JPWO2013099658A1 - 光学積層体及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

帯電防止性能の安定性が極めて高く、耐久性試験後においても表面抵抗値が安定したものである光学積層体を提供する。光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、上記溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子との相溶性とを有することを特徴とする光学積層体。

Description

本発明は、光学積層体及び画像表示装置に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル等の画像表示装置の最表面には、反射防止性、ハード性や透明性等の種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
これらの機能層の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等が使用されている。しかし、このような機能層の基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。

このような帯電を防止するために、光学積層体の一部に導電性の帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが従来から行われている（例えば、特許文献１、２参照）。
帯電防止剤に添加する帯電防止剤の帯電防止機能を発現するタイプとしては、従来、電子がソリトンやポーラロンといったキャリアを介して移動する電子伝導タイプと、イオン自体が系内を移動するイオン伝導タイプの２種類に分類される。
電子伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、各種金属酸化物や導電性ポリマー等が知られており、一方、イオン伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩や、リチウム塩等が知られている。
なかでも、帯電防止層に添加する帯電防止剤としては、カチオン界面活性剤である第４級アンモニウム塩が好ましく用いられていた。

しかしながら、帯電防止剤として第４級アンモニウム塩を用いてなる帯電防止層を供えた光学積層体は、帯電防止層を形成する際の塗工環境によって表面抵抗値が安定しないという問題があった。また、近年、光学積層体には極めて高度な耐久性能（耐光性能及び耐熱性能）が要求されるようになってきているが、帯電防止層を形成する際の表面抵抗値の安定性は、帯電防止層を備えた光学積層体の表面抵抗値の安定性とリンクしているため、第４級アンモニウム塩を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体は、耐久性試験の前後でも表面抵抗値が安定しないという問題があった。具体的には、帯電防止層を備えた光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いる場合、耐久性試験後における光学積層体の表面抵抗値が低くなり過ぎると、タッチセンサーが充分に感知できなくなる問題が生じ、耐久性試験後の光学積層体の表面抵抗値が高くなり過ぎると、タッチ部分で電荷が一時的に集中して液晶分子に影響を及ぼす結果、表示画面に白濁現象が生じることがあった。
また、帯電防止層に添加する帯電防止剤として、導電性ポリマーや導電性微粒子を用いることも従来から知られているが、このような帯電防止剤を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体も、耐久性試験により表面抵抗値が悪化するという問題があった。

特開２００６−１２６８０８号公報 特開２００５−３１２８２号公報

本発明は、上記現状に鑑み、帯電防止性能の安定性が極めて高く、耐久性試験前後においても表面抵抗値の変化が少ない光学積層体、該光学積層体を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。

すなわち、本発明は、光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、上記溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子との相溶性とを有することを特徴とする光学積層体である。

本発明の光学積層体において、上記導電性微粒子は、鎖状又は針状であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、８０℃環境で５００時間保持する耐久性試験（１）及びキセノンアークを３００時間照射する耐久性試験（２）の前後における表面抵抗値の変化率である、（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）が、いずれも０．５〜２．０であることが好ましい。
また、上記樹脂成分は、重量平均分子量が２万〜２０万であり、ガラス転移温度が８０〜１２０℃であることが好ましい。

また、上記樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
また、上記導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）であり、上記樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、上記溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルであることが好ましい。
また、上記帯電防止層の光透過性基材と反対側の面上にハードコート層を有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分を含有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、導通微粒子を含有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
また、上記紫外線吸収剤の含有量が、３〜１５質量％であることが好ましい。

また、本発明は、本発明の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。

本発明者らは、従来の光学積層体が、耐久性試験（耐光性試験及び耐熱性試験）を行った後に表面抵抗値が安定しないことについて、鋭意検討した結果、従来の光学積層体は、耐久性試験の前後において帯電防止層に含まれる帯電防止剤が動き、その位置が変化しまうことに起因することを見出した。そして、このような問題を解決するため、更に検討した結果、帯電防止層を特定の材料の組み合わせによって構成することで、耐久性試験（耐光性試験及び耐熱性試験）の前後において表面抵抗値の変化が小さいことを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明は、光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体である。
本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。すなわち、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、層中にモノマー成分を含有するものではない。
ここで、上記モノマー成分とは、光学積層体の耐久性試験、例えば、８０℃の高温試験、カーボンアークのフェードメーター、キセノンランプを用いたキセノンウェザーメーターを用いた耐久性試験を行った時に反応し、帯電防止層に硬化収縮を起こさせる成分を意味する。
本発明の光学積層体は、このようなモノマー成分を帯電防止層に含有しないため、耐久性試験後に帯電防止層に硬化収縮が起きず、耐久性試験の前後において表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
具体的には、本発明の光学積層体は、８０℃環境で５００時間保持する耐久性試験（１）及びキセノンアークを３００時間照射する耐久性試験（２）の前後における表面抵抗値の変化率｛（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）｝が、いずれも０．５〜２．０であることが好ましい。０．５未満であると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が低く、導電性が高くなるため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷が拡散してしまい、センサーが感知できずタッチセンサーが作動しないことがある。一方、２．０を超えると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が高く、導電性が低下するため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷を充分に拡散できず、一時的に高い電荷が集中してしまい、結果として、液晶分子に影響を及ぼし、表示画面が白濁する現象が発生する恐れがある。
なお、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層がモノマー成分を含有しないとは、該帯電防止層中にモノマー成分を全く含有しない場合のほか、耐久性試験後において表面抵抗値の差が上記範囲内に収まる範囲で含まれている場合も含む意味である。
更に、上記帯電防止層は、紫外線によって分解等してしまう樹脂を含有しないことが好ましい。上記紫外線によって分解等してしまう樹脂としては、例えば、分極の大きい官能基を有する樹脂や、主鎖に不飽和結合を有する樹脂等が挙げられる。

上記導電性微粒子は、本発明の光学積層体の帯電防止性能を担保する材料である。
このような導電性微粒子としては特に限定されず、例えば、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボンナノチューブ、コーティング微粒子等、従来公知の材料を用いることができる。なかでも、耐光性、耐熱性、環境依存性が良好なことから、金属酸化物微粒子が好適に用いられる。

上記金属微粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等が挙げられる。
また、上記金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯ等が挙げられる。ここで、本発明における「金属酸化物」とは、異種金属がドープされた金属酸化物をも含む概念である。

また、上記コーティング微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層が形成された構成の従来公知の微粒子が挙げられる。
上記コア微粒子としては特に限定されず、例えば、シリカ微粒子、ガラス微粒子等の無機微粒子；フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子；有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、上記導電性被覆層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物等が挙げられる。

上記導電性微粒子は、平均一次粒子径が６〜４０ｎｍであることが好ましい。６ｎｍ未満であると、本発明の光学積層体に充分な帯電防止性能を付与するために添加量を多くする必要があり、透明性やその他の層との間の密着性に劣ることがあり、また、導電性微粒子の抵抗が急激に大きくなるため、上記帯電防止層の導電性能が悪くなることがある。４０ｎｍを超えると、導電性微粒子自体の抵抗は低いが、導電性微粒子が帯電防止層中で点在し、良好な抵抗を得られない恐れがある。上記導電性微粒子の平均一次粒子径のより好ましい下限は７ｎｍ、より好ましい上限は２０ｎｍである。
なお、上記導電性微粒子の「平均一次粒子径」とは、上記帯電防止層を形成するための帯電防止層用組成物中においては、日機装社製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣ粒度分析計を用いて測定した値を意味し、上記帯電防止層においては、該帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真や走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真により観察される導電性微粒子の１０個の平均値を意味する。

本発明の光学積層体において、上記導電性微粒子は、鎖状又は針状であることが好ましい。このような形状の導電性微粒子は、帯電防止層中で動き難いものであり、耐久性試験時に帯電防止層に硬化収縮が多少生じた場合であっても、光学積層体の表面抵抗値を殆ど変化させることなく安定して帯電防止層中に含有させることができる。また、上記帯電防止層において隣接する鎖状又は針状の導電性微粒子の接触が生じやすく、少量の添加量で充分な導電性能を有する帯電防止層とすることもできる。ここで、上記帯電防止層中の導電性微粒子が単粒子状であると、帯電防止層中で隣接する導電性微粒子同士の接触が取りづらく、充分な帯電防止性能を発揮させるためには添加量を多くする必要がある。その結果、上記帯電防止層と他の層との密着性の低下、導電性微粒子同士の接触点の増大に起因した接触抵抗の悪化による帯電防止層の導電性の低下、及び、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。
なお、上記鎖状又は針状とは、２個以上の上記導電性微粒子が直線状又は分岐状で連結された形態を意味する。以下、鎖状又は針状の導電性微粒子を、「鎖状導電性微粒子」と称して説明する。

上記鎖状導電性微粒子とは、上記導電性微粒子の一次粒子が単に粒子間引力によって凝集したものとは相違し、導電性微粒子同士が結合していることが好ましく、このような導電性微粒子は、直線状であっても折れ線上であってもよく、また湾曲状となっていてもよい。

上記鎖状導電性微粒子は、上記導電性微粒子が２個以上の連結された形態を有していれば特に限定されないが、上記導電性微粒子が直鎖状に２〜５０個連結していることが好ましい。上記導電性微粒子の連結個数が２個未満であると、表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、上記導電性微粒子の連結個数が５０個を超えると、帯電防止層の光透過率が低下し、ヘイズが上昇してしまうことがある。上記鎖状導電性微粒子を構成する導電性微粒子の連結数のより好ましい下限は３個、より好ましい上限は３０個である。

上記鎖状導電性微粒子の平均長さは、１２〜５００ｎｍであることが好ましい。１２ｎｍ未満であると、接触抵抗が増加し、上記帯電防止層の表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、５００ｎｍを超えると、上記帯電防止層の透明性が得られないおそれがあるからである。上記鎖状導電性微粒子の平均長さのより好ましい下限は２０ｎｍ、より好ましい上限は３００ｎｍである。
なお、「鎖状導電性微粒子の平均長さ」とは、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真や走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真により観察される鎖状導電性微粒子の１０個の長さの平均値を意味する。具体的には、例えば、導電性微粒子が２個以上連結している鎖状導電性微粒子の１個の大きさが確認できる倍率（例えば２０万倍以上）で撮影した、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真等において、鎖状導電性微粒子１０個選択し、選んだ鎖状導電性微粒子の最も長い部分の長さをそれぞれ測定し、その平均値を求めることにより、帯電防止層中における鎖状導電性微粒子の平均長さを求めることができる。なお、鎖状導電性微粒子は、曲線状など多様な形状で存在しているが、その長さ測定においては、最も離れた２点間の長さを測定する。

上記鎖状導電性微粒子は、例えば、以下の方法により得ることができる。
まず、金属塩又は金属アルコキシドが０．１〜５質量％の濃度で含まれるアルコール溶液を加熱して、該金属塩又は金属アルコキシドを加水分解させ、平均一次粒子径が１〜１００ｎｍの導電性微粒子のゲル分散液を調製する。このとき必要に応じて温水やアルカリを加えてもよい。
次いで、得られたゲル分散液を濾別、洗浄し、空気中、２００〜８００℃の温度で焼成して導電性微粒子（金属酸化物微粒子）を調製する。
次いで、この焼成した導電性微粒子の粉末を、酸性又はアルカリ性の水、及び、アルコール溶媒の少なくとも一方に分散させて濃度１０〜５０質量％の分散液とし、必要に応じて有機安定剤の存在下でこの分散液をメカニカル分散処理する。
なお、上記有機安定剤として具体的には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸等の多価カルボン酸及びその塩、複素環化合物あるいはこれらの混合物等が挙げられる。
このメカニカル分散処理によって、生成ゲルが解膠し、鎖状導電性微粒子が分散したゾルが得られる。上記メカニカル分散処理としては、例えば、サンドミル法、衝撃分散法等が挙げられ、特に、衝撃分散法が好ましく使用される。
こうして得られた鎖状導電性微粒子は、通常、遠心分離等の方法によって生成後の分散液から取り出され、必要に応じて酸等で洗浄される。また、得られた鎖状導電性微粒子を含む分散液は、そのまま帯電防止層の形成に使用することもできる。

上記鎖状導電性微粒子を含む分散液の市販品としては、例えば、日揮触媒化成社製のＥＬＣＯＭ−Ｖ３５６０、ＤＰ１１９７、ＤＰ１２０３、ＤＰ１２０４、ＤＰ１２０７、ＤＰ１２０８等が挙げられる。

上記帯電防止層における導電性微粒子の含有量としては、使用する導電性微粒子の種類、形状及び大きさ等に応じて適宜調整されるが、例えば、後述する樹脂成分１００質量部に対して、１００〜３００質量部であることが好ましい。１００質量部未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、３００質量部を超えると、上記帯電防止層の他の層との密着性が劣ることがあり、また、導電性微粒子同士の接触点の増大に起因した接触抵抗の悪化による帯電防止層の導電性の低下、及び、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。上記導電性微粒子の含有量のより好ましい下限は１５０質量部、より好ましい上限は２５０質量部である。この範囲にあることで、安定した抵抗値を得ながら、光透過性基材への密着性を確保できる。

上記樹脂成分は、ポリマーであって、上記帯電防止層のバインダー成分としての役割を果たす材料であり、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、後述する溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有するものである。
上記帯電防止層がバインダー成分として、ポリマーである樹脂成分を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後において帯電防止層に硬化収縮が起きず、表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
このため、上記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さないものである。上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有さないことにより、該樹脂成分の二次的な反応が無く、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層の性能を維持することができる。上記樹脂成分が分子中に反応性基を有するものである場合、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層中で、暗反応により徐々に上記樹脂成分が反応を進めてしまうことがあり、長期的に徐々に上記樹脂成分の反応が進むと、該反応により樹脂成分の結合が生じることとなり、樹脂成分が形成していた物理的距離が収縮することがある。その結果として帯電防止層中での導電性微粒子の物理的距離も縮まってしまい、導電パスを増大させ帯電防止層の導電性が向上し抵抗値が下がってしまうという問題が生じる。また、上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有すると、耐久性試験により該反応性官能基が反応して帯電防止層に硬化収縮が生じ、表面抵抗値が変化してしまう。
なお、上記反応性としては、耐久性試験において反応することがある官能基を意味し、例えば、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。
なお、これらの反応性官能基は、上記樹脂成分中に全く含まれないことが好ましいが、耐久性試験後において、帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度であれば含まれていてもよい。上記帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度とは、耐久性試験後における表面抵抗率の変化率が上述した範囲にある場合を意味する。

また、上記樹脂成分は、後述する溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有する。このような樹脂成分を含有する帯電防止層用組成物を用いてなる帯電防止層は、導電性微粒子の分散性に優れるとともに、経時での表面抵抗値の安定性に優れたものとなる。
なお、本明細書において、「溶解性を有する」とは、上記樹脂成分を後述する溶剤に溶解させた樹脂溶液において、ゲル成分を生じることがなく、かつ、当該樹脂溶液における溶剤比率の増大に応じて粘度が低下する特性を有することを意味する。また、「相溶性を有する」とは、上記樹脂溶液と上記導電性微粒子とを混合した帯電防止層用組成物において、樹脂成分１００質量部に対して、上記導電性微粒子が少なくとも１００〜３００質量部の範囲において任意の比率で混合しても、ゲル化物を生ずることなく均一分散しており、上記帯電防止層用組成物をムラなく塗工して塗膜を形成することができ、該塗膜を乾燥させてなる帯電防止層にヘイズの上昇等の外観悪化が生じないことを意味する。

また、上記樹脂成分は、側鎖を有するものであることが好ましい。
上記側鎖を有する樹脂成分は、該側鎖が立体障害となって帯電防止層中で動き難くなり、本発明の光学積層体をより好適に表面抵抗値の安定性に優れたものとすることができる。

上記樹脂成分は、重量平均分子量が２万〜２０万であることが好ましい。２万未満であると、帯電防止層に充分な硬さが得られず、耐久性試験の前後で表面抵抗値が不安定となることがある。一方、２０万を超えると、後述する帯電防止層用組成物の粘度が高くなりすぎ塗布できないことがある。上記重量平均分子量のより好ましい下限は５万、より好ましい上限は１０万である。
なお、上記重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算により求めることができる。ＧＰＣ移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０１、ＧＰＣ ＫＦ−８０２、ＧＰＣ ＫＦ−８０３、ＧＰＣ ＫＦ−８０４、ＧＰＣ ＫＦ−８０５、ＧＰＣ ＫＦ−８００Ｄ（いずれも、商品名、昭和電工社製）等を挙げることができる。検出器には、ＲＩ（示差屈折率）検出器及びＵＶ検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１（昭和電工社製）等のＧＰＣシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。

また、上記樹脂成分は、ガラス転移温度が８０〜１２０℃であることが好ましい。８０℃未満であると、樹脂成分が柔らかくなり、抵抗値が不安定となることがあり、一方、１２０℃を超えると、樹脂成分が硬くなり、光透過性基材への密着性が低下する恐れがある。上記ガラス転移温度のより好ましい下限は９０℃、より好ましい上限は１１０℃である。この範囲にあることで、安定した抵抗値を得ながら、光透過性基材への密着性を確保できる。

上記樹脂成分としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。
また、上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。
また、上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
本発明の光学積層体における上記樹脂成分としては、熱可塑性樹脂であることが好ましく、なかでも、上記導電性微粒子のブリードアウトを防止しやすく、相溶性に優れるといった特性を有し、耐候性にも優れることから、ポリメチルメタクリレートが好適に用いられる。

上記帯電防止層は、厚みが０．１〜１．０μｍであることが好ましい。０．１μｍ未満であると、充分な抵抗値を得ることができない恐れがあり、１．０μｍを超えると、光透過性基材に対する密着性に劣り、導電性微粒子の材料によっては、全光線透過率が低下することがある。上記帯電防止層の厚みのより好ましい下限は０．２μｍ、より好ましい上限は０．５μｍである。
なお、上記帯電防止層の厚みは、帯電防止層断面を電子顕微鏡（例えば、ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等）を用いて観測し、測定した値である。

上記溶剤としては、上記樹脂成分が上述した溶解性を示す有機溶剤が好適に用いられ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が挙げられ、これらの混合溶剤であってもよい。

ここで、上記導電性微粒子が上述した鎖状導電性微粒子である場合、該鎖状導電性微粒子は、上述したように水やアルコールを用いて調製される。このため、上記鎖状導電性微粒子を用いる場合、上記帯電防止層用組成物の溶剤としてはアルコールが最も好ましい。これは、極性基の少ない溶剤、特に水酸基を持たない溶剤を用いた場合、上記鎖状導電性微粒子を分散させる分散剤を追加する必要がある。そうすると、上記鎖状導電性微粒子の粒子間距離が遠くなる方向に向かい、結果として得られる帯電防止層の表面抵抗値が上昇することになるからである。
一方、上記樹脂成分がポリメチルメタクリレートである場合、該ポリメチルメタクリレートは、一般的にアルコールに不溶もしくは溶けにくく、水酸基が無く、極性基の少ない溶剤には溶けやすい傾向がある。具体的には、上記ポリメチルメタクリレートは、ケトン類、脂肪族、炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類に溶けやすい傾向がある。よって、これらの溶剤を選択することで、ポリメチルメタクリレート溶液を調製することができ、該溶液を用いることで、上記帯電防止層用組成物の調製を容易にすることができる。
上記帯電防止層用組成物では、上記導電性微粒子（鎖状導電性微粒子）と樹脂成分（ポリメチルメタクリレート）とを安定に存在させる必要がある。すなわち、上記溶剤として、極性基が少ない溶剤を多く加えすぎると、上記鎖状導電性微粒子が安定に存在できなくなり、凝集、ゲル化、沈降等の問題が発生する。一方で、アルコール等の極性の高い溶剤を多く加えすぎると、樹脂成分であるポリメチルメタクリレートが安定に存在できなくなり、析出、ゲル化等の問題が発生する。この結果として、上記帯電防止層用組成物として用いることができず、本発明の目的を達成することができなくなる。
このため、上記帯電防止層用組成物は、上記樹脂成分としてポリメチルメタクリレートを用いる場合、例えば、上記溶剤としてメチルイソブチルケトンを用い、上記鎖状導電性微粒子を含有するアルコール分散液と混合する際に、上記ポリメチルメタクリレートと鎖状導電性微粒子とを更に安定的に存在させるため、溶剤としてメチルイソブチルケトンとアルコールとの中間的性質を持ち、かつ、蒸発速度が遅いグリコールエステル類を追加で混合させることが好ましい。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルを追加で混合させることがより好ましい。これにより、上記帯電防止層用組成物の乾燥中であっても蒸発速度の遅いプロピレングリコールモノメチルエーテルが最後に残り、ポリメチルメタクリレートのゲル化や鎖状導電性微粒子の凝集等、乾燥中に悪影響を及ぼすことが無くなり、得られる帯電防止層が安定的に目的とする耐久性能を得ることができる。

このような材料を含有する帯電防止層用組成物は、上述したモノマー成分を含有しないことが好ましいが、上述したように、形成する帯電防止層が耐久性試験後において硬化収縮を起こさない範囲であれば、モノマー成分を含有していてもよい。

上記帯電防止層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。

上記帯電防止層用組成物を光透過性基材上に塗布し、塗膜を形成した後、該塗膜を乾燥させることで、上記帯電防止層を形成することができる。
上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。

本発明の光学積層体は光透過性基材を有する。
上記光透過性基材としては、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。
上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。

上記光透過性基材は、上記材料を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、上記材料の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。

その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも挙げられる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト社製のスミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ社製 アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学社製 のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成社製のオプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

上記光透過性基材の厚さとしては、フィルム状体の場合、１０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が２０μｍである。上記光透過性基材が板状体の場合には、これらの厚さを超える厚さであってもよい。
上記光透過性基材は、その上に上述した帯電防止層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的又は化学的な処理のほか、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

本発明の光学積層体は、上記帯電防止層の光透過性基材と反対側の面上にハードコート層を有することが好ましい。
上記帯電防止層が上記ハードコート層と上記光透過基材との間に存在することとなり、本発明の光学積層体を、ハードコート性能に優れたものとすることができ、更に、耐久性試験後における表面抵抗値がより安定したものとすることができる。

上記ハードコート層としては、導通微粒子、モノマー成分、樹脂成分及び紫外線吸収剤を含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分としては、上述した帯電防止層に含有される樹脂成分が挙げられるが、上記ハードコート層用組成物に含まれる樹脂成分は、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種であることが好ましい。上記帯電防止層と同種の樹脂成分を含有することで、帯電防止層とハードコート層との密着性が優れたものとなる。
なお、上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種のものと、異なる種類の樹脂成分とを含有していてもよい。ただし、この場合、上記ハードコート層用組成物における樹脂成分の主成分（すなわち、全樹脂成分における５０質量％以上）が、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分であることが好ましい。

上記モノマー成分としては、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる。
なお、本明細書において、モノマー成分とは、硬化性樹脂の前駆体を含むものであり、いわゆるオリゴマーも含む。

上記ハードコート層用組成物は、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記樹脂成分として使用することができる。

上記導通微粒子は、本発明の光学積層体の帯電防止性能を担保するための微粒子であり、上記ハードコート層の表面と帯電防止層との間の導通を取る役割を果たす。
このような導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。
上記コーティング微粒子を構成する材料としては、例えば、上述した帯電防止層における導電性微粒子において説明したものと同様の材料が挙げられる。

上記導通微粒子の平均粒子径としては、３〜１０μｍであることが好ましい。３μｍ未満であると、形成するハードコート層の厚みが薄くなり過ぎて、ハードコート性能が不充分となることがあり、一方、１０μｍを超えると、ハードコート層が厚くなり過ぎて透明性に劣ったり、導通微粒子が脱落したりする問題が生じることがある。上記導通微粒子の平均粒子径のより好ましい下限は４μｍ、より好ましい上限は７μｍである。
なお、上記導通微粒子は、ハードコート層の厚みと同等か、超える大きさであることが好ましい。すなわち、上記導通微粒子は、ハードコート層の表面付近に存在しているか、該表面から突出していることが好ましい。上記導通微粒子がハードコート層の厚みに対して小さすぎる場合、本発明の光学積層体の表面抵抗値が高くなり、帯電防止性能が劣ることとなることがある。具体的には、上記導通微粒子の平均粒子径は、ハードコート層の厚みに対して、０．８〜１．５倍であることが好ましい。０．８倍未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、１．５倍を超えると、上記導通微粒子がハードコート層から脱落することがある。

上記導通微粒子の含有量としては、上記ハードコート層における樹脂成分１００質量部に対して、０．５〜２．０質量部であることが好ましい。０．５質量部未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、２．０質量部を超えると、形成するハードコート層がヘイジーに（濁度が高く）なり、光学的特性に劣るといった問題が生じることがあり、また、ハードコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出るおそれがあり、更に、ハードコート層のハードコート性能に劣ることがある。上記導通微粒子の含有量のより好ましい上限は１．５質量部である。

上記紫外線吸収剤は、本発明の光学積層体の耐光性を担保する役割を果たす材料である。すなわち、上記紫外線吸収剤を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後においても表面抵抗値の変化を抑制することができる。
すなわち、上記ハードコート層中の紫外線吸収剤が、上記耐久性試験時に照射される紫外線を吸収することで、上記帯電防止層を構成する樹脂成分の紫外線による分解等の劣化反応を抑制し、帯電防止層中に含まれる導電性微粒子間の距離を維持することができ、その結果、本発明の光学積層体の耐久性が向上する。なお、このような効果を奏するために、上記紫外線吸収剤は、上記ハードコート層の帯電防止層を保護できる位置に含有される。

上記紫外線吸収剤としては特に限定されず、有機系又は無機系の紫外線吸収剤を用いることができる。なかでも、透明性に優れる有機系の紫外線吸収剤が好適に用いられる。
このような紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等の２’−ヒドロキシフェニル−５−クロロベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等の２’−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等の２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン等の２−ヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サルチル酸フェニル、４−ｔ−ブチル−フェニル−サリシレート等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤が挙げられる。なかでも、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。
その他に、ベンゾトリアゾール骨格にアクリロイル基又はメタクリロイル基を導入した反応型紫外線吸収剤等も用いられる。或いは、高い透明度を要求されない場合は、無機系紫外線吸収剤を添加することもできる。無機系紫外線吸収剤としては、粒径０．２μｍ以下の酸化チタン、酸化セリウム、酸化鉄等が用いられる。

上記紫外線吸収剤は、紫外線透過率が３８０ｎｍの透過率で２〜４０％であることが好ましい。２％未満であると、上記ハードコート層の硬化性が不充分となりハードコート性能に劣ることがあり、４０％を超えると、本発明の光学積層体の耐光性の経時変化が大きくなることがあり、また、本発明の光学積層体における各層の密着性が劣ることがある。なお、上記紫外線透過率は、光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を含む本発明の光学積層体を用いて、分光器により波長３８０ｎｍの紫外線の透過率を測定した値である。

また、上記紫外線吸収剤の含有量としては、使用する紫外線吸収剤の紫外線吸収能により上記紫外線透過率の範囲になるよう適宜決定されるが、例えば、上記紫外線吸収剤としてヒドロキシフェニルトリアジンを用いる場合、好ましくは、上記ハードコート層中３〜１５質量％である。

上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として熱硬化性樹脂を含有していてもよい。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。

上記ハードコート層用組成物は、更に、光重合開始剤を含有することが好ましい。
上記光重合開始剤としては、公知のものであれば特に限定されず、例えば、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。なかでも、アセトフェノン類であることが好ましい。

上記光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物中のモノマー成分１００質量部に対して、１〜７質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、光重合開始剤の量が不足し、硬化不足となるおそれがある。７質量部を超えると、光重合開始剤が過剰となり、過剰であることによる光重合反応の違いが生じ、かえって硬度不足を引き起こす、溶け残りによる欠点が生じる、といったおそれがある。
上記光重合開始剤の含有量は、上記モノマー成分１００質量部に対して２〜５質量部であることがより好ましい。

上記ハードコート層用組成物は、上述した成分以外に、必要に応じて他の成分を更に含んでいてもよい。
上記他の成分としては、熱重合開始剤、光安定化剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤、拡散剤、賦型剤及び防眩剤等が挙げられる。これらは公知のものを使用することができる。

上記ハードコート層用組成物は、総固形分が２０〜４５％であることが好ましい。２０％より低いと、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。４５％を超えると、ハードコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出るおそれがある。上記固形分は、２０〜３０％であることがより好ましい。

上記ハードコート層用組成物は、上述の導通微粒子、モノマー成分、樹脂成分及び紫外線吸収剤、及び、光重合開始剤等他の成分を溶媒中に混合分散させて調製することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。

上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。なかでも、帯電防止層への影響が少なく、モノマー、熱可塑性樹脂に対する溶解性が高いことから、メチルイソブチルケトンが好ましい。また、理由は不明であるが、ハードコート層表面にムラ等の塗工不良がでにくいことから、イソプロパノールを含有することが好ましい。

上記ハードコート層用組成物を、上記帯電防止層上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記塗膜を硬化させることでハードコート層を形成することができる。

上記ハードコート層用組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、例えば、スリットリバース法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。

また、塗布量は、３〜１５ｇ／ｍ^２であることが好ましい。３ｇ／ｍ^２未満であると、所望の硬度のハードコート層が得られないおそれがある。１５ｇ／ｍ^２を超えると、カールやダメージの防止が不充分となるおそれがある。上記塗布量は、４〜１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。

上記乾燥の方法としては特に限定されないが、一般的に乾燥温度３０〜１００℃で、乾燥時間３〜１２０秒で行うとよい。上記乾燥温度が３０℃未満であると、本発明の光学積層体の製造に長時間を要し、また、製造コストが高くなることがある。一方、上記乾燥温度が１００℃を超えると、光透過性基材の平面性やハードコート層表面の均一性が劣化する問題がある。上記乾燥温度のより好ましい上限は７０℃である。
また、上記乾燥時間が３秒未満であると、形成するハードコート層と帯電防止層との密着性が劣ることがある。一方、上記乾燥時間が１２０秒を超えると、上記塗膜の乾燥に長時間を要し、製造コストが高くなることがある。

上記塗膜を硬化させる方法としては、上記ハードコート層用組成物の内容等に応じて公知の方法を適宜選択すればよいが、例えば、上記塗膜に紫外線を照射することにより硬化させる方法が挙げられる。
上記紫外線を照射する場合は、紫外線照射量が３０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることがより好ましく、８０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが更に好ましい。

上記ハードコート層は、層厚みが３〜１５μｍであることが好ましい。
上記膜厚が３μｍ未満であると、上記ハードコート層の硬度が不充分となるおそれがある。一方、上記膜厚が１５μｍを超えると、上記ハードコート層に残留溶剤が残ったり、上記塗膜の密着性が低下したり、カールやダメージの防止が不充分となるおそれがある。上記ハードコート層の層厚みは、３〜１０μｍであることがより好ましい。
上記層厚みは、ハードコート層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより測定して得られた値である。

上記ハードコート層は、硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｂ以上であることが好ましく、Ｂ以上であることがより好ましい。

本発明の光学積層体は、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。８５％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、８８％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。

また、本発明の光学積層体は、ヘイズが２％以下であることが好ましい。２％を超えると、所望の光学特性が得られず、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性が低下する。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
本発明の光学積層体は、また、本発明の効果が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層（防眩層、他の帯電防止層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。

本発明の光学積層体は、画像表示装置に用いることができ、このような本発明の光学積層体を用いてなる画像表示装置もまた、本発明の１つである。
上記画像表示装置としては、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タッチパネル、電子ペーパー等が挙げられる。

上記ＬＣＤは、透過性表示体と、該透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体が形成されてなるものである。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側（基材側）から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記ＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又は、その前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

その他の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴ等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、タッチパネル、電子ペーパー等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体は、帯電防止層が導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。このため、耐久性試験後における表面抵抗値の安定性が優れたものとなる。また、上記帯電防止層上に導通微粒子、モノマー成分、帯電防止層と同種の樹脂成分及び紫外線吸収剤を含有する組成物を用いてなるハードコート層を有することで、本発明の光学積層体にハードコート性能を付与することができるとともに、構成する各層間の密着性が優れたものとなり、耐久性試験前後における表面抵抗値の変化が少ないものとなる。
このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。

以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。

（実施例１）
（帯電防止層の形成）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、固形分２５％、ＭＩＢＫ溶液、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）をプロピレングリコールモノメチルエーテル中に溶解させ、Ｖ３５６０（ＡＴＯ分散液：平均粒子径８μｍ、日揮触媒化成社製）を添加して攪拌し、最終固形分８％、熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：２００（質量比）となるよう調整し、帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を光透過性基材（ＰＥＴ基材、三菱樹脂社製：Ｔ６００Ｅ２５Ｎ）にスリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが０．３μｍとなるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させ帯電防止層を形成した。

（ハードコート層の形成）
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）／イソプロパノール（ＩＰＡ）の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が２５質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）とＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂：ＤＮＰファインケミカル社製）を樹脂成分の質量比率で７０：３０となるよう添加し、レベリング剤として１０−３０１（ＴＬ）（大日精化工業社製）を樹脂成分１００質量部に対して０．２質量部となるよう添加し攪拌した。この溶液にブライト分散液（導電性微粒子分散液、ＤＮＰファインケミカル社製、平均粒子径４．６μｍ、固形分２５％）を最終組成物であるハードコート層用組成物１２ｋｇに対して１００ｇ添加して攪拌を行い、最後に紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩ４７７：ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂１００質量部に対して６質量部となるよう添加して攪拌し、総固形分２５％のハードコート層用組成物を得た。
このハードコート層用組成物を先に形成した帯電防止層の上にスリットリバースコートにより、乾燥塗布量６ｇ／ｍ^２となるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量８０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を形成し光学積層体を得た。

（実施例２）
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を３質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。

（実施例３）
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を１０質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。

（実施例４）
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を１５質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。

（実施例５）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量５万、ガラス転移温度１００℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例６）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量１０万、ガラス転移温度１００℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例７）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度８０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例８）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１１０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例９）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：１５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例１０）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：２５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例１１）
厚みを０．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例１２）
厚みを０．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例１３）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを４μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（実施例１４）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを７μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（比較例１）
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が２５質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を添加し攪拌した。この溶液に硬化後のＰＥＴＡ：ＡＴＯが１００：２００となるようにＡＴＯを添加して攪拌し、総固形分２５％の帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を光透過性基材（ＰＥＴ基材、三菱樹脂社製：Ｔ６００Ｅ２５Ｎ）にスリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが０．３μｍとなるように塗布した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量８０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して塗膜を硬化させて帯電防止層を形成した。
その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（比較例２）
ＰＥＴＡに代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た

（比較例３）
ＰＥＴＡに代えて、１，６−ヘキサンジオール（ＨＤＤＡ）を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た

（比較例４）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、荒川化学社製）を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（比較例５）
ＰＥＴＡに代えて、ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫとＰＥＴＡとを樹脂比率１：１（質量比）で混合した樹脂を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例１）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例２）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤の配合量を１６質量部とした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例３）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量１万、ガラス転移温度１１０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例４）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度７０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例５）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例６）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：３５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例７）
厚みを０．０９μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例８）
厚みを１．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例９）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを２μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

（参考例１０）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを１２μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。

実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体について、以下の評価を行った。各評価は、光学積層体の製造直後（初期性能）、耐久性試験（１）（８０℃環境で５００時間保持）後、及び、耐久性試験（２）（キセノンアーク３００時間照射）後にそれぞれ行った。なお、耐久性試験（１）及び（２）後の光学積層体の抵抗値については、製造直後（初期性能）に対する変化率（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）を算出した。実施例に係る結果を表１に示し、比較例及び参考例に係る結果を表２に示した。

（透過率、ヘイズ）
各光学積層体の透過率（全光線透過率）及びヘイズを、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１（全光線透過率）に準拠した方法により測定した。

（抵抗値）
各光学積層体の表面抵抗値を、ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０（三菱化学社製：Ｒプローブ、印加電圧５００Ｖ）を用いて測定した（単位Ω／□）。

（密着性）
各光学積層体にクロスカット碁盤目試験を行い、元のカット部数（１００）に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比について、下記の基準にて評価した。
○：９０／１００〜１００／１００
△：５０／１００〜８９／１００
×：０／１００〜４９／１００

（鉛筆硬度）
各光学積層体を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ−６００６に規定する試験用鉛筆（硬度２Ｂ〜３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。

表１に示したように、実施例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率は小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものであった。また、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価にも優れるものであった。
これに対し、表２に示したように、比較例に係る光学積層体は、耐久性試験（２）の前後で表面抵抗値の変化率が大きく、帯電防止性能の安定性に劣るものであった。
また、帯電防止層における導電性微粒子の配合量の少なかった参考例５に係る光学積層体、帯電防止層の厚みが薄すぎた参考例７に係る光学積層体、及び、ハードコート層の厚みが厚すぎた参考例１０に係る光学積層体は、表面抵抗値が高すぎて帯電防止性が不充分であった。また、その他の参考例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率が小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものの、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価のいずれもが優れるものはなかった。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。

Claims (12)

1. 光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、
   前記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、
   前記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、前記溶剤に対する溶解性と前記導電性微粒子に対する相溶性とを有する
   ことを特徴とする光学積層体。
2. 導電性微粒子は、鎖状又は針状である請求項１記載の光学積層体。
3. ８０℃環境で５００時間保持する耐久性試験（１）及びキセノンアークを３００時間照射する耐久性試験（２）の前後における表面抵抗値の変化率｛（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）｝が、いずれも０．５〜２．０である請求項１又は２記載の光学積層体。
4. 樹脂成分は、重量平均分子量が２万〜２０万であり、ガラス転移温度が８０〜１２０℃である請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. 樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
6. 導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）であり、樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルである請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
7. 帯電防止層の光透過性基材と反対側の面上にハードコート層を有する請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体。
8. ハードコート層は、帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分を含有する請求項７記載の光学積層体。
9. ハードコート層は、導通微粒子を含有する請求項７又は８記載の光学積層体。
10. ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有する請求項７、８又は９記載の光学積層体。
11. 紫外線吸収剤の含有量が、３〜１５質量％である請求項１０記載の光学積層体。
12. 請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。