JPS6225126A - 付加型イミド樹脂積層板 - Google Patents

付加型イミド樹脂積層板

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JPS6225126A
JPS6225126A JP16443085A JP16443085A JPS6225126A JP S6225126 A JPS6225126 A JP S6225126A JP 16443085 A JP16443085 A JP 16443085A JP 16443085 A JP16443085 A JP 16443085A JP S6225126 A JPS6225126 A JP S6225126A
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中本 篤宏
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美久 須川
Kenji Ogasawara
健二 小笠原
Masahiro Matsumura
松村 昌弘
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K1/02Details
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    • H05K1/0313Organic insulating material
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、プリント配線板の製造等に使用される付加
型イミド樹脂プレポリマー、プリプレグおよび積層板に
関する。
〔背景技術〕
従来、多層プリント配線板製造用の樹脂として、優れた
接着性、耐薬品性、電気特性1機械特性等を有するエポ
キシ樹脂材料が多く使用されてきたが、高密度実装用の
高多層プリント配線板に使用した場合は、実装工程での
耐熱性の問題、またj/ジンスミアや厚み方向の熱膨張
などによる導通信頼性の低下が問題となる。これらの問
題点を材料面から解決するため、イミド樹脂などの耐熱
材料が開発され、実用化されている。特に、不飽和ビス
−イミドとジアミンとを反応させた付加型イミド樹脂は
、■高密度化するための細線化、?j11.細孔あけな
どの高精度加工が可能である、■厚み方向の熱膨張率が
小さく、スルーホールメッキによる導通信頼性が高い、
■ドリル加工工程でのスミア発生がない、■高温時の導
体密着力および硬度が高く、実装性が向」−する、■高
温(200℃)での連続使用に耐える等の特徴を有して
いることにより、多層プリント配線板材料用途に多く使
用されるようになってきた。
しかしながら、近年、大型コンビ二−タ用等の多層プリ
ント板はより高密度実装化、高多層化される傾向にあり
、このために回路の微細化、スルーボール穴径の縮小の
要求が強い。この要求を実現するために、従来よりさら
に高いレベルの寸法安定性、密着性が基板に要求される
様になった。
すなわち、基板の寸法変化は多層板の内、外層回路の位
置的なズレに直接影響し、多層板サイズを大きくした場
合には特Qこ寸法変化のバラツキは極小におさえねばな
らない。このため、基板作製に際しては低い圧力で成形
加工を行うことが好ましい。高い圧力で成形を行うと寸
法安定性が悪くなるからである。他方、密着性に関して
は、回路の微細化により、回路と樹脂との密着性は当然
高くなければならないが、基材と樹脂との密着性も高く
なければならず、また、屓と屓の間の密着も高くなけれ
ばならない。なぜならば、密着性が低いと、多層板に穴
開は加工を行う等の各種の加工]L程において基材と樹
脂の間に微細な剥離が生じる、あるいは、基板内部の眉
間に剥離が発生するといった不都合が生じるからである
。一般に知られている付加型イミド樹脂は、大型コンピ
ュータ用等の多5Fiレベルでみれば、基材との密着性
が不充分であるために、ドリル加工による孔あけ工程で
微細な剥離が生じやすい。また、基板を作製するに際し
、プリプレグを低圧力で成形すればボイドが発生して均
一な基板が14られないので、必然的に高圧力で成形を
行う必要がある。このために、基板の寸法安定性も不充
分になる。
〔発明の目的〕
この発明は、電子部品の高密度実装を可能にする高密度
高多層プリント板を得られることのできる付加型イミド
樹脂プレポリマー、プリプレグおよび積層板を提供する
ことを目的としている。
〔発明の開示〕
前記のような目的を達成するため、発明者らは、まず、
一般に知られている付加型イミド樹脂ブし・ポリマーを
用いた場合、基材との密着性が不充分になり、低圧力で
成形するとボイドが発生ずる原因について研究した。そ
の結果、一般の付加型イミド樹脂プレポリマーが高分子
領域の成分を多く含有していることが原因であることが
わかワた。発明者らは、さらに研究を重ねた結果、基材
との密着性が充分で低圧力で成形してもボイドの発生し
ない組成の付加型イミド樹脂を見出し、ここに、以下の
、三つの発明を完成しi、:。
才なわら、第1の発明は、不飽和ビス−イミドとジアミ
ンとを反応さゼでなる付加型イミド樹脂プレポリマーで
あって、残存する未反応原料を15〜55%2分子量4
00以上15000以下の成分を39〜80%1分子量
が15000を越える成分を0.7〜6.8%の範囲で
それぞれ含むことを特徴とする付加型イミド樹脂プレポ
リマー、第2の発明は、残存する未反応原料を15〜5
5%、分子量400以上15000以下の成分を39〜
80%1分子量が1soooを越える成分を0゜7〜6
.8%の範囲でそれぞれ含むようにして不飽f【】ビス
−イミドとジアミンとを反応させて得られる(=1 加
型イミド樹脂プレポリマーを基材に含浸させ、半硬化さ
せることにより、樹脂中の未反応原料が15〜35%1
分子量400以上15000以下の成分が50〜80%
9分子量が15000を越える成分が1〜15%となる
ようにしたプリプレグ、第3の発明は、プリプレグが積
層成形されてなる積層板であって、プリプレグとして、
残存する未反応原料を15〜55%1分子量400以上
15000以下の成分を39〜80%2分子量が150
00を越える成分を0.7〜6.8%の範囲でそれぞれ
含むようにして不飽和ビス−イミドとジアミンとを反応
させて得られる付加型イミド樹脂プレポリマーを基材に
含浸させ、半硬化させることにより、樹脂中の未反応原
料が15〜35%3分子量400以上15000以下の
成分が50〜80%1分子量が15000を越える成分
が1〜15%となるようにしたものが用いられているこ
とを特徴とする積層板をそれぞれ要旨としている。
以下に、これらの発明の詳細な説明する。
ここで、不飽和ビス−イミドは下記の式(I)、ジアミ
ンは下記の式(II)でそれぞれあられされる。
(式中りは炭素−炭素間の二重結合を含む2価の基を表
し、Aは少なくとも2個の炭素原子を含む2価の基を表
す) H2N−B−NR2(Il) (式中Bは30個以下の炭素原子を有する2価の基であ
る) 記号のAおよびBは、同一かまたは異なることができ、
また131[IJよりも少ない炭素原子を持っている直
鎖のもしくは分岐したアルキレン基か、環の中に5個も
しくは6個の炭素原子を持っている環状アルキレン基か
、O,NおよびS原子の少なくとも1個を含む異種環状
基か、またはフェニレンもしくは多環状芳香族基である
こともできる。これ等の種々の基は、反応条件のもとて
不必要な副反応を与えない置換基を持っていてもよい。
記号のAおよびBはまた、沢山のフェニレン基か、また
は脂環状の基を表すこともできる。この場合において、
となりあうフェニレン基または脂環状基は、直接に結合
されるほか、酸素もくしは硫黄などの2価の原子を介し
て結合されるか、または炭素原子1個から3個のアルキ
レン群もくしは以下の群の内の1つの群を介して結きさ
れることかある。こltらの原子または群が複数存在す
る場合には、それぞれが同じであってもよく、異なって
いてもよい。
NR4−、−P (0)R3、N=N  。
N=N  、  −Co−0−、−502。
5iR3R4、C0NH。
−N Y−CO−X −CO−N Y −。
−o−co−x−co−o−。
式中R3,R4およびYは、おのおの、炭素原子1個か
ら4個のアルキル基、環中に5個もしくは6個の炭素原
子を持つ環状アルキル基、またはフェニルもしくは多環
状芳香族基を表し、Xは、13個よりも少ない炭素原子
を持っている直鎖もしくは分岐したアルキレン基、環中
に5個もしくは6個の炭素原子をもっている環状アルキ
レン基、または単環もしくは多環状アリレン基を表す。
基りは式; のエチレン系無水物から誘導されるもので、例えばマレ
イン酸無水物、シトラコン酸無水物、テトラヒドロフタ
ル酸無水物、イタコン酸無水物、およびシクロジエンと
これ等の無水物の1つの間に起こるディールスアルダー
反応の生成物を表すこともできる。
式(1)であられされる不飽和ビス−イミドの好ましい
例には、次のものが挙げられる。マレインMN −N 
′−エチレンービスーイミド、マレイン酸N−N′−ヘ
キサメチレン−ビス−イミド、マレイン酸N −N ’
−メタフェニレンービスーイミド、マレイン酸N−N’
−パラフェニレン−ビス−イミド、マレイン酸N−N’
−4・4′−ジフェニルメタン−ビス−イミド(N −
N ′−メチレンビス(N−フェニルマレイミド)とも
言う〕、マレイン酸N−N’−4・4′−ジフェニルエ
ーテル−ビス−イミド、マレイン酸N −N ′−4・
4′−ジフェニルスルフォン−ビス−イミド、マレイン
酸N−N′−4・4′−ジシクロヘキシルメタル−ビス
−イミド、マレイン酸N −N ’ −α・α′−4・
4′−ジメチレンシクロヘキサン−ビス−イミド、マレ
イン酸N−N ’−メタキシリレンービスーイミド、お
よびマレイン酸N−N′−ジフェニルシクロヘキサン−
ビス−イミド。
式(II)であられされるジアミンの好ましい実例には
、次のものがある。4・4゛−ジアミノジシクロヘキシ
ルメタン、■・4′−ジアミノシクロヘキサン、2・6
−ジアミツビリジン、メタフェニレンジアミン、パラフ
ェニレンジアミン、4・4′−ジアミノ−ジフェニルメ
タン、2・2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、
ベンジジン、4・4′−ジアミノフェニルオキサイド、
4・4′−ジアミノジフェニルサルファイド、4・4′
−ジアミノジフェニルスルフォン、ビス−(4−アミノ
フェニル)ジフェニルシラン、ビス−(4−アミノフェ
ニル)メチルフォスフインオキサイド、ビス=(3−ア
ミノフェニル)メチルフォスフインオキサイド、ビス−
(4−アミノフェニル)−フェニルフォスフインオキサ
イド、ビス−(4−アミノフェニル)フエニラミン、■
・5−ジアミノナフレン、メタキシリレンジアミン、パ
ラキシリレンジアミン、■・1−ビス−(パラ了ミノフ
ェニル)フタランおよびヘキサメチレンジアミン。
第1の発明にかかる付加型イミド樹脂プレポリマーは、
前記のようなどスーイミドおよびジアミンを触媒を用い
て反応させ得られる。ここで触媒は使用する極性溶媒中
でプロトン供与体となりマイケル付加を促進させるもの
を用いる。触媒の例を次のページに示す。
得られたプレポリマーは組成が以下に示されるようにな
っている必要がある。
すなわち、未反応原料は15〜55%となっている必要
がある。55%を越えると、N−メチルピロリドンやジ
メチルアセトアミド等の極性溶媒にプレポリマーを溶解
させてワニスを調整した場合、溶剤に対する溶解性が低
いため、沈澱が析出しやすくなる。
また15%未満の場合は、ワニスの硬化までの時間が短
くなるため、可使時間が短くなる。
触媒の例 トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルア
ミン、N、N−テトラメチルエチレンジアミン、N、N
−テトラメチル−1,3−ブタンジアミン、トリエチレ
ンジアミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、α−ピ
コリン、キノリン、N、N’−ジメチルアニリン、N、
N’−ジエチルアニリン、ジメチルベンジルアミン等の
第三級アミン、 ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハ
ク酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸等の有機酸、 および水。
分子量400以上15000以下の成分は、熔解性が良
好で活性度が高(、基材と良好な密着性を示す成分であ
る。この観点より考えれば多い程好ましいのであるが、
80%を越えるよう合成すれば、いかなる触媒を用いて
も分子量15000を越える成分が多くなりすぎて粘度
が高くなりすぎる。また樹脂の硬化までの時間を短縮さ
せ、ワニスの可使時間が短くなり、乾燥時間が充分にと
れな(なる。
また39%未満では、未反応成分の残存が多くなり、ワ
ニスを調整した場合、沈澱が析出しやすくなるといった
ような前述の不都合が生じてくる。したがって、この成
分は39〜80%となっている必要がある。分子量15
000を越える高分子量成分の増大は、樹脂の硬化まで
の時間を短縮させる。そのため、ワニスの可使時間が短
くなり、乾燥時間が充分にとれなくなる。乾燥時間が充
分でないと、ワニス中に揮発成分が残存しやすくなる。
そして基材との密着性も低下する。したがって、この成
分は、少ない程良い。
発明者らが分子量50000を越える成分を分取し、こ
れをd−DMFに溶解した溶液をNMR分析にかけたと
ころ、ジアミン成分はほとんど認められず、不飽和ビス
−イミドの単独重合物であることが認められた。この重
合物は可撓性に乏しく、基材との密着性が低いことが知
られており、この意味からも分子115000を越える
成分は少ない方が好ましい、しかし、樹脂合成反応を開
始すると、直ちに分子量15000を越える領域が生成
してくるので、皆無にすることは不可能である。そこで
、分子itl 5000を越える成分は、0.7〜6.
8%となっている必要がある。
6.8%を越えると上記のように、粘度が高くなるとい
った不都合が生じ、0.7%未満では反応不十分でワニ
スが低粘度になり、ガラス布等の基材に含浸した場合適
正なレジンコンテントが得られず、またワニスは沈澱が
生じやすくなるという不都合が生じてくる。
ここで、分子量分布は、DMF溶媒を使用し1、分離カ
ラムとして昭和電工部AD−803/S (8、OX 
25 (1+m、理論段数6000段)を2本装着した
ゲル浸透クロマトグラフ(東洋ソーダ製HLC−803
D)により測定した。分子量の計算は、5種類の単分散
ポリエチレングリコール及びエチレングライコールモノ
マーのリテンションタイムと分子量の常用対数から、3
次式の回帰曲線を求め、これを試料に適用し、試料のリ
テンションタイムから逆に分子量を求めるという方法で
行った。また、各成分の割合(%)は、示差屈折計(1
28Xlo−8RI単位)を用い、試料濃度を0.5±
0.2%、試料注入量を100μlとして測定し、屈折
計出力0〜1■記録計への出力O〜10mV、チャート
速度5ma+速度5レa+/れたクロマトグラムを、必
要な分子量区分に分け、切りぬき重量法により、それぞ
れの比率を求めた。
各成分が前記のような成分割合となった付加型イミド樹
脂プレポリマーは、基材との密着性が高く耐熱性も高い
。市販品の中にはこのような成分割合のものは無く、一
般的に入手することはできない。発明者らが調べたとこ
ろによると、市販品は、第1の発明の付加型イミド樹脂
プレポリマーに比べ、分子量15000を越える成分の
割合が太き(異なり、市販品のいずれかにこの成分を非
常に大きく含有するものであった。
第1の発明のプレポリマー、は、普通、不飽和ビス−イ
ミドとジアミンとを極性溶媒中で95℃以下の低温で反
応させることにより得られるが、温度は60〜95℃が
より好ましい。従来一般に用いられている温度条件、す
なわち、120〜200℃での溶融反応、極性溶媒によ
る溶液反応は、未反応原料の効率良い減少が計れるもの
の、反応が進み過ぎ、分子量15000を越える成分が
多く生成してくる。分子量15000を越える成分を0
.7〜6.8%に止めるようにした場合には、反応が不
充分で未反応原料が多く残存するようになる。この傾向
は熱溶融反応を高温で行うほど顕著になり、この場合、
未反応原料が多く存在し、かつ、15000を越える成
分も多く存在する様になる。その結果として最も有効な
成分である分子量400以上15000以下の部分が極
端に少なくなる。前記のような反応は通常0.5〜10
時間行われるが、具体的な時間は原料の種類、極性溶媒
の種類、′a度1反応温度により選択され、前記の範囲
を外れる場合もある。
不飽和ビス−イミドとジアミンの配合率は、1゜7/1
〜2.5 / 1モル比率が好ましく、1.7 / 1
より低いと高分子量分の生成が多くなり、硬化までの時
間も短くなり取扱いにくくなる。他方、2゜5/1を越
えると未反応原料が多く残存しやすくなり、特に不飽和
イミド成分が多く残るようになる。そのため、プレポリ
マー溶液の保管中に沈澱が析出し易くなる。これに対し
て、不飽和ビス−イミドとジアミンの配合率が、1.7
 / 1〜2.5/1の範囲内のものは、通常の保管中
および一5°Cで冷蔵保管しても沈澱の生成はほとんど
見られない。この配合比率は、最終的なものであって、
両者あるいは片方のみを2回以上に分けて使用し、反応
の途中段階で加えたり、場合によっては反応終了後に加
えたりするようであってもよい。
この発明の付加型イミド樹脂プレポリマーはプリント配
線板用積層板の他、各種充填材との組合わせにより、半
導体封止材料、高強度高弾性率電気機器用構造材料2電
磁波シールド材料等の成形材料、半導体素子のグイボン
ド用及びチップ部品搭載用等の接着材および回路印刷用
ペースト等の広範な電気用途に使用することが可能であ
り、こられに用いることにより高耐熱性、高密着性、可
撓性の良好な成形体を得ることが可能となる。
第2の発明にかかるプリプレグは、第1の発明にかかる
付加型イミド樹脂プレポリマーを基材に含浸させたのち
、プレポリマーの第2次反応および溶媒を蒸発させるこ
とを行ってプレポリマーを半硬化させ、樹脂中の未反応
原料が15〜35%、分子量400以上15000以下
の成分が50〜80%1分子量1soooを越える成分
が1〜15%となるようにしたものである。このプリプ
レグは、第1の発明にかかる付加型イミド樹脂プレポリ
マーを用いなければ、得ることができない。未反応原料
の含有量が15%未満で、分子量が400以上1500
0以下の成分が80%を越え、分子量15000を越え
る成分が15%を越えると分子量15000を越える成
分が多くなって、樹脂の粘度が高くなりすぎる。そのた
め、低圧成形するとボイドが発生する。また、硬化まで
の時間が短か過ぎ、大きい積層板(成形板)を得るのが
困難になる。他方、未反応原料の含有量が35%を越え
、分子量400以上15000以下の成分が50%未満
で、分子量15000を越える成分が1%未満になると
、プリプレグ中に溶媒が残存しやず(なり、積層板にフ
クレ等が発生する原因になる。分子量15000を越え
る成分はやはり少ない方が好ましい。この理由はプレポ
リマーの説明のところで述べたとおりである。
市販の付加型イミド樹脂プレポリマーは、分子1150
00を越える成分が多量に含まれているので、どの様な
半硬化条件(第2次反応条件)を選んでも、前記のよう
な成分割合のプリプレグを得ることができない。
付加型イミド杉1脂プレポリマーを含浸させる基材の種
類は特に限定されない。通常は、ガラスクロス等が用い
られる。、この他、石英繊維布等の無機繊維布、ケブラ
ー繊維布等の高耐熱性有機繊維布などが用いられてもよ
い。これらの基材は通常カップリング剤等で表面処理を
施して用いられる半硬化させるときの温度は130〜1
55°Cで行うのが好ましい。155℃を越えると分子
量15000を越える成分の生成が促進され、130゛
C未満では効率よくプリプレグを生産することができな
い。
第3の発明にかかる積層板は、第2の発明乙こかかるプ
リプレグを用いてつくられる。すな1つら、必要に応じ
て、銅、ニッケル等の金属箔あるいは、9回路形成され
た内層材とともにこのプリプレグを積層成形してつくら
れる。第3の発明にかかる積層板は、第2の発明のプリ
プレグを用いるのでなければ、ボイドを生じさせること
なく低圧成形することができない。すなわち、50cI
IIX50cm以上の面積の積層板をボイドができない
よう成形する場合、市販のプレポリマーを用いたプリプ
レグが40kg/cm2以上の高圧力が必要であるのに
比べ、第2の発明のブリブ1/グは、15kg/am2
以下の低圧力で成形することが可能である。このため、
第3の発明にかかる積層板は、非常に寸法の安定したも
のとすることができる。また、この積層板は、第1の発
明にかかるプレポリマーが用いられるので樹脂と基材の
密着性が高い。したがって、この積層板を用いれば、高
密度高多層プリンI−板を得ることが可能となる。
つぎに、第1〜第3の発明の実施例、比較例および従来
例について説明する。
まず、第1の発明について説明する。
つぎのようにして、プレポリマー溶液の合成および調整
を行った。
実施例1〜6および比較例1〜6では、第1表に示され
る配合の原料の内N、N’−メチレンビス(N−フェニ
ルマレイミド)後添加分をのぞいた原料を31四つ目フ
ラスコに計り込み、撹拌棒、温度計、冷却器をフラスコ
に付けた後、側口より窒素ガスを通じた。フラスコ内の
空気を窒素置換した後、オイルバスにより加熱を行った
。内容物の溶解に伴い攪拌を開始し、第1表に示されて
いる温度に設定した。同表に示されている時間攪拌を続
けた後、ウォーターバスで冷却を行い、15分間で室温
まで温度を下げて、暗かっ免液体となったプレポリマー
溶液を得た。実施例6ではビス−イミドを603gと3
94gの2回に分けて計997g使用することとした。
そして、603gのビス−イミドを前記と同じように使
用して原料を120分間反応させた後、90℃で394
gのビス−イミドをフラスコに投入した。これを溶解さ
せた後、反応物を冷却してプレポリマー溶液を得た。比
較例6についても同様に先に828g後で83gの2回
に分けて計911g使用した。
従来例では市販のポリアミノビスマレイミドを第1表に
示されている量だけ用い、これを50℃以下で、同表に
示されている量のN−メチルピロリドン中に溶解させる
ことにより、赤かっ色のプレポリマー溶液を得た。
前記のようにして得られたプレポリマー溶液(樹脂液)
の分析値および特性値を第2表に示す。
第1表および第2表より、比較例1〜6は反応温度およ
び反応時間および触媒量の組合わせが通さなかったので
、この発明のプレポリマーが得られなかったことがわか
る。
つぎに、第2の発明について説明する。
先に得た、樹脂液を用い、表面処理を行った105g/
m2のガラスクロスに第3表の条件で含浸を行った。乾
燥品中で2次反応を行って、レンジコンテント47〜5
0%のプリプレグを作製した。得られたプリプレグの特
性を第3表の下欄に示す。
第3表より、比較例あるいは従来例のプレポリマーを用
いたのでは、この発明のプリプレグが得られないことが
わかる。また、第1の発明のプレポリマーを用いたとし
ても、半硬化後の樹脂の分子量分布が第2の発明で規定
した範囲を外れると、揮発分が多くなるかゲルタイムが
短くなることがわかる。
つぎに、第3の発明について説明する。
先に得たプリプレグを30cmX30c+aの大きさに
し、これを4枚重ね、これらの両面に表面処理を行った
同サイズの1/2オンス/ft2の銅箔を於いて積層体
とした。これを1.6 mm厚の金型にはさみ、蒸気プ
レスを用いて5kg/co+2の加圧を行いつつ直ちに
130℃まで加熱し、20分間保持した。この後、圧力
を10kg/cm2に設定するとともに170℃に加熱
し、90分後に圧力をかけたまま室温まで冷却して、両
面銅張積層板を得た。このものを、200.’C,12
0分間の温度条件でアフターキュアーを行った。
得られた積層板の吸水率をJIS  C6481にもと
づき、測定した結果を第4表に示す。
つぎに、50C1lX50(Jの大きさにした前記プリ
プレグを5枚重ね2段目の圧力を10kg/cm2と1
5kg/co+2の2種類をそれぞれ用いた以外は上記
と同様にして作成した積層板の、成形結果および層と層
の間を90°方向にはがしたときの密着力の測定結果を
同じく第4表に示す。
25C1lX25CIIのプリプレグ1枚と、同サイズ
で1オンス/ft2の銅箔2枚を用いた他は上記と同様
にして両面銅張積層板1次成形物を得た。このものに約
200TII+1間隔で基準点穴を開けた後、大間の寸
法を正確に測定し、両面の銅箔を常法に基づきエツチン
グ除去し、これ(内層材)の片面に前記と同寸法のプリ
プレグ2枚と同寸法で1オンス/fL2の銅箔1枚を積
層するとともに、反対面にも同様にプリプレグ2枚と銅
箔1枚を積層し、10kg/ca+2で170℃、90
分間上記と同様に成形後、200℃、120分でアフタ
ーキュアーして積層板を得た。この積層板の内層材の基
準穴上の銅箔を機械的に除去し、寸法を計測したときの
内層材の寸法変化を測定した。この測定方法に基づき以
上の測定を10回行った。このときの寸法変化のバラツ
キ(3σ)を同じく第4表に示す。
第4表より、実施例の積層板は、第2の発明のプリプレ
グを使用し、低圧で成形しているので、比較例および従
来例の各積層板に比べ、吸水率および寸法挙動が安定し
ていることがわかる。また、実施例の積層板の引きはが
し強度は、いずれも1、4 kg/ cI112を上廻
り、充分に満足すべきものであったこともわかる。
〔発明の効果〕
第1の発明にかかる付加型イミド樹脂プレポリマー、第
2の発明にかかるプリプレグおよび第3の発明にかかる
積層板は、前記のように構成されているので、これらを
用いれば、高密度高多層プリント板を得ることが可能に
なる。
すなわち、第1の発明にかかるプレポリマーは、N−メ
チルピロリドンやジメチルアセトアミド等の極性溶媒に
溶解してワニスを調整した場合、ワニス中に未反応原料
の沈澱や高分子量不溶解物を含まないクリアーなワニス
となり、また、ワニスの硬化までの時間が長いため、ワ
ニスの可使時間も長くなっている。
つぎに、第2の発明にかかるプリプレグは上記の第1の
発明にかかるプレポリマーを使用しているので、ワニス
の硬化までの時間が長く、充分に乾燥でき、プリプレグ
中に残存する揮発分が少なくなる。また樹脂の溶融粘度
が低くなるため、このプリプレグを低圧で成形してもカ
スレが発生しない等、大きいサイズの積層板の成形に適
している。
また第3の発明にかかる積層板は上記の第2の発明にか
かるプリプレグを使用しているので低圧で成形できるた
め寸法安定性がよく、基材と樹脂との密着力にすぐれた
I層板が得られた。
代理人 弁理士  松 本 武 彦 手□甫正書、(自治 昭和60年10月19日 才。冒ト庁長宮 殿 1、事件の表示 昭和60年特許19順164430号 2、発明の名称 (=J加梨型イミド樹脂プレポリマープリプレグおよび
積層板;〕、補正をする者 11件との関係     特許出願人 件   所    大阪府門真市大字門真1048番地
名 称(583)松下電工株式会社 代表者  イ誠1徴帝役藤井頁夫 4、代理人 な   し 一二・、 6、補正の対象 願書の添付書類の目録欄および明細書の発明の詳細な説
明の欄 7、補正の内容 (11願書の添付書類の目録欄を別紙添付にかかる願書
記載のとおりに訂正する。
(2)  明細書第9頁第5行に「もくしは」とあるを
、「もしくは」と訂正する。
(3)明細書第9頁第7行ないし第8行に「もくしは」
とあるを、「もしくは」と訂正する。
(4)  明細書第10頁の を、 と訂正する。
(5)明細書第12頁第3行ないし第4行に「ジシクロ
ヘキシルメタル」とあるを、「ジシクロヘキシルメタン
」と訂正する。
(6)  明細書第13頁第5行に「ジアミノナフレン
」とあるを、「ジアミノナフタレン」と訂正する。
(7)明細書第28頁第3表の最左棚下から2つめに「
160℃における」とあるを、「170℃における」と
訂正する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)不飽和ビス−イミドとジアミンとを反応させてな
    る付加型イミド樹脂プレポリマーであって、残存する未
    反応原料を15〜55%、分子量400以上15000
    以下の成分を39〜80%、分子量が15000を越え
    る成分を0.7〜6.8%の範囲でそれぞれ含むことを
    特徴とする付加型イミド樹脂プレポリマー。
  2. (2)残存する未反応原料を15〜55%、分子量40
    0以上15000以下の成分を39〜80%、分子量が
    15000を越える成分を0.7〜6.8%の範囲でそ
    れぞれ含むようにして不飽和ビス−イミドとジアミンと
    を反応させて得られる付加型イミド樹脂プレポリマーを
    基材に含浸させ、半硬化させることにより、樹脂中の未
    反応原料が15〜35%、分子量400以上15000
    以下の成分が50〜80%、分子量が15000を越え
    る成分が1〜15%となるようにしたプリプレグ。
  3. (3)プリプレグが積層成形されている積層板であって
    、プリプレグとして、残存する未反応原料を15〜55
    %、分子量400以上15000以下の成分を39〜8
    0%、分子量が15000を越える成分を0.7〜6.
    8%の範囲でそれぞれ含むようにして不飽和ビス−イミ
    ドとジアミンを反応させて得られる付加型イミド樹脂プ
    レポリマーを基材に含浸させ、半硬化させることにより
    、樹脂中の未反応原料が15〜35%、分子量400以
    上15000以下の成分が50〜80%、分子量が15
    000を越える成分が1〜15%となるようにしたもの
    が用いられていることを特徴とする積層板。
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