JPH0425614B2 - - Google Patents

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JPH0425614B2
JPH0425614B2 JP59260945A JP26094584A JPH0425614B2 JP H0425614 B2 JPH0425614 B2 JP H0425614B2 JP 59260945 A JP59260945 A JP 59260945A JP 26094584 A JP26094584 A JP 26094584A JP H0425614 B2 JPH0425614 B2 JP H0425614B2
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JP
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meth
acrylate
substrate
substrates
recording medium
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JP59260945A
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JPS61139954A (ja
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Masao Yabe
Kyoichi Naruo
Hiroyuki Kato
Tetsuji Jitsumatsu
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Fujifilm Holdings Corp
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、高エネルギー密度のレーザービーム
を用いて情報の書き込みおよび/または、読み取
りが出来る、光情報記録媒体に関するものであ
る。 即ち本発明は、ビデオ・デイスク、オーデイ
オ・デイスク、さらには大容量静止画像フアイル
および大容量コンピユータ用デイスク・メモリー
など各種用途の光デイスクを対象とするものであ
る。 〔従来の技術〕 光情報記録媒体は数ミクロンの焦点深度を有す
るレンズにより、光ビームを記録層に照射し、情
報の書込み、読出しを行うため、記録層上に塵埃
が付着したり、取り扱い時に記録層を傷つける
と、ビツトエラー、ドロツプアウト等の故障を起
こしていた。そのため、二枚の円盤状基板が、円
盤状基板に設けられた凸部もしくはスペーサーを
介して接着剤により接合され、少くともその1方
の基板が透明基板でありその内側表面に記録層が
設けられたいわゆるエアーサンドイツチ構造が提
案されている。また少くともその一方に記録層が
設けられた二枚の円盤状基板を直接もしくは第三
の基板を介して記録層を内側にして貼り合せたい
わゆる貼り合せ構造も提案されている。 接着剤としては光重合性を有する化合物を用い
た接着剤、例えば紫外線硬化型接着剤が、接着に
要する時間も数分と短時間ですみ、加熱を必要と
せず変形も少いので用いられている。 しかし従来の紫外線硬化型接着剤ではデイスク
が高温高湿の環境に置かれた場合、ガラス基板及
びプラスチツク基板のいずれについても耐久性が
不充分である。またアクリル樹脂やポリ塩化ビニ
ル及びポリカーボネート等のプラスチツクを基板
に用いた場合、特に接着しにくくデイスクを少し
変形させただけで接着部が剥離してしまい実用に
耐えない。 このため、接着力を増加する目的で特開昭57−
138064、特開昭57−120243に示されているように
接着部表面を粗す事が提案されている。しかしな
がらこの場合表面を粗する際に塵埃が発生しこれ
が基板に付着してしまう。従つて、表面を粗した
基板を光デイスクに使用するには洗浄をしなけれ
ばならず大変不都合である。何故なら光デイスク
用の洗浄では水洗に使用する水でも純水製造機か
ら作り出された純水を使用せねばならず更に乾燥
するためにもクリーン乾燥機を使用しなければら
ない。接着性を改良するためだけでこのような設
備投資及び繁雑な工程を取り入れるのは大変不都
合である。 又、特願昭58−718841に示されているように、
基板を放電処理もしくは紫外線照射処理した後、
電磁放射線硬化型接着剤を用いて接着し、接着力
を飛躍的に改善する方法が開示されているが、こ
の方法は表面処理工程を必要とする。 一方、エポキシ系の接着剤を用いた場合、硬化
剤として用いるアミンが記録層を劣させ、記録及
び読り取り時に欠陥を生じるという問題がある。
また粘性が高く均一に塗布しにくく、また硬化に
長時間を要するため、デイスクの組立時に、わず
かな位置のくるいも生じないように硬化が終了す
るまで長時間保持する必要があり、生産工程上問
題がある。 〔発明が解決しようとしている問題点〕 本発明の目的は、第一に、円盤状基板の接着部
分が経時や変形により剥離することのない光情報
記録媒体を得ることにある。 第二には、基板の表面処理を必要としない、光
情報記録媒体の組立方法を与えることにある。 第三には、接着剤を起因する記録層の劣化のな
い光情報記録媒体を得ることにある。 第四には、工程的に有利な、光情報記録媒体の
組立方法を与えることにある。 〔問題を解決するための手段〕 本発明の目的は、二枚の円盤状基板が直接もし
くはリング状内側スペーサとリング状外側スペー
サを介して接合され、かつ基板の少くとも一方は
透明であり、かつ少くとも一方の基板の内側表面
にレーザーによる情報の書き込みおよび/または
読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体において、前記接合が下記(A),(B),(C)及び
(D)を含有する紫外線硬化型接着剤を前記基板に塗
布し、両基板を組み合わせてから紫外線照射する
ことによりなされたことを特徴とする光情報記録
媒体によつて達成される。 (A) 分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基
を有し、(メタ)アクリロイル基1個当たりの
分子量として1000以下の架橋性オリコマー (B) 硬化した皮膜のTgが20℃未満の単官能ビニ
ル化合物 (C) 硬化した皮膜のTgが20℃以上の単官能ビニ
ル化合物 (D) 光重合開始剤 また基板が硝子の場合、前記紫外線硬化型接着
剤中にシランカツプリング剤を含有させることに
より達成される。 基板としては、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネート等の透明プラスチツクやガ
ラスが用いられる。本発明に用いる紫外線硬化型
接着剤では、最も接着しにくいセルキヤストアク
リン板に対しても強固な接着力が得られる。ガラ
ス基板としては、化学強化特にカリ強化したもの
が好ましい。 本発明に係る光情報記録媒体の構成は、エアー
サンドウイツチ構造でも直接貼り合せ構造でもよ
い。エアーサンドウイツチ構造の場合には、スペ
ーサー材質はプラスチツク、金属例えばアルミニ
ウム(アルマイト処理してもよい)、ステンレス、
セラミツク等いずれでもよい。これらのスペーサ
ー表面は、接着性を向上させるため、粗面化又
は、シランカツプリング剤等による表面処理、グ
ロー放電、コロナ放電等の放電処理を施してもよ
い。使用する基板によつて同じ熱膨張係数、吸湿
膨張係数を有するスペーサー材質を用いる事が好
ましい。 記録層に用いられる材料の例としては、Te,
Zn,In,Sn,Zr,Al,Ti,Cu,Ge,Au,Pt等
の金属;Bi,As,Sb等の半金属;Ge,Si等の半
導体;およびこれらの合金またはこれらの組合せ
を挙げることができる。また、これらの金属、半
金属または半導体の硫化物、酸化物、ホウ化物、
ケイ素化合物、炭化物および窒化物等の化合物;
およびこれらの化合物と金属との混合物も記録層
に用いることができる。あるいは、色素とポリマ
ーとの組合せを利用することもできる。 記録層は、上記材料を蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイングなどの方法により基板上に
直接にまたは下塗層を介して形成することができ
る。記録層は単層または重層でもよいが、その層
厚は、光情報記録に要求される光学濃度の点から
一般に100乃至5500Åの範囲であり、好ましくは
150〜1000Åの範囲である。 上記記録層を設けるに際し、記録層を設ける側
の基板表面には、ニトロセルロース、ポリ塩化ビ
ニリデン、スチレン誘導体の共重合体、放射線硬
化型モノマー及びオリゴマー等の硬化物等の有機
ポリマー材料又はSiO,SiO2,Al2O3等の無機材
料もしくは有機及び無機材料の積層物を0.01μ〜
100μ設けてもよい。有機材料は適当な有機溶剤
に溶解し、この溶液をスピンナー等により基板表
面に設ける。又、無機材料は真空蒸着又はスパツ
タリングにより設けるかあるいは、無機材料のデ
スパージヨン液をスピンナー等で塗布することに
より基板表面に設ける。 又、基板の記録層を設ける側の反対側にも前述
の有機、無機材料を設けても良い。 本発明に用いられる紫外線硬化型接着剤に含ま
れる(A)分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル
基を有し、(メタ)アクリロイル基1個当たりの
分子量が1000以下の架橋性オリゴマーとしては下
記(a)〜(j)の(メタ)アクリレートを挙げることが
できる。 (a) 脂肪族、脂環族、芳香脂肪族2〜6価の多価
アルコール及びポリアルキレングリコールのポ
リ(メタ)アクリレート; 例えばエチレングリコール、プロピレングリ
コール、1,3−または1,4−ブタンジオー
ル、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、シクロヘキサンジオール、トリメチロール
エタン、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジ
ペンタエリスリトール、水素化ビスフエノール
Aなどの多価アルコール及びジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、シプ
ロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルなどの如き多価アルコールのポリ(メタアク
リレートがあげられる。 これらの具体例は例えば特開昭49−12098号
公報などに示されている。 (b) 脂肪族、脂環族、芳香脂肪族、芳香族2〜6
価の多価アルコールにアルキレンオキサイドを
付加させた形の多価アルコールのポリ(メタ)
アクリレート; 例えばビスフエノールAジオキシエチルエー
テルなどのように、トリメチロールプロパン、
ペンタエリスリトール、グリセリン、ビスフエ
ノールAなどの多価アルコールにエチレンオキ
サイドやプロピレンオキサイドを付加させて得
られる多価アルコールのポリ(メタ)アクリレ
ートがあげられる。 (c) ポリ(メタ)アクリロイルオキシアルキルリ
ン酸エステル; ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートと
五酸化リンとの反応によつて得られ、例えばポ
リ(メタ)アクリロイルオキシエチルリン酸エ
ステル、ポリ(メタ)アクリロイルオキシプロ
ピルリン酸エステルなどがあげられる。 (d) ポリエステルポリ(メタ)アクリレート; ポリエステルポリ(メタ)アクリレートは通
常(メタ)アクリル酸と多価アルコールと多価
カルボン酸とをエステル化することによつて合
成される。ポリエステル型多価アルコールのポ
リ(メタ)アクリレートが主成分であると想定
され、その合成例及び具体例は例えば特開昭49
−128944号公報その他の公開特許公報(49−
128088、49−120981、49−93473、49−28692、
48−96515、48−66679、48−25790など)に記
載されている。 例えばコハク酸とエチレングリコールとのポ
リエステルジオールのジ(メタ)アクリレー
ト、マレイン酸とエチレングリコールとのポリ
エステルジオールのジ(メタ)アクリレート、
フタル酸とジエチレングリコールとのポリエス
テルジオールのジ(メタ)アクリレート、テト
ラヒドロフタル酸とジエチレングリコールとの
ポリエステルジオールのジ(メタ)アクリレー
ト、アジピン酸とトリエチレングリコールとの
ポリエステルジオールのポリ(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフタル酸とトリメチロール
プロパンとのポリエステルポリオールのポリ
(メタ)アクリレート、テトラヒドロフタル酸
とペンタエリスリトールとのポリエステルポリ
オールのポリ(メタ)アクリレートなどがあげ
られる。これらポリエステルポリ(メタ)アク
リレートの中では、フタル酸のような芳香族多
価カルボン酸系のものよりも、脂肪族または脂
環族多価カルボン酸系のポリエステルポリ(メ
タ)アクリレートを用いた場合の方が架橋硬化
物の耐候性、強靭性などの物性に優れる利点が
ある。 (e) エポキシポリ(メタ)アクリレート; 分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポ
キシ樹脂に、エポキシ基とほぼ当量の(メタ)
アクリル酸、カルボキシル基を有する(メタ)
アクリレート、もしくは(メタ)アクリル酸ま
たはカルボキシル基をもつ(メタ)アタリレー
トと多塩基酸との混合物を反応させることによ
つて合成される。あるいはエポキシ基含有(メ
タ)アクリレートに多価カルボン酸を反応させ
るなどの方法もある。 エポキシポリ(メタ)アクリレートの合成例
及び具体例は例えば特開昭49−28692号公報そ
の他の公開特許公報(48−66182、48−60787、
特公昭49−12091、49−12090など)に示されて
いる。 例えばビスフエノールAジグリシジルエーテ
ル型、グリセリンジグリシジルエーテテル型、
ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテ
ル型、多塩基酸ジグリシジルエステル型、シク
ロヘキセンオキサイド型などの各エポキシ樹脂
と(メタ)アクリル酸との付加反応生成物など
があげられる。 (f) ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート; 主鎖にポリウレタン結合単位を有する多価ア
ルコールの(メタ)アクリレートの構造を有
し、通常ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレ
ートと、ポリイソシアネート及び必要により多
価アルコールとを反応させるなどの方法で合成
される。合成例及び具体例は例えば特開昭48−
60787号公報などに記載されている。 例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートまたは2−ヒドロキシプロピル(メタ)
アクリレートとジイソシアネートとの付加反応
生成物、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートとジイソシアネートと2価アルコールと
の付加反応生成物などがこの例に相当する。 (g) ポリアミドポリ(メタ)アクリリレート; 主鎖にポリアミド結合単位を有する多価アル
コールの(メタ)アクリレートの構造を有し、
通常、ポリアミド型多価カルボン酸にヒドロキ
シ基含有(メタ)アクリレート又はエポキシ基
含有(メタ)アクリレートを反応させるか、ポ
リアミド型多価アルコールに(メタ)アクリル
酸を反応させるなどの方法で合成される。 合成例及び具体例は例えば特開昭48−60787
号公報、特開昭48−37246号公報などに記載さ
れている。 例えばエチレンジアミンとフタル酸との反応
によつて得られるポリアミド型多価カルボン酸
と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
またはグリシジル(メタ)アクリレートの反応
生成物などがこの例に相当する。 (h) ポリシロキサンポリ(メタ)アクリレート; 主鎖にポリシロキサン結合単位を有する多価
アルコールの(メタ)アクリレートの構造を有
し、通常ポリシロキサン結合単位を有する多価
アルコールに(メタ)アクリル酸又はヒドロキ
シル基含有(メタ)アクリレートを反応させる
などの方法で合成される。 合成例及び具体例は例えば特公昭49−4296号
公報などに記載されている。 (i) 側鎖及び/又は末端に(メタ)アクリロイル
オキシ基を有するビニル系又はジエン系低重合
体; ビニル系又はジエン系低重合体の側鎖又は末
端に、エステル結合、ウレタン結合、アミド結
合、エーテル結合などを介して(メタ)アクリ
ロイルオキシ基が結合されている構造を有す
る。通常側鎖または末端にヒドロキシ基、カル
ボキシル基、エポキシ基等を有する低重合体
に、これらの基と反応性の(メタ)アクリル
酸、カルボキシル基含有(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレー
ト、エポキシ基含有(メタ)アクリレート、イ
ソシアネート基含有(メタ)アクリレート、ア
ミノ基含有(メタ)アクリレートなどを反応さ
せることによつて合成される。合成例及び具体
例は例えば特開昭50−9687号公報、特公昭45−
15629号公報、特公昭45−15630号公報などに記
載されている。 例えば(メタ)アクリル酸と他のビニルモノ
マーとの共重合体にグリシジル(メタ)アクリ
レート反応させた反応生成物などがあげられ
る。 なお、この系に属する架橋性単量体は、分子
量が高くなると一般に高粘度または固体状にな
り易いので、後記のように液体低粘度の架橋性
単量体などに溶解して用いるか、もしくは低分
子量(通常数平均分子量3000以下)の液体のも
のを用いることが好ましい。 (j) 前記(a)〜(i)記載の架橋性単量体変性物; 上記の各架橋性単量体中に残存するヒドロキ
シル基又はカルボキシル基の少なくとも一部
を、これらの基と反応性の酸クロライド、酸無
水物、イソシアネート又は、エポキシ化合物と
反応させることによつて変性した変性物であ
り、変性の方法及び具体例は例えば特開昭49−
128994号公報、特開昭49−128088号公報などに
示される。 前述したオリゴマーで本発明に特に適したもの
は(b)、(d)、(e)及び(f)である。 (B) 硬化皮膜のTgが20℃未満の単官能ビニル化
合物としては次のようなものである。 ) CH2=CH−COO−CoH2o+1 nは1〜12の整数 ) CH2=CH−COO(−CH2CH2O−)R
【式】 nは1〜12の整数 n=0、1、4、8、9 ) CH2=CH−COO(−CH2CH2O−)2R
【式】 nは1〜12の整数 n=0、1、4、8、9 ) )及び)の−CH2CH2O−鎖を
【式】 鎖に変えたもの ) CH2=CH−COO−X−OH X=−CH2CH2−,
【式】
【式】 ) その他 テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジ
シクロペンタジエニロキシエチルアクリレー
ト水添ジシクロペンタジエニロキシエチルア
クリレート これらの単官能ビニル化合物(B)としては、被着
材質がプラスチツク同士の場合には、前述の)、
)、)、)もしくは)を用いる事が好まし
く、又被着材質がガラス、Al,Feなどの無機質
同士の場合には)を用いる事が好ましい。更に
被着材がプラスチツクと無機質の場合には)、
)、)、)もしくは)と)を併用する事
が好ましい。 (C) 硬化皮膜のTgが20℃以上の単官能ビニル化
合物としては、次のようなものがある。 (i)
【式】 R1:−CH2CH2OH,
【式】 :−CH3 (ii) N−ビニルピロリドン (iii) イソボニルアクリレート、ジシクロペンタ
ジエニルアクリレート、水添ジシクロペンタ
ジエニルアクリレート (iv) スチレン これらの単官能ビニル化合物(C)としては被着材
質がプラスチツク同士の場合には上述の(i)、(ii)、
(iii)もしくは(iv)を用いる事が好ましく、又被着材質
がガラス、Al,Feなどの無機質同士の場合には
(i)のうち−OH基を持つものが好ましい。更に被
着材がプラスチツクと無機質の場合には、(i)、
(ii)、(iii)もしくは(iv)と(i)のうち−OH基を持つもの
とを併用する事が好ましい。 光重合開始剤としてはベンゾインアルキルエー
テル、ベンジルケタール、アセタール類、アセト
フエノン誘導体、ベンゾフエノン誘導体、キサン
トン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラキ
ノン誘導体、ベンズアルデヒド誘導体などを挙げ
ることができる。また増感剤として使用すること
のできる化合物の具体例としては、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾフエ
ノン、ベンジル、2,2−ジメトキシ−2−フエ
ニルアセトフエノン、2,2−ジメトキシ−2−
ヒドロキシアセトフエノン、ジフエニルジスルフ
イド、2−ヒドロキシ−2−プロピオフエノン、
4,4′−ビスジエチルアミノベンゾフエノン、ジ
メチルアミノベンズアルデヒド、エチル−4,
4′−ビスジメチルアミノベンゾフエノン、エチル
アントラキノン、2−クロロチオキサントンなど
を挙げることができる。これらの増感剤は単独で
も、あるいは適宜組合わせても使用することがで
きる。 シランカツプリング剤としては、エポキシシラ
ン系のシランカツプリング剤、例えばγ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、アミノシラン系のシランカツプリング
剤、例えば、N−β−アミノエチル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、N−β−アミノエ
チル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、ビニルシラン系のシランカツプリング剤、例
えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン等が好ましい。 本発明による紫外線硬化型接着剤としては次の
ような組合せが最も好ましい。 X:分子量900のポリウレタン又はポ
リエステル または
【式】 シランカツプリング剤
【式】 光重合開始剤
【式】 被着物質がプラスチツクの場合、上記の(a)、(b)
−2、(c)及び光重合開始剤の組合せが好ましく、
被着物質がガラスの場合、上記の(a)、(b)−1、
(c)、シランカツプリング剤及び光重合開始剤の組
合せが好ましい。 好ましいのは、硬化した接着剤のTgが−20℃
〜100℃のものである。接着剤の硬化物のTgは
(A)、(B)及び(C)の混合比によつて調整できる。硬化
接着剤のTgが−20℃以下ではデイスク回転時、
遠心力により基板が位置ズレをおこしやすい。 又、Tgが100℃以上では、基板と、スペーサー
の材質が異なる場合、熱膨張により基板又はスペ
ーサーと接着剤の界面に剪断応力がかかり、剥離
しやすい。 又、架橋性オリゴマー(A)は接着剤の弾性率を下
げ、初期の接着性を増す。但し、5重量%未満で
は効果なく、90重量%を越すと高温高湿条件下に
おける接着耐久性が悪化する。塗布適性の点から
は60重量%以下が好ましい、従つて好ましいのは
5〜90%、最も好ましいのは5〜60%である。
又、単官能ビニルモノマー(B)及び(C)は、被着材と
の相互作用を強くし、高温高湿下での接着耐久性
を増す。但し、9.9%重量%未満では効果なく、
94.9重量%を越すと耐衝撃性が低下し、落下試験
により接着部の剥離が生じる。従つて好ましいの
は9.9〜94.9%、最も好ましいのは39.9〜94.9%で
ある。 (B)と(C)の重量比(B)/(C)は0.1〜10が好ましい。
0.1未満では硬化物がかたずき、10をこえると凝
集力が不足し、接着強度が低い。最も好ましいの
は0.3〜3である。 光重合開始剤(D)は0.1〜10重量%で用いられる。
0.1%未満では硬化しなかつたり、硬化が不充分
である。10%を過えると未分解の光重合開始剤が
残存し、充分な接着強度が得られなかつたり、記
録層に悪影響を与える。最も好ましいのは0.1〜
8%である。基板もしくはスペーサーの少くとも
一方が無機質の場合には、高温高湿下での接着耐
久性を増すためシランカツプリング剤を紫外線硬
化型接着剤に含有させる。 シランカツプリング剤は(A)、(B)及び(C)の和100
重量部に対し0.01重量%〜10重量%で添加するの
が好ましい。0.01未満では効果が少なく、10重量
%を越すと記録層に悪影響を及ぼす。基板又はス
ペーサーの表面処理としてコロナ放電処理、グロ
ー放電処理等を施す又はプライマーで処理してお
くと接着性は更によくなる 以下実施例にて本発明を説明する。 実施例 1 外径305mm、内径35mm、厚み1.5mmのドーナツ状
のセルキストアクリル免板の片面にInとGeSを
1:1の容積比率で共蒸着させ、厚さ300Åの記
録層を形成したものを2枚作成した。外径305mm、
内径295mmの外スペーサー、及び外径160mm、内径
35mmの内スペーサーの両面に下記接着剤組成物の
組成比を変化させたものを転写印刷法により50μ
の厚さに両面に塗布した。 上記の基板を記録層を内側にして、上記スペー
サーを介して窒素雰囲気中で組立て1KWの高圧
水銀灯2台を用い50cmの距離から2枚の基板の両
面から同時に紫外線を2分間照射し、エアーサン
ドイツチ構造の光情報記録媒体を得た。 (接着剤組成物) X:ポリウレタンMW900 の混合物。 得られた光情報記録媒体についてのテスト結果
を第1表に示す。
【表】 実施例 2 二枚の円盤状ガラス基板(外径:305mm、内
径:35mm、厚さ:1.3mm)の片面全体に、2%の
スチレン・無水マレイン酸共重合体溶液(メチル
エチルケトンとメチルセロソルブアセテートの
1:1(容積比)溶液)を1000rpmの回転数のス
ピンナーを用いて塗布したのち、120℃の温度で
5分間塗膜を乾燥させて乾燥膜厚が0.2μmの下塗
層を形成した。 この下塗層の上に、2%のポリメチルメタクリ
レート溶液(トルエンとメチルセロソルブの4:
1(容積比)溶液)を同様にしてスピンナーを用
いて塗布したのち乾燥して、乾燥膜厚が0.2μmの
断熱層を形成した。 次に、断熱層表面にInとGeSとを1:(In:
GeS、容積比)の比率で共蒸着させて、厚さ300
Åの記録層を形成した。 リング状のアルマイト処理された外側Alスペ
ーサ(外径:305mm、内径:295mm)および内側
Alスペーサ(外径:160mm、内径:35mm)の各接
着面に、シランカツプリング剤を設けたのち、転
写印刷法により、第2表の組成の紫外線硬化性接
着剤を50μmの厚さで設けた。以後は実施例1と
同様に処理し光情報記録媒体得た。 これらの情報記録媒体についてのテスト結果を
第2表に示す。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 二枚の円盤状基板が直接もしくはリング状内
    側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
    合され、かつ基板の少くとも一方は透明であり、
    かつ少くとも一方の基板の内側表面にレーザーに
    よる情報の書き込みおよび/または読み取りが可
    能な記録層が設けられてなる情報記録媒体におい
    て、前記接合が下記(A),(B),(C)及び(D)を含有する
    紫外線硬化型接着剤を前記基板に塗布し、両基板
    を組み合わせてから紫外線照射することによりな
    されたことを特徴とする光情報記録媒体。 (A) 分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基
    を有し、(メタ)アクリロイル基1個当たりの
    分子量が1000以下の架橋性オリゴマー (B) ガラス転移温度が20℃未満の重合体を与える
    単官能ビニル化合物 (C) ガラス転移温度が20℃以上の重合体を与える
    単官能ビニル化合物 (D) 光重合開始剤。 2 上記円盤状基板がガラスであり、かつ紫外線
    硬化型接着剤中にシランカツプリング剤を含有す
    ることを特徴とする特許請求の範囲1項に記載の
    光情報記録媒体。
JP59260945A 1984-12-12 1984-12-12 光情報記録媒体 Granted JPS61139954A (ja)

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