JPS632133A - 光学式情報記録担体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 探ｉ−木！ 本発明は、光学式情報記録担体の製造方法に関し、特に
フォトポリマを用いた転写層を形成する転写工程の改善
に関する。

背景技術 従来から、光学式情報記録担体として、第３図に示され
るように、透明の円形基板１の表面にブリアドレス、プ
リグループを担持した転写層２及び信号記録層３を順に
積層したものと、信号記録層３を内側にして内部空間４
を保つように保護板５とを環状スペーサ６を介して接着
した光ディスクが知られている。かかる透明の円形基板
１にはＰＭＭＡが用いられ、また、転写層２は、フォト
ポリマすなわち紫外線等の放射線で硬化する液状の紫外
線硬化樹脂を用いて形成されている。かかる従来の製造
方法における、円形基板（サブストレート）にフォトポ
リマによる転写層を設ける工程を以下の第４図及び第５
図の概略断面図に基づいて説明する。

第４図（ａ）ないしくｅ）は、かかる従来の光学式情報
記録担体の製造方法における転写工程を示している。こ
れらの図に示す従来の製造装置には、スタンパ１１を載
置するための水平部及び中央凹部を含むベース１２が備
えられている。また、ベース１２の中央凹部に設けられ
、かつベース２の水平面に対して垂直に上下動するセン
ターボールの端部上にはセンターボス１３が設けられて
いる。ベース１２は、センターボス１３の上下方向の中
心軸線がベース２及びこれに載置されるスタンパ１１の
中心部を通過するように位置合せされている。ベース１
２の水平部の上にはセンターボス１３の中心軸線にその
中心を位置あわせしたスタンパ１１がベース１２の中央
凹部を囲むように固定される。ＰＭＭＡ等からなる透明
円板基板であるサブストレート１４の内周部分に嵌合し
てサブストレート１４がＭ、置自在になるように、セン
ターボス１３の周囲にフランジ部が設けられている。ま
た、サブストレート１４はスタンパ１１に対して平行に
かつ上下に移動自在となっており、サブストレート１４
の内周は常にセンターボス１３によって上下に駆動され
るようになっている。

かかる従来の製造装置を用いて次の工程の如く光学式情
報記録担体を作成する。

先ず、第４図（ａ）に示す如く所定位置に固定されたス
タンパ１１上に塗布装置等によりフォトポリマ１５を供
給する。フォトポリマ１５は紫外線硬化樹脂を適宜な溶
液の形で用いる。その復、サブストレート１４とスタン
パ１１とが平行となるようにセンターボス１３の外周の
フランジ部にサブストレート１４を載置する。

次に、第４図（ｂ）に示す如くセンターボス１３を下降
させてサブストレート４をスタンパ１１上のフォトポリ
マ１５に接触させると、スタンパ１１と丈ブストレート
１４の間にてフォトポリマ１５が外周及び内周側部に向
かって順次広がって進んでゆく。ここで外周部から内周
側に向かって順次進んでゆくフォトポリマ１５は、サブ
ストレート１４とスタンパ１１との間に介在し消費され
転写すべきブリアドレス／プリグループ面の最内外周部
に達し、スタンパ１の最内外周部に吐出する。この工程
は、サブストレート４の強度、内部歪み等を考慮しベー
ス２の中央凹部及び外部の圧力制御をしつつ行なう。

次に、第４図（Ｃ）に示すように、サブストレート４の
内外周部とスタンバ１内周との間からオーバフローした
フォトポリマ５を吸引して排除するために、・例えば吸
引ニードル１６で内外周部に沿うようにして余剰フォト
ポリマを吸引する。吸引ニードル１６の他端は真空ポン
プ等に連通している。

次に、第４図（ｄ）に示すようにサブストレート４側か
ら紫外線等の光（矢印）を照射してサブストレート１４
とスタンパ１１との間のフォトポリマ１５を硬化させる
。

最後に、第４図（ｅ）に示すようにフォトポリマの硬化
後、センターボス１３を外しスタンパからサブストレー
ト４を剥離させればスタンパの所定形状を転写した硬化
フォトポリマの転写層を担持したサブストレート１４が
得られる。

この従来の転写工程の第４図（Ｃ）に示すフオ］・ポリ
マを吸引する工程では、未硬化フォトポリマを吸引する
力が十分でない場合に、余分なフォトポリマが残留して
しまうので、フォトポリマ硬化後に、第５図のサブスト
レートの内周部の拡大断面図に示すように、転写層２の
内外周に「ばり」２′が残ることになる。そのために、
完成後の光ディスクになんらかの衝撃が加わった場合、
その内部空間に「ばり」が欠落し、その破片が転写層２
の表面を傷付けるという問題が起こる。

また、かかるフォトポリマ吸引工程では未硬化フォトポ
リマを吸引する力が強すぎる場合に、フォトポリマが未
だ硬化しいていないために転写層になるべき周縁の７オ
トボリマも過剰に吸引される場合がある。こめ場合、フ
ォトポリマ硬化後に転写層の膜厚の均一性が保たれなか
ったり、その転写層周縁が不定形となる場合があった。

発明の概要 本発明は、上記のような従来の欠点を解消するためにな
されたものであり、均一な内周形状の転回層を担持する
サブストレートからなる光学式情報記録担体を製造する
方法を提供することを目的とする。

本発明の光学式情報記録担体の製造方法は、転写すべき
転写領域を担持するスタンバの主面上にフォトポリマを
供給する供給工程と、そのスタンバ上にフォトポリマを
介在させて被転写用の透明な円形基板を載置する載置工
程と、かかる円形基板上に少なくとも転写領域を露光さ
せる開口を有するマスクをｔ置するマスクキング工程と
、かかる円形基板上から紫外線を照射し転写領域上のフ
ォトポリマを硬化させる第１露光工程と、かかる転写領
域外の未硬化のフォトポリマを除去する工程と、かかる
円形基板上からマスクを取外し紫外線を照射しフォトポ
リマを硬化させ円形基板に定着させる第２露光工程と、
スタンバから円形基板を取外す剥離工程とを有すること
を特徴とする。

実　　施　　例 以下に、本発明の一実施例を添附図面に基づいて説明す
る。

第１図は、本実施例の光学式情報記録担体の製造方法の
転写工程における部分概略断面図である。

第１図及び第４図において同符号にて示されるものは同
一の構成要素を示す。従って、ここではかかる構成を説
明しない。また、フォトポリマ５の供給方法、サブスト
レート４の載置方法も従来方法と同一である。

本実施例の製造方法は、先ず、第４図（ａ）及び（ｂ）
にて説明した各工程を行う。この場合、第４図（ａ＞に
示す塗布工程において、塗布装置等によりスタンバ１１
上に供給するフォトポリマ１５の所定量は、サブストレ
ート１４上に転写層を均一に形成するスタンバ１１の転
写領域の最内外周縁にまで十分に行き渡りかつ溢れる吊
とする。

次に、第１図（ｂ）に示すごとく、転写工程として減圧
しつつセンターボス１３を下降させると、フォトポリマ
はサブストレート１４及びスタンバ１１間の全面に充填
され、かつスタンバの転写領域の内外周回りにオーバー
フローする。

フォトポリマの充填復、第１図（Ｃ）に示すごとく、サ
ブストレート１４上に少なくとも転写領域上のフォトポ
リマを露光させる開口を有するマスク１７を載置する。

このマスクキング工程では、石英ガラスに環状の光透過
部分を残して反射面を蒸着したマスク１７が用いられる
。

次に、第１図（ｄ）に示すごとく、サブストレート１４
上から紫外線（矢印）を照射し、スタンバ１１の転写領
域上のフォトポリマ１５のみを硬化させる。ここで、第
２図の拡大断面図に示すように多少の紫外線の回り込み
があり、マスキングされた余剰部分フォトポリマも幾分
硬化するが、次工程にてその残留部分１５′は吸引され
る。

次に、第１図（ｅ）に示すごとく、サブストレート１４
の下降を続は内外周回りにオーバーフローしている未硬
化のフォトポリマ１５′を吸引ニードル１６により吸引
する。

次に、第１図（ｆ）に示すごとく、サブストレート１４
上からマスクを取外し紫外線（矢印）を再び照射し、な
お残留するフォトポリマを硬化させサブストレート１４
に定着させる。

次に、第１図（Ｑ）に示すごとく、サブストレート１４
をスタンバから剥離する。このようにして、硬化フォト
ポリマの転写層の内外周部がサブストレート４の内周部
と同心円となって転写層の内周部が一様に均一化したサ
ブストレートが得られ、その後、かかるサブストレート
により所定の方法で光学式情報記録担体を作製する。

１肛五突ｊ 上述のように本発明によれば、光ディスクのサブストレ
ート上の硬化フォトポリマの転写層の内外周部における
「ばり」の発生が防止できる。それゆえに、環状スペー
サの接着領域が確保でき、さらには転写層の内周部が均
一化され、環状スペーサに近接して接着層が設（プるこ
とができる。従って、転写層に担持される信号記録層が
広くとれかつ内外周の寸法精度の高い光学式情報記録担
体が得られる。

また、従来のようにサブストレートの内周部におけるフ
ォトポリマの吐出に関するフォトボリマの煩雑な条件設
定は簡易化される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法を説明するための転写装置の
要部の概略断面図、第２図は本発明の製造方法の吸引工
程を説明する概略拡大所面図、第３図は光学式情報記録
担体の概略断面図、第４図は従来の製造工程を説明する
ための転写装置の要部の概略断面図、第５図は第４図（
ｅ）の円Ａの拡大断面図である。 主要部分の符号の説明 １１・・・・・・スタンバ １２・・・・・・ベース １３・・・・・・センターボス １４・・・・・・サブストレート １５・・・・・・フォトポリマ １６・・・・・・吸入ニードル １７・・・・・・マスク

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 転写すべき転写領域を担持するスタンパの主面上にフォ
   トポリマを供給する供給工程と、前記スタンパ上に前記
   フォトポリマを介在させて被転写用の透明な円形基板を
   載置する載置工程と、前記円形基板上に少なくとも前記
   転写領域を露光させる開口を有するマスクを載置するマ
   スクキング工程と、前記円形基板上から紫外線を照射し
   前記転写領域上のフォトポリマを硬化させる第１露光工
   程と、前記転写領域外の未硬化のフォトポリマを除去す
   る工程と、前記円形基板上からマスクを取外し紫外線を
   照射し前記フォトポリマを硬化させ前記円形基板に定着
   させる第２露光工程と、前記スタンパから前記円形基板
   を取外す剥離工程とを有することを特徴とする光学式情
   報記録担体の製造方法。