JPS61255542A - Information recording medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent the exfoliation of the adhered part of an information recording medium, which is formed by joining two sheets of disk-shaped adhesive agent by means of an adhesive agent, by aging or by deformation by incorporating at least silicone rubber into the adhesive agent. CONSTITUTION:A recording layer consisting of metal such as Te or Zn, semi- metal such as Bi or As or other materials is formed by a method such as vapor deposition, sputtering or ion plating on two sheets of the disk-shaped substrates or the undercoating layer thereof. Two sheets of the substrates formed with the recording layer are then joined directly or via an annular space by the silicone rubber adhesive agent while the recording layer is positioned on the inside. For example, one-liquid type cold curing silicone rubber and two-liquid type cold curing silicone rubber are usable for the silicone rubber adhesive agent. The exfoliation of the adhered part of the disk-shaped substrates by aging or deformation is thus prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または、読み取シが出来る。光
情報記録媒体に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention allows information to be written and/or read using a high energy density laser beam. This invention relates to optical information recording media.

即ち本発明は、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディス
ク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量コン
ピュータ用ディスク・メモリーなど各種用途の光ディス
クを対象とするものである。That is, the present invention is directed to optical discs for various uses such as video discs, audio discs, large-capacity still image files, and large-capacity computer disk memories.

〔従来技術〕[Prior art]

光情報記録媒体は数ミクロンの焦点深度を有するレンズ
により１元ビームを記録層に照射し、情報の書込み、読
出しを行うため、記録層上に崖埃が付着したシ、取シ扱
い時に記録層を傷つけると。Optical information recording media use a lens with a focal depth of several microns to irradiate the recording layer with a single beam to write and read information. If it hurts.

（ットエラー、ドロップアウト等の故障を起こしてい次
。そのため、二枚の円盤状基板が、円盤状基板に設けら
れた凸部もしくはスペーサーを介して接着剤により接合
され、少くともその１方の基板が透明基板でありその内
側表面に記録層が設けられたいわゆるエアーサンドイッ
チ構造が提案されている８少くともその一方に記録層が
設けられた二枚の円盤状基板を直接もしくは第三の基板
を介して記録層を内側にして貼シ合せたいわゆる貼シ合
せ構造も提案されている。(Failures such as cut errors and dropouts may occur.) Therefore, two disk-shaped substrates are bonded with adhesive through a convex portion or a spacer provided on the disk-shaped substrates, and at least one of the disk-shaped substrates is bonded with an adhesive. A so-called air sandwich structure has been proposed in which the substrate is a transparent substrate and a recording layer is provided on the inner surface.8 Two disc-shaped substrates with a recording layer provided on at least one of them are connected directly or a third substrate is provided. A so-called laminated structure has also been proposed in which the recording layer is laminated on the inside through a laminate.

接着剤としては光重合性を肩する化合物を用いた接着剤
、例えは紫外線硬化型接着剤が、接着に要する時間も数
秒から数分と短時間ですみ、加熱を必要とせず変形も少
いので用いられている。Adhesives that use photopolymerizable compounds, such as UV-curable adhesives, take only a short time to bond, from a few seconds to a few minutes, do not require heating, and are less likely to deform. Therefore, it is used.

しかし従来の紫外線硬化型接着剤ではディスクが高温ｉ
！ｉｌ＋ｆｉの環境に置かれ次場合、ガラス基板及びプ
ラスチック基板のいずれについても耐久性が不充分であ
る。またアクリル樹脂やポリ塩化ビニル及びポリカーボ
ネート等のプラスチックを基板に用い九場合、特に接着
しにくくディスクを少し変形させただけで接着部が剥離
してし奮い笑用に耐えない。However, with conventional UV-curable adhesives, the disk is exposed to high temperatures.
! When placed in an environment of il+fi, both glass substrates and plastic substrates have insufficient durability. In addition, when plastics such as acrylic resin, polyvinyl chloride, and polycarbonate are used for the substrate, it is particularly difficult to adhere and the adhesive part peels off even if the disk is slightly deformed, making it difficult to withstand use.

このため％接着力を増加する目的で特開昭ｊ７−ｉ３ｒ
、ｏｔａ、特開昭１７−／２０，２１７３に示されてい
るように接着部表面を粗す事が提案されている。しかし
ながらこの場合表面を粗する際に塵埃が発生しこれが基
板に付着してしまう。For this reason, for the purpose of increasing the adhesive strength,
It has been proposed to roughen the surface of the adhesive portion, as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 17-20, 2173. However, in this case, when the surface is roughened, dust is generated and adheres to the substrate.

従って、表面を粗した基板を元ディスクに使用するには
洗浄をしなければならず大変不都合である何故なら光デ
イスク用の洗浄では水洗に使用する水でも純水製造機か
ら作シ出された純水を使用せねばならず更に乾燥するた
めにもクリーン乾燥機を使用しなければならない。接着
性を改良するｔめだけでこのような設備投資及び繁雑な
工程を取り入れるのは大変不都合である。Therefore, in order to use a substrate with a rough surface as an original disk, it must be cleaned, which is very inconvenient.The reason is that when cleaning optical disks, even the water used for rinsing must be produced from a pure water production machine. Pure water must be used and a clean dryer must be used for drying. It is very inconvenient to introduce such a capital investment and complicated process just to improve the adhesion.

又、特願昭５ｒ−７ｉｒｒ≠ｌに示されているように、
基板を放電処理もしくは紫外線照射処理した後、電磁放
射線硬化型接着剤を用いて接着し。In addition, as shown in the patent application 1977irr≠l,
After the substrate is subjected to discharge treatment or ultraviolet irradiation treatment, it is bonded using an electromagnetic radiation-curable adhesive.

接着力を飛躍的に改善する方法が開示されているが、こ
の方法は表面処理工程を必要とする。A method for dramatically improving adhesion has been disclosed, but this method requires a surface treatment step.

〔発明が解決しようとしている問題廣〕本発明の目的は
、第一に、円盤状基板の接着部分が経時や変形により剥
離することのない情報記録媒体を得ることにある。[Problems to be Solved by the Invention] The first object of the present invention is to obtain an information recording medium in which the adhesive portion of a disk-shaped substrate does not peel off due to aging or deformation.

第二には、基板の表面処理を必要としない情報記録媒体
の組立方法を与えることにある。The second objective is to provide a method for assembling an information recording medium that does not require surface treatment of the substrate.

〔問題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の目的は、二枚の円盤状基板が直接もしくはリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
着剤によシ接合され、かつ少なくともその一方の基板の
内側表面にレーザーによる情報の曹き込み及び／又は読
み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体に
おいて、前記接着剤が少なくともシリコーンゴムを包有
することにより達成される。An object of the present invention is to bond two disc-shaped substrates with an adhesive directly or through a ring-shaped inner spacer and a ring-shaped outer spacer, and to generate information by laser on the inner surface of at least one of the substrates. In an information recording medium provided with a recording layer that can be soaked and/or read, this is achieved by the adhesive containing at least silicone rubber.

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰カラス等のカラス；セ
ルキャストポリメチルメククリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；およびポリ
カーボネートを挙けることができる〜これらのうちで寸
度安定性、透明性および平面性の点から、好ましいもの
は強化ガラス等に代表されるガラス基板である。The substrate used in the present invention can be arbitrarily selected from various materials used as substrates for conventional information recording media. Optical properties, flatness, processability of the substrate,
In terms of ease of handling, stability over time, and manufacturing cost,
Examples of substrate materials include glass such as soda lime glass; acrylic resins such as cell cast polymethyl meccrylate and injection molded polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride vinyl chloride copolymer; and polycarbonate. Among these, from the viewpoint of dimensional stability, transparency, and flatness, glass substrates typified by tempered glass are preferred.

記録層が設けられる側の表面には、平面性の改善、接着
力の向上および記録層の変質の防止の目的でＳまた記録
感度を向上させ、Ｓ／Ｎ比を高める目的で、下塗層が設
けられていてもよい。下塗層の材料としては、たとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホンｍ共ｘ合体、スチレン・ビニルトルエ
ン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ［化ビニル、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質；シ
ランカップリング剤などの鳴機物質；および無機酸化物
（ＳｉＯ□、Ａｌ２Ｏ３等）、弗化物（ＭｇＦ２　）な
どの無機物質を挙げることができる、基板から遊離する
アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンによ
る記録層への悪影響を防止する九めには、スチレン・無
水マレイン酸共重合体などの親水性基および／または無
水マレイン酸基を臂するポリマーからなる下塗層が設け
られているのが望ましい。また、断熱効果によシ感度を
高め、Ｓ／Ｎ比を向上させる友めには、ポリメチルメタ
クリレートを次ｔｉニトロセルロースからなる下塗層が
設けられているのが好ましい。On the surface on which the recording layer is provided, an undercoat layer is applied to improve flatness, improve adhesion, and prevent deterioration of the recording layer, and to improve recording sensitivity and increase the S/N ratio. may be provided. Examples of materials for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid/methacrylic acid copolymer, styrene/maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylolacrylamide, styrene/sulfone m copolymer, styrene/ Vinyl toluene copolymer, chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, polyester, polyimide, vinyl acetate/vinyl chloride copolymer, ethylene/vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, etc. alkaline metal ions liberated from the substrate; In order to prevent the adverse effects of alkaline earth metal ions on the recording layer, an undercoat layer made of a polymer containing hydrophilic groups and/or maleic anhydride groups, such as a styrene/maleic anhydride copolymer, is provided. It is desirable that the Further, in order to increase the sensitivity and improve the S/N ratio through the heat insulation effect, it is preferable to provide an undercoat layer made of polymethyl methacrylate and nitrocellulose.

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散し次後、このｍ薄液をスピンコードディップコート
、エクストルージョンコートナトの塗布法により基板表
面にｍ布することにより形成することができる。このと
き、基板とスペーサとの接漕力を高める友めに、基板の
スば一すとの接合部分にＦｉ塗膜を設けないで露出させ
ておくのが好ましい。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｉ乃
至２０μｍであり、好ましくはｏ、ｉ乃至７０μｍであ
る。The undercoat layer can be formed, for example, by dissolving or dispersing the above-mentioned substance in a suitable solvent, and then applying this thin liquid onto the surface of the substrate using spin code dip coating or extrusion coating. can. At this time, in order to increase the contact force between the substrate and the spacer, it is preferable to expose the bonding portion of the substrate to the spacer without providing an Fi coating film. The layer thickness of the subbing layer is generally from o.oi to 20 μm, preferably from o.i to 70 μm.

あるいは、基板（または下塗層）上には、トラッキング
用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種のモノマー（′！たけオリゴマー）と光
重合開始剤との混合物を用いることができる。Alternatively, a pregroove layer may be provided on the substrate (or undercoat layer) for the purpose of forming tracking grooves or irregularities representing information such as address signals. As the material for the pregroove layer, a mixture of at least one monomer ('!take oligomer) selected from monoesters, diesters, triesters, and tetraesters of acrylic acid and a photopolymerization initiator can be used.

アクリル酸のモノエステルの例トシては、エチルアクリ
レート、ｎ−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、オクチルアクリレート、−−エチルへキシルアクリ
レート等のアルキルアクリレート；エトキシエチルアク
リレート等のアルコキシアルキルアクリレート；フェノ
キシエチルアクリレート等のフェノキシアルキル了クリ
レート；およびフェニルアクリレートなどが挙げられる
。Examples of monoesters of acrylic acid include alkyl acrylates such as ethyl acrylate, n-butyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, and --ethylhexyl acrylate; alkoxyalkyl acrylates such as ethoxyethyl acrylate; and phenoxyethyl acrylate. Examples include phenoxyalkyl acrylate; and phenyl acrylate.

アクリル酸のジエステルの例としてＪｄ、／、ｊ−プロ
ｚｔンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジ
アクリレート；ジエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチ
レンジオールジアクリレート等のアルケンクリコールジ
アクリレートなどが挙げられる。Examples of diesters of acrylic acid include alkanediol diacrylates such as Jd,/,j-proztone diol diacrylate; diethylene glycol diacrylate;
Examples include alkene glycol diacrylates such as tetraethylene glycol diacrylate and hexamethylene diol diacrylate.

アクリル酸のトリエステルの例としては、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、はンタエリスリトオール
トリアクリレートなどが挙けられる。また、アクリル酸
のテトラエステルの例としてはペンタエリスリトールテ
トラアクリレートが挙けられる。さらに、ポリエチレン
ダリコールアクリレート、エポキシアクリレート等のオ
リゴマーのアクリル酸エステルが挙けられる。Examples of triesters of acrylic acid include trimethylolpropane triacrylate, hantaerythritol triacrylate, and the like. Furthermore, an example of the tetraester of acrylic acid is pentaerythritol tetraacrylate. Further examples include oligomeric acrylic esters such as polyethylene dalycol acrylate and epoxy acrylate.

光重合開始剤としては、７ｔとえばベンゾインイソブチ
ルエーテル等のベンゾイン化合物が挙けられる。Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds such as benzoin isobutyl ether.

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
クンノに−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合
開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこあ塗布液層上
に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の
照射によシ液層を硬化させて基板と液層とを固着させる
６次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグ
ルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層
の層厚は、一般にＯ，ＯＳ乃至ｉｏｏμｍであり、好ま
しくはθ、！乃至５０μｍである。The pre-groove layer is formed by first coating a mixture of the above acrylic acid ester and polymerization initiator on a precisely made matrix (Sukunno-ni), and then placing the substrate on the coating solution layer. After that, the liquid layer is cured by irradiation with ultraviolet rays through the substrate or the matrix to fix the substrate and the liquid layer.6 Next, the substrate is peeled from the matrix to form the pregroove layer. A substrate is obtained. The thickness of the pregroove layer is generally O,OS to iooμm, preferably θ,! The thickness is from 50 μm to 50 μm.

又、プラスチック基板を用いる場合には、基板を射出成
型又は圧縮成型する際スタンノ七−を用い直接基板にク
ループを設けることができる・次に、基板（または下塗
層）上には記録層が設けられる。In addition, when using a plastic substrate, the croup can be provided directly on the substrate using a stunner when the substrate is injection molded or compression molded.Next, a recording layer is formed on the substrate (or undercoat layer). provided.

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ。An example of the material used for the recording layer is Te.

Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｎ％　Ｚｒ、Ａｌ　ｂｃｕｂ　　Ｇｅ等
の金属：Ｂｉ、　Ａｓ、ｓｂ等の半金属；Ｇｅ、Ｓｉ等
の半導体；およびこれらの合金またはこれらの組合せを
挙げることができる。憧た、これらの全極または半金属
の硫化物、Ｎｋ化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物
および窒化物等の化合物：およびこれらの化合物と金属
との混合物も記録層に用いることができる、 記録層は、上記材料を蒸Ｎ、ス／ｅツタリング、イオン
ブレーティングなどの方法によシ基板上に形成される。Examples include metals such as Zn, In, Sn% Zr, and Al bcub Ge; semimetals such as Bi, As, and sb; semiconductors such as Ge and Si; and alloys thereof or combinations thereof. Compounds such as sulfides, nickel oxides, borides, silicon compounds, carbides, and nitrides of these all-pole or metalloids: and mixtures of these compounds and metals can also be used in the recording layer. The layer is formed on the substrate by using the above-mentioned materials by evaporating N, sputtering, ion blasting, or the like.

記録層は単層または重層でもよいが。The recording layer may be a single layer or a multilayer.

その層厚は光情報記録に要求される光学濃度の点から一
般に１００乃至５ｊ００Ａの範囲である。The layer thickness is generally in the range of 100 to 5J00A in view of the optical density required for optical information recording.

記録層は二枚の基板両方に設けられていてもよいし、あ
るいは片方のみに設けられていてもよい。The recording layer may be provided on both of the two substrates, or may be provided on only one of the substrates.

なお、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は耐傷性、防湿性など全高めるために、たとえば二酸化
ケイ素、酸化スズ　弗化マグネシウムなどの無機物質；
熱可塑性樹脂１元硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、ス／ξツタリングまたは塗布等の方法
によシ設けられていでもよい。Note that the surface of the substrate opposite to the side on which the recording layer is provided is coated with an inorganic substance such as silicon dioxide, tin oxide, or magnesium fluoride in order to improve scratch resistance and moisture resistance.
A thin film made of a polymeric material such as a thermoplastic monocuring resin may be provided by a method such as vacuum evaporation, sputtering, or coating.

次に、記録層が形成された二枚の基板を記録層を内側に
して、スペーサを介して接合する。Next, the two substrates on which the recording layer has been formed are joined together with the recording layer inside through a spacer.

スーｅ−サの材料としては、ステンレス、アルミニウム
等の金属；ポリメチルメタクリレート、アセタール樹脂
等の合成樹脂；カラス、セラミックなどが使用されるが
、軽量であることおよび耐久性（耐衝撃性、耐摩耗性）
の点から１％に好ましいものは陽極酸化処理（アルマイ
ト処理）を施された金属アルミニウム製スば一すである
。Materials used for the heat exchanger include metals such as stainless steel and aluminum; synthetic resins such as polymethyl methacrylate and acetal resin; and glass and ceramic. abrasion)
From this point of view, what is preferable for 1% is a metal aluminum pan that has been subjected to anodizing treatment (alumite treatment).

又、用いられるスは−サ材質は、基板と同じ熱膨張係数
を有する材質（例えば、ポリメチルメタクリレート基板
に対して＃：ｔ％ポリメチルメタクリレートスペーサ、
ポリカーボネート基板に対しては、ポリカーボネートス
ペーサ）を用いる事が好ましい。In addition, the spacer material used is a material having the same coefficient of thermal expansion as the substrate (for example, #: t% polymethyl methacrylate spacer for a polymethyl methacrylate substrate,
For polycarbonate substrates, it is preferable to use polycarbonate spacers.

本発明において用いられるシリコーンゴム接着剤として
は、例えば−ｌ波型常温加硫シリコーンゴムやコ液型常
温加硫シリコーンゴムを用いることができる。As the silicone rubber adhesive used in the present invention, for example, a -l wave type cold-vulcanized silicone rubber or a co-liquid type cold-vulcanized silicone rubber can be used.

詳細については、Ｖ″プラスチック材料講座りけい素樹
脂′（中島功、有我欣司共著　日刊工業新聞社発行）に
記載されているが以下に化合物例を挙げて説明する。し
かし１本発明はこの化合物例に限定されるものではない
。The details are described in V ``Plastic Materials Course Silicone Resin'' (co-authored by Isao Nakajima and Shinji Ariga, published by Nikkan Kogyo Shimbun), but will be explained below using compound examples. The present invention is not limited to the compound examples.

ｌ波型常温加硫シリコーンゴム（以下ＲＴＶゴムと略す
）においては加硫方法として脱アセトキシ型、脱オキシ
ム型７脱アルコール型、脱マシン型、脱アセトン型等の
縮合型及び付加型がある。In l-wave type room temperature vulcanization silicone rubber (hereinafter abbreviated as RTV rubber), vulcanization methods include condensation types and addition types such as deacetoxy type, oxime type, 7 dealcohol type, demachining type, and deacetone type.

（１）脱アセトキシ型 脱アセトキシ型　ＲＴＶゴムは下記一般式で示される化
合物が挙げられる。(1) Deacetoxy type Deacetoxy type RTV rubbers include compounds represented by the following general formula.

Ａｏ＝飽和脂肪族アシル基　例えばアセチル、プロピオ
ニル、７チロイル、ヘキソイル％２−エチルへキソイル
、オクタノイル Ｒ，Ｒ’：／価炭化水素基　例えはアルキル基（メチル
、エチル、ブチル、 ｔ−ブチル、オクタデシ ル等） アルケニル基（ビニル、アルリル、ヘキセニル等） シクロ脂肪族炭化水素基（シクロヘキシル、シクロペン
チル、シ クロヘキセニル、シクロ ブチル等） アルカリル炭化水素基（ベンジル、β−フェニルエチル
等） 芳香族炭化水素基（フェニル、トルイル、キシリル、ナ
フチル、ク セニル等） ハロゲン化７価炭化水素基　例えば、 クロロメチル、ペンタフ ルオロブチル、トリフル オロビニル、クロロフェ ニル、ブロモフェニル、 クロロシクロヘキシル等 ｎ：ｊ　〜ｉｏ、ｏｏ。Ao = Saturated aliphatic acyl group For example, acetyl, propionyl, 7-tyroyl, hexoyl% 2-ethylhexoyl, octanoyl R, R': /Valent hydrocarbon group For example, alkyl group (methyl, ethyl, butyl, t-butyl, octadecyl etc.) Alkenyl groups (vinyl, allyl, hexenyl, etc.) Cycloaliphatic hydrocarbon groups (cyclohexyl, cyclopentyl, cyclohexenyl, cyclobutyl, etc.) Alkaryl hydrocarbon groups (benzyl, β-phenylethyl, etc.) Aromatic hydrocarbon groups (phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, xenyl, etc.) Halogenated heptavalent hydrocarbon group, for example, chloromethyl, pentafluorobutyl, trifluorovinyl, chlorophenyl, bromophenyl, chlorocyclohexyl, etc. n: j to io, oo.

又は、ｎの異なるものの混合物でもよい。Alternatively, a mixture of different n may be used.

（２）脱オキシム型 脱オキシム型ＲＴＶゴムは下記一般式で示される化合物
が挙げられる。(2) Oxime-free type Oxime-free RTV rubbers include compounds represented by the following general formula.

ロー］ （Ｒ”　　Ｃ＝ＮＯ）ＳｉＲ’２０［Ｒ’２ＳｉＯ）ｎ
８ｉＲ’２−り一」 （ｏＮ＝Ｑ“） （Ｒ２Ｃ＝ＮＯ）ＳｉＲ’２０〔ＳｔＲ’２０１ｎＳ；
Ｒ’２（ＯＮ”＝ＣＲ２）（Ｒ２Ｏ”＝ＮＯ）　２ｓｉ
ｎ’ｏｃｓｉＲ’　２０′３ｎＳｉＲ’　（ＯＮ＝ＣＲ
２）　２（Ｒ２Ｃ＝ＮＯ）　３ＳｉＯＣ８ｉＲ’　２０
）ｎＳ　ｉ　（ＯＮ＝ＣＲ２）　３（Ｒ２Ｃ＝ＮＯ）　
２ＳｉＲ’Ｏ〔ＳｉＲ’２０）ｎＳｉ　（ＯＮ＝ＣＲ，
２）３ＣＲ２Ｃ＝ＮＯ８ｉＲ’　２０（ＳｉＲ２０）ｎ
）３ＳｉＲ’［Ｒ２（、’＝ＮＯ８ｉＲ’　２０（Ｓｉ
Ｒ’　２０）ｎ］、５ｉ（Ｒ２Ｃ＝ＮＯ８ｉＲ’　２０
（ＳｉＲ’　２０）　ｎ］２Ｓ　ｉＲ’　（ＯＮ＝ＣＲ
２）Ｒ’　３ＳｉＯ［ＳｉＲ’　２０）ｎＳｉ　（ＯＮ
＝ＣＲ２）　３Ｓ　ｔ　Ｒ’　３ Ｓ　ｉＲ’　３ 〔式中各Ｒ，Ｒ’およびＲ“は上記のごとき基のいづれ
かまた各ｎはｉ−、ｔｏ；ｌｏｏ；ｉｏ。Low] (R"C=NO)SiR'20[R'2SiO)n
8iR'2-Riichi"(oN=Q")(R2C=NO)SiR'20[StR'201nS;
R'2(ON"=CR2)(R2O"=NO) 2si
n'ocsiR'20'3nSiR' (ON=CR
2) 2(R2C=NO) 3SiOC8iR' 20
)nS i (ON=CR2) 3(R2C=NO)
2SiR'O[SiR'20)nSi (ON=CR,
2) 3CR2C=NO8iR' 20(SiR20)n
)3SiR'[R2(,'=NO8iR' 20(Si
R'20)n], 5i(R2C=NO8iR'20
(SiR' 20) n]2S iR' (ON=CR
2) R' 3SiO [SiR' 20) nSi (ON
=CR2) 3S t R' 3 SiR' 3 [In the formula, each R, R' and R'' are any of the above groups, and each n is i-, to; loo; io.

Ｏｉ　／　００００あるいは、それ以上の正の整数のい
づれかである。〕 各ＲおよびＲ′基はどの１価炭化水素基あるいはハロケ
ン化１価炭化水素基であってもよい、とくにＲ基および
Ｒ′基はメチル基、エチル基、イソプロピル基ＩＥｊ級
ブチル基、コーエチルヘキシル基、ドデシル基。Either Oi/0000 or a larger positive integer. ] Each R and R' group may be any monovalent hydrocarbon group or halokenated monovalent hydrocarbon group; in particular, the R and R' groups may be a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an IEj-class butyl group, a Ethylhexyl group, dodecyl group.

ｌ−イソブチル−３，ｊ−ジメチルヘキシル基、オクタ
デシル基およびミリフル基のごときアルキル基；ビニル
基、アルリル基、デセニル基およびヘキサジェニル基の
ごときアルケニル基；シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロ−コツグーへキサジセニル基のごときシク
ロアルケニル基：フェニル基、ナフチル基、キセニル基
のごときアリル基；ベンジル基、フェニルエチル基、キ
シリル基のごときアルアルキル基；およびトリル基、ジ
メチルフェニル基のごときアルキアリル基のいりれかで
ある。これらの１価炭化水素基はハロゲン化してたとえ
ばクロロメチル基、Ｊ、Ｊ、Ｊ−トリフルオロプロピル
基％　Ｊ、！、４ｔ、４ｔ、Ｊ。Alkyl groups such as l-isobutyl-3,j-dimethylhexyl, octadecyl and miriflu; alkenyl groups such as vinyl, allyl, decenyl and hexadienyl; cyclopentyl, cyclohexyl, cyclo-hexadicenyl; Cycloalkenyl groups such as: allyl groups such as phenyl, naphthyl, and xenyl; aralkyl groups such as benzyl, phenylethyl, and xylyl; and alkyaryl groups such as tolyl and dimethylphenyl. be. These monovalent hydrocarbon groups can be halogenated to form, for example, chloromethyl group, J, J, J-trifluoropropyl group % J,! , 4t, 4t, J.

ｊ、ｊ−へブタフルオロペンチル基、７ξ−クロロフエ
ニ”基ｈ　　３．弘−シクロモジクロへ’Ｐ　’／に基
、α、α、α−トリフルオロトリル基、２．弘−ジブロ
モベンジル基、ジフルオロモノクロロビニル基、α、β
、β−トリフルオローα−クロロシクロブチル基および
コーヨードシクロはンテンー３−イル基のごとき基を作
ることが出来る。これらの基はすべて使用出来る。j, j-hebutafluoropentyl group, 7ξ-chloropheni'' group h 3. Hiro-cyclomodichloro to 'P'/ group, α, α, α-trifluorotolyl group, 2. Hiro-dibromobenzyl group, difluoromonochloro Vinyl group, α, β
, β-trifluoro, α-chlorocyclobutyl, and coiodocyclo can form groups such as a ten-3-yl group. All of these groups can be used.

さらにＲ′基はたとえばβ−シアンエチル基、ｒ−シア
ノプロピル基、ω−シアノブチル基、β−シアノプロピ
ル基、γ−シアノブチル基、ω−シアノオクタプシル基
のいづれかである。シアノアルキル基がある場合には、
該第は本発明における化合物のケイ素原子中なくとも１
モル％に結合していることが好ましい。Further, the R' group is, for example, any one of β-cyanoethyl group, r-cyanopropyl group, ω-cyanobutyl group, β-cyanopropyl group, γ-cyanobutyl group, and ω-cyanooctapsyl group. If there is a cyanoalkyl group,
The number is at least one silicon atom in the compound of the present invention.
Preferably, the bonding is in mol%.

本発明の目的では、各Ｒ“基はコ価ハロゲン化炭化水素
基あるいは炭化水素基で、２価の原子価はＣ＝ＮＯ基の
炭素原子に直接結合している。Ｒ“ＣＨ２ＣＨ２−＝−
ＣＨ２ＣＨ２Ｉ（’Ｈ２ＣＨ２＋、−ｃ　６）１４Ｃ，
Ｈ：これら脱アセトキシ型、脱オキシム型、脱アルコー
ル型、脱アミン型、脱アセトン型及び付加型のシリコー
ンゴムのうち脱アセトキシ型、脱アセトン型及び脱アミ
ン型を用い気密性の良いエアーサンドウィッチ構造にし
た場合、縮合にょ多発生する酢酸、アセト／、アミンが
基板、中間層、記録層に悪影響を及ぼすため、脱オキシ
ム型、脱アルコール型、付加型を用いることが好筐しい
。For the purposes of this invention, each R" group is a covalent halogenated hydrocarbon radical or hydrocarbon group, with the divalent valence bonded directly to the carbon atom of the C=NO group. R"CH2CH2-=-
CH2CH2I('H2CH2+, -c 6)14C,
H: Among these deacetoxy type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, deacetone type, and addition type silicone rubber, the deacetoxy type, deacetone type, and deamine type are used to create an air sandwich structure with good airtightness. In this case, acetic acid, acetate/amine, which is often generated during condensation, has an adverse effect on the substrate, intermediate layer, and recording layer, so it is preferable to use a deoxime type, dealcohol type, or addition type.

しかし、ディスクの作成方法、ディスク形態等により酢
酸、アセトン、アミン等が発生してもかまわないような
ディスクの場合には特に限定するものではない。However, there is no particular limitation in the case of a disc in which acetic acid, acetone, amine, etc. may be generated depending on the disc manufacturing method, disc form, etc.

上記（１１％（２）のＲＴＶゴムに対し他の型のシロキ
サン及び（又は）充填剤とを混合することによって組成
物を変型することが望ましい−例えば木組：　載物と樹
脂状シロキサンとを混合することによって１本組成物の
接着性を増大することが望ましい。It may be desirable to modify the composition by mixing other types of siloxane and/or fillers to the above (11%(2)) RTV rubber - e.g. It is desirable to increase the adhesion of a single composition by mixing.

この樹脂状シロキサンは又加硫された本組成物の弾性を
変型しその弾力性を減少する。かかる性質は成極の充填
用途に特に望ましい。又加硫された本組成物に、トリメ
チルで末端封鎖したジメチルシクロヘキサンの如き１ξ
Ｍｉの非反応性のヒドロキシルを言まないシロキサン可
塑剤を添加して、これを回置化することも望ましい。The resinous siloxane also modifies and reduces the elasticity of the vulcanized composition. Such properties are particularly desirable for polarizing filling applications. The vulcanized composition may also be coated with 1ξ such as dimethylcyclohexane end-capped with trimethyl.
It is also desirable to add a non-reactive hydroxyl-free siloxane plasticizer of Mi to reverse this.

本組成物は又その中に周知の補強填料例えば煙道シリカ
、シリカエアロゲル及び高い表面積Ｊｋ有する沈澱シリ
カ等を添加しても変型される。これ等の填料は所望なら
ばその表面にオルガノシリル基を附属せしめうる。使用
される填料は又非補強填料例えば硅藻土の如き粗製シリ
カ、粉砕石英、又はチタニア、酸化第２鉄、酸化亜鉛叫
であってもよい、ｒ９ｒ望ならはアスベスト又は硝子の
如き繊維質填料も亦使用しうる。簡単にいえばシリコー
ンゴムに普通に使用される任意の填料を本組成物に使用
しうる。又いずれの場合に庵填料は組成物と混合する前
に実質的に乾燥することが望ましい。The compositions are also modified by the addition therein of well known reinforcing fillers such as flue silica, silica aerogels and precipitated silicas having a high surface area Jk. These fillers can have organosilyl groups attached to their surface if desired. The fillers used may also be non-reinforcing fillers such as crude silica such as diatomaceous earth, ground quartz, or titania, ferric oxide, zinc oxide, and if desired fibrous fillers such as asbestos or glass. can also be used. Briefly, any filler commonly used in silicone rubbers may be used in the present compositions. Also, in all cases it is desirable that the filler be substantially dry before being mixed with the composition.

但し過量のアシロキシシランを使用する場合には多少の
水分は許容しうる。However, if an excessive amount of acyloxysilane is used, some moisture may be allowed.

填料は通常エラストマー性組成物の強度を増大するため
及び非加硫組成物の流動性を変型するために使用される
。後者は充填目的のために特に重要であり、原料を継目
に誼いてから加硫が始まるまでに流動が望められるのは
望１しくないことである。Fillers are commonly used to increase the strength of elastomeric compositions and to modify the flow properties of unvulcanized compositions. The latter is particularly important for filling purposes, and it is undesirable to expect the raw material to flow between the time it is reduced to the seam and the time vulcanization begins.

前記成分に加えて本組成物は他の望しい添加剤例えば顔
料、太陽光線スクリーン剤、酸化阻止剤及び誘電物質例
えば黒鉛及びカーホンブラックを言みうる。In addition to the above-mentioned components, the composition may contain other desirable additives such as pigments, sun screening agents, oxidation inhibitors and dielectric materials such as graphite and carbon black.

本発明の接着剤を用いる場合、接着剤と基板、又はスペ
ーサーとの接着力を向上させるため、予め基板又はスに
一す−の接着部全シランカップリング剤等の表面処理剤
による表面処理、グロー放電、コロナ放電処理、サンド
ペーパー等による粗面化処理を施してもよい。When using the adhesive of the present invention, in order to improve the adhesive strength between the adhesive and the substrate or spacer, the entire adhesive area of the substrate or spacer is subjected to surface treatment using a surface treatment agent such as a silane coupling agent. Glow discharge, corona discharge treatment, surface roughening treatment with sandpaper, etc. may also be performed.

以下に実施例により本発明の詳細な説明するが、これに
限定されるものではない。The present invention will be explained in detail below using Examples, but is not limited thereto.

〈実施例１〉 二枚の射出成形によりグループを設けた円盤状ポリメチ
ルメタクリレート（以下ＰＭＭＡと略す）基板（外径：
２００ｍ、グループエリア外径ｌりＯｆｉ、内径Ｊｊｔ
ｌ１％厚さ１．コｎ）のグループ面に、ＩｎとＧｅＳと
をｌ：１（Ｉｎ：Ｇｅ５−容積比、Ｐ３径１００ｖｘ）
の比率で共蒸着させて、厚さ３００Ａの記録層を形成し
た。<Example 1> Two disc-shaped polymethyl methacrylate (hereinafter abbreviated as PMMA) substrates (outer diameter:
200m, group area outer diameter l, inner diameter Jjt
l1% thickness 1. In and GeS are placed l:1 (In:Ge5-volume ratio, P3 diameter 100vx) on the group surface of
A recording layer having a thickness of 300 Å was formed by co-evaporation at a ratio of .

２枚の基板の接着Ｓ（外径−２００Ｍ１１から巾ｊｔｌ
。Adhesion of two boards S (outer diameter -200M11 to width jtl
.

内径ＪＪｒｔｌｌから巾／−ｔｍ）％及びリング状の射
出成形された外側ＰＭＭＡスは−サー（外径：　２００
ｉ１１．　Ｐ′３径：　／　９４’ｌ１％厚さ／ｍ）内
側ス＜−サー（外径：６ｊｍ％内径：３ｊ酊、厚さ／重
重）の接着面に予め、シランカップリング剤として下記
化合物を塗布した。The inner diameter JJrtll to width/-tm)% and the ring-shaped injection molded outer PMMA space are -cer (outer diameter: 200
i11. P'3 diameter: / 94'l1% thickness/m) The following compound was applied in advance as a silane coupling agent to the adhesive surface of the inner surface (outer diameter: 6m% inner diameter: 3m, thickness/weight). Coated.

トルエン／インプロピルアルコール：／／／（体積比） 濃度　コ％ 次いで下記脱オキシム型−液ＲＴＶゴムを外、内側スは
−サー接着面にｊＯμのＮさに塗布し。Toluene/inpropyl alcohol: /// (volume ratio) Concentration: % Next, apply the following oxime-free liquid RTV rubber to the outer and inner surface to which the adhesive is attached to a thickness of JOμ.

記録層を内側にし、２３°Ｃ％　６３％ＲＨの雰囲気で
２枚の基板を組立て、１日放置しエアーサンドウィッチ
構造の情報記録媒体を得た。Two substrates were assembled in an atmosphere of 23° C. and 63% RH with the recording layer on the inside, and left for one day to obtain an information recording medium with an air sandwich structure.

〈−液ＲＴＶゴム〉 （Ｍｅ２Ｃ＝ＮＯ）２ＳｉＭｅＯ［ＳｉＰｈＭｅＯ］３
６ＳｉＭｅ（ＯＮ＝ＣＭｅ　２　）　２ 〈比較例／〉 実施例１において化合物ｌのかわ９に下記組成ウニを３
０μ塗布し、／ｋｗ高圧水銀灯で７分間照射し、情報記
録媒体を得た。<-Liquid RTV rubber> (Me2C=NO)2SiMeO[SiPhMeO]3
6SiMe (ON=CMe 2 ) 2 <Comparative Example/> In Example 1, the following composition of sea urchin was added to glue 9 of compound 1.
0μ was applied and irradiated for 7 minutes with a /kw high pressure mercury lamp to obtain an information recording medium.

組成ウニ 〔 ｎ：２〜弘 これら２極の情報記録媒体の耐久性テストをｔＯｏ（：
、りＯ％ＲＨ雰囲気に放置し、目視での接着部のハカレ
で評価した。Composition sea urchin [n: 2 ~ Hiro tOo (:
The adhesive was left in an atmosphere of 0% RH, and evaluated by visually observing peeling of the bonded area.

１、ＱＯＣ５タ０％ＲＨでのハガレ発生日数夾施例／　
　　　　　　　３０日以上 比較例１　　　　　　　７日 実施例λ 基板、スペーサー材質をポリカーボネートにした。以外
は実施例／と同様に行ない情報記録媒体を得た。1. Example of number of peeling days at QOC5ta0%RH/
30 days or more Comparative Example 1 7 days Example λ The substrate and spacer materials were made of polycarbonate. An information recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except for this.

比較例λ 基板、スに一す−材質をポリカーボネートにした以外は
比較例／と同様に行ない情報記録媒体を得た。Comparative Example λ An information recording medium was obtained in the same manner as in Comparative Example except that the substrate and the substrate were made of polycarbonate.

この一種の情報記録媒体の耐久性テストを６０００、り
Ｏ％ＲＨ雰囲気に放置し、目視での接着部のハガレで評
価した。The durability of this type of information recording medium was evaluated by leaving it in an atmosphere of 6000% RH and visually observing peeling of the adhesive portion.

ｔｏ６（：、りＯ％ＲＨでのハガレ発生日数実施例コ　
　　　　　　３Ｑ日以上 比較例−−日 実施例／、２の如く本発明の接着剤によシ接着耐久性の
ある情報記録媒体を達成することができる。to6(:,Example number of days when peeling occurs at %RH)
An information recording medium with adhesive durability of 3Q days or more can be achieved using the adhesive of the present invention as in Example 2.

手続補正書Procedural amendment

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 二枚の円盤状基板が、直接もしくはリング状スペーサと
を介して接着剤により接合され、かつ少なくともその一
方の基板の内側表面にレーザーによる情報の書き込み及
び／又は読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報
記録媒体において、前記接着剤がシリコーンゴムである
ことを特徴とする情報記録媒体。Two disc-shaped substrates are bonded together with an adhesive, either directly or via a ring-shaped spacer, and a recording layer on the inner surface of at least one of the substrates is provided on which information can be written and/or read using a laser. An information recording medium characterized in that the adhesive is silicone rubber.