JPH04268224A - 光ディスクの製造方法およびそれに用いる製造装置 - Google Patents
光ディスクの製造方法およびそれに用いる製造装置Info
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- JPH04268224A JPH04268224A JP3301827A JP30182791A JPH04268224A JP H04268224 A JPH04268224 A JP H04268224A JP 3301827 A JP3301827 A JP 3301827A JP 30182791 A JP30182791 A JP 30182791A JP H04268224 A JPH04268224 A JP H04268224A
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
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- G—PHYSICS
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- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、基材の構造領域内に
対応する位置に光学的に読取可能な構造部を形成するこ
とにより光学的に読取可能なディスクすなわち光ディス
クを製造する方法であって、特には、原形構造部を有す
る成形型上で変形可能状態にある転写材の層の使用と、
前記基材の前記転写材層上への配置と、前記転写材層の
固化およびその転写材層の前記基材への接合と、前記成
形型からの前記基材とそれに付着した前記転写材層との
一緒の離型と、を含む光ディスクの製造方法と、その方
法の実施に用いる製造装置とに関するものである。
対応する位置に光学的に読取可能な構造部を形成するこ
とにより光学的に読取可能なディスクすなわち光ディス
クを製造する方法であって、特には、原形構造部を有す
る成形型上で変形可能状態にある転写材の層の使用と、
前記基材の前記転写材層上への配置と、前記転写材層の
固化およびその転写材層の前記基材への接合と、前記成
形型からの前記基材とそれに付着した前記転写材層との
一緒の離型と、を含む光ディスクの製造方法と、その方
法の実施に用いる製造装置とに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】上述の如き光ディスクの製造方法と、そ
の実施に用いる製造装置および成形型は従来、米国特許
第 ４，６７０，０７７号， 第 ４，８２７，４６９
号および第 ４，９１１，７７６号の三つの米国特許の
明細書によって既知とされており、これら既知の方法は
、例えば、サーボ制御情報が与えられたサーボトラック
を含む光学的に読取可能な情報構造部を有する書き込み
可能な光情報ディスクの製造に用いることができる。
の実施に用いる製造装置および成形型は従来、米国特許
第 ４，６７０，０７７号， 第 ４，８２７，４６９
号および第 ４，９１１，７７６号の三つの米国特許の
明細書によって既知とされており、これら既知の方法は
、例えば、サーボ制御情報が与えられたサーボトラック
を含む光学的に読取可能な情報構造部を有する書き込み
可能な光情報ディスクの製造に用いることができる。
【０００３】しかして、上記既知の製造方法は、基台上
に搭載された成形型を採用し、その成形型を転写材とし
ての透光性のある光硬化性樹脂で覆い、光硬化性樹脂を
硬化させた後、その光硬化性樹脂の層を透光性のある基
材とともに成形型から離型させるものであるが、この既
知の方法では、上記成形型用基台が、その中央部に、成
形型を正確に心出しする、すなわち成形型をその成形型
用基台との同心位置に正確に配置するための基台側心出
し手段を有し、また情報ディスクとして仕上げられた製
品がディスク駆動装置の駆動軸上で心出しされるよう、
成形型上に基材が配置される以前に、その基材の中央部
に、ディスク側心出し手段を有するハブ手段が設けられ
、そのハブ手段を有する基材を具える中間製品が、ハブ
手段のディスク側心出し手段と上記成形型用基台の基台
側心出し手段との共働によって、成形型用基台上に心出
しされて配置される。そしてその共働は、上記ディスク
のハブ手段の中央孔の壁面と上記基台の中央部の心出し
用凹部の壁面との両者に接触する補助的心出し手段の使
用によって達成される。
に搭載された成形型を採用し、その成形型を転写材とし
ての透光性のある光硬化性樹脂で覆い、光硬化性樹脂を
硬化させた後、その光硬化性樹脂の層を透光性のある基
材とともに成形型から離型させるものであるが、この既
知の方法では、上記成形型用基台が、その中央部に、成
形型を正確に心出しする、すなわち成形型をその成形型
用基台との同心位置に正確に配置するための基台側心出
し手段を有し、また情報ディスクとして仕上げられた製
品がディスク駆動装置の駆動軸上で心出しされるよう、
成形型上に基材が配置される以前に、その基材の中央部
に、ディスク側心出し手段を有するハブ手段が設けられ
、そのハブ手段を有する基材を具える中間製品が、ハブ
手段のディスク側心出し手段と上記成形型用基台の基台
側心出し手段との共働によって、成形型用基台上に心出
しされて配置される。そしてその共働は、上記ディスク
のハブ手段の中央孔の壁面と上記基台の中央部の心出し
用凹部の壁面との両者に接触する補助的心出し手段の使
用によって達成される。
【０００４】しかる後この方法では、上述の如くして基
材が成形型上に正確に心出しされた状態で上記転写材層
が固化され、上記基材とハブ手段とその固化した樹脂と
を具える中間製品が上記成形型から離型された後は、そ
の中間製品が一つの不可分のユニットを形成するので、
ディスクの情報構造部に対する上記ディスク側心出し手
段の心出しが堅固に維持される。
材が成形型上に正確に心出しされた状態で上記転写材層
が固化され、上記基材とハブ手段とその固化した樹脂と
を具える中間製品が上記成形型から離型された後は、そ
の中間製品が一つの不可分のユニットを形成するので、
ディスクの情報構造部に対する上記ディスク側心出し手
段の心出しが堅固に維持される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記既知
の製造方法は、中央孔および中央部のハブ手段を有する
基材を使用する場合にのみ適しており、このことは、そ
の製造方法が、中央孔は有するがハブは有しないディス
クや、後の工程でハブが装着される中央孔を有するディ
スクの製造には適さないことを意味している。さらに、
この既知の製造方法は、中央孔を有しない基材の使用に
も適していない。この一方上記既知の方法には、情報構
造部が基材の回転中心に対し高精度に心出しされるとい
う利点がある。しかもこの高精度の心出しは、基材にハ
ブを結合する前に基材毎に情報構造部の中心位置を計測
する必要なしに保証される。
の製造方法は、中央孔および中央部のハブ手段を有する
基材を使用する場合にのみ適しており、このことは、そ
の製造方法が、中央孔は有するがハブは有しないディス
クや、後の工程でハブが装着される中央孔を有するディ
スクの製造には適さないことを意味している。さらに、
この既知の製造方法は、中央孔を有しない基材の使用に
も適していない。この一方上記既知の方法には、情報構
造部が基材の回転中心に対し高精度に心出しされるとい
う利点がある。しかもこの高精度の心出しは、基材にハ
ブを結合する前に基材毎に情報構造部の中心位置を計測
する必要なしに保証される。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、従来技術の
利点を保持しつつ、様々な種類の基材、とりわけ、上記
既知の製造方法では適さない種類の基材に適合し得る光
ディスクの製造方法および、その実施のための装置を提
供することを目的とし、かかる目的達成のためこの発明
の製造方法は、前記基材が、移動可能な基材支持手段に
支持され、次いで前記基材支持手段の移動によって、前
記基材が、前記成形型上にある前記転写材の層上の、そ
の成形型との同心位置に配置され、次いで前記基材が、
前記成形型上の同心位置に固着され、その固着の後、前
記基材支持手段が前記基材を開放し、これとともに、前
記構造領域内に対応する位置の前記転写材の層の部分が
、前記固着状態下で固化されることを特徴としている。
利点を保持しつつ、様々な種類の基材、とりわけ、上記
既知の製造方法では適さない種類の基材に適合し得る光
ディスクの製造方法および、その実施のための装置を提
供することを目的とし、かかる目的達成のためこの発明
の製造方法は、前記基材が、移動可能な基材支持手段に
支持され、次いで前記基材支持手段の移動によって、前
記基材が、前記成形型上にある前記転写材の層上の、そ
の成形型との同心位置に配置され、次いで前記基材が、
前記成形型上の同心位置に固着され、その固着の後、前
記基材支持手段が前記基材を開放し、これとともに、前
記構造領域内に対応する位置の前記転写材の層の部分が
、前記固着状態下で固化されることを特徴としている。
【０００７】前記既知の方法と対比してこの発明の製造
方法は、基材とハブとを具える中間製品の側の心出し手
段と成形型側の心出し手段との直接的な共働を必要とせ
ず、それに代えて、成形型上の正確な同心位置に基材を
配置し得る移動可能な基材支持手段を使用することによ
り、基材を、成形型上のその同心位置に固着し、しかる
後、基材支持手段にその基材を開放させる。なお、その
後は所要に応じ、基材支持手段を以後の工程を妨げない
ように退去させても良い。
方法は、基材とハブとを具える中間製品の側の心出し手
段と成形型側の心出し手段との直接的な共働を必要とせ
ず、それに代えて、成形型上の正確な同心位置に基材を
配置し得る移動可能な基材支持手段を使用することによ
り、基材を、成形型上のその同心位置に固着し、しかる
後、基材支持手段にその基材を開放させる。なお、その
後は所要に応じ、基材支持手段を以後の工程を妨げない
ように退去させても良い。
【０００８】次にこの発明の極めて有利な一実施態様を
示すと、この実施態様の方法は、前記基材が、前記構造
領域以外に設定された範囲内に対応する位置の、前記転
写材の層の局部的に固化した部分を介して、前記成形型
に固着されることを特徴としている。かかる実施態様は
、基材はそれに固着された転写材層とともに勿論最終的
には成形型から離型され得るが、固化した転写材層と成
形型との間にもある程度の固着が得られる、という事実
を創作的に役立てたものであり、成形型への基材の固着
のために転写材層を部分的に固化させることにより、基
材を成形型へ固着する独立した手段が不要となるという
利点がある。またもう一つの重要な利点として、基材へ
の機械的な接触を行わずしてその固着が可能になるとい
う点があり、かかる機械的接触手段なしの固着により、
基材に加わる外力がなくなって、正確な心出しが乱され
るのを防止することができる。
示すと、この実施態様の方法は、前記基材が、前記構造
領域以外に設定された範囲内に対応する位置の、前記転
写材の層の局部的に固化した部分を介して、前記成形型
に固着されることを特徴としている。かかる実施態様は
、基材はそれに固着された転写材層とともに勿論最終的
には成形型から離型され得るが、固化した転写材層と成
形型との間にもある程度の固着が得られる、という事実
を創作的に役立てたものであり、成形型への基材の固着
のために転写材層を部分的に固化させることにより、基
材を成形型へ固着する独立した手段が不要となるという
利点がある。またもう一つの重要な利点として、基材へ
の機械的な接触を行わずしてその固着が可能になるとい
う点があり、かかる機械的接触手段なしの固着により、
基材に加わる外力がなくなって、正確な心出しが乱され
るのを防止することができる。
【０００９】また、この発明の極めて有利な他の一実施
態様を示すと、この実施態様の方法は、前記基材が透光
性のものであり、前記転写材が光硬化性樹脂からなり、
前記基材の前記成形型への固着および、前記構造領域内
に対応する位置の前記転写材層の部分の固化が、前記基
材を通した光線の照射によって行われることを特徴とし
ている。かかる実施態様は、光学的に読取可能なディス
クが多くの場合情報構造部を透光性の基材の片面に直接
設ける構成を採用するという理由から、多くの種類の光
学的に読み取り可能なディスクに適用可能である。
態様を示すと、この実施態様の方法は、前記基材が透光
性のものであり、前記転写材が光硬化性樹脂からなり、
前記基材の前記成形型への固着および、前記構造領域内
に対応する位置の前記転写材層の部分の固化が、前記基
材を通した光線の照射によって行われることを特徴とし
ている。かかる実施態様は、光学的に読取可能なディス
クが多くの場合情報構造部を透光性の基材の片面に直接
設ける構成を採用するという理由から、多くの種類の光
学的に読み取り可能なディスクに適用可能である。
【００１０】上記透光性の基材は、この発明の極めて有
利なさらに他の一実施態様により成形型に固着させても
良く、この実施態様の方法は、前記基材支持手段が光線
照射部を有し、前記基材が、前記光線照射部からの光線
の照射によって前記成形型に固着されることを特徴とす
るものである。そして、前記基材の前記成形型への固着
を、前記基材の中央部の環状の固着領域にて行えば、極
めて良好な結果が得られる。
利なさらに他の一実施態様により成形型に固着させても
良く、この実施態様の方法は、前記基材支持手段が光線
照射部を有し、前記基材が、前記光線照射部からの光線
の照射によって前記成形型に固着されることを特徴とす
るものである。そして、前記基材の前記成形型への固着
を、前記基材の中央部の環状の固着領域にて行えば、極
めて良好な結果が得られる。
【００１１】この一方この発明の製造方法によれば、仕
上げられた製品の心出し精度は、基材支持手段が成形型
上に基材を配置する際の位置決め精度に依存する。この
点に関するこの発明の極めて有利なさらに他の一実施態
様を示すと、この実施態様の方法は、狭い公差内に偏心
度が収まるような光ディスクを得るため、前記方法によ
る試作段階で、粗く心出しされた位置にて前記基材支持
手段に支持された前記基材を使用し、それにより製造し
た試作品の光学的に読取可能な情報構造部の、その回転
中心に対する偏心度を測定し、前記偏心度の測定値に基
づき前記基材支持手段の基材支持位置を修正する、とい
う方法を行うことを特徴としている。
上げられた製品の心出し精度は、基材支持手段が成形型
上に基材を配置する際の位置決め精度に依存する。この
点に関するこの発明の極めて有利なさらに他の一実施態
様を示すと、この実施態様の方法は、狭い公差内に偏心
度が収まるような光ディスクを得るため、前記方法によ
る試作段階で、粗く心出しされた位置にて前記基材支持
手段に支持された前記基材を使用し、それにより製造し
た試作品の光学的に読取可能な情報構造部の、その回転
中心に対する偏心度を測定し、前記偏心度の測定値に基
づき前記基材支持手段の基材支持位置を修正する、とい
う方法を行うことを特徴としている。
【００１２】当初の欄で示した従来の製造方法によれば
、仕上げられた製品の心出し精度は前記基台に対する成
形型の心出し精度によって決定される。それゆえ前記従
来方法は、成形型を基台に対して高精度に位置決めする
工程を含む。これに対し上記実施態様の製造方法では、
かかる成形型の高精度の位置決めは不要であり、より粗
い心出しで足りる。但し、新規の成形型を配置した後は
、繰り返し不要の、基材支持手段の基材支持位置精度修
正を行う必要があるが、この修正は上記した実施態様の
方法によって都合良く行うことができる。
、仕上げられた製品の心出し精度は前記基台に対する成
形型の心出し精度によって決定される。それゆえ前記従
来方法は、成形型を基台に対して高精度に位置決めする
工程を含む。これに対し上記実施態様の製造方法では、
かかる成形型の高精度の位置決めは不要であり、より粗
い心出しで足りる。但し、新規の成形型を配置した後は
、繰り返し不要の、基材支持手段の基材支持位置精度修
正を行う必要があるが、この修正は上記した実施態様の
方法によって都合良く行うことができる。
【００１３】この点に関するこの発明の極めて有利なさ
らに他の一実施態様を示すと、この実施態様の方法は、
前記転写材の層の固化の際、前記成形型が、前記基材が
搭載される以前に回転されて、正確に定められた初期周
方向位置に配備されることを特徴としている。成形型を
回転させることは、転写材層の均一な固化にために重要
であるだけでなく、例えば余分な樹脂を洗い落とす工程
等の、他の工程の実施に際し実質的な利点がある。しか
しながら成形型の回転の偏心は、製品の同心度に容認し
得ない大幅な低下をもたらすことがある。上述した実施
態様はかかる不具合の解決手段を提供するものであり、
この実施態様によれば、新たな基材が成形型上に載置さ
れる以前に、成形型が常に同一の初期周方向位置に配備
されるので、成形型の回転の偏心が、基材支持手段の基
材支持位置精度修正によって許容される。
らに他の一実施態様を示すと、この実施態様の方法は、
前記転写材の層の固化の際、前記成形型が、前記基材が
搭載される以前に回転されて、正確に定められた初期周
方向位置に配備されることを特徴としている。成形型を
回転させることは、転写材層の均一な固化にために重要
であるだけでなく、例えば余分な樹脂を洗い落とす工程
等の、他の工程の実施に際し実質的な利点がある。しか
しながら成形型の回転の偏心は、製品の同心度に容認し
得ない大幅な低下をもたらすことがある。上述した実施
態様はかかる不具合の解決手段を提供するものであり、
この実施態様によれば、新たな基材が成形型上に載置さ
れる以前に、成形型が常に同一の初期周方向位置に配備
されるので、成形型の回転の偏心が、基材支持手段の基
材支持位置精度修正によって許容される。
【００１４】この発明の極めて有利なさらに他の一実施
態様を示すと、この実施態様の方法は、前記成形型が前
記基材よりも大きい直径寸法を有し、前記基材がその片
側の全表面を前記転写材層によって被われることを特徴
としている。かかる方法を使用すれば、基材と転写材層
との結合体として転写材層側が完全に平坦なものが得ら
れ、このような結合体は、例えば両面が光学的に読取可
能であるような記録担体の形成等のために後の工程でそ
の基材が他の基材に接合される場合に、実質的な利点が
ある。
態様を示すと、この実施態様の方法は、前記成形型が前
記基材よりも大きい直径寸法を有し、前記基材がその片
側の全表面を前記転写材層によって被われることを特徴
としている。かかる方法を使用すれば、基材と転写材層
との結合体として転写材層側が完全に平坦なものが得ら
れ、このような結合体は、例えば両面が光学的に読取可
能であるような記録担体の形成等のために後の工程でそ
の基材が他の基材に接合される場合に、実質的な利点が
ある。
【００１５】ところで、一般に極めて繊細なものである
情報構造部を正確に転写するためには、低い粘度の転写
材の使用が必要であり、加えて、その転写材の層が基材
と成形型との間に均一に分配されることもまた重要であ
る。この点に関するこの発明の極めて有利なさらに他の
一実施態様を示すと、この実施態様の方法は、前記成形
型が、前記基材がその上に配置される以前に膨出形状と
され、前記基材が前記転写材層に押し付けられると同時
にその膨出の程度を減じられることを特徴としている。 かかる実施態様は、特に、ガラス基材の如き比較的硬い
基材が使用される場合に重要であり、この方法によれば
、転写材が、成形型の中央部上に供給され、その中央部
から基材の周辺部へ向かって半径方向へ移動され、半径
方向へも周方向へも均一に分配される。
情報構造部を正確に転写するためには、低い粘度の転写
材の使用が必要であり、加えて、その転写材の層が基材
と成形型との間に均一に分配されることもまた重要であ
る。この点に関するこの発明の極めて有利なさらに他の
一実施態様を示すと、この実施態様の方法は、前記成形
型が、前記基材がその上に配置される以前に膨出形状と
され、前記基材が前記転写材層に押し付けられると同時
にその膨出の程度を減じられることを特徴としている。 かかる実施態様は、特に、ガラス基材の如き比較的硬い
基材が使用される場合に重要であり、この方法によれば
、転写材が、成形型の中央部上に供給され、その中央部
から基材の周辺部へ向かって半径方向へ移動され、半径
方向へも周方向へも均一に分配される。
【００１６】この発明は、光ディスクの製造方法のみな
らず、基材の構造領域内に対応する位置に光学的に読取
可能な情報構造部を形成することにより光ディスクを製
造する装置であって、成形型を支持するための型支持手
段と、前記成形型上へ変形可能状態にある転写材を供給
するための転写材供給手段と、を具える装置にも関する
ものであり、この発明に基づく前記製造装置は、前記成
形型に対して移動可能であるとともに、前記基材の支持
のため、その基材を保持する基材保持手段を有する基材
支持手段と、前記基材支持手段を前記基材と一緒に前記
成形型に対して搬入出移動させるための搬入出移動手段
と、を具えることを特徴としている。そしてかかる装置
ではさらに、その成形型支持手段が、前記成形型を堅持
するための手段を有する回転可能なターンテーブルを具
えることを特徴とする実施態様がより好ましい。このよ
うな製造装置の利点については、この発明の製造方法と
の関連で既に記述してある。
らず、基材の構造領域内に対応する位置に光学的に読取
可能な情報構造部を形成することにより光ディスクを製
造する装置であって、成形型を支持するための型支持手
段と、前記成形型上へ変形可能状態にある転写材を供給
するための転写材供給手段と、を具える装置にも関する
ものであり、この発明に基づく前記製造装置は、前記成
形型に対して移動可能であるとともに、前記基材の支持
のため、その基材を保持する基材保持手段を有する基材
支持手段と、前記基材支持手段を前記基材と一緒に前記
成形型に対して搬入出移動させるための搬入出移動手段
と、を具えることを特徴としている。そしてかかる装置
ではさらに、その成形型支持手段が、前記成形型を堅持
するための手段を有する回転可能なターンテーブルを具
えることを特徴とする実施態様がより好ましい。このよ
うな製造装置の利点については、この発明の製造方法と
の関連で既に記述してある。
【００１７】既に述べたように、基材と成形型との間へ
の転写材の正確な分配は、満足できる品質の製品を得る
ために重要なことであり、それゆえ、この点に関するこ
の発明の極めて有利なさらに他の一実施態様を示すと、
この実施態様の装置は、前記成形型が、その成形表面よ
りも突出するように円錐状中央部材を貫通させる中央孔
を有することを特徴とするものであり、転写材は、その
円錐状中央部材の周囲に供給することができる。かかる
装置を使用する場合には、基材は前記円錐状中央部材が
その内側に嵌合し得る内径の中央孔を有するものである
べきであり、このような基材が搭載された後は、前記円
錐状中央部材とその基材の中央孔の周縁部との共働によ
って、余分な量の転写材の半径方向内方への移動が妨げ
られるため、前記転写材は、半径方向外方へ分配される
。
の転写材の正確な分配は、満足できる品質の製品を得る
ために重要なことであり、それゆえ、この点に関するこ
の発明の極めて有利なさらに他の一実施態様を示すと、
この実施態様の装置は、前記成形型が、その成形表面よ
りも突出するように円錐状中央部材を貫通させる中央孔
を有することを特徴とするものであり、転写材は、その
円錐状中央部材の周囲に供給することができる。かかる
装置を使用する場合には、基材は前記円錐状中央部材が
その内側に嵌合し得る内径の中央孔を有するものである
べきであり、このような基材が搭載された後は、前記円
錐状中央部材とその基材の中央孔の周縁部との共働によ
って、余分な量の転写材の半径方向内方への移動が妨げ
られるため、前記転写材は、半径方向外方へ分配される
。
【００１８】上記実施態様は、次の実施態様と極めて効
果的に結合され、この実施態様の装置は、圧縮空気によ
って前記成形型を膨出させるための空気圧供給手段を具
えることを特徴とするものである。なおここで、良好に
範囲を限定された半径方向外方への転写材の移動は、基
材を装着する際に、成形型を膨出状態から徐々に平坦な
状態に移行させることによって達成される。
果的に結合され、この実施態様の装置は、圧縮空気によ
って前記成形型を膨出させるための空気圧供給手段を具
えることを特徴とするものである。なおここで、良好に
範囲を限定された半径方向外方への転写材の移動は、基
材を装着する際に、成形型を膨出状態から徐々に平坦な
状態に移行させることによって達成される。
【００１９】また、製品の情報構造部の偏心度が小さく
なることを保証するためには、次の実施態様が適してお
り、この実施態様の装置は、前記ターンテーブルを正確
に再現可能な方法で前記初期周方向位置に配備するため
のターンテーブル位置決め手段を具えることを特徴とす
るものである。かかるターンテーブル位置決め手段には
、互いに異なるいくつかの種類があり、添付図面に示し
た実施態様におけるターンテーブル位置決め手段は、光
電子効果を用いる種類のものである。
なることを保証するためには、次の実施態様が適してお
り、この実施態様の装置は、前記ターンテーブルを正確
に再現可能な方法で前記初期周方向位置に配備するため
のターンテーブル位置決め手段を具えることを特徴とす
るものである。かかるターンテーブル位置決め手段には
、互いに異なるいくつかの種類があり、添付図面に示し
た実施態様におけるターンテーブル位置決め手段は、光
電子効果を用いる種類のものである。
【００２０】この発明の極めて有利なさらに他の一実施
態様を示すと、この実施態様の装置は、前記基材支持手
段に前記基材を負圧によって支持させるための負圧供給
手段を具えることを特徴としている。かかる実施態様の
利点は、例えば吸引パッドを使用することによって、支
持対象物の、平坦な面であればどの部位でも吸着保持し
得るという点にあり、かかる保持方法によって支持すれ
ば、対象物に生ずる応力は最小限に止まる。しかもこの
装置は、支持のための可動部材を必要とせず、対象物の
支持または開放のためには、負圧を供給するかまたはそ
の供給を止めれば足りる。それゆえかかる実施態様は、
以下の理由でこの発明の製造装置に極めて適している。 すなわち、光ディスクに用いられる基材は、重量が軽く
て平坦な支持対象物であり、しかも、あらかじめ正確に
規定されてはいない部位にて最小限の応力状態で保持さ
れるべきだからである。
態様を示すと、この実施態様の装置は、前記基材支持手
段に前記基材を負圧によって支持させるための負圧供給
手段を具えることを特徴としている。かかる実施態様の
利点は、例えば吸引パッドを使用することによって、支
持対象物の、平坦な面であればどの部位でも吸着保持し
得るという点にあり、かかる保持方法によって支持すれ
ば、対象物に生ずる応力は最小限に止まる。しかもこの
装置は、支持のための可動部材を必要とせず、対象物の
支持または開放のためには、負圧を供給するかまたはそ
の供給を止めれば足りる。それゆえかかる実施態様は、
以下の理由でこの発明の製造装置に極めて適している。 すなわち、光ディスクに用いられる基材は、重量が軽く
て平坦な支持対象物であり、しかも、あらかじめ正確に
規定されてはいない部位にて最小限の応力状態で保持さ
れるべきだからである。
【００２１】さらに、基材が透光性のものであり、かつ
転写材が光硬化性のものである場合に、基材を成形型へ
固着するために次の実施態様を使用することは、極めて
有利であり、この実施態様の装置は、前記移動可能な基
材支持手段が、前記基材を前記成形型に心出し状態で固
着するための光線照射源を内部に具えることを特徴とす
るものである。そしてかかる装置ではさらに、前記基材
支持手段が前記中央部の領域以外での固着を妨げるため
の遮光手段を具えることを特徴とする実施態様がより好
ましい。この実施態様によれば、前記中央部の固着領域
以外での転写材層の不都合な固化を有効に防止すること
ができる。
転写材が光硬化性のものである場合に、基材を成形型へ
固着するために次の実施態様を使用することは、極めて
有利であり、この実施態様の装置は、前記移動可能な基
材支持手段が、前記基材を前記成形型に心出し状態で固
着するための光線照射源を内部に具えることを特徴とす
るものである。そしてかかる装置ではさらに、前記基材
支持手段が前記中央部の領域以外での固着を妨げるため
の遮光手段を具えることを特徴とする実施態様がより好
ましい。この実施態様によれば、前記中央部の固着領域
以外での転写材層の不都合な固化を有効に防止すること
ができる。
【００２２】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図面に基づき詳
細に説明する。図１は、この発明の製造方法の一実施例
によって製造された光学的に読取可能なディスクすなわ
ち光ディスクの平面図、図２は、図１に示すディスクの
拡大断面図、そして、図３は、基材が成形型上に搭載さ
れた状態での図２に示すと同様のディスクの拡大断面図
をそれぞれ示しており、ここにおける光ディスク１は、
基材５の構造領域３内に対応する位置に光学的情報構造
部９を有し、さらに、図１中破線で示す境界を持つ環状
の固着領域８７によって囲繞された中央孔７を有してい
る。
細に説明する。図１は、この発明の製造方法の一実施例
によって製造された光学的に読取可能なディスクすなわ
ち光ディスクの平面図、図２は、図１に示すディスクの
拡大断面図、そして、図３は、基材が成形型上に搭載さ
れた状態での図２に示すと同様のディスクの拡大断面図
をそれぞれ示しており、ここにおける光ディスク１は、
基材５の構造領域３内に対応する位置に光学的情報構造
部９を有し、さらに、図１中破線で示す境界を持つ環状
の固着領域８７によって囲繞された中央孔７を有してい
る。
【００２３】図２にその一部を拡大断面で示す製品とし
ての上記光ディスク１は、透光性の基材５の層と、光学
的に読取可能な情報構造部９が設けられた透光性の転写
材１１の層と、反射層１０とを具えてなり、その反射層
１０の適用は、この発明の方法の範囲外に属する。かか
る反射層は、例えばスパッタリング等の既知の方法で設
けることができ、その製品が、オーディオディスクやビ
デオディスク等のあらかじめ情報が記録されたディスク
の製造を意図するものである場合は、最後の工程で反射
層１０に保護膜が設けられる。上記光ディスク１の他の
用途としては、適当な接着剤で二枚のディスクを背中合
わせに接合して、両面ディスクを得ることもできる。上
記光ディスク１のさらに他の用途としては、二枚のディ
スクを一体化していわゆるエアーサンドイッチ構造を構
成しても良く、この場合には、基材同士は内周部および
外周部のみで接合され、それらのディスクの反射層間に
は薄い空気層が内包される。
ての上記光ディスク１は、透光性の基材５の層と、光学
的に読取可能な情報構造部９が設けられた透光性の転写
材１１の層と、反射層１０とを具えてなり、その反射層
１０の適用は、この発明の方法の範囲外に属する。かか
る反射層は、例えばスパッタリング等の既知の方法で設
けることができ、その製品が、オーディオディスクやビ
デオディスク等のあらかじめ情報が記録されたディスク
の製造を意図するものである場合は、最後の工程で反射
層１０に保護膜が設けられる。上記光ディスク１の他の
用途としては、適当な接着剤で二枚のディスクを背中合
わせに接合して、両面ディスクを得ることもできる。上
記光ディスク１のさらに他の用途としては、二枚のディ
スクを一体化していわゆるエアーサンドイッチ構造を構
成しても良く、この場合には、基材同士は内周部および
外周部のみで接合され、それらのディスクの反射層間に
は薄い空気層が内包される。
【００２４】図３は、光学的に読取可能な情報構造部９
がどのようにして形成されるかを示しており、図示例で
は、基材５は透光性のものであり、その基材に沿って設
けられた転写材１１の層もまた透光性のものである。上
記情報構造部９は成形型１５の原形構造部１３から転写
され、この目的のため転写材１１の層は、その成形型１
５と基材５との間に変形可能な状態で適用された後に固
化状態に硬化される。固化後の転写材１１の層は、基材
５に堅固に固着される一方、成形型１５からは比較的容
易に離型することができる。ここで、成形型１５は、一
般に薄いニッケルの板からなり、電着等の既知の方法で
製造することができる。
がどのようにして形成されるかを示しており、図示例で
は、基材５は透光性のものであり、その基材に沿って設
けられた転写材１１の層もまた透光性のものである。上
記情報構造部９は成形型１５の原形構造部１３から転写
され、この目的のため転写材１１の層は、その成形型１
５と基材５との間に変形可能な状態で適用された後に固
化状態に硬化される。固化後の転写材１１の層は、基材
５に堅固に固着される一方、成形型１５からは比較的容
易に離型することができる。ここで、成形型１５は、一
般に薄いニッケルの板からなり、電着等の既知の方法で
製造することができる。
【００２５】図４〜図８は、上記硬化した転写材１１の
層を持つ基材５をもたらすこの発明の光ディスクの製造
装置の一実施例を示しており、この装置は、上記成形型
１５を支持する、型支持手段を構成する回転可能なター
ンテーブル１７を具えるとともに、成形型１５上へ変形
可能状態の転写材１１を供給するための、転写材供給手
段としての旋回可能な噴出口１９を具えている。この装
置はまた、基材支持手段としての基材支持機構２１を具
え、その基材支持機構２１は、成形型１５に対して移動
可能であるとともに、基材５の幾つかの部位を保持して
その基材を支持するための後述する基材保持手段を有し
ており、さらにこの装置は、上記基材支持機構２１を基
材５とともに成形型１５に対して搬入出移動させるため
の、後述する搬入出移動手段を有している。
層を持つ基材５をもたらすこの発明の光ディスクの製造
装置の一実施例を示しており、この装置は、上記成形型
１５を支持する、型支持手段を構成する回転可能なター
ンテーブル１７を具えるとともに、成形型１５上へ変形
可能状態の転写材１１を供給するための、転写材供給手
段としての旋回可能な噴出口１９を具えている。この装
置はまた、基材支持手段としての基材支持機構２１を具
え、その基材支持機構２１は、成形型１５に対して移動
可能であるとともに、基材５の幾つかの部位を保持して
その基材を支持するための後述する基材保持手段を有し
ており、さらにこの装置は、上記基材支持機構２１を基
材５とともに成形型１５に対して搬入出移動させるため
の、後述する搬入出移動手段を有している。
【００２６】ここで、上記ターンテーブル１７は、そこ
に上記成形型を堅持するための型堅持手段を有し、その
型堅持手段は、リング２８とそれを上記ターンテーブル
１７に固定する複数本のボルト２９とを具えてなり、そ
のリング２８は、成形型１５の外周部を、ターンテーブ
ル１７のリム部３１とそのターンテーブル１７上に設け
られたＯリングとへ押圧する。
に上記成形型を堅持するための型堅持手段を有し、その
型堅持手段は、リング２８とそれを上記ターンテーブル
１７に固定する複数本のボルト２９とを具えてなり、そ
のリング２８は、成形型１５の外周部を、ターンテーブ
ル１７のリム部３１とそのターンテーブル１７上に設け
られたＯリングとへ押圧する。
【００２７】また、成形型１５は、その成形表面よりも
突出するように円錐状中央部材３５を貫通固定させる中
央孔を有しており、この円錐状中央部材３５を設けた目
的は後述する。成形型１５上のかかる円錐状中央部材３
５の周囲には、上記噴出口１９によって転写材１１が積
み上げられる。
突出するように円錐状中央部材３５を貫通固定させる中
央孔を有しており、この円錐状中央部材３５を設けた目
的は後述する。成形型１５上のかかる円錐状中央部材３
５の周囲には、上記噴出口１９によって転写材１１が積
み上げられる。
【００２８】この製造装置にはさらに、空気圧供給手段
として、電気的に制御される空気圧バルブ３７と、空気
圧源３９と、空気圧回路４１と、ターンテーブル１７内
の空気通路４３とが設けられており、これらは特に、圧
縮空気によって図４，図５に示すように成形型１５を膨
出させる役割を果たす。この一方、ターンテーブル１７
と成形型１５との間の空間から圧縮空気を排出するため
のものとしては、排気通路４５が設けられており、上記
空気圧バルブ３７は、その排気通路４５を上記空気圧回
路４１に接続することができる。空気圧バルブ３７はま
た、空気圧回路４１を負圧源４７にも接続することがで
き、それゆえここでは、成形型１５を負圧によって、タ
ーンテーブル１７の表面へ向けてきつく引っ張ることが
でき、これにより、転写材層の平坦度を極めて良好なら
しめることができる。
として、電気的に制御される空気圧バルブ３７と、空気
圧源３９と、空気圧回路４１と、ターンテーブル１７内
の空気通路４３とが設けられており、これらは特に、圧
縮空気によって図４，図５に示すように成形型１５を膨
出させる役割を果たす。この一方、ターンテーブル１７
と成形型１５との間の空間から圧縮空気を排出するため
のものとしては、排気通路４５が設けられており、上記
空気圧バルブ３７は、その排気通路４５を上記空気圧回
路４１に接続することができる。空気圧バルブ３７はま
た、空気圧回路４１を負圧源４７にも接続することがで
き、それゆえここでは、成形型１５を負圧によって、タ
ーンテーブル１７の表面へ向けてきつく引っ張ることが
でき、これにより、転写材層の平坦度を極めて良好なら
しめることができる。
【００２９】ここにおける製造装置はまた、上記ターン
テーブル１７を正確に定められた初期周方向位置に配備
し得るようにするために適当なターンテーブル位置決め
手段として、光学ユニット４９およびディスク５１を具
えており、その光学ユニット４９は、フレーム５３内に
、空隙５９の両側にて互いに対向するよう光源５５と光
−電子変換セル５７とが配置されて構成されている。こ
の一方、ディスク５１は、ターンテーブル１７の中心軸
６１に固定されており、一つの切欠き部６３を有してい
る。このディスク５１は、その周辺部が上記光学ユニッ
ト４９の空隙５９内を通るように回転し、これによりこ
こでは上記切欠き部６３の位置を、充分高い精度で光学
的に検出することができる。
テーブル１７を正確に定められた初期周方向位置に配備
し得るようにするために適当なターンテーブル位置決め
手段として、光学ユニット４９およびディスク５１を具
えており、その光学ユニット４９は、フレーム５３内に
、空隙５９の両側にて互いに対向するよう光源５５と光
−電子変換セル５７とが配置されて構成されている。こ
の一方、ディスク５１は、ターンテーブル１７の中心軸
６１に固定されており、一つの切欠き部６３を有してい
る。このディスク５１は、その周辺部が上記光学ユニッ
ト４９の空隙５９内を通るように回転し、これによりこ
こでは上記切欠き部６３の位置を、充分高い精度で光学
的に検出することができる。
【００３０】ところで、上記基材支持機構２１の基材保
持手段は、同心に配置された二組の吸引パッド２３およ
び２５からなり、基材支持機構２１は、これらの吸引パ
ッド２３，２５と後述の負圧供給手段との共働により、
基材５の複数の部位を負圧で吸着保持することにて、そ
の基材５を支持することができる。ここで上記負圧供給
手段は、吸引パッド２３，２５内にそれぞれ接続された
、図４中破線で示す可撓性の負圧回路６５および６７と
、それらの負圧回路６５， ６７にそれぞれ接続された
、電気的に制御可能な負圧バルブ６９および７１と、そ
れらの負圧バルブ６９， ７１が直接的に接続された負
圧源７３とを具えてなり、ここでは二組の吸引パッド２
３，２５内を互いに独立して減圧できるように、負圧バ
ルブ６９， ７１が互いに独立して制御可能とされてい
る。
持手段は、同心に配置された二組の吸引パッド２３およ
び２５からなり、基材支持機構２１は、これらの吸引パ
ッド２３，２５と後述の負圧供給手段との共働により、
基材５の複数の部位を負圧で吸着保持することにて、そ
の基材５を支持することができる。ここで上記負圧供給
手段は、吸引パッド２３，２５内にそれぞれ接続された
、図４中破線で示す可撓性の負圧回路６５および６７と
、それらの負圧回路６５， ６７にそれぞれ接続された
、電気的に制御可能な負圧バルブ６９および７１と、そ
れらの負圧バルブ６９， ７１が直接的に接続された負
圧源７３とを具えてなり、ここでは二組の吸引パッド２
３，２５内を互いに独立して減圧できるように、負圧バ
ルブ６９， ７１が互いに独立して制御可能とされてい
る。
【００３１】この発明に基づく光ディスクの製造方法は
、上記実施例の製造装置によって、例えば以下に述べる
如くして実施することができる。
、上記実施例の製造装置によって、例えば以下に述べる
如くして実施することができる。
【００３２】この方法では、転写材１１が、変形可能な
状態、例えば液状の状態で、噴出口１９によって適当な
量だけ成形型１５の上面上に堆積される。またここでは
基材５はガラス製のものとされ、それゆえ比較的硬く、
わずかな可撓性しか持っていない。かかる条件の下で上
記転写材１１の適正かつ均一な分配を行うため、ここで
は成形型１５が、転写材１１の上記供給の前もしくは後
に、上記空気圧源３９からの圧縮空気によって図４に示
すように僅かに膨出した状態とされる。なお、以後さら
には詳述しないが上記方法に代えて、適当な樹脂製の、
もっと可撓性のある基材を、僅かに膨出させた状態で、
平坦な状態の成形型上に搭載しても良い。
状態、例えば液状の状態で、噴出口１９によって適当な
量だけ成形型１５の上面上に堆積される。またここでは
基材５はガラス製のものとされ、それゆえ比較的硬く、
わずかな可撓性しか持っていない。かかる条件の下で上
記転写材１１の適正かつ均一な分配を行うため、ここで
は成形型１５が、転写材１１の上記供給の前もしくは後
に、上記空気圧源３９からの圧縮空気によって図４に示
すように僅かに膨出した状態とされる。なお、以後さら
には詳述しないが上記方法に代えて、適当な樹脂製の、
もっと可撓性のある基材を、僅かに膨出させた状態で、
平坦な状態の成形型上に搭載しても良い。
【００３３】この一方ここでは、上記基材５が、吸引パ
ッド２３， ２５に保持されることにて基材支持機構２
１に支持されるが、その基材５の基材支持機構２１に対
する正確な心出しのため、基材支持機構２１は、軸線方
向へ移動可能な心出し用円錐状部材７５を具えており、
この心出し用円錐状部材７５は、圧縮スプリング８１に
より下方へ向けて付勢されているこれも軸線方向へ移動
可能なピン７９に結合されている。ここで、上記基材５
の基材支持機構２１に対する着脱は、通常、図４に示す
位置からある程度の距離を隔てた図示しない着脱位置で
行われ、先に記した搬入出移動手段は、その基材５の着
脱を行うとともにこの方法の以下に述べる残りの部分を
行い得るよう、詳細は図示しないが軸部材２７を含む通
常の種類の移動機構によって構成されている。この搬入
出移動手段はさらに腕部材８３と位置決め部材８５とを
含み、その位置決め部材８５は、基材支持機構２１が作
業位置に位置する際に、この装置の静止部分に設けられ
た位置決め凹部と正確に嵌合し、それと共働することに
て、作業位置への基材支持機構２１の確実な位置決めを
保証する。
ッド２３， ２５に保持されることにて基材支持機構２
１に支持されるが、その基材５の基材支持機構２１に対
する正確な心出しのため、基材支持機構２１は、軸線方
向へ移動可能な心出し用円錐状部材７５を具えており、
この心出し用円錐状部材７５は、圧縮スプリング８１に
より下方へ向けて付勢されているこれも軸線方向へ移動
可能なピン７９に結合されている。ここで、上記基材５
の基材支持機構２１に対する着脱は、通常、図４に示す
位置からある程度の距離を隔てた図示しない着脱位置で
行われ、先に記した搬入出移動手段は、その基材５の着
脱を行うとともにこの方法の以下に述べる残りの部分を
行い得るよう、詳細は図示しないが軸部材２７を含む通
常の種類の移動機構によって構成されている。この搬入
出移動手段はさらに腕部材８３と位置決め部材８５とを
含み、その位置決め部材８５は、基材支持機構２１が作
業位置に位置する際に、この装置の静止部分に設けられ
た位置決め凹部と正確に嵌合し、それと共働することに
て、作業位置への基材支持機構２１の確実な位置決めを
保証する。
【００３４】図４に示す基材支持機構２１は、上記着脱
位置から図示の位置に搬入移動されたものであるが、そ
の後、その支持する基材５とともに、図４に示す位置か
ら図５に示す位置へ下降移動され、これにより円錐状中
央部材３５が、圧縮スプリング８１の押圧力に対抗して
心出し用円錐状部材７５を上方へ押し戻しながら、基材
５の中央孔７内に嵌入される。かかる状態でここでは、
吸引パッド２３，２５が基材５を開放し、これにより基
材５が、重力と、円錐状中央部材３５が及ぼす半径方向
力との作用で、成形型１５上の、その成形型１５に対し
正確に心出しされた位置に自ずから位置する。そしてそ
の際に、基材支持機構２１がさらに下降移動されるとと
もに、ターンテーブル１７と成形型１５との間の空間内
の圧縮空気が排出され、成形型１５の当初の膨出状態が
徐々に解消される。この結果として、上記転写材１１は
徐々にかつ周方向に均一に半径方向外方へ押し出され、
半径方向内方への転写材１１の移動は、基材５の中央孔
７の周縁部と円錐状中央部材３５との共働によって、不
可能あるいは極めて困難とされる。 これによって、余分な転写材１１はほとんど全て図６に
示す如く半径方向外方へ追いやられるが、一般にいくら
かの転写材が円錐状中央部材３５の周囲に積もるのは完
全には避けられない。この一方、基材支持機構２１の心
出し用円錐状部材７５は、転写材１１が付着しないよう
な形状とされている。
位置から図示の位置に搬入移動されたものであるが、そ
の後、その支持する基材５とともに、図４に示す位置か
ら図５に示す位置へ下降移動され、これにより円錐状中
央部材３５が、圧縮スプリング８１の押圧力に対抗して
心出し用円錐状部材７５を上方へ押し戻しながら、基材
５の中央孔７内に嵌入される。かかる状態でここでは、
吸引パッド２３，２５が基材５を開放し、これにより基
材５が、重力と、円錐状中央部材３５が及ぼす半径方向
力との作用で、成形型１５上の、その成形型１５に対し
正確に心出しされた位置に自ずから位置する。そしてそ
の際に、基材支持機構２１がさらに下降移動されるとと
もに、ターンテーブル１７と成形型１５との間の空間内
の圧縮空気が排出され、成形型１５の当初の膨出状態が
徐々に解消される。この結果として、上記転写材１１は
徐々にかつ周方向に均一に半径方向外方へ押し出され、
半径方向内方への転写材１１の移動は、基材５の中央孔
７の周縁部と円錐状中央部材３５との共働によって、不
可能あるいは極めて困難とされる。 これによって、余分な転写材１１はほとんど全て図６に
示す如く半径方向外方へ追いやられるが、一般にいくら
かの転写材が円錐状中央部材３５の周囲に積もるのは完
全には避けられない。この一方、基材支持機構２１の心
出し用円錐状部材７５は、転写材１１が付着しないよう
な形状とされている。
【００３５】図６に示す状態で、基材５は成形型１５の
中央部に固着され、その固着は、前記構造領域３以外に
設定された範囲内に対応する位置での転写材１１の層の
部分的な固化によってもたらされる。しかしてこの実施
例の方法では、基材５は透光性のガラスからなり、また
転写材１１の層も透光性の光硬化性樹脂からなるので、
その基材５の成形型１５への固着は、構造領域３と中央
孔７の端縁との間に設定された環状の固着領域８７（図
１参照）内に対応する位置での、転写材１１の層の部分
的な固化によってもたらされる。この固着目的のためこ
こでは、基材支持機構２１の内部に設けられた、光線照
射源としての環状のランプ２２が使用され、このランプ
２２は、基材５側に開放された空間を持つ光線照射部２
６内に配置されている。なお、基材支持機構２１の内部
にはさらに、そのランプ２２の光を環状の開口部のみを
通して放射させる、遮光手段としての円筒状の遮光板７
７が設けられている。
中央部に固着され、その固着は、前記構造領域３以外に
設定された範囲内に対応する位置での転写材１１の層の
部分的な固化によってもたらされる。しかしてこの実施
例の方法では、基材５は透光性のガラスからなり、また
転写材１１の層も透光性の光硬化性樹脂からなるので、
その基材５の成形型１５への固着は、構造領域３と中央
孔７の端縁との間に設定された環状の固着領域８７（図
１参照）内に対応する位置での、転写材１１の層の部分
的な固化によってもたらされる。この固着目的のためこ
こでは、基材支持機構２１の内部に設けられた、光線照
射源としての環状のランプ２２が使用され、このランプ
２２は、基材５側に開放された空間を持つ光線照射部２
６内に配置されている。なお、基材支持機構２１の内部
にはさらに、そのランプ２２の光を環状の開口部のみを
通して放射させる、遮光手段としての円筒状の遮光板７
７が設けられている。
【００３６】上記基材５の固着領域８７内に対応する位
置での転写材１１の固化の後は、基材支持機構２１が、
成形型１５から離間した図７に示す位置に移動され、次
いで、図７のみに示す露光・洗浄ユニット８９が、その
基材支持機構２１とターンテーブル１７との間に移動さ
れる。そしてここでは、その露光・洗浄ユニット８９に
それに沿って延在するよう設けられた図示しない露光手
段が、先の工程で固化しなかった残りの転写材１１を固
化させるためにその転写材１１を露光させ、その間、タ
ーンテーブル１７は回転させられている。その後は、露
光・洗浄ユニット８９の二つの開口部９１および９３が
、余分な転写材１１を溶かして洗い落とすための溶剤の
供給に使用され、露光・洗浄ユニット８９にはさらに、
基材５の中央孔７の端部にある余分な溶剤と転写材とを
吹き飛ばすための空気吹出口９５も設けられている。
置での転写材１１の固化の後は、基材支持機構２１が、
成形型１５から離間した図７に示す位置に移動され、次
いで、図７のみに示す露光・洗浄ユニット８９が、その
基材支持機構２１とターンテーブル１７との間に移動さ
れる。そしてここでは、その露光・洗浄ユニット８９に
それに沿って延在するよう設けられた図示しない露光手
段が、先の工程で固化しなかった残りの転写材１１を固
化させるためにその転写材１１を露光させ、その間、タ
ーンテーブル１７は回転させられている。その後は、露
光・洗浄ユニット８９の二つの開口部９１および９３が
、余分な転写材１１を溶かして洗い落とすための溶剤の
供給に使用され、露光・洗浄ユニット８９にはさらに、
基材５の中央孔７の端部にある余分な溶剤と転写材とを
吹き飛ばすための空気吹出口９５も設けられている。
【００３７】上記転写材１１の層の固化と余分な材料の
洗い落としとが済んだ後は、ターンテーブル１７の回転
が停止されるとともに、露光・洗浄ユニット８９が基材
支持機構２１とターンテーブル１７との間の位置から移
動させられて退去し、ターンテーブル１７の回転が停止
すれば直ちに、転写材１１の層が付着した基材５の、成
形型１５からの離型が可能となる。
洗い落としとが済んだ後は、ターンテーブル１７の回転
が停止されるとともに、露光・洗浄ユニット８９が基材
支持機構２１とターンテーブル１７との間の位置から移
動させられて退去し、ターンテーブル１７の回転が停止
すれば直ちに、転写材１１の層が付着した基材５の、成
形型１５からの離型が可能となる。
【００３８】なお、上記吸引パッド２３は、図７および
図８に示すように、摺動ブッシュ９９の外周フランジ９
７に設けられており、その摺動ブッシュ９９は頂部に、
重力の作用下で摺動ブッシュ９９が図７および図８に示
す位置からそれ以上下降しないように摺動ブッシュ９９
を掛止する環状の掛止部材１０１ を有している。
図８に示すように、摺動ブッシュ９９の外周フランジ９
７に設けられており、その摺動ブッシュ９９は頂部に、
重力の作用下で摺動ブッシュ９９が図７および図８に示
す位置からそれ以上下降しないように摺動ブッシュ９９
を掛止する環状の掛止部材１０１ を有している。
【００３９】しかして、転写材１１の層が付着した基材
５の、成形型１５からの離型は、以下に述べる工程によ
って行われる。すなわちここでは、先ず、空気圧源３９
から圧縮空気が成形型１５の下側に供給されて、成形型
１５が上向きに膨出され、これにより基材５が、その外
周端縁から内方へ向かって順次に、成形型１５から離型
される。次いでここでは、基材支持機構２１が図７に示
す位置から図８に示す位置まで下降移動されてから、負
圧源３７が吸引パッド２３内を減圧することにて、基材
５が、その外周端縁付近の上面を吸引パッド２３に吸着
保持されて、基材支持機構２１に支持され、その後は、
基材５が基材支持機構２１とともに、上方へ持ち上げら
れ、次いでターンテーブル１７からある程度離間した上
記着脱位置に搬出移動されてから、負圧の供給停止によ
って吸引パッド２３、ひいては基材支持機構２１がその
基材５を開放し、これによって製品の取り出しが可能と
なる。
５の、成形型１５からの離型は、以下に述べる工程によ
って行われる。すなわちここでは、先ず、空気圧源３９
から圧縮空気が成形型１５の下側に供給されて、成形型
１５が上向きに膨出され、これにより基材５が、その外
周端縁から内方へ向かって順次に、成形型１５から離型
される。次いでここでは、基材支持機構２１が図７に示
す位置から図８に示す位置まで下降移動されてから、負
圧源３７が吸引パッド２３内を減圧することにて、基材
５が、その外周端縁付近の上面を吸引パッド２３に吸着
保持されて、基材支持機構２１に支持され、その後は、
基材５が基材支持機構２１とともに、上方へ持ち上げら
れ、次いでターンテーブル１７からある程度離間した上
記着脱位置に搬出移動されてから、負圧の供給停止によ
って吸引パッド２３、ひいては基材支持機構２１がその
基材５を開放し、これによって製品の取り出しが可能と
なる。
【００４０】ところで、この実施例の製造装置は図示の
如く、微少移動機構１０３ を具えており、この微少移
動機構１０３ は上記基材支持機構２１の基材支持位置
を、紙面と平行な左右方向へ高精度に移動させて調整す
ることができる。またこの実施例の製造装置は、図示し
ないがさらに、第２の微少移動機構をも具えており、こ
の第２の微少移動機構は上記基材支持機構２１の基材支
持位置を、紙面と直角な方向へ高精度に移動させて調整
することができる。従って、これら二つの微少移動機構
は、ターンテーブル１７に平行で、かつ互いに直角な二
方向について、基材支持機構２１の基材支持位置を修正
可能とすることができる。この基材支持位置が修正可能
であるという点は、規定された偏心度公差から外れない
偏心度の製品を製造するためには極めて重要であり、こ
の実施例の製造装置では、その基材支持位置の修正のた
めの以下の如き工程を、成形型を交換する度に一度だけ
行う必要がある。
如く、微少移動機構１０３ を具えており、この微少移
動機構１０３ は上記基材支持機構２１の基材支持位置
を、紙面と平行な左右方向へ高精度に移動させて調整す
ることができる。またこの実施例の製造装置は、図示し
ないがさらに、第２の微少移動機構をも具えており、こ
の第２の微少移動機構は上記基材支持機構２１の基材支
持位置を、紙面と直角な方向へ高精度に移動させて調整
することができる。従って、これら二つの微少移動機構
は、ターンテーブル１７に平行で、かつ互いに直角な二
方向について、基材支持機構２１の基材支持位置を修正
可能とすることができる。この基材支持位置が修正可能
であるという点は、規定された偏心度公差から外れない
偏心度の製品を製造するためには極めて重要であり、こ
の実施例の製造装置では、その基材支持位置の修正のた
めの以下の如き工程を、成形型を交換する度に一度だけ
行う必要がある。
【００４１】すなわち、成形型を交換する場合には、先
ずリング２８が取り外されて成形型１５が他の成形型に
交換され、次いでリング２８の再装着によってその成形
型がターンテーブル１７に堅持されるが、そのときの成
形型の全体的な取付精度はおそらく、ディスクの製造に
は不十分なものである。従って、次にここでは、基材５
が上記の方法で基材支持機構２１に装備されて、上述し
た方法と全面的に同一の方法で一枚の試作品の試験製造
が行われ、できあがった試作品は、基材支持機構２１か
ら取り出された後、適当な計測手段、好ましくは光学的
計測手段によって、その回転中心に対する光学的に読取
可能な情報構造部の偏心度を計測される。上記二つの微
少移動機構による基材支持位置の修正は、その偏心度の
計測結果に基づいて行うことができる。そして、かかる
所要の基材支持位置修正が行われた後は、さらなる修正
を行う必要なしに、引き続いて、所要の精度の情報構造
部の偏心度を持つ製品を製造することができる。
ずリング２８が取り外されて成形型１５が他の成形型に
交換され、次いでリング２８の再装着によってその成形
型がターンテーブル１７に堅持されるが、そのときの成
形型の全体的な取付精度はおそらく、ディスクの製造に
は不十分なものである。従って、次にここでは、基材５
が上記の方法で基材支持機構２１に装備されて、上述し
た方法と全面的に同一の方法で一枚の試作品の試験製造
が行われ、できあがった試作品は、基材支持機構２１か
ら取り出された後、適当な計測手段、好ましくは光学的
計測手段によって、その回転中心に対する光学的に読取
可能な情報構造部の偏心度を計測される。上記二つの微
少移動機構による基材支持位置の修正は、その偏心度の
計測結果に基づいて行うことができる。そして、かかる
所要の基材支持位置修正が行われた後は、さらなる修正
を行う必要なしに、引き続いて、所要の精度の情報構造
部の偏心度を持つ製品を製造することができる。
【００４２】上述した製造方法および製造装置は、この
発明の一実施態様に基づくものであり、この発明はかか
る実施態様に限定されるものでなく、例えば、基材およ
び転写材の一方もしくは双方は透光性のものでなくても
良く、また転写材の固化は、照射光によらなくても良い
。従って、非透光性の基材および転写材を使用するとと
もに、他の化学的あるいは物理的固化方法を使用しても
良い。さらに、この発明の要旨は、基材が基材支持手段
によって成形型上で正確に心出しされ、その基材が部分
的な固着によって心出し状態で前記成形型に固着され、
次いで、転写材層の構造領域内に対応する位置の部分が
、基材と基材支持手段との接触なしに、かつ好ましくは
その成形型が回転している間に固化されるように、基材
が基材支持手段から開放される、という点にあるので、
基材は、上述したと全く異なる方法で成形型に固着され
ても良く、そのためには、例えば、基材を成形型側に一
時的に保持する可動固着手段を設けても良い。そして、
基材を一時的に保持する方法としては、負圧を使用して
も良い。
発明の一実施態様に基づくものであり、この発明はかか
る実施態様に限定されるものでなく、例えば、基材およ
び転写材の一方もしくは双方は透光性のものでなくても
良く、また転写材の固化は、照射光によらなくても良い
。従って、非透光性の基材および転写材を使用するとと
もに、他の化学的あるいは物理的固化方法を使用しても
良い。さらに、この発明の要旨は、基材が基材支持手段
によって成形型上で正確に心出しされ、その基材が部分
的な固着によって心出し状態で前記成形型に固着され、
次いで、転写材層の構造領域内に対応する位置の部分が
、基材と基材支持手段との接触なしに、かつ好ましくは
その成形型が回転している間に固化されるように、基材
が基材支持手段から開放される、という点にあるので、
基材は、上述したと全く異なる方法で成形型に固着され
ても良く、そのためには、例えば、基材を成形型側に一
時的に保持する可動固着手段を設けても良い。そして、
基材を一時的に保持する方法としては、負圧を使用して
も良い。
【図１】この発明の光ディスクの製造方法の一実施例に
よって製造された、光学的に読取可能なディスクの平面
図である。
よって製造された、光学的に読取可能なディスクの平面
図である。
【図２】図１に示すディスクの拡大断面図である。
【図３】図２に示すと同様のディスクの、基材が成形型
上に搭載された状態での拡大断面図である。
上に搭載された状態での拡大断面図である。
【図４】この発明の光ディスクの製造装置の一実施例の
、基材支持機構と基材とが初期位置にある状態での断面
図である。
、基材支持機構と基材とが初期位置にある状態での断面
図である。
【図５】図４に示すと同一の製造装置の、基材が転写材
の中央領域に接触し始める位置に基材支持機構がある状
態での断面図である。
の中央領域に接触し始める位置に基材支持機構がある状
態での断面図である。
【図６】図４および図５に示すと同一の製造装置の、転
写材が基材と成形型との間に分配される位置に基材支持
機構がある状態での断面図である。
写材が基材と成形型との間に分配される位置に基材支持
機構がある状態での断面図である。
【図７】図４乃至図６に示すと同一の製造装置の、基材
支持機構が基材から離間した位置に移動され、その基材
支持機構と基材との間に露光・洗浄ユニットが移動され
た状態での断面図である。
支持機構が基材から離間した位置に移動され、その基材
支持機構と基材との間に露光・洗浄ユニットが移動され
た状態での断面図である。
【図８】図４乃至図６に示すと同一の製造装置の、基材
支持機構が成形型からの基材の離型のために再度基材に
接触した状態での断面図である。
支持機構が成形型からの基材の離型のために再度基材に
接触した状態での断面図である。
１ 光ディスク
３ 構造領域
５ 基材
７ 中央孔
９ 情報構造部
１１ 転写材
１３ 原形構造部
１５ 成形型
１７ ターンテーブル
１９ 噴出口
２１ 基材支持機構
２３，２５ 吸引パッド
２７ 軸部材
３５ 円錐状中央部材
３７ 空気圧バルブ
３９ 空気圧源
４５ 排気通路
４７ 負圧源
４９ 光学ユニット
５１ ディスク
６９， ７１ 負圧バルブ
７３ 負圧源
７７ 遮光板
８７ 固着領域
１０３ 微少移動機構
Claims (18)
- 【請求項１】 基材（５）の構造領域（３）内に対応
する位置に光学的に読取可能な情報構造部（９）を形成
することにより光ディスク（１）を製造する方法であっ
て、原形構造部（１３）を有する成形型（１５）上で変
形可能状態にある転写材（１１）の層の使用と、前記基
材の前記転写材層上への配置と、前記転写材層の固化お
よびその転写材層の前記基材への接合と、前記成形型か
らの前記基材とそれに付着した前記転写材層との一緒の
離型と、を含む方法を行うに際し、前記基材（５）が、
移動可能な基材支持手段（２１）に支持され、次いで前
記基材支持手段の移動によって、前記基材が、前記成形
型（１５）上にある前記転写材（１１）の層上の、その
成形型との同心位置に配置され、次いで前記基材（５）
が、前記成形型（１５）上の同心位置に固着され、その
固着の後、前記基材支持手段が前記基材を開放し、これ
とともに、前記構造領域（３）内に対応する位置の前記
転写材の層の部分が、前記固着状態下で固化されること
を特徴とする、光ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 前記基材（５）は、前記構造領域以外
に設定された範囲内に対応する位置の、前記転写材（１
１）の層の局部的に固化した部分を介して、前記成形型
（１５）に固着されることを特徴とする、請求項１に記
載の光ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 前記基材（５）は透光性のものであり
、前記転写材（１１）は光硬化性樹脂からなり、前記基
材（５）の前記成形型（１５）への固着および、前記構
造領域（３）内に対応する位置の前記転写材層の部分の
固化は、前記基材を通した光線の照射によって行われる
ことを特徴とする、請求項１に記載の光ディスクの製造
方法。 - 【請求項４】 前記基材支持手段（２１）は光線照射
部（２６）を有し、前記基材は、前記光線照射部からの
光線の照射によって前記成形型に固着されることを特徴
とする、請求項３に記載の光ディスクの製造方法。 - 【請求項５】 前記基材の前記成形型への固着は、前
記基材の中央部の環状の固着領域（８７）にて行われる
ことを特徴とする、請求項４に記載の光ディスクの製造
方法。 - 【請求項６】 狭い公差内に偏心度が収まるような光
ディスクを得るため、前記方法による試作段階で、粗く
心出しされた位置にて前記基材支持手段に支持された前
記基材を使用し、それにより製造した試作品の前記光学
的に読取可能な情報構造部の、その回転中心に対する偏
心度を測定し、前記偏心度の測定値に基づき前記基材支
持手段の基材支持位置を修正する、という方法を行うこ
とを特徴とする、請求項１に記載の光ディスクの製造方
法。 - 【請求項７】 前記転写材（１１）の層の固化の際、
前記成形型（１５）は、前記基材（５）が搭載される以
前に、回転されて、正確に定められた初期周方向位置に
配備されることを特徴とする、請求項６に記載の光ディ
スクの製造方法。 - 【請求項８】 前記成形型は前記基材よりも大きい直
径寸法を有し、前記基材はその片側の全表面を前記転写
材層によって被われることを特徴とする、請求項１に記
載の光ディスクの製造方法。 - 【請求項９】 前記転写材層が付着した前記基材は、
前記成形型を膨出させることによってその成形型から離
型されることを特徴とする、請求項１に記載の光ディス
クの製造方法。 - 【請求項１０】 前記成形型は、前記基材がその上に
配置される以前に膨出形状とされ、前記基材が前記転写
材層に押し付けられると同時にその膨出の程度を減じら
れることを特徴とする、請求項１に記載の光ディスクの
製造方法。 - 【請求項１１】 請求項１に記載の製造方法に基づき
、基材（５）の構造領域（３）内に対応する位置に光学
的に読取可能な情報構造部（９）を形成することにより
光ディスク（１）を製造する装置であって、成形型（１
５）を支持するための型支持手段（１７）と、前記成形
型上へ変形可能状態にある転写材（１１）を供給するた
めの転写材供給手段（１９）と、を具える装置において
、前記成形型（１５）に対して移動可能であるとともに
、前記基材（５）の支持のため、その基材を保持する基
材保持手段（２３，２５）を有する基材支持手段（２１
）と、前記基材支持手段（２１）を前記基材（５）とと
もに前記成形型（１５）に対して搬入出移動させるため
の搬入出移動手段（２７）と、を具えることを特徴とす
る、光ディスクの製造装置。 - 【請求項１２】 前記成形型支持手段は、前記成形型
を堅持するための手段を有する回転可能なターンテーブ
ル（１７）を具えることを特徴とする、請求項１１に記
載の光ディスクの製造装置。 - 【請求項１３】 前記成形型（１５）は、その成形表
面よりも突出するように円錐状中央部材（３５）を貫通
させる中央孔を有することを特徴とする、請求項１２に
記載の光ディスクの製造装置。 - 【請求項１４】 請求項９に記載の製造方法に基づき
光ディスクを製造する装置であって、圧縮空気によって
前記成形型（１５）を膨出させるための空気圧供給手段
（３７〜４３）を具えることを特徴とする、請求項１１
に記載の光ディスクの製造装置。 - 【請求項１５】 請求項７に記載の製造方法に基づき
光ディスクを製造する装置であって、前記ターンテーブ
ルを正確に再現可能な方法で前記初期周方向位置に配備
するためのターンテーブル位置決め手段（４９， ５１
）を具えることを特徴とする、請求項１３に記載の光デ
ィスクの製造装置。 - 【請求項１６】 前記基材支持手段（２１）に前記基
材（５）を負圧によって支持させるための負圧供給手段
（６５〜７３）を具えることを特徴とする、請求項１１
に記載の光ディスクの製造装置。 - 【請求項１７】 請求項４に記載の製造方法に基づき
光ディスクを製造する装置であって、前記移動可能な基
材支持手段（２１）が、前記基材を前記成形型に心出し
状態で固着するための光線照射源（２２）を内部に具え
ることを特徴とする、請求項１１に記載の光ディスクの
製造装置。 - 【請求項１８】 請求項５に記載の製造方法に基づき
光ディスクを製造する装置であって、前記基材支持手段
が、前記中央部の領域以外での固着を妨げるための遮光
手段（７７）を具えることを特徴とする、請求項１７に
記載の光ディスクの製造装置。
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