JPS60122139A - 情報記録円板の製造装置 - Google Patents
情報記録円板の製造装置Info
- Publication number
- JPS60122139A JPS60122139A JP23035983A JP23035983A JPS60122139A JP S60122139 A JPS60122139 A JP S60122139A JP 23035983 A JP23035983 A JP 23035983A JP 23035983 A JP23035983 A JP 23035983A JP S60122139 A JPS60122139 A JP S60122139A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- substrate
- resin layer
- base
- vacuum
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C43/50—Removing moulded articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/44—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles
- B29C33/46—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles using fluid pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
炎１Ｌ艷
本発明は、放射線硬化樹脂を用いた情報記録円板（以下
単にディスクと称する）の製造装置に関するものである
。
単にディスクと称する）の製造装置に関するものである
。
背型技術
この種の装置においては、ベース上に接着剤等で固定さ
れたスタンパ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂を塗
布し、その上に透明な基板を買き、これを介して放射線
を照射し族０４線硬化樹脂を硬化ざｌてスタンパ−に刻
まれた信器を転写し、しかる後硬化した樹脂層を透明基
板と一体にスタンパ−から剥離することにより、ディス
クを１１’Ｊるようになされている。そして剥離された
ディスクにアルミ蒸着膜をつけ、更にＡ−バーコードす
ることにより完成品となるのである。
れたスタンパ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂を塗
布し、その上に透明な基板を買き、これを介して放射線
を照射し族０４線硬化樹脂を硬化ざｌてスタンパ−に刻
まれた信器を転写し、しかる後硬化した樹脂層を透明基
板と一体にスタンパ−から剥離することにより、ディス
クを１１’Ｊるようになされている。そして剥離された
ディスクにアルミ蒸着膜をつけ、更にＡ−バーコードす
ることにより完成品となるのである。
従来、硬化した樹脂層を透明基板と一体にスタンパ−か
ら剥離する場合、真空パッドで透明基板の上面を吸引し
て引き上げる方法や、機械的なツメを用いて°樹脂層の
外周に引っ掛りで引き上げる方法が採られていたが、前
者の方法では引上げツノに限界があり、２００ｍ、３０
０ＩＩｌのディスクとなると剥離出来ない場合があり、
また後者の方法にあってはツメの制御が複雑であると共
にディスクを損傷し易いという欠点があった。
ら剥離する場合、真空パッドで透明基板の上面を吸引し
て引き上げる方法や、機械的なツメを用いて°樹脂層の
外周に引っ掛りで引き上げる方法が採られていたが、前
者の方法では引上げツノに限界があり、２００ｍ、３０
０ＩＩｌのディスクとなると剥離出来ない場合があり、
また後者の方法にあってはツメの制御が複雑であると共
にディスクを損傷し易いという欠点があった。
Ｒ１凹と肌ｊ一
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除去すべく
なされたもので、空気圧を利用することにより、ディス
クを損（１することなく迅速かつ確実に剥離を行うこと
ができる情報記録円板の製造装置を提供することを目的
と１６゜ 本発明による製造装置においＣは、スタンパ−が固定さ
れたベースと透明も１板の内周部との間の気密性を維持
し、該ベースと透明ｇ４板の内「１１部との聞に空気を
圧送し、この空気Ｊ−１゛にＪ、って樹脂ｈ′ηをスタ
ンパ−から剥離する構成どなっＣいる。
なされたもので、空気圧を利用することにより、ディス
クを損（１することなく迅速かつ確実に剥離を行うこと
ができる情報記録円板の製造装置を提供することを目的
と１６゜ 本発明による製造装置においＣは、スタンパ−が固定さ
れたベースと透明も１板の内周部との間の気密性を維持
し、該ベースと透明ｇ４板の内「１１部との聞に空気を
圧送し、この空気Ｊ−１゛にＪ、って樹脂ｈ′ηをスタ
ンパ−から剥離する構成どなっＣいる。
実施例
以下、本発明の実施例を図面にふ（づいて説明りる。
市１図において、本発明に係るアイスフの製造装置は、
スタンパ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂（以下フ
ォトポリマーど称−する）を塗布する工程を担う塗布装
置１ど、フ、ＩＩ ｔ−ポリマー上に透明基板を載置し
加圧して前記スタンパ−に刻まれた信号をフォトポリマ
ーに転写する工程及び次の照射工程を経て硬化した樹脂
層を前記透明基板と一体にスタンパ−から剥離する工程
を担う転写・剥離装置２と、スタンパ−と透明基板との
間に充填されている液状のフォトポリマーを紫外線照射
によって硬化させる工程を担う照射装置３とからなり、
各装置に亘って設けら−れたリニアスライド軌道台４上
をテーブル本体５が移動することによって上記一連の工
程を連続し一〇行い、ディスクを製造する構成となって
いる。
スタンパ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂（以下フ
ォトポリマーど称−する）を塗布する工程を担う塗布装
置１ど、フ、ＩＩ ｔ−ポリマー上に透明基板を載置し
加圧して前記スタンパ−に刻まれた信号をフォトポリマ
ーに転写する工程及び次の照射工程を経て硬化した樹脂
層を前記透明基板と一体にスタンパ−から剥離する工程
を担う転写・剥離装置２と、スタンパ−と透明基板との
間に充填されている液状のフォトポリマーを紫外線照射
によって硬化させる工程を担う照射装置３とからなり、
各装置に亘って設けら−れたリニアスライド軌道台４上
をテーブル本体５が移動することによって上記一連の工
程を連続し一〇行い、ディスクを製造する構成となって
いる。
塗布装置１において、ベース板６上に直立したロッド７
．７には基台８が上下動自在に取り付（プられ、この基
台８には軸９が回転自在に取り付ｃ）られている。第２
図から明らかな様に、軸９はその上端に固定されたプー
リ１０に架設されたベルト１１を介して、基台８上に担
持されたモータ１２により回転駆動される。軸９の下端
には吐出装置１３が取り付けられている。吐出装置１３
は軸９の軸芯から所定距離したけ離れて設番ノられたニ
ードル部１４を備え、このニードル部１４を後述Ｊるス
タンパ−１５（第２図参照）の信号面上に液状のフォト
ポリマーを部室ｔ１１叶出り−る。このとぎ吐出装置１
３がモータ１２の回転に伴って軸９と一体に回転し、か
つニードル部１４が軸９の軸芯から所定距離りだけ離れ
ているので、スタンパ−１５の信号面上に吐出されるフ
ォトポリマー番ま上記所定距離りを半径とする環状どな
る。１−配所定距離りはニードル部１４の位Ｗｌを調整
り−る調整機構１６によって可変であり、スタンパ−′
１５の信号面の面積、フォトポリマーの粘度等に応じて
適当に設定される。調整機構１６は、ニードル部１４の
本体に螺合した螺旋軸１７及びこれを回転せしめるハン
ドル１８等により構成される。
．７には基台８が上下動自在に取り付（プられ、この基
台８には軸９が回転自在に取り付ｃ）られている。第２
図から明らかな様に、軸９はその上端に固定されたプー
リ１０に架設されたベルト１１を介して、基台８上に担
持されたモータ１２により回転駆動される。軸９の下端
には吐出装置１３が取り付けられている。吐出装置１３
は軸９の軸芯から所定距離したけ離れて設番ノられたニ
ードル部１４を備え、このニードル部１４を後述Ｊるス
タンパ−１５（第２図参照）の信号面上に液状のフォト
ポリマーを部室ｔ１１叶出り−る。このとぎ吐出装置１
３がモータ１２の回転に伴って軸９と一体に回転し、か
つニードル部１４が軸９の軸芯から所定距離りだけ離れ
ているので、スタンパ−１５の信号面上に吐出されるフ
ォトポリマー番ま上記所定距離りを半径とする環状どな
る。１−配所定距離りはニードル部１４の位Ｗｌを調整
り−る調整機構１６によって可変であり、スタンパ−′
１５の信号面の面積、フォトポリマーの粘度等に応じて
適当に設定される。調整機構１６は、ニードル部１４の
本体に螺合した螺旋軸１７及びこれを回転せしめるハン
ドル１８等により構成される。
第３図において、転写・剥ｊｕｌｌ装首２は、先述した
テーブル本体５上に担持されて各装罫間を移θＪする下
部ハウジング２０と、土＋動自イ１に段りられ下部ハウ
ジング２０とによって適宜密閉室を形成する上部ハウジ
ング２１とを含んでいる。下部ハウジング２０の上面凹
部２０ａに【よスタンパ−ベース２２が嵌着され、下部
ハウジング２０の中心孔２０ｂには駆動部本体２３が嵌
着されている。
テーブル本体５上に担持されて各装罫間を移θＪする下
部ハウジング２０と、土＋動自イ１に段りられ下部ハウ
ジング２０とによって適宜密閉室を形成する上部ハウジ
ング２１とを含んでいる。下部ハウジング２０の上面凹
部２０ａに【よスタンパ−ベース２２が嵌着され、下部
ハウジング２０の中心孔２０ｂには駆動部本体２３が嵌
着されている。
駆動部本体２３の中心部にはシトフト２４が上下動自在
に挿通され、このシｐフト２４の上端：には担持部材と
してのセンターボス２５が嵌着されている。駆動部本体
２３とシ１／フト２４との間にはスクレーバ２６及びシ
ール２７が介在し、ベース２２の内周部においてＯリン
グ５２ａ、５２ｂと協働してベース２２と後述Ｊ゛るザ
ブスｉ〜レー１−との間の気密性を維持する手段を（１
４成りる。シレフ］〜２４の下端にはカム押え２８を介
してカムフォロア２９が回転自在に設【プられており、
このカムフォロア２９はシ１ｒフト３０に固定されたカ
ム３１のカム面に、スプリング３２の弾発力により圧接
している。シ１１フ１−３０は図示せぬ駆動部により適
宜駆動され、これによりセンターボス２５が上下動づ°
るが、通常は上り？位置にある。スタンパ−ベース２２
上にはスタンパ−１５が接着剤等により固着されている
。スタンパ−１５最外周部及び最内周部に沿って環状溝
３３ａ 、３３ｂが形成されており、これら環状溝３３
ａ 、３３ｂは下部ハウジング２０及び駆動部本体２３
にそれぞれ形成された連通路３４ａ 、３／ｌｂ及び真
空配管ご３５゜３６を介して減圧手段である図示μぬ真
空ポンプに連通している。
に挿通され、このシｐフト２４の上端：には担持部材と
してのセンターボス２５が嵌着されている。駆動部本体
２３とシ１／フト２４との間にはスクレーバ２６及びシ
ール２７が介在し、ベース２２の内周部においてＯリン
グ５２ａ、５２ｂと協働してベース２２と後述Ｊ゛るザ
ブスｉ〜レー１−との間の気密性を維持する手段を（１
４成りる。シレフ］〜２４の下端にはカム押え２８を介
してカムフォロア２９が回転自在に設【プられており、
このカムフォロア２９はシ１ｒフト３０に固定されたカ
ム３１のカム面に、スプリング３２の弾発力により圧接
している。シ１１フ１−３０は図示せぬ駆動部により適
宜駆動され、これによりセンターボス２５が上下動づ°
るが、通常は上り？位置にある。スタンパ−ベース２２
上にはスタンパ−１５が接着剤等により固着されている
。スタンパ−１５最外周部及び最内周部に沿って環状溝
３３ａ 、３３ｂが形成されており、これら環状溝３３
ａ 、３３ｂは下部ハウジング２０及び駆動部本体２３
にそれぞれ形成された連通路３４ａ 、３／ｌｂ及び真
空配管ご３５゜３６を介して減圧手段である図示μぬ真
空ポンプに連通している。
一方、上部ハウジング２１は通常下部ハウジング２０か
ら離間した位置に保持され”Ｃおり、塗イＩｉ工程から
転写１’、 ｆ！ｉ！への移行が完了りると、下降しＣ
下部ハウジング２０とによっ（密閉室を形成・）る。上
部ハウジング２１にほぞの中心に関（）Ｃ等角度にて例
えば６個の真空パッド３７が後）ボするサブストレート
の上面に吸着りる吸乙手段どＬｉ ”を設置ノられ、更
にこれら真空パッド３７の外側にはこれら真空パッド３
７聞に位置りるＪ、うに例えば６個の真空パッド３８が
イれＬ゛れ１下動自白に設けられ′Ｃいる。これら真空
バッド３７．３８はｔ′週中空配管３９４０を介し−（
図ｔｊ＜ ｌ！ぬＶλ空水ポンプ連通しており、上部ハ
ウジング２１の上面に設置）られたジグシリンダ４１．
／１２によって」−小動けしめられる。ジグシリンダ４
１は、空−油変換を行った油駆動のもので、微速度送り
が可能である。
ら離間した位置に保持され”Ｃおり、塗イＩｉ工程から
転写１’、 ｆ！ｉ！への移行が完了りると、下降しＣ
下部ハウジング２０とによっ（密閉室を形成・）る。上
部ハウジング２１にほぞの中心に関（）Ｃ等角度にて例
えば６個の真空パッド３７が後）ボするサブストレート
の上面に吸着りる吸乙手段どＬｉ ”を設置ノられ、更
にこれら真空パッド３７の外側にはこれら真空パッド３
７聞に位置りるＪ、うに例えば６個の真空パッド３８が
イれＬ゛れ１下動自白に設けられ′Ｃいる。これら真空
バッド３７．３８はｔ′週中空配管３９４０を介し−（
図ｔｊ＜ ｌ！ぬＶλ空水ポンプ連通しており、上部ハ
ウジング２１の上面に設置）られたジグシリンダ４１．
／１２によって」−小動けしめられる。ジグシリンダ４
１は、空−油変換を行った油駆動のもので、微速度送り
が可能である。
上部ハウジング２１の中火突出部２１ａには、ロンター
ボス２５上に載置された透明基板（以下り一ブストレー
トと称する）４３の中火部を押えるためのセンター押え
４４が上下動自在に嵌合している。このセンター押え４
４はスプリング４５）により下方に付勢され、ストッパ
ー４６によって！ｌ！ＩＩＩｔ２防止が図られている。
ボス２５上に載置された透明基板（以下り一ブストレー
トと称する）４３の中火部を押えるためのセンター押え
４４が上下動自在に嵌合している。このセンター押え４
４はスプリング４５）により下方に付勢され、ストッパ
ー４６によって！ｌ！ＩＩＩｔ２防止が図られている。
真空パッド３７【よハウジング密閉状態の初期にｉｌｊ
いてリアストレー１へ４３の上面に接触する高さ位置に
保持されている。
いてリアストレー１へ４３の上面に接触する高さ位置に
保持されている。
スタンパ−１５の最外周部に治って形成された環状溝３
３ａを覆うための環状シール４７が設（）られている。
３ａを覆うための環状シール４７が設（）られている。
この環状シール４７は石英ガラス。
アクリル樹脂等の紫外線透過性の材質からなり、その上
面四部に固着された磁ｔｌｔ板４８が、上部ハウジング
２１に適当な間隔で埋設されたマグネツ１〜４９に吸着
されることにＪ：す、上部ハウジング２１に取り句（）
られた状態に保持される。この環状シール４７は真空パ
ッド３８が減圧状態で−に不動するときに、これに吸引
された状態で一体に」−下動し、降下状態にあるときに
は、真空パッド３８と協働してサブストレート４３の外
周部をスタンバ−１５に対して押しつける千「９を構成
すると共に、ベース２２の外周部においＣＯリング５１
と協働してベース２２とリブストレー１−４３どの間の
気密性を維持する手段な構成４る。
面四部に固着された磁ｔｌｔ板４８が、上部ハウジング
２１に適当な間隔で埋設されたマグネツ１〜４９に吸着
されることにＪ：す、上部ハウジング２１に取り句（）
られた状態に保持される。この環状シール４７は真空パ
ッド３８が減圧状態で−に不動するときに、これに吸引
された状態で一体に」−下動し、降下状態にあるときに
は、真空パッド３８と協働してサブストレート４３の外
周部をスタンバ−１５に対して押しつける千「９を構成
すると共に、ベース２２の外周部においＣＯリング５１
と協働してベース２２とリブストレー１−４３どの間の
気密性を維持する手段な構成４る。
転写工程が終了すると、上部ハウジング２１が上昇し、
下部ハウジング２０は第１図に示り照口・１装置３の下
方に移動する。そしＣ照射装置３から紫外線が照射され
、これによりスタンパ−１５とザブストレート４３との
間に充填されている液状のフ第１〜ポリマーが硬化し、
樹脂層を形成する。
下部ハウジング２０は第１図に示り照口・１装置３の下
方に移動する。そしＣ照射装置３から紫外線が照射され
、これによりスタンパ−１５とザブストレート４３との
間に充填されている液状のフ第１〜ポリマーが硬化し、
樹脂層を形成する。
照射工程が終了すると、下部ハウジング２ ＯＬ；目Ｉ
Ｊび上部ハウジング２１の下りに移動し、剥−１」二押
に移行する。
Ｊび上部ハウジング２１の下りに移動し、剥−１」二押
に移行する。
スタンパ−１５の内周部及び外周部には、第４図から特
に明らかな様に、りｆましくは４５°の１ハＩきを右す
る傾斜部１５ａ 、 １５ｂが形成され−Ｃいる。スタ
ンバ−１５の信号面上に環状に吐出された液状のフＡト
ポリマーは、その十にザブス１へレート４３が載置され
ると、スタンバ−１５と４ノ゛ブストレート４３との間
をスタンバ−１５の信号面全面に亘つ”Ｃ広がるのであ
るが、このとき、スタンパ−１５の内周部にＪ３いては
、フＡ１〜ポリマーが傾斜部１５ａの位置で表向張力と
段差により円形状に停止することになる。また、スタン
バ−の外周部においては、硬化したフ７１１−ポリマー
を剥離するときに、はみ出したフＡ１−ポリマーが残り
易いのであるが、傾斜部１５ｂが略４５°の傾斜角度を
なしているので、剪断応力ににるずべり破壊により、硬
化後のフＡ１〜ポリマーを残づ゛ことなく剥離が行え、
フ第１ヘポリマーの最外周部の剥離性を向上できること
になる。
に明らかな様に、りｆましくは４５°の１ハＩきを右す
る傾斜部１５ａ 、 １５ｂが形成され−Ｃいる。スタ
ンバ−１５の信号面上に環状に吐出された液状のフＡト
ポリマーは、その十にザブス１へレート４３が載置され
ると、スタンバ−１５と４ノ゛ブストレート４３との間
をスタンバ−１５の信号面全面に亘つ”Ｃ広がるのであ
るが、このとき、スタンパ−１５の内周部にＪ３いては
、フＡ１〜ポリマーが傾斜部１５ａの位置で表向張力と
段差により円形状に停止することになる。また、スタン
バ−の外周部においては、硬化したフ７１１−ポリマー
を剥離するときに、はみ出したフＡ１−ポリマーが残り
易いのであるが、傾斜部１５ｂが略４５°の傾斜角度を
なしているので、剪断応力ににるずべり破壊により、硬
化後のフＡ１〜ポリマーを残づ゛ことなく剥離が行え、
フ第１ヘポリマーの最外周部の剥離性を向上できること
になる。
次に、本発明による製３ａ装置の動作について説明する
。
。
まず、第１図にＪ３いて、下部ハウジング２０がテーブ
ル本体５と一体に吐出Ｓ！ｉｉ置１３の下方まで移動し
、塗布工程となる。塗布工程では、吐出装置１３が基台
８と一体に下降し、ニードル部１４の先端がスタンパ−
１５（第３図参照）の信号面に近接した位置で停止し、
しかる後モータ１２の駆動力によって軸９と一体に回転
する。これに伴いニードル部１４が軸９の周りを回動し
つつ液状のフォトポリマーをスタンバ−１５の信号面上
に吐出づる。フォトポリマーとしては、例えば、粘度が
数１０〜１０００ＣＩＩＳ程麿で、真空中にＪ３いても
粘性や重量等の変化がないアクリルモノマーのものが用
いられる。吐出されたノＡ１−ポリマーは軸９とニード
ル部１７Ｉとの間の距１１１１１Ｌ（第２図参照）を半
径とする環状となる。吐出装置１３が一回転すると、フ
ォトポリマーの吐出を停止［シ、初期位置まで上昇する
。塗イ１１コニ桿が終了りると、下部ハウジング２０が
上部ハウジング２１の下方まで移動し、転写■稈に移１
コする。
ル本体５と一体に吐出Ｓ！ｉｉ置１３の下方まで移動し
、塗布工程となる。塗布工程では、吐出装置１３が基台
８と一体に下降し、ニードル部１４の先端がスタンパ−
１５（第３図参照）の信号面に近接した位置で停止し、
しかる後モータ１２の駆動力によって軸９と一体に回転
する。これに伴いニードル部１４が軸９の周りを回動し
つつ液状のフォトポリマーをスタンバ−１５の信号面上
に吐出づる。フォトポリマーとしては、例えば、粘度が
数１０〜１０００ＣＩＩＳ程麿で、真空中にＪ３いても
粘性や重量等の変化がないアクリルモノマーのものが用
いられる。吐出されたノＡ１−ポリマーは軸９とニード
ル部１７Ｉとの間の距１１１１１Ｌ（第２図参照）を半
径とする環状となる。吐出装置１３が一回転すると、フ
ォトポリマーの吐出を停止［シ、初期位置まで上昇する
。塗イ１１コニ桿が終了りると、下部ハウジング２０が
上部ハウジング２１の下方まで移動し、転写■稈に移１
コする。
転写工程については、第３図及び第５図（ａｌ・〜・（
ωに基づいて説明する。転写工程の初期状態においては
、第５図（ωに承り様に、上部ハウジング２０に対して
上部ハウジング２１がＮ１間しでＪ３す、またサブスト
レート４３を担持したＬシタ−ボス２５及び真空パッド
３７．３８は上昇している。この初期状態から上部ハウ
ジング２１が下降し、第５図曲に示す様に、下部ハウジ
ング２０との聞に密閉室を形成する。」二部、下部ハウ
ジング２１゜２０の外縁部間にはＯリング５ｏが介在し
、密閉室の気密性を維持する。このとぎ、センター押え
４４はスプリング４５の弾発力によってサブストレート
４３をセンターボスに２５に押しっけ、また真空パッド
３７はリーストレート４３の上面に接触し、更に負圧−
６５０１１１ｍ１−１ （ｌ程度の真空度の減圧状態と
されることにより勺ブス］〜レート４３を吸着する。そ
の後、前記密閉室が下部ハウジング２０に形成された連
通路３４ａ 、３４ｂ及び真空配管３５．３６を介して
図示せぬ真空ポンプにより、負圧−ｂ ＯＯｎ１ｍ１−
Ｉ Ｑ程度の真空度に減圧され、その状態が保たれる。
ωに基づいて説明する。転写工程の初期状態においては
、第５図（ωに承り様に、上部ハウジング２０に対して
上部ハウジング２１がＮ１間しでＪ３す、またサブスト
レート４３を担持したＬシタ−ボス２５及び真空パッド
３７．３８は上昇している。この初期状態から上部ハウ
ジング２１が下降し、第５図曲に示す様に、下部ハウジ
ング２０との聞に密閉室を形成する。」二部、下部ハウ
ジング２１゜２０の外縁部間にはＯリング５ｏが介在し
、密閉室の気密性を維持する。このとぎ、センター押え
４４はスプリング４５の弾発力によってサブストレート
４３をセンターボスに２５に押しっけ、また真空パッド
３７はリーストレート４３の上面に接触し、更に負圧−
６５０１１１ｍ１−１ （ｌ程度の真空度の減圧状態と
されることにより勺ブス］〜レート４３を吸着する。そ
の後、前記密閉室が下部ハウジング２０に形成された連
通路３４ａ 、３４ｂ及び真空配管３５．３６を介して
図示せぬ真空ポンプにより、負圧−ｂ ＯＯｎ１ｍ１−
Ｉ Ｑ程度の真空度に減圧され、その状態が保たれる。
この状態では、真空パッド３７内と密閉室内どの間には
約１５０ ｍｍ１−１ ｇの差圧があり、この差圧によ
りり゛ブストレート４３は真空パッド３７に吸着されて
いる。
約１５０ ｍｍ１−１ ｇの差圧があり、この差圧によ
りり゛ブストレート４３は真空パッド３７に吸着されて
いる。
次いで、センターボス２５がカム３１の回転に応動して
下降する。このとぎ、リーブストレート４３の外周部は
真空パッド３７に吸着されており、ザブストレート／１
３の内周部のみがセンターボス２５と一体に下降し、第
・５図（Ｃ）に承り様に、ます゛す°ジストレー１−４
３の内周がスタンバ−１巳）十のフォトポリマー２１〕
に接触り°る。これにＪ：リノＡトボリマ−２Ｐはその
表面張力によりメタンパー１５の信号面の内周部全面に
ｉ７っＣ広がる。次いで、第５図（小に示す如く、Ｑ空
バッド３７が＋１（ｆすると、〕〕Ａトポリマー２１が
メタンパー１５とザブストレート４３との間に仝而にｊ
−１つ−（充填されることになる。このように、負圧−
！、； ００ ｍｍ ｌ １ｏ程度の真空度に減圧され
た密閉室内におい（、ザブストレート４３をスタンバ−
１５に対しく゛ぞの内周部から外周部にかｃ〕（徐々に
Ｉ−降さ０．ることにより、フォトポリマー２１）内ｌ
＼の泡の巻き込みを極めて少なくすることがでさる１゜
フォトポリマ−２１）がスタンバ−１５とリブストレー
１−４３との間に充填されると、第５図（０１に示す様
に、環状シール４７が真空パッド３８により吸着された
状態で真空パッド３８と共に下降し、サブストレート４
３の外縁部を押えると共に、スタンバ−１５の最外周部
に沿って形成された環状ｆｒ４３３ ａを覆う。このと
き環状シール４７ど上部ハウジング２０どの間に０リン
グ５′）１が介７１シ、これにより環状溝３３ａの気密
性が維１、“１される。
下降する。このとぎ、リーブストレート４３の外周部は
真空パッド３７に吸着されており、ザブストレート／１
３の内周部のみがセンターボス２５と一体に下降し、第
・５図（Ｃ）に承り様に、ます゛す°ジストレー１−４
３の内周がスタンバ−１巳）十のフォトポリマー２１〕
に接触り°る。これにＪ：リノＡトボリマ−２Ｐはその
表面張力によりメタンパー１５の信号面の内周部全面に
ｉ７っＣ広がる。次いで、第５図（小に示す如く、Ｑ空
バッド３７が＋１（ｆすると、〕〕Ａトポリマー２１が
メタンパー１５とザブストレート４３との間に仝而にｊ
−１つ−（充填されることになる。このように、負圧−
！、； ００ ｍｍ ｌ １ｏ程度の真空度に減圧され
た密閉室内におい（、ザブストレート４３をスタンバ−
１５に対しく゛ぞの内周部から外周部にかｃ〕（徐々に
Ｉ−降さ０．ることにより、フォトポリマー２１）内ｌ
＼の泡の巻き込みを極めて少なくすることがでさる１゜
フォトポリマ−２１）がスタンバ−１５とリブストレー
１−４３との間に充填されると、第５図（０１に示す様
に、環状シール４７が真空パッド３８により吸着された
状態で真空パッド３８と共に下降し、サブストレート４
３の外縁部を押えると共に、スタンバ−１５の最外周部
に沿って形成された環状ｆｒ４３３ ａを覆う。このと
き環状シール４７ど上部ハウジング２０どの間に０リン
グ５′）１が介７１シ、これにより環状溝３３ａの気密
性が維１、“１される。
次いでリブストレー１・４３の上方の密閉室内が大気圧
に戻されるが、環状溝３３ａ 、３３ｂが）＋１！通路
３４ａ、３４ｂを介して減圧されて、１３す、フォトポ
リマー２１〕による樹脂層が真空状態になり、かつザブ
ストレート４３がスタンバ−１５に大気圧で押しつ【プ
られるので、樹脂層内に巻き込まれた泡が真空源方向づ
−なわちサブストレート４３の内周及び外周方向に押し
出されて除去される。同＋１．’ｊに樹脂層の厚さが約
１０μｍ以−トに均一に保たれる。ぞの後上部ハウジン
グ２１が上界し、同時に真空パッド３７も上部ハウジン
グ２１に対して上昇する。環状シール４７は環状溝３３
ａを覆った状態を持続する。
に戻されるが、環状溝３３ａ 、３３ｂが）＋１！通路
３４ａ、３４ｂを介して減圧されて、１３す、フォトポ
リマー２１〕による樹脂層が真空状態になり、かつザブ
ストレート４３がスタンバ−１５に大気圧で押しつ【プ
られるので、樹脂層内に巻き込まれた泡が真空源方向づ
−なわちサブストレート４３の内周及び外周方向に押し
出されて除去される。同＋１．’ｊに樹脂層の厚さが約
１０μｍ以−トに均一に保たれる。ぞの後上部ハウジン
グ２１が上界し、同時に真空パッド３７も上部ハウジン
グ２１に対して上昇する。環状シール４７は環状溝３３
ａを覆った状態を持続する。
下部ハウジング２０は、環状溝３３ａ 、３３ｂが減圧
された状態で、第１図に示Ｊ照射装質３の下方まで移動
し、照射工程に移行する。照射工程では、環状溝３３ａ
、３３１＋の減Ｌ［によりフォトポリマー２Ｐからな
る樹脂層は・その７’／みが約１０μｍ以下に保たれた
状態で４ノブストレー１〜４３を介して照９Ａ［？３に
より紫外線照ｑ・１を受け、硬化づる。硬化した樹脂層
の厚みは約１０μｍ以下どなる。サブストレート４３３
の外縁部上には環状シール４７が存在するが、当該シー
ル４７番よ紫外線透過性の祠質からなっているので、樹
脂層全体に亘って良好に紫外線が照射されることになる
。照Ｑ４工程が終了すると、下部ハウジング２０がｉｌ
Ｊび上部ハウジング２１の下方まで移動し、剥１１１１
工程に移行（る。
された状態で、第１図に示Ｊ照射装質３の下方まで移動
し、照射工程に移行する。照射工程では、環状溝３３ａ
、３３１＋の減Ｌ［によりフォトポリマー２Ｐからな
る樹脂層は・その７’／みが約１０μｍ以下に保たれた
状態で４ノブストレー１〜４３を介して照９Ａ［？３に
より紫外線照ｑ・１を受け、硬化づる。硬化した樹脂層
の厚みは約１０μｍ以下どなる。サブストレート４３３
の外縁部上には環状シール４７が存在するが、当該シー
ル４７番よ紫外線透過性の祠質からなっているので、樹
脂層全体に亘って良好に紫外線が照射されることになる
。照Ｑ４工程が終了すると、下部ハウジング２０がｉｌ
Ｊび上部ハウジング２１の下方まで移動し、剥１１１１
工程に移行（る。
剥離工程については、第３図及びＩ！ ６図（ａ）〜山
）に基づいて説明する。剥ｌ１１１１丁稈に移行り゛る
と、」部ハウジング２１が下降し、り１６図（ａ）に示
づ様に、下部ハウジング２０との間に１１１び密閉室を
形成し、また真空バッド３８が下降状態にあるので環状
シール４７の上面に当接し、リーブストレー１〜４３の
外縁部を押しつける。次いでカム３１が回転し、これに
応動してセンターボス２５が、サブストレート４３と一
体に硬化したフＡ１−ポリマー２１〕（樹脂層）の最内
周をスタンパ−１５から剥離できる程度、例えば１〜３
ｍｍ程度上背する。これにより樹脂層の最内周が剥離さ
れる。なお、センターボス２５の最大ストローク【ま例
えば８ｍｍ程磨程度る。
）に基づいて説明する。剥ｌ１１１１丁稈に移行り゛る
と、」部ハウジング２１が下降し、り１６図（ａ）に示
づ様に、下部ハウジング２０との間に１１１び密閉室を
形成し、また真空バッド３８が下降状態にあるので環状
シール４７の上面に当接し、リーブストレー１〜４３の
外縁部を押しつける。次いでカム３１が回転し、これに
応動してセンターボス２５が、サブストレート４３と一
体に硬化したフＡ１−ポリマー２１〕（樹脂層）の最内
周をスタンパ−１５から剥離できる程度、例えば１〜３
ｍｍ程度上背する。これにより樹脂層の最内周が剥離さ
れる。なお、センターボス２５の最大ストローク【ま例
えば８ｍｍ程磨程度る。
この状態にＪ３いて、図示せぬ空気圧送手段から真空配
管３６及び連通路３４ｂを介して圧縮空気（１〜５Ｋｇ
程度）を樹脂層の最内周に送ることにより、サブストレ
ート４３の外縁部が環状シール４７で押えられているの
で、圧縮空気はリブストレート４３の外縁部から漏れる
ことなく全面に亘って流れ、これにより樹脂層は第６回
出）に示す如く、環状シール４７で押えられた最外縁部
を除く全面に亘って剥離する。次いで、真空パッド３８
が減圧され、環状シール４７を吸引後上昇する。
管３６及び連通路３４ｂを介して圧縮空気（１〜５Ｋｇ
程度）を樹脂層の最内周に送ることにより、サブストレ
ート４３の外縁部が環状シール４７で押えられているの
で、圧縮空気はリブストレート４３の外縁部から漏れる
ことなく全面に亘って流れ、これにより樹脂層は第６回
出）に示す如く、環状シール４７で押えられた最外縁部
を除く全面に亘って剥離する。次いで、真空パッド３８
が減圧され、環状シール４７を吸引後上昇する。
同時に、真空パッド３７が下降し、第６図（Ｃ）に示す
如く、ザブストレー１〜４３の上面に当接する。
如く、ザブストレー１〜４３の上面に当接する。
そして真空バッド３７は負圧−６５０ｍ１ｌｌｉｌ Ｑ
程度の真空度に減圧され、これによりザブストレー］〜
４３を吸引し、この状態で上昇することにより樹脂層の
最外周部を剥離りる。（−Ｕ） ｌｕ減圧状態が解除さ
れる。続いてカム３１の回転に応動してセンターボス２
５がサブストレート４３を担持して上昇し、第６図（山
に示１初期状態に戻る。しかる後上部ハウジング２１が
上背し、剥＋１１ｔ ：ｒ稈を終了りる。以後アルミ蒸
着膜をｆｊ＆Ｊ、史にＡ−バー＝１−トすることにより
、光学式デ、ｆスフの完成品となる。
程度の真空度に減圧され、これによりザブストレー］〜
４３を吸引し、この状態で上昇することにより樹脂層の
最外周部を剥離りる。（−Ｕ） ｌｕ減圧状態が解除さ
れる。続いてカム３１の回転に応動してセンターボス２
５がサブストレート４３を担持して上昇し、第６図（山
に示１初期状態に戻る。しかる後上部ハウジング２１が
上背し、剥＋１１ｔ ：ｒ稈を終了りる。以後アルミ蒸
着膜をｆｊ＆Ｊ、史にＡ−バー＝１−トすることにより
、光学式デ、ｆスフの完成品となる。
なお、上記実施例においＣは、リブストレー１−４３の
内周部及び外周部の両方の気密性を冷］１持しかつサブ
ストーレー１〜４３の内周部を僅かにＪ、’ｒ ’５．
４＝げた後、空気を圧送して樹脂層をリーブストレー１
・４３と一体に剥Ｉ！！ｌりる構成としたが、基本的に
は、樹脂層とスタンパ−との結合力が各々の４Ｊ Ｙ’
ｉ土から比較的弱いので、サブストレー１−４３の内周
部の気密性を維持するのみぐ空気を圧送づることにより
、樹脂層の剥離を１７えるのである。
内周部及び外周部の両方の気密性を冷］１持しかつサブ
ストーレー１〜４３の内周部を僅かにＪ、’ｒ ’５．
４＝げた後、空気を圧送して樹脂層をリーブストレー１
・４３と一体に剥Ｉ！！ｌりる構成としたが、基本的に
は、樹脂層とスタンパ−との結合力が各々の４Ｊ Ｙ’
ｉ土から比較的弱いので、サブストレー１−４３の内周
部の気密性を維持するのみぐ空気を圧送づることにより
、樹脂層の剥離を１７えるのである。
−−１
以上説明したように、本発明によれば、空気圧を利用し
て硬化した樹脂層をスタンバ−から剥離するようにした
ので、デ５ｒスクを損（！；ｉ７することなく迅速かつ
確実に剥離を行うことができ、更にはベースに孔加工を
施Ｊのみで良いので、構造が簡単で低コストのディスク
製造装置が４！７られる。
て硬化した樹脂層をスタンバ−から剥離するようにした
ので、デ５ｒスクを損（！；ｉ７することなく迅速かつ
確実に剥離を行うことができ、更にはベースに孔加工を
施Ｊのみで良いので、構造が簡単で低コストのディスク
製造装置が４！７られる。
第１図は本発明に係る製造装置の一部断面図を含む正面
図、第２図は第１図における塗布装置の一部断面を含む
側面図、第３図は第１図におりる転写・剥離装置の断面
図、第１図は第３図の要部拡大図、第５図（ａ）〜（０
）は転写工程にｄＢノる動作説明図、第６図（ａ）〜（
小は剥離（工程にＪ３りる動作説明図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・塗布装置 ２・・・・・・転写・剥離装置 ３・・・・・・照射装置 １３・・・・・・吐出装置１
４・・・・・・ニードル部 １５・・・・・・スタンバ
−２０・・・・・・下部ハウジング ２１・・・・・・上部ハウジング ２５・・・・・・レンターボス ３１・・・・・・カム ３７．３８・・・・・・真空パッド ４３・・・・・・ザブストレー１・ ４７・・・・・・環状シール ４９・・・・・・マクネッｌ− 出願人 パイＡニア株式会ネ１ 代理人 弁理士 ＃ｉ＋４元彦 （外１名） 入４０ 簗２５図 （θ） ＃５（２］ （Ｃ） （ｄ） 地５１２］ （ｅ） 本４ 図 １（１） ＃乙 図 （（〕
図、第２図は第１図における塗布装置の一部断面を含む
側面図、第３図は第１図におりる転写・剥離装置の断面
図、第１図は第３図の要部拡大図、第５図（ａ）〜（０
）は転写工程にｄＢノる動作説明図、第６図（ａ）〜（
小は剥離（工程にＪ３りる動作説明図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・塗布装置 ２・・・・・・転写・剥離装置 ３・・・・・・照射装置 １３・・・・・・吐出装置１
４・・・・・・ニードル部 １５・・・・・・スタンバ
−２０・・・・・・下部ハウジング ２１・・・・・・上部ハウジング ２５・・・・・・レンターボス ３１・・・・・・カム ３７．３８・・・・・・真空パッド ４３・・・・・・ザブストレー１・ ４７・・・・・・環状シール ４９・・・・・・マクネッｌ− 出願人 パイＡニア株式会ネ１ 代理人 弁理士 ＃ｉ＋４元彦 （外１名） 入４０ 簗２５図 （θ） ＃５（２］ （Ｃ） （ｄ） 地５１２］ （ｅ） 本４ 図 １（１） ＃乙 図 （（〕
Claims (1)
- ベース上に設置）られたスタンパ−の信号面と透明基板
との間にて放射線照射にＪ、り硬化した樹脂層を、前記
透明基板と一体に前記スタンパ−から剥離するようにな
された情報記録円板の製造装置であって、前記透明基板
の内周部と前記ベースとの間の気密性を維持する手段と
、前記透明基板の内周部と前記ベースとの間に空気を圧
送１゛る空気圧送手段とを備え、前記空気圧送手段から
の空気圧によって前記樹脂層を前記スタンパ−から剥離
することを特徴とする情報記録円板の製ｙＪ’ｉ装首。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23035983A JPS60122139A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23035983A JPS60122139A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122139A true JPS60122139A (ja) | 1985-06-29 |
Family
ID=16906620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23035983A Pending JPS60122139A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122139A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0339616A2 (en) * | 1988-04-27 | 1989-11-02 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Apparatus for manufacturing optical information recording medium |
| JPH0267116A (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-07 | Meiki Co Ltd | ディスク成形方法及びそのための成形型 |
| US5626885A (en) * | 1990-11-19 | 1997-05-06 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing an optically readable disc, and arrangement for carrying out the method |
| JP2006136710A (ja) * | 2004-10-14 | 2006-06-01 | Naris Cosmetics Co Ltd | 超音波美容・歯磨き装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58122828A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-07-21 | トムソン−セ−・エス・エフ | デイスク盤離型方法およびその離型装置 |
| JPS58151223A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光デイスク基板の製造法及び成形金型 |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23035983A patent/JPS60122139A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58122828A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-07-21 | トムソン−セ−・エス・エフ | デイスク盤離型方法およびその離型装置 |
| JPS58151223A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光デイスク基板の製造法及び成形金型 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0339616A2 (en) * | 1988-04-27 | 1989-11-02 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Apparatus for manufacturing optical information recording medium |
| JPH0267116A (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-07 | Meiki Co Ltd | ディスク成形方法及びそのための成形型 |
| US5626885A (en) * | 1990-11-19 | 1997-05-06 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing an optically readable disc, and arrangement for carrying out the method |
| JP2006136710A (ja) * | 2004-10-14 | 2006-06-01 | Naris Cosmetics Co Ltd | 超音波美容・歯磨き装置 |
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