JPS61255541A - 情報記録媒体 - Google Patents

情報記録媒体

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JPS61255541A
JPS61255541A JP60096238A JP9623885A JPS61255541A JP S61255541 A JPS61255541 A JP S61255541A JP 60096238 A JP60096238 A JP 60096238A JP 9623885 A JP9623885 A JP 9623885A JP S61255541 A JPS61255541 A JP S61255541A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
recording medium
disk
recording layer
information recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP60096238A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Yabe
矢部 雅夫
Kyoichi Naruo
成尾 匡一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP60096238A priority Critical patent/JPS61255541A/ja
Publication of JPS61255541A publication Critical patent/JPS61255541A/ja
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/ま友は、読み取シが出来る、光
情報記録媒体に関するものである。
即ち本発明は、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディス
ク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量コン
ピュータ用ディスク・メモリーなど各種用途の光ディス
クを対象とするものである。
〔従来技術〕
光情報記録媒体は数ミクロンの焦点深度を有するレンズ
によシ、光ビームを記録層に照射し、情報の書込み、読
出しを行うため、記録J@上に塵埃が付着したり、取シ
扱い時に記録層を傷つけると、ビットエラー、ドロップ
アウト等の故障を起こしてい友。そのため、二枚の円盤
状基板が、円盤状基板に設けられた凸部もしくはスペー
サーを介して接着剤によシ接合され、少くともその1万
の基板が透明基板であシその内側表面に記録層が設けら
れ几いわゆるエアーサンドインチ構造が提案されている
。少くともその一方に記録層が設けられた二枚の円盤状
基板を直接もしくは第三の基板を介して記録層を内側に
して貼シ合せたいわゆる貼シ合せ構造も提案されている
接着剤としては光重合性を有する化合物を用いた接着剤
、例えば紫外@硬化型接着剤が、接着に要する時間も数
秒から数分と短時間ですみ、加熱を必要とせず変形も少
いので用いられている。
しかし従来の紫外線硬化屋接着剤ではディスクが高温高
湿の環境に置かれ次場合、ガラス基板及びプラスチック
基板のいずれについても耐久性が不充分である。またア
クリル樹脂やポリ塩化ビニル及びポリカーボネート等の
プラスチックを基板に用い友場合、特に接着しにくくデ
ィスクを少し変形させ友だけで接着部が剥離してしまい
実用に耐えない。
この几め、接着力を増加する目的で特開昭!7−i3r
、otp、特開昭!7−/20,24tJに示されてい
るように接着部表面を粗す事が提案されている。しかし
ながらこの場合表面を粗する際に塵埃が発生しこれが基
板に付着してしまう。
従って、表面を粗した基板を光ディスクに使用するには
洗浄をしなければならず大変不都合である。
何故なら光デイスク用の洗浄では水洗に使用する水でも
純水製造機から作シ出された純水を使用せねばならず更
に乾燥するためにもクリーン乾燥機を使用しなければな
らない。接着性を改良するためだけでこのような設備投
資及び繁雑な工程を取り入れるのは大変不都合である。
又、特願昭!r−7/I!参/に示されているように、
基板を放電処理もしくは紫外線照射処理し友後、電磁放
射線硬化型接着剤を用いて接着し、接着力を飛躍的に改
善する方法が開示されているが、この方法は表面処理工
程を必要とする。
一方、エポキシ接着剤を用いた場合、接着強度は得られ
るが、通常、硬化剤として用いられるアミン類、ポリア
ミド類では基板にポリカーボネートを用いた場合、記録
面側のポリカーボネート表面が発生するアンモニアによ
りソルベントクラックを起こし実用に供することができ
ない。
〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明の目的は
、第一に円盤状基板の接着部分が経時や変形によシ剥離
しない情報記録媒体を得ることにある。
第二には、接着剤組成物により記録層、基板に何ら愚作
用を及ぼさないよう情報記録媒体を得ることにある。
〔問題を解決するための手段〕
本発明の目的は、二枚の円盤状基板が直接もしくはリン
グ状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接
着剤により接合され、かつ少なくともその一方の基板の
内側表面にレーザーによる情報の薔き込み及び/又は読
み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体に
おいて、前記接着剤が少なくとも分子内にエポキシ基を
2個以上有するエポキシ化合物と末端にチオール基をλ
個以上有する化合物とを含有することにより達成される
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;およびポ
リカーボネートを挙げることができる。これらのうちで
寸度安定性、透明性および平面性の点から、好ましいも
のは強化ガラス等に代表されるガラス基板である。
記録層が設けられる側の表面には、平面性の改善、接着
力の向上および記録層の変質の防止の目的で、ま比記録
感度を向上させ、S/N比を高める目的で、下塗層が設
けられていてもよい。下塗層の材料としては、たとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレンψ無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホン酸共重合体、スチンンービニルトルエ
ン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質;シ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(Si02、At203等)、弗化物(MgF2)など
の無機物質を挙げることができる。
基板から遊離するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土
類金属イオンによる記録層への悪影響を防止するために
は、スチレン・無水マレイン酸共重合体などの親水性基
および/ま念は無水マレイン酸基を有するポリマーから
なる下塗層が設けられているのが望ましい。ま友、断熱
効果により感度を高め、S/N比を向上させるためには
、ポリメチルメタクリレートまたはニトロセルロースか
らなる下塗層が設けられているのが好ましい。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散し次後、この塗布液をスピンコード、ディップコー
ト、エクストルージョンコートなどの塗布法によシ基板
表面に塗布することにより形成することができる。この
とき、基板とスペーサとの接着力を高める友めに、基板
のスペーサとの接合部分には塗膜を設け々いで露出させ
ておくのが好ましい。下塗層の層厚は一般にo、oi乃
至20μmであり、好ましくは0./乃至ioμmであ
る。
あるいは、基板(または下塗層)上には、トラッキング
用溝まtはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸ノモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種の七ツマ−(ま次はオリゴマー)と光重
合開始剤との混合物を用いることができる。
アクリル酸のモノエステルの例としては、エチルアクリ
レート、n−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、オクチルアクリレート、コーエチルへキシルアクリ
レート等のアルキルアクリレート;エトキシエチルアク
リレート等のアルコキシアルキルアクリレート;フェノ
キシエチルアクリレート等のフェノキシアルキルアクリ
レート;およびフェニルアクリレートなどが挙げられる
アクリル酸のジエステルの例としては、/、3−プロパ
ンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアク
リレート;ジエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチレン
ジオールジアクリレート等のアルケングリコールジアク
リレートなどが挙げられる。
アクリル酸のトリエステルの例としては、トリメチロー
ルプロ/ξンドリアクリレート、ペンタエリスリトオー
ルトリアクリレートなどが挙げられる。また、アクリル
酸のテトラエステルの例としてはペンタエリスリトール
テトラアクリレートが挙げられる。さらに、ポリエチレ
ングリコールアクリレート、エポキシアクリレート等の
オリゴマーのアクリル酸エステルが挙げられる。
光重合開始剤としては、たとえばベンゾインインブチル
エーテル等のベンゾイン化合物が挙けられる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母m(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液層とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は、一般に0.Or乃至iooμmであり、好まし
くは0./乃至50μmである。
又、プラスチック基板を用いる場合には、基板を射出成
型又は圧縮成型する際、スタンバ−を用い直接基板にグ
ループを設けることができる。
次に、基板(または下塗層)上には記録層が設けられる
記録層に用いられる材料の例としては、Te。
Zn、In、Sn、Zr、kL、Cu、Ge等の金属:
B1、Aa、Sb等の半金属;Ge、Si等の半導体;
およびこれらの合金またはこれらの組合せを挙げること
ができる。また、これらの金属または半金属の硫化物、
酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物
等の化合物;およびこれらの化合物と金属との混合物も
記録層に用いることができる。
記録層は、上記材料を蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法により基板上に形成される。記
録層は重層または重層でもよいが、その層厚は光情報記
録に要求される光学濃度の点から一般にioo乃至zr
ooにの範囲である。
記録層は二枚の基板両方に設けられていてもよいし、あ
るいは片方のみに設けられていてもよい。
なお、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は耐傷性、防湿性などを高める几めに、九とえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質:
熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、スパッタリングまたは塗布等の方法に
より設けられていてもよい。
次に、記録層が形成された二枚の基板全記録層を内側に
して、スペーサを介して接合する。
スペーサの材料としては、ステンレス、アルミニウム等
の金属;ポリメチルメタクリレート、アセタール樹脂等
の合成樹脂;ガラス、セラミックなどが使用されるが、
@鎗であることおよび耐久性(耐衝撃性、耐摩耗性)の
点から、特に好ましいものは陽極酸化処理(アルマイト
処理)を施された金属゛rルミニウム製スは−サで、S
る。
但し、使用するスに一す材質は基板と同じ熱膨張係数を
有するものが好ましく、例えばポリメチルメタクリレー
ト基媒にはポリメチルメタクリレ−トスば一す、ポリカ
ーボネート基板にはポリカーボネートスに一すが好まし
い。
本発明に係る分子内に2個以上のエポキシ基を有するエ
ポキシ化合物としては例えば、エポキシ樹脂(日刊工業
新聞社発行 橋本邦之M)に記載のものが用いられる。
その具体例として下記のものが用いられるが、本発明は
それに限定されるものではない。
m、n=/ SLIO h) m) o)  a)の脂肪酸エステル これらのエポキシ化合物は2種以上併用してもよい。
これらのうち、よシ好ましいものは、a)、f)、g)
、h)、1)、0)であり、最も好ましいものはa)及
びO)である。
本発明に係る多価チオール化合物の例としては、下記の
化合物が挙げられる。
A)  エチレンジチオクリコール B)λ−エチルー2−メルカプトメチル−7゜3−プロ
ノぞンジチオール C)/、≠−ブタンジチオール D)ヘキサメチレンジチオグリコール E)ジチオヒドロキノン F)ポリサルサイド例えば下記 は、シリカ、炭酸カルシウム、マイカ、マスベズト、ガ
ラス細片、石英粉、グラファイト、アルミナ、シリカゲ
ル、アルミニウム、鉄、銅、酸化アンチモン、チタン酸
バリウム、硫酸バリウムなどが用いられる。但し、充て
ん剤の添加量が多いと紫外線の透過率が低下するため、
硬化が不十分くなる。従って、添加量は、充てん材の種
類により異なるが、硬化が十分に起こる量に適当に配合
する。
その他染料、樹脂変質材料等を添加してもよい。
接着面は、接着力を向上させるため必要に応じ予じめ、
シランカップリング剤等の表面処理剤による表面処理、
グロー放電、コロナ放電等の放電処理、す/ドペー/ξ
二等による粗面化処理を施してもよい。
〈実施例1〉 二枚の射出成形によりグループを設けた円盤状ポリカー
ボネート(以下PCと略す)基板(外径=200t11
.内径361m、厚さ/、2u1グループエリア外径/
りotm、内径ioo、)のグループ面にInとGeS
とを’ : / (In:Gem、容積比)の比率で共
蒸着させて厚さ300Aの記録層を形成した。
二枚の基板の接着部(外径200txから巾3Ia1、
内径33mから巾/j、)及びリング状の射出成形され
次外側PCスぼ−サ(外径=20on、内径:lり4!
謳、厚さ/m) 、内側スペーサ(外径6!n1内径3
タ籠、厚さ/、)の接着面に予め7ランカツプリング剤
として下記化合物を塗布した。
トルエン/酢酸エチル=/// (体積比)濃度コチ 次いで下記組成ウニのエポキシ接着剤を、外、内側スは
−サ接着面に10μの厚さに塗布し、記録層を内側にし
239C%6j’SRHの雰囲気で2枚の基板を組立て
、・1日放置しエアーサンドウィッチ構造の光情報記録
媒体を得九。
上記の如く本発明の接着剤組成物は接着耐久性があり、
かつ記録媒体に何ら感作用を及ぼさず、耐久性のある光
情報記録媒体を与え次。
特許出願人  富士写真フィルム株式会社手続補正書

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、二枚の円盤状基板が、直接もしくはリング状スペー
    サとを介して接着剤により接合され、かつ少なくともそ
    の一方の基板の内側表面にレーザーによる情報の書き込
    み及び/又は読み取りが可能な記層層が設けられてなる
    情報記録媒体において、前記接着剤が少なくとも分子内
    にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物と、多価
    チオール化合物とを含有することを特徴とする情報記録
    媒体。 2、上記円盤状基板がポリカーボネートであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体。
JP60096238A 1985-05-07 1985-05-07 情報記録媒体 Pending JPS61255541A (ja)

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