TWI500952B - 光學薄膜及其製造方法 - Google Patents

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Description

光學薄膜及其製造方法
本發明係關於在電/電子機械或精密機器之顯示部中，用於顯示裝置之光學薄膜及其製造方法。
近年來，在液晶顯示器(LCD)、電視(TV)用途或動畫顯示用途上，達成作為顯示裝置之驚人的進步，且正朝向迅速普及。例如，藉由具有高速應答性之液晶材料的開發或超頻驅動等之驅動方式的改良，習知克服液晶所不擅長之動畫顯示，同時也朝向對應於顯示大型化之生產技術革新。
於此等之顯示器中，重視畫質之電視或監視器等之用途、在外部光強的屋外所使用的錄影機等之用途上，在表面實施防止外部光之眩光的處理為慣例。其手法之一係有防眩處理，例如，通常在液晶顯示器之表面進行防眩處理。防眩處理係藉由在表面形成微細之凹凸構造，而發現散射表面反射光來使眩光影像背景模糊之效果的處理，通常在LCD中配設有進行如此之處理的防眩性薄膜。
另一方面，近年來隨著人機互動之電子顯示器的進步，對話型之輸入系統正普及中，其中將觸控面板(座標輸入裝置)與顯示器一體化的裝置廣泛地被使用。另外，於液晶顯示器等之重量輕且薄型之顯示器中，由於作成無鍵盤且活用其特長，攜帶式機器中也使用觸控面板之情形將增加。觸控面板係依照位置檢測之方法而能夠分類成光學方式、超音波方式、靜電容量方式、電阻膜方式等。此等之中，由於電阻膜方式係構造為單純且價格/性能比皆優異，近年來正急速地普及中。
電阻膜方式之觸控面板係使透明電極對向而以一定間隔保持2片薄膜或薄片所構成的電構件。觸控面板之動作方式係藉由固定一側的透明電極之外，也從辨識側以筆或手指按壓、彎曲另一側的透明電極，與固定的透明電極接觸、導通，而使檢測電路檢測位置，進行既定之輸入。於如此之觸控面板的動作方式中，具有於以筆或手指按壓電極之際，在按壓中之手指或筆等指示工具的周邊，將出現因干涉所造成的彩虹模樣(被稱為所謂的「牛頓環」之干涉色或干涉條紋)，使畫面之辨識性降低。詳言之，2片之透明電極將接觸或是由於接觸而彎曲，使所對向之2片透明電極的間隔成為可見光之波長程度(例如，約0.5 μm)之時，在被2片透明電極所夾住的空間產生反射光之干涉而發生牛頓環。在電阻膜方式之觸控面板的原理上，如此牛頓環之發生為不可避免的現象。即使以減輕在如此觸控面板中之牛頓環的對策，也利用於形成透明電極之支撐體薄膜表面形成凹凸構造之處理。
如此方式，LCD或觸控面板係具備在表面具有凹凸構造之光學薄膜(或光散射薄膜)，通常，此光學薄膜係藉由將樹脂微粒或二氧化矽微粒等之微粒、與黏著劑樹脂或硬化性樹脂之混合物塗布於基材上，在表面形成微細之凹凸構造而獲得。近年來，於LCD等之中，已開發像素尺寸細的高精細顯示裝置，但容易發生畫面閃爍或文字模糊等，正嘗試磨細所添加的微粒之尺寸、或使用窄化粒徑分布且尖銳的微粒等而控制表面之凹凸形狀。
近年來，例如與LCD同等地朝向普及之電漿顯示面板(PDP)中，作成能夠顯示優異的透射影像且具有優異的防眩性之防眩性薄膜，於日本特開2009-265143號公報(專利文獻1)中，介紹了一種防眩性薄膜，其係由透明薄膜、與在此透明薄膜之上所形成的硬質塗布層所構成的防眩性薄膜，於該硬質塗布層中含有(a)一次粒徑為40至200 nm之二氧化矽微粒、(b)一次粒徑為1至30 nm之二氧化矽微粒與黏著劑，並且含有二氧化矽微粒凝聚構造，該防眩性薄膜之硬質塗布層側表面之中心線平均粗糙度Ra為0.05至0.3 μm，凹凸周期λa為40至200 μm，該防眩性薄膜之霧度值為0.1至3.0%。於此文獻中，二氧化矽微粒之含量係記載為薄膜重量之0.05至30重量%(尤其0.2至25重量%)，於實施例中，相對於100重量份的硬質塗布材料摻合1.5至10重量份。另外，二氧化矽微粒之凝聚構造的形成方法已介紹使用烷基乙醯醋酸酯鋁二異丙酸酯等之凝聚劑的方法。
但是，於此防眩性薄片中，由於硬質塗布層僅以硬化性樹脂所形成，無法緩和來自外部之應力，容易產生裂痕且僅稍微彎曲，條紋將沿著彎曲處進行蔓延。尤其，如觸控面板之上部透明電極，於重複所鍵擊之用途中，耐久性將不足。另外，光學特性也不足，防眩性低，不僅觀察到閃爍，所透射的影像顯示也不鮮明。另外，為了使大量之二氧化矽微粒凝聚，凝聚劑為必要，但成為溢出之原因。還有，於二氧化矽微粒中，由於抗靜電性不足，於實施例中，所謂硬質塗布層係個別地形成含有ITO微粒之抗靜電層。
[先前技術文獻] 專利文獻
專利文獻1：日本特開2009-265143號公報(申請專利範圍、段落[0028]、實施例)
因而，本發明之目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其具有優異的防眩性或抗牛頓環性，同時也具有優異的耐刮傷性及機械特性。
本發明之另一目的係在於提供一種不需要抗靜電處理或抗靜電層且具有抗靜電性的光學薄膜及其製造方法。
本發明之再另一目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其係具有適度之柔軟性，在觸控面板等之鍵擊耐久性高。
本發明之其他目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其抑制了凝聚劑等之溢出。
本發明人等為了達成該問題而鑽硏的結果，發現：藉由在透明薄膜之至少一側之面，利用形成含有熱塑性樹脂及奈米尺寸之金屬氧化物微粒的硬化性樹脂組成物來形成硬質塗布層，而能夠提高光學薄膜之防眩性或抗牛頓環性，同時也能夠提高耐刮傷性及機械特性，而完成本發明。
亦即，本發明之光學薄膜係包含透明薄膜、與在此透明薄膜之至少一側之面所形成的硬質塗布層的光學薄膜，而該硬質塗布層包含已硬化的硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂與平均一次粒徑為1至100 nm之金屬氧化物微粒。該熱塑性樹脂也可以對硬化性樹脂先質為非反應性的熱塑性樹脂(例如，纖維素衍生物等之非反應性的熱塑性樹脂等)。該金屬氧化物微粒之比例係相對於該硬化性樹脂先質100重量份為0.5至4重量份左右。該金屬氧化物微粒也可以為由含銻之氧化錫、氧化銻、氧化錫與氧化鋅所構成族群中所選出的至少一種微粒。該硬化性樹脂先質也可以為4官能以上之先質。該硬質塗布層係在表面也可以具有算術平均粗糙度Ra 0.03至0.15 μm、凸部之頂部間平均間隔Sm 50至300 μm之凹凸構造。該硬質塗布層實質上不含凝聚劑。本發明之光學薄膜，其霧度也可以為0.3至4%左右。本發明之光學薄膜係在硬質塗布層之上，也可以進一步形成低折射率層。
於本發明中，也包含該光學薄膜之製造方法，其係在透明薄膜之至少一側之面，進行含有熱塑性樹脂、硬化性樹脂先質、與平均一次粒徑為1至100 nm之金屬氧化物微粒的塗布液之塗布、乾燥後，照射活性能量線而硬化。於此方法中，塗布液也可以使用實質上不含凝聚劑之塗布液。
還有，於本申請案專利說明書中，「金屬氧化物」係以不含二氧化矽等之氧化矽的意義上所使用。
於本發明中，由於在透明薄膜之至少一側之面，利用含有熱塑性樹脂及奈米尺寸之金屬氧化物微粒的硬化樹脂組成物而形成硬質塗布層，形成以金屬氧化物微粒作為核之凹凸構造，能夠提高光學薄膜之防眩性或抗牛頓環性，同時也能夠提高耐刮傷性及機械特性。另外，由於含有金屬氧化物微粒，無抗靜電處理或抗靜電層之必要，可以獲得具有抗靜電性之光學薄膜。另外，由於除了硬化樹脂之外也含有熱塑性樹脂，能夠具有適當之柔軟性且提高在觸控面板等之鍵擊耐久性。還有，由於金屬氧化物微粒較二氧化矽更容易引起凝聚，不摻合凝聚劑，由於能夠形成發現優異的光學特性之凹凸構造，可以獲得凝聚劑等之溢出受到抑制的光學薄膜。
[硬質塗布層]
本發明之光學薄膜係含有在透明薄膜之至少一側之面(通常為單面)所形成的硬質塗布層。此硬質塗布層係包含硬化的硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂與平均一次粒徑為1至100 nm的金屬氧化物微粒。
(硬化性樹脂先質)
硬化性樹脂先質係具有藉熱或活性能量線(紫外線或電子線等)等進行反應的官能基之化合物，能夠使用藉熱或活性能量線等進行硬化或交聯而能夠形成樹脂(尤其硬化或交聯樹脂)之各種硬化性化合物。該樹脂先質可舉例：例如熱硬化性化合物或樹脂[具有環氧基、聚合性基、異氰酸酯基、烷氧矽烷基、矽烷醇基等之低分子量化合物(環氧系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、胺甲酸酯系樹脂、矽氧烷系樹脂等)]、藉活性光線(紫外線等)而能夠硬化之光硬化性化合物(光硬化性單體、寡聚物等之紫外線硬化性化合物等)等，光硬化性化合物也可以為EB(電子線)硬化性化合物等。還有，有時會把光硬化性單體、寡聚物或也可以為低分子量之光硬化性樹脂等之光硬化性化合物簡稱為「光硬化性樹脂」。
於光硬化性化合物中，包含單體、寡聚物(或樹脂、尤其低分子量樹脂)。單體可舉例：例如能夠分類為具有一個聚合性基之單官能單體、與具有至少二個聚合性基之多官能單體。
單官能單體可舉例：例如(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸系單體、乙烯吡咯啶酮等之乙烯系單體、異莰基(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基(甲基)丙烯酸酯等之具有交聯環式烴基之(甲基)丙烯酸酯等。
於多官能單體中，包含2至8左右的聚合性基之多官能單體，2官能單體可舉例：例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯等之伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚氧伸丁基二醇二(甲基)丙烯酸酯等之(聚)氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯；三環癸二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯等之具有交聯環狀烴基之二(甲基)丙烯酸酯等。
3至8官能基單體可舉例：例如甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
寡聚物或樹脂可舉例：雙酚A-環氧烷加成物之(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯(雙酚A型環氧(甲基)丙烯酸酯、酚醛型環氧(甲基)丙烯酸酯等)、聚酯(甲基)丙烯酸酯(例如，脂肪族聚酯型(甲基)丙烯酸酯、芳香族聚酯型(甲基)丙烯酸酯等)、(聚)胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(聚酯型胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚型胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等)、矽氧烷(甲基)丙烯酸酯等。於此等之(甲基)丙烯酸酯寡聚物或樹脂中，也可以包含在前述聚合物成分之(甲基)丙烯酸系樹脂之項目所舉例的共聚合性單體。此等之光硬化性化合物能夠單獨使用或組合二種以上而使用。
還有，從提高硬質塗布層強度之觀點，硬化性樹脂先質也可以含有氟原子或無機粒子。含有氟原子之先質(含氟原子之硬化性化合物)係單體及寡聚物之氟化物，可舉例：例如(甲基)丙烯酸氟化烷酯[例如，(甲基)丙烯酸全氟辛基乙酯或(甲基)丙烯酸三氟乙酯等]、氟化(聚)氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯[例如，氟乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、氟丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等]、含氟之環氧樹脂、胺甲酸酯系樹脂等。含有無機粒子之先質可舉例：表面具有聚合性基之無機粒子(例如經以具有聚合性基之矽烷偶合劑修飾表面之二氧化矽粒子等)等。在表面具有聚合性基之奈米尺寸的二氧化矽粒子，例如，從JSR(股)製，所市售的多官能混成系UV硬化劑(Z7501)。
較佳的硬化性樹脂先質係一種在短時間能夠硬化的光硬化性化合物，例如，紫外線硬化性化合物(也可以為單體、寡聚物或低分子量之樹脂等)、EB硬化性化合物。尤其，實用上有利的樹脂先質係紫外線硬化性樹脂。還有，為了使耐刮傷性提高，光硬化性樹脂係2官能以上(較佳為2至10官能、進一步較佳為3至8官能左右)之光硬化性化合物，特佳為含有多官能(甲基)丙烯酸酯，例如，3官能以上(尤其4至8官能)之(甲基)丙烯酸酯(例如，二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之5至7元之多元醇與(甲基)丙烯酸之酯等)。
硬化性樹脂先質之數量平均分子量係考量與所後述的熱塑性樹脂之相溶性而為5000以下(例如，300至2000)，較佳為2000以下(例如，500至2000)，進一步較佳為1000以下(例如，600至1000)左右。
硬化性樹脂先質也可以按照其種類而含有硬化劑。例如，於熱硬化性樹脂中，也可以包含胺類、多元羧酸類等之硬化劑；於光硬化性樹脂中，也可以包含光聚合起始劑。光聚合起始劑可舉例：習用成分，例如，苯乙酮類或苯丙酮類、苯偶醯類、苯偶因類、二苯甲酮類、9-氧硫類、醯基氧化膦類等。相對於硬化性樹脂先質100重量份，光硬化劑等之硬化劑之含量為0.1至20重量份，較佳為0.5至10重量份，進一步較佳為1至8重量份(特佳為1至5重量份)左右，也可以為3至8重量份左右。
再者，硬化性樹脂先質也可以含有硬化促進劑。例如，光硬化性樹脂也可以含有光硬化促進劑，例如，三級胺基類(安息香酸二烷胺酯等)、膦系光聚合促進劑等。
(熱塑性樹脂)
熱塑性樹脂係用以對硬質塗布層提高柔軟性等之機械特性所摻合，較佳對硬化性樹脂先質為非反應性之樹脂(不具有參與硬化反應之反應性基的樹脂)。
如此之熱塑性樹脂可舉例：例如苯乙烯系樹脂[聚苯乙烯、苯乙烯與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物、AS樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物等]、(甲基)丙烯酸系樹脂[聚甲基丙烯酸甲酯等之(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、(甲基)丙烯酸-(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸異莰酯等]、有機酸乙烯酯系樹脂[乙烯-醋酸乙烯共聚物、醋酸乙烯-氯乙烯共聚物、醋酸乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯乙縮醛樹脂等]、乙烯醚系樹脂(聚乙烯甲基醚、聚乙烯乙基醚、聚乙烯丙基醚、聚乙烯三級丁基醚等)、含鹵素之樹脂[聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、氯乙烯-醋酸乙烯共聚物、氯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、偏二氯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物等]、烯烴系樹脂[聚乙烯、聚丙烯等之烯烴的單獨聚合物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、脂環式烯烴系樹脂等]、聚碳酸酯系樹脂(雙酚A型聚碳酸酯等)、聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚C2-4 伸烷基芳香酯、C2-4 伸烷基芳香酯系共聚酯等之非晶性聚酯等)、聚醯胺系樹脂(聚醯胺46、聚醯胺6、聚醯胺66、聚醯胺610、聚醯胺612、聚醯胺11、聚醯胺12等之脂肪族聚醯胺等)、熱塑性聚胺甲酸酯樹脂(聚酯型胺甲酸酯系樹脂等)、聚碸系樹脂(聚醚碸、聚碸等)、聚苯醚系樹脂(2,6-二甲苯酚之聚合物等)、纖維素衍生物(纖維素酯等)、矽氧烷樹脂(聚二甲基矽氧烷、聚甲基苯基矽氧烷等)、橡膠或彈性體(聚丁二烯、聚異戊二烯等之二烯系橡膠、苯乙烯-丁二烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、丙烯酸橡膠、胺甲酸酯橡膠、矽氧烷橡膠等)等。此等之熱塑性樹脂能夠單獨使用或組合二種以上而使用。
此等之熱塑性樹脂之中，泛用苯乙烯系共聚物樹脂、(甲基)丙烯酸系彈性體、烯烴系彈性體、脂環式系彈性體、聚酯系彈性體、纖維素衍生物、矽氧烷樹脂等，但從具有優異的透明性及耐熱性且同時也能夠提高柔軟性等之機械特性之觀點，較佳為纖維素衍生物。
於纖維素衍生物中，包含纖維素酯類、纖維素醚類與纖維素胺基甲酸脂類。
纖維素酯類可舉例：例如脂肪族有機酸酯(纖維素二醋酸酯、纖維素三醋酸酯等之纖維素醋酸酯；纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素醋酸丙酸酯、纖維素醋酸丁酸酯等之C2-6 醯化物等)、芳香族有機酸酯(纖維素苯二甲酸酯、纖維素苯甲酸酯等之C7-12 芳香族羧酸酯)、無機酸酯(例如，磷酸纖維素、硫酸纖維素等)等。纖維素酯類也可以為醋酸/硝酸纖維素酯等之混合酸酯。
纖維素醚類可舉例：例如氰乙基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素等之羥C2-4 烷基纖維素；甲基纖維素、乙基纖維素等之C1-6 烷基纖維素；羧甲基纖維素或其鹽、苄基纖維素、乙醯烷基纖維素等。纖維素胺基甲酸酯類可舉例：例如纖維素苯基胺基甲酸酯等。
此等之纖維素衍生物能夠單獨使用或組合二種以上而使用。此等纖維素衍生物之中，較佳為纖維素酯類，特佳為纖維素二醋酸酯、纖維素三醋酸酯、纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素醋酸丙酸酯、纖維素醋酸丁酸酯等之纖維素C2-6 醯化物等。其中，對溶劑之溶解性高且塗布液之調製為容易之外，藉由少量之添加也能夠容易進行塗布液之黏度調節，同時也用以抑制塗布液中之微粒的凝聚且提高保存安定性，較佳為纖維素二醋酸酯、纖維素丙酸酯、纖維素醋酸丁酸酯等之纖維素C2-4 醯化物(尤其，纖維素醋酸丙酸酯等之纖維素醋酸酯C3-4 醯化物)。
相對於硬化性樹脂先質100重量份，熱塑性樹脂之比例例如為0.1至30重量份，較佳為0.1至20重量份(例如，0.3至15重量份)，進一步較佳為0.6至10重量份(尤其1至5重量份)左右。於本發明中，藉由調整熱塑性樹脂之比例而能夠調整硬質塗布性、與衝擊吸收性或緩衝性等機械特性之均衡，若在此範圍內時，具二者優異的均衡性。
(金屬氧化物微粒)
於本發明中，藉由將金屬氧化物微粒摻入硬質塗布層中，由於以金屬氧化物微粒作為核，樹脂成分將***，或在硬質塗布層之表面，能夠形成光學特性優異的凹凸構造。此金屬氧化物微粒除了具有優異的透明性及耐刮傷性之外，也形成低折射率層之情形，能夠提高與低折射率層之緊貼性。還有，由於金屬氧化物微粒也具有優異的導電性，將導電性賦予薄膜而能夠抑制塵埃之附著。
構成金屬氧化物微粒之金屬氧化物可舉例：例如周期表第4A族金屬氧化物(例如，氧化鈦、氧化鋯等)、第5A族金屬氧化物(氧化釩等)、第6A族金屬氧化物(氧化鉬、氧化鎢等)、第7A族金屬氧化物(例如，氧化錳等)、第8族金屬氧化物(氧化鎳、氧化鐵等)、第1B族金屬氧化物(氧化銅等)、第2B族金屬氧化物(氧化鋅等)、第3B族金屬氧化物(氧化鋁、氧化銦等)、第4B族金屬氧化物(氧化錫等)、第5B族金屬氧化物(氧化銻等)等。
此等之金屬氧化物微粒能夠單獨使用或組合二種以上而使用。此等之金屬氧化物微粒之中，較佳為含有銻、錫、鋅之金屬氧化物，例如，三氧化銻、四氧化銻、五氧化銻、含銻之氧化錫(摻雜銻之氧化錫)、氧化錫、氧化鋅等，特佳為以由含銻之氧化錫、氧化銻、氧化錫及氧化鋅所構成之族群中所選出的至少一種所構成的微粒。
金屬氧化物微粒也可以為分散在溶劑中的分散液之形態。溶劑可舉例：例如水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇等之低級醇等)、酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、酯類(醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯、蟻酸甲酯、蟻酸乙酯等)、醚類(二乙基醚、二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環族烴類(環己烷等)、芳香族烴類(苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、溶纖素類(甲基溶纖素、乙基溶纖素等)、溶纖素醋酸酯類、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等。此等之溶劑能夠單獨使用或組合二種以上而使用。此等溶劑之中，泛用乙醇或異丙醇等之低級醇(例如，以重量比，乙醇/異丙醇=90/10至50/50(尤其80/20至60/40)左右之混合溶劑)。分散液中之金屬氧化物微粒之濃度例如為0.1至50重量%，較佳為1至40重量%，進一步較佳為5至30重量%左右。為了分散於此等之溶劑中，金屬氧化物微粒之表面係也可以進行習用之表面處理。
金屬氧化物微粒之形狀並未予以特別限定，可舉例：球形、橢圓形、多角體形(多角錘形、正方體形、長方體形等)、板狀、棒狀、不定形狀等，從在表面形成均一凹凸構造之觀點，較佳為約略球形等之等方向性形狀。
金屬氧化物微粒之平均一次粒徑能夠從1至100 nm左右之範圍加以選擇，例如，1至60 nm(例如，1至50 nm)，較佳為2至30 nm，進一步較佳為3至15 nm(尤其5至10 nm)左右。若一次粒徑為該範圍內時，微粒係於硬質塗布層中適度凝聚而成核，能夠形成凹凸構造。
相對於硬化性樹脂先質100重量份，金屬氧化物微粒之比例例如為0.1至10重量份，較佳為0.3至5重量份，進一步較佳為0.5至4重量份(尤其0.6至3重量份)左右。於本發明中，微粒之比例即使少(例如，相對於硬化性樹脂先質100重量份為4重量份以下)，也能夠形成光學特性優異的凹凸構造，尤其，相對於硬化性樹脂先質100重量份，也可以為0.5至2重量份(尤其0.6至1.5重量份)左右。
相對於硬化性樹脂先質及熱塑性樹脂之總量100重量份，金屬氧化物微粒之比例例如可以為0.1至20重量份，較佳為0.3至10重量份，進一步較佳為0.5至5重量份左右。
還有，金屬氧化物微粒雖然具有優異的導電性，被泛用作為導電材料，但由於一旦摻入透明樹脂時將著色，所以通常不會利用來作為用以形成為了顯現防眩性或抗牛頓環性之凹凸構造的微粒，針對於此，於本發明中，如後所述，由於以相對於對樹脂成分為少量之比例而能夠形成光學有效之凹凸構造，所以能夠兼具防眩性或抗牛頓環性等之光學特性與導電性。
硬質塗布層係於不損害因金屬氧化物微粒所導致的效果之範圍內，也可以含有其他之微粒。其他微粒包括有機微粒、無機微粒。
從耐刮傷性等之觀點，有機微粒較佳為交聯樹脂微粒。構成微粒之交聯樹脂可舉例：交聯熱塑性樹脂[例如，交聯烯烴系樹脂(例如，交聯聚乙烯、交聯聚丙烯等)、交聯苯乙烯系樹脂(例如，交聯聚苯乙烯、交聯聚二乙烯基苯、交聯聚乙烯基甲苯、交聯苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等)、交聯丙烯酸系樹脂(例如，交聯聚甲基丙烯酸甲酯等)等]、熱硬化性樹脂(三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、胺基苯并脈胺樹脂、矽氧烷樹脂、環氧樹脂、聚胺甲酸酯等)等。此等之有機微粒能夠單獨使用或組合二種以上而使用。
除了金屬氧化物之無機化合物，構成無機微粒之無機化合物也可舉例：例如金屬單體、金屬硫酸鹽(硫酸鈣、硫酸鋇等)、金屬矽酸鹽(矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、鋁矽酸鎂等)、金屬磷酸鹽(磷酸鈣、磷酸鎂等)、金屬碳酸鹽(碳酸鎂、重質碳酸鈣、輕質碳酸鈣等)、金屬氫氧化物(氫氧化鋁、氫氧化鈣、氫氧化鎂等)、矽化合物(二氧化矽、白碳墨、玻璃等)、天然礦物(沸石、矽藻土、燒製矽石土、氧化鋁、滑石、雲母、高嶺土、絹雲母、膨土、蒙脫石、綠土、黏土等)等。
其他微粒之平均一次粒徑，並未予以特別限定，例如能夠從1 nm至10 μm左右之範圍而選擇，例如也可以為金屬氧化物微粒之平均一次粒徑之範圍。
對於金屬氧化物微粒100重量份，此等之微粒的比例例如為50重量份以下，較佳為30重量份以下(例如，0.01至30重量份)，進一步較佳為10重量份以下(例如，0.1至10重量份)左右。
於硬質塗布層中，也可以含有各種之添加劑，例如安定劑(抗氧化劑、紫外線吸收劑等)、界面活性劑、水溶性高分子、填充劑、交聯劑、偶合劑、著色劑、難燃劑、潤滑劑、蠟、防腐劑、黏度調整劑、增黏劑、平坦劑、消泡劑等。
於本發明中，雖然不使用微粒之凝聚劑(例如，日本專利特開2009-265143號公報中記載之凝聚劑等)的理由尚未確定，但少量之金屬氧化物微粒在硬質塗布層中凝聚而成核，由於樹脂成分在其周圍***，能夠形成光學特性優異的凹凸構造。因而，硬質塗布層實質上不含有凝聚劑。還有，在如此本發明中之作用，推定與硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂及溶劑之種類、摻合比例等皆有關。
硬質塗布層之厚度例如為0.5至30 μm，較佳為1至25 μm，進一步較佳為3至20 μm(尤其5至15 μm)左右。
[透明薄膜或薄片]
作為透明薄膜或薄片(或基材薄膜)，除了玻璃、陶瓷之外，也可舉例樹脂薄片。構成透明薄膜之樹脂能夠使用與該硬質塗布層同樣之樹脂。較佳的透明薄膜係透明性聚合物薄膜，可舉例：例如纖維素衍生物[纖維素三醋酸酯(TAC)、纖維素二醋酸酯等之纖維素醋酸酯等]、聚酯系樹脂[聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚芳香酯系樹脂等]、聚碸系樹脂[聚碸、聚醚碸等]、聚醚酮系樹脂[聚醚酮、聚醚醚酮等]、聚碳酸酯系樹脂[雙酚A型聚碳酸酯等]、聚烯烴系樹脂(聚乙烯、聚丙烯等)、環狀聚烯烴系樹脂[TOPAS(註冊商標)、ARTON(註冊商標)、ZEONEX(註冊商標)等]、含鹵素之樹脂(聚偏二氯乙烯等)、(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂(聚苯乙烯等)、醋酸乙烯或乙烯醇系樹脂(聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物等)等所形成的薄膜。透明薄膜可以為單軸或雙軸予以拉伸。
此等薄膜之中，將光學薄膜用於觸控面板之上部電極基板(與手指或筆等之按壓構件接觸之側的電極基板)之情形，由於可撓性為必要，故能夠利用塑膠薄片或薄膜(未拉伸或拉伸塑膠薄片或薄膜)。
於光學各向性同之透明薄膜中，可舉例：玻璃、未拉伸或拉伸塑膠薄片或薄膜，例如聚酯(PET、PBT等)、纖維素衍生物類，特佳為纖維素酯類(纖維素二醋酸酯、纖維素三醋酸酯等之纖維素醋酸酯、纖維素醋酸丙酸酯、纖維素醋酸丁酸酯等之纖維素醋酸酯C3-4 醯化物等)等所形成的薄片或薄膜。尤其，將纖維素衍生物作為硬質塗布層之熱塑性樹脂使用之情形，將由纖維素衍生物所構成的薄膜作為透明薄膜時，也能夠提高二者之緊貼性。
透明薄膜之厚度能夠由例如5至2000 μm，較佳為15至1000 μm，進一步較佳為20至500 μm左右之範圍加以選擇。
[低折射率層]
本發明之光學薄膜(尤其作為防眩薄膜所利用的光學薄膜)也可以在硬質塗布層之上，用以降低表面反射率而進一步地形成低折射率層。藉由在該硬質塗布層之上積層低折射率層，而在液晶顯示裝置等之顯示裝置中，使其成為最外表面的方式來配設低折射率層之情形等，能夠有效地防止來自外部之光(外部光源等)在光學薄膜之表面進行反射。
低折射率層能夠使用習用之低折射率層，例如在日本專利特開2001-100006號公報、特開2008-58723號公報中記載之低折射率層等。低折射率層通常係由低折射率樹脂所構成。低折射率樹脂可舉例：例如甲基戊烯樹脂、二乙二醇雙(烯丙基碳酸酯)樹脂、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚氟乙烯(PVF)等之氟樹脂等。另外，低折射率層較佳為含有含氟之化合物，除了該氟樹脂之外，也可以使用含氟之樹脂先質等。若使用含氟之化合物時，能夠按照所期望而減低低折射率層之折射率。
該氟樹脂先質可舉例：具有藉熱或活性能量線(紫外線或電子線等)等而與氟原子進行反應之官能基(交聯性基或聚合性基等之硬化性基等)，藉熱或活性能量線等進行硬化或交聯而能夠形成含氟樹脂(尤其硬化或交聯樹脂)的含氟樹脂先質。
如此含氟樹脂先質可舉例：例如含氟原子之熱硬化性化合物或樹脂〔具有氟原子及反應性基(環氧基、異氰酸酯基、羧基、羥基等)、聚合性基(乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基等)等之低分子量化合物〕、藉活性光線(紫外線等)而能夠硬化之含氟原子之光硬化性化合物或樹脂(含光硬化性氟之單體或寡聚物等之紫外線硬化性化合物等)等。
該熱硬化性化合物或樹脂，可舉例：例如使用至少含氟之單體所獲得之低分子量樹脂，例如使用含氟之多元醇(尤其二醇)以取代作為構造單體之多元醇成分之一部分或全部所獲得之環氧系含氟之樹脂；同樣地，使用含氟原子之多元醇及/或含氟原子之多元羧酸成分以取代多元醇及/或多元羧酸成分之一部分或全部所獲得之不飽和聚酯系含氟之樹脂；使用含氟原子之多元醇及/或多元異氰酸酯成分以取代多元醇及/或多元異氰酸酯成分之一部分或全部所獲得之胺甲酸酯系含氟之樹脂等。此等之熱硬化性化合物或樹脂能夠單獨使用或組合二種以上而使用。
於該光硬化性化合物中，例如含有單體、寡聚物(或樹，尤其低分子量樹脂)，單體可舉例：例如對應於在該硬質塗布層之項目所例示之單官能性單體及多官能性單體之含氟原子之單體〔(甲基)丙烯酸之氟化烷酯等之含氟原子之(甲基)丙烯酸系單體、氟烯烴類等之乙烯系單體等之單單官能性單體；1-氟-1,2-二(甲基)丙烯醯氧乙烯等之氟化伸烷基二醇之二(甲基)丙烯酸酯等〕。另外， 寡聚物或樹脂能夠使用對應於在該硬質塗布層之項所例示之寡聚物或樹脂的含氟原子之寡聚物或樹脂等。此等之光硬化性化合物能夠單獨使用或組合二種以上而使用。
還有，為了使塗膜強度提高，低折射率層也可以含有無機填料。例如，無機填料能夠使用在該日本專利特開2001-100006號公報介紹之填料等，較佳為二氧化矽或氟化鎂等之低折射率填料，特佳為二氧化矽。二氧化矽也可以為日本專利特開2001-233611號公報、特開2003-192994號公報等中所介紹的中空二氧化矽。
無機填料之平均粒徑為100nm以下，較佳為80nm以下(例如，10至80nm)，進一步較佳為20至70nm左右。
低折射率層中之無機填料的比例例如可以為1重量%以上，例如為5至90重量%左右。另外，無機填料也可以藉由偶合劑(鈦偶合劑、矽烷偶合劑)而予以表面改質。
低折射率層之折射率例如為1.3至1.5，較佳為1.35至1.45左右。
低折射率層之厚度例如為50至1000nm，較佳為60至500nm，進一步較佳為70至300nm(尤其80至200nm)左右。
〔光學薄膜之特性〕
本發明之光學薄膜係用以在表面形成微細之凹凸構造，能夠有效地預防或控制在LCD等之外部光之眩光、或在觸控面板(尤其電阻膜方式觸控面板)之牛頓環的發生。另外，由於透射像之鮮明性也高，對於顯示裝置之顯示部能夠顯示閃爍已受抑制的鮮明影像。
本發明之光學薄膜的全部光線透射率如為70至100%，較佳為80至100%，進一步較佳為85至99%(尤其，90至95%)左右。
本發明之光學薄膜的霧度例如為0.1至20%，較佳為0.2至10%，進一步較佳為0.3至5%(尤其0.3至4%)左右。於本發明中，藉由具有如此低的霧度值而能夠兼顧防眩性或抗牛頓環性與在顯示裝置顯示部之辨識性。
使用0.5 mm寬之光學梳之情形，本發明之光學薄膜的透射像鮮明度例如為40至100%，較佳為45至90%，進一步較佳為50至80%(尤其55至70%)左右。若透射像鮮明度在該範圍內時，由於直進透射光之散射少，即使將光學薄膜配設於高精細顯示裝置內之情形，來自各像素之散射變少，其結果，能夠防止閃爍。
所謂透射像鮮明度係定量化透射膜的光之模糊或歪斜之尺度。透射像鮮明度係通過移動來自膜之透射光的光學梳而測定，根據光學梳之明暗部的光量而算出值。亦即，膜模糊透射光之情形，由於光學梳上所成像的狹縫影像之變粗，在透射部之光量成為100%以下，另一方面，於不透射部，由於光漏而成為0%以上。
透射像鮮明度之值C係從光學梳透明部之透射光最大值M與不透明部之透射光最小值m，依照下式所定義：
C(%)=[(M-m)/(M+m)]×100。
亦即，C之值越接近100%，因透明導電膜所導致的影像模糊將越小[參閱文獻；須賀、三田村、塗裝技術、1985年7月號]。
表面之凹凸構造係具有能夠發現防眩性或抗牛頓環性之凹凸構造。亦即，於依照JIS B 0601之測定方法中，算術平均粗糙度Ra例如為0.01至0.3 μm，較佳為0.02至0.2 μm，進一步較佳為0.03至0.15 μm(尤其0.05至0.13 μm)左右。凸部之頂部間平均間隔Sm例如為0.10至500 μm，較佳為50至300 μm，進一步較佳為100至250 μm(尤其110至220 μm)左右。
將本發明之光學薄膜作為抗牛頓環薄膜利用之情形，也可以在硬質塗布層之上，進一步積層透明導電層，例如以氧化銦-氧化錫系複合氧化物(ITO)等之金屬氧化物所構成的透明導電層、或以導電性聚合物所構成的透明導電層。
本發明之光學薄膜係具有硬質塗布層，防眩性或抗牛頓環性高。還有，具有優異的透射像之鮮明性，在顯示面之文字模糊少。因此，本發明之光學薄膜能夠使用於各種顯示裝置，例如液晶顯示(LCD)裝置、電漿顯示器、附觸控面板之顯示裝置等之顯示裝置。例如，能夠作成具備LCD裝置之防眩薄膜或觸控面板之電極基板利用，進一步也可以與其他光學要件相組合(例如，偏光板、相位差板、導光板等之光路內所配設的各種光學要件)。
[光學薄膜之製造方法]
本發明之光學薄膜係藉由在透明薄膜之至少一側之面，塗布含有硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂與平均一次粒徑為1至100 nm之金屬氧化物微粒的塗布液，乾燥後，照射活性能量線後進行硬化而能夠獲得。
塗布液通常以含有該硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂、金屬氧化物微粒與溶劑之混合液(尤其均勻溶液等之液狀組成物)所構成。於較佳的形態中，該混合液係使用含有光硬化性化合物、熱塑性樹脂、金屬氧化物微粒、光聚合起始劑、與可溶解該光硬化性化合物及熱塑性樹脂之溶劑的組成物。
溶劑最好為按照該硬化性樹脂先質及熱塑性樹脂之種類及溶解性而能夠選擇，至少能夠均勻溶解固形物(硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂、反應起始劑、其他添加劑)的溶劑。如此之溶劑可舉例：例如酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚類(二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環族烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯等)、水、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇、1-甲氧基-2-丙醇等)、溶纖素類(甲基溶纖素、乙基溶纖素、丙二醇單甲基醚等)、溶纖素醋酸酯類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等。此等之溶劑能夠單獨使用或組合二種以上而使用，也可以為混合溶劑。此等溶劑之中，較佳為甲基乙基酮等之酮類、丁醇或1-甲氧基-2-丙醇等之醇類，也可以混合此等。例如以下列比例(重量比)來混合該酮類與該醇類，可以為前者/後者=90/10至10/90，較佳為70/30至30/70，進一步較佳為60/40至40/60左右。於本發明中，藉由適宜組合溶劑，也可以控制金屬氧化物微粒凝聚之程度。
混合液中之溶質(硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂、金屬氧化物微粒、反應起始劑、其他添加劑)之濃度係於不損害流延性或塗布性等之範圍內而能夠選擇，例如為1至80重量%，較佳為5至60重量%，進一步較佳為15至40重量%(尤其20至40重量%)左右。
還有，若將該混合液塗布於透明薄膜上時，根據溶劑之種類而有透明薄膜將被溶解或膨潤之情形。例如，若將含有樹脂成分之塗布液(均勻溶液)塗布於三乙醯纖維素薄膜時，根據溶劑之種類而有三乙醯纖維素薄膜之塗布面將溶出、侵蝕或膨潤之情形。如此之情形，也可以預先將耐溶劑性塗布劑塗布於透明薄膜(三乙醯纖維素薄膜等)之塗布面，形成光學各向同性之耐溶劑性塗布層。如此之塗布層能夠使用例如AS樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂(聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物等)等之熱塑性樹脂、環氧系樹脂、矽氧烷系樹脂、紫外線硬化型樹脂等之硬化性樹脂等而形成。另外，將混合液或塗布液塗布於透明或體之情形，按照透明薄膜之種類，也可以選擇不會使透明薄膜溶解、侵蝕或膨潤之溶劑。
塗布方法可舉例習用之方法，例如噴霧、輥塗布機、氣刀塗布機、刮刀塗布機、桿塗布機、逆向塗布機、棒塗布機、逗點式塗布機、浸漬/擠出塗布機、模頭塗布機、凹版塗布機、微型凹版塗布機、絲網塗布機法、浸漬法、噴霧法、旋轉塗布法等。此等之方法之中，泛用棒塗布機法或凹版塗布機法等。還有，必要的話，塗布液也可以進行經歷數次之塗布。
流延或塗布該混合液之後，使溶劑蒸發。溶劑之蒸發通常係按照溶劑之沸點，可以於30至200℃(例如，30至100℃)，較佳於40至120℃，進一步較佳於40至80℃左右之溫度下進行乾燥。
於本發明中，也不拘泥於塗布液不含凝聚劑，奈米尺寸之金屬氧化物微粒將於塗布液中適度凝聚，成為核而使樹脂成分***，在表面形成凹凸構造。
形成如此之凹凸構造的硬質塗布層係藉活性光線(紫外線、電子線等)或熱等而進行最終硬化，形成硬化樹脂。先質之硬化係按照硬化性樹脂先質之種類，也可以組合加熱、光照射等而進行。
加熱溫度能夠從適當之範圍，例如從50至150℃左右而選擇。光照射係按照光硬化成分等之種類而能夠選擇。通常能夠利用紫外線、電子線等。泛用的曝光源通常為紫外線照射裝置。還有，必要的話，光照射也可以在惰性氣體環境下進行。尤其，利用光硬化之情形，藉由使先質硬化，不僅立即使其固定化，也能夠抑制因熱而使寡聚物等之低分子成分從透明薄膜之內部析出。還有，能夠將耐刮傷性賦予至硬質塗布層，用於觸控面板之情形，即使重複操作也能夠抑制表面構造之損傷等且能夠提高耐久性。
進一步在硬質塗布層之上形成低折射率層之情形，通常利用與該硬質塗布層同樣之方法，於塗布或流延塗布液之後，藉由利用活性光線或熱等進行硬化而能夠形成。
於本發明中，為了使相對於硬質塗布層之其他層(例如，低折射率層或透明導電層等)的緊貼性提高，也可以將硬質塗布層提供表面處理。表面處理係習用之表面處理，可舉例：例如電暈放電處理、火焰處理、電漿處理、臭氧或紫外線照射處理等。
實施例
以下，根據實施例而更詳細說明本發明，但本發明並不受此等實施例所限定。利用以下之項目而評估在實施例及比較例所獲得之透明導電性薄膜。
〔硬質塗布層之耐刮傷性〕
以9.8N/cm2 之載重而將# 0000之鋼絲絨來回10次地摩擦硬質塗布層之表面，根據刮傷之條數而以下列之基準進行評估：
◎：0條
○：1至3條
△：4至6條
╳：7條以上。
[低折射率層之耐刮傷性]
以2.45 N/cm2 之或重而將# 0000之鋼絲絨來回10次地摩擦低折射率層之表面，根據刮傷之條數而以下列之基準進行評估：
◎：0至3條
○：4至6條
△：7至9條
╳：10條以上。
[鉛筆硬度]
依照JIS K5400，以或重4.9 N而測定鉛筆硬度。
[全部光線透射率及霧度計]
使用霧度計(日本電色(股)製、商品名「NDH-5000W」)，依照JIS K7136而測定。
[透射像(影像)鮮明度]
使用影像測定器(Suga試驗機(股)製、商品名「ICM-1T」)，依照JIS K7105，使薄膜之製膜方向與光學梳之梳齒方向成為平行的方式來設置薄膜而進行光學薄膜影像鮮明度之測定。影像測定器的光學梳之中，測定0.5 mm寬度的光學梳中之影像鮮明度。
[防眩性]
將黑色薄膜貼合於光學薄膜之透明薄膜側，從離地面2 m之地點，將螢光管露出的螢光燈(10000 cd/m2 )照射於薄膜表面，以目視觀察其反射像之模糊程度，且以下列之基準進行評估：
○：看不出螢光燈之輪廓，或稍微看得見
△：螢光燈部分模糊，但輪廓清晰可見
╳：螢光燈幾乎未模糊，輪廓非常地清晰可見。
[閃爍之評估]
顯示面中之閃爍的判定係在17吋大小之LCD監視器(像素數1024×1280；SXGA、解析度96 ppi)上，放置厚度3 mm之透明壓克力板(住友化學(股)製、SUMIPEX)，在其上配設所獲得之光學薄膜，白色顯示係以目視且以下列之基準進行評估。還有，使用的LCD監視器之表層側偏光板係壓克力型之偏光板。
◎：未察覺到閃爍
○：稍微察覺到閃爍
╳：察覺到閃爍。
[透射像之評估]
透射像之判定係在42吋之全HD液晶電視(像素1920×1080)上，使用雙面膠帶(日東電工(股)製、CS9621)而貼附所獲得之光學薄膜，以目視且以下列之基準評估透射像。還有，所用之LCD監視器之表層側偏光板係清晰型之偏光板。
◎：透射像完全鮮明可見。
○：雖然透射像鮮明可見，但較通常之壓克力液晶電視稍微為差
△：透射像可稍微看到泛白。
╳：透射像模糊而看起來不鮮明。
[抗牛頓環性]
在玻璃基板上，使光學薄膜之硬質塗布層與玻璃基板接觸的方式來設置光學薄膜，從透明薄膜側以目視觀察且以手指按壓之時的牛頓環發生狀況，並以下列之基準進行評估：
○：未發生牛頓環
╳：發生牛頓環。
[反射率]
將黑色薄膜貼合於光學薄膜之透明薄膜側，使用積分球反射強度測定裝置(日立High-Technologies(股)製、U-3300)而測定積分反射率(換算為視感度)。
[算術平均粗糙度Ra及凸部之頂部間平均間隔Sm]
依照JIS B0601，使用接觸式表面粗糙度計(東京精密(股)製、surfcom 570A)，以掃瞄範圍3 mm、掃瞄次數2次之條件下，測定算術平均粗糙度Ra及凸部之頂部間平均間隔Sm。
[表面構造之顯微鏡像]
將黑色薄膜貼合於光學薄膜之透明薄膜側，以雷射反射顯微鏡拍攝表面之凹凸形狀。
[塗布液之調製]
(硬質塗布層塗布液：HC-1)
將100重量份的二新戊四醇六丙烯酸酯(Daicel Cytec(股)製、DPHA)、2重量份的纖維素醋酸丙酸酯(Eastman公司製、CAP)溶解於120重量份的甲基乙基酮(MEK)、100重量份的1-甲氧基-2-丙醇(MMPG)及5重量份的1-丁醇(BuOH)(沸點113℃)之混合溶劑中。添加2重量份的光聚合起始劑(Ciba Japan(股)製、商品名「Irgacure 184」)而溶解於此溶液中。進一步於此溶液中添加5重量份之ATO粒子(日揮觸媒化成(股)製、「ELCOM SH-1212ATV」、粒徑8 nm、20重量%之醇(乙醇/異丙醇=80/20(重量比)之混合溶劑)分散液)，攪拌1小時而調製硬質塗布層塗布液：HC-1。
(硬質塗布層塗布液：HC-2)
除了使用10重量份之氧化錫粒子(CIK Nanotech(股)製、粒徑19 nm、10重量%之甲基異丁基酮分散液)以取代ATO粒子以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-2。
(硬質塗布層塗布液：HC-3)
除了使用10重量份之氧化鋅粒子(CIK Nanotech(股)製、粒徑52 nm、10重量%之MMPG分散液)以取代ATO粒子以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-3。
(硬質塗布層塗布液：HC-4)
除了ATO粒子之添加量變更為15重量份以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-4。
(硬質塗布層塗布液：HC-5)
除了ATO粒子之添加量變更為1.5重量份以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-5。
(硬質塗布層塗布液：HC-6)
除了ATO粒子之添加量變更為25重量份以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-6。
(硬質塗布層塗布液：HC-7)
除了ATO粒子之添加量變更為50重量份以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-7。
(硬質塗布層塗布液：HC-8)
除了不添加纖維素醋酸丙酸酯以外，與HC-1同樣地進行而調製硬質塗布層塗布液：HC-8。
(低折射率層塗布液：LC-1)
使用市售的中空二氧化矽微粒分散液(日揮觸媒化成(股)製、「ELCOM SH-1103SIC」、固形物3重量%)。
(低折射率層塗布液：LC-2)
使用市售的熱硬化性含氟化合物塗布液(日產化學(股)製、「LR204-6」、固形物1重量%)。
實施例1
透明薄膜係使用三乙醯纖維素薄膜(富士軟片(股)製、TAC、厚度80 μm)，在此薄膜之上，使用棒塗布機# 30而塗布硬質塗布層塗布液HC-1之後，於70℃乾燥1分鐘。將塗布薄膜通過紫外線照射裝置(Ushio電機(股)製、高壓水銀燈、紫外線照射量：800 mJ/cm2 )，進行紫外線硬化處理而形成具有硬質塗布性及表凹凸構造之硬質塗布層。在所獲得之光學薄膜之硬質塗布層的厚度約為10 μm。將利用雷射顯微鏡觀察所獲得之光學薄膜的表面之結果顯示於第1圖。
實施例2
除了使用硬質塗布層塗布液HC-2以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。
實施例3
除了使用硬質塗布層塗布液HC-3以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。
實施例4
除了使用硬質塗布層塗布液HC-4以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。將利用雷射顯微鏡觀察所獲得之光學薄膜的表面之結果顯示於第2圖。
實施例5
在實施例1所獲得之光學薄膜的硬質塗布層之上，使用棒塗布機# 4而塗布低折射率層塗布液LC-1，於60℃乾燥1分鐘。之後，將塗布薄膜通過紫外線照射裝置(Ushio電機(股)製、高壓水銀燈、紫外線照射量：800 mJ/cm2 )，進行紫外線硬化處理而形成低折射率層。在所獲得之低反射光學薄膜中之低折射率層的厚度約為100 nm。
實施例6
在實施例1所獲得之光學薄膜的硬質塗布層之上，使用棒塗布機# 6而塗布低折射率層塗布液LC-2，於60℃乾燥1分鐘。之後，藉由於90℃使塗布薄膜熱硬化5分鐘而形成低折射率層。在所獲得之低反射光學薄膜中之低折射率層的厚度約為100 nm。
比較例1
除了使用硬質塗布層塗布液HC-5以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。
比較例2
除了使用硬質塗布層塗布液HC-6以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。
比較例3
除了使用硬質塗布層塗布液HC-7以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。
比較例4
除了使用硬質塗布層塗布液HC-8以取代硬質塗布層塗布液HC-1以外，與實施例1同樣地進行而製得光學薄膜。還有，所獲得之光學薄膜雖然硬度高且具有優異的耐刮傷性，但由於容易產生裂痕，對實用上之處理帶來阻礙。還有，由於對塗布面側之蜷縮強而具有即使只是拉直蜷縮也將產生裂痕的情形，在製造機中之薄膜搬送或捲取上也產生裂痕之可能性高，製造上並不適合。
比較例5
在比較例1所獲得之光學薄膜的硬質塗布層之上，使用棒塗布機# 4而塗布低折射率層塗布液LC-1，於60℃乾燥1分鐘。之後，將塗布薄膜通過紫外線照射裝置(Ushio電機(股)製、高壓水銀燈、紫外線照射量：800mJ/cm2 )，進行紫外線硬化處理而形成低折射率層。所獲得之低反射光學薄膜中之低折射率層的厚度約為100nm。
比較例6
除了使用在比較例2所獲得之光學薄膜以取代在比較例1所獲得之光學薄膜以外，與比較例5同樣地進行而製得光學薄膜。
將評估在實施例及比較例所獲得之光學薄膜的結果顯示於表1。還有，針對實施例5至6及比較例4至5，抗牛頓環性則未評估。
由表1之結果可明確得知，實施例之光學薄膜，其耐刮傷性及機械強度高，也具有優異的光學特性。相對於此，比較例之光學薄膜無法兼具耐刮傷性與光學特性。
[產業上利用之可能性]
本發明之光學薄膜能夠利用作為各種顯示裝置所利用的光學薄膜，例如液晶顯示(LCD)裝置、陰極管顯示裝置、有機或無機電致發光(EL)顯示器、場效發光顯示器(FED)、表面電場顯示器(SED)、背投影電視顯示器、電漿顯示器、附觸控面板之顯示裝置等之顯示裝置。
觸控面板也可以為在個人電腦、電視、行動電話、遊戲機器、移動機器、鐘錶、電算機等之電/電子或精密機器之顯示部中，與顯示裝置(液晶顯示裝置、電漿顯示裝置、有機或無機EL顯示裝置等)組合所使用的觸控面板(尤其電阻膜方式觸控面板)。
此等之中，本發明之光學薄膜係特別有用於作為LCD之防眩薄膜或觸控面板之抗牛頓環薄膜。
第1圖係在實施例1所獲得之光學薄膜表面的雷射顯微鏡照片。
第2圖係在實施例4所獲得之光學薄膜表面的雷射顯微鏡照片。

Claims (8)

  1. 一種光學薄膜，其係包含透明薄膜、與在此透明薄膜之至少一側之面所形成的硬質塗布層的光學薄膜，而該硬質塗布層包含已硬化的硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂與平均一次粒徑為1至60nm之金屬氧化物微粒，並且在表面具有算術平均粗糙度Ra 0.03至0.15μm、凸部之頂部間平均間隔Sm 50至300μm之凹凸構造，該熱塑性樹脂為纖維素衍生物，該金屬氧化物微粒為由含銻之氧化錫、氧化銻、氧化錫與氧化鋅所構成的族群中所選出的至少一種微粒，該纖維素衍生物之比例係相對於該硬化性樹脂先質100重量份為0.1至30重量份，該金屬氧化物微粒之比例係相對於該硬化性樹脂先質100重量份為0.5至2重量份。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中熱塑性樹脂係對硬化性樹脂先質為非反應性的熱塑性樹脂。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中硬化性樹脂先質為4官能以上之先質。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中硬質塗布層實質上不含凝聚劑。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其霧度為0.3至4%。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中在硬質塗 布層之上，更形成低折射率層。
  7. 一種如申請專利範圍第1項之光學薄膜之製造方法，其係在透明薄膜之至少一側之面，塗布含有硬化性樹脂先質、熱塑性樹脂與平均一次粒徑為1至60nm之金屬氧化物微粒的塗布液並乾燥後，照射活性能量線而硬化。
  8. 如申請專利範圍第7項之製造方法，其中塗布液實質上不含凝聚劑。
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