JPH0820569B2 - 多層干渉膜 - Google Patents
多層干渉膜Info
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- JPH0820569B2 JPH0820569B2 JP61149015A JP14901586A JPH0820569B2 JP H0820569 B2 JPH0820569 B2 JP H0820569B2 JP 61149015 A JP61149015 A JP 61149015A JP 14901586 A JP14901586 A JP 14901586A JP H0820569 B2 JPH0820569 B2 JP H0820569B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、特定波長の光を選択的に透過あるいは反
射する多層干渉膜に関する。
射する多層干渉膜に関する。
従来、水銀灯等のHID光源を用いた照明器具や、紫外
線硬化装置に用いられる高出力の紫外線ランプ等におい
ては、ランプから放射される不必要な熱線や紫外線等に
よって、被照射物が損傷を受けたり、使用者がこの熱に
よって不快感を感じると言う難点があった。
線硬化装置に用いられる高出力の紫外線ランプ等におい
ては、ランプから放射される不必要な熱線や紫外線等に
よって、被照射物が損傷を受けたり、使用者がこの熱に
よって不快感を感じると言う難点があった。
たとえば、紫外線硬化装置に用いられる紫外線ランプ
では、第６図にみるように、紫外線ランプ５の後ろ側に
アルミ板等の反射板４を置いて、被照射物への紫外線照
射の効率を高めているが、同時に熱線も被照射物に照射
されるため、被照射物が熱損傷する恐れがある。
では、第６図にみるように、紫外線ランプ５の後ろ側に
アルミ板等の反射板４を置いて、被照射物への紫外線照
射の効率を高めているが、同時に熱線も被照射物に照射
されるため、被照射物が熱損傷する恐れがある。
そこで、被照射物の損傷や熱による不快間を防ぐた
め、第８図にみるような多層干渉膜１′によって、不必
要な熱線や紫外線を取り除くことが行われている。この
多層干渉膜１′は、基板２表面に、屈折率の大きい物質
からなる光の波長程度の厚みのλ/4膜Ｈと屈折率の小さ
い物質からなる光の波長程度の厚みのλ/4膜Ｌとを交互
に形成してなるもので、各λ/4膜中における光の干渉を
利用して、特定の波長の光のみを選択的に透過あるいは
反射しようとするものである。
め、第８図にみるような多層干渉膜１′によって、不必
要な熱線や紫外線を取り除くことが行われている。この
多層干渉膜１′は、基板２表面に、屈折率の大きい物質
からなる光の波長程度の厚みのλ/4膜Ｈと屈折率の小さ
い物質からなる光の波長程度の厚みのλ/4膜Ｌとを交互
に形成してなるもので、各λ/4膜中における光の干渉を
利用して、特定の波長の光のみを選択的に透過あるいは
反射しようとするものである。
このような多層干渉膜１′を、前述した紫外線硬化装
置に使用する場合には、たとえば、第７図（ａ）にみる
ように、アルミ板にかわって、反射板４として使用する
ことができる。その場合には、この多層干渉膜１′は、
第９図にみるように、熱線および可視光線は透過する
が、紫外線は反射する、いわゆる、コールドミラーとし
て使用される。このようなコールドミラーでは、紫外線
は、多層干渉膜１′によって反射されて被照射物に到達
するが、熱線および可視光線は多層干渉膜１′を透過し
て、除去されてしまうため、被照射物には到達しない。
したがって、被照射物が熱損傷する恐れがなくなるので
ある。
置に使用する場合には、たとえば、第７図（ａ）にみる
ように、アルミ板にかわって、反射板４として使用する
ことができる。その場合には、この多層干渉膜１′は、
第９図にみるように、熱線および可視光線は透過する
が、紫外線は反射する、いわゆる、コールドミラーとし
て使用される。このようなコールドミラーでは、紫外線
は、多層干渉膜１′によって反射されて被照射物に到達
するが、熱線および可視光線は多層干渉膜１′を透過し
て、除去されてしまうため、被照射物には到達しない。
したがって、被照射物が熱損傷する恐れがなくなるので
ある。
多層干渉膜１′は、また、第７図（ｂ）にみるよう
に、紫外線硬化装置の紫外線ランプ５の前面に置かれる
フィルタ６として使用することもできる。その場合に
は、この多層干渉膜１′は第10図にみるように、熱線お
よび可視光線は反射するが、紫外線は透過するものであ
る必要がある。このようなフィルタ６を紫外線ランプ５
の前面に配置すると、紫外線ランプ５より発生し、直接
に、あるいは、反射板４によって集められた光のうち、
熱線および可視光線の成分が、このフィルタ６によって
反射されて除去され、紫外線のみが被照射物に到達す
る。したがって、やはり、被照射物が熱損傷する恐れが
なくなるのである。
に、紫外線硬化装置の紫外線ランプ５の前面に置かれる
フィルタ６として使用することもできる。その場合に
は、この多層干渉膜１′は第10図にみるように、熱線お
よび可視光線は反射するが、紫外線は透過するものであ
る必要がある。このようなフィルタ６を紫外線ランプ５
の前面に配置すると、紫外線ランプ５より発生し、直接
に、あるいは、反射板４によって集められた光のうち、
熱線および可視光線の成分が、このフィルタ６によって
反射されて除去され、紫外線のみが被照射物に到達す
る。したがって、やはり、被照射物が熱損傷する恐れが
なくなるのである。
また、この多層干渉膜１′を、前述した紫外線硬化装
置以外の用途に使用する場合には、それに応じた、すな
わち、除去したい波長の光を除去することができる多層
干渉膜１′を作製すればよい。
置以外の用途に使用する場合には、それに応じた、すな
わち、除去したい波長の光を除去することができる多層
干渉膜１′を作製すればよい。
たとえば、前述した水銀灯等のHIDランプにおいて、
熱による不快感を防ぐためには、熱線のみを反射し、そ
れ以外の波長の光を透過するフィルタとするか、逆に、
熱線のみを透過し、それ以外の光を反射するコールドミ
ラーとして、この多層干渉膜１′を作製すればよい。ま
た、紫外線による被照射物の損傷を防ぐためには、紫外
線のみを反射するフィルタか、逆に、紫外線のみを透過
する反射鏡として、この多層干渉膜１′を作製すればよ
いのである。
熱による不快感を防ぐためには、熱線のみを反射し、そ
れ以外の波長の光を透過するフィルタとするか、逆に、
熱線のみを透過し、それ以外の光を反射するコールドミ
ラーとして、この多層干渉膜１′を作製すればよい。ま
た、紫外線による被照射物の損傷を防ぐためには、紫外
線のみを反射するフィルタか、逆に、紫外線のみを透過
する反射鏡として、この多層干渉膜１′を作製すればよ
いのである。
以上のように、多層干渉膜１′を使用すれば、不必要
な熱線や紫外線等を除去することができるのであるが、
このような多層干渉膜１′は、長期間使用すると、その
表面に、雰囲気中の浮遊物（主に有機物質）が汚れとし
て付着し、反射あるいは透過の効率が低下する、と言う
問題がある。たとえば、使用する雰囲気にもよるが、紫
外線硬化装置で１年間使用すると、20〜50％も効率が低
下してしまう場合もある。このため、このような多層干
渉膜１′を使用するにあたっては、必要に応じて、表面
の清掃を行う必要があるが、特に有機物の汚れは、λ/4
膜表面に焼き付いてしまうため、容易に取り除くことが
できない。
な熱線や紫外線等を除去することができるのであるが、
このような多層干渉膜１′は、長期間使用すると、その
表面に、雰囲気中の浮遊物（主に有機物質）が汚れとし
て付着し、反射あるいは透過の効率が低下する、と言う
問題がある。たとえば、使用する雰囲気にもよるが、紫
外線硬化装置で１年間使用すると、20〜50％も効率が低
下してしまう場合もある。このため、このような多層干
渉膜１′を使用するにあたっては、必要に応じて、表面
の清掃を行う必要があるが、特に有機物の汚れは、λ/4
膜表面に焼き付いてしまうため、容易に取り除くことが
できない。
この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであっ
て、初期の反射あるいは透過効率を長期間に渡って維持
することができる多層干渉膜を提供することを目的とし
ている。
て、初期の反射あるいは透過効率を長期間に渡って維持
することができる多層干渉膜を提供することを目的とし
ている。
以上の目的を達成するため、この発明は、基板表面に
屈折率の大きいλ/4膜と屈折率の小さいλ/4膜とが交互
に積層形成され、その最上層に、透明な光触媒層が形成
されていることを特徴とする多層干渉膜を要旨としてい
る。
屈折率の大きいλ/4膜と屈折率の小さいλ/4膜とが交互
に積層形成され、その最上層に、透明な光触媒層が形成
されていることを特徴とする多層干渉膜を要旨としてい
る。
以下に、この発明を、その一実施例をあらわす図面を
参照しつつ、詳しく説明する。
参照しつつ、詳しく説明する。
第１図にみるように、この発明の多層干渉膜１は、基
板２表面に、屈折率の大きいλ/4膜Ｈと、屈折率の小さ
いλ/4膜Ｌとを交互に積層形成している点では、従来の
ものとかわらない。
板２表面に、屈折率の大きいλ/4膜Ｈと、屈折率の小さ
いλ/4膜Ｌとを交互に積層形成している点では、従来の
ものとかわらない。
各λ/4膜H,Lの材料としても従来と同様の化合物を使
用することができる。たとえば、屈折率の大きいλ/4膜
Ｈとしては、TiO2,CeO2,ZrO2,ZnS等の、屈折率ｎが2.0
〜2.6程度の高屈折率物質による薄膜が挙げられる。ま
た、屈折率の小さいλ/4膜Ｌとしては、CaF2,MgF2,Si
O2,Al2O3等の、屈折率ｎが1.3〜1.6程度の低屈折率物質
による薄膜が挙げられる。そして、以上のような化合物
の組み合わせおよび各λ/4膜H,Lの膜厚を選んでやれ
ば、必要とする波長の光を反射あるいは透過させること
ができるようになる。
用することができる。たとえば、屈折率の大きいλ/4膜
Ｈとしては、TiO2,CeO2,ZrO2,ZnS等の、屈折率ｎが2.0
〜2.6程度の高屈折率物質による薄膜が挙げられる。ま
た、屈折率の小さいλ/4膜Ｌとしては、CaF2,MgF2,Si
O2,Al2O3等の、屈折率ｎが1.3〜1.6程度の低屈折率物質
による薄膜が挙げられる。そして、以上のような化合物
の組み合わせおよび各λ/4膜H,Lの膜厚を選んでやれ
ば、必要とする波長の光を反射あるいは透過させること
ができるようになる。
以上のような各λ/4膜H,Lを形成する方法も、通常と
同様の方法によることができる。たとえば、抵抗加熱に
よる真空蒸着法，電子銃による電子ビーム蒸着法，スパ
ッタリング法，イオンプレーティング法等を使用するこ
とができるのである。また、以上のような方法によって
λ/4膜H,Lを形成するにあたり、基板を室温以上に加熱
するようであってもよい。一般に、基板温度が高ければ
高い程、形成される薄膜の硬度は高く、その耐久性も向
上するからである。しかしながら、あまり基板温度が高
すぎると、作業性，生産性等が悪くなる恐れがある。し
たがって、基板温度は、室温〜350℃程度であることが
好ましい。
同様の方法によることができる。たとえば、抵抗加熱に
よる真空蒸着法，電子銃による電子ビーム蒸着法，スパ
ッタリング法，イオンプレーティング法等を使用するこ
とができるのである。また、以上のような方法によって
λ/4膜H,Lを形成するにあたり、基板を室温以上に加熱
するようであってもよい。一般に、基板温度が高ければ
高い程、形成される薄膜の硬度は高く、その耐久性も向
上するからである。しかしながら、あまり基板温度が高
すぎると、作業性，生産性等が悪くなる恐れがある。し
たがって、基板温度は、室温〜350℃程度であることが
好ましい。
以上のようにして積層形成された複数のλ/4膜H,L,…
の最上層に、透明な光触媒層３が形成されることで、こ
の発明は構成されている。
の最上層に、透明な光触媒層３が形成されることで、こ
の発明は構成されている。
光触媒層３に使用される化合物としては、TiO2,Fe
2O3,In2O3およびWO3からなる群より選ばれた少なくとも
１つの化合物が用いられる。
2O3,In2O3およびWO3からなる群より選ばれた少なくとも
１つの化合物が用いられる。
このような材料からなる光触媒層３は、先のλ/4膜と
同様の方法によって形成することができる。すなわち、
抵抗加熱による真空蒸着法，電子銃による電子ビーム蒸
着法，スパッタリング法，イオンプレーティング法等を
使用することができるのである。また、この発明では、
スプレー法あるいは浸漬法等の方法で、前記化合物中の
金属（Ti,Fe,In,W等）を含む有機金属化合物溶液を、積
層されたλ/4層H,Lの表面に塗布し、乾燥したあと、そ
れを高温で焼き付けることによって、光触媒層３を形成
することもできる。
同様の方法によって形成することができる。すなわち、
抵抗加熱による真空蒸着法，電子銃による電子ビーム蒸
着法，スパッタリング法，イオンプレーティング法等を
使用することができるのである。また、この発明では、
スプレー法あるいは浸漬法等の方法で、前記化合物中の
金属（Ti,Fe,In,W等）を含む有機金属化合物溶液を、積
層されたλ/4層H,Lの表面に塗布し、乾燥したあと、そ
れを高温で焼き付けることによって、光触媒層３を形成
することもできる。
以上のような方法で形成される光触媒層３の膜厚は0.
5〜５μｍである。なぜなら、光触媒層３の膜厚が0.5μ
ｍ未満では、その触媒効果が充分でなく、また、λ/4膜
の膜厚に近づくため、光触媒層３とλ/4膜との間で干渉
が発生して、選択的に反射，透過できる光の波長が変化
してしまう恐れがある。また、逆に、光触媒層３の膜厚
が５μｍを越えると、場合によっては、その透明性が著
しく低下する恐れがあり、透明性が低下しない場合であ
っても、５μｍ以下の膜厚の場合と触媒効果が余り変わ
らない傾向があるからである。
5〜５μｍである。なぜなら、光触媒層３の膜厚が0.5μ
ｍ未満では、その触媒効果が充分でなく、また、λ/4膜
の膜厚に近づくため、光触媒層３とλ/4膜との間で干渉
が発生して、選択的に反射，透過できる光の波長が変化
してしまう恐れがある。また、逆に、光触媒層３の膜厚
が５μｍを越えると、場合によっては、その透明性が著
しく低下する恐れがあり、透明性が低下しない場合であ
っても、５μｍ以下の膜厚の場合と触媒効果が余り変わ
らない傾向があるからである。
以上のような光触媒層３には、さらに、Pt,Pd,Rhおよ
びIrよりなる群から選ばれた少なくとも１つの金属を担
持させるようであってもよい。このような金属は、付着
した汚れを分解する触媒として働くものであって、それ
を光触媒層３に担持させることにより、汚れの除去作用
をより活発に行わせることができるようになるのであ
る。このような金属を光触媒層３に担持させる方法は、
この発明では、特に限定されないが、たとえば、以下の
ような方法を用いることができる。すなわち、前記金属
の可溶性塩を水溶液とし、それに前記光触媒層３が形成
された多層干渉膜１を浸漬して、前記可溶性塩を光触媒
層３に染み込ませる。そのあと、これに、紫外線等を照
射して可溶性塩を分解し、光触媒層３中に、前記金属を
担持させるのである。なお、以上のようにして担持させ
る金属の量も、この発明では特に限定されないが、光触
媒層に対して、0.1〜２％の金属を担持させることが好
ましい。なぜなら、担持量が0.1％未満では、担持させ
る効果が充分に得られず、２％を越えると、光触媒層３
の透明性が低下してしまう恐れがあるからである。
びIrよりなる群から選ばれた少なくとも１つの金属を担
持させるようであってもよい。このような金属は、付着
した汚れを分解する触媒として働くものであって、それ
を光触媒層３に担持させることにより、汚れの除去作用
をより活発に行わせることができるようになるのであ
る。このような金属を光触媒層３に担持させる方法は、
この発明では、特に限定されないが、たとえば、以下の
ような方法を用いることができる。すなわち、前記金属
の可溶性塩を水溶液とし、それに前記光触媒層３が形成
された多層干渉膜１を浸漬して、前記可溶性塩を光触媒
層３に染み込ませる。そのあと、これに、紫外線等を照
射して可溶性塩を分解し、光触媒層３中に、前記金属を
担持させるのである。なお、以上のようにして担持させ
る金属の量も、この発明では特に限定されないが、光触
媒層に対して、0.1〜２％の金属を担持させることが好
ましい。なぜなら、担持量が0.1％未満では、担持させ
る効果が充分に得られず、２％を越えると、光触媒層３
の透明性が低下してしまう恐れがあるからである。
以上のように、基板２表面に屈折率の大きいλ/4膜Ｈ
と屈折率の小さいλ/4膜Ｌとが交互に積層形成され、そ
の最上層に、透明な光触媒層３が形成されてなる、この
発明の多層干渉膜１は、たとえば、第４図にみるよう
に、紫外線硬化装置の反射板４として使用することがで
きる。その場合には、この多層干渉膜１は、第２図にみ
るように、熱線は透過するが、それ以外の波長の光は反
射する、いわゆる、コールドミラーである必要がある。
このようなコールドミラーでは、紫外線ランプ５から出
た熱線以外の光は、多層干渉膜１によって反射されて被
照射物に到達するが、熱線は多層干渉膜１を透過して、
除去されてしまうため、被照射物には到達しない。した
がって、被照射物が熱損傷する恐れがなくなる。
と屈折率の小さいλ/4膜Ｌとが交互に積層形成され、そ
の最上層に、透明な光触媒層３が形成されてなる、この
発明の多層干渉膜１は、たとえば、第４図にみるよう
に、紫外線硬化装置の反射板４として使用することがで
きる。その場合には、この多層干渉膜１は、第２図にみ
るように、熱線は透過するが、それ以外の波長の光は反
射する、いわゆる、コールドミラーである必要がある。
このようなコールドミラーでは、紫外線ランプ５から出
た熱線以外の光は、多層干渉膜１によって反射されて被
照射物に到達するが、熱線は多層干渉膜１を透過して、
除去されてしまうため、被照射物には到達しない。した
がって、被照射物が熱損傷する恐れがなくなる。
また、この発明の多層干渉膜１は、第５図にみるよう
に、紫外線照射装置の紫外線ランプ５の前面に置かれる
フィルタ６として使用することもできる。その場合に
は、この多層干渉膜１は第３図にみるように、熱線およ
び可視光線は反射するが、紫外線は透過するものである
必要がある。このようなフィルタ６を紫外線ランプ５の
前面に配置すると、紫外線ランプ５より発生し、直接
に、あるいは、反射板４によって集められた光のうち、
熱線および可視光線の成分が、このフィルタ６によって
反射されて除去され、紫外線のみが被照射物に到達す
る。したがって、やはり、被照射物が熱損傷する恐れが
なくなる。
に、紫外線照射装置の紫外線ランプ５の前面に置かれる
フィルタ６として使用することもできる。その場合に
は、この多層干渉膜１は第３図にみるように、熱線およ
び可視光線は反射するが、紫外線は透過するものである
必要がある。このようなフィルタ６を紫外線ランプ５の
前面に配置すると、紫外線ランプ５より発生し、直接
に、あるいは、反射板４によって集められた光のうち、
熱線および可視光線の成分が、このフィルタ６によって
反射されて除去され、紫外線のみが被照射物に到達す
る。したがって、やはり、被照射物が熱損傷する恐れが
なくなる。
以上のように、反射板あるいはフィルタ等として使用
されるこの発明の多層干渉膜１においては、その最上層
に形成された光触媒層３表面に、雰囲気中の浮遊物（主
に有機物質）が汚れとして付着しても、それは、この光
触媒層３中のTiO2,Fe2O3,In2O3およびWO3等の金属化合
物や、Pt,Pd,RhおよびIr等の金属と、光源からの紫外線
との作用によって分解され除去される。したがって、こ
のような汚れが、光触媒層３表面に残ることはなく、そ
の表面を常に清潔に保つことができるようになる。
されるこの発明の多層干渉膜１においては、その最上層
に形成された光触媒層３表面に、雰囲気中の浮遊物（主
に有機物質）が汚れとして付着しても、それは、この光
触媒層３中のTiO2,Fe2O3,In2O3およびWO3等の金属化合
物や、Pt,Pd,RhおよびIr等の金属と、光源からの紫外線
との作用によって分解され除去される。したがって、こ
のような汚れが、光触媒層３表面に残ることはなく、そ
の表面を常に清潔に保つことができるようになる。
なお、この発明の多層干渉膜１が、以上のような紫外
線硬化装置以外の用途にも使用できることは、従来のも
のと同様である。
線硬化装置以外の用途にも使用できることは、従来のも
のと同様である。
たとえば、水銀灯等のHIDランプにおいて、熱による
不快感を防ぐためには、熱線のみを反射し、それ以外の
波長の光を透過するフィルタとするか、逆に、熱線のみ
を透過し、それ以外の光を反射するコールドミラーとし
て、この発明の多層干渉膜１を作製すればよい。また、
紫外線による被照射物の損傷を防ぐためには、紫外線の
みを反射するフィルタか、逆に、紫外線のみを透過する
反射鏡として、この発明の多層干渉膜１を作製すればよ
い。要するに、基板表面に屈折率の大きいλ/4膜と屈折
率の小さいλ/4膜とが交互に積層形成され、その最上層
に、透明な光触媒層が形成されているのであれば、その
他の構成は、特に限定されないのである。
不快感を防ぐためには、熱線のみを反射し、それ以外の
波長の光を透過するフィルタとするか、逆に、熱線のみ
を透過し、それ以外の光を反射するコールドミラーとし
て、この発明の多層干渉膜１を作製すればよい。また、
紫外線による被照射物の損傷を防ぐためには、紫外線の
みを反射するフィルタか、逆に、紫外線のみを透過する
反射鏡として、この発明の多層干渉膜１を作製すればよ
い。要するに、基板表面に屈折率の大きいλ/4膜と屈折
率の小さいλ/4膜とが交互に積層形成され、その最上層
に、透明な光触媒層が形成されているのであれば、その
他の構成は、特に限定されないのである。
つぎに、この発明の実施例について、比較例とあわせ
て説明する。
て説明する。
（実施例１） プレス成形された硬質ガラス基板を、１×10-4〜２×
10-5Torrの真空中で300℃に加熱しながら、電子ビーム
蒸着法により、屈折率が大きいλ/4膜である酸化チタン
（TiO2）と、屈折率が小さいλ/4膜であるフッ化マグネ
シウム（MgF2）とを交互に形成し、15層のλ/4膜を積層
した。つぎに、この15層のλ/4膜の最上層に、同じく、
電子ビーム蒸着法によって酸化チタン（TiO2）を蒸着
し、厚み1.0〜1.2μｍの光触媒層を積層し、表面に多層
干渉膜が形成されたコールドミラーを得た。得られたコ
ールドミラーは、可視光線（450〜750nm）の平均反射率
が93％、熱線（800〜2400nm）の平均透過率が82％であ
った。以上のようなコールドミラーをミニハロゲンラン
プスポットライトの反射板として使用したところ、1000
0時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆ど認めら
れず、また、平均反射率および平均透過率も殆ど変化し
なかった。
10-5Torrの真空中で300℃に加熱しながら、電子ビーム
蒸着法により、屈折率が大きいλ/4膜である酸化チタン
（TiO2）と、屈折率が小さいλ/4膜であるフッ化マグネ
シウム（MgF2）とを交互に形成し、15層のλ/4膜を積層
した。つぎに、この15層のλ/4膜の最上層に、同じく、
電子ビーム蒸着法によって酸化チタン（TiO2）を蒸着
し、厚み1.0〜1.2μｍの光触媒層を積層し、表面に多層
干渉膜が形成されたコールドミラーを得た。得られたコ
ールドミラーは、可視光線（450〜750nm）の平均反射率
が93％、熱線（800〜2400nm）の平均透過率が82％であ
った。以上のようなコールドミラーをミニハロゲンラン
プスポットライトの反射板として使用したところ、1000
0時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆ど認めら
れず、また、平均反射率および平均透過率も殆ど変化し
なかった。
（実施例２） 実施例１で得られた15層のλ/4膜を、テトライソプロ
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は１μｍであ
った。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラス
基板を、塩化白金水溶液に浸漬したあと、これに紫外線
を照射して、光触媒層に白金を担持させてコールドミラ
ーを得た。光触媒層への白金の担持量は、１％であっ
た。こうして得られたコールドミラーは、可視光線の平
均反射率が92％、熱線の平均透過率が80％であった。こ
のコールドミラーをミニハロゲンランプスポットライト
の反射板として使用したところ、先の実施例１と同様
に、10000時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆
ど認められず、また、平均反射率および平均透過率も殆
ど変化しなかった。
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は１μｍであ
った。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラス
基板を、塩化白金水溶液に浸漬したあと、これに紫外線
を照射して、光触媒層に白金を担持させてコールドミラ
ーを得た。光触媒層への白金の担持量は、１％であっ
た。こうして得られたコールドミラーは、可視光線の平
均反射率が92％、熱線の平均透過率が80％であった。こ
のコールドミラーをミニハロゲンランプスポットライト
の反射板として使用したところ、先の実施例１と同様
に、10000時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆
ど認められず、また、平均反射率および平均透過率も殆
ど変化しなかった。
（比較例１） 15層のλ/4膜最上層に、光触媒層を形成しなかった以
外は、実施例1,2と同様にして、コールドミラーを作製
した。得られたコールドミラーの製造直後の可視光線の
平均反射率は93％、熱線の平均透過率は82％であった。
このコールドミラーをミニハロゲンランプスポットライ
トの反射板として使用したところ、10000時間運転後に
は、その表面に、かなりの汚れが付着していることが観
察され、可視光線の平均反射率が80％に、また、熱線の
平均透過率が67％に低下していた。
外は、実施例1,2と同様にして、コールドミラーを作製
した。得られたコールドミラーの製造直後の可視光線の
平均反射率は93％、熱線の平均透過率は82％であった。
このコールドミラーをミニハロゲンランプスポットライ
トの反射板として使用したところ、10000時間運転後に
は、その表面に、かなりの汚れが付着していることが観
察され、可視光線の平均反射率が80％に、また、熱線の
平均透過率が67％に低下していた。
（実施例３） 熱曲げ成形によってパラボラ形に成形された硬質ガラ
ス基板を、１×10-4〜２×10-5Torrの真空中で300℃に
加熱しながら、電子ビーム蒸着法により、屈折率が大き
いλ/4膜である酸化チタン（TiO2）と、屈折率が小さい
λ/4膜である二酸化珪素（SiO2）とを交互に形成し、15
層のλ/4膜を積層した。つぎに、この15層のλ/4膜の最
上層に、同じく、電子ビーム蒸着法によって酸化インジ
ウム（In2O3）を蒸着し、厚み1.0〜1.2μｍの光触媒層
を積層し、第４図にみるように、表面に多層干渉膜が形
成されたコールドミラーを得た。得られたコールドミラ
ーは、紫外線（250〜400nm）の平均反射率が87％、可視
光線および熱線（450〜2400nm）の平均透過率が95％で
あった。以上のようなコールドミラーを紫外線硬化装置
の反射板として使用したところ、3000時間運転後も、そ
の表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反
射率および平均透過率も殆ど変化しなかった。
ス基板を、１×10-4〜２×10-5Torrの真空中で300℃に
加熱しながら、電子ビーム蒸着法により、屈折率が大き
いλ/4膜である酸化チタン（TiO2）と、屈折率が小さい
λ/4膜である二酸化珪素（SiO2）とを交互に形成し、15
層のλ/4膜を積層した。つぎに、この15層のλ/4膜の最
上層に、同じく、電子ビーム蒸着法によって酸化インジ
ウム（In2O3）を蒸着し、厚み1.0〜1.2μｍの光触媒層
を積層し、第４図にみるように、表面に多層干渉膜が形
成されたコールドミラーを得た。得られたコールドミラ
ーは、紫外線（250〜400nm）の平均反射率が87％、可視
光線および熱線（450〜2400nm）の平均透過率が95％で
あった。以上のようなコールドミラーを紫外線硬化装置
の反射板として使用したところ、3000時間運転後も、そ
の表面への汚れの付着は殆ど認められず、また、平均反
射率および平均透過率も殆ど変化しなかった。
（実施例４） 実施例３で得られた15層のλ/4膜を、テトライソプロ
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は1.2μｍで
あった。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラ
ス基板を、塩化パラジウム水溶液に浸漬したあと、これ
に紫外線を照射して、光触媒層にパラジウムを担持させ
てコールドミラーを得た。光触媒層へのパラジウムの担
持量は、0.5％であった。こうして得られたコールドミ
ラーは、紫外線の平均反射率が83％、可視光線および熱
線の平均透過率が90％であった。このコールドミラーを
紫外線硬化装置の反射板として使用したところ、先の実
施例３と同様に、3000時間運転後も、その表面への汚れ
の付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均
透過率も殆ど変化しなかった。
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は1.2μｍで
あった。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラ
ス基板を、塩化パラジウム水溶液に浸漬したあと、これ
に紫外線を照射して、光触媒層にパラジウムを担持させ
てコールドミラーを得た。光触媒層へのパラジウムの担
持量は、0.5％であった。こうして得られたコールドミ
ラーは、紫外線の平均反射率が83％、可視光線および熱
線の平均透過率が90％であった。このコールドミラーを
紫外線硬化装置の反射板として使用したところ、先の実
施例３と同様に、3000時間運転後も、その表面への汚れ
の付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均
透過率も殆ど変化しなかった。
（比較例２） 15層のλ/4膜最上層に、光触媒層を形成しなかった以
外は、実施例3,4と同様にして、コールドミラーを作製
した。得られたコールドミラーの製造直後の紫外線の平
均反射率は88％、可視光線および熱線の平均透過率は97
％であった。このコールドミラーを紫外線硬化装置の反
射板として使用したところ、3000時間運転後には、その
表面に、かなりの汚れが付着していることが観察され、
紫外線の平均反射率が75％に、また、可視光線および熱
線の平均透過率が70％に低下していた。
外は、実施例3,4と同様にして、コールドミラーを作製
した。得られたコールドミラーの製造直後の紫外線の平
均反射率は88％、可視光線および熱線の平均透過率は97
％であった。このコールドミラーを紫外線硬化装置の反
射板として使用したところ、3000時間運転後には、その
表面に、かなりの汚れが付着していることが観察され、
紫外線の平均反射率が75％に、また、可視光線および熱
線の平均透過率が70％に低下していた。
（実施例５） 硬質ガラス基板を、１×10-4〜２×10-5Torrの真空中
で300℃に加熱しながら、電子ビーム蒸着法により、屈
折率が大きいλ/4膜である酸化チタン（TiO2）と、屈折
率が小さいλ/4膜であるフッ化マグネシウム（MgF2）と
を交互に形成し、15層のλ/4膜を積層した。つぎに、こ
の15層のλ/4膜の最上層に、同じく、電子ビーム蒸着法
によって酸化チタン（TiO2）を蒸着し、厚み1.0〜1.2μ
ｍの光触媒層を積層し、表面に多層干渉膜が形成された
紫外線除去用のフィルタを得た。得られたフィルタは、
紫外線（250〜400nm）の平均反射率が93％、可視光線
（400〜800nm）の平均透過率が82％であった。以上のよ
うなフィルタをミニハロゲンランプスポットライトに使
用したところ、10000時間運転後も、その表面への汚れ
の付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均
透過率も殆ど変化しなかった。
で300℃に加熱しながら、電子ビーム蒸着法により、屈
折率が大きいλ/4膜である酸化チタン（TiO2）と、屈折
率が小さいλ/4膜であるフッ化マグネシウム（MgF2）と
を交互に形成し、15層のλ/4膜を積層した。つぎに、こ
の15層のλ/4膜の最上層に、同じく、電子ビーム蒸着法
によって酸化チタン（TiO2）を蒸着し、厚み1.0〜1.2μ
ｍの光触媒層を積層し、表面に多層干渉膜が形成された
紫外線除去用のフィルタを得た。得られたフィルタは、
紫外線（250〜400nm）の平均反射率が93％、可視光線
（400〜800nm）の平均透過率が82％であった。以上のよ
うなフィルタをミニハロゲンランプスポットライトに使
用したところ、10000時間運転後も、その表面への汚れ
の付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均
透過率も殆ど変化しなかった。
（実施例６） 実施例５で得られた15層のλ/4膜を、テトライソプロ
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は１μｍであ
った。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラス
基板を、塩化白金水溶液に浸漬したあと、これに紫外線
を照射して、光触媒層に白金を担持させて紫外線除去用
のフィルタを得た。光触媒層への白金の担持量は、１％
であった。こうして得られたフィルタは、紫外線の平均
反射率が92％、可視光線の平均透過率が80％であった。
このコールドミラーをミニハロゲンランプスポットライ
トに使用したところ、先の実施例５と同様に、10000時
間運転後も、その表面への汚れの付着は殆ど認められ
ず、また、平均反射率および平均透過率も殆ど変化しな
かった。
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は１μｍであ
った。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラス
基板を、塩化白金水溶液に浸漬したあと、これに紫外線
を照射して、光触媒層に白金を担持させて紫外線除去用
のフィルタを得た。光触媒層への白金の担持量は、１％
であった。こうして得られたフィルタは、紫外線の平均
反射率が92％、可視光線の平均透過率が80％であった。
このコールドミラーをミニハロゲンランプスポットライ
トに使用したところ、先の実施例５と同様に、10000時
間運転後も、その表面への汚れの付着は殆ど認められ
ず、また、平均反射率および平均透過率も殆ど変化しな
かった。
（比較例３） 15層のλ/4膜最上層に、光触媒層を形成しなかった以
外は、実施例5,6と同様にして、紫外線除去用のフィル
タを作製した。得られたフィルタの製造直後の紫外線の
平均反射率は93％、可視光線の平均透過率は82％であっ
た。このフィルタをミニハロゲンランプスポットライト
に使用したところ、10000時間運転後には、その表面
に、かなりの汚れが付着していることが観察され、紫外
線の平均反射率が80％に、また、可視光線の平均透過率
が67％に低下していた。
外は、実施例5,6と同様にして、紫外線除去用のフィル
タを作製した。得られたフィルタの製造直後の紫外線の
平均反射率は93％、可視光線の平均透過率は82％であっ
た。このフィルタをミニハロゲンランプスポットライト
に使用したところ、10000時間運転後には、その表面
に、かなりの汚れが付着していることが観察され、紫外
線の平均反射率が80％に、また、可視光線の平均透過率
が67％に低下していた。
（実施例７） 硬質ガラス基板を、１×10-4〜２×10-5Torrの真空中
で300℃に加熱しながら、電子ビーム蒸着法により、屈
折率が大きいλ/4膜である酸化チタン（TiO2）と、屈折
率が小さいλ/4膜である二酸化珪素（SiO2）とを交互に
形成し、15層のλ/4膜を積層した。つぎに、この15層の
λ/4膜の最上層に、同じく、電子ビーム蒸着法によって
酸化インジウム（In2O3）を蒸着し、厚み1.0〜1.2μｍ
の光触媒層を積層し、紫外線のみを透過するフィルタを
得た。得られたフィルタは、紫外線（250〜400nm）の平
均透過率が87％、可視光線および熱線（450〜2400nm）
の平均反射率が95％であった。以上のようなフィルタ
を、第５図にみるように、紫外線硬化装置に使用したと
ころ、3000時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆
ど認められず、また、平均反射率および平均透過率も殆
ど変化しなかった。
で300℃に加熱しながら、電子ビーム蒸着法により、屈
折率が大きいλ/4膜である酸化チタン（TiO2）と、屈折
率が小さいλ/4膜である二酸化珪素（SiO2）とを交互に
形成し、15層のλ/4膜を積層した。つぎに、この15層の
λ/4膜の最上層に、同じく、電子ビーム蒸着法によって
酸化インジウム（In2O3）を蒸着し、厚み1.0〜1.2μｍ
の光触媒層を積層し、紫外線のみを透過するフィルタを
得た。得られたフィルタは、紫外線（250〜400nm）の平
均透過率が87％、可視光線および熱線（450〜2400nm）
の平均反射率が95％であった。以上のようなフィルタ
を、第５図にみるように、紫外線硬化装置に使用したと
ころ、3000時間運転後も、その表面への汚れの付着は殆
ど認められず、また、平均反射率および平均透過率も殆
ど変化しなかった。
（実施例８） 実施例７で得られた15層のλ/4膜を、テトライソプロ
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は1.2μｍで
あった。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラ
ス基板を、塩化パラジウム水溶液に浸漬したあと、これ
に紫外線を照射して、光触媒層にパラジウムを担持させ
て紫外線のみを透過するフィルタを得た。光触媒層への
パラジウムの担持量は、0.5％であった。こうして得ら
れたフィルタは、紫外線の平均透過率が83％、可視光線
および熱線の平均反射率が90％であった。このフィルタ
を、先の実施例７と同様に、第５図の紫外線硬化装置に
使用したところ、3000時間運転後も、その表面への汚れ
の付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均
透過率も殆ど変化しなかった。
ポキシチタン〔Ti（Ｏ−iC3H7）４〕の５％エタノール
溶液に繰り返し浸漬，乾燥させたあと、500℃で30分間
焼付し、酸化チタンからなる光触媒層が形成された多層
干渉膜を得た。形成された光触媒層の膜厚は1.2μｍで
あった。つぎに、この多層干渉膜が形成された硬質ガラ
ス基板を、塩化パラジウム水溶液に浸漬したあと、これ
に紫外線を照射して、光触媒層にパラジウムを担持させ
て紫外線のみを透過するフィルタを得た。光触媒層への
パラジウムの担持量は、0.5％であった。こうして得ら
れたフィルタは、紫外線の平均透過率が83％、可視光線
および熱線の平均反射率が90％であった。このフィルタ
を、先の実施例７と同様に、第５図の紫外線硬化装置に
使用したところ、3000時間運転後も、その表面への汚れ
の付着は殆ど認められず、また、平均反射率および平均
透過率も殆ど変化しなかった。
（比較例４） 15層のλ/4膜最上層に、光触媒層を形成しなかった以
外は、実施例7,8と同様にして、紫外線のみを透過する
フィルタを作製した。得られたフィルタの製造直後の紫
外線の平均透過率は88％、可視光線および熱線の平均反
射率は97％であった。このフィルタを第５図の紫外線硬
化装置に使用したところ、3000時間運転後には、その表
面に、かなりの汚れが付着していることが観察され、紫
外線の平均透過率が75％に、また、可視光線および熱線
の平均反射率が70％に低下していた。
外は、実施例7,8と同様にして、紫外線のみを透過する
フィルタを作製した。得られたフィルタの製造直後の紫
外線の平均透過率は88％、可視光線および熱線の平均反
射率は97％であった。このフィルタを第５図の紫外線硬
化装置に使用したところ、3000時間運転後には、その表
面に、かなりの汚れが付着していることが観察され、紫
外線の平均透過率が75％に、また、可視光線および熱線
の平均反射率が70％に低下していた。
この発明の多層干渉膜は、以上のようであり、基板表
面に屈折率の大きいλ/4膜と屈折率の小さいλ/4膜とが
交互に積層形成され、その最上層に、透明な光触媒層が
形成されているため、初期の反射あるいは透過効率を長
期間に渡って維持することができるようになっている。
面に屈折率の大きいλ/4膜と屈折率の小さいλ/4膜とが
交互に積層形成され、その最上層に、透明な光触媒層が
形成されているため、初期の反射あるいは透過効率を長
期間に渡って維持することができるようになっている。
第１図はこの発明の多層干渉膜の一実施例の構成を説明
する説明図、第２図はこの発明の多層干渉膜をコールド
ミラーとして使用する場合の光の波長と反射率ならびに
透過率の関係の一例をあらわすグラフ、第３図は同じく
フィルタとして使用する場合の光の波長と反射率ならび
に透過率の関係の一例をあらわすグラフ、第４図はこの
発明の多層干渉膜をコールドミラーとして使用する場合
の構成を説明する説明図、第５図はこの発明の多層干渉
膜をフィルタとして使用する場合の構成を説明する説明
図、第６図は従来の反射板を説明する説明図、第７図
（ａ），（ｂ）は従来の多層干渉膜をコールドミラーな
らびにフィルタとして使用する場合の構成を説明する説
明図、第８図は従来の多層干渉膜の構成を説明する説明
図、第９図は従来の多層干渉膜をコールドミラーとして
使用する場合の光の波長と反射率ならびに透過率の関係
の一例をあらわすグラフ、第10図は同じくフィルタとし
て使用する場合の光の波長と反射率ならびに透過率の関
係の一例をあらわすグラフである。 １……多層干渉膜、２……基板、３……光触媒層、Ｈ…
…屈折率の大きいλ/4膜、Ｌ……屈折率の小さいλ/4膜
する説明図、第２図はこの発明の多層干渉膜をコールド
ミラーとして使用する場合の光の波長と反射率ならびに
透過率の関係の一例をあらわすグラフ、第３図は同じく
フィルタとして使用する場合の光の波長と反射率ならび
に透過率の関係の一例をあらわすグラフ、第４図はこの
発明の多層干渉膜をコールドミラーとして使用する場合
の構成を説明する説明図、第５図はこの発明の多層干渉
膜をフィルタとして使用する場合の構成を説明する説明
図、第６図は従来の反射板を説明する説明図、第７図
（ａ），（ｂ）は従来の多層干渉膜をコールドミラーな
らびにフィルタとして使用する場合の構成を説明する説
明図、第８図は従来の多層干渉膜の構成を説明する説明
図、第９図は従来の多層干渉膜をコールドミラーとして
使用する場合の光の波長と反射率ならびに透過率の関係
の一例をあらわすグラフ、第10図は同じくフィルタとし
て使用する場合の光の波長と反射率ならびに透過率の関
係の一例をあらわすグラフである。 １……多層干渉膜、２……基板、３……光触媒層、Ｈ…
…屈折率の大きいλ/4膜、Ｌ……屈折率の小さいλ/4膜
Claims (4)
- 【請求項１】基板表面に屈折率の大きいλ/4膜と屈折率
の小さいλ/4膜とが交互に積層形成され、その最上層
に、TiO2,Fe2O3,In2O3およびWO3からなる群から選ばれ
た少なくとも１つであり、その膜厚がλ/4膜よりも厚く
0.5〜５μｍである透明な光触媒層が形成されているこ
とを特徴とする多層干渉膜。 - 【請求項２】光触媒層に、Pt,Pd,RhおよびIrよりなる群
から選ばれた少なくとも１つの金属が担持されている特
許請求の範囲第１項記載の多層干渉膜。 - 【請求項３】熱線を透過し、それ以外の波長の光を反射
するコールドミラーに用いられる特許請求の範囲第１項
または第２項に記載の多層干渉膜。 - 【請求項４】必要外の波長の光をカットするフィルタに
用いられる特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
多層干渉膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61149015A JPH0820569B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 多層干渉膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61149015A JPH0820569B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 多層干渉膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635304A JPS635304A (ja) | 1988-01-11 |
| JPH0820569B2 true JPH0820569B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=15465808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61149015A Expired - Fee Related JPH0820569B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 多層干渉膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0820569B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2724563B2 (ja) * | 1990-01-14 | 1998-03-09 | 株式会社堀場製作所 | 多層膜干渉フィルタ |
| JPH04267202A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-22 | Horiba Ltd | 多層膜干渉フィルタ |
| US6387844B1 (en) | 1994-10-31 | 2002-05-14 | Akira Fujishima | Titanium dioxide photocatalyst |
| JP3491382B2 (ja) * | 1995-04-21 | 2004-01-26 | 東芝ライテック株式会社 | 蛍光ランプおよび照明器具 |
| CZ297518B6 (cs) * | 1995-09-15 | 2007-01-03 | Rhodia Chimie | Podklad opatřený povlakem, majícím fotokatalytické vlastnosti, zasklívací materiál obsahující uvedený podklad, použití uvedeného podkladu, způsob výroby tohoto podkladu, disperze protento způsob a použití této disperze při uved |
| FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| JP2006276773A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Kyocera Kinseki Corp | 赤外カットフィルタとそれを用いた光学ローパスフィルタ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59147304A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-23 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 耐環境性干渉膜フイルタ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49145642U (ja) * | 1973-04-16 | 1974-12-16 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP61149015A patent/JPH0820569B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59147304A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-23 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 耐環境性干渉膜フイルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS635304A (ja) | 1988-01-11 |
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