JP2002221616A - カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、ｅｌ装置の製造方法及び製造装置、インクジェットヘッドの制御装置、材料の吐出方法及び材料の吐出装置、並びに電子機器 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、ｅｌ装置の製造方法及び製造装置、インクジェットヘッドの制御装置、材料の吐出方法及び材料の吐出装置、並びに電子機器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタの光透過特性、液晶装置のカ
ラー表示特性、ＥＬ発光面の発光特性等といった光学部
材の光学特性を平面的に均一にする。 【解決手段】 基板１２上に複数のドット状のフィルタ
エレメント３を配列して成るカラーフィルタを製造する
カラーフィルタの製造方法である。複数のノズル２７を
列状に配列して成るノズル列２８を有するインクジェッ
トヘッド２２によって基板１２を×方向へ主走査しつ
つ、複数のノズル２７から選択的にフィルタ材料を吐出
してフィルタエレメント領域７にフィルタエレメント３
を形成する。複数のノズル２７を複数のグループに分割
し、これらのノズルグループが基板１２の同じ部分を重
ねて走査するようにインクジェットヘッド２２をＹ方向
へ距離δだけ副走査させながら主走査を複数回繰り返し
て行う。
ラー表示特性、ＥＬ発光面の発光特性等といった光学部
材の光学特性を平面的に均一にする。 【解決手段】 基板１２上に複数のドット状のフィルタ
エレメント３を配列して成るカラーフィルタを製造する
カラーフィルタの製造方法である。複数のノズル２７を
列状に配列して成るノズル列２８を有するインクジェッ
トヘッド２２によって基板１２を×方向へ主走査しつ
つ、複数のノズル２７から選択的にフィルタ材料を吐出
してフィルタエレメント領域７にフィルタエレメント３
を形成する。複数のノズル２７を複数のグループに分割
し、これらのノズルグループが基板１２の同じ部分を重
ねて走査するようにインクジェットヘッド２２をＹ方向
へ距離δだけ副走査させながら主走査を複数回繰り返し
て行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置等といっ
た光学装置に用いられるカラーフィルタを製造する製造
方法及び製造装置に関する。また、本発明は、カラーフ
ィルタを有する液晶装置の製造方法及び製造装置に関す
る。また、本発明は、ＥＬ発光層を用いて表示を行うＥ
Ｌ装置の製造方法及び製造装置に関する。また、対象物
に材料を吐出する材料の吐出方法、及び材料の吐出装置
に関する。更には、これら製造方法を用いて製造された
液晶装置、又はEL装置を搭載した電子機器に関する。
た光学装置に用いられるカラーフィルタを製造する製造
方法及び製造装置に関する。また、本発明は、カラーフ
ィルタを有する液晶装置の製造方法及び製造装置に関す
る。また、本発明は、ＥＬ発光層を用いて表示を行うＥ
Ｌ装置の製造方法及び製造装置に関する。また、対象物
に材料を吐出する材料の吐出方法、及び材料の吐出装置
に関する。更には、これら製造方法を用いて製造された
液晶装置、又はEL装置を搭載した電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ
等といった電子機器の表示部に液晶装置、ＥＬ装置等と
いった表示装置が広く用いられている。また最近では、
表示装置によってフルカラー表示を行うことが多くなっ
ている。液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液
晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すこと
によって行われる。そして、カラーフィルタは、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、
例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各
色フィルタエレメントをストライプ配列、デルタ配列又
はモザイク配列等といった所定の配列で並べることによ
って形成される。
等といった電子機器の表示部に液晶装置、ＥＬ装置等と
いった表示装置が広く用いられている。また最近では、
表示装置によってフルカラー表示を行うことが多くなっ
ている。液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液
晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すこと
によって行われる。そして、カラーフィルタは、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、
例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各
色フィルタエレメントをストライプ配列、デルタ配列又
はモザイク配列等といった所定の配列で並べることによ
って形成される。
【０００３】また、ＥＬ装置によってフルカラー表示を
行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ
（緑），Ｂ（青）のドット状の各色ＥＬ発光層をストラ
イプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定
の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持
して絵素ピクセルを形成し、これらの電極に印加する電
圧を絵素ピクセルごとに制御することによって当該絵素
ピクセルを希望の色で発光させ、これにより、フルカラ
ーの表示を行う。
行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ
（緑），Ｂ（青）のドット状の各色ＥＬ発光層をストラ
イプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定
の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持
して絵素ピクセルを形成し、これらの電極に印加する電
圧を絵素ピクセルごとに制御することによって当該絵素
ピクセルを希望の色で発光させ、これにより、フルカラ
ーの表示を行う。
【０００４】従来、カラーフィルタのＲ，Ｇ，Ｂ等の各
色フィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ
装置のＲ，Ｇ，Ｂ等の各色絵素ピクセルをパターニング
する場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知
られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法
を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料
やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高く
なる等といった問題があった。
色フィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ
装置のＲ，Ｇ，Ｂ等の各色絵素ピクセルをパターニング
する場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知
られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法
を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料
やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高く
なる等といった問題があった。
【０００５】この問題を解消するため、インクジェット
法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に
吐出することによりドット状配列のフィラメントやＥＬ
発光層等を形成する方法が提案された。
法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に
吐出することによりドット状配列のフィラメントやＥＬ
発光層等を形成する方法が提案された。
【０００６】今、図２２（ａ）において、ガラス、プラ
スチック等によって形成された大面積の基板、いわゆる
マザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領
域３０２の内部領域に、図２２（ｂ）に示すように、ド
ット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３を
インクジェット法に基づいて形成する場合を考える。こ
の場合には、例えば図２２（ｃ）に示すように、複数の
ノズル３０４を列状に配列して成るノズル列３０５を有
するインクジェットヘッド３０６を、図２２（ｂ）に矢
印Ａ１及び矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３
０２に関して複数回（図２２では２回）主走査させなが
ら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にイ
ンクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望
位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
スチック等によって形成された大面積の基板、いわゆる
マザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領
域３０２の内部領域に、図２２（ｂ）に示すように、ド
ット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３を
インクジェット法に基づいて形成する場合を考える。こ
の場合には、例えば図２２（ｃ）に示すように、複数の
ノズル３０４を列状に配列して成るノズル列３０５を有
するインクジェットヘッド３０６を、図２２（ｂ）に矢
印Ａ１及び矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３
０２に関して複数回（図２２では２回）主走査させなが
ら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にイ
ンクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望
位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
【０００７】フィルタエレメント３０３はＲ，Ｇ，Ｂ等
の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等
といった適宜の配列形態で配列することによって形成さ
れるものであるので、図２２（ｂ）に示すインクジェッ
トヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ，Ｇ，Ｂの
単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，
Ｂ等の３色分だけ予め設けておいて、それらのインクジ
ェットヘッド３０６を順々に用いて１つのマザーボード
３０１上にＲ，Ｇ，Ｂ等の３色配列を形成する。
の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等
といった適宜の配列形態で配列することによって形成さ
れるものであるので、図２２（ｂ）に示すインクジェッ
トヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ，Ｇ，Ｂの
単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，
Ｂ等の３色分だけ予め設けておいて、それらのインクジ
ェットヘッド３０６を順々に用いて１つのマザーボード
３０１上にＲ，Ｇ，Ｂ等の３色配列を形成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、インクジェ
ットヘッド３０６に関しては、一般に、ノズル列３０５
を構成する複数のノズル３０４のインク吐出量にバラツ
キがあり、例えば図２３（ａ）に示すように、ノズル列
３０５の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中
央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ない
というようなインク吐出特性Ｑを有する。
ットヘッド３０６に関しては、一般に、ノズル列３０５
を構成する複数のノズル３０４のインク吐出量にバラツ
キがあり、例えば図２３（ａ）に示すように、ノズル列
３０５の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中
央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ない
というようなインク吐出特性Ｑを有する。
【０００９】従って、図２２（ｂ）に示すようにしてイ
ンクジェットヘッド３０６によってフィルタエレメント
３０３を形成したとき、図２３（ｂ）に示すように、イ
ンクジェットヘッド３０６の端部に対応する位置Ｐ1又
は中央部Ｐ2、或いはＰ1及びＰ2の両方に濃度の濃いス
ジが形成されてしまい、カラーフィルタの平面的な光透
過特性が不均一になるという問題があった。
ンクジェットヘッド３０６によってフィルタエレメント
３０３を形成したとき、図２３（ｂ）に示すように、イ
ンクジェットヘッド３０６の端部に対応する位置Ｐ1又
は中央部Ｐ2、或いはＰ1及びＰ2の両方に濃度の濃いス
ジが形成されてしまい、カラーフィルタの平面的な光透
過特性が不均一になるという問題があった。
【００１０】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、カラーフィルタの光透過特性、液晶装置
のカラー表示特性、ＥＬ発光面の発光特性等といった光
学部材の光学特性を平面的に均一にできる各光学部材の
製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
ものであって、カラーフィルタの光透過特性、液晶装置
のカラー表示特性、ＥＬ発光面の発光特性等といった光
学部材の光学特性を平面的に均一にできる各光学部材の
製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達成
するため、本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、
基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラ
ーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であっ
て、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有
し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるイン
クジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に
対して主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズ
ルから選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前
記フィルタエレメントを形成する工程と、各前記グルー
プの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査
方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及
び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工
程と、を具備することを特徴とする。
するため、本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、
基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラ
ーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であっ
て、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有
し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるイン
クジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に
対して主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズ
ルから選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前
記フィルタエレメントを形成する工程と、各前記グルー
プの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査
方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及
び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工
程と、を具備することを特徴とする。
【００１２】この構成のカラーフィルタの製造方法によ
れば、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメント
は、インクジェットヘッドの１回の走査によって形成さ
れるのではなくて、異なるノズルグループに属する複数
のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより
所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル間にお
いてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数
のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じること
を防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平
面的に均一にすることができる。
れば、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメント
は、インクジェットヘッドの１回の走査によって形成さ
れるのではなくて、異なるノズルグループに属する複数
のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより
所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル間にお
いてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数
のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じること
を防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平
面的に均一にすることができる。
【００１３】もちろん、本発明のカラーフィルタの製造
方法はインクジェットヘッドを用いる方法であるので、
フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工
程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無
い。
方法はインクジェットヘッドを用いる方法であるので、
フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工
程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無
い。
【００１４】上記構成のカラーフィルタの製造方法にお
いて、前記インクジェットヘッド及び基板のうちの一方
を前記ノズルグループの副走査方向の長さの整数倍の長
さで他方に対して副走査移動させることができる。こう
すれば、複数のノズルグループが前記基板の同じ部分を
重ねて走査することになり、各ノズルグループ内のノズ
ルによって個々のフィルタエレメント領域にインクが重
ねて供給される。
いて、前記インクジェットヘッド及び基板のうちの一方
を前記ノズルグループの副走査方向の長さの整数倍の長
さで他方に対して副走査移動させることができる。こう
すれば、複数のノズルグループが前記基板の同じ部分を
重ねて走査することになり、各ノズルグループ内のノズ
ルによって個々のフィルタエレメント領域にインクが重
ねて供給される。
【００１５】また、上記構成のカラーフィルタの製造方
法において、前記ノズル列は前記副走査方向に対して傾
斜して配置することができる。ノズル列は複数のノズル
を列状に配列することによって形成される。この場合、
ノズル列の配置状態がインクジェットヘッドの副走査方
向に対して平行であるとすると、ノズルから吐出された
フィルタエレメント材料によって形成されるフィルタエ
レメントの隣り合うものの間の間隔、すなわちエレメン
ト間ピッチは、ノズル列を形成する複数のノズルのノズ
ル間ピッチに等しくなる。
法において、前記ノズル列は前記副走査方向に対して傾
斜して配置することができる。ノズル列は複数のノズル
を列状に配列することによって形成される。この場合、
ノズル列の配置状態がインクジェットヘッドの副走査方
向に対して平行であるとすると、ノズルから吐出された
フィルタエレメント材料によって形成されるフィルタエ
レメントの隣り合うものの間の間隔、すなわちエレメン
ト間ピッチは、ノズル列を形成する複数のノズルのノズ
ル間ピッチに等しくなる。
【００１６】エレメント間ピッチがノズル間ピッチに等
しくて良い場合には上記のままで良いのであるが、この
ような場合はどちらかといえば稀なケースであり、通常
は、エレメント間ピッチとノズル間ピッチとが異なって
いる場合の方が多いのが現状である。このようにエレメ
ント間ピッチとノズル間ピッチとが異なる場合には、上
記構成のように、ノズル列をインクジェットヘッドの副
走査方向に対して傾斜させることにより、ノズル間ピッ
チの副走査方向に沿った長さをエレメント間ピッチに合
わせることができる。なお、この場合には、ノズル列を
構成する各ノズルの位置が主走査方向に関して前後にず
れることになるが、これに対しては各ノズルからのフィ
ルタエレメント材料の吐出タイミングをずらせることに
より、各ノズルからのインク滴を希望の位置に供給でき
る。
しくて良い場合には上記のままで良いのであるが、この
ような場合はどちらかといえば稀なケースであり、通常
は、エレメント間ピッチとノズル間ピッチとが異なって
いる場合の方が多いのが現状である。このようにエレメ
ント間ピッチとノズル間ピッチとが異なる場合には、上
記構成のように、ノズル列をインクジェットヘッドの副
走査方向に対して傾斜させることにより、ノズル間ピッ
チの副走査方向に沿った長さをエレメント間ピッチに合
わせることができる。なお、この場合には、ノズル列を
構成する各ノズルの位置が主走査方向に関して前後にず
れることになるが、これに対しては各ノズルからのフィ
ルタエレメント材料の吐出タイミングをずらせることに
より、各ノズルからのインク滴を希望の位置に供給でき
る。
【００１７】また、上記構成のカラーフィルタの製造方
法において、インクジェットヘッドの副走査移動の長さ
は次のようにして決定できる。すなわち、前記ノズル列
の長さをＬ、前記分割によって形成される前記グループ
の数をｎ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度を
θとするとき、前記副走査移動の長さδは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ とすることができる。この構成によれば、インクジェッ
トヘッドは複数のノズルを副走査方向へノズルグループ
ごとに移動させることができる。この結果、例えば、ノ
ズル列が４個のノズルグループに分割される場合を考え
れば、基板上の各部は４個のノズルグループによって重
ねて主走査される。
法において、インクジェットヘッドの副走査移動の長さ
は次のようにして決定できる。すなわち、前記ノズル列
の長さをＬ、前記分割によって形成される前記グループ
の数をｎ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度を
θとするとき、前記副走査移動の長さδは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ とすることができる。この構成によれば、インクジェッ
トヘッドは複数のノズルを副走査方向へノズルグループ
ごとに移動させることができる。この結果、例えば、ノ
ズル列が４個のノズルグループに分割される場合を考え
れば、基板上の各部は４個のノズルグループによって重
ねて主走査される。
【００１８】次に、上記構成のカラーフィルタの製造方
法において、前記ノズル列の両端部分の数個のノズルか
らはフィルタエレメント材料を吐出させないという制御
方法を採用できる。一般のインクジェットヘッドにおい
てインク吐出分布がノズル列の両端部分において他の部
分に比べて変化することは図２３（ａ）に関連して説明
した通りである。このようなインク吐出分布特性を有す
るインクジェットヘッドに関しては、変化の大きいノズ
ル列両端部分の数個のノズルを除いた、インク吐出分布
が一様な複数のノズルを使うことにすれば、フィルタエ
レメントの膜厚を平面的に均一にすることができる。
法において、前記ノズル列の両端部分の数個のノズルか
らはフィルタエレメント材料を吐出させないという制御
方法を採用できる。一般のインクジェットヘッドにおい
てインク吐出分布がノズル列の両端部分において他の部
分に比べて変化することは図２３（ａ）に関連して説明
した通りである。このようなインク吐出分布特性を有す
るインクジェットヘッドに関しては、変化の大きいノズ
ル列両端部分の数個のノズルを除いた、インク吐出分布
が一様な複数のノズルを使うことにすれば、フィルタエ
レメントの膜厚を平面的に均一にすることができる。
【００１９】また、上記のようにノズル列の両端部分の
数個のノズルを使用せずに処理を行う場合には、インク
ジェットヘッドの副走査移動の長さは次のようにして決
定できる。すなわち、前記ノズル列のうち前記インクを
吐出させないことにした両端部ノズルを除いた部分の長
さをＬ、前記分割によって形成される前記グループの数
をｎ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度をθと
するとき、前記副走査移動の長さδは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ とすることができる。
数個のノズルを使用せずに処理を行う場合には、インク
ジェットヘッドの副走査移動の長さは次のようにして決
定できる。すなわち、前記ノズル列のうち前記インクを
吐出させないことにした両端部ノズルを除いた部分の長
さをＬ、前記分割によって形成される前記グループの数
をｎ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度をθと
するとき、前記副走査移動の長さδは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ とすることができる。
【００２０】次に、上記構成のカラーフィルタの製造方
法によって製造されるカラーフィルタは、Ｒ（レッ
ド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）、或いはＣ（シア
ン）,Ｙ（イエロー）,Ｍ（マゼンダ）等の複数色フィル
タエレメントを平面的に適宜のパターンに配列すること
によって形成されると考えられる。このようなカラーフ
ィルタを製造する場合には、複数色のうちの１種類のフ
ィルタ材料をノズル列から吐出するインクジェットヘッ
ドを色数分それぞれ個々に独立して設け、「前記ノズル
列内の各ノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて
走査するように前記インクジェットヘッドを副走査させ
ながら前記主走査を複数回繰り返して行う」という工程
は、前記１個の基板に対して各色毎のインクジェットヘ
ッドを別々に用いて順次に行うことによって実現でき
る。
法によって製造されるカラーフィルタは、Ｒ（レッ
ド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）、或いはＣ（シア
ン）,Ｙ（イエロー）,Ｍ（マゼンダ）等の複数色フィル
タエレメントを平面的に適宜のパターンに配列すること
によって形成されると考えられる。このようなカラーフ
ィルタを製造する場合には、複数色のうちの１種類のフ
ィルタ材料をノズル列から吐出するインクジェットヘッ
ドを色数分それぞれ個々に独立して設け、「前記ノズル
列内の各ノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて
走査するように前記インクジェットヘッドを副走査させ
ながら前記主走査を複数回繰り返して行う」という工程
は、前記１個の基板に対して各色毎のインクジェットヘ
ッドを別々に用いて順次に行うことによって実現でき
る。
【００２１】また、上記のようなＲ，Ｇ，Ｂ，或いは
Ｃ，Ｙ，Ｍ等の複数色フィルタエレメントを有するカラ
ーフィルタを製造する場合、各色を吐出する複数種類の
ノズル列を１つのヘッドの内部に形成することによって
前記インクジェットヘッドを形成し、「前記ノズル列内
の各ノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて走査
するように前記インクジェットヘッドを副走査させなが
ら前記主走査を複数回繰り返して行う」という工程は、
前記インクジェットヘッドによって複数色に対して同時
に行うこともできる。
Ｃ，Ｙ，Ｍ等の複数色フィルタエレメントを有するカラ
ーフィルタを製造する場合、各色を吐出する複数種類の
ノズル列を１つのヘッドの内部に形成することによって
前記インクジェットヘッドを形成し、「前記ノズル列内
の各ノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて走査
するように前記インクジェットヘッドを副走査させなが
ら前記主走査を複数回繰り返して行う」という工程は、
前記インクジェットヘッドによって複数色に対して同時
に行うこともできる。
【００２２】（２）次に、本発明に係るカラーフィルタ
の製造装置は、基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造装置であって、複数のノズルを列状に配列して成る
ノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割さ
れてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘ
ッドへフィルタ材料を供給するインク供給手段と、前記
インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方
に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前
記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他
方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段と、
前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル
吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動作を制御する
主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の動作を制御す
る副走査制御手段とを有し、各前記グループの少なくと
も一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査で
きるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板の
うちの一方を他方に対して副走査させることを特徴とす
る。
の製造装置は、基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造装置であって、複数のノズルを列状に配列して成る
ノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割さ
れてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘ
ッドへフィルタ材料を供給するインク供給手段と、前記
インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方
に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前
記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他
方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段と、
前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル
吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動作を制御する
主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の動作を制御す
る副走査制御手段とを有し、各前記グループの少なくと
も一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査で
きるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板の
うちの一方を他方に対して副走査させることを特徴とす
る。
【００２３】（３）次に、本発明に係る液晶装置の製造
方法は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方
の基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカ
ラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法であって、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して
主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズルから
選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前記フィ
ルタエレメントを形成する工程と、各前記グループの少
なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に
走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記
基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程と、
を具備することを特徴とする。。
方法は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方
の基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカ
ラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法であって、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して
主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズルから
選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前記フィ
ルタエレメントを形成する工程と、各前記グループの少
なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に
走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記
基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程と、
を具備することを特徴とする。。
【００２４】（４）次に、本発明に係る液晶装置の製造
装置は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方
の基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカ
ラーフィルタとを有する液晶装置の製造装置において、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、該インクジェットヘッドへフィルタ材料
を供給するインク供給手段と、前記インクジェットヘッ
ド及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向
に移動させる主走査駆動手段と、前記インクジェットヘ
ッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査方
向に移動させる副走査駆動手段と、前記複数のノズルか
らのインクの吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前
記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段と、
前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段と
を有し、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の
同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記イ
ンクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に
対して副走査させることを特徴とする。ことを特徴とす
る液晶装置の製造装置。
装置は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方
の基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカ
ラーフィルタとを有する液晶装置の製造装置において、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、該インクジェットヘッドへフィルタ材料
を供給するインク供給手段と、前記インクジェットヘッ
ド及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向
に移動させる主走査駆動手段と、前記インクジェットヘ
ッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査方
向に移動させる副走査駆動手段と、前記複数のノズルか
らのインクの吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前
記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段と、
前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段と
を有し、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の
同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記イ
ンクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に
対して副走査させることを特徴とする。ことを特徴とす
る液晶装置の製造装置。
【００２５】（５）次に、本発明に係るＥＬ装置の製造
方法は、それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピクセ
ルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造方法におい
て、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有
し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるイン
クジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に
対して主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズ
ルから選択的にＥＬ発光材料を吐出して前記基板上に前
記ＥＬ発光層を形成する工程と、各前記グループの少な
くとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走
査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基
板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程と、を
具備することを特徴とする。
方法は、それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピクセ
ルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造方法におい
て、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有
し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるイン
クジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に
対して主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズ
ルから選択的にＥＬ発光材料を吐出して前記基板上に前
記ＥＬ発光層を形成する工程と、各前記グループの少な
くとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走
査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基
板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程と、を
具備することを特徴とする。
【００２６】（６）次に、本発明に係るＥＬ装置の製造
装置は、 それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピク
セルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造装置におい
て、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有
し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるイン
クジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへＥＬ発
光材料を供給するインク供給手段と、複数のノズルを列
状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数の
グループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該
インクジェットヘッドへ前記ＥＬ発光材料を供給するイ
ンク供給手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基
板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる
主走査駆動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記
基板のうちの一方を他方に対して副走査方向に移動させ
る副走査駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの
吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動
手段の動作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆
動手段の動作を制御する副走査制御手段と、を有し、各
前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を
前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェッ
トヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走
査させることを特徴とする。
装置は、 それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピク
セルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造装置におい
て、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有
し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるイン
クジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへＥＬ発
光材料を供給するインク供給手段と、複数のノズルを列
状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数の
グループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該
インクジェットヘッドへ前記ＥＬ発光材料を供給するイ
ンク供給手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基
板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる
主走査駆動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記
基板のうちの一方を他方に対して副走査方向に移動させ
る副走査駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの
吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動
手段の動作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆
動手段の動作を制御する副走査制御手段と、を有し、各
前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を
前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェッ
トヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走
査させることを特徴とする。
【００２７】（７）次に、本発明に係るインクジェット
ヘッドの制御装置は、基板上に複数の色パターンを配列
して成る光学部材を製造する際に用いられるインクジェ
ットヘッドの制御装置において、複数のノズルを列状に
配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグル
ープに分割されてなるインクジェットヘッドと、該イン
クジェットヘッドへフィルタ材料を供給するインク供給
手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうち
の一方を他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆
動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のう
ちの一方を他方に対して副走査方向に移動させる副走査
駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの吐出を制
御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動
作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の
動作を制御する副走査制御手段とを有し、各前記グルー
プの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査
方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及
び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させるこ
とを特徴とする。
ヘッドの制御装置は、基板上に複数の色パターンを配列
して成る光学部材を製造する際に用いられるインクジェ
ットヘッドの制御装置において、複数のノズルを列状に
配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグル
ープに分割されてなるインクジェットヘッドと、該イン
クジェットヘッドへフィルタ材料を供給するインク供給
手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうち
の一方を他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆
動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のう
ちの一方を他方に対して副走査方向に移動させる副走査
駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの吐出を制
御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動
作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の
動作を制御する副走査制御手段とを有し、各前記グルー
プの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査
方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及
び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させるこ
とを特徴とする。
【００２８】上記構成のインクジェットヘッドの制御装
置において、「光学部材」としてはカラーフィルタ、Ｅ
Ｌ装置等が考えられる。また、光学部材としてカラーフ
ィルタを考える場合には、「色パターン」としてはＲ，
Ｇ，Ｂの各フィルタエレメントが該当する。また、光学
部材としてＥＬ装置を考える場合には、「色パターン」
としてはＲ，Ｇ，Ｂの各色発光層や正孔注入層等が該当
する。
置において、「光学部材」としてはカラーフィルタ、Ｅ
Ｌ装置等が考えられる。また、光学部材としてカラーフ
ィルタを考える場合には、「色パターン」としてはＲ，
Ｇ，Ｂの各フィルタエレメントが該当する。また、光学
部材としてＥＬ装置を考える場合には、「色パターン」
としてはＲ，Ｇ，Ｂの各色発光層や正孔注入層等が該当
する。
【００２９】
【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下、カラーフ
ィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態につい
て説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説
明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造
されるカラーフィルタについて説明する。図５（ａ）は
カラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示し
ている。また、図６（ｄ）は図５（ａ）のＶＩ−ＶＩ線
に従った断面構造を示している。
ィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態につい
て説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説
明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造
されるカラーフィルタについて説明する。図５（ａ）は
カラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示し
ている。また、図６（ｄ）は図５（ａ）のＶＩ−ＶＩ線
に従った断面構造を示している。
【００３０】本実施形態のカラーフィルタ１は、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された方形状の基板２
の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパターン
状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、さら
に図６（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層す
ることによって形成されている。なお、図５（ａ）は保
護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に
示している。
ス、プラスチック等によって形成された方形状の基板２
の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパターン
状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、さら
に図６（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層す
ることによって形成されている。なお、図５（ａ）は保
護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に
示している。
【００３１】フィルタエレメント３は、透光性のない樹
脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６に
よって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方
形状の領域を色材で埋めることによって形成される。ま
た、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色
材によって形成され、それらの各色フィルタエレメント
３が所定の配列に並べられている。この配列としては、
例えば、図７（ａ）に示すストライプ配列、図７（ｂ）
に示すモザイク配列、図７（ｃ）に示すデルタ配列等が
知られている。
脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６に
よって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方
形状の領域を色材で埋めることによって形成される。ま
た、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色
材によって形成され、それらの各色フィルタエレメント
３が所定の配列に並べられている。この配列としては、
例えば、図７（ａ）に示すストライプ配列、図７（ｂ）
に示すモザイク配列、図７（ｃ）に示すデルタ配列等が
知られている。
【００３２】ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，
Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配
色である。
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，
Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配
色である。
【００３３】カラーフィルタ１の大きさは、例えば、
１．８インチである。また、１個のフィルタエレメント
３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。
また、各フィルタエレメント３の間の間隔、いわゆるエ
レメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
１．８インチである。また、１個のフィルタエレメント
３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。
また、各フィルタエレメント３の間の間隔、いわゆるエ
レメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
【００３４】本実施形態のカラーフィルタ１をフルカラ
ー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットと
して１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいず
れか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透
光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラッ
クマトリクスとして作用する。
ー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットと
して１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいず
れか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透
光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラッ
クマトリクスとして作用する。
【００３５】上記のカラーフィルタ１は、例えば、図５
（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出
される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定さ
れた複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表
面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さ
らにそれらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断
用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板
１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が
形成される。
（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出
される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定さ
れた複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表
面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さ
らにそれらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断
用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板
１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が
形成される。
【００３６】以下、図５（ａ）に示すカラーフィルタ１
を製造する製造方法及びその製造装置について説明す
る。
を製造する製造方法及びその製造装置について説明す
る。
【００３７】図６はカラーフィルタ１の製造方法を工程
順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面
に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向か
ら見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格
子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領
域、すなわちフィルタエレメント領域である。この隔壁
６によって形成される個々のフィルタエレメント領域７
の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μ
ｍ×１００μｍ程度に形成される。
順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面
に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向か
ら見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格
子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領
域、すなわちフィルタエレメント領域である。この隔壁
６によって形成される個々のフィルタエレメント領域７
の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μ
ｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００３８】隔壁６は、フィルタエレメント領域７に供
給されるフィルタエレメント材料の流動を阻止する機能
及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、
隔壁６は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグ
ラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒー
タによって加熱されて焼成される。
給されるフィルタエレメント材料の流動を阻止する機能
及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、
隔壁６は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグ
ラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒー
タによって加熱されて焼成される。
【００３９】隔壁６の形成後、図６（ｂ）に示すよう
に、フィルタエレメント材料の液滴８を各フィルタエレ
メント領域７に供給することにより、各フィルタエレメ
ント領域７をフィルタエレメント材料１３で埋める。図
６（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有する
フィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）
の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符
号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材
料を示している。
に、フィルタエレメント材料の液滴８を各フィルタエレ
メント領域７に供給することにより、各フィルタエレメ
ント領域７をフィルタエレメント材料１３で埋める。図
６（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有する
フィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）
の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符
号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材
料を示している。
【００４０】各フィルタエレメント領域７に所定量のフ
ィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによって
マザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィル
タエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発によ
り、図６（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１
３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場
合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるま
で、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴の
加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終
的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して膜
化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント３
が形成される。
ィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによって
マザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィル
タエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発によ
り、図６（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１
３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場
合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるま
で、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴の
加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終
的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して膜
化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント３
が形成される。
【００４１】以上によりフィルタエレメント３が形成さ
れた後、それらのフィラメント３を完全に乾燥させるた
めに、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。そ
の後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッ
ピング法、又はインクジェット法等といった適宜の手法
を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィル
タエレメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の
平坦化のために形成される。
れた後、それらのフィラメント３を完全に乾燥させるた
めに、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。そ
の後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッ
ピング法、又はインクジェット法等といった適宜の手法
を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィル
タエレメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の
平坦化のために形成される。
【００４２】図８は、図６（ｂ）に示したフィルタエレ
メント材料の供給処理を行うためのインクジェット装置
の一実施形態を示している。このインクジェット装置１
６はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエ
レメント材料をインクの液滴として、マザー基板１２
（図５（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１
内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。
Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフィルタエレ
メント材料のためのインクジェット装置もそれぞれに用
意されるが、それらの構造は図８のものと同じにするこ
とができるので、それらについての説明は省略する。
メント材料の供給処理を行うためのインクジェット装置
の一実施形態を示している。このインクジェット装置１
６はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエ
レメント材料をインクの液滴として、マザー基板１２
（図５（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１
内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。
Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフィルタエレ
メント材料のためのインクジェット装置もそれぞれに用
意されるが、それらの構造は図８のものと同じにするこ
とができるので、それらについての説明は省略する。
【００４３】図８において、インクジェット装置１６
は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット
２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御
する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２
２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆
動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板
１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、
マザー基板１２をインクジェット装置１６内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジ
ェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２
４とを有する。
は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット
２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御
する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２
２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆
動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板
１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、
マザー基板１２をインクジェット装置１６内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジ
ェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２
４とを有する。
【００４４】ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装
置１８、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に
対して主走査移動させる主走査駆動装置１９、そして副
走査駆動装置２１の各装置はベース９の上に設置され
る。また、それらの各装置は必要に応じてカバー１４に
よって覆われる。
置１８、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に
対して主走査移動させる主走査駆動装置１９、そして副
走査駆動装置２１の各装置はベース９の上に設置され
る。また、それらの各装置は必要に応じてカバー１４に
よって覆われる。
【００４５】インクジェットヘッド２２は、例えば図１
０に示すように、複数のノズル２７を列状に並べること
によって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２７
の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例え
ば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピッチは例え
ば１４１μｍである。図５（ａ）及び図５（ｂ）におい
てカラーフィルタ１及びマザー基板１２に対する主走査
方向×及びそれに直交する副走査方向Ｙは図１０におい
て図示の通りに設定される。
０に示すように、複数のノズル２７を列状に並べること
によって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２７
の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例え
ば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピッチは例え
ば１４１μｍである。図５（ａ）及び図５（ｂ）におい
てカラーフィルタ１及びマザー基板１２に対する主走査
方向×及びそれに直交する副走査方向Ｙは図１０におい
て図示の通りに設定される。
【００４６】インクジェットヘッド２２は、そのノズル
列２８が主走査方向×と交差する方向へ延びるように位
置設定され、この主走査方向×へ平行移動する間に、イ
ンクとしてのフィルタエレメント材料を複数のノズル２
７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２
（図５（ｂ）参照）内の所定位置にフィルタエレメント
材料を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は
副走査方向Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、
インクジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間
隔でずらせることができる。
列２８が主走査方向×と交差する方向へ延びるように位
置設定され、この主走査方向×へ平行移動する間に、イ
ンクとしてのフィルタエレメント材料を複数のノズル２
７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２
（図５（ｂ）参照）内の所定位置にフィルタエレメント
材料を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は
副走査方向Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、
インクジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間
隔でずらせることができる。
【００４７】インクジェットヘッド２２は、例えば、図
１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示す内部構造を有する。
具体的には、インクジェットヘッド２２は、例えばステ
ンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動
板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２
とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間に
は、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り
３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４
とは通路３８を介して互いに連通している。
１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示す内部構造を有する。
具体的には、インクジェットヘッド２２は、例えばステ
ンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動
板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２
とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間に
は、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り
３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４
とは通路３８を介して互いに連通している。
【００４８】振動板３１の適所にはインク供給孔３６が
形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７
が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂの
うちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍを
インク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を
通ってインク室３３に充満する。
形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７
が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂの
うちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍを
インク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を
通ってインク室３３に充満する。
【００４９】ノズルプレート２９には、インク室３３か
らフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するた
めのノズル２７が設けられている。また、振動板３１の
インク室３３を形成する面の裏面には、該インク室３３
に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。
このインク加圧体３９は、図１２（ｂ）に示すように、
圧電素子４１並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及
び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２
ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメ
ント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室
３３へ流入する。
らフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するた
めのノズル２７が設けられている。また、振動板３１の
インク室３３を形成する面の裏面には、該インク室３３
に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。
このインク加圧体３９は、図１２（ｂ）に示すように、
圧電素子４１並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及
び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２
ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメ
ント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室
３３へ流入する。
【００５０】次に、圧電素子４１への通電を解除する
と、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためイ
ンク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧
力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図５
（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴
８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、
液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止す
るために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メ
ッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
と、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためイ
ンク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧
力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図５
（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴
８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、
液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止す
るために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メ
ッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
【００５１】図９において、ヘッド位置制御装置１７
は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモー
タ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、イン
クジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに
揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェット
ヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８を
有する。
は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモー
タ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、イン
クジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに
揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェット
ヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８を
有する。
【００５２】図８に示した基板位置制御装置１８は、図
９において、マザー基板１２を載せるテーブル４９と、
そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモ
ータ５１とを有する。また、図８に示した主走査駆動装
置１９は、図９に示すように、主走査方向×へ延びるガ
イドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内
蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は内蔵す
るリニアモータが作動するときにガイドレール５２に沿
って主走査方向へ平行移動する。
９において、マザー基板１２を載せるテーブル４９と、
そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモ
ータ５１とを有する。また、図８に示した主走査駆動装
置１９は、図９に示すように、主走査方向×へ延びるガ
イドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内
蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は内蔵す
るリニアモータが作動するときにガイドレール５２に沿
って主走査方向へ平行移動する。
【００５３】また、図８に示した副走査駆動装置２１
は、図９に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレ
ール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵した
スライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニ
アモータが作動するときにガイドレール５４に沿って副
走査方向Ｙへ平行移動する。
は、図９に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレ
ール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵した
スライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニ
アモータが作動するときにガイドレール５４に沿って副
走査方向Ｙへ平行移動する。
【００５４】スライダ５３やスライダ５６内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジ
ェットヘッド２２の主走査方向×上の位置やテーブル４
９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジ
ェットヘッド２２の主走査方向×上の位置やテーブル４
９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
【００５５】図８に示した基板供給装置２３は、マザー
基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２
を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台
５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を
中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２
に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の
先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着
パッド６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着
できる。
基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２
を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台
５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を
中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２
に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の
先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着
パッド６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着
できる。
【００５６】図８において、主走査駆動装置１９によっ
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２
の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置
に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設
される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド
２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はイン
クジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１０参
照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング装置７６は
インクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズ
ル２７（図１０参照）の乾燥を防止するための装置であ
る。
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２
の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置
に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設
される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド
２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はイン
クジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１０参
照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング装置７６は
インクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズ
ル２７（図１０参照）の乾燥を防止するための装置であ
る。
【００５７】インクジェットヘッド２２の近傍には、そ
のインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設
けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８
２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
のインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設
けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８
２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
【００５８】図８に示したコントロール装置２４は、プ
ロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装
置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上
記プロセッサは、図１４に示すように、演算処理を行う
ＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有す
る。
ロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装
置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上
記プロセッサは、図１４に示すように、演算処理を行う
ＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有す
る。
【００５９】図８に示したヘッド位置制御装置１７、基
板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動
装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電
素子４１（図１２（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回
路７２の各機器は、図１４において、入出力インターフ
ェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続され
る。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプ
レイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキ
ャッピング装置７６の各機器も入出力インターフェース
７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動
装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電
素子４１（図１２（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回
路７２の各機器は、図１４において、入出力インターフ
ェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続され
る。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプ
レイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキ
ャッピング装置７６の各機器も入出力インターフェース
７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００６０】メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Me
mory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体
メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図７に示す各種のＲ，Ｇ，Ｂ配列を実現する
ためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２（図５
参照）内における吐出位置を座標データとして記憶する
ための記憶領域や、図９における副走査方向Ｙへのマザ
ー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域
や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファ
イル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が
設定される。
mory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体
メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図７に示す各種のＲ，Ｇ，Ｂ配列を実現する
ためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２（図５
参照）内における吐出位置を座標データとして記憶する
ための記憶領域や、図９における副走査方向Ｙへのマザ
ー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域
や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファ
イル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が
設定される。
【００６１】ＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶された
プログラムソフトに従って、マザー基板１２に表面の所
定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐
出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現
部として、クリーニング処理を実現するための演算を行
うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現する
ためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図８参
照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量
測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメ
ント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有
する。
プログラムソフトに従って、マザー基板１２に表面の所
定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐
出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現
部として、クリーニング処理を実現するための演算を行
うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現する
ためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図８参
照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量
測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメ
ント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有
する。
【００６２】描画演算部を詳しく分割すれば、インクジ
ェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットする
ための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２
２を主走査方向×へ所定の速度で走査移動させるための
制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を
副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御
を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェッ
トヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作
動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出
するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算
部等といった各種の機能演算部を有する。
ェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットする
ための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２
２を主走査方向×へ所定の速度で走査移動させるための
制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を
副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御
を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェッ
トヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作
動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出
するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算
部等といった各種の機能演算部を有する。
【００６３】なお、本実施形態では、上記の各機能をＣ
ＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
ＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
【００６４】以下、上記構成から成るインクジェット装
置１６の動作を図１５に示すフローチャートに基づいて
説明する。
置１６の動作を図１５に示すフローチャートに基づいて
説明する。
【００６５】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等
が予め決められた初期状態にセットされる。
ジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等
が予め決められた初期状態にセットされる。
【００６６】次に、重量測定タイミングが到来すれば
（ステップＳ２でＹＥＳ）、図９のヘッドユニット２６
を主走査駆動装置１９によって図８の電子天秤７８の所
まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出
されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ス
テップＳ４）。そして、ノズル２７のインク吐出特性に
合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加
する電圧を調節する（ステップＳ５）。
（ステップＳ２でＹＥＳ）、図９のヘッドユニット２６
を主走査駆動装置１９によって図８の電子天秤７８の所
まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出
されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ス
テップＳ４）。そして、ノズル２７のインク吐出特性に
合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加
する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【００６７】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主
走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所ま
で移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置
７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニング
する（ステップＳ８）。
ば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主
走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所ま
で移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置
７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニング
する（ステップＳ８）。
【００６８】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮ
Ｏ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップＳ９において、図８の基板供給装置２３を作動させ
てマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的に
は、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６
４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム
６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２を
テーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に
予め設けてある位置決めピン５０（図９）に押し付け
る。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２の位
置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザ
ー基板１２をテーブル４９に固定することが望ましい。
ングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮ
Ｏ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップＳ９において、図８の基板供給装置２３を作動させ
てマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的に
は、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６
４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム
６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２を
テーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に
予め設けてある位置決めピン５０（図９）に押し付け
る。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２の位
置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザ
ー基板１２をテーブル４９に固定することが望ましい。
【００６９】次に、図８の基板用カメラ８２によってマ
ザー基板１２を観察しながら、図９のθモータ５１の出
力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル４
９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を位
置決めする（ステップＳ１０）。次に、図８のヘッド用
カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながらイン
クジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演
算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走査
駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動させ
てインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する
（ステップＳ１２）。
ザー基板１２を観察しながら、図９のθモータ５１の出
力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル４
９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を位
置決めする（ステップＳ１０）。次に、図８のヘッド用
カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながらイン
クジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演
算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走査
駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動させ
てインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する
（ステップＳ１２）。
【００７０】このとき、インクジェットヘッド２２は、
図１の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８がインク
ジェットヘッド２２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾
斜するように配設される。これは、通常のインクジェッ
ト装置の場合には、隣り合うノズル２７の間の間隔であ
るノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント３す
なわちフィルタエレメント形成領域７の間の間隔である
エレメントピッチとが異なることが多く、インクジェッ
トヘッド２２を主走査方向×へ移動させるときに、ノズ
ル間ピッチの副走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッ
チと幾何学的に等しくなるようにするための措置であ
る。
図１の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８がインク
ジェットヘッド２２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾
斜するように配設される。これは、通常のインクジェッ
ト装置の場合には、隣り合うノズル２７の間の間隔であ
るノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント３す
なわちフィルタエレメント形成領域７の間の間隔である
エレメントピッチとが異なることが多く、インクジェッ
トヘッド２２を主走査方向×へ移動させるときに、ノズ
ル間ピッチの副走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッ
チと幾何学的に等しくなるようにするための措置であ
る。
【００７１】図１５のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２が描画開始位置に置かれると、図１において
インクジェットヘッド２２は（ａ）位置に置かれる。そ
の後、図１５のステップＳ１３で主走査方向×への主走
査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体
的には、図９の主走査駆動装置１９が作動してインクジ
ェットヘッド２２が図１の主走査方向×へ一定の速度で
直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべき
フィルタエレメント領域７に対応するノズル２７が到達
したときにそのノズル２７からインクすなわちフィルタ
エレメント材料が吐出される。
ヘッド２２が描画開始位置に置かれると、図１において
インクジェットヘッド２２は（ａ）位置に置かれる。そ
の後、図１５のステップＳ１３で主走査方向×への主走
査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体
的には、図９の主走査駆動装置１９が作動してインクジ
ェットヘッド２２が図１の主走査方向×へ一定の速度で
直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべき
フィルタエレメント領域７に対応するノズル２７が到達
したときにそのノズル２７からインクすなわちフィルタ
エレメント材料が吐出される。
【００７２】なお、このときのインク吐出量は、フィル
タエレメント領域７の容積全部を埋める量ではなく、そ
の全量の数分の１、本実施形態では全量の１／４の量で
ある。これは、後述するように、各フィルタエレメント
領域７はノズル２７からの１回のインク吐出によって埋
められるのではなくて、数回のインク吐出の重ね吐出に
よって、本実施形態では４回の重ね吐出によって容積全
部を埋めることになっているからである。
タエレメント領域７の容積全部を埋める量ではなく、そ
の全量の数分の１、本実施形態では全量の１／４の量で
ある。これは、後述するように、各フィルタエレメント
領域７はノズル２７からの１回のインク吐出によって埋
められるのではなくて、数回のインク吐出の重ね吐出に
よって、本実施形態では４回の重ね吐出によって容積全
部を埋めることになっているからである。
【００７３】インクジェットヘッド２２は、マザー基板
１２に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステッ
プＳ１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（ａ）へ復
帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェ
ットヘッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動さ
れて副走査方向Ｙへ予め決められた副走査量δだけ移動
する（ステップＳ１６）。
１２に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステッ
プＳ１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（ａ）へ復
帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェ
ットヘッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動さ
れて副走査方向Ｙへ予め決められた副走査量δだけ移動
する（ステップＳ１６）。
【００７４】本実施形態では、ＣＰＵ６９は、図１にお
いてインクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成す
る複数のノズル２７を複数のグループｎに概念的に分割
する。本実施形態ではｎ＝４、すなわち１８０個のノズ
ル２７から成る長さＬのノズル列２８を４つのグループ
に分割して考える。これにより、１つのノズルグループ
はノズル２７を１８０／４＝４５個含む長さＬ／ｎすな
わちＬ／４に決められる。上記の副走査量δは上記のノ
ズルグループ長さＬ／４の副走査方向の長さ、すなわち
（Ｌ／４）ｃｏｓθに設定される。
いてインクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成す
る複数のノズル２７を複数のグループｎに概念的に分割
する。本実施形態ではｎ＝４、すなわち１８０個のノズ
ル２７から成る長さＬのノズル列２８を４つのグループ
に分割して考える。これにより、１つのノズルグループ
はノズル２７を１８０／４＝４５個含む長さＬ／ｎすな
わちＬ／４に決められる。上記の副走査量δは上記のノ
ズルグループ長さＬ／４の副走査方向の長さ、すなわち
（Ｌ／４）ｃｏｓθに設定される。
【００７５】従って、１ライン分の主走査が終了して初
期位置（ａ）へ復帰したインクジェットヘッド２２は図
１において副走査方向Ｙへ距離δだけ平行移動して位置
（ｂ）へ移動する。なお、図１では位置（ａ）と位置
（ｂ）とが主走査方向×に関して少しずれて描かれてい
るが、これは説明を分かり易くするための措置であり、
実際には、位置（ａ）と位置（ｂ）は主走査方向×に関
しては同じ位置である。
期位置（ａ）へ復帰したインクジェットヘッド２２は図
１において副走査方向Ｙへ距離δだけ平行移動して位置
（ｂ）へ移動する。なお、図１では位置（ａ）と位置
（ｂ）とが主走査方向×に関して少しずれて描かれてい
るが、これは説明を分かり易くするための措置であり、
実際には、位置（ａ）と位置（ｂ）は主走査方向×に関
しては同じ位置である。
【００７６】位置（ｂ）へ副走査移動したインクジェッ
トヘッド２２は、ステップＳ１３で主走査移動及びイン
ク吐出を繰り返して実行する。この主走査移動時には、
マザー基板１２上におけるカラーフィルタ形成領域１１
内の２列目のラインが先頭のノズルグループによって初
めてインク吐出を受けると共に、１列目のラインは先頭
から２番目のノズルグループによって２回目のインク吐
出を受ける。
トヘッド２２は、ステップＳ１３で主走査移動及びイン
ク吐出を繰り返して実行する。この主走査移動時には、
マザー基板１２上におけるカラーフィルタ形成領域１１
内の２列目のラインが先頭のノズルグループによって初
めてインク吐出を受けると共に、１列目のラインは先頭
から２番目のノズルグループによって２回目のインク吐
出を受ける。
【００７７】これ以降、インクジェットヘッド２２は、
位置（ｃ）〜位置（ｋ）のように副走査移動を繰り返し
ながら主走査移動及びインク吐出を繰り返し（ステップ
Ｓ１３〜ステップＳ１６）、これにより、マザー基板１
２のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着
処理が完了する。本実施形態では、ノズル列２８を４つ
のグループに分割して副走査量δを決定したので、上記
のカラーフィルタ形成領域１１の１列分の主走査及び副
走査が終了すると、各フィルタエレメント領域７は４個
のノズルグループによってそれぞれ１回ずつ、合計で４
回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量の
インクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給され
る。
位置（ｃ）〜位置（ｋ）のように副走査移動を繰り返し
ながら主走査移動及びインク吐出を繰り返し（ステップ
Ｓ１３〜ステップＳ１６）、これにより、マザー基板１
２のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着
処理が完了する。本実施形態では、ノズル列２８を４つ
のグループに分割して副走査量δを決定したので、上記
のカラーフィルタ形成領域１１の１列分の主走査及び副
走査が終了すると、各フィルタエレメント領域７は４個
のノズルグループによってそれぞれ１回ずつ、合計で４
回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量の
インクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給され
る。
【００７８】こうしてカラーフィルタ形成領域１１の１
列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド
２２は副走査駆動手段２１によって駆動されて次列のカ
ラーフィルタ形成領域１１の初期位置へ搬送され（ステ
ップＳ１９）、そして当該列のカラーフィルタ形成領域
１１に対して主走査、副走査及びインク吐出を繰り返し
てフィルタエレメント形成領域７内にフィルタエレメン
トを形成する（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。
列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド
２２は副走査駆動手段２１によって駆動されて次列のカ
ラーフィルタ形成領域１１の初期位置へ搬送され（ステ
ップＳ１９）、そして当該列のカラーフィルタ形成領域
１１に対して主走査、副走査及びインク吐出を繰り返し
てフィルタエレメント形成領域７内にフィルタエレメン
トを形成する（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。
【００７９】その後、マザー基板１２内の全てのカラー
フィルタ形成領域１１に関してＲ，Ｇ，Ｂの１色、例え
ばＲ１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステ
ップＳ１８でＹＥＳ）、ステップＳ２０でマザー基板１
２を基板供給装置２３によって、又は別の搬送機器によ
って、処理後のマザー基板１２が外部へ排出される。そ
の後、オペレータによって処理終了の指示がなされない
限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って
別のマザー基板１２に対するＲ１色に関するインク吐着
作業を繰り返して行う。
フィルタ形成領域１１に関してＲ，Ｇ，Ｂの１色、例え
ばＲ１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステ
ップＳ１８でＹＥＳ）、ステップＳ２０でマザー基板１
２を基板供給装置２３によって、又は別の搬送機器によ
って、処理後のマザー基板１２が外部へ排出される。そ
の後、オペレータによって処理終了の指示がなされない
限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って
別のマザー基板１２に対するＲ１色に関するインク吐着
作業を繰り返して行う。
【００８０】オペレータから作業終了の指示があると
（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図８におい
てインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の
所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってイ
ンクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施
す（ステップＳ２２）。
（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図８におい
てインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の
所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってイ
ンクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施
す（ステップＳ２２）。
【００８１】以上により、カラーフィルタを構成する
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についての
パターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，
Ｇ，Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパター
ニングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例
えばＢ色をフィルタエレメント材料とするインクジェッ
ト装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これ
により、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂの
ドット配列を有するカラーフィルタ１（図５（ａ））が
複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマ
ザー基板１２をカラーフィルタ領域１１ごとに切断する
ことにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出さ
れる。
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についての
パターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，
Ｇ，Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパター
ニングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例
えばＢ色をフィルタエレメント材料とするインクジェッ
ト装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これ
により、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂの
ドット配列を有するカラーフィルタ１（図５（ａ））が
複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマ
ザー基板１２をカラーフィルタ領域１１ごとに切断する
ことにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出さ
れる。
【００８２】なお、本カラーフィルタ１を液晶装置のカ
ラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィル
タ１の表面にはさらに電極や配向膜等が積層されること
になる。そのような場合、電極や配向膜等を積層する前
にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を
切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常
に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基
板１２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直ぐにマ
ザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や
配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した後にマ
ザー基板１２を切断することが望ましい。
ラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィル
タ１の表面にはさらに電極や配向膜等が積層されること
になる。そのような場合、電極や配向膜等を積層する前
にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を
切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常
に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基
板１２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直ぐにマ
ザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や
配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した後にマ
ザー基板１２を切断することが望ましい。
【００８３】以上のように、本実施形態に係るカラーフ
ィルタの製造方法及び製造装置によれば、図５（ａ）に
示すカラーフィルタ１内の個々のフィルタエレメント３
はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走
査×によって形成されるのではなくて、各１個のフィル
タエレメント３は異なるノズルグループに属する複数の
ノズル２７によってｎ回、本実施形態では４回、重ねて
インク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成され
る。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク
吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタ
エレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止で
き、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均
一にすることができる。
ィルタの製造方法及び製造装置によれば、図５（ａ）に
示すカラーフィルタ１内の個々のフィルタエレメント３
はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走
査×によって形成されるのではなくて、各１個のフィル
タエレメント３は異なるノズルグループに属する複数の
ノズル２７によってｎ回、本実施形態では４回、重ねて
インク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成され
る。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク
吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタ
エレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止で
き、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均
一にすることができる。
【００８４】もちろん、本実施形態の製造方法では、イ
ンクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフ
ィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフ
ィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無
く、また、材料を浪費することも無い。
ンクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフ
ィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフ
ィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無
く、また、材料を浪費することも無い。
【００８５】ところで、インクジェットヘッド２２のノ
ズル列２８を形成する複数のノズル２７のインク吐出量
の分布が不均一になることは図２３（ａ）に関連して説
明した通りである。また、特にノズル列２８の両端部に
存在する数個、例えば片端側１０個ずつ、のノズル２７
が特にインク吐出量が大きくなることも記述の通りであ
る。このようにインク吐出量が他のノズルに比べて特に
多いノズルを使用することは、インク吐膜すなわちフィ
ルタエレメントの膜厚を均一にすることに関して好まし
くない。
ズル列２８を形成する複数のノズル２７のインク吐出量
の分布が不均一になることは図２３（ａ）に関連して説
明した通りである。また、特にノズル列２８の両端部に
存在する数個、例えば片端側１０個ずつ、のノズル２７
が特にインク吐出量が大きくなることも記述の通りであ
る。このようにインク吐出量が他のノズルに比べて特に
多いノズルを使用することは、インク吐膜すなわちフィ
ルタエレメントの膜厚を均一にすることに関して好まし
くない。
【００８６】従って、望ましくは、図１３に示すよう
に、ノズル列２８を形成する複数のノズル２７のうちノ
ズル列２８の両端部Ｅに存在する数個、例えば１０個程
度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残り
の部分Ｆに存在するノズル２７を複数、例えば４個のグ
ループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移
動を行うことが良い。
に、ノズル列２８を形成する複数のノズル２７のうちノ
ズル列２８の両端部Ｅに存在する数個、例えば１０個程
度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残り
の部分Ｆに存在するノズル２７を複数、例えば４個のグ
ループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移
動を行うことが良い。
【００８７】本第１実施形態においては、隔壁６として
透光性のない樹脂材料を用いたが、透隔壁６として透光
性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。その
場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位
置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下等に別途遮光性の金
属膜或いは樹脂材料を設けてブラックマスクとしてもよ
い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラッ
クマスクを設けない構成としてもよい。
透光性のない樹脂材料を用いたが、透隔壁６として透光
性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。その
場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位
置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下等に別途遮光性の金
属膜或いは樹脂材料を設けてブラックマスクとしてもよ
い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラッ
クマスクを設けない構成としてもよい。
【００８８】また本第１実施形態においては、フィルタ
エレメントとしてＲ，Ｇ、Ｂを用いたがもちろん、Ｒ，
Ｇ．Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン），
Ｍ（マゼンダ），Ｙ（イエロー）を採用してもかまわな
い。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタエレメ
ント材料、に変えて、Ｃ，Ｍ、Ｙの色を有するフィルタ
エレメント材料を用いればよい。
エレメントとしてＲ，Ｇ、Ｂを用いたがもちろん、Ｒ，
Ｇ．Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン），
Ｍ（マゼンダ），Ｙ（イエロー）を採用してもかまわな
い。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタエレメ
ント材料、に変えて、Ｃ，Ｍ、Ｙの色を有するフィルタ
エレメント材料を用いればよい。
【００８９】また、本第１実施形態においては、隔壁６
をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフ
ィルタ同様にインクジェット法により隔壁６を形成する
ことも可能である。
をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフ
ィルタ同様にインクジェット法により隔壁６を形成する
ことも可能である。
【００９０】（第２実施形態）図２は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
【００９１】本実施形態によって実施される概略の工程
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的
には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例え
ば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ
／ｎ又はＬ／４に対応させて副走査量δを決定すること
も図１の場合と同じである。
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的
には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例え
ば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ
／ｎ又はＬ／４に対応させて副走査量δを決定すること
も図１の場合と同じである。
【００９２】本実施形態が図１に示した先の実施形態と
異なる点は、図１４においてメモリ７１内に格納したプ
ログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的には
ＣＰＵ６９によって行う主走査制御演算と副走査制御演
算に改変を加えたことである。
異なる点は、図１４においてメモリ７１内に格納したプ
ログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的には
ＣＰＵ６９によって行う主走査制御演算と副走査制御演
算に改変を加えたことである。
【００９３】より具体的に説明すれば、図２において、
インクジェットヘッド２２は主走査方向×への走査移動
の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、１方向へ
の主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグル
ープ１個分に相当する移動量δだけ移動して位置（ｂ）
へ移動した後、主走査方向×の上記１方向の反対方向へ
走査移動を行って初期位置（ａ）から副走査方向へ距離
δだけずれた位置（ｂ'）へ戻るように制御される。な
お、位置（ａ）から位置（ｂ）までの主走査の間及び位
置（ｂ）から位置（ｂ'）への主走査移動の間の両方の
期間において複数のノズル２７から選択的にインクが吐
出されることはもちろんである。
インクジェットヘッド２２は主走査方向×への走査移動
の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、１方向へ
の主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグル
ープ１個分に相当する移動量δだけ移動して位置（ｂ）
へ移動した後、主走査方向×の上記１方向の反対方向へ
走査移動を行って初期位置（ａ）から副走査方向へ距離
δだけずれた位置（ｂ'）へ戻るように制御される。な
お、位置（ａ）から位置（ｂ）までの主走査の間及び位
置（ｂ）から位置（ｂ'）への主走査移動の間の両方の
期間において複数のノズル２７から選択的にインクが吐
出されることはもちろんである。
【００９４】つまり、本実施形態ではインクジェットヘ
ッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく
連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰
動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮
化できる。
ッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく
連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰
動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮
化できる。
【００９５】（第３実施形態）図３は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
【００９６】本実施形態によって実施される概略の工程
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的
には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例え
ば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じであ
る。
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的
には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例え
ば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じであ
る。
【００９７】本実施形態が図１に示した先の実施形態と
異なる点は、図１５のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットし
たとき、そのインクジェットヘッド２２は図３の（ａ）
位置に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査
方向Ｙと平行である点である。このようなノズルの配列
構造は、インクジェットヘッド２２に関するノズル間ピ
ッチとマザー基板１２に関するエレメント間ピッチとが
等しい場合に有利な構造である。
異なる点は、図１５のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットし
たとき、そのインクジェットヘッド２２は図３の（ａ）
位置に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査
方向Ｙと平行である点である。このようなノズルの配列
構造は、インクジェットヘッド２２に関するノズル間ピ
ッチとマザー基板１２に関するエレメント間ピッチとが
等しい場合に有利な構造である。
【００９８】この実施形態においても、インクジェット
ヘッド２２は初期位置（ａ）から終端位置（ｋ）に至る
まで、主走査方向×への走査移動、初期位置への復帰移
動及び副走査方向Ｙへの移動量δでの副走査移動を繰り
返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル２７か
ら選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐
出し、これにより、マザー基板１２内のカラーフィルタ
形成領域１１内のフィルタエレメント形成領域７内へフ
ィルタエレメント材料を付着させる。
ヘッド２２は初期位置（ａ）から終端位置（ｋ）に至る
まで、主走査方向×への走査移動、初期位置への復帰移
動及び副走査方向Ｙへの移動量δでの副走査移動を繰り
返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル２７か
ら選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐
出し、これにより、マザー基板１２内のカラーフィルタ
形成領域１１内のフィルタエレメント形成領域７内へフ
ィルタエレメント材料を付着させる。
【００９９】なお、本実施形態では、ノズル列２８が副
走査方向Ｙに対して平行に位置設定されるので、副走査
移動量δは分割されたノズルグループの長さＬ／ｎすな
わちＬ／４と等しく設定される。
走査方向Ｙに対して平行に位置設定されるので、副走査
移動量δは分割されたノズルグループの長さＬ／ｎすな
わちＬ／４と等しく設定される。
【０１００】（第４実施形態）図４は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
【０１０１】本実施形態によって実施される概略の工程
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的
には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個，例え
ば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じであ
る。
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的
には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個，例え
ば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じであ
る。
【０１０２】本実施形態が図１に示した先の実施形態と
異なる点は、図１５のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットし
たとき、そのインクジェットヘッド２２は図４（ａ）に
示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙ
と平行である点と、図２の実施形態の場合と同様にイン
クジェットヘッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を
挟むことなく連続して交互に行われる点である。
異なる点は、図１５のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットし
たとき、そのインクジェットヘッド２２は図４（ａ）に
示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙ
と平行である点と、図２の実施形態の場合と同様にイン
クジェットヘッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を
挟むことなく連続して交互に行われる点である。
【０１０３】なお、図４に示す本実施形態及び図３に示
す先の実施形態では、主走査方向×がノズル列２８に対
して直角の方向となるので、ノズル列２８を図１１に示
すように主走査方向×に沿って２列設けることにより、
同じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１
つのフィルタエレメント領域７にフィルタエレメント材
料を供給することができる。
す先の実施形態では、主走査方向×がノズル列２８に対
して直角の方向となるので、ノズル列２８を図１１に示
すように主走査方向×に沿って２列設けることにより、
同じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１
つのフィルタエレメント領域７にフィルタエレメント材
料を供給することができる。
【０１０４】（第５実施形態）図１６は、本発明に係る
カラーフィルタの製造方法及び製造装置のさらに他の実
施形態に用いられるインクジェットヘッド２２Ａを示し
ている。このインクジェットヘッド２２Ａが図１０に示
すインクジェットヘッド２２と異なる点は、Ｒ色インク
を吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを吐出するノ
ズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズル列２８Ｂ
といった３種類のノズル列を１個のインクジェットヘッ
ド２２Ａに形成し、それら３種類のそれぞれに図１２
（ａ）及び図１２（ｂ）に示したインク吐出系を設け、
Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲイン
ク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応
するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続
し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系
にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
カラーフィルタの製造方法及び製造装置のさらに他の実
施形態に用いられるインクジェットヘッド２２Ａを示し
ている。このインクジェットヘッド２２Ａが図１０に示
すインクジェットヘッド２２と異なる点は、Ｒ色インク
を吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを吐出するノ
ズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズル列２８Ｂ
といった３種類のノズル列を１個のインクジェットヘッ
ド２２Ａに形成し、それら３種類のそれぞれに図１２
（ａ）及び図１２（ｂ）に示したインク吐出系を設け、
Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲイン
ク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応
するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続
し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系
にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
【０１０５】本実施形態によって実施される概略の工程
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も基本的には図８に示した装
置と同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂを形成する複数のノズル２７を
概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、それら
のノズルグループごとにインクジェットヘッド２２Ａを
副走査移動量δで副走査移動させることも図１の場合と
同じである。
は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も基本的には図８に示した装
置と同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂを形成する複数のノズル２７を
概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、それら
のノズルグループごとにインクジェットヘッド２２Ａを
副走査移動量δで副走査移動させることも図１の場合と
同じである。
【０１０６】図１に示した実施形態では、インクジェッ
トヘッド２２に１種類のノズル列２８が設けられるだけ
であったので、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色によってカラーフィルタ
を形成する際には図８に示したインクジェットヘッド２
２がＲ，Ｇ，Ｂの３色それぞれについて準備されていな
ければならなかった。これに対し、図１６に示す構造の
インクジェットヘッド２２Ａを使用する場合には、イン
クジェットヘッド２２Ａの主走査方向×への１回の主走
査によってＲ，Ｇ，Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ
付着させることができるので、インクジェットヘッド２
２は１つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズ
ル列間隔をマザー基板のフィルタエレメント領域のピッ
チに合わせることにより、ＲＧＢ３色の同時打ちが可能
となる。
トヘッド２２に１種類のノズル列２８が設けられるだけ
であったので、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色によってカラーフィルタ
を形成する際には図８に示したインクジェットヘッド２
２がＲ，Ｇ，Ｂの３色それぞれについて準備されていな
ければならなかった。これに対し、図１６に示す構造の
インクジェットヘッド２２Ａを使用する場合には、イン
クジェットヘッド２２Ａの主走査方向×への１回の主走
査によってＲ，Ｇ，Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ
付着させることができるので、インクジェットヘッド２
２は１つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズ
ル列間隔をマザー基板のフィルタエレメント領域のピッ
チに合わせることにより、ＲＧＢ３色の同時打ちが可能
となる。
【０１０７】（第６実施形態）図１７は、本発明に係る
液晶装置の製造方法の一実施形態を示している。また、
図１８はその製造方法によって製造される液晶装置の一
実施形態を示している。また、図１９は図１８における
Ｉ×−Ｉ×線に従った液晶装置の断面構造を示してい
る。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明に先立っ
て、まず、その製造方法によって製造される液晶装置を
その一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の液晶装
置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透
過反射方式の液晶装置である。
液晶装置の製造方法の一実施形態を示している。また、
図１８はその製造方法によって製造される液晶装置の一
実施形態を示している。また、図１９は図１８における
Ｉ×−Ｉ×線に従った液晶装置の断面構造を示してい
る。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明に先立っ
て、まず、その製造方法によって製造される液晶装置を
その一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の液晶装
置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透
過反射方式の液晶装置である。
【０１０８】図１８において、液晶装置１０１は、液晶
パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦ
ＰＣ（Fleｘible Printed Circuit）１０４を液晶パネ
ル１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に
照明装置１０６をバックライトとして設けることによっ
て形成される。
パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦ
ＰＣ（Fleｘible Printed Circuit）１０４を液晶パネ
ル１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に
照明装置１０６をバックライトとして設けることによっ
て形成される。
【０１０９】液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと
第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材１０８は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基
板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材１０
８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で
含まれる。
第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材１０８は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基
板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材１０
８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で
含まれる。
【０１１０】図１９において、第１基板１０７ａは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側
表面（図１９の上側表面）には反射膜１１２が形成さ
れ、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電
極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１８
参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形
成される。また、基材１１１ａの外側表面（図１９の下
側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着され
る。
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側
表面（図１９の上側表面）には反射膜１１２が形成さ
れ、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電
極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１８
参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形
成される。また、基材１１１ａの外側表面（図１９の下
側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着され
る。
【０１１１】図１８では第１電極１１４ａの配列を分か
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの
本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１
４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの
本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１
４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
【０１１２】図１９において、第２基板１０７ｂは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側
表面（図１９の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が
形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１
１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ
状（図１８参照）に形成され、さらにその上に配向膜１
１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面
（図１９の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によ
って装着される。
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側
表面（図１９の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が
形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１
１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ
状（図１８参照）に形成され、さらにその上に配向膜１
１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面
（図１９の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によ
って装着される。
【０１１３】図１８では、第２電極１１４ｂの配列を分
かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描
かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数
本が基材１１１ｂ上に形成される。
かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描
かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数
本が基材１１１ｂ上に形成される。
【０１１４】図１９において、第１基板１０７ａ、第２
基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ
（SuperTwisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第
１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微
小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのス
ペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ
（SuperTwisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第
１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微
小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのス
ペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
【０１１５】第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図１９の矢
印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそ
れらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そして
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになっ
て１画素が構成される。
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図１９の矢
印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそ
れらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そして
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになっ
て１画素が構成される。
【０１１６】ドット・マトリクス状に配列される複数の
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図１８及び
図１９において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図１８及び
図１９において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
【０１１７】図１９において、反射膜１１２はＡＰＣ合
金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によ
って形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１
２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図１９
の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によ
って形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１
２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図１９
の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
【０１１８】第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂ
は、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成され
る。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビ
ング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第
２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
は、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成され
る。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビ
ング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第
２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
【０１１９】図１８において、第１基板１０７ａは第２
基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第
１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基
板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し
部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し
配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材
１０９（図１９参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第
２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆
動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ
１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第
１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基
板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し
部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し
配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材
１０９（図１９参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第
２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆
動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ
１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
【０１２０】本実施形態では、第１電極１１４ａから延
びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通す
る引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料である
ＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配
線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。
ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及び
Ｃｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ
１％から成る合金である。
びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通す
る引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料である
ＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配
線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。
ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及び
Ｃｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ
１％から成る合金である。
【０１２１】液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び液晶駆動用Ｉ
Ｃ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Fil
m：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７
ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造に
おいては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バ
ンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続さ
れ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バン
プと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続され
る。
Ｃ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Fil
m：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７
ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造に
おいては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バ
ンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続さ
れ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バン
プと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続され
る。
【０１２２】図１８において、ＦＰＣ１０４は、可撓性
の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構
成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有す
る。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその
他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち
金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０
７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形
成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そし
て、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側
の金属配線端子１２７とが導通する。
の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構
成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有す
る。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその
他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち
金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０
７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形
成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そし
て、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側
の金属配線端子１２７とが導通する。
【０１２３】ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接
続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ
及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電
極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ
及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電
極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
【０１２４】図１８において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置１０６は、図１９に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、そ
の導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シ
ート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対
面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬ
ＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。
して機能する照明装置１０６は、図１９に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、そ
の導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シ
ート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対
面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬ
ＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。
【０１２５】ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持さ
れ、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一
体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥ
Ｄ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることによ
り、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取
込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号
１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
れ、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一
体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥ
Ｄ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることによ
り、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取
込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号
１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
【０１２６】ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取
込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ
導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート
１３３を通して外部へ平面光として出射する。
込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ
導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート
１３３を通して外部へ平面光として出射する。
【０１２７】本実施形態の液晶装置１０１は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図１９において、第２基板
１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で
反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持
する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌ
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図１９において、第２基板
１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で
反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持
する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌ
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
【０１２８】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射
面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１
２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射
面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１
２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
【０１２９】上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図
１７に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板
１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１
４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程であ
る。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
１７に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板
１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１
４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程であ
る。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
【０１３０】まず、第１基板形成工程について説明すれ
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０
２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法
等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知
の成膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリ
ソグラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１
１４ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工
程Ｐ２）。
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０
２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法
等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知
の成膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリ
ソグラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１
１４ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工
程Ｐ２）。
【０１３１】次に、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷
等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さら
にその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状
に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ
１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネ
ル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さら
にその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状
に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ
１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネ
ル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
【０１３２】以上の第１基板形成工程とは別に、第２基
板形成工程（図１７の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その
表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１
１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの
形成工程は図６に示した製造方法を用いて行われ、その
製造方法中のＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタエレメントの形
成は図８のインクジェット装置１６を用いて図１、図
２、図３、図４等に示したインクジェットヘッドの制御
方法に従って実行される。これらカラーフィルタの製造
方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明し
た内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
板形成工程（図１７の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その
表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１
１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの
形成工程は図６に示した製造方法を用いて行われ、その
製造方法中のＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタエレメントの形
成は図８のインクジェット装置１６を用いて図１、図
２、図３、図４等に示したインクジェットヘッドの制御
方法に従って実行される。これらカラーフィルタの製造
方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明し
た内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
【０１３３】図６（ｄ）に示すようにマザー基板１２す
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわち
カラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリ
ソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成され
（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１
１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１
１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル
１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわち
カラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリ
ソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成され
（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１
１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１
１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル
１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
【０１３４】以上により大面積のマザー第１基板及びマ
ザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
ザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
【０１３５】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各
液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１
０（図１８参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各
液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１
０（図１８参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
【０１３６】その後、露出した液晶注入用開口１１０を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さら
に各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程
Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程２４において洗浄処理を受ける。
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さら
に各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程
Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程２４において洗浄処理を受ける。
【０１３７】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル１０２に対して図１８に示すよう
に、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明
装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ
１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０
１が完成する（工程Ｐ２６）。
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル１０２に対して図１８に示すよう
に、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明
装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ
１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０
１が完成する（工程Ｐ２６）。
【０１３８】以上に説明した液晶装置の製造方法及び製
造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において
次のような特徴を有する。すなわち、図５（ａ）に示す
カラーフィルタ１すなわち図１９のカラーフィルタ１１
８内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘ
ッド２２（図１参照）の１回の主走査×によって形成さ
れるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異
なるノズルグループに属する複数のノズル２７によって
ｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることによ
り所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズ
ル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場
合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツ
キが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの
光透過特性を平面的に均一にすることができる。このこ
とは、図１９の液晶装置１０１において、色むらのない
鮮明なカラー表示が得られるということである。
造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において
次のような特徴を有する。すなわち、図５（ａ）に示す
カラーフィルタ１すなわち図１９のカラーフィルタ１１
８内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘ
ッド２２（図１参照）の１回の主走査×によって形成さ
れるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異
なるノズルグループに属する複数のノズル２７によって
ｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることによ
り所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズ
ル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場
合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツ
キが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの
光透過特性を平面的に均一にすることができる。このこ
とは、図１９の液晶装置１０１において、色むらのない
鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１３９】また、本実施形態の液晶装置の製造方法及
び製造装置では、図８に示すインクジェット装置１６を
用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたイ
ンク吐出によってフィルタエレメント３を形成するの
で、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑
な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも
無い。
び製造装置では、図８に示すインクジェット装置１６を
用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたイ
ンク吐出によってフィルタエレメント３を形成するの
で、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑
な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも
無い。
【０１４０】（第７実施形態）図２０は、本発明に係る
ＥＬ装置の製造方法の一実施形態を示している。また、
図２１はその製造方法の主要工程及び最終的に得られる
ＥＬ装置の主要断面構造を示している。図２１（ｄ）に
示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画
素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２
０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成し、それらの格
子状凹部の中に正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向
から見てストライプ配列等といった所定配列となるよう
にＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及びＢ色発
光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれ
らの上に対向電極２１３を形成することによって形成さ
れる。
ＥＬ装置の製造方法の一実施形態を示している。また、
図２１はその製造方法の主要工程及び最終的に得られる
ＥＬ装置の主要断面構造を示している。図２１（ｄ）に
示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画
素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２
０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成し、それらの格
子状凹部の中に正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向
から見てストライプ配列等といった所定配列となるよう
にＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及びＢ色発
光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれ
らの上に対向電極２１３を形成することによって形成さ
れる。
【０１４１】上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film
Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transi
stor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１
３は単一な面電極として形成される。
Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transi
stor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１
３は単一な面電極として形成される。
【０１４２】各画素電極２０２と各対向電極２１３とに
よって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１
つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制
御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望す
るものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に
希望するフルカラー像を表示することができる。
よって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１
つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制
御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望す
るものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に
希望するフルカラー像を表示することができる。
【０１４３】上記ＥＬ装置２０１は、例えば、図２０に
示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５
１及び図２１（a）のように、透明基板２０４の表面に
ＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成し、
さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、
例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッ
タリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画
素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oｘide）、
酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等
を用いることができる。
示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５
１及び図２１（a）のように、透明基板２０４の表面に
ＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成し、
さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、
例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッ
タリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画
素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oｘide）、
酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等
を用いることができる。
【０１４４】次に、工程Ｐ５２及び図２１（a）に示す
ように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニン
グ手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成
し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定
されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフ
ッ素処理できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好まし
い。
ように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニン
グ手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成
し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定
されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフ
ッ素処理できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好まし
い。
【０１４５】次に、正孔注入層用インクを塗布する直前
に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行った（工程Ｐ５３）。これに
より、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水
化され、インクジェット液滴を微細にパターニングする
ための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生
する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置で
も、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いる
ことができる。
に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行った（工程Ｐ５３）。これに
より、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水
化され、インクジェット液滴を微細にパターニングする
ための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生
する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置で
も、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いる
ことができる。
【０１４６】次に、工程Ｐ５４及び図２１（ａ）に示す
ように、正孔注入層用インクを図８のインクジェット装
置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素
電極２０２の上にパターニング塗布を行った。具体的な
インクジェットヘッドの制御方法は図１、図２、図３又
は図４に示した方法を用いた。その塗布後、真空（１ｔ
ｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去し
（工程Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（ホットプレ
ート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相
溶しない正孔注入層２２０を形成した（工程Ｐ５６）。
膜厚は４０ｎｍであった。
ように、正孔注入層用インクを図８のインクジェット装
置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素
電極２０２の上にパターニング塗布を行った。具体的な
インクジェットヘッドの制御方法は図１、図２、図３又
は図４に示した方法を用いた。その塗布後、真空（１ｔ
ｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去し
（工程Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（ホットプレ
ート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相
溶しない正孔注入層２２０を形成した（工程Ｐ５６）。
膜厚は４０ｎｍであった。
【０１４７】次に、工程Ｐ５７及び図２１（ｂ）に示す
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２
０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク
及びＧ発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層
用インクは、図８のインクジェット装置１６のインクジ
ェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェットヘ
ッドの制御方法は図１、図２、図３又は図４に示した方
法に従った。インクジェット方式によれば、微細なパタ
ーニングを簡便に且つ短時間に行うことができる。ま
た、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変えること
により膜厚を変えることが可能である。
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２
０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク
及びＧ発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層
用インクは、図８のインクジェット装置１６のインクジ
ェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェットヘ
ッドの制御方法は図１、図２、図３又は図４に示した方
法に従った。インクジェット方式によれば、微細なパタ
ーニングを簡便に且つ短時間に行うことができる。ま
た、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変えること
により膜厚を変えることが可能である。
【０１４８】発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒ
ｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除去し（工
程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の
熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色
発光層２０３Ｇを形成した（工程Ｐ５９）。膜厚は５０
ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に
不溶である。
ｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除去し（工
程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の
熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色
発光層２０３Ｇを形成した（工程Ｐ５９）。膜厚は５０
ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に
不溶である。
【０１４９】なお、発光層を形成する前に正孔注入層２
２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２
２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２
２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
【０１５０】次に、工程Ｐ６０及び図２１（ｃ）に示す
ように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色
発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２
２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの
３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及び
Ｇ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平
坦化することができる。これにより、上下電極間のショ
ートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの
膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光
層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しな
い。
ように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色
発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２
２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの
３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及び
Ｇ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平
坦化することができる。これにより、上下電極間のショ
ートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの
膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光
層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しな
い。
【０１５１】以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方
法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート
法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２
０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインク
ジェット法を採用することもできる。
法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート
法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２
０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインク
ジェット法を採用することもできる。
【０１５２】その後、工程Ｐ６１及び図２１（ｄ）に示
すように、対向電極２１３を形成することにより、目標
とするＥＬ装置２０１を製造した。対向電極２１３はそ
れが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａ
ｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といっ
た成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３が
ストライプ状電極である場合には、成膜された電極層を
フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を
用いて形成できる。
すように、対向電極２１３を形成することにより、目標
とするＥＬ装置２０１を製造した。対向電極２１３はそ
れが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａ
ｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といっ
た成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３が
ストライプ状電極である場合には、成膜された電極層を
フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を
用いて形成できる。
【０１５３】以上に説明したＥＬ装置の製造方法及び製
造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法とし
て図１、図２、図３又は図４等に示した制御方法を採用
したので、図２１における各絵素ピクセル内の正孔注入
層２２０及びＲ，Ｇ，Ｂ各色発光層２０３Ｒ，２０３
Ｇ，２０３Ｂは、インクジェットヘッド２２（図１参
照）の１回の主走査×によって形成されるのではなく
て、１個の絵素ピクセル内の正孔注入層及び／又は各色
発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル２
７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受け
ることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に
複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが
存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラ
ツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置の発光
面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。
このことは、図２１（ｄ）のＥＬ装置２０１において、
色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということで
ある。
造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法とし
て図１、図２、図３又は図４等に示した制御方法を採用
したので、図２１における各絵素ピクセル内の正孔注入
層２２０及びＲ，Ｇ，Ｂ各色発光層２０３Ｒ，２０３
Ｇ，２０３Ｂは、インクジェットヘッド２２（図１参
照）の１回の主走査×によって形成されるのではなく
て、１個の絵素ピクセル内の正孔注入層及び／又は各色
発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル２
７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受け
ることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に
複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが
存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラ
ツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置の発光
面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。
このことは、図２１（ｄ）のＥＬ装置２０１において、
色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということで
ある。
【０１５４】また、本実施形態のＥＬ装置の製造方法及
び製造装置では、図８に示すインクジェット装置１６を
用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたイ
ンク吐出によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成
するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のよう
な複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費する
ことも無い。
び製造装置では、図８に示すインクジェット装置１６を
用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたイ
ンク吐出によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成
するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のよう
な複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費する
ことも無い。
【０１５５】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
【０１５６】例えば、図８及び図９に示したカラーフィ
ルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２を主走
査方向×へ移動させて基板１２を主走査し、基板１２を
副走査駆動装置２１によって移動させることによりイン
クジェットヘッド２２によって基板１２を副走査するこ
とにしたが、これとは逆に、基板１２の移動によって主
走査を実行し、インクジェットヘッド２２の移動によっ
て副走査を実行することもできる。
ルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２を主走
査方向×へ移動させて基板１２を主走査し、基板１２を
副走査駆動装置２１によって移動させることによりイン
クジェットヘッド２２によって基板１２を副走査するこ
とにしたが、これとは逆に、基板１２の移動によって主
走査を実行し、インクジェットヘッド２２の移動によっ
て副走査を実行することもできる。
【０１５７】また、上記実施形態では、圧電素子の撓み
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。また、上記実施形態では、
主走査方向と副走査方向とが直交する最も一般的な構成
についてのみ例示したが、主走査方向と副走査方向との
関係は直交関係には限られず、任意の角度で交差してい
ればよい。吐出させる材料としては、基板等の対象物上
に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば上
述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラ
ス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又は
半導体材料がその一例として挙げられる。また、上記実
施形態では、カラーフィルタの製造方法及び製造装置、
液晶装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ装置の製造方法
及び製造装置、を例として説明してきたが、本発明はこ
れらに限定されることなく、対象物上に微細パターニン
グを施す工業技術全般に用いることが可能である。例え
ば、各種半導体素子（薄膜トランジスタ、薄膜ダイオー
ド等）、各種配線パターン、及び絶縁膜の形成等がその
利用範囲の一例として挙げられる。ヘッドから吐出させ
る材料としては、基板等の対象物上に形成する要素に応
じて種々選択可能であり、例えば上述してきたインク、
ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合
物等の導電材料、誘電体材料、又は半導体材料がその一
例として挙げられる。また、上記実施形態では、簡便の
ため「インクジェットヘッド」と呼称してきたが、この
インクジェットヘッドから吐出される吐出物はインクに
は限定されず、例えば、前述のＥＬ発光材料、シリカガ
ラス前駆体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、
又は半導体材料等様々であることはいうまでもない。上
記実施形態の製造方法により製造された液晶装置、ＥＬ
装置は、例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等とい
った電子機器の表示部に搭載することができる。
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。また、上記実施形態では、
主走査方向と副走査方向とが直交する最も一般的な構成
についてのみ例示したが、主走査方向と副走査方向との
関係は直交関係には限られず、任意の角度で交差してい
ればよい。吐出させる材料としては、基板等の対象物上
に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば上
述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラ
ス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又は
半導体材料がその一例として挙げられる。また、上記実
施形態では、カラーフィルタの製造方法及び製造装置、
液晶装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ装置の製造方法
及び製造装置、を例として説明してきたが、本発明はこ
れらに限定されることなく、対象物上に微細パターニン
グを施す工業技術全般に用いることが可能である。例え
ば、各種半導体素子（薄膜トランジスタ、薄膜ダイオー
ド等）、各種配線パターン、及び絶縁膜の形成等がその
利用範囲の一例として挙げられる。ヘッドから吐出させ
る材料としては、基板等の対象物上に形成する要素に応
じて種々選択可能であり、例えば上述してきたインク、
ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合
物等の導電材料、誘電体材料、又は半導体材料がその一
例として挙げられる。また、上記実施形態では、簡便の
ため「インクジェットヘッド」と呼称してきたが、この
インクジェットヘッドから吐出される吐出物はインクに
は限定されず、例えば、前述のＥＬ発光材料、シリカガ
ラス前駆体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、
又は半導体材料等様々であることはいうまでもない。上
記実施形態の製造方法により製造された液晶装置、ＥＬ
装置は、例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等とい
った電子機器の表示部に搭載することができる。
【０１５８】
【発明の効果】本発明に係るカラーフィルタの製造方法
及び製造装置によれば、カラーフィルタ内の個々のフィ
ルタエレメントはインクジェットヘッドの１回の走査に
よって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレ
メントは異なるノズルグループに属する複数のノズルに
よって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚
に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク
吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタ
エレメント間で膜厚にバラツキが生じることを防止で
き、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均
一にすることができる。
及び製造装置によれば、カラーフィルタ内の個々のフィ
ルタエレメントはインクジェットヘッドの１回の走査に
よって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレ
メントは異なるノズルグループに属する複数のノズルに
よって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚
に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク
吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタ
エレメント間で膜厚にバラツキが生じることを防止で
き、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均
一にすることができる。
【０１５９】また、本発明はインクジェットヘッドを用
いる方法であるので、フォトリソグラフィー法を用いる
方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料
を浪費することも無い。
いる方法であるので、フォトリソグラフィー法を用いる
方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料
を浪費することも無い。
【０１６０】また、本発明に係る液晶装置の製造方法及
び製造装置によれば、カラーフィルタを製造する段階に
おいて、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメント
はインクジェットヘッドの１回の走査によって形成され
るのではなくて、各１個のフィルタエレメントは異なる
ノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてイ
ンク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるの
で、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツ
キが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で
膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラ
ーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることがで
きる。この結果、色むらの無い鮮明なカラー像を表示す
ることができる。
び製造装置によれば、カラーフィルタを製造する段階に
おいて、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメント
はインクジェットヘッドの１回の走査によって形成され
るのではなくて、各１個のフィルタエレメントは異なる
ノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてイ
ンク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるの
で、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツ
キが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で
膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラ
ーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることがで
きる。この結果、色むらの無い鮮明なカラー像を表示す
ることができる。
【０１６１】また、本発明に係るＥＬ装置の製造方法及
び製造装置によれば、各絵素ピクセル内のＲ，Ｇ，Ｂの
各色発光層はインクジェットヘッドの１回の主走査によ
って形成されるのではなくて、それらの各色発光層は異
なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ね
てインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成され
る。このため、仮に複数のノズル間においてインク吐出
量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル
間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、
ＥＬ装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にする
ことができ、この結果、色むらのない鮮明なカラー表示
を得ることができる。
び製造装置によれば、各絵素ピクセル内のＲ，Ｇ，Ｂの
各色発光層はインクジェットヘッドの１回の主走査によ
って形成されるのではなくて、それらの各色発光層は異
なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ね
てインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成され
る。このため、仮に複数のノズル間においてインク吐出
量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル
間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、
ＥＬ装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にする
ことができ、この結果、色むらのない鮮明なカラー表示
を得ることができる。
【０１６２】また、本発明のＥＬ装置の製造方法及び製
造装置では、インクジェットヘッドを用いたインク吐出
によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成するの
で、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑
な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも
無い。
造装置では、インクジェットヘッドを用いたインク吐出
によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成するの
で、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑
な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも
無い。
【０１６３】また、本発明に係るインクジェットヘッド
の制御装置によれば、個々の色パターンはインクジェッ
トヘッドの１回の走査によって形成されるのではなく
て、各１個の色パターンは異なるノズルグループに属す
る複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けること
により所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル
間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合で
も、複数の色パターン間で膜厚にバラツキが生じること
を防止でき、それ故、色パターンの光学特性を光学部材
の平面内で均一に揃えることができる。
の制御装置によれば、個々の色パターンはインクジェッ
トヘッドの１回の走査によって形成されるのではなく
て、各１個の色パターンは異なるノズルグループに属す
る複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けること
により所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル
間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合で
も、複数の色パターン間で膜厚にバラツキが生じること
を防止でき、それ故、色パターンの光学特性を光学部材
の平面内で均一に揃えることができる。
【０１６４】これにより、光学部材としてのカラーフィ
ルタにおける色パターンとしてのＲ，Ｇ，Ｂ各色フィル
タエレメントを平面的に均一な膜厚で形成することがで
きる。また、光学部材としてのＥＬ素子における色パタ
ーンとしてのＲ，Ｇ，Ｂ発光層や正孔注入層を平面的に
均一な膜厚で形成することができる。
ルタにおける色パターンとしてのＲ，Ｇ，Ｂ各色フィル
タエレメントを平面的に均一な膜厚で形成することがで
きる。また、光学部材としてのＥＬ素子における色パタ
ーンとしてのＲ，Ｇ，Ｂ発光層や正孔注入層を平面的に
均一な膜厚で形成することができる。
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実
施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の
実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさら
に他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
に他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさら
に他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
に他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
【図５】本発明に係るカラーフィルタの一実施形態及び
その基礎となるマザー基板の一実施形態を示す平面図で
ある。
その基礎となるマザー基板の一実施形態を示す平面図で
ある。
【図６】図５（ａ）のＶＩ−ＶＩ線に従った断面部分を
用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図であ
る。
用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図であ
る。
【図７】カラーフィルタにおけるＲ，Ｇ，Ｂ３色の絵素
ピクセルの配列例を示す図である。
ピクセルの配列例を示す図である。
【図８】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発
明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るＥＬ装置
の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインク
ジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るＥＬ装置
の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインク
ジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図９】図８の装置の主要部を拡大して示す斜視図であ
る。
る。
【図１０】図９の装置の主要部であるインクジェットヘ
ッドを拡大して示す斜視図である。
ッドを拡大して示す斜視図である。
【図１１】インクジェットヘッドの改変例を示す斜視図
である。
である。
【図１２】インクジェットヘッドの内部構造を示す図で
あって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は
（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。
あって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は
（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。
【図１３】インクジェットヘッドの他の改変例を示す平
面図である。
面図である。
【図１４】図８のインクジェットヘッド装置に用いられ
る電気制御系を示すブロック図である。
る電気制御系を示すブロック図である。
【図１５】図１４の制御系によって実行される制御の流
れを示すフローチャートである。
れを示すフローチャートである。
【図１６】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を
示す斜視面図である。
示す斜視面図である。
【図１７】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
態を示す工程図である。
【図１８】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製
造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図であ
る。
造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図であ
る。
【図１９】図１８におけるＩ×−Ｉ×線に従って液晶装
置の断面構造を示す断面図である。
置の断面構造を示す断面図である。
【図２０】本発明に係るＥＬ装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
態を示す工程図である。
【図２１】図２０に示す工程図に対応するＥＬ装置の断
面図である。
面図である。
【図２２】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示
す図である。
す図である。
【図２３】従来のカラーフィルタの特性を説明するため
の図である。
の図である。
１ カラーフィルタ ２ 基板 ３ フィルタエレメント ４ 保護膜 ６ 隔壁 ７ フィルタエレメント形成領域 １１ カラーフィルタ形成領域 １２ マザー基板 １３ フィルタエレメント材料 １６ インクジェット装置 １７ ヘッド位置制御装置 １８ 基板位置制御装置 １９ 主走査駆動装置 ２１ 副走査駆動装置 ２２ インクジェットヘッド ２６ ヘッドユニット ２７ ノズル ２８ ノズル列 ３９ インク加圧体 ４１ 圧電素子 ４９ テーブル ７６ キャッピング装置 ７７ クリーニング装置 ７８ 電子天秤 ８１ ヘッド用カメラ ８２ 基板用カメラ １０１ 液晶装置 １０２ 液晶パネル １０７ａ，１０７ｂ 基板 １１１ａ，１１１ｂ 基材 １１４ａ，１１４ｂ 電極 １１８ カラーフィルタ ２０１ ＥＬ装置 ２０２ 画素電極 ２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ 発光層 ２０４ 基板 ２０５ バンク ２１３ 対向電極 ２２０ 正孔注入層 Ｌ 液晶 Ｍ フィルタエレメント材料 × 主走査方向 Ｙ 副走査方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｈ０５Ｂ 33/10 33/12 Ｂ 33/12 33/14 Ａ 33/14 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ (72)発明者 片上 悟 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 清水 政春 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 木口 浩史 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 FA15 FB01 HA10 HA22 2H048 BA11 BA64 BB01 BB02 BB28 BB37 BB44 2H091 FA02X FA02Y FA02Z FB12 FC01 LA12 LA15 LA18 3K007 AB04 AB18 BA06 BB06 CA01 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA00 FA01 5C094 AA08 BA29 BA43 CA19 CA24 ED03 GB10 (54)【発明の名称】 カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ装置の製造方 法及び製造装置、インクジェットヘッドの制御装置、材料の吐出方法及び材料の吐出装置、並び に電子機器
Claims (23)
- 【請求項１】 基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造方法であって、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して
主走査方向に移動させる工程と、 前記複数のノズルから選択的にフィルタ材料を吐出して
前記基板上に前記フィルタエレメントを形成する工程
と、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させる工程と、を具備することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記インクジェット
ヘッド及び基板のうちの一方を前記ノズルグループの副
走査方向の長さの整数倍の長さで他方に対して副走査移
動させることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、前記ノ
ズル列は前記副走査方向に対して傾斜することを特徴と
するカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちのいずれか
１つにおいて、前記ノズル列の長さをＬ、前記分割によ
って形成される前記ノズルグループの数をｎ、前記ノズ
ル列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記
副走査移動量δは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１から請求項３のうちのいずれか
１つにおいて、前記ノズル列の両端部分の数個のノズル
からはインクを吐出させないことを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法。 - 【請求項６】 請求項５において、前記ノズル列のうち
前記インクを吐出させないことにした両端部ノズルを除
いた部分の長さをＬ、前記分割によって形成される前記
ノズルグループの数をｎ、前記ノズル列が前記副走査方
向と成す角度をθとするとき、前記副走査移動量δは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項７】 請求項１において、前記インクジェット
ヘッドは複数個設けられるとともに、各々のインクジェ
ットヘッドのノズル列からは互いに異なる色のフィルタ
材料が吐出されることを特徴とするカラーフィルタの製
造方法。 - 【請求項８】 請求項１において、前記インクジェット
ヘッドは複数の前記ノズル列が設けられるとともに、各
前記ノズル列からは互いに異なる色の前記フィルタ材料
が吐出されることを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。 - 【請求項９】 基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造装置であって、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、 該インクジェットヘッドへフィルタ材料を供給するイン
ク供給手段と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段
と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段
と、 前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル
吐出制御手段と、 前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段
と、 前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段と
を有し、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させることを特徴とするカラーフィルタの製造装
置。 - 【請求項１０】 液晶を挟持する一対の基板と、少なく
とも一方の基板上に複数のフィルタエレメントを配列し
て成るカラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法で
あって、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して
主走査方向に移動させる工程と、 前記複数のノズルから選択的にフィルタ材料を吐出して
前記基板上に前記フィルタエレメントを形成する工程
と、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させる工程と、を具備することを特徴とする液晶装
置の製造方法。 - 【請求項１１】 液晶を挟持する一対の基板と、少なく
とも一方の基板上に複数のフィルタエレメントを配列し
て成るカラーフィルタとを有する液晶装置の製造装置に
おいて、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、 該インクジェットヘッドへフィルタ材料を供給するイン
ク供給手段と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段
と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段
と、 前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル
吐出制御手段と、 前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段
と、 前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段と
を有し、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させることを特徴とする液晶装置の製造装置。 - 【請求項１２】 それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵
素ピクセルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造方法
において、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して
主走査方向に移動させる工程と、 前記複数のノズルから選択的にＥＬ発光材料を吐出して
前記基板上に前記ＥＬ発光層を形成する工程と、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させる工程と、を具備することを特徴とするＥＬ装
置の製造方法。 - 【請求項１３】 それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵
素ピクセルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造装置
において、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、 該インクジェットヘッドへＥＬ発光材料を供給するイン
ク供給手段と、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、 前記インクジェットヘッドへ前記ＥＬ発光材料を供給す
るインク供給手段と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段
と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段
と、 前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル
吐出制御手段と、 前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段
と、 前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段
と、を有し、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させることを特徴とするＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項１４】 基板上に複数の色パターンを配列して
成る光学部材を製造する際に用いられるインクジェット
ヘッドの制御装置において、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェ
ットヘッドと、 該インクジェットヘッドへフィルタ材料を供給するイン
ク供給手段と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段
と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段
と、 前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル
吐出制御手段と、 前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段
と、 前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段と
を有し、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェ
ットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副
走査させることを特徴とするインクジェットヘッドの制
御装置。 - 【請求項１５】 対象物に材料を吐出するための方法で
あって、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、前
記ノズル列が複数のグループに分割されてなるヘッド、
及び前記対象物のうちの一方を他方に対して主走査方向
に移動させる工程と、 前記複数のノズルから前記対象物に向かって選択的に材
料を吐出する工程と、 各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分
を前記主走査方向に走査できるように、前記ヘッド及び
前記対象物のうちの一方を他方に対して副走査させる工
程と、 を具備することを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１６】 請求項１５において、前記ヘッド、及
び対象物の一方を前記グループの副走査方向の長さの整
数倍の長さで副走査移動させながら前記主走査を複数回
繰り返して行うことを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１７】 請求項１５又は請求項１６において、
前記複数のノズルは前記副走査方向に対して傾斜するよ
うに配列されてなることを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１８】 請求項１５から請求項１７のうちのい
ずれか１つにおいて、前記ノズル列の長さをＬ、前記分
割によって形成される前記グループの数をｎ、前記ノズ
ル列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記
副走査移動量δは、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ であることを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１９】 請求項１５から請求項１７のうちのい
ずれか１つにおいて、前記ノズル列の両端部分の数個の
ノズルからは材料を吐出させないことを特徴とする材料
の吐出方法。 - 【請求項２０】 請求項１９において、前記ノズル列の
うち前記材料を吐出させないことにした両端部ノズルを
除いた部分の長さをＬ、前記分割によって形成される前
記ノズルグループの数をｎ、前記ノズル列が前記副走査
方向と成す角度をθとするとき、前記副走査移動量δ
は、 δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ であることを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項２１】 対象物に材料を吐出するための材料の
吐出装置であって、 複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該
ノズル列が複数のグループに分割されてなるヘッドと、 該ヘッドへタ材料を供給する材料供給要素と、 前記ヘッド及び前記対象物のうちの一方を他方に対して
主走査方向に移動させる主走査駆動要素と、 前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を
他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動要素
と、 前記複数のノズルからの前記材料の吐出を制御するノズ
ル吐出制御要素と、 を有し、 各前記グループが前記対象物の同じ部分を前記主走査方
向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及び
前記対象物のうちの一方を他方に対して副走査させるこ
とを特徴とする材料の吐出装置。 - 【請求項２２】 請求項１０に記載の液晶装置の製造方
法を用いて製造した液晶装置を搭載した電子機器。 - 【請求項２３】 請求項１２に記載のEL装置の製造方法
を用いて製造したEL装置を搭載した電子機器。
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