JPWO2007129513A1 - 試料導入システム - Google Patents
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Abstract
Description
本発明によれば、前処理装置と分析装置との間における接続ガス流路を流れる処理済試料ガスへのキャリアガスの付加流量がガス付加装置により変更され、ガス付加装置の上流において分析試料を含むガスの圧力変動が圧力調整装置により規制される。これにより、前処理装置に導入される未処理試料ガスの流量を変化させることなく、また、前処理装置において分析試料を含むガスの圧力変動を生じさせることなく、分析試料と共に分析装置に導入されるガスの流量を変化させることができる。よって、前処理装置による処理条件を変化させる必要がないので分析条件の多様性に適合することができる。さらに、ガス付加装置の上流において分析試料を含むガスの圧力変動が規制されることで、前処理装置と接続ガス流路との接続部におけるシール等を介して周囲環境等における汚染物質が分析装置に混入したり、処理済試料ガスが外部に漏洩するのを防止できる。よって、安定した分析結果を得ることができ、特にプラズマ分析装置においては、プラズマの温度変化や電子密度変化を生じることなく安定したプラズマを維持でき、高感度分析に貢献できる。
これにより、接続ガス流路における前処理装置とガス付加装置との間は、大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通し、前処理装置への未処理試料ガスの導入流量は一定になる。よって、キャリアガスの付加流量を変化させる際に、前処理装置に導入される未処理試料ガスの流量を変化させることなく、確実に前処理装置におけるガスの圧力変動を防止できる。また、シールガス流路を流れるシールガスにより、試料導入システムと外部との間をシールできる。すなわち、可動部材を用いることなく、前処理装置でのガスの圧力変動を規制すると共に周囲環境に対するシールができる。
これにより、導入流路は大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通し、前処理装置への未処理試料ガスの導入流量は一定になる。よって、キャリアガスの付加流量を変化させる際に、前処理装置に導入される未処理試料ガスの流量を変化させることなく、確実に前処理装置におけるガスの圧力変動を防止できる。また、シールガス流路を流れるシールガスにより、試料導入システムと外部との間をシールできる。すなわち、可動部材を用いることなく、前処理装置でのガスの圧力変動を規制すると共に周囲環境に対するシールができる。
これにより、排気流路の出口は大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通し、前処理装置への未処理試料ガスの導入流量は一定になるため、前処理装置に導入される未処理試料ガスの流量を変化させることなく、確実に前処理装置におけるガスの圧力変動を防止できる。また、導入流路への未処理試料ガスの供給流量の設定値が前処理装置への未処理試料ガスの導入流量の設定値よりも大きくされているので、排気流路を流れる未処理試料ガスにより、試料導入システムと外部との間をシールできる。すなわち、可動部材を用いることなく、前処理装置でのガスの圧力変動を規制すると共に周囲環境に対するシールができる。
これにより、未処理試料ガスにおける少なくとも一部のガス成分を置換ガスと置換することで不要成分を除去できる。この際、前処理装置に導入される未処理試料ガスの流量や前処理装置でのガス圧力が変動しないので、置換ガスの流量や圧力等の処理条件を変化させる必要がなく、分析装置に導入されるガス流量の変化に容易に対応できる。さらに、多孔性隔壁を挟んだ領域でのガス圧力差を低減し、未処理試料ガスと置換ガスとの分圧差による多孔性隔壁での拡散を介するガス置換が阻害されるのを防止できる。また、分析装置に導入されるガス流量と無関係にガス置換できることから、ガス置換に際して分析試料である微粒子等の散逸を防止できるだけでなく、ガス置換効率を一定に維持できる。
しかも、分析試料の種類に応じてガス置換効率が変化しないように未処理試料ガスの流量を変化させる場合、未処理試料ガスの流量変化に応じてキャリアガスの流量を変化させることで、分析装置に導入されるガス流量を分析に最適な値に維持できる。これにより、前処理装置でのガス置換効率を最適化すると同時に、分析装置に導入されるガス流量を最適化し、特にプラズマ分析装置においては安定したプラズマを維持することができる。
この場合、本発明の試料導入システムは、前記前処理装置へ前記未処理試料ガスを導く導入流路を備え、前記前処理装置は、第1配管と第2配管を有し、前記第1配管と前記第2配管が前記多孔性隔壁により隔てられ、前記第1配管は、前記導入流路に接続される第1入口と、前記接続ガス流路に接続される第1出口と、前記第1入口と前記第1出口との間の第1ガス流路とを有し、前記第2配管は、置換ガスの供給源に接続される第2入口と、前記置換ガスと置換された前記未処理試料ガスを含む排出ガスを流出させるための第2出口と、前記第2入口と前記第2出口との間の第2ガス流路とを有し、前記多孔性隔壁の各孔径は、前記第1ガス流路におけるガス圧力と前記第2ガス流路におけるガス圧力との差による前記多孔性隔壁を介するガス移動を実質的に阻止するように設定され、前記圧力調整装置は、前記導入流路を、前記第1入口の近傍において前記第2出口に連通させる分岐流路を有し、前記導入流路に供給された前記未処理試料ガスの一部を、前記分岐流路を介して前記排出ガスと共に吸引するガス吸引手段と、前記前処理装置への前記未処理試料ガスの導入流量の設定手段と、前記ガス吸引手段による前記未処理試料ガスと前記排出ガスの合計吸引流量の設定手段と、前記置換ガスの前記第2配管への供給流量の設定手段とが設けられ、前記導入流路に供給される前記未処理試料ガスの圧力は大気圧あるいは一定圧とされ、前記未処理試料ガスの導入流量は一定値に設定され、前記未処理試料ガスと前記排出ガスの合計吸引流量の設定値は、前記置換ガスの供給流量の設定値よりも大きくされ、前記ガス吸引手段のガス排出側は大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通するのが好ましい。
これにより、導入流路に供給される未処理試料ガスの圧力は大気圧あるいは一定圧とされ、未処理試料ガスと排出ガスの合計吸引流量の設定値は、第2配管への置換ガスの供給流量の設定値よりも大きくされる。よって、導入流路に供給される未処理試料ガスの一部は、確実に分岐流路を介してガス吸引手段により吸引される。そして、ガス吸引手段のガス排出側は大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通するので、導入流路における第1入口の近傍において未処理試料ガスの圧力を略大気圧あるいは一定圧にできる。これにより、導入流路が長いために未処理試料ガスの圧力損失が大きく、導入流路の長さや径の相違により圧力損失の大きさが一定でない場合でも、導入流路における第1入口の近傍でのガスの圧力変動を阻止し、前処理装置でのガスの圧力変動を規制すると共に周囲環境に対するシールができる。
キャリアガスの処理済試料ガスへの付加流量が変化する際、そのチューブにおいてガスが絞られることから接続ガス流路の内圧は変動しようとする。しかし、前処理装置とガス付加装置との間における接続ガス流路のガスの圧力変動は圧力調整装置により規制されることで、前処理装置と接続ガス流路との接続部におけるシール等を介して周囲環境等における汚染物質が分析装置に混入したり、処理済試料ガスが外部に漏洩するのを防止できる。
これにより、接続ガス流路に可動部材や動力源を設けることなくキャリアガスを付加できる。また、未処理試料ガスを前処理装置に導入するのに必要な圧力を未処理試料ガス自身が有さない場合であっても、可動部材や動力源を設けることなく、所定量の未処理試料ガスを前処理装置に導入できる。
内管2の両端近傍部位2B、2Cと外管3の材質は特に限定されず、複数の異なる材質から構成してもよい。例えば、加工容易性および内管2に導入された未処理試料ガスG1の加熱容易性や耐熱性の観点から、金属、セラミック、ガラスであるのが好ましく、セラミックや石英ガラスのようなガラスとするのが望ましい。
ガス付加装置40による処理済試料ガスG4の吸引等により、導入流路10においてガス圧力が低下すると、シールガス流路52aに入口52a′から導入されるシールガスG8の一部が導入流路10に導かれ、その圧力低下がキャンセルされる。これにより、導入流路10内のガスの圧力変動を規制することで、前処理装置1におけるガスの圧力変動を規制できる。
なお、シールガスG8が導入流路10に導かれることで、前処理装置1へは未処理試料ガスG1だけでなくシールガスG8も導入されるが、前処理装置1への未処理試料ガスG1の導入流量自体は一定であるので、前処理装置1による処理条件を変化させる必要はない。
他は第1実施形態と同様である。
他は第1実施形態と同様とされる。
他は第1実施形態と同様とされる。
例えば、圧力調整装置を圧力調整弁により構成してもよい。
また、第1、第2実施形態において、ガス付加装置として、アスピレータに代えてポンプ、ブロア、ファン等のガス吸引手段により処理済試料ガスを吸引し、そのガス吸引手段の下流の接続ガス流路において、高圧ボンベやポンプから吐出されるキャリアガスを質量流量コントローラ(MFC)、流量制御弁等の流量制御器を介して処理済試料ガスに付加する構成としてもよい。
第3、第4実施形態においては、供給源47から流量制御器46を介してキャリアガスG7′を処理済試料ガスG4に付加できるので、ガス付加装置40Aはアスピレータに代えて未処理試料ガスG1を吸引するポンプ、ブロアあるいはファン等のガス吸引手段を有するものであってもよい。
また、上記各実施形態の前処理装置1においては内管2を第1配管とし、外管3を第2配管としたが、これに代えて、内管2を第2配管とし、外管3を第1配管としてもよい。この場合、内側入口2aが第2入口とされ、内側出口2bが第2出口とされ、内側ガス流路2cが第2ガス流路とされ、外側入口3aが第1入口とされ、外側出口3bが第1出口とされ外側ガス流路3cが第1ガス流路とされる。これにより、内側入口2aは置換ガスG3の供給源に接続され、内側出口2bから未処理試料ガスG1と置換ガスG3が排出ガスG5として流出され、外側入口3aに導入流路10が接続されることで外側ガス流路3cに未処理試料ガスG1が導入され、外側出口3bに接続される接続ガス流路20を介して分析装置30に処理済試料ガスG4が導かれる。
さらに、上記各実施形態の前処理装置1は内管2を第1配管とし外管3を第2配管とする二重管構造を備えるが、これに代えて、図10の変形例に示すように、互いに平行に配置される2本の配管101、102を備え、両配管101、102が多孔性隔壁2Aを共有する構造を採用してもよい。この場合、両配管101、102の中の一方が第1配管とされ、他方が第2配管とされ、両配管101、102が多孔性隔壁2Aにより隔てられる。
分析装置はプラズマ分析装置に限定されず、例えばガスクロマトグラフ質量分析法による分析を行う分析装置でもよい。
前処理装置による不要成分の除去方法は上記実施形態に限定されず、例えば従来技術として示したような、不要成分として水分を除去するドライヤや、分析試料である微粒子を荷電して分級する際にガス状汚染成分を除去し、微粒子を所望のガス種からなる雰囲気中に浮遊させる微粒子分級装置を用いてもよい。
本実施例では、未処理試料ガスG1の流量は一定(300ml/min)とし、キャリアガスG7の流量を変化させることで分析装置30のセンターチューブ30bに導入されるガス流量を変化させた。
分析装置30のセンターチューブ30bの先端部の内径は1.5mmとした。前処理装置1の外側出口3b、シールガス流路52aの出口52a″、センターチューブ30bの出口におけるガス圧力はそれぞれ大気圧とした。
比較例の試料導入システムBは、ガス付加装置40と圧力調整装置50を除き、前処理装置1と分析装置30を接続ガス流路20を介して直接に接続した以外は実施形態の試料導入システムA1と同一構成であり、実施形態の試料導入システムA1と同一部分は同一符号で示している。
本比較例の試料導入システムBにおいては、未処理試料ガスG1の流量を実施例1における分析装置30のセンターチューブ30bに導入されたガス流量と同様に変化させた。
分析装置30のセンターチューブ30bの先端部の内径は1.5mmとした。前処理装置1の外側出口3b、センターチューブ30bの出口におけるガス圧力はそれぞれ大気圧とした。
Claims (8)
- 分析試料を含む未処理試料ガスから不要成分を除去する前処理を行う前処理装置と、
前記前処理装置により処理された処理済試料ガスを分析装置に導く接続ガス流路と、
前記分析装置に向かい流動する前記処理済試料ガスに前記接続ガス流路においてキャリアガスを付加するガス付加装置と、
前記ガス付加装置の上流において分析試料を含むガスの圧力変動を規制する圧力調整装置とを備え、
前記ガス付加装置は前記キャリアガスの付加流量の変更手段を有する試料導入システム。 - 前記圧力調整装置は、シールガス流路と連通流路を有し、
前記シールガス流路は、シールガスの供給源に接続される入口と、大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通する出口とを有し、
前記シールガス流路の入口と出口との間は、前記接続ガス流路における前記前処理装置と前記ガス付加装置との間に前記連通流路を介して連通され、
前記前処理装置への前記未処理試料ガスの導入流量の設定手段が設けられ、
前記未処理試料ガスの導入流量は一定値に設定される請求項1に記載の試料導入システム。 - 前記前処理装置へ前記未処理試料ガスを導入する導入流路を備え、
前記圧力調整装置は、シールガス流路と連通流路を有し、
前記シールガス流路は、シールガスの供給源に接続される入口と、大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通する出口とを有し、
前記シールガス流路の入口と出口との間は、前記導入流路に前記連通流路を介して連通され、
前記前処理装置への前記未処理試料ガスの導入流量の設定手段が設けられ、
前記未処理試料ガスの導入流量は一定値に設定される請求項1に記載の試料導入システム。 - 前記前処理装置へ前記未処理試料ガスを導入する導入流路を備え、
前記圧力調整装置は、前記導入流路から分岐する排気流路を有し、
前記排気流路は、大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通する出口を有し、
前記導入流路への前記未処理試料ガスの供給流量の設定手段と、
前記前処理装置への前記未処理試料ガスの導入流量の設定手段とが設けられ、
前記未処理試料ガスの導入流量は一定値に設定され、
前記未処理試料ガスの前記供給流量の設定値は前記導入流量の設定値よりも大きくされる請求項1に記載の試料導入システム。 - 前記前処理装置へ前記未処理試料ガスを導く導入流路を備え、
前記分析試料は固体微粒子とされ、
前記前処理装置は、第1配管と、第2配管と、前記第1配管と前記第2配管を隔てる多孔性隔壁を有し、
前記第1配管は、前記導入流路に接続される第1入口と、前記接続ガス流路に接続される第1出口と、前記第1入口と前記第1出口との間の第1ガス流路とを有し、
前記第2配管は、置換ガスの供給源に接続される第2入口と、前記置換ガスと置換された前記未処理試料ガスを含む排出ガスを流出させるための第2出口と、前記第2入口と前記第2出口との間の第2ガス流路とを有し、
前記前処理装置により、前記未処理試料ガスにおける少なくとも一部のガス成分を前記多孔性隔壁での分圧差による拡散を介して前記置換ガスと置換するガス置換機能が奏され、前記未処理試料ガスにおける少なくとも一部のガス成分と置換された前記置換ガスにより前記処理済試料ガスが構成され、
前記多孔性隔壁の各孔径は、前記第1ガス流路におけるガス圧力と前記第2ガス流路におけるガス圧力との差による前記多孔性隔壁を介するガス移動を実質的に阻止するように設定され、
前記圧力調整装置は、前記導入流路を、前記第1入口の近傍において前記第2出口に連通させる分岐流路を有し、
前記導入流路に供給された前記未処理試料ガスの一部を、前記分岐流路を介して前記排出ガスと共に吸引するガス吸引手段と、
前記前処理装置への前記未処理試料ガスの導入流量の設定手段と、
前記ガス吸引手段による前記未処理試料ガスと前記排出ガスの合計吸引流量の設定手段と、
前記置換ガスの前記第2配管への供給流量の設定手段とが設けられ、
前記導入流路に供給される前記未処理試料ガスの圧力は大気圧あるいは一定圧とされ、
前記未処理試料ガスの導入流量は一定値に設定され、
前記未処理試料ガスと前記排出ガスの合計吸引流量の設定値は、前記置換ガスの供給流量の設定値よりも大きくされ、
前記ガス吸引手段のガス排出側は大気中あるいは一定圧力の雰囲気中に連通する請求項1に記載の試料導入システム。 - 前記分析試料は固体微粒子とされ、
前記前処理装置は多孔性隔壁を有し、
前記前処理装置により、前記未処理試料ガスにおける少なくとも一部のガス成分を前記多孔性隔壁での分圧差による拡散を介して置換ガスと置換するガス置換機能が奏され、前記未処理試料ガスにおける少なくとも一部のガス成分と置換された置換ガスにより前記処理済試料ガスが構成される請求項1〜4の中の何れかに記載の試料導入システム。 - 前記分析装置は、前記キャリアガスを付加された前記処理済試料ガスをプラズマに導くためのチューブを有するプラズマ分析装置である請求項1〜6の中の何れか1項に記載の試料導入システム。
- 前記ガス付加装置は、前記接続ガス流路に導入されるキャリアガスの圧力ヘッド低下に基づき前記処理済試料ガスを前記接続ガス流路に導くアスピレータを有する請求項1〜7の中の何れか1項に記載の試料導入システム。
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