KR101412507B1 - 유기금속화합물 가스 공급 장치 - Google Patents

유기금속화합물 가스 공급 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101412507B1
KR101412507B1 KR1020130013366A KR20130013366A KR101412507B1 KR 101412507 B1 KR101412507 B1 KR 101412507B1 KR 1020130013366 A KR1020130013366 A KR 1020130013366A KR 20130013366 A KR20130013366 A KR 20130013366A KR 101412507 B1 KR101412507 B1 KR 101412507B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
raw material
carrier gas
material container
organometallic compound
supply
Prior art date
Application number
KR1020130013366A
Other languages
English (en)
Inventor
김진권
김진동
임진묵
Original Assignee
공주대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 공주대학교 산학협력단 filed Critical 공주대학교 산학협력단
Priority to KR1020130013366A priority Critical patent/KR101412507B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101412507B1 publication Critical patent/KR101412507B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/18—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metallo-organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/52—Controlling or regulating the coating process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 유기금속화합물 가스 공급장치에 관한 것으로, 상세하게, 내부 수용 공간을 갖는 케이스; 상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기; 상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관; 및 상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;을 포함한다.

Description

유기금속화합물 가스 공급 장치{Supplier of Gas Phase Organometal Compound}
본 발명은 유기금속화합물 가스 공급 장치에 관한 것으로, 상세하게, 고상의 유기금속화합물에 캐리어 가스를 불어넣어, 장기간 안정적이며 신뢰성 있게 유기금속화합물 가스를 생성할 수 있는 유기금속화합물 가스 공급 장치에 관한 것이다.
유기금속 화합물은 양산성 및 제어성이 우수한 유기금속 기상 성장법(MOCVD법) 및 화합물 반도체의 에피택셜 성장과 같은 다양한 분야에 원료로 사용되고 있다.
이러한 기상의 유기금속 화합물을 공급하는 유기금속 화합물 공급 장치는 유기금속화합물이 충전되는 충전 용기를 구비하고, 유기금속 화합물이 담긴 충전 용기로 캐리어 가스를 공급하여 승화된 유기금속 화합물을 함유하는 캐리어 가스를 생성하여 기상 성장 장치 등 외부 장치에 공급한다. 즉 유기금속 화합물은 충전 용기에 충전하고, 그것에 캐리어 가스를 흘림으로써, 캐리어 가스와 접촉한 유기금속 화합물이 캐리어 가스 중에 증기로서 도입되고, 캐리어 가스에 동반하여 충전 용기 밖으로 꺼내어져 외부 장치에 공급된다.
유기금속 화합물 공급 장치의 충전 용기로는 통상적으로 스테인리스제로 원통형인 것이 사용되고, 열효율, 유기금속 화합물의 캐리어 가스 중의 농도의 제어성, 사용률 등을 향상시키기 위해서 대한민국 공개특허 제2007-0089785호와 같이 충전 용기의 캐리어 가스가 흐르는 유로 구조등을 변형시키는 연구가 이루진 바 있다. 또한 충전 용기로는 생산성 향상의 관점에서 보다 대형의 충전 용기가 사용되고 있다.
그러나, 고상의 유기금속화합물을 용기에 충전한 후, 캐리어 가스를 불어 넣는 경우, 캐리어 가스의 유입구와 인접한 영역에서는 유기금속화합물의 승화(고상 유기금속화합물의 소모)가 우선적으로 이루어지고, 특정 영역에서 지속적으로 유기금속화합물의 승화가 보다 활발히 일어나는 경우, 캐리어 가스가 용이하게 흐르는 유로가 형성되게 된다.
그러한 유로가 형성되면, 캐리어 가스가 용기 내 충진된 유기금속화합물에 균질하게 흐르지 못하고, 유기금속화합물과의 접촉 면적 또한 떨어져, 배출되는 캐리어 가스 내의 유기금속화합물 농도가 사용 시간에 따라 변화하며 감소하게 된다.
이렇게 유기금속화합물의 농도 제어가 안정적으로 이루어지지 않게 되면, 비록 다량의 유기금속화합물이 용기에 잔류한다 하더라도, 용기가 교체될 수 밖에 없는 한계가 있다.
대한민국 공개특허 제2007-0089785호
본 발명의 목적은 고상의 유기금속화합물에 캐리어 가스를 공급하여, 유기금속화합물 가스를 함유하는 혼합 가스를 생성하는 장치에 있어, 유기금속화합물 가스의 농도가 장기간 안정적으로 유지되며, 원료로 사용되는 고상의 유기금속화합물의 사용률을 향상시킬 수 있는 유기금속 화합물 가스 공급 장치를 제공하는데 있다.
본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 내부 수용 공간을 갖는 케이스; 상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기; 상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관, 상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 상기 케이스와 상기 원료용기 사이 공간인 열매체공간이 더 구비되고, 상기 열매체공간에는 상기 원료용기의 온도를 조절하는 열전달매체가 수용되며, 상기 열전달매체를 상기 열매체공간에 각각 공급 및 배출하는 열매체 공급관 및 열매체 배출관을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료용기는 공급되는 상기 캐리어 가스에 의해 상기 주름이 펼쳐짐으로써 팽창되고, 상기 캐리어 가스가 공급되지 않을 때 상기 주름이 접힘으로써 수축될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 주름은 상기 원료 용기의 하부에서 상부로의 높이 방향을 따라 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료 용기는 일 단이 상기 캐리어 가스 공급관과 연결되고, 다른 일 단이 상기 캐리어 가스 배출관과 연결된 밀폐형 주름관일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 캐리어 가스 배출관은 주름관일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 캐리어 가스 및 열전달매체의 각각의 공급여부 및 공급 유속을 제어하는 제어부를 더 포함하며, 상기 제어부는 상기 캐리어 가스의 공급이 중단될 때, 상기 열매체공간의 압력이 상기 원료용기 내부 압력보다 높도록 제어할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료 용기는 금속 또는 고분자일 수 있다.
본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 원료용기 내 수용된 고상의 유기금속화합물에, 캐리어 가스가 상대적으로 흐르기 쉬운 유로가 형성되는 것을 원천적으로 방지하여, 일정한 농도의 유기금속화합물을 가스상으로 제공할 수 있으며, 원료용기 내 잔존하는 고상의 유기금속화합물의 사용률을 향상시킬 수 있으며, 엄밀한 공정 제어가 불필요하고, 신뢰성 있게 유기금속화합물의 가스상을 공급함에 따라 생산성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치의 일 구성도를 도시한 것이며,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급장치에 있어, 내부 수용 공간에 위치하는 원료용기만을 도시한 도면이며,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치의 다른 일 구성도를 도시한 것이다.
<부호의 상세한 설명>
100 : 케이스 1: 유기금속화합물
200 : 원료용기 211 : 주름
300 :캐리어 가스 공급관 400 : 캐리어 가스 배출관
210 : 주름부 220 : 제1주름부
230 : 제2주름부 I : 가스 유입구
O : 가스 배출구 2 :　열전달매체
510 : 열매체 공급관 520 : 열매체 배출관
600 : 제어부
이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 유기금속화합물 가스 공급 장치는을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있으며, 이하 제시되는 도면들은 본 발명의 사상을 명확히 하기 위해 과장되어 도시될 수 있다. 이때, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.
본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 내부 수용 공간을 갖는 케이스; 상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기; 상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관, 상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;을 포함한다.
본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 물질의 합성 및/또는 전자소자, 광소자등을 포함한 디바이스의 제조시, 기상의 전구체(유기금속화합물)를 공급하는 전구체 가스 공급 장치일 수 있다. 구체적인 일 예로, 상기 캐리어 가스 배출관은 통상의 화학 증착(CVD) 장비, 플라즈마 도움 화학 증착(PECVD) 장비 또는 원자층 증착(ALD) 장비와 연결되어, 장비에 전구체 물질을 제공할 수 있다.
물질의 합성 및/또는 디바이스의 제조시, 유기금속화합물의 전구체를 기상상태로, 제어된 농도로 장시간동안 안정적으로 공급할 필요가 있다. 이때, 트리메틸인듐(trimethly indum; TMI)과 같은 상온에서 고상을 갖는 유기금속화합물의 경우, 고상의 유기금속화합물을 용기에 충진하고, 충진된 용기에 캐리어 가스를 불어넣어, 유기금속화합물을 함유하는 가스를 형성하는 방법을 사용여 전구체 가스를 생성할 수 있다. 그러나, 고상의 유기금속화합물이 충진된 용기에 캐리어 가스를 유입시키는 경우, 캐리어 가스와 직접 접촉하는 부분의 유기금속화합물이 다른 부분의 유기금속 화합물보다 우선적으로 소비, 즉 캐리어 가스 중에 도입된다. 고상의 유기금속 화합물은 유동성이 매우 떨어지기 때문에, 이러한 부분적 우선 소비가 일단 시작되면, 계속하여 그 부분의 소비가 촉진되어 캐리어 가스가 흐르기 쉬운 유로가 형성될 수 있다. 그러한 유로가 형성되면, 캐리어 가스와 유기금속 화합물의 접촉 면적이 저하되고, 충전 용기로부터 도출되는 캐리어 가스 중의 유기금속 화합물 농도가 서서히 저하되고 증기압 또한 떨어진다. 그 결과 전구체(유기금속 화합물)의 농도가 안정적으로 유지되지 않아 다량의 소비되지 않은 고체 유기금속 화합물이 잔류하고 있음에도 유기금속화합물이 충진된 용기는 사용을 중지할 수 밖에 없다.
본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 원료용기 내 수용된 고상의 유기금속화합물에, 캐리어 가스가 상대적으로 흐르기 쉬운 유로가 형성되는 것을 원천적으로 방지하여, 일정한 농도의 유기금속화합물을 가스상으로 제공할 수 있으며, 원료용기 내 잔존하는 고상의 유기금속화합물의 사용률을 향상시킬 수 있으며, 엄밀한 공정 제어가 필요없고 신뢰성 있게 유기금속화합물의 가스상을 공급함에 따라 생산성을 향상시킬 수 있다.
상세하게, 본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 고상의 유기금속화합물이 충진되는 원료용기에 주름이 형성되어 있어, 상기 캐리어 가스에 의해 상기 주름이 펼쳐짐으로써 팽창되고, 상기 캐리어 가스가 공급되지 않을 때 상기 주름이 접힘으로써 수축될 수 있다. 즉, 캐리어 가스의 공급시 주름의 펼쳐짐 및 캐리어 가스 공급 중단시 주름의 접힘에 의해 원료용기 자체에 물리적 변형이 발생할 수 있다. 이러한 물리적 변형은 원료용기 내에 수용된 고상의 유기금속화합물에 물리적 충격을 야기할 수 있다.
보다 상세하게, 본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 케이스 내부 수용 공간에 고상의 유기금속화합물이 수용되는 원료용기가 위치하되, 원료용기에 주름이 형성되어 있어, 상기 캐리어 가스의 공급 및 중단에 의해 원료용기가 팽창 및 수축되어, 원료용기에 수용된 고상의 유기금속화합물에 지속적으로 물리적 충격을 가할 수 있다.
원료용기의 물리적 변형에 의해 야기되는 물리적 충격은 고상의 유기금속화합물을 물리적으로 유동되게 하여, 캐리어 가스가 우선적으로 흐르는 기공 채널의 형성을 원천적으로 방지하게 된다.
이때, 상술한 고상의 유기금속화합물은 물질 합성 또는 디바이스 제조를 위한 전구체로 사용될 수 있는 유기금속화합물 중, 고상의 유기금속화합물이라면 어떠한 물질이든 사용 가능하다. 비 한정적인 일 예로, 유기금속 화합물로는 인듐 화합물, 아연 화합물, 알루미늄 화합물, 갈륨 화합물 또는 마그네슘 화합물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 인듐 화합물로는 트리메틸인듐, 디메틸클로로인듐, 시클로펜타디에닐인듐, 트리메틸인듐·트리메틸아르신 부가물, 트리메틸인듐·트리메틸포스핀 부가물 등을 들 수 있으며, 아연 화합물은 에틸아연 요오다이드, 에틸시클로펜타디에닐아연, 시클로펜타디에닐아연 등을 들 수 있으며, 알루미늄 화합물은 메틸디클로로알루미늄등을 들 수 있으며, 갈륨 화합물은 메틸디클로로갈륨, 디메틸클로로갈륨, 디메틸브로모갈륨 등을 들 수 있으며, 마그네슘 화합물로는 비스시클로펜타디에닐마그네슘 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치의 일 구성도를 도시한 것으로, 내부 수용 공간을 갖는 케이스(100), 케이스(100)의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물(1)이 수용되며, 주름(211)을 갖는 원료용기(200), 원료용기(200)로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관(300), 원료용기(200)에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관(400)을 포함할 수 있다.
상기 케이스(100)는 캐리어 가스의 공급 및 유기금속화합물 함유 가스의 배출, 선택적으로 후술하는 열전달 매체의 공급 및 배출을 위한 관통공을 가질 수 있으며, 내부 수용 공간을 밀폐시키는 밀폐형 케이스일 수 있다. 구체적으로, 상기 케이스(100)는 내부 수용 공간을 갖는 하부 케이스 및 관통공이 형성된 상부 케이스를 포함할 수 있으며, 하부 케이스와 상부 케이스의 결합에 의해, 내부 수용 공간을 밀폐시킬 수 있다. 이때, 캐리어 가스 공급관(300) 및 캐리어 가스 배출관(400)은 상부 케이스에 형성된 각 관통공을 통해 케이스(100)를 관통하여 내부 수용 공간에 위치하는 원료용기(200)와 각각 결합될 수 있다. 물론, 관통공에 위치하는 관과 관통공 사이는 오링과 같은 적절한 실링 부재에 의해 실링될 수 있음은 물론이다.
상기 원료용기(200)의 용기 내에는 유기금속화합물 입자를 포함하는 고상의 유기금속화합물(1)이 충진될 수 있으며, 원료용기(200) 자체는 골과 산을 갖는 주름(211)이 형성된 용기로, 용기의 일정 영역에 상기 주름(211)이 규칙적 또는 불규칙적으로 형성되어 있을 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급장치에 있어, 내부 수용 공간에 위치하는 원료용기(200)만을 도시한 도면이다. 도 2(a)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)는 적어도 그 측면에 골과 산을 갖는 주름(211)이 규칙적으로 형성되어 있을 수 있다. 즉, 원료용기는 적어도 그 측면에 다수개의 주름(211)이 규칙적으로 배열된 주름부(210)가 형성되어 있을 수 있다. 이러한 주름부(210)는 골(및 산)이 서로 평행한 다수개의 주름(211)이 연속적으로 형성된 것이거나, 도 2(a)의 일 예와 같이, 골(및 산)이 서로 평행한 다수개의 주름(211)이 일정 거리 서로 이격되어 형성된 것일 수 있다.
상세하게, 원료용기(200)에 고상의 유기금속화합물을 투입하면, 중력에 의해 원료용기(200) 하부부터 고상의 유기금속화합물이 충진되게 되는데, 이러한 원료용기(200)의 하부에서 상부로의 높이 방향을 따라 주름(211)이 형성될 수 있으며, 다수개의 주름(211)이 도 2(a)에 도시한 바와 같이, 측면의 일정 영역에 연속적으로 또는 측면의 일정 영역에 일정거리 서로 이격되어 규칙적으로 형성되어 있을 수 있다.
도 2(b) 및 도 2(c) 원료용기(200)의 다른 일 예를 도시한 것으로, 도 2(b) 및 도 2(c)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)는 그 측면에 불규칙적으로 주름(211)이 형성되어 있을 수 있다.
구체적으로, 도 2(b)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)에 고상의 유기금속화합물(1)이 충진되어 있음에 따라, 원료용기(200)의 상부에는 유기금속화합물(1)이 미 충진된 빈 공간이 형성될 수 있다. 이러한 빈 공간에 해당하는 원료용기의 측면에 다수개의 주름이 배열된 제1주름부(220)가 형성될 수 있으며, 유기금속화합물이 충진된 공간에 해당하는 원료용기의 측면에 제1주름부(220)의 주름과 상이한 크기를 갖는 제2주름부(230)가 형성되어 있을 수 있다.
즉, 원료용기(200)는 그 측면에 서로 상이한 크기를 갖는 제1주름부(220)와 제2주름부(230)가 형성될 수 있으며, 제1주름부(220)는 원료용기(200)에서 유기금속화합물(1)이 충진되지 않은 미 충진 영역에, 제2주름부(230)는 원료용기(200)에서 유기금속화합물(1)이 충진된 충진 영역에 형성될 수 있다.
이러한 제1주름부(220)와 제2주름부(230)는 캐리어 가스에 의해 원료용기(200) 내 압력이 높아졌을 때, 제1주름부(220)를 통해 원료용기(200)의 물리적 변형을 보다 용이하고 보다 극대화 시키며, 제2주름부(230)를 통해 고상의 유기금속화합물(1)에 제2주름부(220)에 의해 야기되는 물리적 충격 보다, 직접적인 물리적 충격을 야기할 수 있다. 즉, 제1주름부(220)는 고상의 유기금속화합물(1) 미 충진 영역에 형성되어 있음에 따라, 캐리어 가스의 유입에 의해 주름이 보다 용이하게 펴지고 캐리어 가스의 공급 중단에 의해 유연하게 주름이 접힐 수 있다. 이에 따라, 제1주름부(220)는 캐리어 가스에 의해 야기되는 원료용기(200) 내 압력 변화에 의한 용기의 물리적 변형량을 증대시킬 수 있다. 제1주름부(220)가 용기 자체의 변형을 야기하여, 유기금속화합물에 간접적인 충격을 준다면, 제2주름부(230)는 유기금속화합물이 충진된 충진 영역에 주름이 형성되어 있어, 보다 직접적으로 유기금속화합물에 물리적 충격을 가할 수 있게 한다. 보다 구체적인 일 예로, 제1주름부(220)에 형성된 주름의 크기는 제2주름부(230)에 형성된 주름 크기보다 상대적으로 크거나 작을 수 있으며, 나아가, 제1주름부(220)에 형성된 주름의 밀도와 제2주름부(230)에 형성된 주름의 밀도는 서로 상이할 수 있다.
도 2(c)의 일 예는 원료용기(200)의 측면을 따라 주름이 형성되되, 형성되는 주름의 크기가 원료용기(200)의 상부에서 원료용기(200) 하부 방향으로 점차적으로 달라지는 경우를 도시한 일 예이다. 도 2(c)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)의 물리적 변형을 증진시키며, 원료용기(200)에 충진된 유기금속화합물에 직접적인 충격이 효과적으로 가해질 수 있도록 주름은 원료용기의 상부에서 하부 방향으로 갈수록 점차적으로 커질 수 있다. 도 2(c)의 일 예에서는 원료용기(200)의 측면에 점차적으로 크기가 달라지는 주름이 서로 이격 배열된 경우를 도시하였으나, 이러한 주름들이 용기에 연속적으로 형성될 수 있음은 물론이다.
도 2를 기반으로 원료용기(200)를 상술한 일 예에 있어, 주름의 크기는 주름의 골을 기준한 산까지의 길이를 의미할 수 있다. 원료용기(200)의 크기는 공급하고자 하는 유기금속화합물(전구체)의 농도 및 유속을 고려하여 적절히 설계될 수 있으며, 주름의 실질적인 크기는 원료용기(200)의 크기를 고려하여 설계될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 공급 장치의 원료용기(200)는 캐리어 가스가 누출되지 않도록, 캐리어 가스 공급관(300)의 일 단 및 캐리어 가스 배출관(400)의 일 단과 각각 연결되는 가스 유입구(I)와 가스 배출구(O)를 제외하고 고상의 유기금속화합물이 위치하는 내부 공간이 밀폐되는 밀폐형 용기일 수 있다. 또한, 도 2에 도시한 바와 같이, 캐리어 가스가 원료용기(200)에 담지된 고상의 유기금속화합물을 가능한 긴 이동거리로 균일하고 균질하게 통과할 수 있도록 캐리어 가스의 가스 유입구(1)과 가스 배출구(O)는 서로 대향하는 위치에 형성되어 있을 수 있다. 구체적인 일 예로, 도 2에 도시한 바와 같이, 캐리어 가스 유입구(1)는 원료용기(200)의 상부면에 형성되어 있을 수 있으며, 캐리어 가스 배출구(O)는 원료용기(200)의 하부면에 형성되어 있을 수 있다. 이때, 도면에 도시하지 않았으나, 캐리어 가스 배출구(O)에는 원료용기(200)에 충진된 고상의 유기금속화합물 캐리어 가스 배출구(O)를 통해 캐리어 가스 배출관(400)으로 빠져나가지 않도록, 적절한 크기의 메쉬형 막이 구비될 수 있음은 물론이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치에 있어, 원료용기(200)는 일 단이 상기 캐리어 가스 공급관(300)과 연결되고, 다른 일 단이 상기 캐리어 가스 배출관(400)과 연결된 밀폐형 원통관일 수 있으며, 구체적으로, 원통관의 측면에 주름이 형성된 주름관일 수 있다. 이때, 캐리어 가스 공급관(300)은 주름관의 양 단 중, 상부에 위치하는 일 단과 연결될 수 있으며, 캐리어 가스 배출관(400)은 주름관의 양 단 중, 하부에 위치하는 일 단과 연결될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치에 있어, 케이스()의 내부 수용 공간보다 원료용기(200)의 크기가 작을 수 있으며, 상부면이 캐리어 가스 공급관(300)과 연결되고, 원료용기(200)의 하부면이 캐리어 가스 배출관(400)과 연결되는 구조를 가질 수 있다.
이에 따라, 케이스(100)의 내벽과 원료용기(200) 사이에는 빈 공간이 형성될 수 있는데, 원료용기(200)는 도 1에 도시한 일 예와 같이, 캐리어 가스 공급관(300) 및 캐리어 가스 배출관(400)이 원료용기(200)를 지지하고 고정하는 역할을 수행할 수 있다.
즉, 원료용기(200)의 하부면은 케이스(100)의 바닥면과 닿지 않고 이격되어 있을 수 있으며, 원료용기(200)가 물리적으로 안정하게 고정되어 있지 않음에 따라, 원료용기(200)의 팽창 및 수축이 보다 용이하게 이루어질 수 있으며, 원료용기의 변형에 의한 물리적 충격이 보다 효과적으로 고상의 유기금속화합물에 전달될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료용기(200)는 연성 금속 또는 고분자일 수 있다. 보다 구체적으로, 원료용기(200)의 재질은 유기금속화합물과 화학적으로 반응하지 않는 안전한 물질이며, 주름의 펼쳐짐 및 접힘에 따른 변형에 의한 용기의 파손이 발생하지 않는 금속 또는 고분자일 수 있다. 비한정적인 일 예로, 금속은 면심입방구조(FCC)구조의 금속, 보다 더 구체적으로 알루미늄, 구리, 니켈 및 이들의 합금등을 들 수 있으며, 고분자는 테프론, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌등을 들 수 있다.
도 1에 도시한 바와 같이, 상기 캐리어 가스 배출관(400)은 주름관을 포함할 수 있다. 즉, 상기 캐리어 가스 배출관(400)은 적어도 상기 원료용기(200)와 접하는 일단 영역이 주름관일 수 있다. 상세하게, 캐리어 가스 배출관은 리지드 관과 주름관을 포함할 수 있으며, 리지드 관이 케이스(100)를 관통하여, 주름관과 결합하고, 주름관이 상기 원료용기(200)와 결합할 수 있다. 상술한 바와 같이, 캐리어 가스 배출관(400)은 리지드 관인 캐리어 가스 공급관(300)과 함게, 원료용기(200)가 케이스 바닥면에서 이격되어 위치하도록 원료용기(200)를 지지하는 역할을 동시에 수행할 수 있다. 이러한 캐리어 가스 배출관(400)이 도 1의 일 실시예와 같이 주름관을 포함하는 경우, 원료용기(200)의 용이한 변형 뿐만 아니라, 장치의 구동(캐리어 가스의 공급등)에 의해 케이스 내부 및/또는 외부에서 발생하는 진동을 원료용기(200)에 전달하여, 고상의 유기금속화합물에 물리적 충격을 줄 수 있다. 즉, 고상의 유기금속화합물에는 원료용기(200)의 주름에 의한 물리적 충격과 함께 캐리어 가스 배출관(400)으로부터 원료용기(200)로 전달된 진동에 의한 물리적 충격이 가해지게 된다.
상술한 바와 같이, 가스 공급 장치의 구동 및 정지가 반복됨에 따라, 원료용기(200)에 의해, 고상의 유기금속화합물에 반복적으로 물리적인 힘이 인가되고, 선택적으로, 주름관인 캐리어 가스 배출관에 의해 외부 진동이 고상의 유기금속화합물에 인가될 경우, 캐리어 가스가 우선적으로 흐르는 유로가 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 의해 캐리어 가스가 충진된 유기금속화합물에 균일하고 균질하게 흐를 수 있으며, 안정적이고, 균일하며, 장기간의 사용에도 높은 유기금속화합물의 증기압이 유지될 수 있다.
캐리어 가스 배출관(400)에서 배출되는 가스는 기상의 유기금속화합물과 캐리어 가스가 혼합된 혼합 가스인데, 이러한 혼합 가스 내에서의 유기금속화합물의 농도는 캐리어 가스의 유속 및/또는 공급량에 의해 조절될 수 있다. 또한, 유기금속화합물의 온도를 변화시켜 유기금속화합물의 증기압이 조절될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치에 있어, 열전달매체에 의해 원료용기(200)가 가온되는 구성을 도시한 일 예로, 도 3에 도시한 바와 같이, 가스 공급 장치는 케이스(100) 내벽와 원료용기(200) 사이 공간인 열매체공간에, 상기 원료용기(200)의 온도를 조절하는 열전달매체(2)가 수용되며, 상기 열전달매체(2)를 상기 열매체공간에 각각 공급 및 배출하는 열매체 공급관(510) 및 열매체 배출관(520)을 더 포함할 수 있다.
이러한 열전달매체는 케이스(100) 내벽과 원료용기(200)사이의 빈 공간을 채우며 원료용기(200)에 충진된 유기금속화합물의 온도를 원하는 온도로 가온 또는 감온 시킬 수 있다. 열전달매체는 일정 온도로 조절된 기체 또는 액체일 수 있으며, 열매체 공급관(510) 또는 열전달매체 보관 수단(미도시)과 열매체 공급관(510) 사이에는 열매체 공급관(510)을 통해 열매체공간으로 흐르는 열전달매체의 온도를 조절하기 위한 가열부재 및/또는 냉각부재가 구비될 수 있음은 물론이다. 이때, 열전달매체에 의해 원료용기(200)의 유기금속화합물은 상온 내지 300℃로 가온 및/또는 유지될 수 있다.
또한, 도 3에 도시한 일 실시예와 같이, 유기금속화합물 공급장치는 캐리어 가스 및 열전달매체의 각각의 공급여부 및 공급 유속을 제어하는 제어부(600)를 더 포함할 수 있다. 제어부(600)는 캐리어 가스의 공급 시작 및 중단을 제어하며, 캐리어 가스의 공급 유속을 제어할 수 있으며, 열전달매체의 온도, 열전달매체의 공급 여부, 열전달매체의 공급 시작 및 중단, 열전달매체의 공급 유속 및 배출 유속을 제어할 수 있다. 이러한 제어를 위해, 캐리어 가스 공급관, 열매체 공급관 및 배출관 각각에는 통상의 유량 제어수단(일 예로, MFC(Mass Flow Controller))이 구비될 수 있으며, 관의 개폐를 제어하는 밸브가 구비될 수 있다.
구체적으로, 제어부(600)는 캐리어 가스 공급관을 통해 캐리어 가스를 원료용기에 공급하여 원료용기의 팽창이 이루어진 후, 선택적으로, 열매체 공급관을 통해 열전달매체가 유입되도록 할 수 있다. 이때, 제어부(600)는 열매체 공급관을 통해 공급되는 열전달매체의 온도를 제어하여, 원료용기 내 유기금속화합물의 온도를 조절할 수 있음은 물론이다.
또한, 가온이나 감온을 목적하지 않는다 하더라도, 항온 상태로 원료용기를 유지하는 것이 보다 정밀한 유기금속화합물의 증기압 유지에 바람직하다. 이에 따라, 장치가 위치하는 주변 온도(일 예로, 상온)과 동일한 온도의 열전달매체가 공급될 수 있음은 물론이다.
장치의 구동이 멈출 때, 상기 제어부(600)는 상기 캐리어 가스의 공급을 중단하여, 유기금속화합물 함유 가스의 생성을 중지한 후, 상기 열매체공간의 압력이 상기 원료용기 내부 압력보다 높도록 제어할 수 있다.
구체적으로, 캐리어 가스의 공급 중단은 캐리어 가스 배출관이 열려 있거나, 닫혀있는 상태에서 수행될 수 있는데, 캐리어 가스 배출관이 증착장비등과 연결되어, 배출되는 혼합가스를 증착 장비등에 공급함에 따라, 증착 장비등 본 장비와 연동되어 작동하는 장비에 원하지 않는 영향을 미치는 것을 방지하기 위해, 캐리어 가스 배출관을 먼저 닫은 후, 캐리어 가스 공급관을 통한 캐리어 가스의 공급을 중단하거나, 캐리어 가스 공급관과 배출관을 동시에 닫음으로써, 캐리어 가스의 공급을 중단할 수 있다.
캐리어 가스 공급이 중단되면, 원료용기(200) 내부는 일정한 압력 상태가 되는데, 이러한 압력은 원료용기(200)의 크기, 원료용기(200)에 잔류하는 고상의 유기금속화합물의 양, 원료용기(200)의 온도, 목적하는 혼합 가스 내 유기금속화합물의 농도 및 혼합가스의 유속등에 의해 달라질 수 있다.
제어부(600)는 캐리어 가스 공급이 중단된 후, 원료용기(200)에 형성된 주름이 보다 원활하고 빠르게 접힐 수 있도록, 열매체공간에 담겨진 열전달매체에 의한 압력을 원료용기(200) 내부 압력보다 크도록 상승시킬 수 있다. 상세하게, 열매체 배출관의 배출 유속을 감소시키거나, 열매체 배출관을 닫은 후, 열매체 공급관을 통해 열매체를 공급함으로써 원료용기(200)에 압력을 가할 수 있다. 다른 방법으로, 제어부(600)는 열매체 배출관을 통해 배출되는 열전달 매체의 유속은 작동상태와 동일하게 유지하되, 열매체 공급관을 통해 공급되는 열전달 매체의 유속을 상승시킴으로써, 원료용기(200)에 압력을 가할 수 있다.
구체적으로, 열전달매체에 의한 열매체공간의 압력 상승에 의해, 캐리어 가스 공급이 중단된 후, 주름 접힘에 의한 원료용기의 수축이 보다 빠르고 효과적으로 이루어질 수 있다. 이러한 압력 상승은 캐리어 가스 공급이 중단된 직후 일정 시간 동안만 유지되면 무방하며, 구체적인 일 예로, 1 내지 5초의 극히 짧은 순간동안 압력 상승이 이루어져도 무방하다.
제어부(600)는 상술한 압력 상승이 이루어진 후, 열매체 공급관을 통한 열전달매체의 공급을 중단하고, 열매체 배출관을 통해 열매체공간에 잔류하는 열전달매체를 장치 외부로 배출할 수 있다.
장치가 구동 중일 때, 즉, 캐리어 가스 배출관(400)을 통해 기상의 유기금속화합물을 함유하는 가스가 배출될 때, 제어부(600)는 열전달매체로 채워진 열매체 공간이 상압 상태를 유지하도록 제어할 수 있음은 물론이다.
또한, 장치의 구동이 장시간 동안 진행되는 경우, 원료 용기(200)에 장시간 동안 캐리어 가스가 공급됨에 따라, 미세 유로가 형성될 수 있는 위험이 있다. 이러한 미세 유로는 장치의 구동이 멈출 때 원료 용기의 변형에 의해 발생하는 물리적 충격에 의해 제거될 수 있으나, 이를 보다 효과적으로 제거하기 위해, 제어부(600)는 장치의 구동 중, 일정 시간 간격으로, 열전달매체 공급 유속 및/또는 열전달매체 배출 유속을 조절하여, 열전달매체로 채워진 열매체 공간의 압력이 원료용기 내부의 압력보다 순간적으로 높아지도록 제어할 수 있음은 물론이다. 선택적으로, 이러한 압력 제어를 보다 정밀하게 수행하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급장치는 원료용기 내부의 압력을 측정하여 제어부에 측정값을 제공하는 제1압력측정수단 및 열매체공간의 압력을 측정하여 제어부에 측정값을 제공하는 제2압력측정수단을 더 포함할 수 있음은 물론이다.
이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (8)

  1. 내부 수용 공간을 갖는 케이스;
    상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기;
    상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관;
    상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;
    상기 케이스와 상기 원료용기 사이 공간이며, 상기 원료용기의 온도를 조절하는 열전달매체가 수용되는 열매체공간;
    기상 또는 액상인 상기 열전달매체를 상기 열매체공간에 각각 공급 및 배출하는 열매체 공급관과 열매체 배출관;
    상기 캐리어 가스 및 상기 열전달매체의 각각의 공급여부 및 공급 유속을 제어하는 제어부; 및
    상기 원료용기 내부의 압력을 측정하여 상기 제어부에 측정값을 제공하는 제1압력측정수단과 상기 열매체공간의 압력을 측정하여 제어부에 측정값을 제공하는 제2압력측정수단;
    을 포함하며,
    상기 제어부는 상기 캐리어 가스의 공급이 중단될 때, 상기 열매체공간의 압력이 상기 원료용기 내부 압력보다 높도록 제어하는 유기금속화합물 가스 공급장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 원료용기는 공급되는 상기 캐리어 가스에 의해 상기 주름이 펼쳐짐으로써 팽창되고, 상기 캐리어 가스가 공급되지 않을 때 상기 열전달매체에 의해 수축되는 유기금속화합물 가스 공급장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 주름은 상기 원료 용기의 하부에서 상부로의 높이 방향을 따라 형성된 유기금속화합물 가스 공급장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 원료 용기는 일 단이 상기 캐리어 가스 공급관과 연결되고, 다른 일 단이 상기 캐리어 가스 배출관과 연결된 밀폐형 주름관인 유기금속화합물 가스 공급장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 캐리어 가스 배출관은 주름관인 유기금속화합물 가스 공급장치.
  7. 삭제
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 원료 용기는 금속 또는 고분자인 유기금속화합물 가스 공급장치.
KR1020130013366A 2013-02-06 2013-02-06 유기금속화합물 가스 공급 장치 KR101412507B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130013366A KR101412507B1 (ko) 2013-02-06 2013-02-06 유기금속화합물 가스 공급 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130013366A KR101412507B1 (ko) 2013-02-06 2013-02-06 유기금속화합물 가스 공급 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101412507B1 true KR101412507B1 (ko) 2014-06-26

Family

ID=51134571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130013366A KR101412507B1 (ko) 2013-02-06 2013-02-06 유기금속화합물 가스 공급 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101412507B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021044385A (ja) * 2019-09-11 2021-03-18 東京エレクトロン株式会社 熱媒体循環システム及び基板処理装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05117861A (ja) * 1991-10-28 1993-05-14 Tokyo Electron Sagami Ltd ガス流通用継手および熱処理装置
JP2004111621A (ja) * 2002-09-18 2004-04-08 Fujitsu Ltd Ｍｏｃｖｄ装置
KR20100063694A (ko) * 2007-09-28 2010-06-11 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 원료 가스의 공급 시스템 및 성막 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05117861A (ja) * 1991-10-28 1993-05-14 Tokyo Electron Sagami Ltd ガス流通用継手および熱処理装置
JP2004111621A (ja) * 2002-09-18 2004-04-08 Fujitsu Ltd Ｍｏｃｖｄ装置
KR20100063694A (ko) * 2007-09-28 2010-06-11 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 원료 가스의 공급 시스템 및 성막 장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021044385A (ja) * 2019-09-11 2021-03-18 東京エレクトロン株式会社 熱媒体循環システム及び基板処理装置
JP7273665B2 (ja) 2019-09-11 2023-05-15 東京エレクトロン株式会社 熱媒体循環システム及び基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10844484B2 (en) Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
TWI785728B (zh) 固體源化學物質汽化器以及用於在多腔室沈積模組中傳遞汽化前驅體的方法
KR100505670B1 (ko) 부산물 제거용 고온 유체 공급 장치를 구비한 반도체 소자제조 장치
US8162298B2 (en) Method for vaporizing liquid material capable of vaporizing liquid material at low temperature and vaporizer using the same
EP1747302B1 (en) Bubbler for constant vapor delivery of a solid chemical
JP4324619B2 (ja) 気化装置、成膜装置及び気化方法
JP5702657B2 (ja) 熱処理装置
KR20150027805A (ko) Ald 코팅 시스템
US20110180002A1 (en) Vaporizer and deposition system using the same
US8465587B2 (en) Modern hydride vapor-phase epitaxy system and methods
JP4534175B2 (ja) 基板の製造方法
CN104120407B (zh) 一种用于化学气相沉积液体原料汽化供给装置与使用方法
JP2019087616A (ja) 窒化物半導体製造装置および製造方法
KR101412507B1 (ko) 유기금속화합물 가스 공급 장치
KR101585054B1 (ko) 액상 전구체 공급장치
KR101128348B1 (ko) 기화기
TW202112611A (zh) 固體源化學品中間填充容器
KR20210032279A (ko) 반응물 증발 시스템용 가열 구역 분리
JP2008218760A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置
TW202338141A (zh) 前驅物遞送系統
JP2013028854A (ja) 固体材料ガスの供給装置および供給方法
JP2004349492A (ja) 窒化物の気相成長装置
JP2004327534A (ja) 有機金属原料気相成長装置
JP7115688B2 (ja) 成膜装置及び半導体装置の製造方法
JP6955260B2 (ja) 気体供給装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170308

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180409

Year of fee payment: 5