JPS61255541A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
- Publication number
- JPS61255541A JPS61255541A JP60096238A JP9623885A JPS61255541A JP S61255541 A JPS61255541 A JP S61255541A JP 60096238 A JP60096238 A JP 60096238A JP 9623885 A JP9623885 A JP 9623885A JP S61255541 A JPS61255541 A JP S61255541A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- recording medium
- disk
- recording layer
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/ま友は、読み取シが出来る、光
情報記録媒体に関するものである。
情報の書き込みおよび/ま友は、読み取シが出来る、光
情報記録媒体に関するものである。
即ち本発明は、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディス
ク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量コン
ピュータ用ディスク・メモリーなど各種用途の光ディス
クを対象とするものである。
ク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量コン
ピュータ用ディスク・メモリーなど各種用途の光ディス
クを対象とするものである。
光情報記録媒体は数ミクロンの焦点深度を有するレンズ
によシ、光ビームを記録層に照射し、情報の書込み、読
出しを行うため、記録J@上に塵埃が付着したり、取シ
扱い時に記録層を傷つけると、ビットエラー、ドロップ
アウト等の故障を起こしてい友。そのため、二枚の円盤
状基板が、円盤状基板に設けられた凸部もしくはスペー
サーを介して接着剤によシ接合され、少くともその1万
の基板が透明基板であシその内側表面に記録層が設けら
れ几いわゆるエアーサンドインチ構造が提案されている
。少くともその一方に記録層が設けられた二枚の円盤状
基板を直接もしくは第三の基板を介して記録層を内側に
して貼シ合せたいわゆる貼シ合せ構造も提案されている
。
によシ、光ビームを記録層に照射し、情報の書込み、読
出しを行うため、記録J@上に塵埃が付着したり、取シ
扱い時に記録層を傷つけると、ビットエラー、ドロップ
アウト等の故障を起こしてい友。そのため、二枚の円盤
状基板が、円盤状基板に設けられた凸部もしくはスペー
サーを介して接着剤によシ接合され、少くともその1万
の基板が透明基板であシその内側表面に記録層が設けら
れ几いわゆるエアーサンドインチ構造が提案されている
。少くともその一方に記録層が設けられた二枚の円盤状
基板を直接もしくは第三の基板を介して記録層を内側に
して貼シ合せたいわゆる貼シ合せ構造も提案されている
。
接着剤としては光重合性を有する化合物を用いた接着剤
、例えば紫外@硬化型接着剤が、接着に要する時間も数
秒から数分と短時間ですみ、加熱を必要とせず変形も少
いので用いられている。
、例えば紫外@硬化型接着剤が、接着に要する時間も数
秒から数分と短時間ですみ、加熱を必要とせず変形も少
いので用いられている。
しかし従来の紫外線硬化屋接着剤ではディスクが高温高
湿の環境に置かれ次場合、ガラス基板及びプラスチック
基板のいずれについても耐久性が不充分である。またア
クリル樹脂やポリ塩化ビニル及びポリカーボネート等の
プラスチックを基板に用い友場合、特に接着しにくくデ
ィスクを少し変形させ友だけで接着部が剥離してしまい
実用に耐えない。
湿の環境に置かれ次場合、ガラス基板及びプラスチック
基板のいずれについても耐久性が不充分である。またア
クリル樹脂やポリ塩化ビニル及びポリカーボネート等の
プラスチックを基板に用い友場合、特に接着しにくくデ
ィスクを少し変形させ友だけで接着部が剥離してしまい
実用に耐えない。
この几め、接着力を増加する目的で特開昭!7−i3r
、otp、特開昭!7−/20,24tJに示されてい
るように接着部表面を粗す事が提案されている。しかし
ながらこの場合表面を粗する際に塵埃が発生しこれが基
板に付着してしまう。
、otp、特開昭!7−/20,24tJに示されてい
るように接着部表面を粗す事が提案されている。しかし
ながらこの場合表面を粗する際に塵埃が発生しこれが基
板に付着してしまう。
従って、表面を粗した基板を光ディスクに使用するには
洗浄をしなければならず大変不都合である。
洗浄をしなければならず大変不都合である。
何故なら光デイスク用の洗浄では水洗に使用する水でも
純水製造機から作シ出された純水を使用せねばならず更
に乾燥するためにもクリーン乾燥機を使用しなければな
らない。接着性を改良するためだけでこのような設備投
資及び繁雑な工程を取り入れるのは大変不都合である。
純水製造機から作シ出された純水を使用せねばならず更
に乾燥するためにもクリーン乾燥機を使用しなければな
らない。接着性を改良するためだけでこのような設備投
資及び繁雑な工程を取り入れるのは大変不都合である。
又、特願昭!r−7/I!参/に示されているように、
基板を放電処理もしくは紫外線照射処理し友後、電磁放
射線硬化型接着剤を用いて接着し、接着力を飛躍的に改
善する方法が開示されているが、この方法は表面処理工
程を必要とする。
基板を放電処理もしくは紫外線照射処理し友後、電磁放
射線硬化型接着剤を用いて接着し、接着力を飛躍的に改
善する方法が開示されているが、この方法は表面処理工
程を必要とする。
一方、エポキシ接着剤を用いた場合、接着強度は得られ
るが、通常、硬化剤として用いられるアミン類、ポリア
ミド類では基板にポリカーボネートを用いた場合、記録
面側のポリカーボネート表面が発生するアンモニアによ
りソルベントクラックを起こし実用に供することができ
ない。
るが、通常、硬化剤として用いられるアミン類、ポリア
ミド類では基板にポリカーボネートを用いた場合、記録
面側のポリカーボネート表面が発生するアンモニアによ
りソルベントクラックを起こし実用に供することができ
ない。
〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明の目的は
、第一に円盤状基板の接着部分が経時や変形によシ剥離
しない情報記録媒体を得ることにある。
、第一に円盤状基板の接着部分が経時や変形によシ剥離
しない情報記録媒体を得ることにある。
第二には、接着剤組成物により記録層、基板に何ら愚作
用を及ぼさないよう情報記録媒体を得ることにある。
用を及ぼさないよう情報記録媒体を得ることにある。
本発明の目的は、二枚の円盤状基板が直接もしくはリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
着剤により接合され、かつ少なくともその一方の基板の
内側表面にレーザーによる情報の薔き込み及び/又は読
み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体に
おいて、前記接着剤が少なくとも分子内にエポキシ基を
2個以上有するエポキシ化合物と末端にチオール基をλ
個以上有する化合物とを含有することにより達成される
。
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
着剤により接合され、かつ少なくともその一方の基板の
内側表面にレーザーによる情報の薔き込み及び/又は読
み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体に
おいて、前記接着剤が少なくとも分子内にエポキシ基を
2個以上有するエポキシ化合物と末端にチオール基をλ
個以上有する化合物とを含有することにより達成される
。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;およびポ
リカーボネートを挙げることができる。これらのうちで
寸度安定性、透明性および平面性の点から、好ましいも
のは強化ガラス等に代表されるガラス基板である。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;およびポ
リカーボネートを挙げることができる。これらのうちで
寸度安定性、透明性および平面性の点から、好ましいも
のは強化ガラス等に代表されるガラス基板である。
記録層が設けられる側の表面には、平面性の改善、接着
力の向上および記録層の変質の防止の目的で、ま比記録
感度を向上させ、S/N比を高める目的で、下塗層が設
けられていてもよい。下塗層の材料としては、たとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレンψ無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホン酸共重合体、スチンンービニルトルエ
ン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質;シ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(Si02、At203等)、弗化物(MgF2)など
の無機物質を挙げることができる。
力の向上および記録層の変質の防止の目的で、ま比記録
感度を向上させ、S/N比を高める目的で、下塗層が設
けられていてもよい。下塗層の材料としては、たとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレンψ無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホン酸共重合体、スチンンービニルトルエ
ン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質;シ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(Si02、At203等)、弗化物(MgF2)など
の無機物質を挙げることができる。
基板から遊離するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土
類金属イオンによる記録層への悪影響を防止するために
は、スチレン・無水マレイン酸共重合体などの親水性基
および/ま念は無水マレイン酸基を有するポリマーから
なる下塗層が設けられているのが望ましい。ま友、断熱
効果により感度を高め、S/N比を向上させるためには
、ポリメチルメタクリレートまたはニトロセルロースか
らなる下塗層が設けられているのが好ましい。
類金属イオンによる記録層への悪影響を防止するために
は、スチレン・無水マレイン酸共重合体などの親水性基
および/ま念は無水マレイン酸基を有するポリマーから
なる下塗層が設けられているのが望ましい。ま友、断熱
効果により感度を高め、S/N比を向上させるためには
、ポリメチルメタクリレートまたはニトロセルロースか
らなる下塗層が設けられているのが好ましい。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散し次後、この塗布液をスピンコード、ディップコー
ト、エクストルージョンコートなどの塗布法によシ基板
表面に塗布することにより形成することができる。この
とき、基板とスペーサとの接着力を高める友めに、基板
のスペーサとの接合部分には塗膜を設け々いで露出させ
ておくのが好ましい。下塗層の層厚は一般にo、oi乃
至20μmであり、好ましくは0./乃至ioμmであ
る。
分散し次後、この塗布液をスピンコード、ディップコー
ト、エクストルージョンコートなどの塗布法によシ基板
表面に塗布することにより形成することができる。この
とき、基板とスペーサとの接着力を高める友めに、基板
のスペーサとの接合部分には塗膜を設け々いで露出させ
ておくのが好ましい。下塗層の層厚は一般にo、oi乃
至20μmであり、好ましくは0./乃至ioμmであ
る。
あるいは、基板(または下塗層)上には、トラッキング
用溝まtはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸ノモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種の七ツマ−(ま次はオリゴマー)と光重
合開始剤との混合物を用いることができる。
用溝まtはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸ノモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種の七ツマ−(ま次はオリゴマー)と光重
合開始剤との混合物を用いることができる。
アクリル酸のモノエステルの例としては、エチルアクリ
レート、n−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、オクチルアクリレート、コーエチルへキシルアクリ
レート等のアルキルアクリレート;エトキシエチルアク
リレート等のアルコキシアルキルアクリレート;フェノ
キシエチルアクリレート等のフェノキシアルキルアクリ
レート;およびフェニルアクリレートなどが挙げられる
。
レート、n−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、オクチルアクリレート、コーエチルへキシルアクリ
レート等のアルキルアクリレート;エトキシエチルアク
リレート等のアルコキシアルキルアクリレート;フェノ
キシエチルアクリレート等のフェノキシアルキルアクリ
レート;およびフェニルアクリレートなどが挙げられる
。
アクリル酸のジエステルの例としては、/、3−プロパ
ンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアク
リレート;ジエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチレン
ジオールジアクリレート等のアルケングリコールジアク
リレートなどが挙げられる。
ンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアク
リレート;ジエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチレン
ジオールジアクリレート等のアルケングリコールジアク
リレートなどが挙げられる。
アクリル酸のトリエステルの例としては、トリメチロー
ルプロ/ξンドリアクリレート、ペンタエリスリトオー
ルトリアクリレートなどが挙げられる。また、アクリル
酸のテトラエステルの例としてはペンタエリスリトール
テトラアクリレートが挙げられる。さらに、ポリエチレ
ングリコールアクリレート、エポキシアクリレート等の
オリゴマーのアクリル酸エステルが挙げられる。
ルプロ/ξンドリアクリレート、ペンタエリスリトオー
ルトリアクリレートなどが挙げられる。また、アクリル
酸のテトラエステルの例としてはペンタエリスリトール
テトラアクリレートが挙げられる。さらに、ポリエチレ
ングリコールアクリレート、エポキシアクリレート等の
オリゴマーのアクリル酸エステルが挙げられる。
光重合開始剤としては、たとえばベンゾインインブチル
エーテル等のベンゾイン化合物が挙けられる。
エーテル等のベンゾイン化合物が挙けられる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母m(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液層とを固着させる。
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液層とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は、一般に0.Or乃至iooμmであり、好まし
くは0./乃至50μmである。
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は、一般に0.Or乃至iooμmであり、好まし
くは0./乃至50μmである。
又、プラスチック基板を用いる場合には、基板を射出成
型又は圧縮成型する際、スタンバ−を用い直接基板にグ
ループを設けることができる。
型又は圧縮成型する際、スタンバ−を用い直接基板にグ
ループを設けることができる。
次に、基板(または下塗層)上には記録層が設けられる
。
。
記録層に用いられる材料の例としては、Te。
Zn、In、Sn、Zr、kL、Cu、Ge等の金属:
B1、Aa、Sb等の半金属;Ge、Si等の半導体;
およびこれらの合金またはこれらの組合せを挙げること
ができる。また、これらの金属または半金属の硫化物、
酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物
等の化合物;およびこれらの化合物と金属との混合物も
記録層に用いることができる。
B1、Aa、Sb等の半金属;Ge、Si等の半導体;
およびこれらの合金またはこれらの組合せを挙げること
ができる。また、これらの金属または半金属の硫化物、
酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物
等の化合物;およびこれらの化合物と金属との混合物も
記録層に用いることができる。
記録層は、上記材料を蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法により基板上に形成される。記
録層は重層または重層でもよいが、その層厚は光情報記
録に要求される光学濃度の点から一般にioo乃至zr
ooにの範囲である。
レーティングなどの方法により基板上に形成される。記
録層は重層または重層でもよいが、その層厚は光情報記
録に要求される光学濃度の点から一般にioo乃至zr
ooにの範囲である。
記録層は二枚の基板両方に設けられていてもよいし、あ
るいは片方のみに設けられていてもよい。
るいは片方のみに設けられていてもよい。
なお、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は耐傷性、防湿性などを高める几めに、九とえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質:
熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、スパッタリングまたは塗布等の方法に
より設けられていてもよい。
は耐傷性、防湿性などを高める几めに、九とえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質:
熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、スパッタリングまたは塗布等の方法に
より設けられていてもよい。
次に、記録層が形成された二枚の基板全記録層を内側に
して、スペーサを介して接合する。
して、スペーサを介して接合する。
スペーサの材料としては、ステンレス、アルミニウム等
の金属;ポリメチルメタクリレート、アセタール樹脂等
の合成樹脂;ガラス、セラミックなどが使用されるが、
@鎗であることおよび耐久性(耐衝撃性、耐摩耗性)の
点から、特に好ましいものは陽極酸化処理(アルマイト
処理)を施された金属゛rルミニウム製スは−サで、S
る。
の金属;ポリメチルメタクリレート、アセタール樹脂等
の合成樹脂;ガラス、セラミックなどが使用されるが、
@鎗であることおよび耐久性(耐衝撃性、耐摩耗性)の
点から、特に好ましいものは陽極酸化処理(アルマイト
処理)を施された金属゛rルミニウム製スは−サで、S
る。
但し、使用するスに一す材質は基板と同じ熱膨張係数を
有するものが好ましく、例えばポリメチルメタクリレー
ト基媒にはポリメチルメタクリレ−トスば一す、ポリカ
ーボネート基板にはポリカーボネートスに一すが好まし
い。
有するものが好ましく、例えばポリメチルメタクリレー
ト基媒にはポリメチルメタクリレ−トスば一す、ポリカ
ーボネート基板にはポリカーボネートスに一すが好まし
い。
本発明に係る分子内に2個以上のエポキシ基を有するエ
ポキシ化合物としては例えば、エポキシ樹脂(日刊工業
新聞社発行 橋本邦之M)に記載のものが用いられる。
ポキシ化合物としては例えば、エポキシ樹脂(日刊工業
新聞社発行 橋本邦之M)に記載のものが用いられる。
その具体例として下記のものが用いられるが、本発明は
それに限定されるものではない。
それに限定されるものではない。
m、n=/ SLIO
h)
m)
o) a)の脂肪酸エステル
これらのエポキシ化合物は2種以上併用してもよい。
これらのうち、よシ好ましいものは、a)、f)、g)
、h)、1)、0)であり、最も好ましいものはa)及
びO)である。
、h)、1)、0)であり、最も好ましいものはa)及
びO)である。
本発明に係る多価チオール化合物の例としては、下記の
化合物が挙げられる。
化合物が挙げられる。
A) エチレンジチオクリコール
B)λ−エチルー2−メルカプトメチル−7゜3−プロ
ノぞンジチオール C)/、≠−ブタンジチオール D)ヘキサメチレンジチオグリコール E)ジチオヒドロキノン F)ポリサルサイド例えば下記 は、シリカ、炭酸カルシウム、マイカ、マスベズト、ガ
ラス細片、石英粉、グラファイト、アルミナ、シリカゲ
ル、アルミニウム、鉄、銅、酸化アンチモン、チタン酸
バリウム、硫酸バリウムなどが用いられる。但し、充て
ん剤の添加量が多いと紫外線の透過率が低下するため、
硬化が不十分くなる。従って、添加量は、充てん材の種
類により異なるが、硬化が十分に起こる量に適当に配合
する。
ノぞンジチオール C)/、≠−ブタンジチオール D)ヘキサメチレンジチオグリコール E)ジチオヒドロキノン F)ポリサルサイド例えば下記 は、シリカ、炭酸カルシウム、マイカ、マスベズト、ガ
ラス細片、石英粉、グラファイト、アルミナ、シリカゲ
ル、アルミニウム、鉄、銅、酸化アンチモン、チタン酸
バリウム、硫酸バリウムなどが用いられる。但し、充て
ん剤の添加量が多いと紫外線の透過率が低下するため、
硬化が不十分くなる。従って、添加量は、充てん材の種
類により異なるが、硬化が十分に起こる量に適当に配合
する。
その他染料、樹脂変質材料等を添加してもよい。
接着面は、接着力を向上させるため必要に応じ予じめ、
シランカップリング剤等の表面処理剤による表面処理、
グロー放電、コロナ放電等の放電処理、す/ドペー/ξ
二等による粗面化処理を施してもよい。
シランカップリング剤等の表面処理剤による表面処理、
グロー放電、コロナ放電等の放電処理、す/ドペー/ξ
二等による粗面化処理を施してもよい。
〈実施例1〉
二枚の射出成形によりグループを設けた円盤状ポリカー
ボネート(以下PCと略す)基板(外径=200t11
.内径361m、厚さ/、2u1グループエリア外径/
りotm、内径ioo、)のグループ面にInとGeS
とを’ : / (In:Gem、容積比)の比率で共
蒸着させて厚さ300Aの記録層を形成した。
ボネート(以下PCと略す)基板(外径=200t11
.内径361m、厚さ/、2u1グループエリア外径/
りotm、内径ioo、)のグループ面にInとGeS
とを’ : / (In:Gem、容積比)の比率で共
蒸着させて厚さ300Aの記録層を形成した。
二枚の基板の接着部(外径200txから巾3Ia1、
内径33mから巾/j、)及びリング状の射出成形され
次外側PCスぼ−サ(外径=20on、内径:lり4!
謳、厚さ/m) 、内側スペーサ(外径6!n1内径3
タ籠、厚さ/、)の接着面に予め7ランカツプリング剤
として下記化合物を塗布した。
内径33mから巾/j、)及びリング状の射出成形され
次外側PCスぼ−サ(外径=20on、内径:lり4!
謳、厚さ/m) 、内側スペーサ(外径6!n1内径3
タ籠、厚さ/、)の接着面に予め7ランカツプリング剤
として下記化合物を塗布した。
トルエン/酢酸エチル=/// (体積比)濃度コチ
次いで下記組成ウニのエポキシ接着剤を、外、内側スは
−サ接着面に10μの厚さに塗布し、記録層を内側にし
239C%6j’SRHの雰囲気で2枚の基板を組立て
、・1日放置しエアーサンドウィッチ構造の光情報記録
媒体を得九。
−サ接着面に10μの厚さに塗布し、記録層を内側にし
239C%6j’SRHの雰囲気で2枚の基板を組立て
、・1日放置しエアーサンドウィッチ構造の光情報記録
媒体を得九。
上記の如く本発明の接着剤組成物は接着耐久性があり、
かつ記録媒体に何ら感作用を及ぼさず、耐久性のある光
情報記録媒体を与え次。
かつ記録媒体に何ら感作用を及ぼさず、耐久性のある光
情報記録媒体を与え次。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、二枚の円盤状基板が、直接もしくはリング状スペー
サとを介して接着剤により接合され、かつ少なくともそ
の一方の基板の内側表面にレーザーによる情報の書き込
み及び/又は読み取りが可能な記層層が設けられてなる
情報記録媒体において、前記接着剤が少なくとも分子内
にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物と、多価
チオール化合物とを含有することを特徴とする情報記録
媒体。 2、上記円盤状基板がポリカーボネートであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60096238A JPS61255541A (ja) | 1985-05-07 | 1985-05-07 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60096238A JPS61255541A (ja) | 1985-05-07 | 1985-05-07 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61255541A true JPS61255541A (ja) | 1986-11-13 |
Family
ID=14159651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60096238A Pending JPS61255541A (ja) | 1985-05-07 | 1985-05-07 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61255541A (ja) |
-
1985
- 1985-05-07 JP JP60096238A patent/JPS61255541A/ja active Pending
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