KR100614071B1 - 검사 장치 및 검사 방법, 액체방울 토출 장치 및 액체방울토출 방법, 디바이스 및 전자 기기 - Google Patents

Abstract

본 발명의 검사 장치(30)는 검출광을 사출하는 투광부(31)와, 검출광이 조사되는 수광부(32)와, 검출광의 광로에 대해서 교차하는 방향으로 토출 헤드(1)를 이동시키는 이동 수단(4)을 구비하고 있다. 그리고, D : 상기 검출광의 광속의 직경, d : 상기 액체방울의 직경, L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격, H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리로 한 경우, D/2 + d/2 ≤ L, 또한 H ≤ D의 조건을 만족하도록 설정되어 있다.

액체방울 토출 장치, 토출 노즐, 토출 헤드, 검사 장치, 투광부, 수광부

Description

검사 장치 및 검사 방법, 액체방울 토출 장치 및 액체방울 토출 방법, 디바이스 및 전자 기기{TEST APPARATUS, TESTING METHOD, LIQUID DROP DISCHARGE APPARATUS, LIQUID DROP DISCHARGE METHOD, DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS}

도 1은 본 발명의 검사 장치를 구비한 액체방울 토출 장치의 일 실시형태를 나타내는 개략 사시도.

도 2는 토출 헤드를 나타내는 도면.

도 3은 토출 헤드를 나타내는 도면.

도 4는 검사 장치의 일 실시형태를 나타내는 개략 사시도.

도 5는 검사 장치의 검출광의 광로 상을 토출 헤드로부터 토출된 액체방울이 통과하는 모양을 나타내는 모식도.

도 6은 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 토출 헤드가 이동하는 거리를 설명하기 위한 모식도.

도 7은 검출광의 광속(光束)의 직경이 수광부의 계측 영역보다 큰 경우의 검출 동작의 일례를 나타내는 모식도.

도 8의 (a)∼도 8의 (f)는 디바이스로서의 컬러 필터의 제조 공정의 일례를 나타내는 도면.

도 9는 유기 EL 장치의 측단면도.

도 10은 플라즈마 디스플레이의 분해 사시도.

도 11은 패턴의 형성 방법을 설명하기 위한 플로차트.

도 12의 (a) 및 도 12의 (b)는 패턴의 형성 방법의 일례를 나타내는 모식도.

도 13의 (a) 및 도 13의 (b)는 패턴의 형성 방법의 일례를 나타내는 모식도.

도 14의 (a) 및 도 14의 (b)는 패턴의 형성 방법의 일례를 나타내는 모식도.

도 15의 (a)∼도 15의 (d)는 마이크로 렌즈의 제조 방법의 공정 설명도.

도 16의 (a) 및 도 16의 (b)는 화상 표시 장치의 전자원(電子源) 기판의 모식도.

도 17의 (a)∼도 17의 (c)는 화상 표시 장치의 제조 공정 설명도.

도 18의 (a)∼도 18의 (c)는 디바이스를 탑재한 전자 기기의 일례를 나타내는 도면.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 토출 헤드

4 : 이동 장치

11( 11A∼11C) : 토출 노즐

30 : 검사 장치

31 : 투광부

32 : 수광부

CONT : 제어장치

IJ : 액체방울 토출 장치

본 발명은 액상체(液狀體)의 액체방울을 토출할 수 있는 토출 노즐을 갖는 토출 헤드를 구비한 액체방울 토출 장치의 검사 장치와 검사 방법, 및 액체방울 토출 장치에 관한 것이다.

종래, 미세 패턴을 갖는 디바이스의 제조 방법으로서 포토리소그래피법이 많이 사용되고 있지만, 최근에 있어서, 액체방울 토출 방식을 이용한 디바이스의 제조 방법이 주목되고 있다. 이 기술은 기능성 재료를 포함한 액상체 재료를 액체방울 토출 장치의 토출 헤드로부터 토출하여 기판 상에 재료를 배치함으로써 패턴을 형성하는 것으로, 소량 다종 생산에 대응 가능하다는 점 등에 있어서 매우 유효하다. 액체방울 토출 장치의 액체방울 토출 방식으로서는 압전체 소자의 변형에 의해 액상체 재료의 액체방울을 토출시키는 피에조 제트 방식, 및 열의 인가에 의해 급격하게 증기가 발생함으로써 액상체 재료를 토출시키는 방식이 주로 알려져 있다.

토출 헤드는 복수의 토출 노즐을 갖고 있지만, 예를 들면 막힘 등의 원인으로 일부의 토출 노즐로부터 액상체가 토출되지 않는 경우가 있다. 액상체를 토출할 수 없는 토출 노즐(비동작 노즐)이 존재하면, 기판에 대해서 액체방울을 토출함으로써 도트 패턴을 형성할 때, 도트 누락이 발생한다. 일본국 특개평 11-78051호 공보에는, 프린터(인쇄 장치)에 관한 도트 누락 검출 방법(비동작 노즐 검출 방법) 에 관한 기술이 기재되어 있다. 이 기술은 포토 센서의 검출 영역을 통과하도록 잉크 노즐로부터 잉크방울을 토출하고, 포토 센서의 수광량의 저하에 기초하여, 잉크 노즐로부터 잉크방울이 토출되고 있는지의 여부를 판별하는 기술이다.

상기 종래 기술은 토출하는 잉크방울의 단위 시간당 토출량이나 토출 간격을 조정함으로써, 센서 감도를 높이지 않고 잉크 노즐로부터 잉크방울이 토출되고 있는지의 여부를 정확하게 검출할 수 있기 때문에 유효하지만, 다만 단지 토출량을 많이 설정하거나 토출 간격을 짧게 설정한 경우, 포토 센서에 의한 잉크방울의 검출이 정확하게 행해지지 않는 경우가 있다.

본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로써, 액체방울 토출 장치의 토출 노즐로부터 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사할 때, 검사를 정확하게 행할 수 있는 액체방울 토출 장치의 검사 장치 및 검사 방법, 및 액체방울 토출 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 제 1 태양은 토출 헤드에 설치된 토출 노즐로부터 토출되는 액체방울을 검사하는 검사 장치로서, 검출광을 사출하는 투광부와, 상기 검출광이 조사되는 수광부와, 상기 검출광의 광로에 대해서 교차하는 방향으로 상기 토출 헤드를 이동시키는 이동 수단을 구비하고, 상기 이동 수단은 상기 이동 방향으로 그 토출 헤드를 이동하고, 상기 토출 노즐은 소정 시간 간격으로 상기 액체방울을 토출하고, D : 상기 검출광의 광속(光束)의 직경, d : 상기 액체방울의 직경, L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격, H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지, 상기 토출 헤드와 그 검사 장치가 상대적으로 이동한 거리,
는

D/2 + d/2 ≤ L … (1) 또한,

H ≤ D … (2)

의 조건을 만족하도록 설정된다.

본 발명의 제 2 태양은 액상체의 액체방울을 토출할 수 있는 복수 형성된 토출 노즐을 갖는 토출 헤드를 구비한 액체방울 토출 장치의 검사 방법으로서, 소정의 수광부에 대해서 검출광을 조사하고, 상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울을 소정 시간 간격으로 토출하고, 상기 검출광의 광로 상을 상기 액체방울이 통과함으로써 상기 수광부에서의 수광량을 검사하고, 검사 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐의 토출 상황을 검사할 때,

D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

의 조건을 만족하도록 설정한다. 단, D : 상기 검출광의 광속의 직경, d : 상기 액체방울의 직경, L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격, H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리이다.

또한, 본 발명의 제 3 태양은 액체방울 토출 장치로서, 액상체의 액체방울을 토출할 수 있는 소정 방향으로 복수 배열된 토출 노즐을 갖는 토출 헤드와, 상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사하는 검사 장치 와, 상기 검사 장치의 검사 결과에 기초하여 상기 토출 헤드에 대해서 소정의 처리를 행하는 제어장치를 구비하고, 상기 검사 장치는, 검출광을 사출하는 투광부와, 상기 투광부로부터의 상기 검출광이 조사되는 수광부와, 상기 검출광의 광로에 대해서 교차하는 방향으로 상기 토출 헤드를 소정 속도로 이동시키는 이동 수단을 구비하고, 상기 이동 수단은 상기 이동 방향으로 그 토출 헤드를 이동하고, 상기 토출 노즐은 소정 시간 간격으로 상기 액체방울을 토출하고, D : 상기 검출광의 광속의 직경, d : 상기 액체방울의 직경, L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격, H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리로 한 경우,

D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

의 조건을 만족하도록 설정된다.

본 발명의 제 4 태양은 액체방울 토출 방법으로서, 액상체의 액체방울을 토출할 수 있는 소정 방향으로 복수 배열된 토출 노즐을 갖는 토출 헤드로부터 액체방울을 토출하는 공정과, 상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사하는 검사 공정과, 그 검사 공정의 검사 결과에 기초하여 상기 토출 헤드에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리 공정을 갖고, 상기 검사 공정은 소정의 수광부에 대해서 검출광을 조사하고, 상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울을 소정 시간 간격으로 토출하고, 상기 검출광의 광로 상을 상기 액체방울이 통과함으로써 상기 수광부에서의 수광량을 검사하고, 검사 결과에 기초하여 상기 토출 노즐의 토출 상황을 검사할 때,

D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

의 조건을 만족하도록 설정한다. 단, D : 상기 검출광의 광속의 직경, d : 상기 액체방울의 직경, L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격, H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리이다.

또한, 본 발명의 제 5 태양은 디바이스로서, 상기 액체방울 토출 장치에 의해 그 적어도 일부가 형성되어 있다.

또한, 본 발명의 제 6 태양은 전자 기기로서, 상기 액체방울 토출 장치에 의해 그 구성 요소의 적어도 일부가 형성되어 있다.

상기 각 태양에 의하면, 상기 조건을 만족한 상태로 토출 노즐로부터 토출된 액체방울을 광학적으로 검출함으로써, 검출광의 광로 상에 각 토출 노즐로부터 토출된 액체방울이 1개만 배치 가능해지므로, 토출 노즐로부터 액체방울이 정상적으로 토출되고 있는지의 여부를 정확하게 검사할 수 있다. 즉, 도 5 및 도 6에 있어서, 상기 (1)식의 조건을 만족하지 않는 경우에는, 예를 들면 검출광의 광로 상에 2개의 토출 노즐 각각으로부터 토출된 2개의 액체방울이 배치되는 상태가 발생한다. 그러면, 제 1 토출 노즐로부터 액체방울이 토출되지 않고 제 2 토출 노즐로부터만 액체방울이 토출되고 있는 상태라 해도, 검출광의 광로 상에 존재하는 제 2 토출 노즐로부터의 액체방울의 존재에 의해 수광부는 제 1 토출 노즐로부터 액체방울이 토출되고 있는 것으로 잘못된 판단을 하는 경우가 있다. 또한, 토출 노즐이 정상적으로 토출 동작을 행하고 있어도, 상기 (2)식의 조건을 만족하지 않음으로써, 1개의 토출 노즐이 제 1 액체방울과 제 2 액체방울을 토출하는 동안에 토출 헤드는 검출광의 광로 상을 통과해 버려, 액체방울이 정상적으로 토출되고 있음에도 불구하고 검출되지 않는다는 결함이 발생한다. 그렇지만, 상기 조건을 만족함으로써 상술한 결함의 발생은 회피된다.

또한, 본 발명의 액체방울 토출 장치의 검사 장치에 있어서, 상기 검출광의 광속의 직경이 상기 수광부의 계측 영역의 직경보다 큰 경우, 상기 D는 상기 계측 영역의 직경인 것이 바람직하다. 즉, 검출광의 광속의 직경이 수광부의 계측 영역의 직경 이상인 경우에 있어서, 액체방울이 검출광의 광로의 일부를 통과한 경우, 이 통과한 부분이 계측 영역 외에 상당하는 부분이면, 수광부는 통과한 액체방울을 검출할 수 없다. 그런데, 검출광의 광속의 직경이 그 검출광을 수광하는 수광부의 계측 영역의 직경보다 큰 경우, 직경 D는 계측 영역의 직경으로 한다.

또한, 본 발명의 액체방울 토출 장치의 검사 장치에 있어서, 상기 D, d, 및 H 중 적어도 어느 하나의 값을 재설정 가능한 제어 수단을 구비할 수도 있다.

이것에 의하면, 검사 장치가 상기 조건을 만족하지 않는 경우에는, 제어 수단이 상기 D, d, H를 조정함으로써 상기 조건을 만족시킬 수 있다.

본 발명의 액체방울 토출 장치에 있어서, 상기 토출 노즐의 수는 임의로 설정 가능한 것이 바람직하다. 이것에 의하면, 여러 가지의 크기, 형상의 디바이스 패턴을 임의로 형성 가능해진다. 예를 들면, 그 토출 노즐의 토출 동작을 제어하는 제어장치에 의해 사용하는 토출 노즐의 수를 임의로 설정할 수 있다.

여기서, 상술한 액체방울 토출 장치는 액체방울 토출법에 기초하는 디바이스 의 제조에 사용되는 것으로서, 잉크젯 헤드를 구비한 잉크젯 장치를 포함한다. 잉크젯 장치의 잉크젯 헤드는 잉크젯법에 의해 액상체 재료의 액체방울을 정량적으로 토출할 수 있는데, 예를 들면 1도트당 1∼300 나노그램의 액상체 재료를 정량적으로 단속하여 적하 가능한 장치이다. 또한, 액체방울 토출 장치로서는 디스펜서 장치일 수도 있다.

액상체 재료(액상체)란 액체방울 토출 장치의 토출 헤드의 토출 노즐로부터 토출 가능(적하 가능)한 점도를 구비한 매체를 말한다. 수성이든 유성이든 문제되지 않는다. 토출 노즐 등으로부터 토출 가능한 유동성(점도)을 구비하고 있으면 충분하고, 고체 물질이 혼입되어 있어도 전체로서 유동체이면 된다. 또한, 액상체 재료에 포함되는 재료는 융점 이상으로 가열되어 용해된 것이라도 되고, 용매 중에 미립자로서 교반된 것이라도 되고, 용매 외에 염료나 안료 기타 기능성 재료를 첨가한 것이라도 된다. 또한, 액체방울이 토출되는 기재(基材)는 플랫 기판을 가리키는 것 이외에 곡면 형상의 기판이라도 된다. 게다가 패턴 형성면의 경도가 단단할 필요는 없고, 유리나 플라스틱, 금속 이외에 필름, 종이, 고무 등의 가요성을 갖는 표면이라도 된다.

또한, 액체방울 토출 장치의 토출 헤드로부터 액상체 재료의 액체방울을 기재 상에 토출함으로써 디바이스를 제조할 때, 상기 액상체 재료에는 기능성 재료가 함유된다. 기능성 재료란 디바이스의 형성용 재료로서 기재(기판) 상에 배치됨으로써 소정의 기능을 발휘하는 것이다. 기능성 재료로서는 컬러 필터를 포함하는 액정 장치(액정 소자)를 형성하기 위한 액정 소자 형성용 재료, 유기 EL(전계 발 광) 장치(유기 EL 소자)를 형성하기 위한 유기 EL 소자 형성용 재료, 및 전력을 유통하는 배선 패턴을 형성하기 위한 금속을 포함하는 배선 패턴 형성용 재료 등을 들 수 있다.

이하, 본 발명의 검사 장치를 갖는 액체방울 토출 장치에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 1은 본 발명의 검사 장치를 구비한 액체방울 토출 장치의 일 실시형태를 나타내는 개략 사시도이다.

도 1에 있어서, 액체방울 토출 장치(IJ)는 액상체 재료의 액체방울을 토출하는 토출 헤드(1)와, 디바이스를 제조하기 위한 기재인 기판(P)을 지지하는 스테이지 장치(2)와, 스테이지 장치(2)에 대해서 기판(P)을 반입 및 반출(로드 및 언로드)하는 반송 장치(3)와, 토출 헤드(1)의 토출 동작을 포함하는 액체방울 토출 장치(IJ) 전체의 동작을 제어하는 제어장치(CONT)를 구비하고 있다. 본 실시형태에 있어서, 반송 장치(3)는 로봇 암을 갖고, 스테이지 장치(2)의 도면 중 -X방향에 설치되어 있다. 토출 헤드(1)는 그 토출면(1P)에 액상체 재료의 액체방울을 토출하는 복수의 토출 노즐(11)(도 2 참조)을 갖고 있다. 본 실시형태에 있어서, 토출 노즐(11)은 토출 헤드(1)의 토출면(1P)에서 적어도 X축 방향(소정 방향)으로 복수 줄지어 설치되어 있다. 액상체 재료는 도시되지 않은 수용 장치(탱크)에 수용되어 있고, 튜브를 통해서 토출 헤드(1)로부터 토출되도록 되어 있다. 액체방울 토출 장치(IJ)는 토출 헤드(1)로부터 기판(P)의 표면에 액상체 재료를 배치함으로써 액상체 재료에 포함되어 있는 기능성 재료를 성막한다. 토출 헤드(1)는 이동 장치( 이동 수단)(4)에 의해 도면 중, XY방향(수평 방향)으로 이동 가능한 동시에, Z방향(수직 방향)으로 이동 가능하다. 또한, 토출 헤드(1)는 θX방향(X축 둘레 방향), θY방향(Y축 둘레 방향), 및 θZ방향(Z축 둘레 방향)으로 이동 가능하다. 스테이지 장치(2)는 구동 장치(5)에 의해 도면 중 XY방향으로 이동 가능한 동시에, Z방향 및 θZ방향으로 이동 가능하다. 이동 장치(4) 및 구동 장치(5)에 의해, 기판(P)을 지지하는 스테이지 장치(5)는 토출 헤드(1)에 대해서 상대적으로 이동 가능하게 되어 있다.

스테이지 장치(2)와 다른 위치, 즉, 토출 헤드(1)에 의한 디바이스를 제조하기 위한 액체방울 토출 동작 실행 위치와 다른 위치에는, 토출 헤드(1)를 클리닝하기 위한 클리닝 유닛(6) 및 토출 헤드(1)를 캐핑하는 캐핑 유닛(7)이 설치되어 있다. 본 실시형태에서는 클리닝 유닛(6) 및 캐핑 유닛(7)은 스테이지 장치(2)의 +Y 방향으로 설치되어 있다. 클리닝 유닛(6)은 토출 헤드(1)의 토출 노즐(11)의 클리닝을 행한다. 클리닝을 행할 때에는, 우선 토출 헤드(1)가 클리닝 유닛(6)에 대해서 위치 결정되어, 클리닝 유닛(6)과 토출 헤드(1)의 토출면(1P)이 접속된다. 그 다음에, 클리닝 유닛(6)이 이 클리닝 유닛(6)과 토출 헤드(1)의 토출면(1P)으로 형성된 공간의 공기를 흡인한다. 상기 공간이 흡인됨으로써, 토출 헤드(1)의 토출 노즐(11)에 존재하는 액상체 재료가 흡인되고, 이것에 의해 토출 헤드(1) 및 토출 노즐(11)의 클리닝이 행해진다. 또한, 캐핑 유닛(7)은 토출 헤드(1)의 토출면(1P)의 건조를 방지하는 것으로서, 디바이스를 제조하지 않는 대기 시에 토출면(1P)에 캡을 씌운다.

도 2는 토출 헤드(1)의 분해 사시도이고, 도 3은 토출 헤드(1)의 사시도 일부 단면도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 토출 헤드(1)는 토출 노즐(11)을 갖는 노즐 플레이트(10)와, 진동판(12)을 갖는 압력실 기판(13)과, 이들 노즐 플레이트(10)와 진동판(12)을 끼워 넣어 지지하는 하우징(14)을 구비하고 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 토출 헤드(1)의 주요부 구조는 압력실 기판(13)을 노즐 플레이트(10)와 진동판(12)으로 삽입한 구조를 가진다. 압력실 기판(13)은 실리콘 단결정 기판 등으로 구성되고, 이것을 에칭함으로써 형성되는 복수의 캐비티(압력실)(16)를 가지고 있다. 토출 노즐(11)은 노즐 플레이트(10)에 있어서, 노즐 플레이트(10)와 압력실 기판(13)을 접합한 경우에 캐비티(16)에 대응하는 위치에 형성되어 있다.

복수의 캐비티(16) 사이는 측벽(17)으로 분리되어 있다. 캐비티(16)는 공급구(18)를 통해서 공통의 유로인 리저버(15)에 각각 접속되어 있다. 진동판(12)은 예를 들면, 열산화막 등에 의해 형성된다. 진동판(12)은 탱크 입구(19)를 갖고, 탱크 입구(19)로부터 상기 탱크에 접속된 튜브를 통해서 액상체 재료가 공급된다. 진동판(12) 상의 캐비티(16)에 대응하는 위치에는 압전체 소자(20)가 설치되어 있다. 압전체 소자(20)는 PZT 소자 등의 압전성 세라믹스의 결정을 상부 전극 및 하부 전극(도시되지 않음)에 삽입한 구조를 가진다. 압전체 소자(20)는 인가된 전압에 기초하여 변형된다.

다시 도 1에서, 액체방울 토출 장치(IJ)는 토출 헤드(1)의 토출 노즐(11)로부터 액상체 재료의 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사하는 검사 장치(30) 를 구비하고 있다. 검사 장치(30)는 스테이지 장치(2)와 다른 위치, 즉, 토출 헤드(1)에 의한 디바이스를 제조하기 위한 액체방울 토출 동작 실행 위치와 다른 위치에 설치되어 있고, 본 실시형태에서는 스테이지 장치(2)의 +X 방향으로 설치되어 있다. 검사 장치(30)는 토출 헤드(1)에 설치된 복수의 토출 노즐(11) 각각으로부터 액상체 재료의 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사함으로써 막힘 등에 기인하여 액체방울을 토출할 수 없는 토출 노즐(비동작 노즐)을 검출한다. 이것에 의해, 검사 장치(30)는 기판(P)에 액체방울을 토출함으로써 기판(P) 상에 도트 패턴을 형성할 때의 기판(P) 상에서의 도트 누락이 발생하는지의 여부를 검사할 수 있다.

검사 장치(30)는 검출광을 사출하는 투광부(31)와, 투광부(31)로부터 사출된 검출광이 조사되는 수광부(32)를 구비하고 있다. 투광부(31)는 소정의 직경을 갖는 레이저광을 사출하는 레이저광 조사 장치에 의해 구성되어 있다. 한편, 수광부(32)는 예를 들면 포토 다이오드로 구성되어 있다. 또한, 액체방울 토출 장치(IJ)는 이 검사 장치(30)의 검사 결과 및 검사 상황에 관한 정보를 표시하는 표시 장치(40)를 구비하고 있다. 표시 장치(40)는 예를 들면 액정 디스플레이나 CRT 등으로 구성되어 있다.

도 4는 투광부(31) 및 수광부(32)를 구비한 검사 장치(30)의 개략 사시도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 투광부(31)와 수광부(32)는 대향하도록 설치되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 투광부(31)는 검출광인 레이저광을 Y축 방향을 따라 사출한다. 검출광의 광속은 직경 D로 설정되어 있고, 투광부(31)로부터 사출된 검 출광은 수광부(32)를 향해 직진한다. 토출 헤드(1)는 이동 장치(4)의 구동에 의해, 검출광의 광로의 상방향(+Z측)에서, 검출광의 광로 방향(Y축 방향)에 대해서 교차하는 방향(X축 방향)으로 일정 속도로 이동하면서 액체방울을 토출하도록 되어 있다. 토출 헤드(1)의 토출 노즐(11)로부터는 일정시간 간격으로 액체방울이 토출되고, 토출 노즐(11)로부터 토출된 액체방울은 검출광의 광로를 통과하도록 설정되어 있다.

도 5는 토출 헤드(1)의 토출 노즐(11)로부터 토출된 액체방울이 검출광의 광로를 통과하는 상태를 나타내는 모식도이다. 또한, 도 5에 도시된 토출 헤드(1)는 이동 방향인 X축 방향으로 3개 배열된 토출 노즐(11A, 12B, 11C)을 가지고 있지만, 토출 헤드(1)에 설치되는 토출 노즐(11)의 수는 임의로 설정할 수 있다.

도 5에 도시된 바와 같이, 토출 헤드(1)는 X축 방향으로 일정 속도로 이동하면서 토출 노즐(11A∼11C) 각각으로부터 액체방울을 토출한다. 여기서, 노즐(11A∼11C)의 배열된 방향과 토출 헤드(1)의 이동 방향과는 일치하고 있다. 토출 노즐(11A∼11C) 각각으로부터는 액체방울이 동시에 토출된다. 또한, 토출 노즐(11A∼11C) 각각은 일정시간 간격으로 액체방울을 각각 토출한다. 토출된 액체방울은 광속인 검출광의 광로 상을 통과한다. 검출광의 광로 상을 액체방울이 통과하고, 이 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치됨으로써, 수광부(32)에서 수광되는 검출광의 수광량은 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치되어 있지 않은 상태에서의 수광량에 대해서 변화한다. 즉, 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치됨으로써, 수광부(32)에서의 수광량은 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치되어 있지 않은 경우에 비해서 저하된다. 수광부(32)의 수광 결과(수광 신호)는 제어 장치(CONT)에 출력된다. 제어 장치(CONT)는 검출광의 광로 상을 액체방울이 통과하는 것에 의한 검출광의 수광부(32)에서의 수광량의 변화(저하)에 기초하여, 토출 노즐(11)로부터 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 판별할 수 있다.

구체적으로는, 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치되면, 수광부(32)에 있어서의 수광량의 저하에 따라 수광부(32)의 출력 신호(출력 전압)가 변화된다. 수광부(32)는 이 출력 전압에 기초하는 2값의 신호「HIGH」또는「LOW」 중 어느 한쪽의 신호를 제어장치(CONT)에 출력한다. 여기서, 수광부(32)는 예를 들면 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치되어 있는 경우에「HIGH」의 신호를 출력하고, 검출광의 광로 상에 액체방울이 배치되어 있지 않은 경우에「LOW」의 신호를 출력한다.

검사 장치(30)는 D : 검출광의 광속의 직경, d : 토출 노즐(11)로부터 토출되는 액체방울의 직경, L : 토출 헤드(1)의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격, H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 토출 헤드(1)가 이동한 거리로 하면,

D/2 + d/2 ≤ L … (1) 또한,

H ≤ D … (2)

의 조건을 만족하도록 설정되어 있다. 거리 H는 도 6에 도시된 모식도와 같이, 일정 속도로 이동하는 토출 헤드(1)의 예를 들면 토출 노즐(11B)로부터 제 1 액체방울이 토출되고 나서, 소정 시간 간격 후, 상기 제 1 액체방울의 다음의 액체방울인 제 2 액체방울이 토출될 때까지 토출 헤드(1)가 이동한 거리이다.

상기 조건을 만족함으로써, 검출광의 광로 상에는 토출 노즐(11)( 11A∼11C)로부터 토출된 액체방울이 1개만 배치되므로, 토출 노즐로부터 액체방울이 정상적으로 토출되고 있는지의 여부를 정확하게 검사할 수 있다. 즉, 상기 (1)식의 조건을 만족하지 않는 경우에는, 검출광의 광로 상에, 예를 들면 토출 노즐(11A)과 토출 노즐(11B) 각각으로부터 토출된 2개의 액체방울이 배치되는 상태가 생긴다. 그러면, 예를 들어, 토출 노즐(11A)은 막힘 등에 의해 부동작 상태로서 액체방울을 토출하지 않고, 토출 노즐(11B)로부터만 액체방울이 토출되고 있는 상태라도, 수광부(32)는 2값의 신호「HIGH」또는「LOW」 중 어느 한쪽의 신호를 출력하는 구성이므로, 검출광의 광로 상에 존재하는 토출 노즐(11B)로부터의 액체방울에 의해, 토출 노즐(11A)로부터 액체방울이 토출되고 있지 않음에도 불구하고, 「HIGH」의 출력 신호를 출력해 버려, 제어장치(CONT)는「토출 노즐(11A)로부터 액체방울이 토출되고 있다」는 잘못된 판단을 하는 결점이 생긴다. 그렇지만, 상기 (1)식의 조건을 만족함으로써, 예를 들면 토출 노즐(11A)로부터의 액체방울이 검출광의 광로를 통과하는 상태에 있어서는, 토출 노즐(11B)로부터의 액체방울은 검출광의 광로의 외측을 통과하므로, 상술한 결점의 발생은 회피된다.

또한, 상기 (2)식의 조건을 만족하지 않는 경우에는, 예를 들면 토출 노즐(11B)은 소정 시간 간격마다 정상적으로 토출 동작을 행함에도 불구하고, 도 6 중, 검출광의 광로의 -X방향 외측을 제 1 액체방울이 통과하는 동시에, 제 2 액체방울도 검출광의 +X방향 외측을 통과해 버리는 상태가 발생하게 된다. 즉, 토출 노즐(11B)로부터 소정 시간 간격마다 정상적으로 액체방울이 토출되고 있음에도 불 구하고, 제 1 액체방울 및 제 2 액체방울 모두가 검출광의 광로를 통과하지 않고, 환언하면 제 2 액체방울을 토출할 때에 토출 노즐(11B)이 검출광의 광로를 통과해 버려, 수광부(32)는 액체방울이 토출되고 있는 것을 검출할 수 없다는 결점이 생긴다. 그렇지만, 상기 (2)식의 조건을 만족함으로써, 소정 시간 간격마다 정상적으로 토출되고 있는 액체방울은 검출광의 광로를 통과하므로, 상술한 결점의 발생은 회피된다.

다음으로, 상술한 구성을 갖는 검사 장치(30)를 이용하여 토출 노즐(11)(11A∼11C)로부터 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사하는 방법에 대해서 설명한다.

우선, 제어 장치(CONT)는 이동 장치(4)에 의해 토출 헤드(1)를 비동작 노즐 검사 동작 실행 위치, 즉 검사 장치(30)의 근방으로 이동한다. 그리고, 제어 장치(CONT)는 투광부(31)로부터 수광부(32)에 대해서 검출광을 조사하는 동시에, 복수의 토출 노즐(11A∼11C)의 배열된 방향과 토출 헤드(1)의 이동 방향을 일치시키고, 이 토출 헤드(1)를 검출광의 광로에 대해서 교차하는 방향으로 일정 속도로 이동시키면서, 토출 노즐(11A∼11C) 각각으로부터 액체방울을 일정시간 간격으로 토출시킨다. 수광부(32)의 출력 신호는 제어 장치(CONT)에 출력되고, 제어 장치(CONT)는 수광부(32)로부터의 출력 신호의 신호 처리를 행한다. 제어 장치(CONT)는 검출광의 광로 상을 액체방울이 통과함으로써 검출광의 수광부(32)에서의 수광량의 변화에 기초하여 토출 노즐(11A∼11C) 각각으로부터 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사한다.

여기서, 제어 장치(CONT)는 검사 장치(30)가 상기 (1), (2)식의 조건을 만족하고 있지 않다고 판단하면, 검출광의 광속의 직경 D, 액체방울의 직경 d, 및 거리 H 중 적어도 어느 하나의 값을 재설정하여 상기 조건을 만족시킨다. 여기서, 검출광의 광속의 직경 D를 변경하는 경우에는, 제어 장치(CONT)는 예를 들면 도시되지 않은 구동 장치를 이용하여 투광부(31)의 검출광 사출부 근방에 광학 소자(렌즈나 핀 홀)를 설치함으로써 직경 D를 조정할 수 있다. 또한, 액체방울의 직경 d를 변경하는 경우에는, 제어 장치(CONT)는 예를 들면 토출 헤드(1)의 압전체 소자(20)의 진폭을 조정하여(토출 헤드(1)의 구동 전압을 조정함), 1개의 액체방울의 토출량을 제어함으로써 직경 d를 조정할 수 있다. 또한, 거리 H를 변경하는 경우에는, 제어 장치(CONT)는 예를 들면 이동 장치(4)에 의한 토출 헤드(1)의 이동 속도를 조정하거나, 각 토출 노즐(11A∼11C)로부터 토출되는 액체방울의 토출 시간 간격을 조정함으로써 거리 H를 조정할 수 있다.

검사 장치(30)의 검사 결과에 기초하여, 복수의 토출 노즐(11A∼11C) 중 액체방울을 토출할 수 없는 비동작 노즐이 없다고 판단하면, 제어 장치(CONT)는 토출 노즐의 검사에 관한 일련의 처리를 종료하고, 토출 헤드(1)를 스테이지 장치(2)(디바이스를 제조를 하기 위한 액체방울 토출 동작 실행 위치)로 이동하고, 스테이지 장치(2)에 지지되어 있는 기판(P)에 대해서, 토출 헤드(1)로부터 액상체 재료의 액체방울을 토출한다. 한편, 검사 장치(30)의 검사 결과에 기초하여, 비동작 노즐이 있다고 판단하면, 제어 장치(CONT)는 이 토출 헤드(1)를, 예를 들면 도 1에 도시된 클리닝 유닛(6)을 사용하여 클리닝 처리한다.

이상 설명한 바와 같이, 토출 노즐(11)로부터 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 광학적으로 검사하는 검사 장치에 관해서 상기 (1), (2)식으로 나타낸 조건을 설정함으로써, 검출광의 광로 상에 각 토출 노즐(11A∼11C)로부터 토출된 액체방울이 1개만 배치 가능해지므로, 토출 노즐(11A∼11C)로부터 액체방울이 정상적으로 토출되고 있는지의 여부를 정확하게 검사할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서는, 직경 D는 검출광의 광속의 직경이지만, 검출광의 광속의 직경이 수광부(32)의 원형 모양의 계측 영역의 직경 이상으로 큰 경우, 상기 (1), (2)식의 직경 D란 상기 계측 영역의 직경을 의미한다. 즉, 도 7에 도시된 모식도와 같이, 검출광의 광속의 직경 D1이 수광부(32)의 계측 영역의 직경 D2 이상인 경우에 있어서, 액체방울이 검출광의 광로의 일부의 영역(AR)을 통과한 경우, 이 통과한 영역(AR)이 수광부(32)의 계측 영역 외에 상당하는 부분이면, 수광부(32)는 통과한 액체방울을 검출할 수 없다. 그런데, 검출광의 광속의 직경 D1이 수광부(32)의 계측 영역의 직경 D2 이상인 경우, 「상기 조건식의 직경 D=계측 영역의 직경 D2」로 한다. 한편, 검출광의 광속의 직경 D1이 수광부(32)의 계측 영역의 직경 D2 이하인 경우, 「상기 조건식의 직경 D=검출광의 광속의 직경 D1」이다.

또한, 도 1에는 토출 헤드(1) 및 스테이지 장치(2)는 1개만 도시되어 있지만, 액체방울 토출 장치(IJ)는 복수의 토출 헤드(1) 및 스테이지 장치(2)를 갖는 구성일 수도 있다. 이 경우, 복수의 토출 헤드(1) 각각으로부터 이종 또는 동종의 액상체 재료의 액체방울이 토출되도록 되어 있다. 그리고, 기판(P)에 대해서 이들 복수의 토출 헤드(1) 중, 제 1 토출 헤드로부터 제 1 액상체 재료를 토출한 후, 이것을 소성 또는 건조하고, 그 다음에 제 2 토출 헤드로부터 제 2 액상체 재료를 기판(P)에 대해서 토출한 후 이것을 소성 또는 건조하고, 이하 복수의 토출 헤드를 사용하여 동일한 처리를 행함으로써, 기판(P) 상에 복수의 재료층이 적층되어 다층 패턴이 형성된다.

도 8은 본 발명의 액체방울 토출 장치(IJ)에 의한 디바이스 제조 공정의 일례를 나타내는 도면으로서, 액정 장치의 컬러 필터의 제조 공정의 일례를 나타내는 도면이다.

우선, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 투명의 기판(P)의 한쪽 면에 대해서 블랙 매트릭스(52)를 형성한다. 이 블랙 매트릭스(52)의 형성 방법으로서는, 광투과성이 없는 수지(바람직하게는 흑색)를 스핀 코트 등의 방법으로 소정의 두께(예를 들면 2μm정도)로 도포하는 것으로 행한다. 이 블랙 매트릭스(52)의 격자로 둘러싸이는 최소의 표시 요소, 즉 필터 요소(53)에 대해서는, 예를 들면 X축 방향의 폭을 30μm, Y축 방향의 길이를 100μm정도로 한다.

다음으로, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 토출 장치로부터 컬러 필터용 액상체 재료(액체방울)(54)를 토출하고, 이것을 필터 요소(53)에 착탄시킨다. 토출하는 액상체 재료(54)의 양에 대해서는, 가열 공정에 있어서의 액상체 재료의 체적 감소를 고려한 충분한 양으로 한다.

이와 같이 하여 기판(P) 상의 모든 필터 요소(53)에 액체방울(54)을 충전하면, 히터를 사용하여 기판(P)이 소정의 온도(예를 들면 70℃ 정도)로 되도록 가열 처리한다. 이 가열 처리에 의해, 액상체 재료의 용매가 증발하여 액상체 재료의 체적이 감소된다. 이 체적 감소가 심한 경우에는 컬러 필터로서 충분한 막의 두께가 얻어질 때까지, 액체방울 토출 공정과 가열 공정을 반복한다. 이 처리에 의해, 액상체 재료에 포함되는 용매가 증발하고, 최종적으로 액상체 재료에 포함되는 고형분(기능성 재료)만 잔류하여 막화되고, 도 8의 (c)에 도시된 바와 같이 컬러 필터(55)가 된다.

그 다음에, 기판(P)을 평탄화하고, 또한 컬러 필터(55)를 보호하기 위해, 도 8의 (d)에 도시된 바와 같이 컬러 필터(55)나 블랙 매트릭스(52)를 덮어 기판(P) 상에 보호막(56)을 형성한다. 이 보호막(56)의 형성에 있어서는, 스핀 코트법, 롤 코트법, 리핑법 등의 방법을 채용할 수 있지만, 컬러 필터(55)의 경우와 마찬가지로, 상기 토출 장치를 사용하여 행할 수도 있다.

그 다음으로, 도 8의 (e)에 도시된 바와 같이 이 보호막(56)의 전면에, 스퍼터법이나 진공 증착법 등에 의해 투명 도전막(57)을 형성한다. 그 후, 투명 도전막(57)을 패터닝하고, 화소 전극(58)을 상기 필터 요소(53)에 대응시켜 패터닝한다. 또한, 액정 표시 패널의 구동에 TFT(Thin Film Transistor)를 사용하는 경우에는, 이 패터닝은 필요없게 된다.

이러한 컬러 필터의 제조에 있어서, 상기 토출 헤드(1)를 사용하고 있으므로, 컬러 필터 재료를 지장없이 연속적으로 토출할 수 있고, 따라서 양호한 컬러 필터를 형성할 수 있는 동시에 생산성을 향상할 수 있다.

그리고, 상술한 컬러 필터 제조 공정 전에, 본 발명의 검사 장치(30)를 사용 하여 토출 헤드(1)의 토출 노즐(11)로부터 액체방울이 토출되고 있는지의 검사 공정이 행해진다.

또한, 상기 토출 장치에서는, 액상체를 적당히 선택함으로써, 전기 광학 장치의 임의의 구성 요소를 형성할 수 있다. 예를 들면, 유기 EL 소자의 형성 재료나 금속 배선의 재료로 이루어진 금속 콜로이드, 또한 마이크로 렌즈 재료, 액정 재료 등 각종 재료를 액상체로서 사용함으로써, 전기 광학 장치를 구성하는 여러 가지 요소를 형성할 수 있다. 또는 전기 광학 장치로서 SED(Surface-Conduction Electron-Emitter Display)를 형성하는 것도 가능하다. 이하, 상기 액체방울 토출 장치(IJ)를 사용한 전기 광학 장치의 제조 방법을 설명한다.

우선, 전기 광학 장치의 구성 요소의 형성예로서, 유기 EL 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다.

도 9는 상기 토출 장치에 의해 일부의 구성 요소가 제조된 유기 EL 장치의 측단면도로서, 우선 이 유기 EL 장치의 개략 구성을 설명한다. 또한, 여기서 형성되는 유기 EL 장치는 본 발명에 있어서의 전기 광학 장치의 일 실시형태가 되는 것이다.

도 9에 도시된 바와 같이 이 유기 EL 장치(301)는 기판(311), 회로 소자부(321), 화소 전극(331), 뱅크부(341), 발광 소자(351), 음극(361)(대향 전극), 및 밀봉 기판(371)으로부터 구성된 유기 EL 소자(302)에 플렉시블 기판(도시되지 않음)의 배선 및 구동 IC(도시되지 않음)를 접속한 것이다. 회로 소자부(321)는 기판(311) 상에 형성되고, 복수의 화소 전극(331)이 회로 소자부(321) 상에 정렬되어 있다. 그리고, 각 화소 전극(331)간에는, 뱅크부(341)가 격자 모양으로 형성되어 있고, 뱅크부(341)에 의해 생긴 오목부 개구(344)에 발광 소자(351)가 형성되어 있다. 음극(361)은 뱅크부(341) 및 발광 소자(351)의 상부 전면에 형성되고, 음극(361) 상에는 밀봉용 기판(371)이 적층되어 있다.

유기 EL 소자를 포함하는 유기 EL 장치(301)의 제조 프로세스는 뱅크부(341)를 형성하는 뱅크부 형성 공정과, 발광 소자(351)를 적절히 형성하기 위한 플라즈마 처리 공정과, 발광 소자(351)를 형성하는 발광 소자 형성 공정과, 음극(361)을 형성하는 대향 전극 형성 공정과, 밀봉용 기판(371)을 음극(361) 상에 적층하여 밀봉하는 밀봉 공정을 구비하고 있다.

발광 소자 형성 공정은 오목부 개구(344), 즉 화소 전극(331) 상에 정공 주입층(352) 및 발광층(353)을 형성함으로써 발광 소자(351)를 형성하는 것으로, 정공 주입층 형성 공정과 발광층 형성 공정을 구비하고 있다. 그리고, 정공 주입층 형성 공정은 정공 주입층(352)을 형성하기 위한 제 1 조성물(액상체)을 각 화소 전극(331) 상에 토출하는 제 1 토출 공정과, 토출된 제 1 조성물을 건조시켜 정공 주입층(352)을 형성하는 제 1 건조 공정을 갖고, 발광층 형성 공정은 발광층(353)을 형성하기 위한 제 2 조성물(액상체)을 정공 주입층(352) 상에 토출하는 제 2 토출 공정과, 토출된 제 2 조성물을 건조시켜 발광층(353)을 형성하는 제 2 건조 공정을 가지고 있다.

이 발광 소자 형성 공정에 있어서, 정공 주입층 형성 공정에 있어서의 제 1 토출 공정과, 발광층 형성 공정에 있어서의 제 2 토출 공정에서 상기 액체방울 토 출 장치(IJ)를 사용하고 있다.

이 유기 EL 장치(301)의 제조에 있어서도, 각 구성 요소 형성을 위한 토출에 앞서, 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 행함으로써, 토출 헤드(1)로부터 정공 주입층의 형성 재료, 발광층의 형성 재료를 각각 양호하게 토출할 수 있고, 따라서 얻어지는 유기 EL 장치(301)의 신뢰성을 높일 수 있다.

다음으로, 상기 구성 요소의 형성예로서, 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 대해서 설명한다.

도 1O은 상기 액체방울 토출 장치(IJ)에 의해 일부의 구성 요소, 즉 어드레스 전극(511)과 버스 전극(512a)이 제조된 플라즈마 디스플레이를 나타내는 분해 사시도로서, 도 10 중 부호(500)는 플라즈마 디스플레이이다. 이 플라즈마 디스플레이(500)은 서로 대향하여 배치된 유리 기판(501)과 유리 기판(502), 이들 사이에 형성된 방전 표시부(510)로 개략 구성되어 있다.

방전 표시부(510)는 복수의 방전실(516)이 집합되어 이루어지고, 복수의 방전실(516) 중, 적색 방전실(516(R)), 녹색 방전실(516(G)), 청색 방전실(516(B))의 3개의 방전실(516)이 쌍으로 이루어져 1화소를 구성하도록 배치되어 있다.

상기 (유리)기판(501)의 상면에는, 소정의 간격으로 스트라이프 형상으로 어드레스 전극(511)이 형성되고, 그들 어드레스 전극(511)과 기판(501)의 상면을 덮도록 유전체 층(519)이 형성되고, 또한 유전체 층(519) 상에 있어서 어드레스 전극(511, 511)간에 위치하여 각 어드레스 전극(511)을 따라 격벽(515)이 형성되어 있다. 또한, 격벽(515)에 있어서는, 그 길이 방향의 소정 위치에 있어서 어드레스 전극(511)과 직교하는 방향에도 소정의 간격으로 분할되어 있고(도시되지 않음), 기본적으로는 어드레스 전극(511)의 폭방향 좌우 양측에 인접하는 격벽과, 어드레스 전극(511)과 직교하는 방향으로 연장 설치된 격벽에 의해 분할되는 장방 형상의 영역이 형성되고, 이들 장방 형상의 영역에 대응하도록 방전실(516)이 형성되고, 이들 장방 형상의 영역이 3쌍으로 이루어져 1화소가 구성된다. 또한, 격벽(515)으로 구획되는 장방 형상의 영역의 내측에는 형광체(517)가 배치되어 있다. 형광체(517)는 적, 녹, 청 중 어느 쪽의 형광을 발광하는 것으로, 적색 방전실(516(R))의 저부에는 적색 형광체(517(R))가, 녹색 방전실(516(G))의 저부에는 녹색 형광체(517(G))가, 청색 방전실(516(B))의 저부에는 청색 형광체(517(B))가 각각 배치되어 있다.

다음으로, 상기 유리 기판(502)측에는, 앞의 어드레스 전극(511)과 직교하는 방향으로 복수의 ITO로 이루어진 투명 표시 전극(512)이 스트라이프 형상으로 소정의 간격으로 형성되는 동시에, 고저항의 ITO를 보충하기 위해서 금속으로 이루어진 버스 전극(512a)이 형성되어 있다. 또한, 이들을 덮어 유전체 층(513)이 형성되고, 또한 MgO 등으로 이루어진 보호막(514)이 형성되어 있다.

그리고, 상기 기판(501)과 유리 기판(502)의 기판(2)이 상기 어드레스 전극(511…)과 표시 전극(512…)을 서로 직교시키도록 대향시켜 서로 접합되고, 기판(501)과 격벽(515)과 유리 기판(502)측에 형성되어 있는 보호막(514)으로 둘러싸이는 공간 부분을 배기하여 희가스를 봉입함으로써 방전실(516)이 형성되어 있다. 또한, 유리 기판(502)측에 형성되는 표시 전극(512)은 각 방전실(516)에 대해서 2 개씩 배치되도록 형성되어 있다.

상기 어드레스 전극(511)과 표시 전극(512)은 도시되지 않은 교류 전원에 접속되고, 각 전극에 통전됨으로써 필요한 위치의 방전 표시부(510)에 있어서 형광체(517)를 여기 발광시켜, 컬러 표시를 할 수 있도록 되어 있다.

그리고, 본 예에서는, 특히 상기 어드레스 전극(511)과 버스 전극(512a), 및 형광체(517)에 대해서, 각각 상기 액체방울 토출 장치(IJ)를 사용하여 형성되어 있다. 즉, 이들 어드레스 전극(511)이나 버스 전극(512a)에 대해서는, 특히 그 패터닝에 유리하기 때문에, 금속 콜로이드 재료(예를 들면 금 콜로이드나 은 콜로이드)나 도전성 미립자(예를 들면 금속 미립자)를 분산시켜 이루어진 액상 재료(액상체)를 토출·소결함으로써 형성되어 있다. 또한, 형광체(517)에 대해서도, 형광체 재료를 용매에 용해시키거나 또는 분산매에 분산시킨 액상 재료(액상체)를 토출·소결함으로써 형성되어 있다.

이 플라즈마 디스플레이(500)의 제조에 있어서도, 어드레스 전극(511), 버스 전극(512a)의 형성, 및 형광체(517) 형성을 위한 토출에 앞서, 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 행함으로써, 토출 헤드(1)로부터 각 전극(511, 512a)의 형성 재료(액상 재료), 형광체(517)의 형성 재료(액상 재료)를 각각 양호하게 토출할 수 있고, 따라서 얻어지는 플라즈마 디스플레이(500)의 신뢰성을 높일 수 있다.

다음으로, 상기 구성 요소의 형성예로서, 도전막 배선 패턴(금속 배선 패턴)의 형성 방법에 대해서 설명한다.

도 11은 도전막 배선 패턴의 형성 방법의 일례를 나타내는 플로차트이다.

도 11에 있어서, 본 예에 관련되는 패턴의 형성 방법은 액체 재료(액상체)의 액체방울이 배치되는 기판을 소정의 용매 등을 사용하여 세정하는 공정(스텝 S1)과, 기판의 표면 처리 공정의 일부를 구성하는 발액화 처리 공정(스텝 S2)과, 발액화 처리된 기판 표면의 발액성을 조정하는 표면 처리 공정의 일부를 구성하는 발액성 제어 처리 공정(스텝 S3)과, 표면 처리된 기판 상에 액체방울 토출법에 기초하여 도전막 배선 형성용 재료를 포함하는 액체 재료의 액체방울을 배치하여 막 패턴을 묘화(형성)하는 재료 배치 공정(스텝 S4)과, 기판 상에 배치된 액체 재료의 용매 성분의 적어도 일부를 제거하는 열·광 처리를 포함하는 중간 건조 처리 공정(스텝 S5)과, 소정의 패턴이 묘화된 기판을 소성하는 소성 공정(스텝 S7)을 가지고 있다. 또한, 중간 건조 처리 공정 후, 소정의 패턴 묘화가 종료되었는지의 여부를 판단하고(스텝 S6), 패턴 묘화가 종료되면 소성 공정이 행해지고, 한편 패턴 묘화가 종료되어 있지 않았다면 재료 배치 공정이 행해진다.

다음으로, 상기 액체방울 토출 장치(IJ)에 의한 액체방울 토출법에 기초하는 재료 배치 공정(스텝 S4)에 대해서 설명한다.

본 예의 재료 배치 공정은 도전막 배선 형성용 재료를 포함하는 액체 재료의 액체방울을 상기 액체방울 토출 장치(IJ)의 액체방울 토출 헤드(1)로부터 기판(P) 상에 배치함으로써 기판(P) 상에 복수의 선 모양의 막 패턴(배선 패턴)을 배열하여 형성하는 공정이다. 액체 재료는 도전막 배선 형성용 재료인 금속 등의 도전성 미립자를 분산매에 분산한 액상체이다. 이하의 설명에서는, 기판(P) 상에 3개의 제 1, 제 2, 및 제 3 막 패턴(선 모양 패턴)(W1, W2, W3)을 형성하는 경우에 대해서 설명한다.

도 12, 도 13, 및 도 14는 본 예에 있어서의 기판(P) 상에 액체방울을 배치하는 순서의 일례를 설명하기 위한 도면이다. 이들 도면에 있어서, 기판(P) 상에는 액체 재료의 액체방울이 배치되는 격자 모양의 복수의 단위 영역인 픽셀을 갖는 비트맵이 설정되어 있다. 여기서, 1개의 픽셀은 정방형으로 설정되어 있다. 그리고, 이들 복수의 픽셀 중 소정의 픽셀에 대응하도록, 제 1, 제 2, 제 3 막 패턴(W1, W2, W3)을 형성하는 제 1, 제 2, 제 3 패턴 형성 영역(R1, R2, R3)이 설정되어 있다. 이들 복수의 패턴 형성 영역(R1, R2, R3)은 X축 방향으로 배열되어 설정되어 있다. 또한, 도 12∼도 14에 있어서, 패턴 형성 영역(R1, R2, R3)은 사선을 그은 영역이다.

또한, 기판(P) 상의 제 l 패턴 형성 영역(R1)에는 액체방울 토출 장치(IJ)의 토출 헤드(1)에 설치된 복수의 토출 노즐 중 제 1 토출 노즐(11A)로부터 토출된 액체 재료의 액체방울이 배치되도록 설정되어 있다. 마찬가지로, 기판(P) 상의 제 2, 제 3 패턴 형성 영역(R2, R3)에는 액체방울 토출 장치(IJ)의 토출 헤드(1)에 설치된 복수의 토출 노즐 중, 제 2, 제 3 토출 노즐(11B, 11C)로부터 토출된 액체 재료의 액체방울이 배치되도록 설정되어 있다. 즉, 제 1, 제 2, 제 3 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에 대응하도록 토출 노즐(11A, 11B, 11C)이 설치되어 있는 것이다. 그리고, 토출 헤드(1)는 설정된 복수의 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각의 복수의 픽셀 위치에 복수의 액체방울을 순차 배치하도록 되어 있다.

또한, 제 1, 제 2, 제 3 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에서는, 이들 패턴 형성 영역(R1, R2, R3)에 형성해야 할 제 1, 제 2, 제 3 막 패턴(W1, W2, W3)을 선폭 방향에 있어서의 한쪽 측(-X측)인 제 1 측부 패턴(Wa)으로 형성하고, 그 다음에 한쪽 측(+X측)인 제 2 측부 패턴(Wb)을 형성하고, 이 제 1, 제 2 측부 패턴(Wa, Wb)을 형성한 후에 선폭 방향 중앙부인 중앙 패턴(Wc)을 형성하도록 설정되어 있다.

본 예에서는, 각 막 패턴(선 모양 패턴)(W1∼W3) 각각, 또한 각 패턴 형성 영역(R1∼R3) 각각은 동일한 선폭(L)을 갖고, 이 선폭(L)은 3개의 픽셀분의 크기로 설정되어 있다. 또한, 각 패턴간의 스페이스부 각각도 동일한 폭(S)으로 설정되어 있고, 이 폭(S)도 3개의 픽셀분의 크기로 설정되어 있다. 그리고, 토출 노즐(11A∼11C)간의 간격인 노즐 피치는 6개의 픽셀분으로 설정되어 있다.

이하의 설명에 있어서, 토출 노즐(11A, 11B, 11C)를 갖는 토출 헤드(1)는 기판(P)에 대해서 Y축 방향으로 주사하면서 액체방울을 토출하는 것으로 한다. 그리고, 도 12∼도 14를 이용한 설명에 있어서, 1번째의 주사 시에 배치된 액체방울에는 「1」을 붙이고, 2번째, 3번째, …, n번째의 주사 시에 배치된 액체방울에는「2」, 「3」…, 「n」을 붙인다.

도 12의 (a)에 도시된 바와 같이, 1번째의 주사 시에 있어서, 제 l, 제 2, 제 3 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에 대해서 제 1 측부 패턴(Wa)을 형성하기 위해서 제 1 측부 패턴 형성 예정 영역에 1개분의 픽셀을 비우면서 제 1, 제 2, 제 3 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울이 동시에 배치된다. 또한, 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울을 토출하는 경우에는, 그 토출에 앞서, 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작을 검사해 둔다. 여기서, 기판(P)에 대해서 배치된 액체방울은 기판(P)에 착탄됨으로써 기판(P) 상에서 확장 습윤된다. 즉, 도 12의 (a)에 원으로 도시된 바와 같이, 기판(P)에 착탄된 액체방울은 1개의 픽셀의 크기보다 큰 직경(C)을 갖도록 확장 습윤된다. 액체방울은 Y축 방향에 있어서 소정 간격(1개분의 픽셀)을 비워 배치되어 있으므로, 기판(P) 상에 배치된 액체방울 끼리는 중첩되지 않도록 설정되어 있다. 이렇게 함으로써 Y축 방향에 있어서 기판(P) 상에 액체 재료가 과잉으로 형성되는 것을 막아 벌지의 발생을 방지할 수 있다.

또한, 도 12의 (a)에서는, 기판(P)에 배치된 경우의 액체방울 끼리는 중첩되지 않도록 배치되어 있지만, 약간 중첩하도록 액체방울이 배치될 수도 있다. 또한, 여기에서는 1개분의 픽셀을 비워 액체방울이 배치되어 있지만, 2개 이상의 임의의 수의 피크 셀분만큼 간격을 비워 액체방울을 배치할 수도 있다. 이 경우, 기판(P)에 대한 토출 헤드(1)의 주사 동작 및 배치 동작(토출 동작)을 증가하여 기판 상의 액체방울들 사이를 보간할 수 있다.

또한, 기판(P)의 표면은 스텝 S2 및 S3에 의해 소기의 발액성으로 미리 가공되어 있으므로, 기판(P) 상에 배치한 액체방울의 과잉 확장이 억제된다. 그 때문에, 패턴 형상을 양호한 상태로 확실하게 제어할 수 있는 동시에 후막화도 용이하다.

도 12의 (b)는 2번째의 주사에 의해 토출 헤드(1)로부터 기판(P)에 액체방울을 배치했을 때의 모식도이다. 또한, 도 12의 (b)에 있어서, 2번째의 주사 시에 배치된 액체방울에는 「2」를 붙인다. 2번째의 주사 시에는, 1번째의 주사 시에 배치된 액체방울 「1」의 사이를 보간하도록 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울이 동시에 배치된다. 그리고, 1번째 및 2번째의 주사 및 배치 동작으로 액체방울들이 연속되고, 제 1, 제 2, 제 3 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에서 제 1 측부 패턴(Wa)이 형성된다. 여기서, 액체방울 「2」도 기판(P)에 착탄됨으로써 확장 습윤되고, 액체방울 「2」의 일부와 먼저 기판(P)에 배치되어 있는 액체방울 「1」의 일부가 서로 중첩된다. 구체적으로는, 액체방울 「1」 상에 액체방울 「2」의 일부가 서로 중첩된다. 또한, 이 2번째의 주사에 있어서도, 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울을 토출하는 경우에는, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작을 검사해 둘 수 있다.

여기서, 기판(P) 상에 제 1 측부 패턴(Wa)을 형성하기 위한 액체방울을 배치한 후, 분산매의 제거를 행하기 위해서 필요에 따라서 중간 건조 처리(스텝 S5)를 행할 수 있다. 중간 건조 처리는 예를 들면 핫 플레이트, 전기로, 및 열풍 발생기 등의 가열 장치를 이용한 일반적인 열처리 외에 램프 어닐을 이용한 광 처리일 수도 있다.

다음으로, 토출 헤드(1)와 기판(P)이 2개의 픽셀의 크기분만큼 X축 방향으로 상대 이동한다. 여기에서는 토출 헤드(1)가 기판(P)에 대해서 +X 방향으로 2개의 픽셀분만큼 스텝 이동한다. 이것에 따라 토출 노즐(11A, 11B, 11C)도 이동한다. 그리고, 토출 헤드(1)는 3번째의 주사를 행한다. 이것에 의해, 도 13의 (a)에 도시된 바와 같이, 막 패턴(W1, W2, w3) 각각의 일부를 구성하는 제 2 측부 패턴(Wb)을 형성하기 위한 액체방울 「3」이 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 제 l 측부 패턴(Wa)에 대해서 X축 방향으로 간격을 비워 기판(P) 상에 동시에 배치된다. 여기에서도, 액체방울 「3」은 Y축 방향으로 1개분의 픽셀을 비워 배치된다. 또한, 이 3번째의 주사에 있어서도, 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울을 토출하는 경우에는, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작을 검사해 둔다.

도 13의 (b)는 4번째의 주사에 의해 토출 헤드(1)로부터 기판(P)에 액체방울을 배치했을 때의 모식도이다. 또한, 도 13의 (b)에 있어서, 4번째의 주사 시에 배치된 액체방울에는 「4」를 붙인다. 4번째의 주사 시에는 3번째의 주사 시에 배치된 액체방울 「3」의 사이를 보간(補間)하도록 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울이 동시에 배치된다. 그리고, 3번째 및 4번째의 주사 및 배치 동작으로 액체방울들이 연속되고, 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에서 제 2 측부 패턴(Wb)이 형성된다. 여기에서는, 액체방울 「4」의 일부와 먼저 기판(P)에 배치되어 있는 액체방울 「3」의 일부가 서로 중첩된다. 구체적으로는, 액체방울 「3」 상에 액체방울 「4」의 일부가 서로 중첩된다. 또한, 이 4번째의 주사에 있어서도, 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울을 토출하는 경우에도, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 할 수 있다.

여기에서도 기판(P) 상에 제 2 측부 패턴(Wb)을 형성하기 위한 액체방울을 배치한 후, 분산매의 제거를 행하기 위해서 필요에 따라서 중간 건조 처리를 행할 수 있다.

다음으로, 토출 헤드(1)가 기판에 대해서 X방향으로 1개의 픽셀분만큼 스텝 이동하고, 이것에 따라 토출 노즐(11A, 11B, 11C)도 -X방향으로 1개의 픽셀분만큼 이동한다. 그리고, 토출 헤드(1)는 5번째의 주사를 행한다. 이것에 의해, 도 14의 (a)에 도시된 바와 같이, 막 패턴(W1, W2, W3) 각각의 일부를 구성하는 중앙 패턴(Wc)을 형성하기 위한 액체방울 「5」가 기판 상에 동시에 배치된다. 여기에서도, 액체방울 「5」는 Y축 방향으로 1개분의 픽셀을 비워 배치된다. 여기서, 액체방울 「5」의 일부와 먼저 기판(P)에 배치되어 있는 액체방울 「1」, 「3」의 일부가 서로 중첩된다. 구체적으로는, 액체방울 「1」, 「3」 상에 액체방울 「5」의 일부가 서로 중첩된다. 또한, 이 5번째의 주사에 있어서도, 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울을 토출하는 경우에서는, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작을 검사할 수 있다.

도 14의 (b)는 6번째의 주사에 의해 토출 헤드(1)로부터 기판(P)에 액체방울을 배치했을 때의 모식도이다. 또한, 도 14의 (b)에 있어서, 6번째의 주사 시에 배치된 액체방울에는 「6」을 붙인다. 6번째의 주사 시에는 5번째의 주사 시에 배치된 액체방울 「5」의 사이를 보간하도록 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울이 동시에 배치된다. 그리고, 5번째 및 6번째의 주사 및 배치 동작으로 액체방울들이 연속되고, 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에서 중앙 패턴(Wc)이 형성된다. 여기에서는, 액체방울 「6」의 일부와 먼저 기판(P)에 배치되어 있는 액체방울 「5」의 일부가 서로 중첩된다. 구체적으로는, 액체방울 「5」 상에 액체방울 「6」의 일부가 서로 중첩된다. 또한, 먼저 기판(P)에 배치되어 있는 액체방울 「2」, 「4」 상에 액체방울 「6」의 일부가 서로 중첩된다. 또한, 이 6번째의 주사에 있어서도, 각 토출 노즐(11A, 11B, 11C)로부터 액체방울을 토출하는 경우에서 는, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 할 수 있다.

이상에 의해, 각 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각에 막 패턴(W1, W2, W3)이 형성된다.

이상 설명한 바와 같이, 패턴 형성 영역(R1, R2, R3)에 복수의 액체방울을 순차 배치하여 서로 거의 동일 형상의 막 패턴(W1, W2, W3)을 형성할 때, 각 패턴 형성 영역(R1, R2, R3) 각각의 복수의 픽셀에 대해서 액체방울을 배치하는 배치 순서를 동일하게 설정했으므로, 각 액체방울 「1」∼「6」 각각이 그 일부를 중첩시키도록 배치된 경우라도, 그 중첩 형태는 각 막 패턴(W1, W2, W3)에서 동일하므로, 각 막 패턴(W1, W2, W3)의 외관을 동일하게 할 수 있다. 따라서, 각 막 패턴(W1, W2, W3)들 사이에서의 외관상의 얼룩 발생을 억제할 수 있다.

그리고, 액체방울의 배치 순서를 각 막 패턴(W1, W2, W3) 각각에 대해서 동일하게 했으므로, 각 막 패턴(W1, W2, W3)의 각각에 대해서 액체방울의 배치(액체방울들의 중첩 형태)가 동일해지므로, 외관상의 얼룩 발생을 억제할 수 있다.

또한, 막 패턴(W1, W2, W3) 각각에 있어서의 액체방울들의 중첩 상태가 동일하게 설정되어 있으므로, 막 패턴 각각의 막 두께 분포를 거의 동일하게 할 수 있다. 따라서, 이 막 패턴이 기판의 면 방향에서 반복되는 패턴인 경우, 구체적으로는, 예를 들면 표시 장치의 화소에 대응하여 복수 형성되어 있는 패턴인 경우, 각 화소 각각은 동일한 막 두께 분포를 갖게 된다. 따라서, 기판의 면 방향의 각 위치에 있어서 동일한 기능을 발휘할 수 있다.

또한, 제 1, 제 2 측부 패턴(Wa, Wb)을 형성하고 나서 그 사이를 메우도록 중앙 패턴(Wc)을 형성하기 위한 액체방울 「5」, 「6」을 배치하도록 했으므로, 각 막 패턴(W1, W2, W3)의 선폭을 거의 균일하게 형성할 수 있다. 즉, 중앙 패턴(Wc)을 기판(P) 상에 형성하고 나서 측부 패턴(Wa, Wb)을 형성하기 위한 액체방울 「1」, 「2」, 「3」, 「4」를 배치한 경우, 이들 액체방울이 먼저 기판(P)에 형성되어 있는 중앙 패턴(Wc)으로 끌어 당겨지는 현상이 생기기 때문에, 각 막 패턴(W1, W2, W3)의 선폭 제어가 곤란해지는 경우가 있지만, 본 실시형태와 같이, 먼저 측부 패턴(Wa, Wb)을 기판(P)에 형성하고 나서 그 사이를 메우도록 중앙 패턴(Wc)을 형성하기 위한 액체방울 「5」, 「6」을 배치하도록 했으므로, 각 막 패턴(W1, W2, W3)의 선폭 제어를 정밀도 좋게 행할 수 있다.

또한, 중앙 패턴(Wc)을 형성하고 나서 측부 패턴(Wa, Wb)을 형성할 수도 있다. 이 경우, 각 막 패턴(W1∼W3) 각각에 대해서 동일한 액체방울 배치 순서로 함으로써, 각 패턴들 사이에서의 외관상의 얼룩 발생을 억제할 수 있다.

이러한 도전막 배선 패턴(금속 배선 패턴)의 형성에 있어도, 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작을 검사함으로써, 액체방울을 양호하게 토출할 수 있고, 따라서 얻어지는 도전막 배선 패턴의 신뢰성을 높일 수 있다.

다음으로, 상기 구성 요소의 형성예로서, 마이크로 렌즈의 제조 방법에 대해서 설명한다.

본 예에서는, 우선 도 15의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 액체방울 토출 장치(IJ)의 토출 헤드(1)로부터 기판(P) 상에 광투과성 수지로 이루어진 액체방울(22a)을 토출하고 이것을 도포한다. 또한, 각 토출 헤드(1)로터 액체방울(622a)을 토출하는 경우에는, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 한다.

기판(P)으로서는, 얻어지는 마이크로 렌즈를 예를 들면 스크린용 광학막에 적용하는 경우, 초산 셀룰로오스나 프로필 셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리염화비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르 등의 투명 수지(광투과성 수지)로 이루어진 광투과성 시트 또는 광투과성 필름이 사용된다. 또한, 기판으로서, 유리, 폴리카보네이트, 폴리알릴레이트, 폴리에테르설폰, 비정질 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 투명 재료(광투과성 재료)로 이루어진 기판도 사용 가능해진다.

광투과성 수지로서는, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리히드록시에틸메타크릴레이트, 폴리시클로헥실메타크릴레이트 등의 아크릴계 수지, 폴리디에틸렌글리콜비스알릴카보네이트, 폴리카보네이트 등의 알릴계 수지, 메타크릴 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리초산비닐계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리아미드계 수지, 불소계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리스틸렌계 수지 등의 열가소성 또는 열경화성의 수지를 들 수 있고, 이들 중 일종이 사용되거나 또는 복수 종이 혼합되어 사용된다.

단, 본 예에서는, 특히 광투과성 수지로서 방사선 조사 경화형의 것이 사용된다. 이 방사선 조사 경화형의 것은 상기 광투과성 수지에 비이미다졸계 화합물 등의 광중합 개시제가 배합되어 이루어진 것으로, 이러한 광중합 개시제가 배합됨으로써, 방사선 조사 경화성이 부여된 것이다. 방사선이란 가시광선, 자외선, 원 자외선, X선, 전자선 등의 총칭으로, 특히 자외선이 일반적으로 이용된다. 이러한 방사선 조사 경화형의 광투과성 수지의 액체방울(622a)을, 소기의 단일 마이크로 렌즈의 크기에 따라 기판(P) 상에 한개 또는 복수개 토출한다. 그러면, 이 액체방울(622)로 이루어진 광투과성 수지(623)는 그 표면 장력에 의해서 도 15의 (a)에 도시된 볼록 형상(거의 반구 형상)의 것이 된다. 이와 같이 하여, 형성해야 할 단일의 마이크로 렌즈에 대해서 소정량의 광투과성 수지를 토출 도포하고, 또한 이 도포 처리를 소기의 마이크로 렌즈의 개수분 행하면, 이들 광투과성 수지(623)에 자외선 등의 방사선을 조사하고, 도 15의 (b)에 도시된 바와 같이 이것을 경화시켜 경화체(623a)로 한다. 또한, 토출 헤드(1)로부터 토출되는 액체방울(622a)의 한 방울당 용량은 토출 헤드(1)나 토출 잉크 재료에 의해서도 다르지만, 통상은 lpL∼20pL 정도로 된다.

그 다음으로, 도 15의 (c)에 도시된 바와 같이, 토출 헤드(1)로부터 이들 경화체(623a) 각각의 위에 다수의 광확산성 미립자(626)을 분산시킨 액체방울(622b)을 소기의 개수 토출하고, 경화체(623a)의 표면에 부착시킨다. 광확산성 미립자(626)로서는, 실리카, 알루미나, 티타니아, 탄산칼슘, 수산화 알루미늄, 아크릴 수지, 유기 실리콘 수지, 폴리스틸렌, 요소수지, 포름알데히드 결합물 등의 미립자를 들 수 있고, 이들 중 일종이 사용되거나, 또는 복수 종이 혼합되어 사용된다. 단, 광확산성 미립자(626)가 충분한 광확산성을 발휘하기 위해서는, 이 미립자가 광투과성인 경우, 그 굴절률이 상기 광투과성 수지의 굴절률과 충분히 차가 있을 필요가 있다. 따라서, 광확산성 미립자(626)가 광투과성인 경우에는, 이러한 조건을 만족하도록 사용하는 광투과성 수지에 따라 적당하게 선정하여 사용된다.

이러한 광확산성 미립자(626)는 미리 적당한 용제(예를 들면 광투과성 수지에 이용되고 있는 용제)에 분산되어짐으로써, 토출 헤드(1)로부터 토출 가능한 잉크에 조정되어 있다. 그 때, 광확산성 미립자(626)의 표면을 계면활성제로 피복 처리하거나, 또는 용융 수지로 덮는 처리를 함으로써 광확산성 미립자(626)의 용제로의 분산성을 높여 두는 것이 바람직하고, 이러한 처리를 행함으로써, 토출 헤드(1)로부터의 토출이 양호해지는 유동성을 광확산성 미립자(626)에 부가할 수 있다. 또한, 표면 처리를 행하기 위한 계면활성제로서는 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 실리콘계, 불소 수지계 등의 것이 광확산 미립자(624)의 종류에 따라 적당하게 선택되어 사용된다.

또한, 이러한 광확산성 미립자(626)로서는, 그 입자 직경이 200nm 이상, 500nm 이하의 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 범위로 하면, 입자 직경이 200nm 이상인 것에 의해 그 광확산성이 양호하게 확보되고, 또한 500nm 이하인 것에 의해 토출 헤드(1)의 노즐로부터 양호하게 토출할 수 있도록 되기 때문이다.

또한, 광확산성 미립자(626)를 분산시킨 액체방울(622b)의 토출에 대해서는, 광투과성 수지의 액체방울(22a)을 토출한 토출 헤드(1)와 동일한 것을 사용할 수도 있고, 다른 것을 사용할 수도 있다. 동일한 것을 사용한 경우에는, 토출 헤드(1)를 포함하는 장치 구성을 간략화할 수 있다. 한편, 다른 것을 사용한 경우에는, 각 잉크(광투과성 수지로 이루어진 잉크와 광확산성 미립자(24)로 이루어진 잉크)마다에 전용 헤드로 할 수 있기 때문에, 도포되는 잉크의 교체 시에 헤드의 세정 등을 행할 필요가 없어져 생산성을 향상할 수 있다.

그 후, 가열 처리, 감압 처리, 또는 가열 감압 처리를 행함으로써, 광확산성 미립자(624)를 분산시킨 액체방울(622b) 중 용제를 증발시킨다. 그러면, 경화체(623a)의 표면은 액체방울(622b)의 용제에 의해 연화되어 여기에 광확산성 미립자(626)가 부착됨으로써, 용제가 증발하여 경화체(623a)의 표면이 재경화됨에 따라, 광확산성 미립자(624)는 광투과성 수지의 경화체(623a) 표면에 고정된다. 그리고, 이와 같이 광확산성 미립자(624)를 경화체(623a) 표면에 고정함으로써, 도 15의 (d)에 도시된 바와 같이, 그 표면부에 광확산성 미립자(624)를 분산시켜 이루어진 본 발명의 마이크로 렌즈(625)를 얻을 수 있다.

이러한 마이크로 렌즈(625)의 제조 방법에 있어서도, 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작을 검사함으로써, 액체방울(622a, 622b)을 양호하게 토출할 수 있고, 따라서 얻어지는 마이크로 렌즈(625)의 신뢰성을 높일 수 있다.

또한, 잉크젯법을 이용하여 광투과성 수지(623)와 광확산성 미립자(624)로 이루어진 볼록 형상(거의 반구 형상)의 마이크로 렌즈(625)를 형성하므로, 금형 성형법이나 사출 성형법을 이용한 경우와 같이 성형 금형을 필요로 하지 않고, 또한 재료의 손실도 거의 없어진다. 따라서, 제조 비용의 저감화를 도모할 수 있다. 또한, 얻어지는 마이크로 렌즈(625)가 볼록 형상(거의 반구 형상)의 것이 되므로, 이 마이크로 렌즈를, 예를 들면 360˚의 넓은 각도 범위(방향)에 걸쳐 거의 균일하게 광확산시킬 수 있고, 또한 광확산성 미립자(626)를 복합화함으로써, 얻어지는 마이크로 렌즈에 높은 확산 성능을 부여할 수 있다.

다음으로, 상기 구성 요소의 형성예로서, 전자 방출 소자를 구비한 화상 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다.

도 16의 (a) 및 도 l6(b)에 도시된 기체(基體)(70A)는 상기 액체방울 토출 장치(IJ)에 의한 처리에 의해, 구성 요소의 일부가 형성된 화상 표시 장치의 전자원 기판(70B)이 되는 기판이다. 기체(70A)는 매트릭스 형상으로 배치된 복수의 피토출부(78)를 가진다.

구체적으로는, 기체(70A)는 기판(72)과, 기판(72) 상에 위치하는 나트륨 확산 방지층(74)과, 나트륨 확산 방지층(74) 상에 위치하는 복수의 소자 전극(76A, 76B)과, 복수의 소자 전극(76A) 상에 위치하는 복수의 금속 배선(79A)과, 복수의 소자 전극(76B) 상에 위치하는 복수의 금속 배선(79B)을 구비하고 있다. 복수의 금속 배선(79A) 각각은는 Y축 방향으로 연장되는 형상을 가진다. 복수의 금속 배선(79A) 각각은 X축 방향으로 연장되는 형상을 가진다. 금속 배선(79A)과 금속 배선(79B) 사이에는 절연막(75)이 형성되어 있으므로, 금속 배선(79A)과 금속 배선(79B)은 전기적으로 절연되어 있다.

한쌍의 소자 전극(76A) 및 소자 전극(76B)을 포함하는 부분은 1개의 화소 영역에 대응한다. 한쌍의 소자 전극(76A) 및 소자 전극(76B)은 서로 소정의 간격만큼 떨어져 나트륨 확산 방지층(74) 상에서 대향하고 있다. 어떤 화소 영역에 대응하는 소자 전극(76A)은 대응하는 금속 배선(79A)과 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 그 화소 영역에 대응하는 소자 전극(76B)은 대응하는 금속 배선(79B)과 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 본 명세서에서는, 기판(72)과 나트륨 확산 방지층(74) 을 합체한 부분을 지지 기판으로 표기하는 것도 있다.

기체(70A) 각각의 화소 영역에 있어서, 소자 전극(76A)의 일부와, 소자 전극(76B)의 일부와, 소자 전극(76A)과 소자 전극(76B) 사이에서 노출된 나트륨 확산 방지층(74)이 피토출부(78)에 대응한다. 보다 구체적으로는, 피토출부(78)는 도전성 박막(411F)(도 17의 (b) 참조)이 형성되어야 할 영역이고, 도전성 박막(411F)은 소자 전극(76A)의 일부와, 소자 전극(76B)의 일부와, 소자 전극(76A, 76B) 사이의 갭을 덮도록 형성된다. 도 16의 (b)에 있어서 파선으로 도시된 바와 같이, 본 예에 있어서의 피토출부(78)의 형상은 원형이다.

도 15의 (b)에 도시된 기체(70A)는 X축 방향 및 Y축 방향으로 규정되는 가상 평면과 평행하게 위치하고 있다. 그리고, 복수의 피토출부(78)가 형성되는 매트릭스의 행방향 및 열방향은 각각 X축 방향 및 Y축 방향과 평행하다. 기체(70A)에 있어서, 피토출부(78)는 X축 방향에 이 순번으로 주기적으로 배열되어 있다. 또한, 피토출부(78)는 Y축 방향으로 소정의 간격을 두고 1열로 배열되어 있다.

피토출부(78)들의 X축 방향을 따른 간격( LRX)은 거의 190μm이다. 피토출부(78)들의 상기 간격 및 피토출부의 상기 크기는 40인치 정도의 크기의 하이비전 텔레비전에 있어서, 화소 영역간의 간격에 대응한다.

상기 액체방울 토출 장치(IJ)는 도 16의 (a), 도 16의 (b)의 기체(70A)의 피토출부(78) 각각에 대해서, 액상 재료(액상체)로서의 도전성 박막 재료(411)를 토출하는 것으로 되어 있다. 이 도전성 박막 재료(411)로서는, 예를 들면 유기 팔라듐 용액이 사용된다.

액체방울 토출 장치(IJ)를 사용하여 화상 표시 장치의 제조하는데는, 우선 소다 유리 등으로 형성된 기판(72) 상에 이산화 규소(SiO₂)를 주성분으로 하는 나트륨 확산 방지층(74)을 형성한다. 구체적으로는, 스퍼터법을 이용하여 기판(72) 상에 두께 1μm의 SiO₂ 막을 형성함으로써 나트륨 확산 방지층(74)을 얻는다. 다음으로, 나트륨 확산 방지층(74) 상에 스퍼터법 또는 진공 증착법에 의해 두께 5nm의 티타늄 층을 형성한다. 그리고, 포토리소그래피 기술 및 에칭 기술을 이용하여, 그 티타늄 층으로부터 서로 소정의 거리만큼 떨어져 위치하는 한쌍의 소자 전극(76A) 및 소자 전극(76B)을 복수쌍 형성한다. 그 후, 스크린 인쇄 기술을 이용하여, 나트륨 확산 방지층(74)상 및 복수의 소자 전극(76A) 상에 은(Ag) 페이스트를 도포하여 소성함으로써, Y축 방향으로 연장되는 복수의 금속 배선(79A)을 형성한다. 다음으로, 스크린 인쇄 기술을 이용하여, 각 금속 배선(79A)의 일부분에 유리 페이스트를 도포하여 소성함으로써, 절연막(75)을 형성한다. 그리고, 스크린 인쇄 기술을 이용하여, 나트륨 확산 방지층(74) 및 복수의 소자 전극(76B) 상에 Ag 페이스트를 도포하여 소성함으로써, X축 방향으로 연장되는 복수의 금속 배선(79B)을 형성한다. 또한, 금속 배선(79B)을 제작하는 경우에는, 금속 배선(79B)이 절연막(75)을 통해서 금속 배선(79A)과 교차하도록 Ag 페이스트를 도포한다. 이상과 같은 공정에 의해 도 16의 (a), 도 16의 (b)에 도시된 기체(70A)를 얻는다.

다음으로, 대기압 하의 산소 플라즈마 처리에 의해 기체(70A)를 친액화한다. 이 처리에 의해, 소자 전극(76A)의 표면의 일부와, 소자 전극(76B)의 표면의 일부 와, 소자 전극(76A)과 소자 전극(76B) 사이에서 노출된 지지 기판의 표면이 친액화된다. 그리고, 이들 표면이 피토출부(78)로 된다. 또한, 재질에 의해서는, 상기와 같은 표면 처리를 행하지 않고서도, 소기의 친액성을 나타내는 표면이 얻어지는 것도 있다. 그러한 경우에는, 상기 표면 처리를 행하지 않고서도, 소자 전극(76A)의 표면의 일부와, 소자 전극(76B)의 표면의 일부와, 소자 전극(76A)과 소자 전극(76B) 사이에서 노출된 나트륨 확산 방지층(74)의 표면은 피토출부(78)로 된다.

피토출부(78)가 형성된 기체(70A)는 반송 장치에 의해, 액체방울 토출 장치(IJ)의 스테이지로 옮겨진다. 그리고, 도 17의 (a)에 도시된 바와 같이, 액체방울 토출 장치(IJ)는 피토출부(78) 모두에 도전성 박막(411F)이 형성되도록, 토출 헤드(1)로부터 도전성 박막 재료(411)를 토출한다. 도전성 박막 재료(411)를 토출하는 경우에는, 그 토출에 앞서 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 한다.

본 예에서는, 피토출부(78) 상에 착탄된 도전성 박막 재료(411)의 액체방울의 직경이 60μm에서 80μm의 범위가 되도록, 토출 헤드(1)로부터 토출을 행한다. 기체(70A)의 피토출부(78) 모두에 도전성 박막 재료(411)의 층이 형성된 경우에는, 반송 장치가 기체(70A)를 건조 장치 내에 위치시킨다. 그리고, 피토출부(78) 상의 도전성 박막 재료(411)를 완전히 건조시킴으로써, 피토출부(78) 상에 산화 팔라듐을 주성분으로 하는 도전성 박막(411F)을 얻는다. 이와 같이, 각각의 화소 영역에 있어서, 소자 전극(76A)의 일부와, 소자 전극(76B)의 일부와, 소자 전극(76A)과 소자 전극(76B) 사이에 노출된 나트륨 확산 방지층(74)을 덮는 도전성 박막(411F)이 형성된다.

다음으로 소자 전극(76A) 및 소자 전극(76B) 사이에, 펄스 형상의 소정의 전압을 인가함으로써, 도전성 박막(411F)의 일부분에 전자 방출부(411D)를 형성한다. 또한, 소자 전극(76A) 및 소자 전극(76B) 사이의 전압의 인가를 유기물 분위기 하 및 진공 조건 하에서도 각각 행하는 것이 바람직하다. 그러면, 전자 방출부(411D)로부터의 전자 방출 효율이 보다 높아지기 때문이다. 소자 전극(76A)과, 대응하는 소자 전극(76B)과, 전자 방출부(411D)가 설치된 도전성 박막(411F)은 전자 방출 소자이다. 또한, 각각의 전자 방출 소자는 각각의 화소 영역에 대응한다.

이상의 공정에 의해, 도 17의 (b)에 도시된 바와 같이, 기체(70A)는 전자 소스 기판(70B)으로 된다.

다음으로, 도 17의 (c)에 도시된 바와 같이, 전자 소스 기판(70B)과, 전면 기판(70C)을 공지 방법에 의해 접합함으로써, 전자 방출 소자를 구비한 화상 표시 장치(70)를 얻을 수 있다. 전면 기판(70C)은 유리 기판(82)과, 유리 기판(82) 상에 매트릭스 형상으로 위치하는 복수의 형광부(84)와, 복수의 형광부(84)를 덮는 메탈 플레이트(86)를 가진다. 메탈 플레이트(86)는 전자 방출부(411D)로부터의 전자빔을 가속하기 위한 전극으로서 기능한다. 전자 소스 기판(70B)과 전면 기판(70C)은 복수의 전자 방출 소자 각각이 복수의 형광부(84) 각각에 대향하도록 위치 맞춤되어 있다. 또한, 전자 소스 기판(70B)과 전면 기판(70C) 사이는 진공 상태로 유지되어 있다.

이러한 전자 방출 소자를 구비한 화상 표시 장치의 제조 방법에 있어서도, 토출에 앞서, 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 함으로써, 도전성 박막 재료(411)를 양호하게 토출할 수 있고, 따라서 얻어지는 화상 표시 장치의 신뢰성을 높일 수 있다.

본 발명의 액체방울 토출 장치(IJ)에 의해, 상기 액정 장치 및 유기 EL 장치 등의 전기 광학 장치(디바이스)를 제조할 수 있다. 이하, 액체방울 토출 장치를 갖는 디바이스 제조 장치(IJ)로 제조된 전기 광학 장치를 구비한 전자 기기의 적용예에 대해서 설명한다.

도 18의 (a)는 휴대 전화의 일례를 나타낸 사시도이다. 도 18의 (a)에 있어서, 부호(1000)는 휴대 전화 본체를 나타내고, 부호(1001)는 상기 전기 광학 장치를 이용한 표시부를 나타내고 있다. 도 18의 (b)는 손목시계형 전자 기기의 일례를 나타낸 사시도이다. 도 18의 (b)에 있어서, 부호(1100)는 시계 본체를 나타내고, 부호(1101)는 상기 전기 광학 장치를 이용한 표시부를 나타내고 있다. 도 18의 (c)는 워드프로세서, 컴퓨터 등의 휴대형 정보 처리 장치의 일례를 나타낸 사시도이다. 도 18의 (c)에 있어서, 부호(1200)는 정보 처리 장치, 부호(1202)는 키보드 등의 입력부, 부호(1204)는 정보 처리 장치 본체, 부호(1206)는 상기 전기 광학 장치를 이용한 표시부를 나타내고 있다. 도 18의 (a)∼도 18의 (c)에 도시된 전자 기기는 상기 실시형태의 전기 광학 장치를 구비하고 있으므로, 표시 품질이 우수하고, 밝은 화면의 표시부를 구비한 전자 기기를 실현할 수 있다.

또한, 상술한 예에 더하여, 다른 예로서 액정 텔레비전, 뷰파인더형이나 모니터 직시형의 비디오테이프 레코더, 카 네비게이션 장치, 페이저, 전자 수첩, 계 산기, 워드 프로세서, 워크스테이션, 화상 전화, POS 단말, 전자 페이퍼, 터치 패널을 구비한 기기 등을 들 수 있다. 본 발명의 전기 광학 장치는 이러한 전자 기기의 표시부로서도 적용할 수 있다.

본 발명에 의하면, 토출 노즐로부터 토출된 액체방울을 광학적으로 검출함으로써, 검출광의 광로 상에 각 토출 노즐로부터 토출된 액체방울이 1개만 배치 가능해지므로, 토출 노즐로부터 액체방울이 정상적으로 토출되고 있는지의 여부를 정확하게 검사할 수 있고, 또한 토출에 앞서, 미리 토출 헤드(1)의 토출 동작의 검사를 함으로써, 도전성 박막 재료(411)를 양호하게 토출할 수 있고, 따라서 얻어지는 화상 표시 장치의 신뢰성을 높일 수 있다.

Claims (10)

1. 토출 헤드에 설치된 토출 노즐로부터 토출되는 액체방울을 검사하는 검사 장치로서,

   검출광을 사출하는 투광부와,

   상기 검출광이 조사(照射)되는 수광부와,

   상기 검출광의 광로에 대해서 교차하는 방향으로 상기 토출 헤드를 이동시키는 이동 수단을 구비하고,

   상기 이동 수단은 상기 이동 방향으로 상기 토출 헤드를 이동하고, 상기 토출 노즐은 일정 시간 간격으로 상기 액체방울을 토출하고,

   D : 상기 검출광의 광속(光束)의 직경,

   d : 상기 액체방울의 직경,

   L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격,

   H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지, 상기 토출 헤드와 상기 검사 장치가 상대적으로 이동한 거리,

   는

   D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

   의 조건을 만족하도록 설정되는 검사 장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 검출광의 광속의 직경이 상기 수광부의 계측 영역의 직경보다 큰 경우, 상기 D는 상기 계측 영역의 직경인 검사 장치.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 D, d, 및 H 중 적어도 어느 하나의 값을 재설정할 수 있는 제어 수단을 구비하는 검사 장치.
4. 제 1항에 있어서,

   상기 토출 노즐의 수는 임의로 설정할 수 있는 검사 장치.
5. 액상체(液狀體)의 액체방울을 토출할 수 있는 복수 형성된 토출 노즐을 갖는 토출 헤드를 구비한 액체방울 토출 장치의 검사 방법으로서,

   투광부로부터 이 투광부와 대향하도록 설치된 수광부에 대해서 검출광을 조사하고,

   상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울을 일정 시간 간격으로 토출하고,

   상기 검출광의 광로 상을 상기 액체방울이 통과함으로써 상기 수광부에서의 수광량을 검사하고,

   검사 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐의 토출 상황을 검사할 때,

   D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

   의 조건을 만족하도록 설정하고, 단,

   D : 상기 검출광의 광속의 직경,

   d : 상기 액체방울의 직경,

   L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격,

   H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리

   로 하는 검사 방법.
6. 액체방울 토출 장치로서,

   액상체의 액체방울을 각각 토출 가능하도록 복수 배열된 토출 노즐을 갖는 토출 헤드와,

   상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사하는 검사 장치와,

   상기 검사 장치의 검사 결과에 기초하여 상기 토출 헤드에 대해서 크리닝 처리를 행할 것인지 여부를 판단하는 제어장치를 구비하고,

   상기 검사 장치는, 검출광을 사출하는 투광부와,

   상기 투광부로부터의 상기 검출광이 조사되는 수광부와,

   상기 검출광의 광로에 대해서 교차하는 방향으로 상기 토출 헤드를 일정 속도로 이동시키는 이동 수단을 구비하고,

   상기 이동 수단은 상기 이동 방향으로 상기 토출 헤드를 이동하고,

   상기 토출 노즐은 일정 시간 간격으로 상기 액체방울을 토출하고,

   상기 검사 장치는,

   D : 상기 검출광의 광속의 직경,

   d : 상기 액체방울의 직경,

   L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격,

   H : 1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리,

   로 하면,

   D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

   의 조건을 만족하도록 설정되는 액체방울 토출 장치.
7. 제 6항에 있어서,

   상기 토출 헤드의 수는 임의로 설정할 수 있는 액체방울 토출 장치.
8. 액체방울 토출 방법으로서,

   액상체의 액체방울을 각각 토출 가능하도록 복수 배열된 토출 노즐을 갖는 토출 헤드로부터 액체방울을 토출하는 공정과,

   상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울이 토출되고 있는지의 여부를 검사하는 검사 공정과,

   상기 검사 공정의 검사 결과에 기초하여, 상기 토출 헤드에 대해서 크리닝 처리를 행할 것인지 여부를 판단하는 처리 공정을 갖고,

   상기 검사 공정은 투광부로부터 이 투광부와 대향하도록 설치된 수광부에 대해서 검출광을 조사하고,

   상기 토출 노즐로부터 상기 액체방울을 일정 시간 간격으로 토출하고,

   상기 검출광의 광로 상을 상기 액체방울이 통과함으로써 상기 수광부에서의 수광량을 검사하고,

   검사 결과에 기초하여 상기 토출 노즐의 토출 상황을 검사할 때,

   D/2 + d/2 ≤ L 또한, H ≤ D

   의 조건을 만족하도록 설정되고, 단,

   D : 상기 검출광의 광속의 직경,

   d : 상기 액체방울의 직경,

   L : 상기 토출 헤드의 이동 방향에 있어서의 토출 노즐간의 간격,

   H :1개의 토출 노즐이 액체방울을 토출하고 나서 다음의 액체방울을 토출할 때까지 상기 토출 헤드가 이동한 거리

   로 하는 액체방울 토출 방법.
9. 제 6항에 따른 액체방울 토출 장치에 의해 그 적어도 일부가 형성되어 있는 디바이스.
10. 제 6항에 따른 액체방울 토출 장치에 의해 그 구성 요소의 적어도 일부가 형성되어 있는 전자 기기.

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