JPS61255542A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または、読み取シが出来る。光
情報記録媒体に関するものである。

即ち本発明は、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディス
ク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量コン
ピュータ用ディスク・メモリーなど各種用途の光ディス
クを対象とするものである。

〔従来技術〕

光情報記録媒体は数ミクロンの焦点深度を有するレンズ
により１元ビームを記録層に照射し、情報の書込み、読
出しを行うため、記録層上に崖埃が付着したシ、取シ扱
い時に記録層を傷つけると。

（ットエラー、ドロップアウト等の故障を起こしてい次
。そのため、二枚の円盤状基板が、円盤状基板に設けら
れた凸部もしくはスペーサーを介して接着剤により接合
され、少くともその１方の基板が透明基板でありその内
側表面に記録層が設けられたいわゆるエアーサンドイッ
チ構造が提案されている８少くともその一方に記録層が
設けられた二枚の円盤状基板を直接もしくは第三の基板
を介して記録層を内側にして貼シ合せたいわゆる貼シ合
せ構造も提案されている。

接着剤としては光重合性を肩する化合物を用いた接着剤
、例えは紫外線硬化型接着剤が、接着に要する時間も数
秒から数分と短時間ですみ、加熱を必要とせず変形も少
いので用いられている。

しかし従来の紫外線硬化型接着剤ではディスクが高温ｉ
！ｉｌ＋ｆｉの環境に置かれ次場合、ガラス基板及びプ
ラスチック基板のいずれについても耐久性が不充分であ
る。またアクリル樹脂やポリ塩化ビニル及びポリカーボ
ネート等のプラスチックを基板に用い九場合、特に接着
しにくくディスクを少し変形させただけで接着部が剥離
してし奮い笑用に耐えない。

このため％接着力を増加する目的で特開昭ｊ７−ｉ３ｒ
、ｏｔａ、特開昭１７−／２０，２１７３に示されてい
るように接着部表面を粗す事が提案されている。しかし
ながらこの場合表面を粗する際に塵埃が発生しこれが基
板に付着してしまう。

従って、表面を粗した基板を元ディスクに使用するには
洗浄をしなければならず大変不都合である何故なら光デ
イスク用の洗浄では水洗に使用する水でも純水製造機か
ら作シ出された純水を使用せねばならず更に乾燥するた
めにもクリーン乾燥機を使用しなければならない。接着
性を改良するｔめだけでこのような設備投資及び繁雑な
工程を取り入れるのは大変不都合である。

又、特願昭５ｒ−７ｉｒｒ≠ｌに示されているように、
基板を放電処理もしくは紫外線照射処理した後、電磁放
射線硬化型接着剤を用いて接着し。

接着力を飛躍的に改善する方法が開示されているが、こ
の方法は表面処理工程を必要とする。

〔発明が解決しようとしている問題廣〕本発明の目的は
、第一に、円盤状基板の接着部分が経時や変形により剥
離することのない情報記録媒体を得ることにある。

第二には、基板の表面処理を必要としない情報記録媒体
の組立方法を与えることにある。

〔問題を解決するための手段〕

本発明の目的は、二枚の円盤状基板が直接もしくはリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
着剤によシ接合され、かつ少なくともその一方の基板の
内側表面にレーザーによる情報の曹き込み及び／又は読
み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体に
おいて、前記接着剤が少なくともシリコーンゴムを包有
することにより達成される。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰カラス等のカラス；セ
ルキャストポリメチルメククリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；およびポリ
カーボネートを挙けることができる〜これらのうちで寸
度安定性、透明性および平面性の点から、好ましいもの
は強化ガラス等に代表されるガラス基板である。

記録層が設けられる側の表面には、平面性の改善、接着
力の向上および記録層の変質の防止の目的でＳまた記録
感度を向上させ、Ｓ／Ｎ比を高める目的で、下塗層が設
けられていてもよい。下塗層の材料としては、たとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホンｍ共ｘ合体、スチレン・ビニルトルエ
ン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ［化ビニル、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質；シ
ランカップリング剤などの鳴機物質；および無機酸化物
（ＳｉＯ□、Ａｌ２Ｏ３等）、弗化物（ＭｇＦ２　）な
どの無機物質を挙げることができる、基板から遊離する
アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンによ
る記録層への悪影響を防止する九めには、スチレン・無
水マレイン酸共重合体などの親水性基および／または無
水マレイン酸基を臂するポリマーからなる下塗層が設け
られているのが望ましい。また、断熱効果によシ感度を
高め、Ｓ／Ｎ比を向上させる友めには、ポリメチルメタ
クリレートを次ｔｉニトロセルロースからなる下塗層が
設けられているのが好ましい。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散し次後、このｍ薄液をスピンコードディップコート
、エクストルージョンコートナトの塗布法により基板表
面にｍ布することにより形成することができる。このと
き、基板とスペーサとの接漕力を高める友めに、基板の
スば一すとの接合部分にＦｉ塗膜を設けないで露出させ
ておくのが好ましい。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｉ乃
至２０μｍであり、好ましくはｏ、ｉ乃至７０μｍであ
る。

あるいは、基板（または下塗層）上には、トラッキング
用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種のモノマー（′！たけオリゴマー）と光
重合開始剤との混合物を用いることができる。

アクリル酸のモノエステルの例トシては、エチルアクリ
レート、ｎ−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、オクチルアクリレート、−−エチルへキシルアクリ
レート等のアルキルアクリレート；エトキシエチルアク
リレート等のアルコキシアルキルアクリレート；フェノ
キシエチルアクリレート等のフェノキシアルキル了クリ
レート；およびフェニルアクリレートなどが挙げられる
。

アクリル酸のジエステルの例としてＪｄ、／、ｊ−プロ
ｚｔンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジ
アクリレート；ジエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチ
レンジオールジアクリレート等のアルケンクリコールジ
アクリレートなどが挙げられる。

アクリル酸のトリエステルの例としては、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、はンタエリスリトオール
トリアクリレートなどが挙けられる。また、アクリル酸
のテトラエステルの例としてはペンタエリスリトールテ
トラアクリレートが挙けられる。さらに、ポリエチレン
ダリコールアクリレート、エポキシアクリレート等のオ
リゴマーのアクリル酸エステルが挙けられる。

光重合開始剤としては、７ｔとえばベンゾインイソブチ
ルエーテル等のベンゾイン化合物が挙けられる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
クンノに−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合
開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこあ塗布液層上
に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の
照射によシ液層を硬化させて基板と液層とを固着させる
６次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグ
ルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層
の層厚は、一般にＯ，ＯＳ乃至ｉｏｏμｍであり、好ま
しくはθ、！乃至５０μｍである。

又、プラスチック基板を用いる場合には、基板を射出成
型又は圧縮成型する際スタンノ七−を用い直接基板にク
ループを設けることができる・次に、基板（または下塗
層）上には記録層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ。

Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｎ％　Ｚｒ、Ａｌ　ｂｃｕｂ　　Ｇｅ等
の金属：Ｂｉ、　Ａｓ、ｓｂ等の半金属；Ｇｅ、Ｓｉ等
の半導体；およびこれらの合金またはこれらの組合せを
挙げることができる。憧た、これらの全極または半金属
の硫化物、Ｎｋ化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物
および窒化物等の化合物：およびこれらの化合物と金属
との混合物も記録層に用いることができる、 記録層は、上記材料を蒸Ｎ、ス／ｅツタリング、イオン
ブレーティングなどの方法によシ基板上に形成される。

記録層は単層または重層でもよいが。

その層厚は光情報記録に要求される光学濃度の点から一
般に１００乃至５ｊ００Ａの範囲である。

記録層は二枚の基板両方に設けられていてもよいし、あ
るいは片方のみに設けられていてもよい。

なお、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は耐傷性、防湿性など全高めるために、たとえば二酸化
ケイ素、酸化スズ　弗化マグネシウムなどの無機物質；
熱可塑性樹脂１元硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、ス／ξツタリングまたは塗布等の方法
によシ設けられていでもよい。

次に、記録層が形成された二枚の基板を記録層を内側に
して、スペーサを介して接合する。

スーｅ−サの材料としては、ステンレス、アルミニウム
等の金属；ポリメチルメタクリレート、アセタール樹脂
等の合成樹脂；カラス、セラミックなどが使用されるが
、軽量であることおよび耐久性（耐衝撃性、耐摩耗性）
の点から１％に好ましいものは陽極酸化処理（アルマイ
ト処理）を施された金属アルミニウム製スば一すである
。

又、用いられるスは−サ材質は、基板と同じ熱膨張係数
を有する材質（例えば、ポリメチルメタクリレート基板
に対して＃：ｔ％ポリメチルメタクリレートスペーサ、
ポリカーボネート基板に対しては、ポリカーボネートス
ペーサ）を用いる事が好ましい。

本発明において用いられるシリコーンゴム接着剤として
は、例えば−ｌ波型常温加硫シリコーンゴムやコ液型常
温加硫シリコーンゴムを用いることができる。

詳細については、Ｖ″プラスチック材料講座りけい素樹
脂′（中島功、有我欣司共著　日刊工業新聞社発行）に
記載されているが以下に化合物例を挙げて説明する。し
かし１本発明はこの化合物例に限定されるものではない
。

ｌ波型常温加硫シリコーンゴム（以下ＲＴＶゴムと略す
）においては加硫方法として脱アセトキシ型、脱オキシ
ム型７脱アルコール型、脱マシン型、脱アセトン型等の
縮合型及び付加型がある。

（１）脱アセトキシ型 脱アセトキシ型　ＲＴＶゴムは下記一般式で示される化
合物が挙げられる。

Ａｏ＝飽和脂肪族アシル基　例えばアセチル、プロピオ
ニル、７チロイル、ヘキソイル％２−エチルへキソイル
、オクタノイル Ｒ，Ｒ’：／価炭化水素基　例えはアルキル基（メチル
、エチル、ブチル、 ｔ−ブチル、オクタデシ ル等） アルケニル基（ビニル、アルリル、ヘキセニル等） シクロ脂肪族炭化水素基（シクロヘキシル、シクロペン
チル、シ クロヘキセニル、シクロ ブチル等） アルカリル炭化水素基（ベンジル、β−フェニルエチル
等） 芳香族炭化水素基（フェニル、トルイル、キシリル、ナ
フチル、ク セニル等） ハロゲン化７価炭化水素基　例えば、 クロロメチル、ペンタフ ルオロブチル、トリフル オロビニル、クロロフェ ニル、ブロモフェニル、 クロロシクロヘキシル等 ｎ：ｊ　〜ｉｏ、ｏｏ。

又は、ｎの異なるものの混合物でもよい。

（２）脱オキシム型 脱オキシム型ＲＴＶゴムは下記一般式で示される化合物
が挙げられる。

ロー］ （Ｒ”　　Ｃ＝ＮＯ）ＳｉＲ’２０［Ｒ’２ＳｉＯ）ｎ
８ｉＲ’２−り一」 （ｏＮ＝Ｑ“） （Ｒ２Ｃ＝ＮＯ）ＳｉＲ’２０〔ＳｔＲ’２０１ｎＳ；
Ｒ’２（ＯＮ”＝ＣＲ２）（Ｒ２Ｏ”＝ＮＯ）　２ｓｉ
ｎ’ｏｃｓｉＲ’　２０′３ｎＳｉＲ’　（ＯＮ＝ＣＲ
２）　２（Ｒ２Ｃ＝ＮＯ）　３ＳｉＯＣ８ｉＲ’　２０
）ｎＳ　ｉ　（ＯＮ＝ＣＲ２）　３（Ｒ２Ｃ＝ＮＯ）　
２ＳｉＲ’Ｏ〔ＳｉＲ’２０）ｎＳｉ　（ＯＮ＝ＣＲ，
２）３ＣＲ２Ｃ＝ＮＯ８ｉＲ’　２０（ＳｉＲ２０）ｎ
）３ＳｉＲ’［Ｒ２（、’＝ＮＯ８ｉＲ’　２０（Ｓｉ
Ｒ’　２０）ｎ］、５ｉ（Ｒ２Ｃ＝ＮＯ８ｉＲ’　２０
（ＳｉＲ’　２０）　ｎ］２Ｓ　ｉＲ’　（ＯＮ＝ＣＲ
２）Ｒ’　３ＳｉＯ［ＳｉＲ’　２０）ｎＳｉ　（ＯＮ
＝ＣＲ２）　３Ｓ　ｔ　Ｒ’　３ Ｓ　ｉＲ’　３ 〔式中各Ｒ，Ｒ’およびＲ“は上記のごとき基のいづれ
かまた各ｎはｉ−、ｔｏ；ｌｏｏ；ｉｏ。

Ｏｉ　／　００００あるいは、それ以上の正の整数のい
づれかである。〕 各ＲおよびＲ′基はどの１価炭化水素基あるいはハロケ
ン化１価炭化水素基であってもよい、とくにＲ基および
Ｒ′基はメチル基、エチル基、イソプロピル基ＩＥｊ級
ブチル基、コーエチルヘキシル基、ドデシル基。

ｌ−イソブチル−３，ｊ−ジメチルヘキシル基、オクタ
デシル基およびミリフル基のごときアルキル基；ビニル
基、アルリル基、デセニル基およびヘキサジェニル基の
ごときアルケニル基；シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロ−コツグーへキサジセニル基のごときシク
ロアルケニル基：フェニル基、ナフチル基、キセニル基
のごときアリル基；ベンジル基、フェニルエチル基、キ
シリル基のごときアルアルキル基；およびトリル基、ジ
メチルフェニル基のごときアルキアリル基のいりれかで
ある。これらの１価炭化水素基はハロゲン化してたとえ
ばクロロメチル基、Ｊ、Ｊ、Ｊ−トリフルオロプロピル
基％　Ｊ、！、４ｔ、４ｔ、Ｊ。

ｊ、ｊ−へブタフルオロペンチル基、７ξ−クロロフエ
ニ”基ｈ　　３．弘−シクロモジクロへ’Ｐ　’／に基
、α、α、α−トリフルオロトリル基、２．弘−ジブロ
モベンジル基、ジフルオロモノクロロビニル基、α、β
、β−トリフルオローα−クロロシクロブチル基および
コーヨードシクロはンテンー３−イル基のごとき基を作
ることが出来る。これらの基はすべて使用出来る。

さらにＲ′基はたとえばβ−シアンエチル基、ｒ−シア
ノプロピル基、ω−シアノブチル基、β−シアノプロピ
ル基、γ−シアノブチル基、ω−シアノオクタプシル基
のいづれかである。シアノアルキル基がある場合には、
該第は本発明における化合物のケイ素原子中なくとも１
モル％に結合していることが好ましい。

本発明の目的では、各Ｒ“基はコ価ハロゲン化炭化水素
基あるいは炭化水素基で、２価の原子価はＣ＝ＮＯ基の
炭素原子に直接結合している。Ｒ“ＣＨ２ＣＨ２−＝−
ＣＨ２ＣＨ２Ｉ（’Ｈ２ＣＨ２＋、−ｃ　６）１４Ｃ，
Ｈ：これら脱アセトキシ型、脱オキシム型、脱アルコー
ル型、脱アミン型、脱アセトン型及び付加型のシリコー
ンゴムのうち脱アセトキシ型、脱アセトン型及び脱アミ
ン型を用い気密性の良いエアーサンドウィッチ構造にし
た場合、縮合にょ多発生する酢酸、アセト／、アミンが
基板、中間層、記録層に悪影響を及ぼすため、脱オキシ
ム型、脱アルコール型、付加型を用いることが好筐しい
。

しかし、ディスクの作成方法、ディスク形態等により酢
酸、アセトン、アミン等が発生してもかまわないような
ディスクの場合には特に限定するものではない。

上記（１１％（２）のＲＴＶゴムに対し他の型のシロキ
サン及び（又は）充填剤とを混合することによって組成
物を変型することが望ましい−例えば木組：　載物と樹
脂状シロキサンとを混合することによって１本組成物の
接着性を増大することが望ましい。

この樹脂状シロキサンは又加硫された本組成物の弾性を
変型しその弾力性を減少する。かかる性質は成極の充填
用途に特に望ましい。又加硫された本組成物に、トリメ
チルで末端封鎖したジメチルシクロヘキサンの如き１ξ
Ｍｉの非反応性のヒドロキシルを言まないシロキサン可
塑剤を添加して、これを回置化することも望ましい。

本組成物は又その中に周知の補強填料例えば煙道シリカ
、シリカエアロゲル及び高い表面積Ｊｋ有する沈澱シリ
カ等を添加しても変型される。これ等の填料は所望なら
ばその表面にオルガノシリル基を附属せしめうる。使用
される填料は又非補強填料例えば硅藻土の如き粗製シリ
カ、粉砕石英、又はチタニア、酸化第２鉄、酸化亜鉛叫
であってもよい、ｒ９ｒ望ならはアスベスト又は硝子の
如き繊維質填料も亦使用しうる。簡単にいえばシリコー
ンゴムに普通に使用される任意の填料を本組成物に使用
しうる。又いずれの場合に庵填料は組成物と混合する前
に実質的に乾燥することが望ましい。

但し過量のアシロキシシランを使用する場合には多少の
水分は許容しうる。

填料は通常エラストマー性組成物の強度を増大するため
及び非加硫組成物の流動性を変型するために使用される
。後者は充填目的のために特に重要であり、原料を継目
に誼いてから加硫が始まるまでに流動が望められるのは
望１しくないことである。

前記成分に加えて本組成物は他の望しい添加剤例えば顔
料、太陽光線スクリーン剤、酸化阻止剤及び誘電物質例
えば黒鉛及びカーホンブラックを言みうる。

本発明の接着剤を用いる場合、接着剤と基板、又はスペ
ーサーとの接着力を向上させるため、予め基板又はスに
一す−の接着部全シランカップリング剤等の表面処理剤
による表面処理、グロー放電、コロナ放電処理、サンド
ペーパー等による粗面化処理を施してもよい。

以下に実施例により本発明の詳細な説明するが、これに
限定されるものではない。

〈実施例１〉 二枚の射出成形によりグループを設けた円盤状ポリメチ
ルメタクリレート（以下ＰＭＭＡと略す）基板（外径：
２００ｍ、グループエリア外径ｌりＯｆｉ、内径Ｊｊｔ
ｌ１％厚さ１．コｎ）のグループ面に、ＩｎとＧｅＳと
をｌ：１（Ｉｎ：Ｇｅ５−容積比、Ｐ３径１００ｖｘ）
の比率で共蒸着させて、厚さ３００Ａの記録層を形成し
た。

２枚の基板の接着Ｓ（外径−２００Ｍ１１から巾ｊｔｌ
。

内径ＪＪｒｔｌｌから巾／−ｔｍ）％及びリング状の射
出成形された外側ＰＭＭＡスは−サー（外径：　２００
ｉ１１．　Ｐ′３径：　／　９４’ｌ１％厚さ／ｍ）内
側ス＜−サー（外径：６ｊｍ％内径：３ｊ酊、厚さ／重
重）の接着面に予め、シランカップリング剤として下記
化合物を塗布した。

トルエン／インプロピルアルコール：／／／（体積比） 濃度　コ％ 次いで下記脱オキシム型−液ＲＴＶゴムを外、内側スは
−サー接着面にｊＯμのＮさに塗布し。

記録層を内側にし、２３°Ｃ％　６３％ＲＨの雰囲気で
２枚の基板を組立て、１日放置しエアーサンドウィッチ
構造の情報記録媒体を得た。

〈−液ＲＴＶゴム〉 （Ｍｅ２Ｃ＝ＮＯ）２ＳｉＭｅＯ［ＳｉＰｈＭｅＯ］３
６ＳｉＭｅ（ＯＮ＝ＣＭｅ　２　）　２ 〈比較例／〉 実施例１において化合物ｌのかわ９に下記組成ウニを３
０μ塗布し、／ｋｗ高圧水銀灯で７分間照射し、情報記
録媒体を得た。

組成ウニ 〔 ｎ：２〜弘 これら２極の情報記録媒体の耐久性テストをｔＯｏ（：
、りＯ％ＲＨ雰囲気に放置し、目視での接着部のハカレ
で評価した。

１、ＱＯＣ５タ０％ＲＨでのハガレ発生日数夾施例／　
　　　　　　　３０日以上 比較例１　　　　　　　７日 実施例λ 基板、スペーサー材質をポリカーボネートにした。以外
は実施例／と同様に行ない情報記録媒体を得た。

比較例λ 基板、スに一す−材質をポリカーボネートにした以外は
比較例／と同様に行ない情報記録媒体を得た。

この一種の情報記録媒体の耐久性テストを６０００、り
Ｏ％ＲＨ雰囲気に放置し、目視での接着部のハガレで評
価した。

ｔｏ６（：、りＯ％ＲＨでのハガレ発生日数実施例コ　
　　　　　　３Ｑ日以上 比較例−−日 実施例／、２の如く本発明の接着剤によシ接着耐久性の
ある情報記録媒体を達成することができる。

手続補正書

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 二枚の円盤状基板が、直接もしくはリング状スペーサと
   を介して接着剤により接合され、かつ少なくともその一
   方の基板の内側表面にレーザーによる情報の書き込み及
   び／又は読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報
   記録媒体において、前記接着剤がシリコーンゴムである
   ことを特徴とする情報記録媒体。