JPS635304A

JPS635304A - 多層干渉膜

Info

Publication number: JPS635304A
Application number: JP14901586A
Authority: JP
Inventors: Tateki Maikuma; 毎熊　千城; Masanobu Wakumoto; 和久本　正信; Fumiaki Kobayashi; 文明小林
Original assignee: Matsushita Electric Works Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 1986-06-25
Filing date: 1986-06-25
Publication date: 1988-01-11
Anticipated expiration: 2011-03-04
Also published as: JPH0820569B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕この発明は、特定波長の光を選択的に透過あるいは反射
する多層干渉膜に関する。

〔背景技術〕

従来、水銀灯等のＨＩＤ光源を用いた照明器具や、紫外
線硬化装置に用いられる高出力の紫外線ランプ等におい
ては、ランプから放射される不必要な熱線や紫外線等に
よって、被照射物が損傷を受けたり、使用者がこの熱に
よって不快窓を惑じると言う難点があった。

たとえば、紫外線硬化装置に用いられる紫外線ランプで
は、第６図にみるように、紫外線ランプ５の後ろ側にア
ルミ板等の反射板４を置いて、被照射物への紫外線照射
の効率を高めているが、同時に熱線も被照射物に照射さ
れるため、被照射物が熱損傷する恐れがある。

そこで、被照射物の損傷や熱による不快間を防ぐため、
第８図にみるような多層干渉膜１′によって、不必要な
熱線や紫外線を取り除くことが行われている。この多層
干渉膜１゛は、基板２表面に、屈折率の大きい物質から
なる光の波長程度の厚みのλ／４膜Ｈと屈折率の小さい
物質からなる光の波長程度の厚みのλ／４膜りとを交互
に形成してなるもので、各λ／４膜中における光の干渉
を利用して、特定の波長の光のみを選択的に透過あるい
は反射しようとするものである。

このような多層干渉膜１′を、前述した紫外線硬化装置
に使用する場合には、たとえば、第７図（８１にみるよ
うに、アルミ仮にかわって、反射板４として使用するこ
とができる。その場合には、この多層干渉膜１′は、第
９図にみるように、熱線および可視光線は透過するが、
紫外線は反射する、いわゆる、コールドミラーとして使
用される。このようなコールドミラーでは、紫外線は、
多層干渉膜１′によって反射されて被照射物に到達する
が、熱線および可視光線は多層干渉膜１゛を透過して、
除去されてしまうため、被照射物には到達しない。した
がって、被照射物が熱損傷する恐れがなくなるのである
。

多層干渉膜１′は、また、第７図ｆｂ）にみるように、
紫外線硬化装置の紫外線ランプ５の前面に置かれるフィ
ルタ６として使用することもでき名。その場合には、こ
の多層干渉膜１′は第１０図にみるように、熱線および
可視光線は反射するが、それ紫外線は透過するものであ
る必要がある。このようなフィルタ６を紫外線ランプ５
の前面に配置すると、紫外線ランプ５より発生し、直接
に、あるいは、反射板４によって集められた光のうち、
熱線および可視光線の成分が、このフィルタ６によって
反射されて除去され、紫外線のみが被照射物に到達する
。したがって、やはり、被照射物が熱損傷する恐れがな
くなるのである。

また、この多層干渉膜１′を、前述した紫外線硬化装置
以外の用途に使用する場合には、それに応じた、すなわ
ち、除去したい波長の光を除去することができる多層干
渉膜１′を作製すればよい。

たとえば、前述した水銀灯等のＨＩＤランプにおいて、
熱による不快窓を防ぐためには、熱線のみを反射し、そ
れ以外の波長の光を透過するフィルタとするか、逆に、
熱線のみを透過し、それ以外の光を反射するコールドミ
ラーとして、この多層干渉膜１゛を作製すればよい。ま
た、紫外線による被照射物の（員傷を防ぐためには、紫
外線のみを反射するフィルタか、逆に、紫外線のみを透
過する反射鏡として、この多層干渉膜１′を作製すれば
よいのである。

以上のように、多層干渉膜１′を使用すれば、不必要な
熱線や紫外線等を除去することができるのであるが、こ
のような多層干渉膜１゛は、長期間使用すると、その表
面に、雰囲気中の浮遊物（主に有機物質）が汚れとして
付着し、反射あるいは透過の効率が低下する、と言う問
題がある。たとえば、使用する雰囲気にもよるが、紫外
線硬化装置で１年間使用すると、２０〜５０％も効率が
低下してしまう場合もある。このため、このような多層
干渉膜１′を使用するにあたっては、必要に応じて、表
面の清掃を行う必要があるが、特に有機物の汚れは、λ
／４膜表面に焼き付いてしまうため、容易に取り除くこ
とができない。

〔発明の目的〕

この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであって
、初期の反射あるいは透過効率を長期間に渡って維持す
ることができる多層干渉膜を提供することを口約として
いる。

〔発明の開示〕

以上の目的を達成するため、この発明は、基板表面に屈
折率の大きいλ／４膜と屈折率の小さいλ／４膜とが交
互に積層形成され、その最上層に、透明な光触媒層が形
成されていることを特徴とする多層干渉膜を要旨として
いる。

以下に、この発明を、その一実施例をあられす図面を参
照しつつ、詳しく説明する。

第１図にみるように、この発明の多層干渉膜１は、基板
２表面に、屈折率の大きいλ／４膜Ｈと、屈折率の小さ
いλ／４膜りとを交互に積層形成している点では、従来
のものとかわらない。

各λ／４膜Ｈ，Ｌの材料としても従来と同様の化合物を
使用することができる。たとえば、屈折率の大きいλ／
４膜Ｈとしては、ＴｉＯ２，Ｃｅｎｔ、　Ｚｒ０ｚ。

ＺｎＳ等の、屈折率ｎが２．０〜２．６程度の高屈折率
物質による薄膜が挙げられる。また、屈折率の小さいλ
／４膜りとしては、ＣａＦ、　ＭｇＦ２．５ｉ０２．　
ＡＩ□０３等の、屈折率ｎカ月、３〜１．６程度の低屈
折率物質による薄膜が挙げられる。そして、以上のよう
な化合物の組み合わせおよび各λ／４膜Ｈ，Ｌの膜厚を
選んでやれば、必要とする波長の光を反射あるいは透過
させることができるようになる。

以上のような各λ／４膜Ｈ，Ｌを形成する方法も、通常
と同様の方法によることができる。たとえば、抵抗加熱
による真空蒸着法、電子銃による電子ビーム蒸着法、ス
パッタリング法、イオンブレーティング法等を使用する
ことができるのである。また、以上のような方法によっ
てλ／４膜Ｈ，Ｌを形成するにあたり、基板を室温以上
に加熱するようであってもよい。−般に、基板温度が高
ければ高い程、形成される薄膜の硬度は高（、その耐久
性も向上するからである。しかしながら、あまり基板温
度が高すぎると、作業性、生産性等が悪（なる恐れがあ
る。したがって、基板温度は、室温〜３５０℃程度であ
ることが好ましい。

以上のようにして積層形成された複数のλ／４膜Ｈ，Ｌ
、・・・の最上層に、透明な光触媒層３が形成されるこ
とで、この発明は構成されている。

光触媒層３に使用される化合物としては、Ｔｉ０ｚ、　
Ｆ＋４０．　、　Ｉｎｔｏ□およびＷＯ３からなる群よ
り選ばれた少なくとも１つの化合物が、好ましいものと
して、挙げられる。

このような材料からなる光触媒層３は、先のλ／４膜と
同様の方法によって形成することができる、すなわち、
抵抗加熱による真空蒸着法、電子銃による電子ビーム蒸
着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法等を
使用することができるのである。また、この発明では、
スプレー法あるいは浸漬法等の方法で、前記化合物中の
金属（Ｔｉ、　Ｆｅ、　Ｉｎ、　Ｗ等）を含む有機金属
化合物溶液を、積層されたλ／４層Ｈ，Ｌの表面に塗布
し、乾燥したあと、それを高温で焼き付けることによっ
て、光触媒層３を形成することもできる。

以上のような方法で形成される光触媒層３の膜厚は、こ
の発明では、特に限定されるものではないが、０．５〜
５μｍ程度であることが好ましい。なぜなら、光触媒層
３の膜厚が０．５μｍ未満では、その触媒効果が充分で
なく、また、λ／４膜の膜厚に近づくため、光触媒層３
とλ／４膜との間で干渉が発生して、選択的に反射、透
過できる光の波長が変化してしまう恐れがある。また、
逆に、光触媒層３の膜厚が５−を越えると、場合によっ
ては、その透明性が著しく低下する恐れがあり、透明性
が低下しない場合であっても、５−以下の膜厚の場合と
触媒効果が余り変わらない（噴量があるからである。

以上のような光触媒層３には、さらに、Ｐｔ、　Ｐｄ、
　ＲｈおよびＩｒよりなる群から選ばれた少なくとも１
つの金属を担持させるようであってもよい。このような
金属は、付着した汚れを分解する触媒として働くもので
あって、それを光触媒層３に担持させることにより、汚
れの除去作用をより活発に行わせることができるように
なるのである。このような金属を光触媒層３に担持させ
る方法は、この発明では、特に限定されないが、たとえ
ば、以下のような方法を用いることができる。すなわち
、前記金属の可溶性塩を水溶液とし、それに前記光触媒
層３が形成された多層干渉膜１を浸漬して、前記可溶性
塩を光触媒層３に染み込ませる。そのあと、これに、紫
外線等を照射して可溶性塩を分解し、光触媒層３中に、
前記金属を担持させるのである。なお、以上のようにし
て担持させる金属の量も、この発明では特に限定されな
いが、光触媒層に対して、０．１〜２％の金属を担持さ
せることが好ましい。なぜなら、担持量が０．１％未満
では、担持させる効果が充分に得られず、２％を越える
と、光触媒層３の透明性が低下してしまう恐れがあるか
らである。

以上のように、基板２表面に屈折率の大きいλ／４膜Ｈ
と屈折率の小さいλ／４膜りとが交互に積層形成され、
その最上層に、透明な光触媒層３が形成されてなる、こ
の発明の多層干渉膜ｌは、たとえば、第４図にみるよう
に、紫外線硬化装置の反射板４として使用することがで
きる。その場合には、この多層干渉膜１は、第２図にみ
るように、熱線は透過するが、それ以外の波長の光は反
射する、いわゆる、コールドミラーである必要がある。

このようなコールドミラーでは、紫外線ランプ５から出
た熱線以外の光は、多層干渉膜１によって反射されて被
照射物に到達するが、熱線は多層干渉膜１を透過して、
除去されてしまうため、被照射物には到達しない。した
がって、被照射物が熱を貝傷する恐れがなくなる。

また、この発明の多層干渉膜１は、第５図にみるように
、紫外線照射装置の紫外線ランプ５の前面に置かれるフ
ィルタ６として使用することもできる。その場合には、
この多層干渉膜１は第３図にみるように、熱線および可
視光線は反射するが、紫外線は透過するものである必要
がある。このようなフィルタ６を紫外線ランプ５の前−
面に配置すると、紫外線ランプ５より発生し、直接に、
あるいは、反射板４によって集められた光のうち、熱線
および可視光線の成分が、このフィルタ６によって反射
されて除去され、紫外線のみが被照射物に到達する。し
たがって、やはり、被照射物が熱損傷する恐れがなくな
る。

以上のように、反射板あるいはフィルタ等として使用さ
れるこの発明の多層干渉膜ｌにおいては、その最上層に
形成された光触媒層３表面に、雰囲気中の浮遊物（主に
有機物質）が汚れとして付着しても、それは、この光触
媒Ｎ３中のＴｉＯ□、　Ｆｅ２Ｏ３、ＩｎｚＯ３および
一〇３等の金属化合物や、ｐｔ。

Ｐｄ、　ＲｈおよびＩｒ等の金属と、光源からの紫外線
との作用によって分解され除去される。したがって、こ
のような汚れが、光触媒層３表面に残ることはなく、そ
の表面を常に清潔に保つことができるようになる。

なお、この発明の多層干渉膜１が、以上のような紫外線
硬化装置以外の用途にも使用できることは、従来のもの
と同様である。

たとえば、水銀灯等のＨＩＤランプにおいて、熱による
不快感を防ぐためには、熱線のみを反射し、それ以外の
波長の光を透過するフィルタとするか、逆に、熱線のみ
を透過し、それ以外の光を反射するコールドミラーとし
て、この発明の多層干渉膜１を作製すればよい。また、
紫外線による被照射物の損傷を防（ためには、紫外線の
みを反射するフィルタか、逆に、紫外線のみを透過する
反射鏡として、この発明の多層干渉膜１を作製すればよ
い。要するに、基板表面に屈折率の大きいλ／４膜と屈
折率の小さいλ／４膜とが交互に積層形成され、その最
上層に、透明な光触媒層が形成されているのであれば、
その他の構成は、特に限定されないのである。

つぎに、この発明の実施例について、比較例とあわせて
説明する。

（実施例１）プレス成形された硬質ガラス基板を、１×１０−４〜２
　Ｘ　１０−５Ｔｏｒｒの真空中で３００°Ｃに加熱し
ながら、電子ビーム蒸着法により、屈折率が大きいλ／
４膜である酸化チタン（ＴｉＯ□）と、屈折率が小さい
λ／４膜であるフッ化マグネシウム（ＭｇＦｚ）とを交
互に形成し、１５層のλ／４膜を積層した。

つぎに、この１５層のλ／４膜の最上層に、同じく、電
子ビーム蒸着法によって酸化チタン（ＴｉＯ□）を蒸着
し、厚み１．０〜１．２μｍの光触媒層を積層し、表面
に多層干渉膜が形成されたコールドミラーを得た。得ら
れたコールドミラーは、可視光線（４５０〜７５０ｎｍ
）の平均反射率が９３％、熱線（８００〜２４００ｎｍ
）の平均透過率が８２％であった。以上のようなコール
ドミラーをミニハロゲンランプスポットライトの反射板
として使用したところ、１００００時間運転後も、その
表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反射
率および平均透過率も殆ど変化しなかった。

（実施例２）実施例１で得られた１５層のλ／４膜を、テトライソプ
ロポキシチタン（Ｔｉ　（０−１ｃＪｔ）　４）の５％
エタノール溶液に繰り返し浸漬、乾燥させたあと、５０
０℃で３０分間焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が
形成された多層干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜
厚しよ１−であった。つぎに、この多層干渉膜が形成さ
れた硬質ガラス基板を、塩化白金水溶液に浸漬したあと
、これに紫外線を照射して、光触媒層に白金を担持させ
てコールドミラーを得た。光触媒層への白金の担持量は
、１％であった。こうして得られたコールドミラーは、
可視光線の平均反射率が９２％、熱線の平均透過率が８
０％であった。このコールドミラーをミニハロゲンラン
プスポットライトの反射板として使用したところ、先の
実施例１と同様に、１００００時間運転後も、その表面
への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反射率お
よび平均透過率も殆ど変化しなかった。

（比較例１）１５層のλ／４膜最膜層上層光触媒層を形成しなかった
以外は、実施例１．２と同様にして、コールドミラーを
作製した。得られたコールドミラーの製造直後の可視光
線の平均反射率は９３％、熱線の平均透過率は８２％で
あった。このコールドミラーをミニハロゲンランプスポ
ットライトの反射板として使用したところ、１００００
時間運転後には、その表面に、かなりの汚れが付着して
いることが観察され、可視光線の平均反射率が８０％に
、また、熱線の平均透過率が６７％に低下していた。

（実施例３）熱曲げ成形によってパラボラ形に成形された硬質ガラス
基板を、Ｉ　Ｘ　１０−’〜２　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ
の真空中で３００℃に加熱しながら、電子ビーム蒸着法
により、屈折率が大きいλ／４膜である酸化チタン（Ｔ
ｉＯ□）と、屈折率が小さいλ／４膜である二酸化珪素
（ＳｉＯ□）とを交互に形成し、１５層のλ／４膜を積
層した。つぎに、この１５層のλ／４膜の最上層に、同
じく、電子ビーム蒸着法によって酸化インジウム（Ｉｎ
２０：＋　）を蒸着し、厚み１．０〜１゜２−の光触媒
層を積層し、第４図にみるように、表面に多層干渉膜が
形成されたコールドミラーを得た。得られたコールドミ
ラーは、紫外ｙｃ（２５０〜４００ｎｍ）の平均反射率
が８７％、可視光線および熱線（４５０〜２４００ｎｍ
）の平均透過率が９５％であった。以上のようなコール
ドミラーを紫外線硬化装置の反射板として使用したとこ
ろ、３０００時間運転後も、その表面への汚れの付着は
殆ど認められず、また、平均反射率および平均透過率も
殆ど変化しなかった。

（実施例４）実施例３で得られた１５層のλ／４膜を、テトライソプ
ロポキシチタン（Ｔｉ　（０−１ｃＪｔ）　４　）の５
％エタノール溶液に繰り返し浸漬、乾燥させたあと、５
００℃で３０分間焼付し、酸化チタンからなる光触媒層
が形成された多層干渉膜を得た。形成された光触媒層の
膜厚は１．２−であった。つぎに、この多層干渉膜が形
成された硬質ガラス基板を、塩化パラジウム水溶液に浸
漬したあと、これに紫外線を照射して、光触媒層にパラ
ジウムを担持させてコールドミラーを得た。光触媒層へ
のパラジウムの担持量は、０．５％であった。こうして
得られたコールドミラーは、紫外線の平均反射率が８３
％、可視光線および熱線の平均透過率が９０％であった
。このコールドミラーを紫外線硬化装置の反射板として
使用したところ、先の実施例３と同様に、３０００時間
運転後も、その表面への汚れの付着は殆ど認められず、
また、平均反射率および平均透過率も殆ど変化しなかっ
た。

（比較例２）１５層のλ／４膜最膜層上層光触媒層を形成しなかった
以外は、実施例３．４と同様にして、コールドミラーを
作製した。得られたコールドミラーの製造直後の紫外線
の平均反射率は８８％、可視光線および熱線の平均透過
率は９７％であった。

このコールドミラーを紫外線硬化装置の反射板として使
用したところ、３０００時間運転後には、その表面に、
かなりの汚れが付着していることが観察され、紫外線の
平均反射率が７５％に、また、可視光線および熱線の平
均透過率が７０％に低下していた。

（実施例５）硬質ガラス基板を、Ｉ　Ｘ　１０−’〜２　Ｘ　１０−
’Ｔ。

ｒｒの真空中で３００℃に加熱しながら、電子ビーム蒸
着法により、屈折率が大きいλ／４膜である酸化チタン
（Ｔｉ（ｈ）と、屈折率が小さいλ／４膜であるフッ化
マグネシウム（ＭｇＦｚ）とを交互に形成し、１５層の
λ／４膜を積層した。つぎに、この１５層のλ／４膜の
最上層に、同じく、電子ビーム蒸着法によって酸化チタ
ン（ＴｉＯ□）を蒸着し、厚み１゜０〜１．２　ｔｒｍ
の光触媒層を積層し、表面に多層干渉膜が形成された紫
外線除去用のフィルタを得た。

得られたフィルタは、紫外線（２５０〜４００ｎｍ）の
平均反射率が９３％、可視光線（４００〜８００ｎｍ）
の平均透過率が８２％であった。以上のようなフィルタ
をミニハロゲンランプスポットライトに使用したところ
、１００００時間運転後も、その表面への汚れの付着は
殆ど認められず、また、平均反射率および平均透過率も
殆ど変化しなかった。

（実施例６）実施例５で得られた１５層のλ／４膜を、テトライソプ
ロポキシチタン（Ｔｉ　（０−１ｃＪｔ）　４）の５％
エタノール溶液に繰り返し浸漬、乾燥させたあと、５０
０℃で３０分間焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が
形成された多層干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜
厚は１−であった。つぎに、この多層干渉膜が形成され
た硬質ガラス基板を、塩化白金水溶液に浸漬したあと、
これに紫外線を照射して、光触媒層に白金を担持させて
紫外線除去用のフィルタを得た。光触媒層への白金の担
持量は、１％であった。こうして得られたフィルタは、
紫外線の平均反射率が９２％、可視光線の平均透過率が
８０％であった。このコールドミラーをミニハロゲンラ
ンプスポットライトに使用したところ、先の実施例５と
同様に、１００００時間運転後も、その表面への汚れの
付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均透
過率も殆ど変化しなかった。

（比較例３）１５層のλ／４膜最膜層上層光触媒層を形成しなかった
以外は、実施例５，６と同様にして、紫外線除去用のフ
ィルタを作製した。得られたフィルタの製造直後の紫外
線の平均反射率は９３％、可視光線の平均透過率は８２
％であった。このフィルタをミニハロゲンランプスポッ
トライトに使用したところ、１００００時間運転後には
、その表面に、かなりの汚れが付着していることが観察
され、紫外線の平均反射率が８０％に、また、可視光線
の平均透過率が６７％に低下していた。

（実施例７）硬質ガラス基板を、Ｉ　Ｘ　１０−’〜２　Ｘ　１０−
’Ｔ。

ｒｒの真空中で３００℃に加熱しながら、電子ビーム蒸
着法により、屈折率が大きいλ／４膜である酸化チタン
（ＴｉＯ２）と、屈折率が小さいλ／４膜である二酸化
珪素（Ｓ　ｉＯ□）とを交互に形成し、１５層のλ／４
膜を積層した。つぎに、この１５層のλ／４膜の最上層
に、同じく、電子ビーム蒸着法によって酸化インジウム
（ｒｎ、ｚｏｉ　）を蒸着し、厚み１．０〜１．２μｍ
の光触媒層を積層し、紫外線のみを透過するフィルタを
得た。得られたフィルタは、紫外線（２５０〜４００ｎ
ｍ）の平均透過率が８７％、可視光線および熱線（４５
０〜２４００ｎｍ）の平均反射率が９５％であった。以
上のようなフィルタを、第５図にみるように、紫外線硬
化装置に使用したところ、３０００時間運転後も、その
表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反射
率および平均透過率も殆ど変化しなかった。

（実施例８）実施例７で得られた１５層のλ／４膜を、テトライソプ
ロポキシチタ７　（Ｔｉ（０−４ｃＪ７）４）　（７）
　５％エタノール溶液に繰り返し浸漬、乾燥させたあと
、５００℃で３０分間焼付し、酸化チタンからなる光触
媒層が形成された多層干渉膜を得た。形成された光触媒
層の膜厚は１．２−であった。つぎに、この多層干渉膜
が形成された硬質ガラス基板を、塩化パラジウム水溶液
に浸漬したあと、これに紫外線を照射して、光触媒層に
パラジウムを担持させて紫外線のみを透過するフィルタ
を得た。光触媒層へのパラジウムの担持量は、０．５％
であった。こうして得られたフィルタは、紫外線の平均
透過率が８３％、可視光線および熱線の平均反射率が９
０％であった。このフィルタを、先の実施例７と同様に
、第５図の紫外線硬化装置に使用したところ、３０００
時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆ど認められ
ず、また、平均反射率および平均透過率も殆ど変化しな
かった。

（比較例４）１５層のλ／４膜最膜層上層光触媒層を形成しなかった
以外は、実施例７，８と同様にして、紫外線のみを透過
するフィルタを作製した。得られたフィルタの製造直後
の紫外線の平均透過率は８８％、可視光線および熱線の
平均反射率は９７％であった。このフィルタを第５図の
紫外線硬化装置に使用したところ、３０００時間運転後
には、その表面に、かなりの汚れが付着していることが
観察され、紫外線の平均透過率が７５％に、また、可視
光線および熱線の平均反射率が７０％に低下していた。

〔発明の効果〕

この発明の多層干渉膜は、以上のようであり、基板表面
に屈折率の大きいλ／４膜と屈折率の小さいλ／４膜と
が交互に積層形成され、その最上層に、透明な光触媒層
が形成されているため、初期の反射あるいは透過効率を
長期間に渡って維持することができるようになっている
。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の多層干渉膜の一実施例の構成を説明
する説明図、第２図はこの発明の多層干渉膜をコールド
ミラーとして使用する場合の光の波長と反射率ならびに
透過率の関係の一例をあられすグラフ、第３図は同じく
フィルタとして使用する場合の光の波長と反射率ならび
に透過率の関係の一例をあられすグラフ、第４図はこの
発明の多層干渉膜をコールドミラーとして使用する場合
の構成を説明する説明図、第５図はこの発明の多層干渉
膜をフィルタとして使用する場合の構成を説明する説明
図、第６図は従来の反射板を説明する説明図、第７図（
ａ）、　（ｂ）は従来の多層干渉膜をコールドミラーな
らびにフィルタとして使用する場合の構成を説明する説
明図、第８図は従来の多層干渉膜の構成を説明する説明
図、第９図は従来の多層干渉膜をコールドミラーとして
使用する場合の光の波長と反射率ならびに透過率の関係
の一例をあられすグラフ、第１０図は同じくフィルタと
して使用する場合の光の波長と反射率ならびに透過率の
関係の一例をあられすグラフである。１・・・多層干渉膜　２・・・基板　３・・・光触媒層
　Ｈ・・・屈折率の大きいλ／４膜　Ｌ・・・屈折率の
小さいλ／４膜代理人　弁理士　　松　本　武　彦第２　図破１（ｎｍ）第３図：Ｒ＆（ｎｍ）第４図　　　　　　　第５図第６図ム（ａ）　　　　　　　　　（ｂ）第９　図箸＆（ｎｍ）第１０図波長（ｎｍ）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板表面に屈折率の大きいλ／４膜と屈折率の小
さいλ／４膜とが交互に積層形成され、その最上層に、
透明な光触媒層が形成されていることを特徴とする多層
干渉膜。
（２）光触媒層が、ＴｉＯ＿２、Ｆｅ＿２Ｏ＿３、Ｉｎ
＿２Ｏ＿３およびＷＯ＿３からなる群より選ばれた少な
くとも１つであり、その膜厚が、０．５〜５μｍである
特許請求の範囲第１項記載の多層干渉膜。
（３）光触媒層に、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｈおよびＩｒよりな
る群から選ばれた少なくとも１つの金属が担持されてい
る特許請求の範囲第１項または第２項記載の多層干渉膜
。
（４）熱線を透過し、それ以外の波長の光を反射するコ
ールドミラーに用いられる特許請求の範囲第１項から第
３項までのいずれかに記載の多層干渉膜。
（５）必要外の波長の光をカットするフィルタに用いら
れる特許請求の範囲第１項から第３項までのいずれかに
記載の多層干渉膜。