡수제 및 광 안정화제의 예는 다음과 같다.
1. 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들어 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조-트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시-페닐)-벤조트리아졸; 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2--에틸-헥실-옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메트옥시-카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메트옥시-카르보닐에틸)페닐)-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시-카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 및 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸의 혼합물, 2,2'-메트일렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일-페놀]; 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시-페닐]-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 에스테르교환 생성물; [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2- (여기서 R = 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일-페닐임).
2. 2-히드록시벤조페논, 예를 들어 4-히드록시-, 4-메톡시-, 4-옥톡시-, 4-데실옥시, 4-도데실옥시-, 4-벤질옥시-, 4,2',4'-트리히드록시- 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
3. 치환 또는 비치환된 벤조산의 에스테르, 예를 들어 4-tert-부틸페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레조르시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 및 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트.
4. 아크릴레이트, 예를 들어 이소옥틸 또는 에틸 α-시아노-β,β-디페닐 아크릴레이트, 메틸 α-카르보-메톡시신나메이트, 부틸 또는 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카르복시메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
5. 입체 장애 아민, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) 세바케이트, 비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질말로네이트, 1-히드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사-메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-s-트리아진의 축합 생성물, 트리스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 니트릴로트리아세테이트, 테트라키스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄 테트라오레이트, 1,1'-(1,2-에탄-디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸-피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴-옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) 2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질) 말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로-[4.5]데칸-2,4-디온, 비스-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 세바케이트, 비스-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 숙시네이트, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라-메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필-아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로-[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온 및 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타-메틸-4-피페리딜)-피롤리딘-2,5-디온.
6. 옥살아미드, 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸-옥시-5,5'-디-tert-부틸옥사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'디-tert-부틸옥사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스-(3-디메틸아미노프로필)옥살아미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에틸옥사닐리드 및 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부틸옥사닐리드와 그의 혼합물, o- 및 p-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물.
7. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시-페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필-옥시-페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시-페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸-옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸-페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-도데실/트리데실-옥시-(2-히드록시프로필)옥시-2-히드록시-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸-페닐)-1,3,5-트리아진.
8. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리틸 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리틸 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐) 펜타에리트리틸 디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐) 펜타에리트리틸 디포스파이트, 비스-이소데실옥시 펜타에리트리틸 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 펜타에리트리틸 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리-tert-부틸페닐) 펜타에리트리틸 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비틸 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12H-디벤조[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12-메틸-디벤조[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 메틸 포스파이트 및 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트.
본 발명의 조성물은 1종 이상의 용매를 포함할 수 있다. 적합한 용매의 예는 케톤, 에테르 및 에스테르, 예컨대 메틸 에틸 케톤, 이소부틸 메틸 케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, N-메틸피롤리돈, 디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디프로필 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르, 프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 디프로필 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트, 2-메톡시부틸 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 4-메톡시부틸 아세테이트, 2-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-에틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 2-에톡시부틸 아세테이트, 4-에톡시부틸 아세테이트, 4-프로폭시부틸 아세테이트, 2-메톡시펜틸 아세테이트, 3-메톡시펜틸 아세테이트, 4-메톡시펜틸 아세테이트, 2-메틸-3-메톡시펜틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시펜틸 아세테이트, 3-메틸-4-메톡시펜틸 아세테이트, 4-메틸-4-메톡시펜틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸 프로피오네이트, 프로필 프로피오네이트, 부틸 프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 2-헵타논, 2-펜타논, 및 에틸 락테이트이다.
본 발명에 따른 조성물은 산 또는 염기에 의해 활성화되는, 예를 들어 JP 10 221843-A에 개시된 바와 같은 가교제, 및 열적으로 또는 화학 방사선에 의해 산 또는 염기를 생성하고, 가교 반응을 활성화시키는 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 자유-라디칼 경화제 외에도, 양이온성 광 또는 열 개시제, 예컨대 술포늄-, 포스포늄- 또는 아이오도늄 염, 예를 들어 이르가큐어®250, 이르가큐어®270, 산신 케미칼(Sanshin Chemical)에 의해 공급되는 산-에이드(San-Aid) SI 시리즈, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-110L, SI-145, SI-150, SI-160, SI-180L, 시클로펜타디에닐-아렌-철(II) 착물 염, 예를 들어 (η6-이소-프로필벤젠)(η5-시클로펜타디에닐)철(II) 헥사플루오로포스페이트, 뿐만 아니라 예를 들어 EP 780729에 기재된 옥심 술폰산 에스테르가 사용된다. 또한, 예를 들어 EP 497531 및 EP 441232에 기재된 바와 같은 피리디늄 및 i-퀴놀리늄 염은 새로운 광개시제와 조합으로 사용될 수 있다. 염기의 예는 이미다졸 및 그의 유도체, 예를 들어 시코쿠 케미칼스(Shikoku Chemicals)에 의해 공급되는 큐레졸(Curezole) OR 시리즈 및 CN 시리즈이다.
추가로 본 발명에 따른 조성물은 산에 의해 활성화될 수 있는 가교제를 포함할 수 있다. 산 또는 염기에 의해 활성화될 수 있는 가교제는 에폭시 또는 옥세탄 기를 갖는 화합물을 포함한다. 고체 또는 액체의 공지된 에폭시 또는 옥세탄 화합물이 사용될 수 있고, 상기 화합물은 요구되는 특성에 따라 사용된다. 바람직한 에폭시 수지는 비스페놀 S 유형 에폭시 수지, 예컨대 니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 BPS-200, ACR 캄파니(ACR Co.)에 의해 생산된 EPX-30, 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 생산된 에피쿨론(Epiculon) EXA-1514 등이고; 비스페놀 A 유형 에폭시 수지, 예컨대 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 생산된 에피쿨론 N-3050, N-7050, N-9050; XAC-5005, GT-7004, 6484T, 6099; 비스페놀 F 유형 에폭시 수지, 예컨대 NSCC 에폭시 매뉴팩처링 캄파니, 리미티드(NSCC Epoxy Manufacturing Co., Ltd.)에 의해 생산된 YDF-2004, YDF2007 등; 비스페놀 플루오렌 유형 에폭시 수지, 예컨대 오사카 가스 케미칼스(Osaka Gas Chemicals)에 의해 생산된 OGSOL PG, PG-100, EG, EG-210; 디글리시딜 프탈레이트 수지, 예컨대 니폰 오일 앤드 팻츠 캄파니, 리미티드(Nippon Oil and Fats Co., Ltd.)에 의해 생산된 블레머(Blemmer) DGT; 헤테로시클릭 에폭시 수지, 예컨대 닛산 케미칼 인더스트리즈, 리미티드(Nissan Chemical Industries, Ltd.)에 의해 생산된 TEPIC, 시바 스페셜티 케미칼스 인크.(Ciba Specialty Chemicals Inc.)에 의해 생산된 아랄다이트(Araldite) PT810 등; 비크실레놀 유형 에폭시 수지, 예컨대 유카 쉘 캄파니(Yuka Shell Co.)에 의해 생산된 YX-4000 등; 비페놀 유형 에폭시 수지, 예컨대 유카 쉘 캄파니에 의해 생산된 YL-6056 등; 테트라글리시딜 크실레노일에탄 수지, 예컨대 NSCC 에폭시 매뉴팩처링 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 ZX-1063 등; 노볼락 유형 에폭시 수지, 예컨대 니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 EPPN-201, EOCN-103, EOCN-1020, EOCN-1025 및 BRRN, 아사히 케미칼 인더스트리 캄파니, 리미티드(Asahi Chemical Industry Co., Ltd.)에 의해 생산된 ECN-278, ECN-292 및 ECN-299, 바스프 재팬 리미티드(BASF Japan Ltd.)에 의해 생산된 GY-1180, ECN-1273 및 ECN-1299, NSCC 에폭시 매뉴팩처링 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 YDCN-220L, YDCN-220HH, YDCN-702, YDCN-704, YDPN-601 및 YDPN-602, 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 생산된 에피쿨론-673, N-680, N-695, N-770 및 N-775 등; 비스페놀 A의 노볼락 유형 에폭시 수지, 예컨대 아사히 케미칼 인더스트리 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 EPX-8001, EPX-8002, EPPX-8060 및 EPPX-8061, 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 생산된 에피쿨론-880 등; 킬레이트 유형 에폭시 수지, 예컨대 아사히 덴카 고교 가부시키가이샤(Asahi Denka Kogyo K.K.)에 의해 생산된 EPX-49-69 및 EPX-49-30 등; 글리옥살 유형 에폭시 수지, 예컨대 NSCC 에폭시 매뉴팩처링 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 YDG-414; 아미노 기-함유 에폭시 수지, 예컨대 NSCC 에폭시 매뉴팩처링 캄파니, 리미티드에 의해 생산된 YH-1402 및 ST-110 등, 유카 쉘 캄파니에 의해 생산된 YL-931 및 YL-933 등; 고무-개질된 에폭시 수지, 예컨대 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 생산된 에피쿨론 TSR-601, 아사히 덴카 고교 가부시키가이샤에 의해 생산된 EPX-84-2 및 EPX-4061 등; 디시클로펜타디엔 페놀계 유형 에폭시 수지, 예컨대 산요-고쿠사쿠 펄프 캄파니, 리미티드(Sanyo-Kokusaku Pulp Co., Ltd.)에 의해 생산된 DCE-400 등; 실리콘-개질된 에폭시 수지, 예컨대 아사히 덴카 고교 가부시키가이샤에 의해 생산된 X-1359 등; e-카프로락톤-개질된 에폭시 수지, 예컨대 다이셀 캄파니에 의해 생산된 플라크(Plaque) G-402 및 G-710 등 및 기타이다. 추가로, 이들 에폭시 화합물의 부분 에스테르화 화합물 (예를 들어 (메트)아크릴레이트에 의해 에스테르화됨)은 조합으로 사용될 수 있다. 옥세탄 화합물의 예는 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄 (옥세탄 알콜), 2-에틸헥실옥세탄, 크실렌 비스옥세탄, 도아고세이 캄파니, 리미티드에 의해 공급된 3-에틸-3[[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸]옥세탄 (아론 옥세탄(Aron Oxetane) 시리즈)이다.
광중합성 조성물은 다양한 목적을 위해, 예를 들어 인쇄 잉크, 예를 들어 스크린 인쇄 잉크, 오프셋- 또는 플렉소 인쇄를 위한 잉크로서, 예를 들어 목재 또는 금속을 위한, 투명한 피니시로서, 백색 또는 유색 피니시로서, 분말 코팅으로서, 특히 종이, 목재, 금속 또는 플라스틱을 위한 코팅 물질로서, 건축물의 마킹 및 로드마킹을 위한 주광-경화성 코팅으로서, 사진 재현 기술을 위해, 홀로그래픽 기록 물질을 위해, 화상 기록 물질을 위해 또는 유기 용매 또는 수성 알칼리로 현상할 수 있는 인쇄 플레이트를 제조하기 위해, 스크린 인쇄용 마스크를 제조하기 위해, 치과용 충전 조성물로서, 접착제로서, 감압성 접착제로서, 라미네이팅 수지로서, 에치 레지스트, 솔더 레지스트, 전기도금 레지스트 또는 영구 레지스트, 액체 및 건조 필름 둘 다로서, 광구조화가능한 유전체로서, 인쇄 회로 기판 및 전자 회로를 위해, 다양한 디스플레이 응용을 위한 컬러 필터를 제조하거나 또는 플라즈마-디스플레이 패널 및 전계발광 디스플레이의 제조 방법에서 구조를 생성하기 위한 레지스트로서 (예를 들어 US5853446, EP863534, JP 09-244230-A, JP10-62980-A, JP08-171863-A, US5840465, EP855731, JP05-271576-A, JP 05-67405-A에 기재된 바와 같음), 홀로그래픽 데이터 저장 (HDS) 물질의 제조를 위해, 광학 스위치, 광학 격자 (간섭 격자), 광 회로의 제조를 위해, 매스 경화 (투명한 금형에서의 UV 경화)에 의해 또는 예를 들어 US4575330에 기재된 바와 같은, 스테레오리소그래피 기술에 의해 3차원 물품를 생성하기 위해, 복합 재료 (예를 들어, 원하는 경우에 유리 섬유 및/또는 다른 섬유 및 다른 보조제를 함유할 수 있는 스티렌 폴리에스테르) 및 다른 두꺼운-층의 조성물을 제조하기 위해, 전자 부품 및 집적 회로를 코팅하거나 밀봉하기 위해, 또는 광학 섬유용 코팅으로서, 또는 광학 렌즈, 예를 들어 콘택트 렌즈 또는 프레넬(Fresnel) 렌즈를 제조하기 위해 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 의학 장비, 보조물 또는 이식물의 제조에 추가로 적합하다. 또한, 예를 들어 DE19700064 및 EP678534에 기재된 바와 같이, 본 발명에 따른 조성물은 열방성 특성을 갖는 겔의 제조에 적합하다.
신규 광개시제는 추가로 유화 중합, 펄 중합 또는 현탁 중합을 위한 개시제로서, 액정질 단량체 및 올리고머의 정렬 상태를 고정시키기 위한 중합 개시제로서, 또는 염료를 유기 물질 상에 고정시키기 위한 개시제로서 사용될 수 있다.
코팅 물질에서는, 예비중합체와 다중불포화 단량체의 혼합물이 빈번하게 사용되며, 이는 단일불포화 단량체를 또한 추가로 포함할 수 있다. 여기서 코팅 필름의 특성을 주로 나타내는 것은 예비중합체이며, 이를 변화시킴으로써 통상의 기술자는 경화 필름의 특성에 영향을 미칠 수 있다. 다중불포화 단량체는 필름을 불용성으로 만드는 가교제로서 기능한다. 단일불포화 단량체는 용매를 사용할 필요 없이 점도를 감소시키는데 사용되는 반응성 희석제로서 기능한다.
불포화 폴리에스테르 수지는 통상적으로 단일불포화 단량체, 바람직하게는 스티렌과 함께 2-성분 시스템으로 사용된다. 포토레지스트에 대해서는, DE 2308830에 기재된 바와 같은 특정한 1-성분 시스템, 예를 들어 폴리말레이미드, 폴리칼콘 또는 폴리이미드가 종종 사용된다.
신규 광개시제는 또한 방사선-경화성 분말 코팅의 중합에 사용될 수 있다. 분말 코팅은 고체 수지, 및 반응성 이중 결합을 함유하는 단량체, 예를 들어 말레에이트, 비닐 에테르, 아크릴레이트, 아크릴아미드 및 그의 혼합물을 기재로 할 수 있다.
신규 광경화성 조성물은, 예를 들어, 특히 필름 형태의, 모든 종류의 기재, 예를 들어 목재, 텍스타일, 종이, 세라믹, 유리, 플라스틱, 예컨대 폴리에스테르, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리올레핀 또는 셀룰로스 아세테이트, 및 또한 보호 층이 적용되거나 또는 화상별 노출에 의해 화상을 생성하고자 하는 금속, 예컨대 Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg 또는 Co 및 GaAs, Si 또는 SiO2를 위한 코팅 물질로서 적합하다.
신규 방사선-감수성 조성물은 추가로 광에 대해 매우 높은 감수성을 갖고 수성 알칼리 매질 중에서 팽윤 없이 현상될 수 있는 네가티브 레지스트로서의 응용을 제시한다. 이들은 릴리프 인쇄, 평판 인쇄, 포토그라비어를 위한 인쇄 형태 또는 스크린 인쇄 형태의 제조를 위해, 릴리프 카피의 제조를 위해, 예를 들어 점자 텍스트의 제조를 위해, 스탬프의 제조를 위해, 화학적 밀링에서의 사용을 위해, 또는 집적 회로의 제조에서의 마이크로레지스트로서 적합하다. 조성물은 추가로 컴퓨터 칩, 인쇄 기판 및 다른 전기 또는 전자 부품의 제조에서의 광패턴화가능한 유전 층 또는 코팅, 캡슐화 물질 및 단리 코팅으로서 사용될 수 있다. 코팅 기재의 가능한 층 지지체 및 가공 조건은 매우 다양하다.
신규 조성물은 또한 감광성 열경화성 수지 조성물, 및 그의 사용에 의해 솔더 레지스트 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이고, 보다 특히 인쇄 회로 기판의 제조, 금속성 물품의 정밀 제조, 유리 및 석재 물품의 에칭, 플라스틱 물품의 릴리프, 및 인쇄 플레이트의 제조를 위한 물질로서 유용하고, 특히 인쇄 회로 기판을 위한 솔더 레지스트로서 유용한 신규 감광성 열경화성 수지 조성물, 및 상기 수지 조성물의 층을 패턴을 갖는 포토마스크를 통해 화학선에 선택적으로 노출시키는 단계, 및 층의 비노출 부분을 현상하는 단계에 의해 솔더 레지스트 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
솔더 레지스트는 인쇄 회로 기판에 대해 소정의 부분을 납땜하는 동안에, 용융된 솔더가 관련되지 않은 부분에 부착되는 것을 방지하고 회로를 보호하는 목적을 위해 사용되는 물질이다. 따라서, 높은 접착성, 절연 저항, 납땜 온도에 대한 내성, 내용매성, 내알칼리성, 내산성 및 내도금성과 같은 특성을 보유하는 것이 요구된다.
본 발명에 따른 광경화성 조성물은 열적 안정성이 우수하고 산소에 의한 억제에 대해 충분히 내성이기 때문에, 이들은 예를 들어 EP 320264에 기재된 바와 같은 컬러 필터 또는 컬러 모자이크 시스템의 제조에 특히 적합하다. 컬러 필터는 통상적으로 LCD, PDP (플라즈마 패널 디스플레이), EL (전계발광) 디스플레이 및 프로젝션 시스템과 같은 평판 디스플레이, 스캐너, 디지털 카메라 및 비디오 카메라를 위한 이미지 센서, CCD (전하 커플링 장치) 및 CMOS (상보성 금속 산화물 반도체) 센서의 제조에 사용된다.
컬러 필터는 통상적으로 유리 기재 상에 적색, 녹색 및 청색 픽셀 및 블랙 매트릭스를 형성함으로써 제조된다. 이들 공정에서, 본 발명에 따른 광경화성 조성물이 사용될 수 있다. 특히 바람직한 사용 방법은 본 발명의 감광성 수지 조성물에 적색, 녹색 및 청색의 착색 물질, 염료 및 안료를 첨가하고, 상기 조성물로 기재를 코팅하고, 짧은 열 처리로 코팅을 건조시키고, 코팅을 화학 방사선에 패턴별로 노출시키고, 후속적으로 패턴을 수성 알칼리 현상제 용액 중에서 현상하고, 임의로 열 처리하는 것을 포함한다. 따라서, 후속적으로 이러한 공정을 사용하여 적색, 녹색 및 청색 안료처리된 코팅을 임의의 목적하는 순서로 서로의 상부에 적용함으로써, 적색, 녹색 및 청색 픽셀을 갖는 컬러 필터 층을 제조할 수 있다.
현상은 중합되지 않은 영역을 적합한 알칼리 현상 용액으로 세척함으로써 수행된다. 이러한 공정을 반복하여 복수의 컬러를 갖는 화상을 형성한다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에서, 투명한 기재 상에 적어도 1개 이상의 화소를 형성한 다음, 상기 화소가 형성되지 않은 투명한 기재 측을 노출시키는 공정을 사용하여, 상기 화소를 광-차폐 마스크로서 사용할 수 있다. 이 경우에, 예를 들어 전체 노출을 제공하는 경우에, 마스크의 위치 조정이 불필요해지며, 그의 위치 슬리피지와 관련된 우려가 제거된다. 또한, 상기 화소가 형성되지 않은 모든 부분을 경화시키는 것이 가능하다. 추가로, 이 경우에, 광-차폐 마스크를 부분적으로 사용함으로써 상기 화소가 형성되지 않은 부분의 일부를 현상 및 제거하는 것이 또한 가능하다.
어느 경우에도, 이전에 형성된 화소와 이후에 형성된 화소 사이에 간극이 형성되지 않기 때문에, 본 발명의 조성물은, 예를 들어 컬러 필터를 위한 형성 물질에 적합하다. 구체적으로는, 적색, 녹색 및 청색의 착색 물질, 염료 및 안료를 본 발명의 감광성 수지 조성물에 첨가하고, 화상을 형성하기 위한 공정을 반복하여 적색, 녹색 및 청색의 화소를 형성한다. 이어서, 예를 들어, 흑색 착색 물질, 염료 및 안료가 첨가된 감광성 수지 조성물을 전체 면에 제공한다. 전체 노출 (또는 광-차폐 마스크를 통한 부분 노출)을 그 위에 제공하여 흑색의 화소를 적색, 녹색 및 청색의 화소 사이의 모든 공간 (또는 광-차폐 마스크의 부분 영역을 제외한 모든 공간)에 걸쳐 형성할 수 있다.
기재 상에 감광성 수지 조성물을 코팅하고 건조시키는 공정 이외에, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 층 전달 물질을 위해 또한 사용될 수 있다. 즉, 감광성 수지 조성물은 직접적으로 임시 지지체 상에, 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 상에, 또는 산소-차폐 층 및 박리 층 또는 박리 층 및 산소-차폐 층이 제공되어 있는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 상에 층별로 제공된다. 통상적으로, 합성 수지로 제조된 제거가능한 커버 시트가 취급시의 보호를 위해 그 위에 적층된다. 추가로, 임시 지지체 상에 알칼리 가용성 열가소성 수지 층 및 중간 층이 제공되고, 추가로 그 위에 감광성 수지 조성물 층이 제공되어 있는 층 구조가 또한 적용될 수 있다 (JP 5-173320-A).
상기 커버 시트는 사용시에 제거되고, 영구 지지체 상에 감광성 수지 조성물 층이 적층된다. 후속적으로, 산소-차폐 층 및 박리 층이 제공된 경우에는 이들 층과 임시 지지체 사이에서, 박리 층 및 산소-차폐 층이 제공된 경우에는 박리 층과 산소-차폐 층 사이에서, 및 박리 층 또는 산소-차폐 층이 제공되지 않은 경우에는 임시 지지체와 감광성 수지 조성물 층 사이에서 박리를 수행하여 임시 지지체를 제거한다.
금속 지지체, 유리, 세라믹 및 합성 수지 필름이 컬러 필터를 위한 지지체로서 사용될 수 있다. 투명하고 탁월한 치수 안정성을 갖는 유리 및 합성 수지 필름이 특히 바람직하다.
감광성 수지 조성물 층의 두께는 통상적으로 0.1 내지 50 마이크로미터, 특히 0.5 내지 5 마이크로미터이다.
현상제 용액은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지된 모든 형태로, 예를 들어 배스 용액, 퍼들 또는 분무 용액의 형태로 사용될 수 있다. 감광성 수지 조성물 층의 비경화 부분을 제거하기 위해, 회전 브러시로 문지르는 것 및 습윤 스폰지로 문지르는 것과 같은 방법이 조합될 수 있다. 통상적으로, 현상 용액의 온도는 바람직하게는 대략 실온 내지 40℃이다. 현상 시간은 감광성 수지 조성물의 특정한 종류, 현상 용액의 알칼리도 및 온도, 및 유기 용매가 첨가되는 경우에는 그의 종류 및 농도에 따라 가변성이다. 통상적으로, 이는 10초 내지 2분이다. 현상 가공 후 헹굼 단계를 배치하는 것이 가능하다.
최종 열 처리는 바람직하게는 현상 가공 후에 수행된다. 따라서, 노출에 의해 광중합된 층 (이하 광경화된 층으로 지칭함)을 갖는 지지체를 전기로 및 건조기에서 가열하거나, 또는 광경화된 층을 적외선 램프로 조사하거나 또는 핫 플레이트 상에서 가열한다. 가열 온도 및 시간은 사용된 조성물 및 형성된 층의 두께에 따라 달라진다. 일반적으로, 가열은 바람직하게는 약 120℃ 내지 약 250℃에서 약 5 내지 약 60분 동안 적용된다.
본 발명에 따른 조성물은 잠재성 안료를 또한 포함할 수 있으며, 이는 잠재성 안료 함유 감광성 패턴 또는 코팅의 열 처리 동안 미세하게 분산된 안료로 변환된다. 열 처리는 잠재성 안료-함유 광화상화가능 층의 노출 후에 또는 현상 후에 실행될 수 있다. 이러한 잠재성 안료는, 예를 들어 US5879855에 기재된 바와 같은 화학, 열, 광분해 또는 방사선 유도 방법에 의해 불용성 안료로 변환될 수 있는 가용성 안료 전구체이다. 이러한 잠재성 안료의 상기 변환은 조성물에, 화학선 노출시에 산을 생성하는 화합물을 첨가함으로써 또는 산성 화합물을 첨가함으로써 증진시킬 수 있다. 따라서, 잠재성 안료를 본 발명에 따른 조성물 중에 포함하는 컬러 필터 레지스트가 또한 제조될 수 있다.
특히 안료 및 이온성 불순물 스캐빈저의 상기 기재된 조합에 관한, 컬러 필터의 예는 EP320264에 주어진다. EP 320264에 기재된 컬러 필터 배합물에서, 본 발명에 따른 광개시제, 즉 화학식 I 또는 II의 화합물은 트리아진 개시제 화합물을 대체할 수 있는 것으로 이해된다. 컬러 필터 조성물에 적합한 성분은 상기 보다 상세히 기재되어 있다.
컬러 필터 레지스트, 이러한 레지스트의 조성물 및 가공 조건의 예는 문헌 [T. Kudo et al., Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 37 (1998) 3594; T. Kudo et al., J. Photopolym. Sci. Technol. Vol 9 (1996) 109; K. Kobayashi, Solid State Technol. Nov. 1992, p. S15-S18]; US5368976; US5800952; US5882843; US5879855; US5866298; US5863678; JP 06-230212A; EP320264; JP 09-269410A; JP 10-221843A; JP 01-090516A; JP 10-171119A, US5821016, US5847015, US5882843, US5719008, EP881541, 또는 EP902327에 의해 주어진다.
본 발명의 광개시제는, 예를 들어 상기에 예로서 제시된 바와 같은 컬러 필터 레지스트에 사용될 수 있거나, 또는 이러한 레지스트에서 공지된 광개시제를 부분적으로 또는 완전히 대체할 수 있다. 관련 기술분야의 통상의 기술자에 의해 본 발명의 신규 광개시제의 용도는 상기 제시된 컬러 필터 레지스트 예의 특정한 결합제 수지, 가교제 및 배합물에 제한되지는 않으나, 감광성 컬러 필터 잉크 또는 컬러 필터 레지스트를 형성하기 위해 염료 또는 착색 안료 또는 잠재성 안료와 조합으로 임의의 라디칼 중합성 성분과 함께 사용될 수 있는 것으로 이해된다.
따라서, 본 발명의 대상은 또한, 모두가 투명한 기재 상에 감광성 수지 및 안료를 포함하는 적색, 녹색 및 청색 (RGB) 화소 및 임의로 블랙 매트릭스를 제공하고, 기재의 표면 상에 또는 컬러 필터 층의 표면 상에 투명한 전극을 제공함으로써 제조되며, 여기서 상기 감광성 수지는 다관능성 아크릴레이트 단량체, 유기 중합체 결합제, 및 상기 기재된 바와 같은 화학식 I 또는 II의 광중합 개시제를 포함하는 것인 컬러 필터이다. 단량체 및 결합제 성분, 뿐만 아니라 적합한 안료는 상기 기재된 바와 같다. 컬러 필터의 제조시에, 투명 전극 층은 투명한 기재의 표면 상에 적용될 수 있거나, 또는 적색, 녹색 및 청색 화소 및 블랙 매트릭스의 표면 상에 제공될 수 있다. 투명한 기재는 예를 들어 유리 기재이며, 이는 그의 표면 상에 전극 층을 추가로 가질 수 있다.
컬러 필터의 콘트라스트를 개선시키기 위해, 상이한 색의 컬러 영역 사이에 블랙 매트릭스를 적용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 감광성 조성물은, 상기 이미 언급된 바와 같이, 컬러 필터의 블랙 매트릭스의 제조에 또한 적합하다. 상기 블랙 매트릭스 조성물은 예를 들어 다음을 포함한다:
본 발명의 화학식 I 또는 II의 광개시제 화합물,
유기 결합제, 특히 카르복실 기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지인 유기 결합제,
흑색 착색 물질,
중합체 분산제, 특히 염기성 관능기를 함유하는 중합체 분산제.
관련 기술분야의 통상의 기술자는 이러한 배합물에 친숙하다. 상기 기재된 바와 같은 적합한 블랙 매트릭스 조성물 및 성분 (광개시제 이외의 것)의 예는 그의 개시내용이 본원에 참조로 포함되는 JP 특허 번호 3754065에 제시되어 있다.
투명한 기재 상에서 적색, 녹색 및 청색 착색 영역을 분리하는 흑색 패턴을 형성하기 위해, 감광성 조성물을 사용하여 블랙 매트릭스를 형성하고 흑색 감광성 조성물을 패턴별 노출에 의해 (즉, 적합한 마스크를 통해) 포토리소그래피에 의해 패턴화하는 것 대신에, 대안적으로 무기 블랙 매트릭스를 사용하는 것이 가능하다. 이러한 무기 블랙 매트릭스는 투명한 기재 상의 침착된 (즉, 스퍼터링된) 금속 (즉, 크로뮴) 필름으로부터, 예를 들어 에치 레지스트에 의해 포토리소그래피 패턴화하고, 보호되지 않는 영역에서 무기 층을 에치 레지스트에 의해 에칭한 다음, 남아있는 에치 레지스트를 제거하는 것을 이용하는 적합한 화상화 공정에 의해 형성될 수 있다.
컬러 필터 제조 공정에서 어떻게 어느 단계에서 블랙 매트릭스를 적용할 수 있는지에 대해서는 다양한 방법이 공지되어 있다. 이는 상기 이미 언급된 바와 같이 적색, 녹색 및 청색 (RGB) 컬러 필터가 형성되기 전에 투명한 기재 상에 직접 적용될 수 있거나, 또는 기재 상에 RGB 컬러 필터가 형성된 후에 적용될 수 있다.
US626796에 따른 액정 디스플레이용 컬러 필터의 상이한 실시양태에서, 블랙 매트릭스는 또한 RGB 컬러 필터 소자-보유 기재에 대향하는 기재 상에 적용될 수 있으며, 상기 RGB 컬러 필터 소자-보유 기재는 액정 층에 의해 대향 기재로부터 분리되어 있다.
RGB 컬러 필터 소자 및 - 임의로 - 블랙 매트릭스를 적용한 후에 투명 전극 층을 침착시키는 경우에는, 예를 들어 US 5650263에 기재된 바와 같이 전극 층의 침착 전에 컬러 필터 층 상에 추가의 오버코트 필름이 보호 층으로서 적용될 수 있다.
컬러 필터의 오버코트 층을 형성하기 위해, 감광성 수지 또는 열경화성 수지 조성물이 사용된다. 본 발명의 감광성 조성물은 또한 이러한 오버코트 층을 형성하는데 사용될 수 있는데, 이는 조성물의 경화 필름이 평탄성, 경도, 내화학성 및 내열성, 특히 가시 광선 영역에서의 투명성, 기재에 대한 접착성, 및 그 위에 투명한 전도성 필름, 예를 들어 ITO 필름을 형성하기 위한 적합성에 있어서 탁월하기 때문이다. 보호 층의 제조에서는, JP57-42009A, JP1-130103A 및 JP1-134306A에 기재된 바와 같이, 예를 들어 기재를 절단하기 위한 스크라이빙 라인 상의 및 고체 이미지 센서의 결합 패드 상의 보호 층의 불필요한 부분을 기재로부터 제거해야 한다는 요구가 존재한다. 이와 관련하여, 상기 언급된 열경화성 수지를 사용하여 우수한 정밀성을 갖는 보호 층을 선택적으로 형성하는 것은 어렵다. 그러나, 감광성 조성물은 포토리소그래피에 의해 보호 층의 불필요한 부분을 용이하게 제거하는 것을 가능하게 한다.
본 발명의 감광성 조성물이 가공에서의 상기 기재된 차이에 상관없이, 적용될 수 있는 추가의 층에 상관없이 및 컬러 필터의 설계의 차이에 상관없이, 컬러 필터의 제조를 위한 적색, 녹색 및 청색 픽셀 및 블랙 매트릭스를 생성하기 위해 사용될 수 있다는 것은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 자명하다. 착색 소자를 형성하기 위한 본 발명에 따른 조성물의 용도는 이러한 컬러 필터의 상이한 설계 및 제조 공정에 의해 제한되는 것으로 간주되어서는 안된다.
본 발명의 감광성 조성물은 컬러 필터를 형성하기 위해 적합하게 사용될 수 있지만, 이러한 적용에 제한되지는 않을 것이다. 이는 또한 디스플레이 응용 및 디스플레이 소자에서의 기록 물질, 레지스트 물질, 보호 층, 유전 층; 페인트, 및 인쇄 잉크를 위해 유용하다.
본 발명에 따른 감광성 조성물은 또한 액정 디스플레이, 보다 특히 스위칭 장치로서의 박막 트랜지스터 (TFT)를 갖는 능동 매트릭스 유형 디스플레이, 및 스위칭 장치가 없는 수동 매트릭스 유형을 비롯한 반사형 액정 디스플레이에서의 층간 절연 층 또는 유전 층을 제조하기에 적합하다.
최근 수년간, 액정 디스플레이는, 예를 들어 얇은 두께 및 가벼운 중량으로 인해 포켓형 TV 세트 및 통신용 단말 장치에 광범위하게 사용되어 왔다. 백 라이트를 사용할 필요가 없는 반사형 액정 디스플레이가 초박형이고 경량이기 때문에 특히 요구되며, 이는 전력 소비를 현저하게 감소시킬 수 있다. 그러나, 현재 입수가능한 투과형 컬러 액정 디스플레이에서 백 라이트가 제거되고 디스플레이의 하부 표면에 광 반사판이 부가된 경우에도, 광 이용 효율이 낮아 실용적인 휘도를 갖는 것이 가능하지 않다는 문제가 초래될 것이다.
이 문제에 대한 해결책으로서, 광 이용 효율을 증진시키기 위한 다양한 반사형 액정 디스플레이가 제안되었다. 예를 들어, 특정 반사형 액정 디스플레이는 반사 기능을 갖는 픽셀 전극을 포함하도록 설계된다.
반사형 액정 디스플레이는 절연 기재, 및 상기 절연 기재와 이격된 대향 기재를 포함한다. 기재들 사이의 공간은 액정으로 충전된다. 게이트 전극은 절연 기재 상에 형성되고, 게이트 전극 및 절연 기재 둘 다는 게이트 절연 필름으로 피복된다. 이어서, 반도체 층은 게이트 전극 위의 게이트 절연 필름 상에 형성된다. 소스 전극 및 드레인 전극은 또한 반도체 층과 접촉하는 게이트 절연 필름 상에 형성된다. 이로써, 소스 전극, 드레인 전극, 반도체 층 및 게이트 전극은 서로 협력하여 스위칭 장치로서의 하부 게이트형 TFT를 구성한다.
층간 절연 필름은 소스 전극, 드레인 전극, 반도체 층, 및 게이트 절연 필름을 피복하도록 형성된다. 콘택트 홀은 드레인 전극 상의 층간 절연 필름을 관통하여 형성된다. 알루미늄으로 제조된 픽셀 전극은 층간 절연 필름 및 콘택트 홀의 내부 측벽 둘 다에 형성된다. 결국, TFT의 드레인 전극은 층간 절연 필름을 통해 픽셀 전극과 접촉하게 된다. 층간 절연 층은 일반적으로 거친 표면을 갖도록 설계되며, 이에 의해 픽셀 전극은 보다 넓은 시야각 (가시각)이 수득되도록 광을 확산시키는 반사판으로서 작용한다.
반사형 액정 디스플레이는 픽셀 전극이 광 반사판으로 작용하는 것에 의해 광 이용 효율을 현저하게 증진시킨다.
상기 언급된 반사형 액정 디스플레이에서, 층간 절연 필름은 포토리소그래피에 의해 돌출부 및 오목부를 갖도록 설계된다. 표면 조도를 위한 마이크로미터 단위의 미세한 형상의 돌출부 및 오목부를 형성 및 제어하고, 콘택트 홀을 형성하기 위해, 포지티브 및 네가티브 포토레지스트를 사용하는 포토리소그래피 방법이 사용된다. 이들 레지스트에 대해, 본 발명에 따른 조성물이 특히 적합하다.
본 발명에 따른 감광성 조성물은 추가로 액정 디스플레이 패널에서의 액정 부분의 셀 간극을 제어하는 스페이서를 제조하기 위해 사용될 수 있다. 투명한 칼럼 스페이서는 LCD 기술에 광범위하게 사용되어 왔으나, 투명한 스페이서는 편광을 방해하여 콘트라스트 비를 감소시킨다. 가능한 해결책 중 하나는 흑색 착색제와 혼합하여 편광을 산란시키는 것이 아니라 흡수하는 것이며, 즉 블랙 칼럼 스페이서이다. 블랙 칼럼 스페이서는 또한 LCD 기술에 사용된다. 블랙 칼럼 스페이서의 경우에는, 1종 이상의 추가의 흑색 착색제 또는 상기 기재된 다른 색 착색제들의 혼합물이 사용된다.
액정 디스플레이 내의 액정 층을 통해 투과 또는 반사되는 광의 특성은 셀 간극에 따라 달라지기 때문에, 픽셀 어레이에 걸친 두께 정확성 및 균일성이 액정 디스플레이 유닛의 성능에 대한 중요한 파라미터이다. 액정 셀에서, 셀 내의 기재들 사이의 공간은, 기재들 사이의 스페이서로서 약 수 마이크로미터 직경의 유리 또는 중합체 구체를 희박하게 분포시킴으로써 일정하게 유지된다. 이에 따라, 스페이서가 기재들 사이에 보유되어, 기재들 사이의 거리가 일정한 값으로 유지된다. 거리는 스페이서의 직경에 의해 결정된다. 스페이서는 기재들 사이의 최소 공간을 보장하며; 즉, 이들은 기재들 사이의 거리의 감소를 방지한다. 그러나, 이들은 기재가 서로 떨어져 분리되는 것, 즉 기재들 사이의 거리가 증가하는 것을 방지할 수는 없다. 추가로, 스페이서 비드를 사용하는 이 방법은 스페이서 비드의 직경의 균일성 및 패널 상에서의 스페이서 비드의 균일한 분산의 곤란성, 뿐만 아니라 불균일한 배향 및 픽셀 어레이 영역 상에서의 스페이서의 배치에 따른 휘도 및/또는 광학 개구 감소의 문제를 갖는다. 대형 화상 디스플레이 영역을 갖는 액정 디스플레이가 최근 많은 관심을 끌고 있다. 그러나, 액정 셀의 영역의 증가는 일반적으로 셀을 구성하는 기재의 왜곡을 생성한다. 액정의 층 구조는 기재의 변형으로 인해 파괴되기 쉽다. 이에 따라, 기재들 사이의 공간을 일정하게 유지하기 위해 스페이서가 사용되는 경우에도, 대형 화상 디스플레이 영역을 갖는 액정 디스플레이는 방해를 겪기 때문에 실현불가능하다. 상기 스페이서 구체 분산 방법 대신에, 칼럼을 셀 간극 내에 스페이서로서 형성하는 방법이 제안되었다. 이 방법에서는, 수지의 칼럼을 픽셀 어레이 영역과 반대 전극 사이의 영역에 스페이서로서 형성하여, 소정의 셀 간극을 형성한다. 접착 특성을 갖는 감광성 물질과 포토리소그래피는, 예를 들어 컬러 필터의 제조 공정에 통상적으로 사용된다. 이 방법은, 스페이서 비드를 사용하는 통상의 방법과 비교하여, 스페이서의 위치, 개수 및 높이가 자유롭게 제어될 수 있다는 점에서 유리하다. 최근 수년간, 모바일 오디오 플레이어 및 휴대용 게임 플랫폼과 같은 터치 패널형 액정 디스플레이의 확산에 따라, 액정 패널에 대한 기계적 응력이 성장하는 경향이 있다. 셀 간극을 제어하여 기계적 강도를 상승시키는 스페이서에 대한 요구가 강해져, 이에 따라 다중-스페이서 방법이 사용된다. 다중-스페이서 방법에 따르면, 셀 간극이 외부로부터의 압력에 의해 좁아지는 경우에, 셀 간극을 정상적으로 제어하는 주요-스페이서에 하부의 하위-스페이서를 부가하는 것은 외부 응력에 대해 셀 간극을 지지한다. 다중-스페이서는 주요-스페이서에 의해 저온 조건에서의 액정의 수축을 따를 수 있고, 액정 내부에 버블이 생성되는 것을 방지할 수 있다.
주요-스페이서 및 하위-스페이서를 함유하는 다중-스페이서는, 예를 들어 JPA-2011065133에 기재된 바와 같은 하프톤 마스크를 사용하여 동일한 단계에서 형성된다. 본 발명에 따른 감광성 조성물은 하프톤 마스크를 사용하는 제조 공정에 적격이다.
컬러 액정 디스플레이 패널에서, 이러한 스페이서는 컬러 필터 소자의 블랙 매트릭스 하의 비화상화 영역에 형성된다. 따라서, 감광성 조성물을 사용하여 형성된 스페이서는 휘도 및 광학 개구를 감소시키지 않는다.
컬러 필터용 스페이서를 갖는 보호 층을 제조하기 위한 감광성 조성물은 JP 2000-81701A에 개시되어 있으며, 스페이서 물질을 위한 건조 필름형 포토레지스트는 또한 JP 11-174459A 및 JP 11-174464A에 개시되어 있다. 상기 문헌에 기재된 바와 같이, 감광성 조성물, 액체 및 건조 필름 포토레지스트는 적어도 알칼리 또는 산 가용성 결합제 중합체, 라디칼 중합성 단량체 및 라디칼 개시제를 포함하고 있다. 일부 경우에, 열 가교성 성분, 예컨대 에폭시드 및 카르복실산이 추가로 포함될 수 있다.
감광성 조성물을 사용하여 스페이서를 형성하는 단계는 다음과 같다:
감광성 조성물을 기재, 예를 들어 컬러 필터 패널에 적용하고, 기재를 사전베이킹한 후, 이를 마스크를 통해 광에 노출시킨다. 이어서, 기재를 현상제로 현상하고, 패턴화하여 목적하는 스페이서를 형성한다. 조성물이 일부 열경화성 성분을 함유하는 경우에는, 통상적으로 후베이킹을 수행하여 조성물을 열 경화시킨다.
본 발명에 따른 광경화성 조성물은 그의 높은 감수성으로 인해 액정 디스플레이를 위한 스페이서 (상기 기재된 바와 같음)를 제조하기에 적합하다.
본 발명에 따른 감광성 조성물은 또한 액정 디스플레이 패널, 이미지 센서 등에 사용되는 마이크로렌즈 어레이를 제조하기에 적합하다.
마이크로렌즈는 광학적 입력 또는 출력 품질을 개선시키기 위해 검출기, 디스플레이 및 발광 장치 (발광 다이오드, 수평 및 수직 공진 레이저)와 같은 능동 광전자 장치에 설비되는 수동 광학 현미경 부품이다. 응용 분야는 광범위하며, 전자통신, 정보화 기술, 시청각 서비스, 태양 전지, 검출기, 고체-상태 광원 및 광학적 상호연결과 같은 분야를 포함한다.
현재의 광학 시스템은 마이크로렌즈와 마이크로광학 장치 사이의 효율적인 커플링을 수득하기 위해 다양한 기술을 사용한다.
마이크로렌즈 어레이는, 액정 디스플레이 장치와 같은 비발광 디스플레이 장치의 화소 영역 상에 조명 광을 집광하여 디스플레이의 휘도를 증가시키기 위해, 예를 들어 팩시밀리 등에 사용되는 라인 이미지 센서의 광전 변환 영역 상에 입사 광을 집광하기 위해 또는 화상을 형성하기 위한 수단으로서 이들 장치의 감수성을 개선시키기 위해, 및 액정 프린터 또는 발광 다이오드 (LED) 프린터에 사용되는 감광성 수단 상에 인쇄하고자 하는 화상을 형성하기 위해 사용된다.
가장 흔한 응용은 전하 커플링 장치 (CCD)와 같은 고체-상태 이미지 센서 장치의 광검출기 어레이의 효율을 개선시키기 위한 그의 용도이다. 검출기 어레이에서는, 각각의 검출기 소자 또는 픽셀에서의 가능한 한 많은 광의 수집을 원한다. 마이크로렌즈가 각각의 픽셀의 상부에 놓인 경우에, 렌즈는 들어오는 광을 수집하여, 이를 렌즈의 크기보다 작은 능동 영역 상에 집중시킨다.
선행 기술에 따르면, 마이크로렌즈 어레이는 다양한 방법에 의해 제조될 수 있으며, 이들 각각에 대해 본 발명에 따른 조성물이 사용될 수 있다.
(1) 열가소성 수지 상에 평면 형상의 렌즈 패턴을 통상의 포토리소그래피 기술 등에 의해 만든 다음, 열가소성 수지를 유동성을 갖도록 수지의 연화점보다 높은 온도로 가열하여 패턴 에지에서의 새그 (소위 "재유동")를 유발하는, 볼록 렌즈를 수득하는 방법 (예를 들어, JP 60-38989A, JP 60-165623A, JP 61-67003A 및 JP 2000-39503A 참조). 이 방법에서, 사용되는 열가소성 수지가 감광성인 경우에, 렌즈의 패턴은 이러한 수지를 광에 노출시킴으로써 수득될 수 있다.
(2) 플라스틱 또는 유리 물질을 금형 또는 스탬퍼의 사용에 의해 형성하는 방법. 렌즈 물질로서, 광경화성 수지 및 열경화성 수지가 이 방법에 사용될 수 있다 (예를 들어, WO99/38035 참조).
(3) 감광성 수지를 정렬기의 사용에 의해 목적하는 패턴으로 광에 노출시키는 경우에, 미반응 단량체가 비노출 영역에서 노출 영역으로 이동하여 노출 영역이 팽윤되는 현상에 기초하여 볼록 렌즈를 형성하는 방법 (예를 들어, 문헌 [Journal of the Research Group in Microoptics Japanese Society of Applied Physics, Colloquium in Optics, Vol. 5, No. 2, pp. 118-123 (1987) 및 Vol. 6, No. 2, pp. 87-92(1988)] 참조).
지지 기재의 상부 표면 상에 감광성 수지 층이 형성된다. 그 후, 별도의 차광 마스크를 사용하여, 감광성 수지 층의 상부 표면에 수은 램프 등으로부터의 광을 비추어 감광성 수지 층을 광에 노출시킨다. 그 결과, 감광성 수지 층의 노출 부분이 볼록 렌즈의 형상으로 팽윤되어, 복수의 마이크로렌즈를 갖는 광 집광 층이 형성된다.
(4) 감광성 수지를, 포토마스크를 수지와 접촉시키지 않는 근접 노출 기술에 의해 광에 노출시켜 패턴 에지에서 번짐을 야기하여, 광화학적 반응 생성물의 양을 패턴 에지의 번짐 정도에 따라 분포시키는, 볼록 렌즈를 수득하는 방법 (예를 들어, JP 61-153602A 참조).
(5) 감광성 수지를 특정한 강도 분포를 갖는 광에 노출시켜 광 강도에 따라 굴절률의 분포 패턴을 형성하는, 렌즈 효과를 생성하는 방법 (예를 들어, JP 60-72927A 및 JP 60-166946A 참조).
본 발명에 따른 감광성 조성물은 광경화성 수지 조성물을 사용하여 마이크로렌즈 어레이를 형성하기 위한 상기 언급된 방법들 중 어느 하나에 사용될 수 있다.
특정한 부류의 기술은 포토레지스트와 같은 열가소성 수지에서 마이크로렌즈를 형성하는데 집중되어 있다. 예는 참고문헌 [Popovic et al., SPIE 898, pp.23-25 (1988)]에 공개되어 있다. 재유동 기술로 명명되는 기술은, 예를 들어 포토레지스트와 같은 감광성 수지에서의 포토리소그래피에 의해 열가소성 수지에서 렌즈의 풋프린트를 규정하는 단계, 및 후속적으로 이 물질을 그의 재유동 온도 초과로 가열하는 단계를 포함한다. 표면 장력은 포토레지스트의 섬을 재유동 전의 원래의 섬과 동등한 부피를 갖는 구형 캡 내로 끌어들인다. 이 캡은 평면-볼록 마이크로렌즈이다. 상기 기술의 이점은 특히 단순성, 재현성 및 발광 또는 광검출 광전자 장치의 상부에서의 직접적인 집적화의 가능성이다.
일부 경우에, 재유동 단계에서의 구형 캡 내로의 재유동 없이 중앙에서 수지의 섬이 새깅되는 것을 회피하기 위해, 오버코트 층은 재유동 전에 직사각형 형상을 갖는 패턴화 렌즈 유닛 상에 형성된다. 오버코트는 영구 보호 층으로서 작용한다. 코팅 층은 또한 감광성 조성물로 제조된다.
마이크로렌즈 어레이는 또한, 예를 들어 EP0932256에 개시된 바와 같은 금형 또는 스탬퍼의 사용에 의해 제조될 수 있다. 평면 마이크로렌즈 어레이의 제조 공정은 다음과 같다: 볼록부가 조밀하게 배열된 스탬퍼의 성형 표면 상에 이형제를 코팅하고, 굴절률이 높은 광경화성 합성 수지 물질을 스탬퍼의 성형 표면 상에 고정한다. 이어서, 합성 수지 물질 상에서 기재 유리판을 밀어, 합성 수지 물질을 전개시키고, 합성 수지 물질을 자외선 방사선으로 조사하거나 가열함으로써 경화시키고, 성형하여 볼록 마이크로렌즈를 형성한다. 그 후, 스팸퍼를 박리시킨다. 이어서, 볼록 마이크로렌즈 상에 접착제 층으로서 굴절률이 낮은 광경화성 합성 수지 물질을 추가로 코팅하고, 합성 수지 물질 상에서, 커버 유리판이 되는 유리 기재를 밀어, 이를 전개시킨다. 이어서, 합성 수지 물질을 경화시켜, 최종적으로 평면 마이크로렌즈 어레이를 형성한다.
US5969867에 개시된 바와 같이, 금형을 사용하는 유사한 방법이, 휘도를 증진시키기 위해 컬러 액정 디스플레이 패널용 백라이트 유닛의 일부로서 사용되는 프리즘 시트의 제조에 적용된다. 한 측에 프리즘 열이 형성된 프리즘 시트는 백라이트의 발광 표면에 탑재된다. 프리즘 시트를 제조하기 위해, 활성 에너지선-경화성 조성물을 캐스팅하고, 금속, 유리 또는 수지로 제조된 렌즈 금형에 전개시켜, 프리즘 열 등의 렌즈 형상을 형성한 후, 그 위에 투명한 기재 시트를 배치하고, 경화를 위해 시트를 통해 활성 에너지선-방출 광원으로부터의 활성 에너지선을 조사한다. 이어서, 제조된 렌즈 시트를 렌즈 금형으로부터 이형시켜 렌즈 시트를 수득한다.
렌즈 구획을 형성하는데 사용되는 활성 에너지선-경화성 조성물은 투명한 기재에 대한 접착성 및 적합한 광학적 특성을 비롯한 다양한 특성을 가져야 한다.
적어도 선행 기술의 일부 포토레지스트를 갖는 렌즈는, 광학 스펙트럼의 청색 말단에서의 광 투과율이 불량하기 때문에 일부 적용에 바람직하지 않다.
본 발명에 따른 광경화성 조성물은 열적으로 및 광화학적으로 모두, 낮은 황색화 특성을 갖기 때문에, 이들은 상기 기재된 마이크로렌즈 어레이의 제조에 적합하다.
신규 방사선-감수성 조성물은 또한 플라즈마 디스플레이 패널 (PDP)의 제조 공정에 사용되는 포토-리소그래피 단계, 특히 격벽, 인광체 층 및 전극의 화상 형성 공정에 적합하다.
PDP는 가스 방전에 의한 광 방출에 의해 화상 및 정보를 디스플레이하기 위한 평면 디스플레이이다. 패널의 구성 및 작동 방법에 따라, 이는 2가지 유형, 즉 DC (직류) 형 및 AC (교류)형으로 공지되어 있다.
예로서, DC형 컬러 PDP의 원리를 개략적으로 설명할 것이다. DC형 컬러 PDP에서, 2개의 투명한 기재들 (일반적으로 유리판들) 사이에 개재된 공간은 투명한 기재들 사이에 개재된 격자형 격벽에 의해 수많은 미소한 셀로 분할된다. 개별 셀 내에, He 또는 Xe과 같은 방전 가스가 밀봉된다. 각각의 셀의 후방 벽 상에, 방전 가스의 방전에 의해 생성되는 자외선에 의해 여기될 때에 3원색의 가시 광선을 방출하는 인광체 층이 존재한다. 2개의 기재의 내부 면에, 전극은 관련 셀을 가로질러 서로 대향하도록 배치된다. 일반적으로, 캐소드는 NESA 유리와 같은 투명한 전기전도성 물질의 필름으로 형성된다. 전방 벽 및 후방 벽 상에 형성된 이들 전극 사이에 높은 전압이 인가되는 경우에, 셀 내에 밀봉된 방전 가스는 플라즈마 방전을 유도하며, 결과적으로 방사된 자외선에 의해 적색, 청색 및 녹색의 형광 소자가 자극되어, 광이 방출되고 화상이 디스플레이된다. 풀-컬러 디스플레이 시스템에서, 상기 언급된 적색, 청색 및 녹색의 3원색 각각의 3가지 형광 소자는 공동으로 하나의 화소를 형성한다.
DC형 PDP에서의 셀은 격자의 부품 격벽에 의해 분할되는 반면, AC형 PDP에서의 셀은 기재의 면에 서로 평행하게 배열된 격벽에 의해 분할된다. 두 경우 모두에, 셀은 격벽에 의해 분할된다. 이들 격벽은 발광 방전을 고정된 영역 내로 한정하여, 가성 방전 또는 인접 방전 셀들 간의 크로스 토크를 방지하고, 이상적인 디스플레이를 확실하게 하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 단색 또는 다색일 수 있는 화상 기록 또는 화상 재현 (복제, 복사)을 위한 일층 또는 다층 물질의 제조를 위한 응용을 제시한다. 또한, 상기 물질은 색 교정 시스템에 적합하다. 이러한 기술에서, 마이크로캡슐을 함유하는 배합물이 적용될 수 있으며, 화상 생성을 위해 방사선 경화에 이어 열 처리될 수 있다. 이러한 시스템 및 기술 및 그의 응용은 예를 들어 US5376459에 개시되어 있다.
화학식 I 또는 II의 화합물은 홀로그래픽 데이터 저장 응용에서 광개시제로서 또한 적합하다. 상기 광개시제는 청색 레이저 방사선으로 조사될 때에 라디칼을 생성하여 단량체의 중합을 개시하며, 홀로그래픽 데이터 저장에 적합하다. 청색 레이저의 파장 범위는 390-420 nm, 바람직하게는 400-410 nm, 특히 405 nm이다. 홀로그래픽 저장 시스템 (홀로그래픽 기록 매체)은 예를 들어 대량의 데이터를 빠른 접속 시간 동안 기록하고 검색하는데 사용된다. 본 발명의 광개시제는 예를 들어 WO03/021358에 기재된 바와 같은 시스템에 특히 적합하다.
홀로그래픽 데이터 저장 시스템은 바람직하게는 저굴절률 매트릭스 전구체 및 고굴절률 광중합성 단량체의 매트릭스 네트워크로 구성된다.
매트릭스 전구체 및 광활성 단량체는 (a) 매트릭스 전구체가 경화 동안 중합되는 반응이 광활성 단량체가 패턴, 예를 들어 데이터의 라이팅(writing) 동안 중합되는 반응으로부터 독립적이도록, 및 (b) 매트릭스 중합체 및 광활성 단량체의 중합으로부터 생성된 중합체 (광중합체)가 서로 상용성이도록 선택될 수 있다. 매트릭스는, 광기록 물질, 즉 매트릭스 물질 + 광활성 단량체, 광개시제 및/또는 첨가제가 적어도 약 105 Pa, 일반적으로 약 105 Pa 내지 약 109 Pa의 탄성 계수를 나타낼 때에 형성되는 것으로 간주된다.
매체 매트릭스는 계내 중합에 의해 형성되며, 이는 "용해되고" 미반응된 채로 남아 있는 광중합성 단량체의 존재 하에 가교된 네트워크로서 수득된다. 미반응 광중합성 단량체를 함유하는 매트릭스는 또한 다른 수단에 의해, 예를 들어 광반응성 액체 단량체가 균질하게 분포된 고체-수지 매트릭스 물질을 사용함으로써 형성될 수 있다. 이어서, 단색 노출은 홀로그래픽 패턴을 생성하며, 이는 광 강도 분포에 따라 예비 형성된 고체 매트릭스에서의 광반응성 단량체를 중합시킨다. 미반응 단량체 (광 강도가 최소였을 경우)는 매트릭스를 통해 확산되어, 굴절률을 변조하며, 이는 단량체와 매트릭스의 굴절률 사이의 차이 및 단량체의 상대 부피 분율에 의해 결정된다. 기록 층의 두께는 수 마이크로미터 내지 1 밀리미터 두께의 범위이다. 이러한 두꺼운 홀로그래픽 데이터 저장 층으로 인해, 층을 레이저 파장에서 투명하게 만들어 광중합의 정도가 기록 층 내로의 노출 깊이에 가능한 한 적게 의존하는 것을 보장하기 위해, 광개시제가 높은 광반응성과 낮은 흡광도를 조합하는 것이 요구된다.
본 발명의 광개시제는 높은 반응성과 405 nm에서의 낮은 흡광도를 조합하며, 이러한 적용에 적합한 것으로 밝혀졌다. 염료 및 증감제가 또한 배합물에 첨가될 수 있다. 청색 레이저 방사선에 적합한 염료 및 증감제는 예를 들어 쿠마린, 크산톤, 티오크산톤이며, 상기 목록을 참조한다.
상기 주어진 목록에서 항목 1., 2. 및 3. 하에 언급된 바와 같은 티오크산톤, 쿠마린 및 벤조페논이 특히 적절하다.
광개시제는 높은 감수성으로, 홀로그래픽 데이터 저장에 요구되는 바와 같은 두꺼운 층에서의 단량체의 광중합을 가능하게 하고, 청색 레이저 방사선에 대해 감수성인 기록 층을 수득하는 것으로 밝혀졌다. 광개시제는 20 마이크로미터 두께의 감광성 층 중에 2-8 중량%의 농도로 적용된 경우에, 레이저 파장에서 0.4 미만, 바람직하게는 0.2 미만의, 광개시제를 포함하는 층의 흡광도를 수득한다.
광개시제는, 예를 들어 상기 기재된 바와 같은 중합체 및 유기 광개시제를 포함하고, 340-450 nm 범위의 UV 파장에서 최대 흡광도를 가지며, 여기서 비굴절률차 보정 감수성이 3x10- 6Δn/(mJ/cm2) 초과인, 광학 물품 (예를 들어, 광 도파관) 또는 홀로그래픽 기록 매체의 제조에 특히 적합하다. 예를 들어, 중합체는 NCO 말단의 예비중합체를 포함하는 성분 1, 및 폴리올을 포함하는 성분 2를 포함하는 물질을 중합함으로써 형성된다. 성분 1은, 예를 들어 디페닐메탄 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트의 유도체, 메틸렌비스시클로헥실이소시아네이트, 메틸렌비스시클로헥실이소시아네이트의 유도체이다. 성분 2는, 예를 들어 프로필렌 옥시드의 폴리올이다. 바람직하게는, 광활성 단량체는 아크릴레이트 단량체이다. 이러한 매체에서, 라이팅에 의해 유도되는 수축율은 통상적으로 0.25% 미만이다.
잉크의 건조 시간은 그래픽 제품의 생산율에 대해 중요한 인자이고, 수 초의 분수 단위여야 하기 때문에, 광경화는 추가로 인쇄에 매우 중요하다. UV-경화성 잉크는 특히 스크린 인쇄 및 오프셋 잉크에 중요하다.
상기 이미 언급된 바와 같이, 신규 혼합물은 또한 인쇄 플레이트를 제조하기에 매우 적합하다. 이러한 적용에서는, 예를 들어, 가용성 선형 폴리아미드 또는 스티렌/부타디엔 및/또는 스티렌/이소프렌 고무, 카르복실 기를 함유하는 폴리아크릴레이트 또는 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐 알콜 또는 우레탄 아크릴레이트와, 광중합성 단량체, 예를 들어 아크릴아미드 및/또는 메타크릴아미드, 또는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트, 및 광개시제의 혼합물이 사용된다. 이들 시스템을 위한 필름 및 플레이트 (습윤 또는 건조)는 인쇄 원본의 네가티브 (또는 포지티브) 상에 노출되고, 후속적으로 미경화 부분은 적절한 용매 또는 수용액을 사용하여 세척된다.
광경화가 사용되는 또 다른 분야는 예를 들어, 금속 판 및 튜브, 캔 또는 병 뚜껑의 코팅의 경우에 금속의 코팅, 및 중합체 코팅, 예를 들어 PVC를 기재로 하는 바닥 또는 벽 피복재의 광경화이다.
종이 코팅의 광경화의 예는, 라벨, 레코드 슬리브 및 북 커버의 무색 바니싱이다.
복합 조성물로부터 제조된 성형품의 경화를 위한 신규 광개시제의 용도가 또한 관심 대상이다. 복합 컴파운드는 광경화 배합물로 함침된 자기-지지 매트릭스 물질, 예를 들어 유리 섬유 패브릭, 또는 대안적으로 예를 들어 식물 섬유 (문헌 [K.-P. Mieck, T. Reussmann in Kunststoffe 85 (1995), 366-370] 참조)로 이루어진다.
본 발명에 따른 조성물 및 화합물은 조사 영역과 비조사 영역 사이의 굴절률 차이의 발생을 활용한 홀로그래픽, 도파관, 광학 스위치의 제조를 위해 사용될 수 있다.
화상화 기술 및 정보 캐리어의 광학적 제조를 위한 광경화성 조성물의 용도가 또한 중요하다. 이러한 적용에서는, 상기에 이미 기재된 바와 같이, 지지체에 적용된 층 (습윤 또는 건조)을 UV 또는 가시 광선으로 화상별로, 예를 들어 포토마스크를 통해 조사하고, 층의 비노출 영역을 현상제로 처리하여 제거한다. 금속에 대한 광경화성 층의 적용은 또한 전착에 의해 수행될 수 있다. 노출 영역은 가교를 통한 중합체성이며, 따라서 불용성이고, 지지체 상에 남는다. 적절한 착색은 가시적 화상을 생성한다. 지지체가 금속화된 층인 경우에, 금속은 노출 및 현상 후, 비노출 영역에서 에칭 제거되거나 또는 전기도금에 의해 강화될 수 있다. 이러한 방식으로, 전자 회로 및 포토레지스트를 제조하는 것이 가능하다. 화상-형성 물질에 사용되는 경우에, 신규 광개시제는 소위 출력 화상을 생성하는데에 있어서 탁월한 성능을 제공하여, 조사로 인한 색 변화를 유발한다. 이러한 출력 화상을 형성하기 위해, 다양한 염료 및/또는 이들의 류코 형태가 사용되며, 이러한 출력 화상 시스템의 예는, 예를 들어 WO96/41240, EP706091, EP511403, US3579339 및 US4622286에서 찾을 수 있다.
신규 광개시제는 또한 순차적 빌드-업 공정에 의해 제조된 다층 회로 기판의 유전 층을 형성하기 위한 광패턴화가능한 조성물에 적합하다.
본 발명은 상기 기재된 바와 같이, 안료처리 및 비안료처리된 페인트 및 바니시, 분말 코팅, 인쇄 잉크, 인쇄 플레이트, 접착제, 감압성 접착제, 치과용 조성물, 겔 코트, 전자기기용 포토레지스트, 에치 레지스트, 액체 및 건조 필름 둘 다, 솔더 레지스트, 다양한 디스플레이 응용을 위한 컬러 필터를 제조하기 위한 레지스트 (컬러 필터 레지스트는 안료, 안료와 염료 (즉, 하이브리드 시스템), 또는 염료 단독을 함유함), 플라즈마-디스플레이 패널 (예를 들어, 격벽, 인광체 층, 전극), 전계발광 디스플레이 및 LCD (예를 들어, 중간 절연 층, 스페이서, 멀티-스페이서, 마이크로렌즈 어레이)의 제조 공정에서 구조체를 생성하기 위한 레지스트를 제조하기 위한, 전기 및 전자 구성요소를 캡슐화하기 위한, 자기 기록 물질, 마이크로기계 부품, 도파관, 광학 스위치, 도금 마스크, 색 교정 시스템, 유리 섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄 스텐실, 스테레오리소그래피에 의한 3차원 물체, 홀로그래픽 기록을 위한 (예를 들어, 홀로그래픽 데이터 저장 (HDS)을 위한) 화상 기록 물질, 마이크로전자 회로, 탈색 물질, 마이크로캡슐을 함유하는 배합물, UV 및 가시 레이저 직접 화상화 시스템을 위한 포토레지스트 물질을 제조하기 위한, 또한 인쇄 회로 기판의 순차적 빌드-업 층에서의 유전 층, OLED용 뱅크/픽셀 한정 층, LCD 및 OLED용 실란트, LCD 및 OLED용 절연/패시베이션 층, 터치 패널용 금속 배선/투명 전도성 필름을 위한 절연체, 터치 패널용 코팅, 터치 패널용 장식용 잉크, 터치 패널용 보호 필름 또는 터치 패널용 에칭 레지스트를 형성하기 위한 조성물 뿐만 아니라 방법을 제공하며; 여기서 상기 방법은 상기 기재된 바와 같은 조성물을 150 내지 600 nm 범위의 전자기 방사선, 또는 전자 빔 또는 X선으로 조사하는 것을 포함한다.
사진 정보 기록을 위해 사용되는 기재는, 예를 들어, 폴리에스테르, 셀룰로스 아세테이트 또는 중합체-코팅된 종이의 필름을 포함하고; 오프셋 인쇄 형태를 위한 기재는 특수 처리된 알루미늄이고, 인쇄 회로를 제조하기 위한 기재는 구리-피복 적층물이고, 집적 회로를 제조하기 위한 기재는, 예를 들어 실리콘 웨이퍼이다. 사진 재료 및 오프셋 인쇄 형태를 위한 감광성 층의 층 두께는 일반적으로 약 0.5 μm 내지 10 μm이며, 인쇄 회로를 위한 감광성 층의 층 두께는 0.1 μm 내지 약 100 μm이다. 기재를 코팅한 후, 용매를 일반적으로 건조시킴으로써 제거하여, 포토레지스트의 코트가 기재 상에 남는다.
기재의 코팅은 기재에 액체 조성물, 용액 또는 현탁액을 적용함으로써 수행될 수 있다. 용매의 선택 및 농도는 주로 조성물의 유형 및 코팅 기술에 따라 달라진다. 용매는 불활성이어야 하며, 즉 이는 성분과 화학 반응을 일으키지 않아야 하고, 코팅 후 건조 과정에서 다시 제거될 수 있어야 한다. 적합한 용매의 예는 케톤, 에테르 및 에스테르, 예를 들어 메틸 에틸 케톤, 이소부틸 메틸 케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, N-메틸피롤리돈, 디옥산, 테트라히드로푸란, 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 1-메톡시-2-프로판올, 1,2-디메톡시에탄, 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 2-메톡시프로필아세테이트, 메틸-3-메톡시프로피오네이트, 2-헵타논, 2-펜타논 및 에틸 락테이트이다.
용액은 공지된 코팅 기술에 의해, 예를 들어 스핀 코팅, 딥 코팅, 나이프 코팅, 커튼 코팅, 브러싱, 분무, 특히 정전기 분무, 및 리버스-롤 코팅, 및 또한 전기영동 침착에 의해 기재에 균일하게 적용된다. 감광성 층을 임시적인 가요성 지지체에 적용한 다음, 적층을 통해 층을 옮김으로써 최종 기재, 예를 들어 구리-피복 회로 기판 또는 유리 기재를 코팅하는 것이 또한 가능하다.
적용되는 양 (코트 두께) 및 기재 (층 지지체)의 성질은 목적하는 적용 분야에 따라 달라진다. 코팅 두께의 범위는 일반적으로 약 0.1 μm 내지 100 μm 초과, 예를 들어 0.1 μm 내지 1 cm, 바람직하게는 0.5 μm 내지 1000 μm의 값을 포함한다.
기재를 코팅한 후, 용매를 일반적으로 건조시킴으로써 제거하여, 본질적으로 포토레지스트의 건조 레지스트 필름이 기재 상에 남는다.
신규 조성물의 감광성은 일반적으로 약 150 nm 내지 600 nm, 예를 들어 190-600 nm (UV-vis 영역)에서 확장될 수 있다. 적합한 방사선은, 예를 들어 일광 또는 인공 광원으로부터의 광 중에 존재한다. 결과적으로, 다수의 매우 다양한 유형의 광원이 사용된다. 점 광원 및 어레이 ("램프 카페트") 둘 다가 적합하다. 예는 탄소 아크 램프, 크세논 아크 램프, 저압, 중압, 고압 및 초고압 수은 램프, 아마 금속 할라이드 도핑물을 갖는 것 (금속-할로겐 램프), 마이크로파-자극 금속 증기 램프, 엑시머 램프, 초화학선 형광 튜브, 형광 램프, 아르곤 백열 램프, 전자 손전등, 사진 투광 램프, 발광 다이오드 (LED, OLED), 전자 빔 및 X선이다. 램프와 본 발명에 따라 노출시키고자 하는 기재 사이의 거리는 의도된 응용 및 램프의 종류 및 출력에 따라 다양할 수 있으며, 예를 들어 2 cm 내지 150 cm일 수 있다. 레이저 광원, 예를 들어 157 nm에서의 노출을 위한 F2 엑시머 레이저, 248 nm에서의 노출을 위한 KrF 엑시머 레이저 및 193 nm에서의 노출을 위한 ArF 엑시머 레이저와 같은 엑시머 레이저가 또한 적합하다. 가시 영역의 레이저가 또한 사용될 수 있다.
용어 "화상별" 노출은, 소정의 패턴을 포함하는 포토마스크, 예를 들어 슬라이드, 크로뮴 마스크, 스텐실 마스크 또는 레티클을 통한 노출, 뿐만 아니라 예를 들어 컴퓨터 제어 하에 코팅된 기재의 표면 상으로 이동시키고, 이러한 방식으로 화상을 생성하는 레이저 또는 광 빔에 의한 노출 둘 다를 포함한다. 상기 목적에 적합한 UV 레이저 노출 시스템은, 예를 들어, 에텍(Etec) 및 오르보테크(Orbotech)에 의해 제공된다 (DP-100™ 다이렉트 이미징 시스템(DIRECT IMAGING SYSTEM)). 레이저 광원의 다른 예는, 예를 들어 157 nm에서의 노출을 위한 F2 엑시머 레이저, 248 nm에서의 노출을 위한 KrF 엑시머 레이저 및 193 nm에서의 노출을 위한 ArF 엑시머 레이저와 같은 엑시머 레이저이다. 고체 상태 UV 레이저 (예를 들어, 마니아바르코(ManiaBarco)로부터의 제미니(Gemini), 펜탁스(PENTAX)로부터의 DI-2050) 및 405 nm 출력의 자색 레이저 다이오드 (펜탁스로부터의 DI-2080, DI-PDP)가 또한 적합하다. 가시 영역의 레이저가 또한 사용될 수 있다. 또한, 컴퓨터-제어 조사는 또한 전자 빔에 의해 달성될 수 있다. 예를 들어, 문헌 [A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C. Andre in Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997, 107, p. 275-281 및 K.-P. Nicolay in Offset Printing 1997, 6, p. 34-37]에 의해 기재된 바와 같이, 디지털 화상을 생성하기 위해 픽셀 대 픽셀로 다룰 수 있는 액정으로 제조된 마스크를 사용하는 것이 또한 가능하다.
물질의 화상별 노출 후 및 현상 전에, 짧은 시간 동안 열 처리를 수행하는 것이 유리할 수 있다. 현상 후에, 열적 후 베이킹을 실행하여 조성물을 경화시키고 모든 미량의 용매를 제거할 수 있다. 사용되는 온도는 일반적으로 50-250℃, 바람직하게는 80-220℃이고; 열 처리의 지속기간은 일반적으로 0.25 내지 60분이다.
따라서, 본 발명은 또한 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물, 즉 적어도 1개의 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 단량체, 올리고머 또는 중합체 화합물에 상기 기재된 바와 같은 화학식 I 또는 II의 적어도 1종의 광개시제를 첨가하고, 생성된 조성물을 전자기 방사선, 특히 파장 150 내지 600 nm, 특히 190-600 nm의 광, 전자 빔 또는 X-선으로 조사하는 것을 포함하는, 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물, 즉 적어도 1개의 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 단량체, 올리고머 또는 중합체 화합물을 광중합시키는 방법을 또한 제공한다.
즉, 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 이들 화합물에 상기 기재된 바와 같은 화학식 I, II, III, IV 또는 V의 적어도 1종의 광개시제를 첨가하고, 생성된 조성물을 전자기 방사선, 특히 파장 150 내지 600 nm, 특히 190-600 nm의 광, 전자 빔 또는 X선으로 조사하는 것.
본 발명은 적어도 하나의 표면이 상기 기재된 조성물로 코팅되어 있는 코팅된 기재를 추가로 제공한다.
상기 기재된 바와 같은 코팅된 기재를 화상별 노출에 적용한 다음, 비노출 부분을 현상제로 제거하는, 릴리프 화상의 사진 생성 방법이 또한 관심 대상이다. 화상별 노출은 상기에 이미 기재된 바와 같이, 마스크를 통해 또는 레이저 또는 전자 빔에 의해 조사함으로써 실시될 수 있다. 이와 관련하여, 상기 이미 언급된 레이저 빔 노출이 특히 유리하다.
본 발명의 화합물은 우수한 열적 안정성, 저휘발성, 우수한 저장 안정성 및 높은 용해도를 가지고, 또한 공기 (산소)의 존재 하의 광중합에 적합하다. 추가로, 이들은 광중합 후 조성물에서 단지 낮은 황색화만을 야기한다.
이어지는 실시예는 본 발명을 보다 상세하게 예시하지만, 그 범주를 상기 실시예로만 제한하지는 않는다. 부 및 백분율은, 달리 언급되지 않는 한, 명세서의 나머지 및 청구범위에서와 같이 중량 기준이다. 3개 초과의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼이 특정한 이성질체에 대한 임의의 언급 없이 실시예에서 언급되는 경우에는, 각 경우에 n-이성질체를 의미한다.
합성 실시예
실시예 1: OE-1 
의 제조
1.1: IM-1: 
의 제조
디클로로메탄 (50 mL) 중 염화알루미늄 7.36 g에 디페닐 술피드 9.31 g을 0℃에서 조금씩 첨가하였다. 이어서, 클로로아세틸 클로라이드 5.56 g을 0℃에서 첨가하고, 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 반응물 혼합물에, 염화알루미늄 7.33 g 및 n-부티릴 클로라이드 5.59 g을 혼합물에 0℃에서 첨가한 다음, 혼합물을 밤새 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수에 붓고, 유기 층을 디클로로메탄으로 추출하였다. 용액을 MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시키고, 잔류물을 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 IM1 10.35 g을 백색 분말로서 수득하였다.
1.2: IM-2 
의 제조
아세톤 30 ml 중 디케톤 (IM-1) 1.0 g에, 탄산칼륨 1.11 g 및 살리실알데히드 0.73 g을 첨가하고, 환류 하에 3시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 실온으로 가온시키고, 물을 첨가하고, 수성 HCl을 첨가하여 산성화시켰다. 침전물을 여과에 의해 수집하고, 건조시켜 IM-2 1.0 g을 수득하였다.
1.3: IM-3 
의 제조
CH3(CO)OC2H5 (AcOEt) (10 ml) 중 IM-2 1.0 g에, 히드록실 암모늄 클로라이드 0.35 g 및 피리딘 5ml를 첨가하였다. 혼합물을 환류 하에 3시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 실온으로 가온시킨 다음, 물에 부었다. 유기 층을 AcOEt로 추출하고, MgSO4 상에서 건조시켰다. 농축시킨 후, 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 IM-3 283 mg을 연황색 고체로서 수득하였다.
1.4: OE-1의 제조
AcOEt (14 ml) 중 IM-3 283 mg에, 아세틸 클로라이드 78.5 mg 및 트리에틸 아민 111 mg을 첨가하고, 3시간 동안 실온에서 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고, AcOEt로 추출하였다. 농축시킨 후, 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 OE-1 226 mg을 연황색 고체로서 수득하였다.
실시예 2: OE-2의 제조
상응하는 산 클로라이드를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1에 기재된 바와 같은 방법에 따라 OE-2를 제조하였다. 구조 및 물리적 데이터를 하기 표 1에 수집하였다.
실시예 3: OE-3의 제조
상응하는 산 클로라이드, 및 살리실알데히드 대신에 2-히드록시-1-나프트알데히드를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1에 기재된 바와 같은 방법에 따라 OE-3을 제조하였다. 구조 및 물리적 데이터를 하기 표 1에 수집하였다.
실시예 4: OE-4의 제조
디페닐술피드 대신에 디페닐에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1에 기재된 바와 같은 방법에 따라 OE-4를 제조하였다. 구조 및 물리적 데이터를 하기 표 1에 수집하였다.
실시예 5: OE-5 
의 제조
5.1: IM-4 
의 제조
디클로로메탄 (20 mL) 중 염화알루미늄 2.95 g에 디페닐 술피드 5.59 g을 0℃에서 조금씩 첨가하였다. 이어서, 2-메톡시벤조일 클로라이드 3.42 g을 0℃에서 첨가하고, 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수에 부은 후, 유기 층을 디클로로메탄으로 추출하였다. 용액을 MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시키고, 잔류물을 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 IM-4 2.80 g을 황색 고체로서 수득하였다.
5.2: IM-6 
의 제조
아세톤 13 ml 중 디케톤 (IM-4) 1.00 g에, 탄산칼륨 0.46 g 및 2-클로로아세토페논 0.46 g을 첨가하고, 환류 하에 밤새 교반하였다. 반응 혼합물을 실온으로 가온시킨 후, 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트에 의해 추출하고, Mg2SO4 상에서 건조시켰다. 유기 층을 증발시켜 IM-5 1.0 g을 수득하였다. IM-5를 프리델-크라프츠 아세틸화에 의해 IM-6으로 전환시켰다.
5.3: OE-5의 제조
실시예 1.4에 기재된 방법에 따라 IM-6을 OE-5로 전환시켰다. 상응하는 물리적 데이터를 하기 표 1에 수집하였다.
실시예 6-11: OE6-OE11의 제조
화합물 OE6-OE11을 실시예 1에 기재된 내지 방법에 따라 제조하였다. 구조 및 물리적 데이터를 하기 표 1에 수집하였다.
실시예 12-31, 33-73: OE12-OE31 및 OE33-OE73의 제조
옥심 에스테르 화합물 OE12-OE31 및 OE33-OE73을 옥심화에 이어 에스테르화에 대해 상응하는 케톤을 사용하여 실시예 1에 기재된 바와 같은 방법에 따라 제조하였다.
실시예 32: OE32의 제조
화합물 OE32를 디케톤 (IM-7) 및 옥심 (IM-8)을 통해 실시예 1에 기재된 바와 같은 방법에 따라 제조하였다. 조 생성물을 CH3COOC2H5 (AcOEt)/헥산으로부터 재결정화에 의해 정제하여 OE32을 EZ (93:7) 이성질체의 혼합물로서 수득하였다.
1H NMR 데이터
IM-7(CDCl3):0.88-0.98(d, 2H), 1.50-1.75(m, 3H), 2.80-2.88(t, 2H), 7.28-8.06 (m, 13H),
IM-8(DMSO-d6):0.78-0.92(m, 6H), 1.20-1.60(m,3H), 2.42-2.76(m, 2H), 7.34-8.02 (m, 13H),10.68-11.30(2개의 단일선, 1H)
실시예 74-75
옥심 EZ 이성질체의 혼합물 (IM-8)을 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 옥심 이성질체 E(IM-9) 및 Z(IM-10)의 단일 성분을 수득하였다. OE74 및 OE75를 각각 IM-9 및 IM-10으로부터 통상적인 에스테르화 방식을 통해 제조하였다:
1H NMR 데이터
IM-9:(DMSO-d6) 0.84-0.92(m, 6H), 1.30-1.60(m,3H), 2.64-2.76(m, 2H), 7.34-7.98 (m, 13H),11.30(s, 1H)
IM-10:(DMSO-d6) 0.78-0.84(m, 6H), 1.20-1.38(m,3H), 2.42-2.54(m, 2H), 7.34-8.02 (m, 13H),10.68(s, 1H)
옥심 에스테르 화합물 (OE)은 E/Z 이성질체 혼합물로 형성되었다. 단지 단일 경우에만 상기 형태의 구별 및 분리를 나타내었다.
<표 1>
적용 실시예
폴리(벤질메타크릴레이트-co-메타크릴산)의 제조
벤질메타크릴레이트 24 g, 메타크릴산 6 g 및 아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.525 g을 프로필렌 글리콜 1-모노메틸 에테르 2-아세테이트 (PGMEA) 90 ml 중에 용해시켰다. 생성된 반응 혼합물을 80℃에서 예열된 오일 조에 넣었다. 질소 하에 80℃에서 5시간 동안 교반한 후, 생성된 점성 용액을 실온으로 냉각시키고, 추가 정제 없이 사용하였다. 고체 함량은 약 25%였다.
감수성 시험 A
감수성 시험을 위한 광경화성 조성물을 하기 성분을 혼합하여 제조하였다:
상기 실시예에서 제조된, 25% 프로필렌 글리콜 1-모노메틸 에테르 2-아세테이트 (PGMEA) 용액 중 벤질메타크릴레이트와 메타크릴산 (벤질메타크릴레이트 : 메타크릴산 = 중량 기준 80 : 20)의 공중합체 100.0 중량부
디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 ((DPHA), 시그마-알드리치(SIGMA-ALDRICH)에 의해 제공됨) 25.0 중량부
광개시제 (PI) 1.0 중량부, 및
PGMEA 75.0 중량부
모든 작업은 황색 광 하에 수행하였다. 조성물을 권선 막대를 갖는 전기 어플리케이터를 사용하여 알루미늄판에 도포하였다. 용매를 대류 오븐 중에서 10분 동안 80℃에서 가열하여 제거하였다. 건조 필름의 두께는 대략 2 μm였다. 상이한 광학 밀도의 21 스텝을 갖는 표준화된 시험 네가티브 필름 (스토우퍼(Stouffer) 스텝 웨지)을 필름과 레지스트 사이에 약 300 μm의 공기 간극을 두고 배치하였다. 유리판을 네가티브 필름 위에 배치하여 21 스텝을 갖는 마스크를 고정하였다. 20 cm의 거리에서 250 W 초고압 수은 램프 (우시오(USHIO), USH-250BY)를 사용하여 노출을 수행하였다. 유리판 상의 광학 출력 측정기 (우시오, UVD-S365 검출기를 갖는 UNIMETER UIT-150-A)에 의해 측정된 총 노출 선량은 250 mJ/cm2였다. 노출 후, 분무형 현상기 (AD-1200, 다키자와 산교(Takizawa Sangyo))를 사용하여 노출된 필름을 알칼리 용액 (DL-A4의 5% 수용액, 요코하마 유시(Yokohama Yushi))으로 28℃에서 120초 동안 현상하였다. 현상 후 남아있는 (즉, 중합된) 최고 스텝 수를 나타냄으로써 사용된 개시제의 감수성을 특성화하였다. 스텝 수가 높을수록, 시험된 개시제는 감수성이다. 결과를 하기 표 2에 열거하였다.
<표 2> 감광성
OE-R1은 WO04/050653, 실시예 6에 개시된 바와 같은 
이다.
표 2에 제시된 바와 같이, 본 발명에 따른 화합물은 비교 화합물보다 높은 감광성을 나타낸다.
감수성 시험 B
감수성 시험을 위한 광경화성 조성물을 하기 성분을 혼합하여 제조하였다:
용매 (PGMEA) 88.6 중량부
알칼리 현상성 결합제, 29.0% 용액 (리폭시 SPC-1000, 쇼와 하이폴리머(Showa Highpolymer)에 의해 제공됨) 86.1 중량부
다관능성 아크릴레이트 (DPHA, 시그마-알드리치에 의해 제공됨) 25.3 중량부
광개시제 (PI) 1.0 중량부
모든 작업은 황색 광 하에 수행하였다. 조성물을 스핀코터를 사용하여 규소 웨이퍼에 도포하였다. 용매를 대류 오븐 중에서 10분 동안 80℃에서 가열하여 제거하였다. 건조 필름의 두께는 대략 2 μm였다. 상이한 광학 밀도의 30 스텝을 갖는 표준화된 시험 네가티브 필름 (후지필름 이미징 시스템즈(FUJIFILM Imaging Systems), 그레이(Gray) 스텝 차트)을 필름과 레지스트 사이에 약 300 μm의 공기 간극을 두고 배치하였다. 규소 웨이퍼를 네가티브 필름 위에 배치하여 30 스텝을 갖는 마스크를 고정하였다. 20 cm의 거리에서 250 W 초고압 수은 램프 (우시오, USH-250BY)를 사용하여 노출을 수행하였다. 규소 웨이퍼 상의 광학 출력 측정기 (우시오, UVD-S365 검출기를 갖는 UNIMETER UIT-150-A)에 의해 측정된 총 노출 선량은 150 mJ/cm2였다. 노출 후, 분무형 현상기 (AD-1200, 다키자와 산교)를 사용하여 노출된 필름을 알칼리 용액 (DL-A4의 5% 수용액, 요코하마 유시)으로 28℃에서 60초 동안 현상하였다. 필요한 UV 선량은 현상 후 완전 경화 (즉, 패턴이 알칼리 용액으로 용해되지 않음)의 UV 선량에 상응하였다. 선량의 값이 작을수록, 시험된 개시제는 감수성이다. 결과를 하기 표 3에 열거하였다.
<표 3>
OE-R1은 WO04/050653에 개시된 실시예 6이다.
표 3에 제시된 바와 같이, 본 발명에 따른 화합물은 비교 화합물보다 높은 감광성을 나타낸다.
Claims (19)
- 하기 화학식 I의 화합물.
<화학식 I>
상기 식에서
X는이고;
A는 O, S 또는 NR5이고;
R1은 C1-C20알킬, C6-C20아릴 또는 C1-C20알콕시이고;
R1a는 C1-C20알킬 또는 C6-C20아릴이고;
R2는 C1-C20알킬이며, 이는 비치환되거나 또는 할로겐, SR4, NR5R6, (CO)OR3 또는 C3-C8시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는
R2는 C6-C20아릴이며, 이는 비치환되거나 또는 C1-C20알킬에 의해 치환되고;
R3은 C1-C20알킬이거나, 또는 R3은, R2의 탄소 원자 중 1개와 함께, 5- 또는 6-원 포화 고리를 형성하고;
R4는 C6-C20아릴이고;
R5 및 R6은 서로 독립적으로 O(CO)R1a, (CO)R1a 또는 C1-C20알킬이고;
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, 할로겐, NO2, OR3, (CO)R1a 또는 C6-C20아릴이거나; 또는
R8 및 R9는이고;
R12, R13, R14 및 R15는 수소 또는 C1-C4알킬이고;
R16 및 R17은 수소이거나; 또는
R16 및 R17은, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 포화 고리를 형성하고;
Ar1은 C6-C20아릴 또는이고;
Ar2는이고;
Y는 직접 결합이고;
Z1은 O, S 또는 CR16(R17)이고;
Z2는 O 또는 S이다. - (a) 적어도 1종의 에틸렌계 불포화 광중합성 화합물 및
(b) 광개시제로서, 제1항에 정의된 바와 같은 화학식 I의 적어도 1종의 화합물
을 포함하는 광중합성 조성물. - 제2항에 있어서, 성분 (a)가 에폭시 수지와 불포화 모노카르복실산의 반응 생성물과 포화 또는 불포화 다염기성 산 무수물과의 반응에 의해 수득되는 수지인 광중합성 조성물.
- 제2항에 있어서, 광개시제 (b)에 추가로, 추가의 광개시제 (c) 및 다른 첨가제 (d)로부터 선택된 적어도 1종의 성분을 포함하는 광중합성 조성물.
- 제4항에 있어서, 추가의 첨가제 (d)로서 안료 또는 안료의 혼합물 또는 염료 또는 염료의 혼합물 또는 1종 이상의 염료와 1종 이상의 안료의 혼합물을 포함하는 광중합성 조성물.
- 제5항에 있어서, 추가의 첨가제 (d)로서 분산제 또는 분산제의 혼합물을 포함하는 광중합성 조성물.
- 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물을 기준으로 0.05 내지 25 중량%의 광개시제 (b), 또는 광개시제 (b) 및 (c)를 포함하는 광중합성 조성물.
- 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 추가의 첨가제 (d)로서 광증감제, 또는 벤조페논, 벤조페논 유도체, 티오크산톤, 티오크산톤 유도체, 안트라퀴논, 안트라퀴논 유도체, 쿠마린 및 쿠마린 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물을 포함하는 광중합성 조성물.
- 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 결합제 중합체 (e), 또는 메타크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체를 추가로 포함하는 광중합성 조성물.
- 하기 화학식 IA의 상응하는 옥심 화합물을 염기 또는 염기의 혼합물의 존재하에 하기 화학식 III의 아실 할라이드 또는 하기 화학식 IV의 무수물과 반응시킴으로써, 제1항에 정의된 바와 같은 화학식 I의 화합물을 제조하는 방법.
<화학식 IA>
상기 식에서 X 및 R2는 제1항에 정의된 바와 같고,
<화학식 III>
<화학식 IV>
상기 식에서 Hal은 할로겐, 또는 Cl이고, R1은 제1항에 정의된 바와 같다. - 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 150 내지 600 nm 범위의 전자기 방사선으로 또는 전자 빔으로 또는 X선으로 조사하는 것을 포함하는, 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물을 광중합시키는 방법.
- 제11항에 있어서, 안료처리 및 비안료처리된 페인트 및 바니시, 분말 코팅, 인쇄 잉크, 인쇄 플레이트, 접착제, 치과용 조성물, 겔 코트, 전자기기용 포토레지스트를 제조하거나, 전기 및 전자 구성요소를 캡슐화하거나, 자기 기록 물질, 마이크로기계 부품, 도파관, 광학 스위치, 도금 마스크, 에치 마스크, 색 교정 시스템, 유리 섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄 스텐실을 제조하거나, 3차원 물체, 화상 기록 물질, 마이크로전자 회로, 탈색 물질, OLED용 뱅크/픽셀 한정 층, LCD 및 OLED용 실란트, LCD 및 OLED용 절연/패시베이션 층, 터치 패널용 금속 배선/투명 전도성 필름을 위한 절연체, 터치 패널용 코팅, 터치 패널용 장식용 잉크, 터치 패널용 보호 필름 또는 터치 패널용 에칭 레지스트를 제조하기 위해 사용되는, 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물을 광중합시키는 방법.
- 적어도 하나의 표면이 제2항에 따른 조성물로 코팅되어 있는 코팅된 기재.
- 제13항에 따른 코팅된 기재를 화상별 노출에 적용하고, 이어서 현상제를 사용하여 비노출 부분을 제거하는, 릴리프 화상의 사진 생성 방법.
- 모두가 투명한 기재 상에 감광성 수지 및 안료를 포함하는 적색, 녹색 및 청색 화소 및 임의로 블랙 매트릭스를 제공하고, 기재의 표면 상에 또는 컬러 필터 층의 표면 상에 투명한 전극을 제공함으로써 제조되며, 여기서 상기 감광성 수지는 다관능성 아크릴레이트 단량체, 유기 중합체 결합제 및 제1항에 정의된 바와 같은 화학식 I의 광중합 개시제를 포함하는 것인 컬러 필터.
- 하기 화학식 IA의 화합물.
<화학식 IA>
상기 식에서
X 및 R2는 제1항에 정의된 바와 같다. - 삭제
- 삭제
- 삭제
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