KR101006676B1 - 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 - Google Patents
하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (5)
- 묘화할 때의 하전 입자 빔을 시료에 조사하는 샷의 샷수가 서로 대략 동일해지는 사이즈로 묘화 영역을 복수의 제1 블록 영역으로 분할하는 제1 블록 영역 분할부와,상기 묘화 영역을 상기 제1 블록 영역의 어느 것보다도 작은 소정의 사이즈로 메쉬 형상으로 가상 분할된 복수의 소영역을 이용하여, 상기 제1 블록 영역마다 내부에 위치하는 각 소영역의 패턴 면적 밀도를 계산하는 면적 밀도 계산부와,상기 복수의 제1 블록 영역으로 분할된 상기 묘화 영역을 다시 상기 소영역보다 큰 균일한 사이즈로 복수의 제2 블록 영역으로 분할하는 제2 블록 영역 분할부와,상기 제2 블록 영역마다 상기 제2 블록 영역 내부에 위치하는 각 소영역에 있어서의 근접 효과 보정 조사량을, 동일한 소영역에 있어서 이미 계산된 패턴 면적 밀도를 이용하여 계산하는 보정 조사량 계산부와,상기 묘화 영역이 메쉬 형상으로 가상 분할된 상기 각 소영역에 있어서의 하전 입자 빔의 빔 조사량을, 동일한 소영역에 있어서 이미 계산된 근접 효과 보정 조사량을 이용하여 계산하는 빔 조사량 계산부와,상기 묘화 영역이 메쉬 형상으로 가상 분할된 상기 소영역마다 계산된 빔 조사량으로 상기 하전 입자 빔을 조사하여 시료에 소정의 패턴을 묘화하는 묘화부를 구비한 것을 특징으로 하는, 하전 입자 빔 묘화 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 복수의 제2 블록 영역으로 분할된 상기 묘화 영역을 다시 상기 복수의 제1 블록 영역으로 재분할하는 제3 블록 영역 분할부를 더 구비하고,상기 빔 조사량 계산부는, 재분할된 상기 제1 블록 영역 내부에 위치하는 각 소영역의 상기 빔 조사량을 동일한 소영역에 있어서 이미 계산된 근접 효과 보정 조사량을 이용하여 계산하는 것을 특징으로 하는, 하전 입자 빔 묘화 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 면적 밀도 계산부는 상기 묘화 영역이 메쉬 형상으로 가상 분할된 상기 소영역마다의 패턴 면적 밀도 맵을 작성하고,상기 보정 조사량 계산부는, 상기 패턴 면적 밀도 맵으로부터 상기 근접 효과 보정 조사량을 계산하는 소영역의 패턴 면적 밀도를 참조하는 것을 특징으로 하는, 하전 입자 빔 묘화 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 보정 조사량 계산부는 상기 묘화 영역이 메쉬 형상으로 가상 분할된 상기 소영역마다의 근접 효과 보정 조사량 맵을 작성하고,상기 빔 조사량 계산부는 상기 근접 효과 보정 조사량 맵으로부터 상기 빔 조사량을 계산하는 소영역의 근접 효과 보정 조사량을 참조하는 것을 특징으로 하는, 하전 입자 빔 묘화 장치.
- 묘화할 때의 하전 입자 빔을 시료에 조사하는 샷의 샷수가 서로 대략 동일해지는 사이즈로 묘화 영역을 복수의 제1 블록 영역으로 분할하고,상기 묘화 영역을 상기 제1 블록 영역의 어느 것보다도 작은 소정의 사이즈로 메쉬 형상으로 가상 분할된 복수의 소영역을 이용하여 상기 제1 블록 영역마다 내부에 위치하는 각 소영역의 패턴 면적 밀도를 계산하고,상기 복수의 제1 블록 영역으로 분할된 상기 묘화 영역을 다시 상기 소영역보다 큰 균일한 사이즈로 복수의 제2 블록 영역으로 분할하고,상기 제2 블록 영역마다 상기 제2 블록 영역 내부에 위치하는 각 소영역에 있어서의 근접 효과 보정 조사량을, 동일한 소영역에 있어서 이미 계산된 패턴 면적 밀도를 이용하여 계산하고,상기 묘화 영역이 메쉬 형상으로 가상 분할된 상기 각 소영역에 있어서의 하전 입자 빔의 빔 조사량을, 동일한 소영역에 있어서 이미 계산된 근접 효과 보정 조사량을 이용하여 계산하고,상기 묘화 영역이 메쉬 형상으로 가상 분할된 상기 소영역마다 계산된 빔 조사량으로 상기 하전 입자 빔을 조사하여 시료에 소정의 패턴을 묘화하는 것을 특징으로 하는, 하전 입자 빔 묘화 방법.
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