JPH05117861A - ガス流通用継手および熱処理装置 - Google Patents
ガス流通用継手および熱処理装置Info
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- JPH05117861A JPH05117861A JP3307195A JP30719591A JPH05117861A JP H05117861 A JPH05117861 A JP H05117861A JP 3307195 A JP3307195 A JP 3307195A JP 30719591 A JP30719591 A JP 30719591A JP H05117861 A JPH05117861 A JP H05117861A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 第１の目的は、耐熱性、耐リーク性が優れ、
しかも結露や不要堆積物の発生を有効に防止することが
できるガス流通用継手を提供することにある。第２の目
的は、処理ガスを円滑に流通させることができて、効率
的な熱処理を行うことができる熱処理装置を提供するこ
とにある。 【構成】 ガス流通用継手は、抵抗発熱材料により構成
された伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなることを
特徴とする。熱処理装置は、処理容器と、ガス供給部お
よび／またはガス排気部と、処理容器とガス供給部およ
び／またはガス排気部とを連結するガス流通用継手とを
備えた熱処理装置において、前記ガス流通用継手が、抵
抗発熱材料により構成された伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状
の管体からなることを特徴とする。
しかも結露や不要堆積物の発生を有効に防止することが
できるガス流通用継手を提供することにある。第２の目
的は、処理ガスを円滑に流通させることができて、効率
的な熱処理を行うことができる熱処理装置を提供するこ
とにある。 【構成】 ガス流通用継手は、抵抗発熱材料により構成
された伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなることを
特徴とする。熱処理装置は、処理容器と、ガス供給部お
よび／またはガス排気部と、処理容器とガス供給部およ
び／またはガス排気部とを連結するガス流通用継手とを
備えた熱処理装置において、前記ガス流通用継手が、抵
抗発熱材料により構成された伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状
の管体からなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス流通用継手および
熱処理装置に関する。
熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体デバイスの製造において
は、半導体ウエハの酸化・拡散処理、ＣＶＤ処理等の各
種の熱処理が行われる。このような熱処理に用いられる
熱処理装置は、従来、石英等の耐熱性材料からなる円筒
状の処理容器を囲むように筒状のヒーターが配置され、
その外側に筒状の保温材が設けられて構成されている。
処理容器には、ガス供給部と連結するための石英ガラス
製のガス導入管と、ガス排気部と連結するための石英ガ
ラス製のガス排気管が設けられている。
は、半導体ウエハの酸化・拡散処理、ＣＶＤ処理等の各
種の熱処理が行われる。このような熱処理に用いられる
熱処理装置は、従来、石英等の耐熱性材料からなる円筒
状の処理容器を囲むように筒状のヒーターが配置され、
その外側に筒状の保温材が設けられて構成されている。
処理容器には、ガス供給部と連結するための石英ガラス
製のガス導入管と、ガス排気部と連結するための石英ガ
ラス製のガス排気管が設けられている。
【０００３】このような熱処理装置においては、処理容
器内に半導体ウエハが配置されて、各種の熱処理が行わ
れる。例えば半導体ウエハのウエット酸化処理では、処
理ガスとして水蒸気（Ｈ2 Ｏ）が用いられ、ＨＣｌ酸化
処理では、処理ガスとして塩化水素（ＨＣｌ）が用いら
れる。これらの熱処理においては、熱処理中は排気が継
続されて所定の圧力に減圧された処理容器内に、所定の
処理ガスが導入されて半導体ウエハの処理が行われる。
熱処理終了後は、処理容器内に窒素等の不活性ガスが導
入されて前記処理ガスが排気される。従って、処理容器
とガス供給部およびガス排気部との接続部は、リークが
生じないように十分なシールを行うことが必要とされ
る。そのため、従来では、Ｏリング、テフロンパイプ、
石英管等を用いてかかるシールを行っていた。
器内に半導体ウエハが配置されて、各種の熱処理が行わ
れる。例えば半導体ウエハのウエット酸化処理では、処
理ガスとして水蒸気（Ｈ2 Ｏ）が用いられ、ＨＣｌ酸化
処理では、処理ガスとして塩化水素（ＨＣｌ）が用いら
れる。これらの熱処理においては、熱処理中は排気が継
続されて所定の圧力に減圧された処理容器内に、所定の
処理ガスが導入されて半導体ウエハの処理が行われる。
熱処理終了後は、処理容器内に窒素等の不活性ガスが導
入されて前記処理ガスが排気される。従って、処理容器
とガス供給部およびガス排気部との接続部は、リークが
生じないように十分なシールを行うことが必要とされ
る。そのため、従来では、Ｏリング、テフロンパイプ、
石英管等を用いてかかるシールを行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、熱処理装置で
は、熱処理の種類によっても異なるが、通常、処理容器
内が約９００℃から１２００℃の高温に加熱される工程
が多いので、処理容器とガス供給部およびガス排気部と
の接合部の温度は数百度（℃）もの高温となる。従っ
て、Ｏリングを用いてシールする手段では、Ｏリングは
柔軟な部材でフッソゴム等からなるものであるため、一
般に耐熱温度が２００℃前後であり、Ｏリングがこの温
度以上になると溶けて変形し、十分なシール効果が得ら
れなくなる問題がある。一方、Ｏリングの近傍に冷却機
構を設けて冷却する手段も考えられるが、この手段で
は、冷却部分に残留処理ガスが堆積し、パーティクルが
発生するという問題が発生し、また、装置の構造が大型
化、複雑化する問題がある。
は、熱処理の種類によっても異なるが、通常、処理容器
内が約９００℃から１２００℃の高温に加熱される工程
が多いので、処理容器とガス供給部およびガス排気部と
の接合部の温度は数百度（℃）もの高温となる。従っ
て、Ｏリングを用いてシールする手段では、Ｏリングは
柔軟な部材でフッソゴム等からなるものであるため、一
般に耐熱温度が２００℃前後であり、Ｏリングがこの温
度以上になると溶けて変形し、十分なシール効果が得ら
れなくなる問題がある。一方、Ｏリングの近傍に冷却機
構を設けて冷却する手段も考えられるが、この手段で
は、冷却部分に残留処理ガスが堆積し、パーティクルが
発生するという問題が発生し、また、装置の構造が大型
化、複雑化する問題がある。
【０００５】また、テフロンパイプを用いてシールする
手段では、テフロンパイプでは経時変化により処理ガス
がリークする問題がある。特に、ＨＣｌ酸化処理では腐
食性ガスであるＨＣｌを使用するので、リークが発生す
ると周辺部材が損傷する問題が発生する。また、特に、
ウエット酸化処理では、テフロンパイプ内で結露が生ず
るとＨ2 Ｏの流量が減少するので、半導体ウエハに損傷
を与える問題がある。これに対して、テフロンパイプの
外表面にテープヒーターを設けて加熱する手段を採用す
ることも考えられるが、この場合は取扱いがめんどうで
あり、また、テープヒーターの耐熱性が約１７０°程度
と低いため、高温処理には不都合である問題がある。
手段では、テフロンパイプでは経時変化により処理ガス
がリークする問題がある。特に、ＨＣｌ酸化処理では腐
食性ガスであるＨＣｌを使用するので、リークが発生す
ると周辺部材が損傷する問題が発生する。また、特に、
ウエット酸化処理では、テフロンパイプ内で結露が生ず
るとＨ2 Ｏの流量が減少するので、半導体ウエハに損傷
を与える問題がある。これに対して、テフロンパイプの
外表面にテープヒーターを設けて加熱する手段を採用す
ることも考えられるが、この場合は取扱いがめんどうで
あり、また、テープヒーターの耐熱性が約１７０°程度
と低いため、高温処理には不都合である問題がある。
【０００６】一方、石英管のみでシールする手段では、
寸法精度の相違等から十分なシールが困難であるため、
処理ガスのリークが発生しやすい問題がある。そこで、
本発明の第１の目的は、耐熱性、耐リーク性が優れ、し
かも結露や不要堆積物の発生を有効に防止することがで
きるガス流通用継手を提供することにある。本発明の第
２の目的は、処理ガスを円滑に流通させることができ
て、効率的な熱処理を行うことができる熱処理装置を提
供することにある。
寸法精度の相違等から十分なシールが困難であるため、
処理ガスのリークが発生しやすい問題がある。そこで、
本発明の第１の目的は、耐熱性、耐リーク性が優れ、し
かも結露や不要堆積物の発生を有効に防止することがで
きるガス流通用継手を提供することにある。本発明の第
２の目的は、処理ガスを円滑に流通させることができ
て、効率的な熱処理を行うことができる熱処理装置を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
め、本発明のガス流通用継手は、抵抗発熱材料により構
成された伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなること
を特徴とする。本発明の熱処理装置は、処理容器と、ガ
ス供給部および／またはガス排気部と、これらを連結す
るガス流通用継手とを備えた熱処理装置において、前記
ガス流通用継手が、抵抗発熱材料により構成された伸縮
かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなることを特徴とす
る。前記抵抗発熱材料が、炭化ケイ素（ＳｉＣ）である
ことを特徴とする。
め、本発明のガス流通用継手は、抵抗発熱材料により構
成された伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなること
を特徴とする。本発明の熱処理装置は、処理容器と、ガ
ス供給部および／またはガス排気部と、これらを連結す
るガス流通用継手とを備えた熱処理装置において、前記
ガス流通用継手が、抵抗発熱材料により構成された伸縮
かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなることを特徴とす
る。前記抵抗発熱材料が、炭化ケイ素（ＳｉＣ）である
ことを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明のガス流通用継手は、抵抗発熱材料によ
り構成されているので、通電することにより自己発熱
し、ガス流通用継手の温度がある程度高く維持される。
従って、ガスの結露や不要堆積物の発生を十分に防止す
ることができる。また、耐熱性も高い。また、本発明の
ガス流通用継手は、伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体か
らなるので、接続部の寸法精度にバラツキがあってもリ
ークが生じないように十分な接続を容易に達成すること
ができる。また、本発明の熱処理装置によれば、上記の
効果を有するガス流通用継手を用いるため、被処理体に
悪影響を及ぼす結露を防止することができ、腐食性ガス
等のリークを十分に防止することができ、従って、処理
容器内に処理ガスを円滑に供給することができ、被処理
体を効率的に熱処理することができる。また、ガス流通
用継手の耐熱性が高いため、高温の熱処理もリークを生
ぜず安定に行うことができる。
り構成されているので、通電することにより自己発熱
し、ガス流通用継手の温度がある程度高く維持される。
従って、ガスの結露や不要堆積物の発生を十分に防止す
ることができる。また、耐熱性も高い。また、本発明の
ガス流通用継手は、伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体か
らなるので、接続部の寸法精度にバラツキがあってもリ
ークが生じないように十分な接続を容易に達成すること
ができる。また、本発明の熱処理装置によれば、上記の
効果を有するガス流通用継手を用いるため、被処理体に
悪影響を及ぼす結露を防止することができ、腐食性ガス
等のリークを十分に防止することができ、従って、処理
容器内に処理ガスを円滑に供給することができ、被処理
体を効率的に熱処理することができる。また、ガス流通
用継手の耐熱性が高いため、高温の熱処理もリークを生
ぜず安定に行うことができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 〔実施例１〕本実施例では、ガス流通用継手について説
明する。図１は本実施例のガス流通用継手の概略断面図
である。１は蛇腹状の管体、２は一方のガス流通管、３
は他方のガス流通管、４１は締結部材、４２は固定片、
４３はシール材、４４はリード線、４５は加熱用電源部
である。このガス流通用継手は、抵抗発熱材料により構
成され、伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体１からなる。
抵抗発熱材料としては、炭化ケイ素（ＳｉＣ）を好まし
く用いることができる。ＳｉＣは、熱膨張係数が小さ
く、耐熱性に優れており、ガス透過性が低いという利点
がある。また、ＨＣｌ等の腐食性ガスに対しても優れた
耐腐食性を示す点で好ましいものである。
明する。図１は本実施例のガス流通用継手の概略断面図
である。１は蛇腹状の管体、２は一方のガス流通管、３
は他方のガス流通管、４１は締結部材、４２は固定片、
４３はシール材、４４はリード線、４５は加熱用電源部
である。このガス流通用継手は、抵抗発熱材料により構
成され、伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体１からなる。
抵抗発熱材料としては、炭化ケイ素（ＳｉＣ）を好まし
く用いることができる。ＳｉＣは、熱膨張係数が小さ
く、耐熱性に優れており、ガス透過性が低いという利点
がある。また、ＨＣｌ等の腐食性ガスに対しても優れた
耐腐食性を示す点で好ましいものである。
【００１０】管体１は、例えば次のようにして製造する
ことができる。 （１）まず、例えばカーボンにより蛇腹状の管状の基体
を作製する。 （２）この基体の表面に、例えばＣＶＤ法によりＳｉＣ
の堆積膜を形成する。このＳｉＣの堆積膜の厚さは、最
終的に得られる蛇腹状の管体の強度を考慮すると、０．
１〜０．５μｍの範囲が好ましい。 （３）表面にＳｉＣの堆積膜を形成した基体を、例えば
加熱炉の中に入れて、温度８００〜１０００℃程度で加
熱処理することにより、内面のカーボンからなる基体の
みを燃焼させて除去する。 このようにして得られた蛇腹状の管体は、ＳｉＣのみか
らなるものとなる。
ことができる。 （１）まず、例えばカーボンにより蛇腹状の管状の基体
を作製する。 （２）この基体の表面に、例えばＣＶＤ法によりＳｉＣ
の堆積膜を形成する。このＳｉＣの堆積膜の厚さは、最
終的に得られる蛇腹状の管体の強度を考慮すると、０．
１〜０．５μｍの範囲が好ましい。 （３）表面にＳｉＣの堆積膜を形成した基体を、例えば
加熱炉の中に入れて、温度８００〜１０００℃程度で加
熱処理することにより、内面のカーボンからなる基体の
みを燃焼させて除去する。 このようにして得られた蛇腹状の管体は、ＳｉＣのみか
らなるものとなる。
【００１１】蛇腹状の管体１の長さは、例えば５０〜２
００ｍｍ程度である。また、蛇腹状の管体１の内径は、
例えば２０〜３０ｍｍ程度である。また、蛇腹状の管体
１は、最短を１００とすると、最長１２０程度まで伸縮
することが可能である。従って、急激な温度変化に対し
ても伸縮を十分に吸収することができ、連結部に無理な
力が作用するおそれがない。また、蛇腹状の管体１は、
両端の開口面が平行に揃った位置から、３〜５°の範囲
で曲げることが可能である。従って、蛇腹状の管体１を
取付ける作業においては、ガス流通管２および３との位
置合わせが容易となり、接続部の寸法精度にバラツキが
あっても十分なシールを確実に達成することができ、ガ
ス流通用継手の交換等のメンテナンスのうえでもきわめ
て便利となる。また、熱サイクルによる接続部における
位置ズレも防止することができるため、十分なシールが
確保される。
００ｍｍ程度である。また、蛇腹状の管体１の内径は、
例えば２０〜３０ｍｍ程度である。また、蛇腹状の管体
１は、最短を１００とすると、最長１２０程度まで伸縮
することが可能である。従って、急激な温度変化に対し
ても伸縮を十分に吸収することができ、連結部に無理な
力が作用するおそれがない。また、蛇腹状の管体１は、
両端の開口面が平行に揃った位置から、３〜５°の範囲
で曲げることが可能である。従って、蛇腹状の管体１を
取付ける作業においては、ガス流通管２および３との位
置合わせが容易となり、接続部の寸法精度にバラツキが
あっても十分なシールを確実に達成することができ、ガ
ス流通用継手の交換等のメンテナンスのうえでもきわめ
て便利となる。また、熱サイクルによる接続部における
位置ズレも防止することができるため、十分なシールが
確保される。
【００１２】締結部材４１は、例えばナットと蝶ボルト
とにより構成され、固定片４２と一方のガス流通管２の
端部との間に蛇腹状の管体１の端部縁とシール材４３を
挟圧して固定している。他方のガス流通管３の側でも同
様に固定されている。締結部材４１は、絶縁性を得るた
めに、例えば快削性ガラス等の絶縁性ガラスにより構成
されるか、または表面が絶縁性材料にコーティングされ
たものが好ましい。固定片４２は、例えばＳｉＣからな
り、導電路を兼ねている。シール材４３は、例えばＳｉ
Ｃの繊維からなり、一方のガス流通管２および他方のガ
ス流通管３との連結部におけるリークを十分に防止する
ものである。すなわち、蛇腹状の管体１は、定期的に洗
浄されるが、この洗浄工程においては、蛇腹状の管体１
の表面がエッチング等によって変化し、リークしやすく
なる。そこで、このようなリークを防止するために、シ
ール材４３が設けられている。
とにより構成され、固定片４２と一方のガス流通管２の
端部との間に蛇腹状の管体１の端部縁とシール材４３を
挟圧して固定している。他方のガス流通管３の側でも同
様に固定されている。締結部材４１は、絶縁性を得るた
めに、例えば快削性ガラス等の絶縁性ガラスにより構成
されるか、または表面が絶縁性材料にコーティングされ
たものが好ましい。固定片４２は、例えばＳｉＣからな
り、導電路を兼ねている。シール材４３は、例えばＳｉ
Ｃの繊維からなり、一方のガス流通管２および他方のガ
ス流通管３との連結部におけるリークを十分に防止する
ものである。すなわち、蛇腹状の管体１は、定期的に洗
浄されるが、この洗浄工程においては、蛇腹状の管体１
の表面がエッチング等によって変化し、リークしやすく
なる。そこで、このようなリークを防止するために、シ
ール材４３が設けられている。
【００１３】リード線４４は、ＳｉＣからなる固定片４
２を介して締結部材４１により蛇腹状の管体１に電気的
に接続されている。このリード線４４は、取付けおよび
取外し自在となっており、蛇腹状の管体１を定期的に洗
浄する際には、リード線４４を取外すことができるの
で、邪魔になるおそれがない。リード線４４の両端には
加熱用電源部４５により例えば数Ｖ（１〜２Ｖ）の交流
が印加されて、蛇腹状の管体１に例えば１０〜２０Ａ程
度の電流が供給され、これにより蛇腹状の管体１は自己
発熱し、通電中は、蛇腹状の管体１の温度が例えば１０
０〜２５０℃の範囲に維持されて、流通ガスの結露や不
要堆積物の発生が防止される。蛇腹状の管体１の温度
は、流通するガスの種類によっても異なり、一概に規定
することはできないが、例えば水蒸気の場合は１１０〜
１２０℃の範囲とされる。
２を介して締結部材４１により蛇腹状の管体１に電気的
に接続されている。このリード線４４は、取付けおよび
取外し自在となっており、蛇腹状の管体１を定期的に洗
浄する際には、リード線４４を取外すことができるの
で、邪魔になるおそれがない。リード線４４の両端には
加熱用電源部４５により例えば数Ｖ（１〜２Ｖ）の交流
が印加されて、蛇腹状の管体１に例えば１０〜２０Ａ程
度の電流が供給され、これにより蛇腹状の管体１は自己
発熱し、通電中は、蛇腹状の管体１の温度が例えば１０
０〜２５０℃の範囲に維持されて、流通ガスの結露や不
要堆積物の発生が防止される。蛇腹状の管体１の温度
は、流通するガスの種類によっても異なり、一概に規定
することはできないが、例えば水蒸気の場合は１１０〜
１２０℃の範囲とされる。
【００１４】〔実施例２〕本実施例では、実施例１のガ
ス流通用継手を備えた熱処理装置について説明する。図
２は、半導体ウエハのウエット酸化処理またはＨＣｌ酸
化処理を行うための熱処理装置の一例を示すものであ
る。１１はガス供給側の蛇腹状の管体、１２はガス排気
側の蛇腹状の管体、５は処理容器、６１はガス供給管、
６２はガス導入管、７１はガス導出管、７２はガス排気
管、６３は外部燃焼室、７３は減圧ポンプである。な
お、締結部材、シール材、リード線、加熱用電源部等は
図示を省略したが、ガス供給側の蛇腹状の管体１１およ
びガス排気側の蛇腹状の管体１２は、いずれも図１と同
様の構成である。
ス流通用継手を備えた熱処理装置について説明する。図
２は、半導体ウエハのウエット酸化処理またはＨＣｌ酸
化処理を行うための熱処理装置の一例を示すものであ
る。１１はガス供給側の蛇腹状の管体、１２はガス排気
側の蛇腹状の管体、５は処理容器、６１はガス供給管、
６２はガス導入管、７１はガス導出管、７２はガス排気
管、６３は外部燃焼室、７３は減圧ポンプである。な
お、締結部材、シール材、リード線、加熱用電源部等は
図示を省略したが、ガス供給側の蛇腹状の管体１１およ
びガス排気側の蛇腹状の管体１２は、いずれも図１と同
様の構成である。
【００１５】ウエット酸化処理を行う場合には、外部燃
焼室６３に、酸素と水素が導入され、ここで両者が反応
して水蒸気が生成される。この水蒸気は、蛇腹状の管体
１内を通過して、処理容器５に供給される。ガス供給側
の蛇腹状の管体１１は、加熱用電源部により通電されて
昇温しているので、水蒸気が結露するおそれはない。従
って、外部燃焼室６３に供給するＨ2 およびＯ2 の供給
量のコントロールが容易となる。処理容器５内で、被処
理体である半導体ウエハがウエット酸化処理される。そ
して、半導体ウエハの周辺を通過したガスは、ガス導出
管７１を介してガス排気側の蛇腹状の管体１２を通過
し、ガス排気管７２から外部に排気される。ガス排気管
７２の内部は、減圧ポンプ７３により数Ｔｏｒｒ程度の
減圧とされる。このガス排気側の蛇腹状の管体１２も、
加熱用電源部により通電されて昇温しているので、排気
ガス中の水蒸気等が結露して管体１２の内壁に付着する
おそれがない。従って、効率的な排気を達成することが
できる。
焼室６３に、酸素と水素が導入され、ここで両者が反応
して水蒸気が生成される。この水蒸気は、蛇腹状の管体
１内を通過して、処理容器５に供給される。ガス供給側
の蛇腹状の管体１１は、加熱用電源部により通電されて
昇温しているので、水蒸気が結露するおそれはない。従
って、外部燃焼室６３に供給するＨ2 およびＯ2 の供給
量のコントロールが容易となる。処理容器５内で、被処
理体である半導体ウエハがウエット酸化処理される。そ
して、半導体ウエハの周辺を通過したガスは、ガス導出
管７１を介してガス排気側の蛇腹状の管体１２を通過
し、ガス排気管７２から外部に排気される。ガス排気管
７２の内部は、減圧ポンプ７３により数Ｔｏｒｒ程度の
減圧とされる。このガス排気側の蛇腹状の管体１２も、
加熱用電源部により通電されて昇温しているので、排気
ガス中の水蒸気等が結露して管体１２の内壁に付着する
おそれがない。従って、効率的な排気を達成することが
できる。
【００１６】また、ＨＣｌ酸化処理を行う場合には、外
部から供給されたＨＣｌガスが蛇腹状の管体１内を通過
して、処理容器５に供給される。ガス供給側の蛇腹状の
管体１１は十分なシールがなされているので、腐食性ガ
スであるＨＣｌガスが外部にリークするおそれがなく、
周辺部材の損傷を防止することができる。また、ガス排
気側の蛇腹状の管体１２においても十分なシールがなさ
れているので、同様にリークの問題が発生するおそれが
ない。
部から供給されたＨＣｌガスが蛇腹状の管体１内を通過
して、処理容器５に供給される。ガス供給側の蛇腹状の
管体１１は十分なシールがなされているので、腐食性ガ
スであるＨＣｌガスが外部にリークするおそれがなく、
周辺部材の損傷を防止することができる。また、ガス排
気側の蛇腹状の管体１２においても十分なシールがなさ
れているので、同様にリークの問題が発生するおそれが
ない。
【００１７】本発明の熱処理装置は、熱処理の種類は特
に限定されず、ウエット酸化処理、ＨＣｌ酸化処理のほ
か、ドライ酸化処理、ＣＶＤ処理、エッチング処理、Ｌ
ＣＤの熱処理、ＴＦＴの成膜処理等の各種の熱処理に適
用することができる。
に限定されず、ウエット酸化処理、ＨＣｌ酸化処理のほ
か、ドライ酸化処理、ＣＶＤ処理、エッチング処理、Ｌ
ＣＤの熱処理、ＴＦＴの成膜処理等の各種の熱処理に適
用することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス流通
用継手によれば、耐熱性、耐リーク性が優れ、しかも結
露や不要堆積物の発生を有効に防止することができる。
また、本発明の熱処理装置によれば、処理ガスを円滑に
流通させることができて、効率的な熱処理を行うことが
できる。
用継手によれば、耐熱性、耐リーク性が優れ、しかも結
露や不要堆積物の発生を有効に防止することができる。
また、本発明の熱処理装置によれば、処理ガスを円滑に
流通させることができて、効率的な熱処理を行うことが
できる。
【図１】本発明のガス流通用継手の実施例の説明図であ
る。
る。
【図２】本発明の熱処理装置の実施例の説明図である。
１ 蛇腹状の管体 ２ 一方の
ガス流通管 ３ 他方のガス流通管 ４１ 締結部
材 ４２ 固定片 ４３ シール
材 ４４ リード線 ４５ 加熱用
電源部 １１ ガス供給側の蛇腹状の管体 １２ ガス排
気側の蛇腹状の管体 ５ 処理容器 ６１ ガス供
給管 ６２ ガス導入管 ７１ ガス導
出管 ７２ ガス排気管 ６３ 外部燃
焼室 ７３ 減圧ポンプ
ガス流通管 ３ 他方のガス流通管 ４１ 締結部
材 ４２ 固定片 ４３ シール
材 ４４ リード線 ４５ 加熱用
電源部 １１ ガス供給側の蛇腹状の管体 １２ ガス排
気側の蛇腹状の管体 ５ 処理容器 ６１ ガス供
給管 ６２ ガス導入管 ７１ ガス導
出管 ７２ ガス排気管 ６３ 外部燃
焼室 ７３ 減圧ポンプ
Claims (4)
- 【請求項１】 抵抗発熱材料により構成された伸縮かつ
曲げ自在の蛇腹状の管体からなることを特徴とするガス
流通用継手。 - 【請求項２】 請求項１の抵抗発熱材料が、炭化ケイ素
（ＳｉＣ）であることを特徴とするガス流通用継手。 - 【請求項３】 処理容器と、ガス供給部および／または
ガス排気部と、処理容器とガス供給部および／またはガ
ス排気部とを連結するガス流通用継手とを備えた熱処理
装置において、 前記ガス流通用継手が、抵抗発熱材料により構成された
伸縮かつ曲げ自在の蛇腹状の管体からなることを特徴と
する熱処理装置。 - 【請求項４】 請求項３の抵抗発熱材料が、炭化ケイ素
（ＳｉＣ）であることを特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3307195A JPH05117861A (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | ガス流通用継手および熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3307195A JPH05117861A (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | ガス流通用継手および熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05117861A true JPH05117861A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17966188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3307195A Withdrawn JPH05117861A (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | ガス流通用継手および熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05117861A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101412507B1 (ko) * | 2013-02-06 | 2014-06-26 | 공주대학교 산학협력단 | 유기금속화합물 가스 공급 장치 |
-
1991
- 1991-10-28 JP JP3307195A patent/JPH05117861A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101412507B1 (ko) * | 2013-02-06 | 2014-06-26 | 공주대학교 산학협력단 | 유기금속화합물 가스 공급 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |