JPS58165380A - 高耐圧半導体装置 - Google Patents
高耐圧半導体装置Info
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高耐・正半導体装置に関するもので。
特に、絶縁ゲート電界効果トランジスタの高耐圧化を図
ったものである。
ったものである。
従来の高耐圧形の絶縁ゲート電界効果トランジスタは、
高濃度N形基板上に形成されたN形層に形成されている
。この場合、N形層の不純物嬢度は、直列抵抗が最も低
くなるような高い不純物繊度に選ばれるので、高電圧印
加時にはチャネルとドレインとの境界付近の電界強度が
強くなり、なだれ増倍作用によるチャネル電流の増加現
象が生じ動作範囲を狭くしていた。その上、高濃度領域
にチャネルが形成されているため、しきい電圧の温度変
化が著しく、熱的正帰還現象も加わって不安定な動作を
生ずることがあった。一方、チャネルとドレインとの境
界付近の電界強度を緩和し。
高濃度N形基板上に形成されたN形層に形成されている
。この場合、N形層の不純物嬢度は、直列抵抗が最も低
くなるような高い不純物繊度に選ばれるので、高電圧印
加時にはチャネルとドレインとの境界付近の電界強度が
強くなり、なだれ増倍作用によるチャネル電流の増加現
象が生じ動作範囲を狭くしていた。その上、高濃度領域
にチャネルが形成されているため、しきい電圧の温度変
化が著しく、熱的正帰還現象も加わって不安定な動作を
生ずることがあった。一方、チャネルとドレインとの境
界付近の電界強度を緩和し。
かつしきい電圧の温度変化を小さくするためにN形層の
不純物濃度を低くすると、直列抵抗が増大してしまうと
いう不都合があった。
不純物濃度を低くすると、直列抵抗が増大してしまうと
いう不都合があった。
本発明の目的は、従来技術での上記した不都合を解消し
、チャネルとドレインとの境界付近の電界強度を緩和し
、かつしきい電圧の温度変化を小さくして動作範囲を拡
大することができる。安定な特性を有する高耐圧半導体
装置を提供することにある。
、チャネルとドレインとの境界付近の電界強度を緩和し
、かつしきい電圧の温度変化を小さくして動作範囲を拡
大することができる。安定な特性を有する高耐圧半導体
装置を提供することにある。
本発明の特徴は、上記目的を達成するために。
絶縁ゲート電界効果トランジスタのチャネルとドレイン
の境界部分に、この境界部分以外のドレイン領域よりも
不純物濃度を低くした領域を形成する構成とすることに
ある。
の境界部分に、この境界部分以外のドレイン領域よりも
不純物濃度を低くした領域を形成する構成とすることに
ある。
以下図面により本発明を説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す平面図と、そのA−A
’部部面面図ある。抵抗率0.01Ω・α以下のN形基
板1に不純物濃度2 X 1014α′3のN形層2を
エピタキシャル法により形成する。次にN形層2の一部
にP形不純物となるボロンを5 X 10” cwr3
の濃度でイオン打込みする。以下、2重拡散形MO8電
界効果トランジスタを作製するため、酸化膜7及びゲー
ト酸化膜9の形成、ポリシリコンゲート6の形成、P影
領域4の形成を行なう。このP影領域4の形成は120
0℃で5時間の熱拡散で行なわれるため、この時、イオ
ン打込みされたポロンも拡散し1表面付近の□実効的な
不純物濃度を低下させる。即ち、低濃度′ N影領域3
が形成さ’lf’l’ll宣 16°UTffiaO[rK;、・(N″″M 5 o
ss。
’部部面面図ある。抵抗率0.01Ω・α以下のN形基
板1に不純物濃度2 X 1014α′3のN形層2を
エピタキシャル法により形成する。次にN形層2の一部
にP形不純物となるボロンを5 X 10” cwr3
の濃度でイオン打込みする。以下、2重拡散形MO8電
界効果トランジスタを作製するため、酸化膜7及びゲー
ト酸化膜9の形成、ポリシリコンゲート6の形成、P影
領域4の形成を行なう。このP影領域4の形成は120
0℃で5時間の熱拡散で行なわれるため、この時、イオ
ン打込みされたポロンも拡散し1表面付近の□実効的な
不純物濃度を低下させる。即ち、低濃度′ N影領域3
が形成さ’lf’l’ll宣 16°UTffiaO[rK;、・(N″″M 5 o
ss。
アルミニウム電極8の形 びドレイン#i!、D、
ソース極S、ゲート極Gの形成を経て、たて形MO8
電界効果トランジスタを形成した。
ソース極S、ゲート極Gの形成を経て、たて形MO8
電界効果トランジスタを形成した。
この第1図実施例では、チャネル長は5μmと短いが、
素子耐圧である540■に至るまで、なだれによる電流
増加は認められなかったし、かつしきい電圧の温度依存
性も小さかった。またチャネル部の不純物濃度を低くし
ても、ドレイン領域も低不純物濃度となっているため、
ノクンチスル−現象も認められなかった。即ち、従来の
素子では。
素子耐圧である540■に至るまで、なだれによる電流
増加は認められなかったし、かつしきい電圧の温度依存
性も小さかった。またチャネル部の不純物濃度を低くし
ても、ドレイン領域も低不純物濃度となっているため、
ノクンチスル−現象も認められなかった。即ち、従来の
素子では。
同一のN形層2が第1図実施例のN影領域30部分に用
いられていることから、ドレイン電圧450V以上で、
なだれによる電流増加が著しく、かつしきい電圧の温度
変化による熱的正帰還のために動作範囲が高電圧領域で
狭くなっていたが、第1図実施例では動作範囲が広く改
善されている。
いられていることから、ドレイン電圧450V以上で、
なだれによる電流増加が著しく、かつしきい電圧の温度
変化による熱的正帰還のために動作範囲が高電圧領域で
狭くなっていたが、第1図実施例では動作範囲が広く改
善されている。
第2図は本発明の他の実施例を示す平面図と。
そのB−B′部断面図である。第2図実施例もNチャネ
ル素子で葱り、N形基板1.N形層2は第1・:1゜ 図実施例と同夷である。同ウェー・・の一部をエツチン
グにより!′:′::去し、12μmの深さの穴を形成
・1: し、その後、不純物濃度I X 1014crn ’の
N層を再びエピタキシャル成長する。この低濃度のN層
の表面を機械的な研磨によシ平坦化し1周知の技術。
ル素子で葱り、N形基板1.N形層2は第1・:1゜ 図実施例と同夷である。同ウェー・・の一部をエツチン
グにより!′:′::去し、12μmの深さの穴を形成
・1: し、その後、不純物濃度I X 1014crn ’の
N層を再びエピタキシャル成長する。この低濃度のN層
の表面を機械的な研磨によシ平坦化し1周知の技術。
である鏡面仕上げを行なう。このようにして低濃度の8
層11を形成し、以下第1図実施例と同じように、MO
8電界効果トランジスタを8層11内に形成する。一方
、P領域10は9周辺での電界強度を緩和するためのガ
ートリングで1表面の影響を受は難いように低濃度の8
層11の外部に形成されている。第2図実施例の素子耐
圧は630Vであったが、この電圧に至るまで、なだれ
増倍による電流増加は認められなかった。またしきい電
圧の温度変化も小さかった。
層11を形成し、以下第1図実施例と同じように、MO
8電界効果トランジスタを8層11内に形成する。一方
、P領域10は9周辺での電界強度を緩和するためのガ
ートリングで1表面の影響を受は難いように低濃度の8
層11の外部に形成されている。第2図実施例の素子耐
圧は630Vであったが、この電圧に至るまで、なだれ
増倍による電流増加は認められなかった。またしきい電
圧の温度変化も小さかった。
第3図及び第4図は本発明のさらに他の実施例を説明す
る断面図である。N形基板1にN形層2をエピタキシャ
ル法によ9404m成長し、さらに低不純物濃度のN層
12を12μm成長する。
る断面図である。N形基板1にN形層2をエピタキシャ
ル法によ9404m成長し、さらに低不純物濃度のN層
12を12μm成長する。
次にその一部に不純物りんをイオン打込みしN影領域1
3を形成する。以下第1図実施例と同様にMO8電界効
果トランジスタを低凝度の8層12内に形成し、また第
2図実施例と同様にガードリング10をN影領域16内
に形成する。P影領域4を形成する際の熱拡散によりN
影領域13中のりんも同時に拡散して、領域15が形成
される。
3を形成する。以下第1図実施例と同様にMO8電界効
果トランジスタを低凝度の8層12内に形成し、また第
2図実施例と同様にガードリング10をN影領域16内
に形成する。P影領域4を形成する際の熱拡散によりN
影領域13中のりんも同時に拡散して、領域15が形成
される。
この第3図及び第4図の実施例でもチャネル長は3.2
μmと短いにもかかわらず、素子耐圧に至るまでなだれ
増倍による電流増加は認められず、かつしきい電圧の温
度変化も小さく、従って動作範囲が狭くなるという不都
合も生じなかった。
μmと短いにもかかわらず、素子耐圧に至るまでなだれ
増倍による電流増加は認められず、かつしきい電圧の温
度変化も小さく、従って動作範囲が狭くなるという不都
合も生じなかった。
以上述べたように1本発明によれば、従来の高耐圧MO
8電界効果トランジスタで生じた高電圧領域でのなだれ
電流の増大現象としきい電圧の温度変化による熱的゛正
帰還に起因する不安定性、即ち安全動作領域が狭いとい
う不都合を、大幅に改善することができる。数値例を挙
げると、従来の4mmX4jlllテツプに形成した高
耐圧MO8では。
8電界効果トランジスタで生じた高電圧領域でのなだれ
電流の増大現象としきい電圧の温度変化による熱的゛正
帰還に起因する不安定性、即ち安全動作領域が狭いとい
う不都合を、大幅に改善することができる。数値例を挙
げると、従来の4mmX4jlllテツプに形成した高
耐圧MO8では。
ドレイン電圧540vにおける直流の最大許容電力は約
30Wであったのに対し9本発明の高耐圧MO8では、
同一チップサイズ、同一ドレイン電圧として最大許容電
力は約135Wと大幅に改善された。5
30Wであったのに対し9本発明の高耐圧MO8では、
同一チップサイズ、同一ドレイン電圧として最大許容電
力は約135Wと大幅に改善された。5
第1図は本発明の一実施例の平面図と断面図。
第2図は本発明の他の実施例の平面図と断面図。
第6図及び第4図は本発明のさらに他の実施例を示す断
面図である。 符号の説明 1・・・N形基板 2・・・N形層5・・・低
濃度のN影領域 4・・・P形層5・・・N影領域
6・・・ポリシリコンゲート10・・・ガー
ドリング 11.12・・・低濃度のN層13.1
3・・・N影領域 代理人 弁理士 中 村 純之 助才1 図
面図である。 符号の説明 1・・・N形基板 2・・・N形層5・・・低
濃度のN影領域 4・・・P形層5・・・N影領域
6・・・ポリシリコンゲート10・・・ガー
ドリング 11.12・・・低濃度のN層13.1
3・・・N影領域 代理人 弁理士 中 村 純之 助才1 図
Claims (1)
- 一半導体基板の表面にソース領域及びゲート電極を有し
基板をドレインとする絶縁ゲート電界効果トランジスタ
のチャネルとドレインの境界部分に、この境界部分以外
のドレイン値域よりも不純物濃度を低くした領域が形成
されていることを特徴とする高耐圧半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57047087A JPS58165380A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 高耐圧半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57047087A JPS58165380A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 高耐圧半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58165380A true JPS58165380A (ja) | 1983-09-30 |
Family
ID=12765391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57047087A Pending JPS58165380A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 高耐圧半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58165380A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01207977A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-21 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH01253966A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Nec Corp | 縦型電界効果トランジスタ |
JPH04276663A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-10-01 | Nec Yamagata Ltd | 半導体装置 |
EP1184908A2 (en) * | 2000-08-30 | 2002-03-06 | Shindengen Electric Manufacturing Company, Limited | Field effect transistor |
WO2007069571A1 (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-21 | Sanken Electric Co., Ltd. | トレンチ構造半導体装置 |
-
1982
- 1982-03-26 JP JP57047087A patent/JPS58165380A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01207977A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-21 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH01253966A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Nec Corp | 縦型電界効果トランジスタ |
JPH04276663A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-10-01 | Nec Yamagata Ltd | 半導体装置 |
EP1184908A2 (en) * | 2000-08-30 | 2002-03-06 | Shindengen Electric Manufacturing Company, Limited | Field effect transistor |
EP1184908A3 (en) * | 2000-08-30 | 2007-08-01 | Shindengen Electric Manufacturing Company, Limited | Field effect transistor |
WO2007069571A1 (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-21 | Sanken Electric Co., Ltd. | トレンチ構造半導体装置 |
JP2007165635A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Sanken Electric Co Ltd | トレンチ構造半導体装置 |
KR100965354B1 (ko) * | 2005-12-14 | 2010-06-22 | 산켄덴키 가부시키가이샤 | 트렌치 구조 반도체 장치 |
JP4609656B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2011-01-12 | サンケン電気株式会社 | トレンチ構造半導体装置 |
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