JPH10101343A - ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ - Google Patents

ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ

Info

Publication number
JPH10101343A
JPH10101343A JP9109079A JP10907997A JPH10101343A JP H10101343 A JPH10101343 A JP H10101343A JP 9109079 A JP9109079 A JP 9109079A JP 10907997 A JP10907997 A JP 10907997A JP H10101343 A JPH10101343 A JP H10101343A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas ejection
ejection port
glass
oxygen gas
burner
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9109079A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3543537B2 (ja
Inventor
Yuichi Oga
裕一 大賀
Motonori Nakamura
元宣 中村
Toshio Danzuka
俊雄 彈塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP10907997A priority Critical patent/JP3543537B2/ja
Publication of JPH10101343A publication Critical patent/JPH10101343A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3543537B2 publication Critical patent/JP3543537B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • C03B37/0142Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/06Concentric circular ports
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/12Nozzle or orifice plates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/14Tapered or flared nozzles or ports angled to central burner axis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/18Eccentric ports
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/20Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/20Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
    • C03B2207/24Multiple flame type, e.g. double-concentric flame
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/20Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
    • C03B2207/26Multiple ports for glass precursor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/36Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pre-Mixing And Non-Premixing Gas Burner (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラス微粒子の生成、堆積を効率的に行うこ
とができ、生産性に優れた合成速度の高い母材製造が可
能なガラス微粒子合成方法及びガラス微粒子合成用焦点
型バーナを提供すること。 【解決手段】 中心のガラス原料ガス噴出ポートの外側
に同心円上に配列され、一つ又は複数の特定焦点距離の
酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の酸素ガス噴出
ポートを内包する円環状の水素ガス噴出ポートを有する
ガラス微粒子合成用焦点型バーナを使用し、各酸素ガス
噴出ポート群の焦点距離を適切な範囲に制御してガラス
微粒子を生成させることを特徴とするガラス微粒子合成
方法及びそのために使用するガラス微粒子合成用焦点型
バーナ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高純度の石英ガラ
スを合成するために中間段階として製造する多孔質ガラ
ス母材の製造、又は直接石英ガラスの製造に適用される
ガラス微粒子合成方法及びその方法に用いられるバーナ
に関する。この方法及びバーナで合成した多孔質ガラス
母材は、加熱処理により脱水及び/又は透明化を行うこ
とにより高純度の石英ガラスを製造することが可能であ
る。
【0002】
【従来の技術】高純度のガラス母材を合成する方法とし
て、VAD法(気相軸付け法:VapourPhase Axial Depo
sition method) あるいはOVD法(外付け法:Outside
Vapour Deposition method) が一般的である。VAD
法は、例えば特公昭59−13452号公報に開示され
ているように、バーナで形成された酸素ガス−水素ガス
火炎中にガラス原料ガス(例えばSiCl4 )を供給
し、火炎加水分解反応あるいは酸化反応によりガラス微
粒子を生成し、これをターゲットに付着、堆積し、この
ターゲットを回転しつつ母材の軸方向に引き上げること
により多孔質状のガラス母材を合成する方法である。こ
うして合成した多孔質ガラス母材は、焼結炉で加熱され
ることにより透明な高純度ガラス母材を製造することが
できる。このとき、屈折率分布を形成する場合には屈折
率を変化させるドーパント原料ガス(例えばGeC
4 )をガラス原料ガスとともにバーナに供給すること
により、屈折率分布を形成することができる。この場合
に用いられるバーナは、前記特公昭59−13452号
公報に示されるような同心円上の多重管バーナが用いら
れるが、更に合成の効率を上げるため特開昭61−18
3140号公報に示すようないわゆる2重火炎バーナの
ような構造のバーナが開示されている。
【0003】OVD法は、例えば特開昭48−7352
2号公報に示されるように、回転するガラスロッドの外
周部に、ガラス原料ガスの加水分解反応あるいは酸化反
応により生成したガラス微粒子を堆積、積層させ、母材
外径を次第に大きくし、所定量のガラス微粒子が堆積さ
れた後、堆積を停止し、ガラスロッドの外周に多孔質ガ
ラス母材を合成する方法である。この母材は、中心のガ
ラスロッドを引き抜いた後透明化することにより透明ガ
ラスパイプを製造する場合と、そのまま焼結して透明ガ
ラス化する場合とが知られている。この場合に用いられ
るバーナは、特開昭62−187135号公報に示され
るような環状の可燃性ガス噴出流路の中に複数の助燃性
ガス噴出流路を設けた構造が開示されている。このバー
ナは、中心にガラス原料ガス噴出流路を有し、この外周
に複数の独立した助燃性ガス(酸素ガス)噴出流路が配
置され、この助燃性ガス噴出流路の周囲に環状の可燃性
ガス噴出流路が設けられた構造をしている。また、ガラ
ス原料ガス噴出流路と可燃性ガス噴出流路との間に不活
性ガス噴出ポートを設けた構造、あるいは可燃性ガス噴
出流路の外周に不活性ガス噴出流路、助燃性ガス噴出流
路を備えた構造も開示している。更に、特開平5−32
3130号公報に示される多焦点型のバーナ構造も開示
されている。このバーナは、助燃性ガス噴出流路をバー
ナ中心軸方向に向けた焦点型構造としている。出発ロッ
ドの外周に多孔質ガラス母材を合成する方法では、上記
OVD法以外に例えば特公平5−83499号公報に開
示されているように出発ロッドの片端からガラス微粒子
を合成し始め、ガラスロッドの軸方向にガラスロッドを
引き上げて製造する方法も知られている。
【0004】従来、このような気相合成法での多孔質ガ
ラス母材合成技術は、基本的な技術は既に確立され、最
近はもっぱら生産性の向上に開発の力点が置かれてい
る。生産性を示すパラメータとして、単位時間当たりに
合成される多孔質ガラス母材の重量が合成速度と称して
用いられる(g/分)が気相合成法で合成速度を上げる
には、火炎中でのガラス原料ガスの反応を促進し、かつ
生成したガラス微粒子を効率的に堆積面付着、堆積させ
ていくことが重要なポイントである。ガラス微粒子の反
応を促進するには、反応時間を長くし、反応温度を高く
することが必要である。また、堆積を促進するために
は、堆積面と火炎との温度差を大きくし、ガラス微粒子
に働くサーモホレシス効果(微細な粒子は温度匂配のあ
る流れ場の中で高温側(火炎)から、低温側(堆積面)
の方向に温度匂配に比例した力を受ける。この現象をサ
ーモホレシス効果と称する)を最大限に利用することが
必要と考えられる。一般的に、単純にガラス原料ガスを
増量しただけでは、反応あるいは堆積の効率が低下し、
合成速度は頭打ちになってしまう。これは、特公昭59
−13452号公報に示されるような5重管に代表され
るような火炎が一つ形成されるバーナでは、原料ガスの
反応を促進するためには、バーナを堆積面から離すと火
炎の流速が遅いために母材に到達する火炎温度は低下
し、堆積効率が低下する。一方燃料ガスの流量を上げる
と火炎中心温度が上昇しすぎ、火炎の中心が当たってい
る堆積面の温度が局部的に上昇し、逆にガラス微粒子の
堆積を妨げることになる為である。
【0005】このような問題を解決する手段として特開
昭61−183140号公報に開示されているような多
重火炎バーナが開発されている。このバーナは、ガラス
原料ガスを反応させる内側火炎と母材を加熱し、生成し
たガラス微粒子の堆積を促進するための外側火炎から成
っており、ガラス原料ガスの反応時間を稼ぐために、内
側火炎の噴出位置が外側火炎に対して後方に下がった構
造になっている。外側火炎の存在により、母材の加熱が
容易になり、大型の母材製造が可能になるとともにサー
モホレシス効果の促進に有利となっている。しかしなが
ら、このような多重管バーナでは、外周部のポートほど
外径が大きくなるためにガス噴出口の断面積が大きくな
り、ガスの噴出流速が低下する。噴出流速は、火炎の強
さを決めるもので流速が小さいと母材の加熱が十分でき
ず、多重火炎バーナの利点を生かせないことになる。ポ
ートの隙間を小さくし断面積を絞ることもできるがこの
場合には実質的なバーナのサイズが小さくなり、加熱で
きる母材の大きさに制限が生じてしまう。この結果、多
重火炎バーナで合成速度を稼ぐためには、ポートの数を
増やし、且つ断面積の増加に伴いガスの流量を増加し流
速を稼ぐことが必要となり、ガスの使用量の増大、配管
系統数の増加を招き、合成速度の向上による経済効果が
これらの経費増大により相殺されてしまう事態となって
いる。
【0006】上記問題点に対して、特開昭62−187
135号公報に示された少口径助燃性ガス噴出流路を複
数個備えたバーナ構造が提案されている。この構造のバ
ーナは、助燃性ガスの噴出流量を断面積の小さな複数の
流路に分割することで、助燃性ガスの噴出速度を多重火
炎バーナに比べ大幅にアップし火炎の流速を速める効果
がある。この結果、火炎を堆積面から離しても火炎温度
が低下することなく、助燃性ガス流量も増大することな
くガラス原料ガスの反応に必要な距離だけ、バーナを堆
積面から離すことが可能となる。また、助燃性ガス噴出
流路を複数にすることにより、流路の中心からの距離に
関係なく、断面積を選択することが可能となり、多重管
バーナに比べ、ガスの使用量、配管系統数を削減できる
効果がある。しかしながら、この構造の場合、火炎形成
がガラス原料ガス噴出ポートから離れた位置になされる
ため、ガラス原料ガスの反応に必要な酸素ガス、あるい
はH 2 Oガスが原料ガスと混合しにくいという問題が生
じた。火炎の流速が速くなるため、バーナとガラス微粒
子堆積面との距離を離すことが可能になるが、ガラス原
料ガスの反応の進行速度が遅くなるため、火炎流速を速
くした効果が相殺されてしまい、十分な反応が進まない
まま、堆積面に到達するという問題が生じた。
【0007】ガラス原料ガスと酸素ガス、あるいはH2
Oガスとの反応を促進させるため、特開平5−3231
30号公報には、可燃性ガス噴出流路内に原料ガス噴出
流路の外側へ行くに従い、同心円上に配置された小口径
助燃性ガス噴出流路の焦点距離を長くする多焦点型のバ
ーナ構造が開示されている。この構造のバーナでは、原
料ガスが複数回にわたって、高温部である焦点位置を通
過するとともに、各焦点位置で原料ガスが助燃性ガスと
良く攪拌され加水分解による反応を促進させることが可
能となる。ところが、原料ガスと助燃性ガスとの反応を
促進させるために、焦点距離を小さくしすぎることは、
逆に原料ガス流の流れを乱し、合成速度を低下せしめる
だけでなく、生成したガラス微粒子が助燃性ガス噴出ポ
ート先端に付着、ガラス化して、バーナの継続使用を困
難なものとしていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の種々の問題点を解消し、ガラス微粒子の生成、堆積
を効率的に行うことができ、生産性に優れた、高い合成
速度で母材を製造することができるガラス微粒子合成方
法及びその方法を実施するためのガラス微粒子合成用焦
点型バーナを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、焦点型バ
ーナの効果を最大限に引き出すために研究を重ねた結
果、少口径助燃性ガス噴出口とガラス微粒子堆積面まで
の距離と焦点距離との間に適切な範囲があることを見い
だし、本発明に至った。すなわち、本発明は次の(1)
〜(12)の構成を採るものである。
【0010】(1)ガラス原料ガスを火炎中で加水分解
反応又は酸化反応させてガラス微粒子を生成させ、回転
する出発部材に堆積させて多孔質ガラス母材を作製する
ガラス微粒子合成方法において、中心のガラス原料ガス
噴出ポートの外側にガラス原料ガス噴出ポートに対し同
心円上に1列又は複数列に配列され、同一の焦点距離を
有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる一つ又は複数
の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の酸素ガス噴
出ポートを内包する円環状の水素ガス噴出ポートを有す
るガラス微粒子合成用焦点型バーナを使用し、前記酸素
ガス噴出ポート群が一つの場合には酸素ガス噴出ポート
先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を、水素ガ
ス噴出ポートに内包される酸素ガス噴出ポート群の焦点
距離が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラス母材
堆積面までの距離の1〜4倍となるように制御し、前記
酸素ガス噴出ポート群が複数の場合には酸素ガス噴出ポ
ート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を、水
素ガス噴出ポートに内包される酸素ガス噴出ポート群の
うち焦点距離が最も短い群の焦点距離が該酸素ガス噴出
ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離の1
〜4倍となり、2番目以降の群の焦点距離が該酸素ガス
噴出ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離
の1〜6倍となり、かつ、外側の酸素ガス噴出ポート群
の焦点距離が内側の酸素ガス噴出ポート群の焦点距離よ
りも小さくならないように制御してガラス微粒子を生成
させることを特徴とするガラス微粒子合成方法。
【0011】(2)酸素ガス噴出ポート先端から多孔質
ガラス母材堆積面までの距離を、水素ガス噴出ポートに
内包される酸素ガス噴出ポート群のうち焦点距離が最も
短い群の焦点距離が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔
質ガラス母材堆積面までの距離の1〜2倍となり、2番
目以降の群の焦点距離が該酸素ガス噴出ポート先端から
多孔質ガラス母材堆積面までの距離の1〜4倍となるよ
うにすることを特徴とする前記(1)のガラス微粒子合
成方法。
【0012】(3)多孔質ガラス母材堆積面へのガラス
微粒子の堆積量に応じてバーナを後退させ、酸素ガス噴
出ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を
ほぼ一定に保持しながらガラス微粒子の合成を行うこと
を特徴とする前記(1)又は(2)のガラス微粒子合成
方法。 (4)ガラス原料ガス噴出ポートに水素ガスを供給しな
がらガラス微粒子の合成を行うことを特徴とする前記
(1)〜(3)のいずれか一つのガラス微粒子合成方
法。
【0013】(5)前記(1)〜(4)のいずれか一つ
のガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子
合成用焦点型バーナであって、中心にガラス原料ガス噴
出ポート、この外周に円環状の第1の水素ガス噴出ポー
ト又は不活性ガス噴出ポートを有し、更にこの外周に中
心のガラス原料ガス噴出ポートに対し同心円上に1列又
は複数列に配列され、同一の焦点距離を有する複数の酸
素ガス噴出ポートからなる一つ又は複数の酸素ガス噴出
ポート群を形成する、複数の酸素ガス噴出ポートを内包
する円環状の第2の水素ガス噴出ポートを有してなるこ
とを特徴とするガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
【0014】(6)前記(1)〜(4)のいずれか一つ
のガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子
合成用焦点型バーナであって、中心にガラス原料ガス噴
出ポート、この外周に円環状の第1の水素ガス噴出ポー
ト、第1の水素ガス噴出ポートの外周に円環状の不活性
ガス噴出ポートを有し、更にこの外周に中心のガラス原
料ガス噴出ポートに対し同心円上に1列又は複数列に配
列され、同一の焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポ
ートからなる一つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形
成する、複数の酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の
第2の水素ガス噴出ポートを有してなることを特徴とす
るガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
【0015】(7)前記(1)〜(4)のいずれか一つ
のガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子
合成用焦点型バーナであって、中心にガラス原料ガス噴
出ポート、この外周に円環状の第2のガラス原料ガス噴
出ポート、第2のガラス原料ガス噴出ポートの外周に円
環状の第1の水素ガス噴出ポート又は不活性ガス噴出ポ
ートを有し、更にこの外周に中心のガラス原料ガス噴出
ポートに対し同心円上に1列又は複数列に配列され、同
一の焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからな
る一つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複
数の酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の第2の水素
ガス噴出ポートを有してなることを特徴とするガラス微
粒子合成用焦点型バーナ。
【0016】(8)前記(1)〜(4)のいずれか一つ
のガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子
合成用焦点型バーナであって、中心付近にガラス原料ガ
ス噴出ポートを2個有し、これらガラス原料ガス噴出ポ
ート外周に各々円環状の第1の水素ガス噴出ポート又は
不活性ガス噴出ポートを有し、更にこれらの外周に中心
のガラス原料ガス噴出ポートに対し同心円上に1列又は
複数列に配列され、同一の焦点距離を有する複数の酸素
ガス噴出ポートからなる一つ又は複数の酸素ガス噴出ポ
ート群を形成する、複数の酸素ガス噴出ポートを内包す
る円環状の第2の水素ガス噴出ポートを有してなること
を特徴とするガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
【0017】(9)前記(1)〜(4)のいずれか一つ
のガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子
合成用焦点型バーナであって、中心付近にガラス原料ガ
ス噴出ポートを2個有し、これらガラス原料ガス噴出ポ
ート外周に各々円環状の第1の水素ガス噴出ポート更に
その外周には各々円環状の不活性ガス噴出ポートを有
し、更にこれらの外周に中心のガラス原料ガス噴出ポー
トに対し同心円上に1列又は複数列に配列され、同一の
焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる一
つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の
酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の第2の水素ガス
噴出ポートを有してなることを特徴とするガラス微粒子
合成用焦点型バーナ。
【0018】(10)前記(1)〜(4)のいずれか一
つのガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒
子合成用焦点型バーナであって、中心付近にガラス原料
ガス噴出ポートを2個有し、これらガラス原料ガス噴出
ポート外周に各々円環状の第2のガラス噴出ポート、第
2のガラス原料ガス噴出ポートの外周には各々円環状の
第1の水素ガス噴出ポート又は不活性ガス噴出ポートを
有し、更にこれらの外周に中心のガラス原料ガス噴出ポ
ートに対し同心円上に1列又は複数列に配列され、同一
の焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる
一つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数
の酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の第2の水素ガ
ス噴出ポートを有してなることを特徴とするガラス微粒
子合成用焦点型バーナ。
【0019】(11)第2の水素ガス噴出ポートの外周
に環状の酸素ガス噴出ポートを設けるか、又は第2の水
素ガス噴出ポートの外周に環状の不活性ガス噴出ポー
ト、更にこの外周に環状の酸素ガス噴出ポートを設けた
ことを特徴とする前記(5)〜(10)のいずれか一つ
のガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
【0020】(12)第2の水素ガス噴出ポートに内包
される酸素ガス噴出ポートが1〜3列に配列され、前記
酸素ガス噴出ポートが1列の場合には焦点距離の異なる
二つの酸素ガス噴出ポート群で構成され、前記酸素ガス
噴出ポートが2列又は3列の場合にはそれぞれの列が同
一の焦点距離の酸素ガス噴出ポート群を構成し、外側の
酸素ガス噴出ポート群の焦点距離が内側の酸素ガス噴出
ポート群の焦点距離よりも小さくないように構成されて
なることを特徴とする前記(5)〜(11)のいずれか
一つのガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
【0021】本発明の方法においては、中心のガラス原
料ガス噴出ポートの外側にガラス原料ガス噴出ポートに
対し同心円上に1列又は複数列に配列され、同一の焦点
距離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる一つ又
は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の酸素
ガス噴出ポートを内包する円環状の水素ガス噴出ポート
を有するガラス微粒子合成用焦点型バーナを使用し、前
記酸素ガス噴出ポート群が一つの場合には酸素ガス噴出
ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を、
水素ガス噴出ポートに内包される酸素ガス噴出ポート群
の焦点距離が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラ
ス母材堆積面までの距離の1〜4倍、好ましくは1〜2
倍となるように制御し、前記酸素ガス噴出ポート群が複
数の場合には酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラス
母材堆積面までの距離を、水素ガス噴出ポートに内包さ
れる酸素ガス噴出ポート群のうち焦点距離が最も短い群
の焦点距離が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラ
ス母材堆積面までの距離の1〜4倍、好ましくは1〜2
倍となり、2番目以降の群の焦点距離が該酸素ガス噴出
ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離の1
〜6倍、好ましくは1〜4倍、更に好ましくは1.1〜
4倍となり、かつ、外側の酸素ガス噴出ポート群の焦点
距離が内側の酸素ガス噴出ポート群の焦点距離よりも小
さくならないように、好ましくは外側の酸素ガス噴出ポ
ート群の焦点距離の方が大きくなるように制御してガラ
ス原料ガスを火炎中で加水分解反応又は酸化反応させて
ガラス微粒子を生成させ、回転する出発部材に堆積させ
て多孔質ガラス母材を作製する。このようにすることに
より、生成したガラス微粒子の流れを乱すことなく、ガ
ラス微粒子を堆積面に付着、堆積させることができ、合
成速度を向上させることができる。なお、酸素ガス噴出
ポート群の焦点距離が一つとなる場合においても、焦点
距離を前記のように設定することにより合成速度の向上
を図ることができる。
【0022】この場合、必要により多孔質ガラス母材堆
積面へのガラス微粒子の堆積量に応じてバーナを後退さ
せ、酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラス母材堆積
面までの距離をほぼ一定に保持しながらガラス微粒子の
合成を行うのが好ましい。また、中心の原料ガス噴出ポ
ートに水素ガスを供給するようにすれば、生成したガラ
ス微粒子の流れを安定化させる上で効果がある。
【0023】本発明のガラス微粒子合成用焦点型バーナ
は、前記本発明の方法を実施するためのバーナであっ
て、その基本構造は、中心に、その外周に円環状の第1
の水素ガス噴出ポート及び/又は不活性ガス噴出ポート
を設けた、中心部とその外周の2層に分割されていても
よいガラス原料ガス噴出ポートを有し、この外周に中心
のガラス原料ガス噴出ポートに対し同心円上に1列又は
複数列に配列され、同一の焦点距離を有する複数の酸素
ガス噴出ポートからなる一つ又は複数の酸素ガス噴出ポ
ート群を形成する、複数の酸素ガス噴出ポートを内包す
る円環状の第2の水素ガス噴出ポートを有するものであ
り、この第2の水素ガス噴出ポートの外周には環状の酸
素ガス噴出ポートを設けるか、又は環状の不活性ガス噴
出ポート、更にその外周に酸素ガス噴出ポートが設けら
れていてもよい。
【0024】前記第2の水素ガス噴出ポートに内包され
る酸素ガス噴出ポートは任意の列数で設けることができ
るが、通常は1〜3列程度が好ましく、特に2列の構成
が実用的である。また、各酸素ガス噴出ポートは、通常
各列毎に単一の焦点距離を有するように構成するが、各
列内において焦点距離が異なる二つ以上の群を形成させ
てもよい。
【0025】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい一実施形態を図
1(a)に示す。中心のガラス原料ガス噴出ポート1の
外周に第1の可燃性ガス噴出ポート2、又は不活性ガス
噴出ポート2を設け、この外周に複数の酸素ガス噴出ポ
ートを内包する環状の第2の水素ガス噴出ポート5を設
ける。酸素ガス噴出ポートは中心のガラス原料ガス噴出
ポート1に対して同心円上に2列配列され、各列毎に同
一の焦点距離を有する酸素ガス噴出ポート群3、4を形
成している。このとき、酸素ガス噴出ポート先端から多
孔質ガラス母材堆積面までの距離を1とした場合に、第
1列の酸素ガス噴出ポート群3の焦点距離を1〜4、好
ましくは1〜2とし、第2列の酸素ガス噴出ポート群4
の焦点距離を1〜6、好ましくは1〜4、更に好ましく
は1.1〜4とし、かつ第1列の酸素ガス噴出ポート群
3の焦点距離よりも小さくならないように、好ましくは
第1列の酸素ガス噴出ポート群3の焦点距離よりも大き
くなるように設定することで、ガラス原料ガスと火炎
(H2 Oガス、O2 ガス)との反応によって生成したガ
ラス微粒子の流れを乱すことなく、ガラス微粒子を堆積
面に付着、堆積させることができるので、合成速度を向
上させることが可能となる。第1列の酸素ガス噴出ポー
ト群3の焦点距離が、酸素ガス噴出ポート先端から多孔
質ガラス母材堆積面までの距離よりも小さい場合(1未
満)には、生成ガラス微粒子の流れが乱れ、酸素ガス噴
出ポート先端に付着、ガラス化してバーナの継続使用が
困難となる。また、4倍以上に長くすることは、ガラス
原料ガスとH2 Oガス、酸素ガスと反応する位置がバー
ナから遠ざかり、反応時間が短くなるため、十分な反応
時間を確保するためには、バーナを堆積面から離すこと
が必要となる。その結果、母材を加熱するための熱量が
不足するためより多くのガスを供給する必要性が生じ、
ガス使用量の増大を招くことになる。
【0026】一方、第2列の酸素ガス噴出ポート群4の
焦点距離を第1列の酸素ガス噴出ポート群3の焦点距離
より短くすることは、生成したガラス微粒子流が乱れ、
火炎の乱れを招くので好ましくない。また、第2列の酸
素ガス噴出ポート群4の焦点距離が、酸素ガス噴出ポー
ト先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離よりも小
さい場合には、生成したガラス微粒子の流れが乱れ、火
炎の乱れが生じるので、好ましくなく、逆に焦点距離を
必要以上に長くすることは、堆積面上でのガラス微粒子
の付着効率を低下させるばかりでなく、母材の加熱効果
をも低下させるので好ましくない。第2列の酸素噴出ポ
ートの焦点距離が、酸素ガス噴出ポート先端から多孔質
ガラス母材堆積面までの距離を1としたとき、1〜6、
好ましくは1〜4となるバーナ構造とすれば、上記不具
合点を改善できるので、ガラス微粒子の効率的な反応、
付着が可能となり、合成速度を向上させるのに有効とな
る。この実施形態において説明した第2の水素ガス噴出
ポートに内包される酸素ガス噴出ポート群における焦点
距離の相互関係は以下の第2〜第8の実施形態において
同じである。
【0027】更に、第2の実施形態を図1(b)に示
す。中心にガラス原料ガス噴出ポート1、この外周に円
環状の第1の水素ガス噴出ポート2、又は不活性ガス噴
出ポート2を設け、この外周に複数の焦点型構造を有す
る酸素ガス噴出ポート群3、4を内包した環状の第2の
水素ガス噴出ポート5を有し、更にこの外周に環状の不
活性ガス噴出ポート6及び酸素ガス噴出ポート7を設け
たものである。酸素ガス噴出ポート7を設けることで、
複数の酸素ガス複数ポートにより形成される火炎の外周
に更に環状の火炎面を形成でき、水素ガスの燃焼効率を
向上させ、母材の加熱に貢献できる。これにより、更に
大きな母材の製造が可能になる。これらの焦点型バーナ
において、中心原料ガス噴出ポート1に水素ガスを供給
することは、生成したガラス微粒子流を安定化させる上
で、特に有効となる。水素ガスを原料ガスとともに添加
することで、原料ガスの平均密度は低下し流れの安定化
が図れるので(ガラス微粒子は、粒径が成長するに従い
慣性力を得るが、それによりガラス微粒子流の流れを乱
す要因となる。水素ガスの添加は、この乱れを是正する
のに効果がある)、付着効率が向上し、合成速度を向上
させることができる。
【0028】また、図1(b)に示す構成において、特
に、中心のガラス原料ガス噴出ポート1、及びその外周
には第1の可燃性ガス噴出ポート(第1の水素ガス噴出
ポート)2を設け、この外周に複数の焦点型構造を有す
る酸素ガス噴出ポート群3、4を内包した環状の第2の
水素ガス噴出ポート5を有し、更にこの外周に環状の不
活性ガス噴出ポート6及び酸素ガス噴出ポート7を設け
た構造の場合には、ガラス原料ガスと火炎の距離を離す
ことができ、火炎中心部の温度上昇を抑えることが可能
となるとともに、中心のガラス原料ガス噴出ポート先端
にガラス微粒子が付着、ガラス化するのを防止できる。
即ち、火炎は第2の水素ガス噴出ポートにおいて、この
環状ポートの内部に配置した酸素ガス噴出ポートとの間
で燃焼反応が発生して形成される。従って、火炎形成用
の第2水素ガス噴出流路とガラス原料ガス噴出ポートと
の間に第1の水素ガス噴出流路を設けることで、ガラス
原料ガスと火炎との距離を離すことが可能となる。ま
た、第1の水素ガス噴出ポートを設けることにより、第
2の水素ガス噴出ポートから流す水素ガス流量を減量す
ることができるので、トータルのガス消費量を抑えるこ
とができる。その結果、製造コストの削減が可能とな
る。
【0029】本発明の第3の実施形態においては、図1
(a)に示されるバーナで、中心のガラス原料ガス噴出
ポート1の外周に円環状の第1の水素ガス噴出ポート2
及び更にその外周に円環状の不活性ガス噴出ポート(図
示していない)を設ける。これにより、ガス噴出口先端
でのガラス原料ガスとH2 O火炎との反応が抑制され、
ガラス原料ガス噴出ポート、その外周の円環状の第1の
水素ガス噴出ポート先端にガラス微粒子が付着、ガラス
化するのを防止するという効果をより奏することが可能
となる。更に必要に応じて第2の水素ガス噴出ポート5
の外周に円環状の不活性ガス噴出ポート6及び酸素ガス
噴出ポート7を設けてもよく、これにより上記図1
(b)の場合と同様の効果を奏することができる。更
に、この場合も、ガラス原料ガス噴出ポート1に水素ガ
スを供給して原料ガスの反応効率、付着効率を上げるよ
うにしてもよい。
【0030】次に、第4の実施形態を図1(c)に示
す。この構成は、中心にガラス原料ガス噴出ポート1
a、この外周に円環状の第2のガラス原料ガス噴出ポー
ト1b、その外周に円環状の第1の可燃性ガス噴出ポー
ト2、又は不活性ガス噴出ポート2を設け、この外周に
複数の焦点型構造を有する酸素ガス噴出ポート群3、4
を内包した環状の第2の水素ガス噴出ポート5を有し、
更にこの外周に環状の不活性ガス噴出ポート6及び酸素
ガス噴出ポート7を設けたものである。特に、OVD法
で、ガラス微粒子を堆積、積層させる場合には、堆積初
期のターゲット面積が小さいため、ガラス微粒子の付着
効率が低下する。この場合、堆積初期においては、比較
的噴出断面積の小さい中心ガラス原料ガス噴出ポートの
みからガラス原料ガスを供給し、ガラス微粒子が堆積し
てターゲット面積がある程度大きくなった時点から、中
心ガラス原料ガス噴出ポート1aとともに第2の円環状
ガラス原料ガス噴出ポート1bからも原料ガスを供給す
れば、より効率的に合成速度を上げることができる。
【0031】本発明の第4の実施形態においては、必要
に応じて第2の水素ガス噴出ポート5の外周に円環状の
不活性ガス噴出ポート6及び酸素ガス噴出ポート7を設
けてもよく、これにより上記図1(b)の場合と同様の
効果を奏することができる。更にこの場合もガラス原料
ガス噴出ポート1a、1bの両方又はいずれか一方に水
素ガスを供給するようにして原料ガスの反応効率、付着
効率を上げるようにしてもよい。
【0032】本発明の第5の実施形態においては、図1
(d)に示すように、中心付近にガラス原料ガス噴出ポ
ート1、1′を2個設け、これらガラス原料ガス噴出ポ
ート1、1′の外周に各々円環状の第1の水素ガス噴出
ポート2、2′又は不活性ガス噴出ポート2、2′を設
けて成り、更にこれらの外周には円環状の第2の水素ガ
ス噴出ポート5に内包された複数の酸素ガス噴出ポート
群3、4が、ガラス原料ガス噴出ポートに対し同心円上
に1列、あるいは複数列配列し、かつその焦点距離を前
記と同様とする。
【0033】本発明の第5の実施形態においては、必要
に応じて第2の水素ガス噴出ポート5の外周に円環状の
不活性ガス噴出ポート6及び酸素ガス噴出ポート7を設
けてもよく、これにより上記図1(b)の場合と同様の
効果を奏することができる。更にこの場合もガラス原料
ガス噴出ポート1、2の両方又はいずれか一方に水素ガ
スを供給して原料ガスの反応効率、付着効率を上げるよ
うにしてもよい。
【0034】本発明の第6の実施形態においては、図1
(d)に示されるバーナで2個のガラス原料ガス噴出ポ
ート1、1′の各々の外周に円環状の第1の水素ガス噴
出ポート2、2′、更にその外周に各々円環状の不活性
ガス噴出ポート(図示していない)を設け、かつ焦点距
離を前記と同様とする。更に必要に応じて第2の水素ガ
ス噴出ポート5の外周に円環状の不活性ガス噴出ポート
6及び酸素ガス噴出ポート7を設けてもよく、これによ
り上記図1(b)の場合と同様の効果を奏することがで
きる。更にこの場合もガラス原料ガス噴出ポート1、2
の両方又はいずれか一方に水素ガスを供給して原料ガス
の反応効率、付着効率を上げるようにしてもよい。
【0035】本発明の第7の実施形態においては、図1
(d)に示されるバーナで2個のガラス原料ガス噴出ポ
ート1、1′の各々の外周に円環状の第2のガラス原料
ガス噴出ポート(図示していない)、更にその外周に各
々円環状の第1の水素ガス噴出ポート又は不活性ガス噴
出ポート2、2′を設け、かつ焦点距離を前記と同様と
したものである。更に必要に応じて第2の水素ガス噴出
ポート5の外周に円環状の不活性ガス噴出ポート6及び
酸素ガス噴出ポート7を設けてもよく、これにより上記
図1(b)の場合と同様の効果を奏することができる。
更にこの場合もガラス原料ガス噴出ポート1、2の両方
又はいずれか一方に水素ガスを供給してガラス原料ガス
の反応効率、付着効率を上げるようにしてもよい。
【0036】上記の図1(d)に示される各実施形態の
構造は、中心付近のガラス原料ガス噴出ポートを複数化
したこと、及び焦点型の複数の酸素噴出流路を備えるこ
とに特徴がある。中心の原料ガスポート径は、小さい方
が単位体積当たりのガラス微粒子密度を大きくすること
ができるので好ましいが、より合成速度を上げるために
は、ガラス原料ガス流路を増加させることが必要不可欠
である。単に原料ガス流量を増加させるだけでは、流速
が増加し、原料ガスと火炎との反応時間が低下するので
好ましくない。そこで、流速の増加を避けるために、ガ
ラス原料ガス噴出ポートを複数個化することがより効果
的となる。
【0037】本発明において、焦点距離が酸素ガス噴出
ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を1
としたとき、第1列の酸素ガス噴出ポート群が1〜4、
好ましくは1〜2であり、第2列の酸素ガス噴出ポート
群が1〜6、好ましくは1〜4と特定する理由は1未満
の場合は、原料流が乱れてガス噴出口(円環状噴出口、
酸素噴出口)にガラス微粒子が付着、ガラス化し、また
合成速度も低下してしまうし、4又は6を超えると、原
料ガスとH2 Oガスとの反応が進行せず、ガラス微粒子
の生成が不十分となること及び堆積面上での加熱効率が
低下することにより合成速度が低下するからである。酸
素ガス噴出ポート群の焦点距離が、酸素ガス噴出ポート
先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を1とした
とき、それぞれ1〜4及び1〜6である本発明のガラス
微粒子合成用焦点型バーナの焦点距離と堆積面との位置
関係の概略説明図を図3に、焦点距離が1未満であるバ
ーナにおける焦点距離と堆積面との位置関係の概略説明
図を図4に示す。また、上記の各実施形態において、複
数の酸素ガス噴出流路は1列のみの構成でもよく、例え
ば1つ置きに焦点距離の異なる酸素ガス噴出ポートを設
け、本発明で特定された上記の焦点距離の関係を満たす
ように設定することができる。
【0038】
【実施例】以下本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが限定を意図するものではない。 (実施例1)図1(a)の構造のバーナを用いて図2に
示すような構成で、ガラス微粒子の合成を行った。図2
で8はバーナ、9はロッド、10はガラス微粒子を示
す。中心のガラス原料ガス噴出ポートは、外径6mm、
内径4mmのパイプで構成した。また、この外周に、外
径10mm、内径8mmのパイプで第1の水素ガス噴出
ポートを形成し、第2の水素ガス噴出ポートは、外径3
7mm、内径35mmのパイプを先端部で絞り、ガス噴
出出口では、外径32mm、内径30mmとした。この
内部に外径3.0mm、内径1.5mmの酸素ガス噴出
ポートを同心円上に第1列、第2列に各々8本ずつ、合
計16本配置させた。第1列の焦点距離は、220m
m、第2列の焦点距離は、360mmに設定した。原料
ガスは、SiCl4 を5リットル/分、水素ガスは、第
1の水素ガス噴出ポートから、2リットル/分、第2の
水素ガス噴出ポートから、120リットル/分、酸素ガ
スは、50リットル/分に設定した。バーナのセッティ
ング位置は、酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラス
母材堆積面までの距離を120mmと一定になるよう
に、堆積中バーナを後退させながら多孔質母材の合成を
行った。この結果、合成速度は、8g/分であった。
【0039】(比較例1)実施例1と同様のガラス原料
ガス噴出ポート、第1の水素ガス噴出ポートを有し、第
2の水素ガス噴出ポートは、ガス噴出出口において、外
径32mm、内径30mmのストレート構造とし、この
内部にストレートの酸素ガス噴出ポートを同心円上に第
1列、第2列に各々8本ずつ、合計16本配置させた。
各々のガス流量、バーナのセッティング位置は、実施例
1と同様にして多孔質母材の合成を行ったところ、合成
速度は、6g/分と大幅に低下した。本比較例では、酸
素噴出ノズルが焦点型でないため、原料ガスとH2 Oガ
スとの反応が進まず、ガラス微粒子の生成が不十分とな
り合成速度が25%も低下した。
【0040】(比較例2)実施例1と同様、ガラス原料
ガス噴出ポート、第1の水素ガス噴出ポート、第2の水
素ガス噴出ポートを有する構造であるが、第2の水素ガ
スポートの内部に中心原料ガスポートに対して同心円上
に設置される複数の酸素ガス噴出流路は、第1列の8本
が焦点距離100mm、第2列の8本が焦点距離140
mmに設定した。このバーナを用いて、実施例1と同様
のガス流量、バーナのセッティング位置で、多孔質母材
の合成を行ったところ、酸素ガス噴出流路の先端にガラ
ス微粒子が付着、堆積してガラス化し、継続使用が困難
となったため、合成を中断した。この場合は焦点距離の
比が1未満のためガラス合成ができなくなったものであ
る。
【0041】(実施例2)図1(b)に示す構造のバー
ナを用いて、図2に示す構成にてガラス微粒子の合成を
行った。このバーナは、実施例1で使用したバーナの外
周に外径36mm、内径34mm(ガス噴出出口におい
て)の不活性ガス噴出ポート、更にその外周に外径42
mm、内径39mm(ガス噴出出口において)の酸素ガ
ス噴出ポートを設けた。実施例1と同様の実施形態に加
えて、第2水素ガス噴出ポート外周の不活性ガス噴出ポ
ートから、Ar(アルゴン)4リットル/分、最外層の
円環状酸素ガス噴出ポートから、酸素ガスを30リット
ル/分供給した。この結果、合成速度は、9g/分と良
好であった。
【0042】(実施例3)実施例2と同様の実施形態に
て、図1(b)のバーナを用い、中心のガラス原料ガス
噴出ポートに水素ガス3リットル/分を供給して、多孔
質母材の合成を行った。その結果、合成速度は、10g
/分と向上した。
【0043】(実施例4)第2の水素ガス噴出ポート内
の酸素ガス噴出ポートのうち第1列の焦点距離を190
mm、第2列の焦点距離を220mmとし、酸素ガス噴
出ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を
190mmとしたほかは実施例3と同様の条件で多孔質
母材の合成を行った。その結果、合成速度は、11.5
g/分と良好であった。
【0044】(実施例5)図1(c)に示す構造のバー
ナを用いて図2に示すような構成で、ガラス微粒子の合
成を行った。中心のガラス原料ガス噴出ポートは、外径
3.5mm、内径2mmのパイプで構成した。また、こ
の外周に、外径6.5mm、内径5mmのパイプで第2
のガラス原料ガス噴出ポートを形成し、その外周に、外
径9.5mm、内径8mmのパイプで第1の水素ガス噴
出ポートを形成した。更に第2の水素ガス噴出ポート
は、外径37mm、内径35mmのパイプを先端部で絞
り、ガス噴出出口では、外径32mm、内径30mmと
した。この内部に外径3.0mm、内径1.5mmの酸
素ガス噴出ポートを同心円上に第1列、第2列に各々8
本ずつ、合計16本配置させた。第1列の焦点距離は、
220mm、第2列の焦点距離は、360mmに設定し
た。第2の水素ガス噴出ポートの外周には、外径36m
m、内径34mm(ガス噴出出口において)の不活性ガ
ス噴出ポート、更にその外周に外径42mm、内径39
mm(ガス噴出出口において)の酸素ガス噴出ポートを
設けた。原料ガス(SiCl4 )は、中心ガラス原料ガ
ス噴出ポートに4リットル/分供給し、多孔質母材の外
径が50mmになった時点で第2のガラス原料ガス噴出
ポートに更に2リットル/分、原料ガス(SiCl4
を供給した。水素ガスは、第1の水素ガス噴出ポートか
ら、2リットル/分、第2の水素ガス噴出ポートから、
120リットル/分、複数の酸素ガス噴出ポートには酸
素ガスを50リットル/分供給し、外周の不活性ガス噴
出ポートから、Ar(アルゴン)4リットル/分、最外
層の円環状酸素ガス噴出ポートから、酸素ガスを30リ
ットル/分供給した。バーナのセッティング位置は、酸
素ガス噴出ポート先端から、多孔質ガラス母材堆積面ま
での距離を120mmと一定になるように、堆積中バー
ナを後退させながら多孔質母材の合成を行った。この結
果、合成速度は、10g/分であった。
【0045】(実施例6)実施例5と同様の実施形態に
て、中心のガラス原料ガス噴出ポートに水素ガス3リッ
トル/分を供給し、更に第2のガラス原料ガス噴出ポー
トに水素ガス2リットル/分を供給して、多孔質母材の
合成を行った。その結果、合成速度は、11g/分まで
向上した。
【0046】(実施例7)図1(d)の構造のバーナを
用いて図2に示すような構成で、ガラス微粒子の合成を
行った。中心付近にある2個のガラス原料ガス噴出ポー
トは各々、外径4.5mm、内径3mmのパイプで構成
し、この外周には外径8.5mm、内径6mmのパイプ
で第1の水素ガス噴出ポートを形成した。第2の水素ガ
ス噴出ポートは、外径50mm、内径48mmのパイプ
を先端部で絞り、ガス噴出出口では、外径40mm、内
径38mmとした。この内部に外径3.0mm、内径
1.5mmの第1列酸素ガス噴出ポートをガラス原料ガ
ス噴出ポート中心に対して同心円上に5本ずつ配置し、
更にその外側に第2列酸素ガス噴出ポートとしてガラス
原料ガス噴出ポート中心に対して同心円上に5本ずつ設
け、合計20本配置させた。第2水素ガス噴出ポートの
外周には、外径44mm、内径42mm(ガス噴出出口
において)の不活性ガス噴出ポート、更にその外周に外
径50mm、内径47mm(ガス噴出出口において)の
酸素ガス噴出ポートを設けた。第1列の焦点距離は、2
20mm、第2列の焦点距離は、400mmに設定し
た。原料ガスは、SiCl4 を5リットル/分、水素ガ
スは第1の水素ガス噴出ポートから、2リットル/分、
第2の水素ガス噴出ポートから、180リットル/分、
複数の酸素ガス噴出ポートに供給する酸素ガスは60リ
ットル/分に設定し、更に外周の不活性ガス噴出ポート
から、Ar(アルゴン)4リットル/分、最外層の円環
状酸素ガス噴出ポートから、酸素ガスを40リットル/
分供給した。バーナのセッティング位置は、酸素ガス噴
出ポート先端から、多孔質ガラス母材堆積面までの距離
を120mmと一定になるように、堆積中バーナを後退
させながら多孔質母材の合成を行った。この結果、合成
速度は、11g/分であった。
【0047】(実施例8)実施例7と同様の実施形態に
て、中心のガラス原料ガス噴出ポートに水素ガス3リッ
トル/分を供給して、多孔質母材の合成を行った。その
結果、合成速度は、12g/分まで向上した。
【0048】(実施例9)図1(d)に類似した構造の
バーナにおいて、中心付近に3層のパイプを有するバー
ナを用いて、図2に示すような構成で、ガラス微粒子の
合成を行った。中心付近にある2個のガラス原料ガス噴
出ポートは各々、外径3.0mm、内径1.5mmのパ
イプで構成し、この外周には外径6.0mm、内径4.
5mmのパイプで第1の水素ガス噴出ポートを形成し、
更にその外周には、外径9.0mm、内径7.5mmの
パイプで第1の不活性ガス噴出ポートを形成した。第2
の水素ガス噴出ポートは、外径50mm、内径48mm
のパイプを先端部で絞り、ガス噴出出口では、外径40
mm、内径38mmとした。この内部に外径3.0m
m、内径1.5mmの第1列酸素ガス噴出ポートをガラ
ス原料ガス噴出ポート中心に対して同心円状に5本ずつ
配置し、更にその外側に第2例酸素ガス噴出ポートとし
て、ガラス原料ガス噴出ポート中心に対して同心円状に
5本ずつ設け、合計20本配置させた。第2水素ガス噴
出ポートの外周には、外径44mm、内径42mm(ガ
ス噴出出口において)の第2の不活性ガス噴出ポート、
更にその外周に外径50mm、内径47mm(ガス噴出
出口において)の酸素ガス噴出ポートを設けた。第1例
の焦点距離は、200mm、第2列の焦点距離は、40
0mmに設定した。原料ガスは、SiCl4 を5リット
ル/分、水素ガスは、第1の水素ガス噴出ポートから、
2リットル/分、第1の不活性ガス噴出ポートから、A
r(アルゴン)1.5リットル/分、第2の水素ガス噴
出ポートから、180リットル/分、複数の酸素ガス噴
出ポートに供給する酸素ガスは、60リットル/分に設
定し、更に外周の第2の不活性ガス噴出ポートから、A
r(アルゴン)4リットル/分、最外層の円環状酸素噴
出ポートから、酸素ガスを40リットル/分供給した。
バーナのセッティング位置は、酸素ガス噴出ポート先端
さら多孔質ガラス母材堆積面までの距離を150mmと
一定になるように、堆積中バーナを後退させながら多孔
質母材の合成を行った。この結果、合成速度は、11.
5g/分であった。
【0049】(実施例10)実施例9と同様の実施形態
にて、中心ガラス原料ガス噴出ポートに水素ガス3リッ
トル/分を供給して、多孔質母材の合成を行った。その
結果、合成速度は、12.5g/分まで向上した。
【0050】(実施例11)図1(d)に類似した構造
のバーナにおいて、中心付近に3層のパイプを有するバ
ーナを用いて、図2に示すような構成で、ガラス微粒子
の合成を行った。中心付近にある2個のガラス原料ガス
噴出ポートは各々、外径3.0mm、内径1.5mmの
パイプで構成し、この外周には第2の原料ガス噴出ポー
トとして、外径6.0mm、内径4.5mmのパイプを
形成し、更にその外周には、外径9.0mm、内径7.
5mmのパイプで第1の不活性ガス噴出ポートを形成し
た。水素ガス噴出ポート、外径50mm、内径48mm
のパイプを先端部で絞り、ガス噴出出口では、外径40
mm、内径38mmとした。この内部に外径3.0m
m、内径1.5mmの第1列酸素ガス噴出ポートをガラ
ス原料ガス噴出ポート中心に対して同心円状に5本ずつ
配置し、更にその外側に第2列酸素ガス噴出ポートとし
て、ガラス原料ガス噴出ポート中心に対して同心円状に
5本ずつ設け、合計20本配置させた。水素ガス噴出ポ
ートの外周には、外径44mm、内径42mm(ガス噴
出出口において)の第2の不活性ガス噴出ポート、更に
その外周に外径50mm、内径47mm(ガス噴出出口
において)の酸素ガス噴出ポートを設けた。第1列の焦
点距離は、200mm、第2列の焦点距離は、400m
mに設定した。原料ガス(SiCl4 )は、中心ガラス
原料ガス噴出ポートから2.5リットル/分供給し、多
孔質母材の外径が50mmになった時点で第2のガラス
原料ガス噴出ポートに更に2リットル/分原料ガス(S
iCl4 )を供給した。その外周の第1の不活性ガス噴
出ポートから、Ar(アルゴン)1.5リットル/分供
給し、更に水素ガス噴出ポートから、水素ガスを120
リットル/分、複数の酸素ガス噴出ポートには酸素ガス
を50リットル/分供給し、その外周の第2の不活性ガ
ス噴出ポートから、Ar(アルゴン)4リットル/分、
最外層の円環状酸素ガス噴出ポートから、酸素ガスを3
0リットル/分供給した。バーナのセッティング位置
は、酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラス母材堆積
面までの距離を120mmと一定になるように、堆積中
バーナを後退させながら多孔質母材の合成を行った。こ
の結果、合成速度は、10g/分であった。
【0051】(実施例12)実施例11と同様の実施形
態にて、中心ガラス原料ガス噴出ポート、及びその外周
のガラス原料ガス噴出ポートから、水素ガスを各々2リ
ットル/分を供給して、多孔質母材の合成を行った。そ
の結果、合成速度は、12g/分まで向上した。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の構成の製
造方法及びバーナによれば、効率的な火炎形成を実現
し、かつ生成したガラス微粒子の流れを乱さずに、ター
ゲット上に付着、堆積させることができるので、ガラス
微粒子の生成、堆積を効率的に行うことができ、生産性
に優れた合成速度の高い母材製造が可能となる。また、
実施例では示さなかったが、複数の酸素ガス噴出流路が
1列のみ又は複数列であって、それらの焦点距離が単一
となる構成のバーナ構造においても、本発明で示す焦点
距離に設定することにより、合成速度の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明のバーナ構造を示した概略図。
【図2】図2はOVD法で出発ロッド外周に多孔質ガラ
ス母材を合成するときの構成を概略説明する図。
【図3】図3は本発明の焦点距離と堆積面との位置関係
を概略説明した図。
【図4】図4は従来のバーナ構造、及び焦点距離と堆積
面との位置関係を概略説明した図。
【符号の説明】
1 ガラス原料ガス噴出ポート 2 第1の可燃性ガス噴出ポート又は不活性ガス噴出ポ
ート 3 酸素ガス噴出ポート群 4 酸素ガス噴出ポー
ト群 5 第2の水素ガス噴出ポート 6 不活性ガス噴出
ポート 7 酸素ガス噴出ポート 8 バーナ 9 ロッド 10 ガラス微粒子

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス原料ガスを火炎中で加水分解反応
    又は酸化反応させてガラス微粒子を生成させ、回転する
    出発部材に堆積させて多孔質ガラス母材を作製するガラ
    ス微粒子合成方法において、中心のガラス原料ガス噴出
    ポートの外側にガラス原料ガス噴出ポートに対し同心円
    上に1列又は複数列に配列され、同一の焦点距離を有す
    る複数の酸素ガス噴出ポートからなる一つ又は複数の酸
    素ガス噴出ポート群を形成する、複数の酸素ガス噴出ポ
    ートを内包する円環状の水素ガス噴出ポートを有するガ
    ラス微粒子合成用焦点型バーナを使用し、前記酸素ガス
    噴出ポート群が一つの場合には酸素ガス噴出ポート先端
    から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を、水素ガス噴
    出ポートに内包される酸素ガス噴出ポート群の焦点距離
    が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラス母材堆積
    面までの距離の1〜4倍となるように制御し、前記酸素
    ガス噴出ポート群が複数の場合には酸素ガス噴出ポート
    先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離を、水素ガ
    ス噴出ポートに内包される酸素ガス噴出ポート群のうち
    焦点距離が最も短い群の焦点距離が該酸素ガス噴出ポー
    ト先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離の1〜4
    倍となり、2番目以降の群の焦点距離が該酸素ガス噴出
    ポート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離の1
    〜6倍となり、かつ、外側の酸素ガス噴出ポート群の焦
    点距離が内側の酸素ガス噴出ポート群の焦点距離よりも
    小さくならないように制御してガラス微粒子を生成させ
    ることを特徴とするガラス微粒子合成方法。
  2. 【請求項2】 酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガラ
    ス母材堆積面までの距離を、水素ガス噴出ポートに内包
    される酸素ガス噴出ポート群のうち焦点距離が最も短い
    群の焦点距離が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔質ガ
    ラス母材堆積面までの距離の1〜2倍となり、2番目以
    降の群の焦点距離が該酸素ガス噴出ポート先端から多孔
    質ガラス母材堆積面までの距離の1〜4倍となるように
    することを特徴とする請求項1に記載のガラス微粒子合
    成方法。
  3. 【請求項3】 多孔質ガラス母材堆積面へのガラス微粒
    子の堆積量に応じてバーナを後退させ、酸素ガス噴出ポ
    ート先端から多孔質ガラス母材堆積面までの距離をほぼ
    一定に保持しながらガラス微粒子の合成を行うことを特
    徴とする請求項1又は2に記載のガラス微粒子合成方
    法。
  4. 【請求項4】 ガラス原料ガス噴出ポートに水素ガスを
    供給しながらガラス微粒子の合成を行うことを特徴とす
    る請求項1〜3のいずれか一つに記載のガラス微粒子合
    成方法。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一つに記載のガ
    ラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子合成
    用焦点型バーナであって、中心にガラス原料ガス噴出ポ
    ート、この外周に円環状の第1の水素ガス噴出ポート又
    は不活性ガス噴出ポートを有し、更にこの外周に中心の
    ガラス原料ガス噴出ポートに対し同心円上に1列又は複
    数列に配列され、同一の焦点距離を有する複数の酸素ガ
    ス噴出ポートからなる一つ又は複数の酸素ガス噴出ポー
    ト群を形成する、複数の酸素ガス噴出ポートを内包する
    円環状の第2の水素ガス噴出ポートを有してなることを
    特徴とするガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
  6. 【請求項6】 請求項1〜4のいずれか一つに記載のガ
    ラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子合成
    用焦点型バーナであって、中心にガラス原料ガス噴出ポ
    ート、この外周に円環状の第1の水素ガス噴出ポート、
    第1の水素ガス噴出ポートの外周に円環状の不活性ガス
    噴出ポートを有し、更にこの外周に中心のガラス原料ガ
    ス噴出ポートに対し同心円上に1列又は複数列に配列さ
    れ、同一の焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポート
    からなる一つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成す
    る、複数の酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の第2
    の水素ガス噴出ポートを有してなることを特徴とするガ
    ラス微粒子合成用焦点型バーナ。
  7. 【請求項7】 請求項1〜4のいずれか一つに記載のガ
    ラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子合成
    用焦点型バーナであって、中心にガラス原料ガス噴出ポ
    ート、この外周に円環状の第2のガラス原料ガス噴出ポ
    ート、第2のガラス原料ガス噴出ポートの外周に円環状
    の第1の水素ガス噴出ポート又は不活性ガス噴出ポート
    を有し、更にこの外周に中心のガラス原料ガス噴出ポー
    トに対し同心円上に1列又は複数列に配列され、同一の
    焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる一
    つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の
    酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の第2の水素ガス
    噴出ポートを有してなることを特徴とするガラス微粒子
    合成用焦点型バーナ。
  8. 【請求項8】 請求項1〜4のいずれか一つに記載のガ
    ラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子合成
    用焦点型バーナであって、中心付近にガラス原料ガス噴
    出ポートを2個有し、これらガラス原料ガス噴出ポート
    外周に各々円環状の第1の水素ガス噴出ポート又は不活
    性ガス噴出ポートを有し、更にこれらの外周に中心のガ
    ラス原料ガス噴出ポートに対し同心円上に1列又は複数
    列に配列され、同一の焦点距離を有する複数の酸素ガス
    噴出ポートからなる一つ又は複数の酸素ガス噴出ポート
    群を形成する、複数の酸素ガス噴出ポートを内包する円
    環状の第2の水素ガス噴出ポートを有してなることを特
    徴とするガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
  9. 【請求項9】 請求項1〜4のいずれか一つに記載のガ
    ラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子合成
    用焦点型バーナであって、中心付近にガラス原料ガス噴
    出ポートを2個有し、これらガラス原料ガス噴出ポート
    外周に各々円環状の第1の水素ガス噴出ポート更にその
    外周には各々円環状の不活性ガス噴出ポートを有し、更
    にこれらの外周に中心のガラス原料ガス噴出ポートに対
    し同心円上に1列又は複数列に配列され、同一の焦点距
    離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる一つ又は
    複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の酸素ガ
    ス噴出ポートを内包する円環状の第2の水素ガス噴出ポ
    ートを有してなることを特徴とするガラス微粒子合成用
    焦点型バーナ。
  10. 【請求項10】 請求項1〜4のいずれか一つに記載の
    ガラス微粒子合成方法を実施するためのガラス微粒子合
    成用焦点型バーナであって、中心付近にガラス原料ガス
    噴出ポートを2個有し、これらガラス原料ガス噴出ポー
    ト外周に各々円環状の第2のガラス噴出ポート、第2の
    ガラス原料ガス噴出ポートの外周には各々円環状の第1
    の水素ガス噴出ポート又は不活性ガス噴出ポートを有
    し、更にこれらの外周に中心のガラス原料ガス噴出ポー
    トに対し同心円上に1列又は複数列に配列され、同一の
    焦点距離を有する複数の酸素ガス噴出ポートからなる一
    つ又は複数の酸素ガス噴出ポート群を形成する、複数の
    酸素ガス噴出ポートを内包する円環状の第2の水素ガス
    噴出ポートを有してなることを特徴とするガラス微粒子
    合成用焦点型バーナ。
  11. 【請求項11】 第2の水素ガス噴出ポートの外周に環
    状の酸素ガス噴出ポートを設けるか、又は第2の水素ガ
    ス噴出ポートの外周に環状の不活性ガス噴出ポート、更
    にこの外周に環状の酸素ガス噴出ポートを設けたことを
    特徴とする請求項5〜10のいずれか一つに記載のガラ
    ス微粒子合成用焦点型バーナ。
  12. 【請求項12】 第2の水素ガス噴出ポートに内包され
    る酸素ガス噴出ポートが1〜3列に配列され、前記酸素
    ガス噴出ポートが1列の場合には焦点距離の異なる二つ
    の酸素ガス噴出ポート群で構成され、前記酸素ガス噴出
    ポートが2列又は3列の場合にはそれぞれの列が同一の
    焦点距離の酸素ガス噴出ポート群を構成し、外側の酸素
    ガス噴出ポート群の焦点距離が内側の酸素ガス噴出ポー
    ト群の焦点距離よりも小さくないように構成されてなる
    ことを特徴とする請求項5〜11のいずれか一つに記載
    のガラス微粒子合成用焦点型バーナ。
JP10907997A 1996-05-09 1997-04-25 ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ Expired - Lifetime JP3543537B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10907997A JP3543537B2 (ja) 1996-05-09 1997-04-25 ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11498896 1996-05-09
JP8-114988 1996-05-09
JP10907997A JP3543537B2 (ja) 1996-05-09 1997-04-25 ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10101343A true JPH10101343A (ja) 1998-04-21
JP3543537B2 JP3543537B2 (ja) 2004-07-14

Family

ID=26448864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10907997A Expired - Lifetime JP3543537B2 (ja) 1996-05-09 1997-04-25 ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3543537B2 (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005066085A1 (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 光ファイバ用多孔質母材の製造方法及びガラス母材
JP2008247629A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Covalent Materials Tokuyama Corp 合成シリカガラス製造装置及び合成シリカガラス製造方法
EP2098489A1 (en) 2008-02-27 2009-09-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of fabricating an optical fiber preform and a burner therefor
EP2098488A1 (en) * 2008-02-27 2009-09-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of fabricating optical fiber preform
EP2223899A1 (en) * 2009-02-27 2010-09-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for producing glass fine particles and method for manufacturing porous glass base material using the same
EP2226302A2 (en) 2009-03-03 2010-09-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for manufacturing optical fiber base material
KR101035467B1 (ko) 2008-02-27 2011-05-18 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 광섬유용 모재의 퇴적용 버너
CN102234178A (zh) * 2010-04-23 2011-11-09 信越化学工业株式会社 用于制造多孔玻璃预型体的燃烧器
US8079233B2 (en) 2008-02-27 2011-12-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for manufacturing porous glass base material
JP2012001411A (ja) * 2010-06-21 2012-01-05 Furukawa Electric Co Ltd:The ガラス微粒子合成用バーナ及びガラス微粒子堆積体の製造方法
EP2380856A3 (en) * 2010-04-23 2012-05-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for producing porous glass preform
JP2012131685A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Asahi Glass Co Ltd ガラス母材合成用バーナ及びガラス母材の製造方法
JP2013166686A (ja) * 2011-09-29 2013-08-29 Sumitomo Electric Ind Ltd ガラス微粒子堆積体及びガラス母材の製造方法
JP2013166685A (ja) * 2012-01-05 2013-08-29 Sumitomo Electric Ind Ltd ガラス微粒子堆積体及びガラス母材の製造方法
US9630872B2 (en) 2011-09-29 2017-04-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method for manufacturing glass-fine-particle-deposited body and method for manufacturing glass base material
CN109912192A (zh) * 2017-02-24 2019-06-21 天津富通集团有限公司 用于光纤预制棒的喷灯
WO2023171751A1 (ja) * 2022-03-11 2023-09-14 三菱ケミカル株式会社 石英部材の製造方法、及びシリカ粉の溶射コーティング方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5229957B2 (ja) 2008-02-27 2013-07-03 信越化学工業株式会社 光ファイバ用ガラス母材製造用バーナ
JP4845221B2 (ja) 2008-05-13 2011-12-28 信越化学工業株式会社 多孔質ガラス母材の製造方法
JP5748633B2 (ja) 2011-10-18 2015-07-15 信越化学工業株式会社 多孔質ガラス母材製造用バーナ及び多孔質ガラス母材の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234538A (ja) * 1993-02-10 1994-08-23 Fujikura Ltd 光ファイバ母材の製造方法
JPH07187683A (ja) * 1993-12-27 1995-07-25 Nikon Corp 石英ガラス製バーナー、これを用いて製造される 石英ガラス、石英ガラスバーナーを用いた石英ガラスの製造方法
JPH09100133A (ja) * 1995-10-04 1997-04-15 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234538A (ja) * 1993-02-10 1994-08-23 Fujikura Ltd 光ファイバ母材の製造方法
JPH07187683A (ja) * 1993-12-27 1995-07-25 Nikon Corp 石英ガラス製バーナー、これを用いて製造される 石英ガラス、石英ガラスバーナーを用いた石英ガラスの製造方法
JPH09100133A (ja) * 1995-10-04 1997-04-15 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8297079B2 (en) 2004-01-07 2012-10-30 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of manufacturing porous glass base material used for optical fibers, and glass base material
WO2005066085A1 (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 光ファイバ用多孔質母材の製造方法及びガラス母材
JP4567017B2 (ja) * 2007-03-29 2010-10-20 コバレントマテリアル徳山株式会社 合成シリカガラス製造装置及び合成シリカガラス製造方法
JP2008247629A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Covalent Materials Tokuyama Corp 合成シリカガラス製造装置及び合成シリカガラス製造方法
JP2009227567A (ja) * 2008-02-27 2009-10-08 Shin Etsu Chem Co Ltd 光ファイバ用母材の製造方法
KR101035467B1 (ko) 2008-02-27 2011-05-18 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 광섬유용 모재의 퇴적용 버너
US9260339B2 (en) 2008-02-27 2016-02-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of fabricating an optical fiber preform and a burner therefor
US8079233B2 (en) 2008-02-27 2011-12-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for manufacturing porous glass base material
US9233870B2 (en) 2008-02-27 2016-01-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of fabricating optical fiber preform
EP2098488A1 (en) * 2008-02-27 2009-09-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of fabricating optical fiber preform
EP2098489A1 (en) 2008-02-27 2009-09-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of fabricating an optical fiber preform and a burner therefor
EP2223899A1 (en) * 2009-02-27 2010-09-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for producing glass fine particles and method for manufacturing porous glass base material using the same
JP2010195667A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ガラス微粒子合成用バーナ及びこれを用いた多孔質ガラス母材の製造方法
US8312744B2 (en) 2009-02-27 2012-11-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for producing glass fine particles and method for manufacturing porous glass base material using the same
EP2226302A2 (en) 2009-03-03 2010-09-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for manufacturing optical fiber base material
EP2573054A2 (en) 2009-03-03 2013-03-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for manufacturing an optical fiber preform by flame hydrolysis
US8402788B2 (en) 2009-03-03 2013-03-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for manufacturing optical fiber base material
EP2380856A3 (en) * 2010-04-23 2012-05-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for producing porous glass preform
EP2380855A3 (en) * 2010-04-23 2012-05-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for manufacturing porous glass preform
US8459063B2 (en) 2010-04-23 2013-06-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Burner for producing porous glass preform
CN102234178A (zh) * 2010-04-23 2011-11-09 信越化学工业株式会社 用于制造多孔玻璃预型体的燃烧器
JP2012001411A (ja) * 2010-06-21 2012-01-05 Furukawa Electric Co Ltd:The ガラス微粒子合成用バーナ及びガラス微粒子堆積体の製造方法
JP2012131685A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Asahi Glass Co Ltd ガラス母材合成用バーナ及びガラス母材の製造方法
JP2013166686A (ja) * 2011-09-29 2013-08-29 Sumitomo Electric Ind Ltd ガラス微粒子堆積体及びガラス母材の製造方法
US9630872B2 (en) 2011-09-29 2017-04-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method for manufacturing glass-fine-particle-deposited body and method for manufacturing glass base material
US10604439B2 (en) 2011-09-29 2020-03-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method for manufacturing glass-fine-particle-deposited body and method for manufacturing glass base material
JP2013166685A (ja) * 2012-01-05 2013-08-29 Sumitomo Electric Ind Ltd ガラス微粒子堆積体及びガラス母材の製造方法
CN109912192A (zh) * 2017-02-24 2019-06-21 天津富通集团有限公司 用于光纤预制棒的喷灯
CN109928612A (zh) * 2017-02-24 2019-06-25 天津富通集团有限公司 一种光纤预制棒的制造方法
WO2023171751A1 (ja) * 2022-03-11 2023-09-14 三菱ケミカル株式会社 石英部材の製造方法、及びシリカ粉の溶射コーティング方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3543537B2 (ja) 2004-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3543537B2 (ja) ガラス微粒子合成方法及びそのための焦点型バーナ
US9260339B2 (en) Method of fabricating an optical fiber preform and a burner therefor
AU776420B2 (en) Burner for synthesizing glass particles and method for producing porous glass body
JP2003226544A (ja) 光ファイバ多孔質母材の製造方法
US7165425B2 (en) Multi-tube burner and glass preform manufacturing method using the same
JP4498917B2 (ja) ガラス棒状体の製造方法
JP2003226543A (ja) 光ファイバ母材の製造方法およびこれを用いた光ファイバ母材製造用バーナ装置
JP3744350B2 (ja) 多孔質ガラス母材合成用バーナ及び多孔質ガラス母材の製造方法
JP3567574B2 (ja) 多孔質ガラス母材合成用バーナ
JPH05323130A (ja) 多焦点型バーナおよびそのバーナを用いたガラス微粒子堆積体の製造方法
JP4742429B2 (ja) ガラス微粒子堆積体の製造方法
JP3953820B2 (ja) 光ファイバ多孔質母材の製造方法
JPH09301719A (ja) ガラス微粒子合成用焦点型複合バーナ
JP2003206154A (ja) 光ファイバ多孔質母材製造用バーナ装置およびこれを用いた光ファイバ多孔質母材の製造方法
JP4097982B2 (ja) 光ファイバ用多孔質母材の製造方法
JP5485003B2 (ja) 光ファイバ母材の製造方法
AU646490B2 (en) Method for producing glass article
JPH0324417B2 (ja)
JP3176949B2 (ja) シリカ多孔質母材の製造方法
JPH09118537A (ja) 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法
JP2005247636A (ja) 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法及びガラス母材
JP5168772B2 (ja) ガラス微粒子堆積体の製造方法
JPH09188522A (ja) ガラス微粒子合成用トーチ
JP2004307290A (ja) バーナ及びガラス母材の製造方法
JPH09175827A (ja) 多孔質ガラス母材合成用バーナ

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040127

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040316

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040329

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110416

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120416

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416

Year of fee payment: 10

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term