JPH0912488A - ジフルオロメタンの合成 - Google Patents
ジフルオロメタンの合成Info
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- JPH0912488A JPH0912488A JP8167734A JP16773496A JPH0912488A JP H0912488 A JPH0912488 A JP H0912488A JP 8167734 A JP8167734 A JP 8167734A JP 16773496 A JP16773496 A JP 16773496A JP H0912488 A JPH0912488 A JP H0912488A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/202—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
- C07C17/206—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
- C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩化メチレンの接触気相フッ素化により、高
い空時収率でジフルオロメタンを製造すること。 【解決手段】 塩化メチレン１００モル当り０．１〜５
モルの酸素の存在下、３３０〜４５０℃の温度範囲で、
バルク型または担持型クロム触媒を用いて反応を行わせ
ることを特徴とする、無水フッ素化水素酸を使用する塩
化メチレンの気相接触フッ素化によるジフルオロメタン
の製造法。
い空時収率でジフルオロメタンを製造すること。 【解決手段】 塩化メチレン１００モル当り０．１〜５
モルの酸素の存在下、３３０〜４５０℃の温度範囲で、
バルク型または担持型クロム触媒を用いて反応を行わせ
ることを特徴とする、無水フッ素化水素酸を使用する塩
化メチレンの気相接触フッ素化によるジフルオロメタン
の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフルオロ炭化水素の
分野に関し、さらに詳しくは塩化メチレンのフッ素化に
よるジフルオロメタン（Ｆ３２）の製造に関する。
分野に関し、さらに詳しくは塩化メチレンのフッ素化に
よるジフルオロメタン（Ｆ３２）の製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｆ３２の名称で知られているジフルオロ
メタンは、オゾン層をおかす恐れがない。したがって、
ジフルオロメタンは、ＣＦＣ（クロロフルオロ炭化水
素）類の代替物として特に有用である。１，１，１−ト
リフルオロエタン（Ｆ１４３ａ）、１，１，１，２−テ
トラフルオロエタン（Ｆ１３４ａ）またはペンタフルオ
ロエタン（Ｆ１２５）のような他のヒドロフルオロアル
カン類との混合物として、冷凍、空調およびその他の用
途において、特にＦ２２（クロロジフルオロメタン）お
よびＦ５０２（Ｆ２２とクロロペンタフルオロエタンの
共沸混合物）の代替物としての用途が意図されている。
メタンは、オゾン層をおかす恐れがない。したがって、
ジフルオロメタンは、ＣＦＣ（クロロフルオロ炭化水
素）類の代替物として特に有用である。１，１，１−ト
リフルオロエタン（Ｆ１４３ａ）、１，１，１，２−テ
トラフルオロエタン（Ｆ１３４ａ）またはペンタフルオ
ロエタン（Ｆ１２５）のような他のヒドロフルオロアル
カン類との混合物として、冷凍、空調およびその他の用
途において、特にＦ２２（クロロジフルオロメタン）お
よびＦ５０２（Ｆ２２とクロロペンタフルオロエタンの
共沸混合物）の代替物としての用途が意図されている。
【０００３】Ｆ３２の合成については種々の製造法が公
知である。Ｆ１２（ジクロロジフルオロメタン）または
Ｆ２２の水素化分解（日本特許第６０−０１７３１号お
よび欧州特許第５０８ ６６０号）は、一般的に選択性
があまりよくなく、かつ副産物として価値のないメタン
が生成されるという欠点がある。最近、ビス（フルオロ
メチル）エーテルのフッ素化によりＦ３２を製造するこ
とが提案されている（欧州特許第５１８ ５０６号）。
知である。Ｆ１２（ジクロロジフルオロメタン）または
Ｆ２２の水素化分解（日本特許第６０−０１７３１号お
よび欧州特許第５０８ ６６０号）は、一般的に選択性
があまりよくなく、かつ副産物として価値のないメタン
が生成されるという欠点がある。最近、ビス（フルオロ
メチル）エーテルのフッ素化によりＦ３２を製造するこ
とが提案されている（欧州特許第５１８ ５０６号）。
【０００４】無水ＨＦを使用して塩化メチレン（Ｆ３
０）をフッ素化することによりＦ３２を製造することも
可能である。多くの特許がこの反応に関して、Ｃｒ2 Ｏ
3 、ＣｒＦ3 、ＡｌＦ3 、Ｃｒ／炭素、Ｎｉ／ＡｌＦ3
などの触媒の使用を要件の一つとして挙げている。
０）をフッ素化することによりＦ３２を製造することも
可能である。多くの特許がこの反応に関して、Ｃｒ2 Ｏ
3 、ＣｒＦ3 、ＡｌＦ3 、Ｃｒ／炭素、Ｎｉ／ＡｌＦ3
などの触媒の使用を要件の一つとして挙げている。
【０００５】この反応の難しさは触媒の安定性にあり、
触媒が急速に炭化するか、あるいは結晶化する傾向があ
ることである。この問題は、触媒の安定性を良好に保ち
ながら高い空時収率と良好な選択性を達成しようとする
場合に、非常に厄介なものとなる。
触媒が急速に炭化するか、あるいは結晶化する傾向があ
ることである。この問題は、触媒の安定性を良好に保ち
ながら高い空時収率と良好な選択性を達成しようとする
場合に、非常に厄介なものとなる。
【０００６】この触媒の失活を抑えるために、アルミナ
および酸化クロムの機械的な混合物のような特殊な触媒
を採用することが提案されている（英国特許第８２１
２１１号）。この特許は塩化メチレンのフッ素化を例示
しているが、この触媒で得られるＦ３２の空時収率は低
く（＜２００ｇ／ｈ／ｌ）、またその試験の累計反応時
間は５時間にも満たない。
および酸化クロムの機械的な混合物のような特殊な触媒
を採用することが提案されている（英国特許第８２１
２１１号）。この特許は塩化メチレンのフッ素化を例示
しているが、この触媒で得られるＦ３２の空時収率は低
く（＜２００ｇ／ｈ／ｌ）、またその試験の累計反応時
間は５時間にも満たない。
【０００７】より一般的には、触媒の寿命を長くするた
めに、しばしばフッ素化反応中に酸素または空気を連続
的に吹き込むことが考えられている。このようなことか
ら、日本特許第５１−８２２０６号には、０．００１〜
１％の酸素を使用して、主として酸化クロムとその他の
酸化金属を任意に含む触媒の活性を維持することが記載
されている。１％を超す酸素を使用した場合、二次反応
が起きることが示されており、０．０５〜０．１％の酸
素の使用が好ましいと推奨されている。この特許におい
てはフッ素化反応は１００〜５００℃の範囲、好ましく
は２５０〜３５０℃の範囲で行われる。さらにこの特許
では、反応を２００℃で開始して、酸素の導入により触
媒活性が維持されることも記載されている。ただしこの
特許は、その反応としてＣＣｌ4 、ＣＨＣｌ3 、ＣＨ2
Ｃｌ2 、ＣＣｌ3 Ｆ、Ｃ2 Ｃｌ6、Ｃ2 Ｃｌ4 とＣ2 Ｈ
3 Ｃｌ3 のフッ素化について述べているが、実施例はペ
ルハロゲン化飽和化合物（ＣＣｌ4 およびＣ2 Ｃｌ3 Ｆ
3 ）のフッ素化に関するものだけである。ペルハロゲン
化分子の反応性は水素化分子の反応性とは大きく異なる
ものであることは周知のことである。
めに、しばしばフッ素化反応中に酸素または空気を連続
的に吹き込むことが考えられている。このようなことか
ら、日本特許第５１−８２２０６号には、０．００１〜
１％の酸素を使用して、主として酸化クロムとその他の
酸化金属を任意に含む触媒の活性を維持することが記載
されている。１％を超す酸素を使用した場合、二次反応
が起きることが示されており、０．０５〜０．１％の酸
素の使用が好ましいと推奨されている。この特許におい
てはフッ素化反応は１００〜５００℃の範囲、好ましく
は２５０〜３５０℃の範囲で行われる。さらにこの特許
では、反応を２００℃で開始して、酸素の導入により触
媒活性が維持されることも記載されている。ただしこの
特許は、その反応としてＣＣｌ4 、ＣＨＣｌ3 、ＣＨ2
Ｃｌ2 、ＣＣｌ3 Ｆ、Ｃ2 Ｃｌ6、Ｃ2 Ｃｌ4 とＣ2 Ｈ
3 Ｃｌ3 のフッ素化について述べているが、実施例はペ
ルハロゲン化飽和化合物（ＣＣｌ4 およびＣ2 Ｃｌ3 Ｆ
3 ）のフッ素化に関するものだけである。ペルハロゲン
化分子の反応性は水素化分子の反応性とは大きく異なる
ものであることは周知のことである。
【０００８】Ｆ１３３ａ（１−クロロ−２，２，２−ト
リフルオエタン）のような水素化分子は脱離反応（ＨＣ
ｌまたはＨＦの排除）および塩素化反応に敏感であり、
これらの反応により無価値の副産物が生成されることに
なる。フランス特許第２ ４３３ ５００号が示すよう
に、この反応温度（通常ペルハロゲン化分子のフッ素化
処理に採用されている温度よりも高温）での酸素の導入
は選択性の低下をもたらすことになる。
リフルオエタン）のような水素化分子は脱離反応（ＨＣ
ｌまたはＨＦの排除）および塩素化反応に敏感であり、
これらの反応により無価値の副産物が生成されることに
なる。フランス特許第２ ４３３ ５００号が示すよう
に、この反応温度（通常ペルハロゲン化分子のフッ素化
処理に採用されている温度よりも高温）での酸素の導入
は選択性の低下をもたらすことになる。
【０００９】フッ素化触媒として周知の酸化クロムは、
ＨＣｌの酸化のための良好な触媒でもある（米国特許第
４ ８０３ ０６５号および米国特許第４ ８２２ ５
８９号）。フッ素化反応中に導入される酸素は生成され
たＨＣｌと反応して、ディーコン反応により塩素を生ず
る。この塩素により、反応混合物中に存在する水素化さ
れた物質が容易に塩素化される。酸素の存在下でのＦ１
３３ａのフッ素化の場合、主としてＦ１２０類（Ｃ2 Ｈ
Ｃｌn Ｆ5-n ）の物質が生成されることになる。塩素の
生成以外に、このディーコン反応は水も生成し、これは
特にフッ素化反応工程では腐食の問題を生ずるので望ま
しくないものである。
ＨＣｌの酸化のための良好な触媒でもある（米国特許第
４ ８０３ ０６５号および米国特許第４ ８２２ ５
８９号）。フッ素化反応中に導入される酸素は生成され
たＨＣｌと反応して、ディーコン反応により塩素を生ず
る。この塩素により、反応混合物中に存在する水素化さ
れた物質が容易に塩素化される。酸素の存在下でのＦ１
３３ａのフッ素化の場合、主としてＦ１２０類（Ｃ2 Ｈ
Ｃｌn Ｆ5-n ）の物質が生成されることになる。塩素の
生成以外に、このディーコン反応は水も生成し、これは
特にフッ素化反応工程では腐食の問題を生ずるので望ま
しくないものである。
【００１０】この欠点を克服するために、ディーコン反
応を制限することができるある種のクロムをベースとし
た混合触媒の使用が提案されている。この点で、英国特
許第５４６ ８８３号はバルク型触媒の場合に、ニッケ
ルのようなある種の金属の添加によってＨＣｌの酸化が
部分的に抑制されることを示している。同様の現象はＮ
ｉ−Ｃｒ／ＡｌＦ3 混合触媒（欧州特許第４８６ ３３
３号および国際公開第９３／２５５０７号）でも観察さ
れている。
応を制限することができるある種のクロムをベースとし
た混合触媒の使用が提案されている。この点で、英国特
許第５４６ ８８３号はバルク型触媒の場合に、ニッケ
ルのようなある種の金属の添加によってＨＣｌの酸化が
部分的に抑制されることを示している。同様の現象はＮ
ｉ−Ｃｒ／ＡｌＦ3 混合触媒（欧州特許第４８６ ３３
３号および国際公開第９３／２５５０７号）でも観察さ
れている。
【００１１】同様の観点から、欧州特許第３２８ １２
７号はクロムを含まない触媒上でＦ１３３ａからＦ１３
４ａへのフッ素化反応を行うことを提示している。ここ
で推奨されている固体は、コバルト、マンガン、ニッケ
ル、パラジウム、銀、ルテニウムおよびアルミニウムか
ら選ばれる少なくとも一種類の金属を含むものである。
７号はクロムを含まない触媒上でＦ１３３ａからＦ１３
４ａへのフッ素化反応を行うことを提示している。ここ
で推奨されている固体は、コバルト、マンガン、ニッケ
ル、パラジウム、銀、ルテニウムおよびアルミニウムか
ら選ばれる少なくとも一種類の金属を含むものである。
【００１２】最近、酸素の存在下での塩化メチレンのフ
ッ素化反応の場合にクロム触媒は低い選択性しか示さな
い（Ｆ２２およびハロゲン化エタン誘導体が生成され
る）として、日本特許第５−３３９１７９号もまたクロ
ムを含まない触媒群の使用を記載している。なおこれら
の触媒は専らＦ３２合成用のものである。ＣｏＣｌ2 ／
ＡｌＦ3 またはＮｉＣｌ2 ／ＡｌＦ3 のようなこれらの
触媒は高度に選択的であり、それらの安定性は希土類
（Ｌａ、Ｃｅ）またはアルカリ土類元素（Ｍｇ、Ｃａ、
Ｓｒ）から選ばれる添加物質によって向上する。酸素の
存在下で得られる寿命は相当長い（１５０日）ものであ
るが、Ｆ３２の空時収率は非常に低く（＜１０ｇ／ｈ／
ｌ）、Ｆ３２の産業的生産に対応できるものではない。
ッ素化反応の場合にクロム触媒は低い選択性しか示さな
い（Ｆ２２およびハロゲン化エタン誘導体が生成され
る）として、日本特許第５−３３９１７９号もまたクロ
ムを含まない触媒群の使用を記載している。なおこれら
の触媒は専らＦ３２合成用のものである。ＣｏＣｌ2 ／
ＡｌＦ3 またはＮｉＣｌ2 ／ＡｌＦ3 のようなこれらの
触媒は高度に選択的であり、それらの安定性は希土類
（Ｌａ、Ｃｅ）またはアルカリ土類元素（Ｍｇ、Ｃａ、
Ｓｒ）から選ばれる添加物質によって向上する。酸素の
存在下で得られる寿命は相当長い（１５０日）ものであ
るが、Ｆ３２の空時収率は非常に低く（＜１０ｇ／ｈ／
ｌ）、Ｆ３２の産業的生産に対応できるものではない。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題および課題を解決するた
めの手段】Ｆ３２の空時収率を上げることを狙いとし
た、より短い接触時間での塩化メチレンのフッ素化の試
みにおいて、上述の特許から当然予想されることとは逆
に、意外にもＮｉ／ＡｌＦ3 またはＮｉ−Ｃｒ／ＡｌＦ
3 のような通常のフッ素化触媒は、たとえ酸素の存在下
であっても安定でないことが判明した。
めの手段】Ｆ３２の空時収率を上げることを狙いとし
た、より短い接触時間での塩化メチレンのフッ素化の試
みにおいて、上述の特許から当然予想されることとは逆
に、意外にもＮｉ／ＡｌＦ3 またはＮｉ−Ｃｒ／ＡｌＦ
3 のような通常のフッ素化触媒は、たとえ酸素の存在下
であっても安定でないことが判明した。
【００１４】他方、純粋なクロムをベースとした（他の
酸化金属を添加しない）触媒が、酸素の存在下で選択性
を大きく損なうことなく、すぐれた安定性で、塩化メチ
レンの気相フッ素化によりＦ３２を製造することができ
る、ある温度範囲のあることが判明した。
酸化金属を添加しない）触媒が、酸素の存在下で選択性
を大きく損なうことなく、すぐれた安定性で、塩化メチ
レンの気相フッ素化によりＦ３２を製造することができ
る、ある温度範囲のあることが判明した。
【００１５】実際、説明不能とはいえ、大量の酸素の存
在下（３モル％）、酸化クロム触媒上で２５０〜４５０
℃の範囲で塩化メチレンのフッ素化反応を行った場合
に、ディーコン反応が実際上存在しないことを最初に発
見したときは意外であった。塩素化反応で生成された副
産物もその量は極めて少なかった。さらに、ディーコン
反応が存在しないことにより、リアクター中での水の生
成を少なくすることができ、これによって腐食現象も抑
制されることになる。したがって塩化メチレンのフッ素
化は、Ｆ１３３ａ、Ｃ2 Ｃｌ4 、Ｆ１２３またはＦ１２
４などの場合のフッ素化反応とは異なり、非常に特殊な
反応である。
在下（３モル％）、酸化クロム触媒上で２５０〜４５０
℃の範囲で塩化メチレンのフッ素化反応を行った場合
に、ディーコン反応が実際上存在しないことを最初に発
見したときは意外であった。塩素化反応で生成された副
産物もその量は極めて少なかった。さらに、ディーコン
反応が存在しないことにより、リアクター中での水の生
成を少なくすることができ、これによって腐食現象も抑
制されることになる。したがって塩化メチレンのフッ素
化は、Ｆ１３３ａ、Ｃ2 Ｃｌ4 、Ｆ１２３またはＦ１２
４などの場合のフッ素化反応とは異なり、非常に特殊な
反応である。
【００１６】したがって、先行技術から予想されるとこ
ろとは矛盾するが、反応選択性を減ずることなく、酸素
の存在下でこのフッ素化反応を行うために、クロムをベ
ースとした触媒を使用することが可能である。したがっ
て、選択性を上げるために特別の添加物質を使用する必
要がない。即ち、混合触媒用の添加物質を排除でき、そ
の結果触媒の製造が簡略化でき、それによってコストも
削減されることになる。
ろとは矛盾するが、反応選択性を減ずることなく、酸素
の存在下でこのフッ素化反応を行うために、クロムをベ
ースとした触媒を使用することが可能である。したがっ
て、選択性を上げるために特別の添加物質を使用する必
要がない。即ち、混合触媒用の添加物質を排除でき、そ
の結果触媒の製造が簡略化でき、それによってコストも
削減されることになる。
【００１７】クロムベースの（バルク型または担持型）
触媒を使用することによって、さらに極めて高いＦ３２
空時収率を達成することもできる。加えて、試験したフ
ッ素化触媒の中では活性相にクロムだけを含む（バルク
型または担持型）触媒のみが塩化メチレンのフッ素化温
度において炭化物の形成を抑さえることができるのも意
外であった。
触媒を使用することによって、さらに極めて高いＦ３２
空時収率を達成することもできる。加えて、試験したフ
ッ素化触媒の中では活性相にクロムだけを含む（バルク
型または担持型）触媒のみが塩化メチレンのフッ素化温
度において炭化物の形成を抑さえることができるのも意
外であった。
【００１８】また、触媒活性は非常に狭い温度範囲にお
いてのみ効果が維持されることも発見された。３３０℃
未満では酸素の導入により炭化物の形成を遅らせること
はできず、触媒は徐々に失活する。一方、４００℃を超
える温度では固体の結晶化を招き、活性の減少につなが
ることになる。
いてのみ効果が維持されることも発見された。３３０℃
未満では酸素の導入により炭化物の形成を遅らせること
はできず、触媒は徐々に失活する。一方、４００℃を超
える温度では固体の結晶化を招き、活性の減少につなが
ることになる。
【００１９】要約すれば、高い空時収率でＦ３２を安定
した形で選択的に調製するためには、酸素の導入、バル
ク型または担持型クロムベース触媒、ならびに制限した
温度範囲を組み合わせることが必要である。
した形で選択的に調製するためには、酸素の導入、バル
ク型または担持型クロムベース触媒、ならびに制限した
温度範囲を組み合わせることが必要である。
【００２０】したがって本発明の主題は、Ｆ３０ １０
０モル当り０．１〜５モルの酸素の存在下で、バルク型
または担持型クロム触媒を用い、かつ３３０〜４５０℃
の温度範囲で反応を行わせることを特徴とする、無水フ
ッ化水素酸を使用する塩化メチレンの気相接触フッ素化
によるＦ３２の製造にある。
０モル当り０．１〜５モルの酸素の存在下で、バルク型
または担持型クロム触媒を用い、かつ３３０〜４５０℃
の温度範囲で反応を行わせることを特徴とする、無水フ
ッ化水素酸を使用する塩化メチレンの気相接触フッ素化
によるＦ３２の製造にある。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明に基づくクロム触媒の調製
に使用する前駆物質は、好ましくは酸化クロム、水酸化
クロム、ハロゲン化クロム、酢酸クロムまたは硝酸クロ
ムである。固体触媒の場合は、部分的にフッ素化され、
大きな表面積を有するクロムベースの固体を選択するの
が好ましく、それらには熱安定性および強靱性を上げる
ためにアルミナまたはグラファイトのような不活性成分
を任意に含んでもよい。この触媒はまた、アルミナまた
は部分的にフッ素化された不活性担体にクロム誘導体を
堆積させることによっても得ることができる。その場
合、堆積クロムの質量は好ましくは２０％以下である。
に使用する前駆物質は、好ましくは酸化クロム、水酸化
クロム、ハロゲン化クロム、酢酸クロムまたは硝酸クロ
ムである。固体触媒の場合は、部分的にフッ素化され、
大きな表面積を有するクロムベースの固体を選択するの
が好ましく、それらには熱安定性および強靱性を上げる
ためにアルミナまたはグラファイトのような不活性成分
を任意に含んでもよい。この触媒はまた、アルミナまた
は部分的にフッ素化された不活性担体にクロム誘導体を
堆積させることによっても得ることができる。その場
合、堆積クロムの質量は好ましくは２０％以下である。
【００２２】酸素は純粋な状態、または窒素のような不
活性ガスで希釈した状態で導入される。Ｏ2 ／ＣＨ2 Ｃ
ｌ2 モル比は好ましくは０．５〜３％の範囲とされる。
活性ガスで希釈した状態で導入される。Ｏ2 ／ＣＨ2 Ｃ
ｌ2 モル比は好ましくは０．５〜３％の範囲とされる。
【００２３】ＨＦ／ＣＨ2 Ｃｌ2 モル比は広い範囲内で
変えることができる。通常は１．５〜１０の範囲、好ま
しくは２〜５の範囲である。
変えることができる。通常は１．５〜１０の範囲、好ま
しくは２〜５の範囲である。
【００２４】上に示したように、この反応は３３０℃〜
４５０℃の範囲の温度で行わねばならない。しかしなが
ら、結晶化による触媒の失活の危険をなくし、高い空時
収率を得るためには３５０〜４００℃の範囲の温度で反
応させるのが好ましい。
４５０℃の範囲の温度で行わねばならない。しかしなが
ら、結晶化による触媒の失活の危険をなくし、高い空時
収率を得るためには３５０〜４００℃の範囲の温度で反
応させるのが好ましい。
【００２５】触媒量に対する反応物の全流速（反応状態
での測定）の比率として規定される接触時間は広い範囲
で変えることができ、通常は０．０１〜１０秒の間であ
る。実用上は、０．０５〜５秒の間の接触時間とするの
が好ましい。
での測定）の比率として規定される接触時間は広い範囲
で変えることができ、通常は０．０１〜１０秒の間であ
る。実用上は、０．０５〜５秒の間の接触時間とするの
が好ましい。
【００２６】この反応は大気圧、またはより高い圧力下
で行うことができる。１〜２０の絶対バールの範囲の圧
力を選択するのが好ましい。
で行うことができる。１〜２０の絶対バールの範囲の圧
力を選択するのが好ましい。
【００２７】
【実施例】下記の実施例は本発明を説明するものである
が、発明を制限するものではない。
が、発明を制限するものではない。
【００２８】触媒の調製および賦活 バルク型触媒（Ａ） 比表面積２０９ｍ2 ／ｇおよび空孔容積（４ｎｍ＜ｒ＜
６３μｍ）０．１ｍｌを有するバルク状酸化クロムを、
無水ＨＦで活性化した後使用する。
６３μｍ）０．１ｍｌを有するバルク状酸化クロムを、
無水ＨＦで活性化した後使用する。
【００２９】この目的のために、先ず最初に酸化クロム
を２００℃で乾燥し、次にＮ2 ／ＨＦの混合物により２
００℃で処理する。初期の発熱がおさまった後、温度を
３８０℃に上げる。次にこの触媒を純粋な無水ＨＦ流中
で３８０℃に１８時間保つ。
を２００℃で乾燥し、次にＮ2 ／ＨＦの混合物により２
００℃で処理する。初期の発熱がおさまった後、温度を
３８０℃に上げる。次にこの触媒を純粋な無水ＨＦ流中
で３８０℃に１８時間保つ。
【００３０】活性化触媒（Ａ）は下記の物理化学的特性
を有する： フッ素含量：２７重量％ クロム含量：５３重量％ 半径４ｎｍ〜６３μｍの孔の容積：０．１３ｍｌ／ｇ ＢＥＴ表面積：１０１ｍ2 ／ｇ。
を有する： フッ素含量：２７重量％ クロム含量：５３重量％ 半径４ｎｍ〜６３μｍの孔の容積：０．１３ｍｌ／ｇ ＢＥＴ表面積：１０１ｍ2 ／ｇ。
【００３１】担持型触媒（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ） 回転式エバポレータの中に、あらかじめ窒素およびフッ
素化水素酸により約３００℃でフッ素化処理して部分的
にフッ素化されたアルミナ（全体で、８３質量％のフッ
化アルミニウムおよび１６％のアルミナを含む）２５０
ｍｌを入れる。このフッ素化された担体の含浸前の物理
化学的特性は下記の通りである： 形状：直径１〜２ｍｍのビーズ 見掛け密度：０．５７ｇ／ｍｌ ＢＥＴ表面積：６７ｍ2 ／ｇ 孔容積：０．７２ｍｌ／ｇ（半径４ｎｍから６３μｍの
範囲の孔）。
素化水素酸により約３００℃でフッ素化処理して部分的
にフッ素化されたアルミナ（全体で、８３質量％のフッ
化アルミニウムおよび１６％のアルミナを含む）２５０
ｍｌを入れる。このフッ素化された担体の含浸前の物理
化学的特性は下記の通りである： 形状：直径１〜２ｍｍのビーズ 見掛け密度：０．５７ｇ／ｍｌ ＢＥＴ表面積：６７ｍ2 ／ｇ 孔容積：０．７２ｍｌ／ｇ（半径４ｎｍから６３μｍの
範囲の孔）。
【００３２】望ましい金属前駆物質を含む水溶液（溶液
１）を、表１に示す量で使用して別途調製する。ＣｒＯ
3 から調製する触媒（Ｂ）および（Ｄ）の場合には、ク
ロムが酸化状態III になるのを抑えるために、メタノー
ル系媒体中で含浸を行う。これを行うために、クロムお
よびメタノール溶液（溶液２）を含む水溶液を攪拌しな
がら、担体の上に同時に添加する。
１）を、表１に示す量で使用して別途調製する。ＣｒＯ
3 から調製する触媒（Ｂ）および（Ｄ）の場合には、ク
ロムが酸化状態III になるのを抑えるために、メタノー
ル系媒体中で含浸を行う。これを行うために、クロムお
よびメタノール溶液（溶液２）を含む水溶液を攪拌しな
がら、担体の上に同時に添加する。
【００３３】
【表１】
【００３４】含浸は４５分間、大気温度および大気圧下
で、攪拌されている担体に対して行う。次にこの触媒を
窒素気流下、流動床中で約１１０℃で４時間乾燥する。
で、攪拌されている担体に対して行う。次にこの触媒を
窒素気流下、流動床中で約１１０℃で４時間乾燥する。
【００３５】次にこの触媒をインコネル６００製のリア
クターに充填し、欧州特許第０ ４８６ ３３３号に記
述されている手順にしたがって、窒素／ＨＦ混合物の固
定床中で賦活する。下記の表ＩＩはこのようにして賦活
された触媒の化学的組成を示す。
クターに充填し、欧州特許第０ ４８６ ３３３号に記
述されている手順にしたがって、窒素／ＨＦ混合物の固
定床中で賦活する。下記の表ＩＩはこのようにして賦活
された触媒の化学的組成を示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】塩化メチレンのフッ素化 実施例１ あらかじめフッ素化した酸化クロム（触媒Ａ）４ｍｌ
を、直径１ｃｍで容積４０ｍｌのインコネル６００製の
チューブ式リアクターに充填する。第一段階では、ＨＦ
および空気をそれぞれ０．６８モル／ｈおよび０．０３
モル／ｈの流速で導入する。次に、温度１５０℃に設定
された予熱器中で気化した塩化メチレンを気体状で、リ
アクター中に０．２３モル／ｈの流速で導入する。反応
は大気圧下で行う。リアクター温度は３５０℃に維持
し、この条件下における接触時間は０．３秒である。
を、直径１ｃｍで容積４０ｍｌのインコネル６００製の
チューブ式リアクターに充填する。第一段階では、ＨＦ
および空気をそれぞれ０．６８モル／ｈおよび０．０３
モル／ｈの流速で導入する。次に、温度１５０℃に設定
された予熱器中で気化した塩化メチレンを気体状で、リ
アクター中に０．２３モル／ｈの流速で導入する。反応
は大気圧下で行う。リアクター温度は３５０℃に維持
し、この条件下における接触時間は０．３秒である。
【００３８】次に反応生成物を洗浄、乾燥し、ガスクロ
マトグラフィーにより分析する。これらの結果をまとめ
て下記の表III に示す。
マトグラフィーにより分析する。これらの結果をまとめ
て下記の表III に示す。
【００３９】
【表３】
【００４０】Ｏ2 ／Ｎ2 比の測定により、さらに空気の
形で導入された酸素が消費されたかどうかを検証するこ
ともできる。これらの反応条件下では、導入された酸素
の５％がＣＯに変換され、ＣＯ2 の生成はごく少量であ
る。その他副産物（Ｆ２３およびＦ４０）はそれぞれ７
００ｐｐｍ以下の少量である。リアクター出口における
Ｏ2 ／Ｎ2 モル比は０．２６であり、これはディーコン
反応がないことを示している。
形で導入された酸素が消費されたかどうかを検証するこ
ともできる。これらの反応条件下では、導入された酸素
の５％がＣＯに変換され、ＣＯ2 の生成はごく少量であ
る。その他副産物（Ｆ２３およびＦ４０）はそれぞれ７
００ｐｐｍ以下の少量である。リアクター出口における
Ｏ2 ／Ｎ2 モル比は０．２６であり、これはディーコン
反応がないことを示している。
【００４１】これらの反応条件により、非常に高いＦ３
２の空時収率（１３５０ｇ／ｈ／ｌ）およびＦ３１＋Ｆ
３２の選択性が９９．７％以上という完全に安定した活
性を維持できることが判明した。
２の空時収率（１３５０ｇ／ｈ／ｌ）およびＦ３１＋Ｆ
３２の選択性が９９．７％以上という完全に安定した活
性を維持できることが判明した。
【００４２】比較例１ 反応を実施例１と同様の条件下、ただし温度３００℃で
行った。反応物の流速は、接触時間を０．３秒に保つよ
うに調節した。これらの結果をまとめて次の表に示す。
行った。反応物の流速は、接触時間を０．３秒に保つよ
うに調節した。これらの結果をまとめて次の表に示す。
【００４３】
【表４】
【００４４】導入された酸素は実際上反応には関与せ
ず、生成されたＣＯ／ＣＯ2 の量は検出閾値（＜０．０
５％）以下の少量であった。
ず、生成されたＣＯ／ＣＯ2 の量は検出閾値（＜０．０
５％）以下の少量であった。
【００４５】この触媒は３２１時間運転後に炭化により
失活し、２．５％（質量）の炭素を含んでいた。
失活し、２．５％（質量）の炭素を含んでいた。
【００４６】この触媒では３００℃の温度では安定した
活性を維持することはできないことが判明した。この温
度ではＦ３２の高い空時収率（１２００ｇ／ｈ／ｌ）を
得ることができるが、炭化物またはその前駆物質の形成
を継続的に抑制するには不充分である。
活性を維持することはできないことが判明した。この温
度ではＦ３２の高い空時収率（１２００ｇ／ｈ／ｌ）を
得ることができるが、炭化物またはその前駆物質の形成
を継続的に抑制するには不充分である。
【００４７】実施例２ 担持型触媒Ｂ（Ｃｒ／ＡｌＦ3 ）上で、実施例１と同じ
条件で塩化メチレンのフッ素化反応を行った。得られた
結果を表Ｖにまとめて示す。
条件で塩化メチレンのフッ素化反応を行った。得られた
結果を表Ｖにまとめて示す。
【００４８】
【表５】
【００４９】導入された酸素は反応にほとんど関与せ
ず、生成されたＣＯ／ＣＯ2 の量は検出閾値（＜０．０
５％）以下の少量であった。１００ｐｐｍのビス（フル
オロメチル）エーテルの生成が観察された。
ず、生成されたＣＯ／ＣＯ2 の量は検出閾値（＜０．０
５％）以下の少量であった。１００ｐｐｍのビス（フル
オロメチル）エーテルの生成が観察された。
【００５０】比較例２および３ 本発明に基づくものではない担持型触媒ＣおよびＤ（Ｎ
ｉ／ＡｌＦ3 およびＮｉ−Ｃｒ／ＡｌＦ3 ）上で、実施
例１と同じ条件で反応を行った。
ｉ／ＡｌＦ3 およびＮｉ−Ｃｒ／ＡｌＦ3 ）上で、実施
例１と同じ条件で反応を行った。
【００５１】塩化メチレンの転換率、およびＦ３２とＦ
３１に対する選択性を次の表VIに示す。
３１に対する選択性を次の表VIに示す。
【００５２】
【表６】
【００５３】フッ素化触媒ＣおよびＤは、クロム単体を
ベースとする触媒ＡおよびＢで得られた寿命を達成する
ことはできず、連続的な空気の導入および高温にも関わ
らず炭化により失活した。
ベースとする触媒ＡおよびＢで得られた寿命を達成する
ことはできず、連続的な空気の導入および高温にも関わ
らず炭化により失活した。
【００５４】これらの触媒では５００ｐｐｍ以下のＣＯ
／ＣＯ2 が生成され、ビス（フルオロメチル）エーテル
が生成された（＜１０ｐｐｍ）。導入された酸素は反応
していない。
／ＣＯ2 が生成され、ビス（フルオロメチル）エーテル
が生成された（＜１０ｐｐｍ）。導入された酸素は反応
していない。
【００５５】これらの比較例２および３は、塩化メチレ
ンのフッ素化温度における炭化物形成を抑制または阻止
するためにはクロム単体を含む触媒（触媒ＡおよびＢ）
を用いることが必要であることを示している。
ンのフッ素化温度における炭化物形成を抑制または阻止
するためにはクロム単体を含む触媒（触媒ＡおよびＢ）
を用いることが必要であることを示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エリツク・ラクロワ フランス国、69480・アンベリユ・ダゼル グ、ル・ブール（番地なし) (72)発明者 アンドレ・ランツ フランス国、69390・ベルネゾン、ドメ ン・ドウ・ラ・エトレ（番地なし)
Claims (7)
- 【請求項１】 塩化メチレン１００モル当り０．１〜５
モルの酸素の存在下、３３０〜４５０℃の温度範囲で、
バルク型または担持型クロム触媒を用いて反応を行わせ
ることを特徴とする、無水フッ化水素酸を使用する塩化
メチレンの気相接触フッ素化によるジフルオロメタンの
製造法。 - 【請求項２】 Ｏ2 ／ＣＨ2 Ｃｌ2 モル比を０．５〜３
％の範囲とする、請求項１に記載の製造法。 - 【請求項３】 反応を３５０〜４００℃の温度範囲で行
わせる、請求項１または２に記載の製造法。 - 【請求項４】 バルク型状クロム触媒を使用する、請求
項１〜３のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項５】 担持型クロム触媒を使用し、そのクロム
の含有量が好ましくは２０重量％未満である、請求項１
〜３のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項６】 接触時間を０．０１〜１０秒間の範囲、
好ましくは０．０５〜５秒間の範囲とする、請求項１〜
５のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項７】 反応を１〜２０絶対バールの圧力下で行
わせる、請求項１〜６のいずれかに記載の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9507705 | 1995-06-27 | ||
| FR9507705A FR2736048B1 (fr) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | Synthese du difluoromethane |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0912488A true JPH0912488A (ja) | 1997-01-14 |
| JP3758749B2 JP3758749B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=9480425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16773496A Expired - Fee Related JP3758749B2 (ja) | 1995-06-27 | 1996-06-27 | ジフルオロメタンの合成 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5900514A (ja) |
| EP (1) | EP0751107B1 (ja) |
| JP (1) | JP3758749B2 (ja) |
| KR (1) | KR100346286B1 (ja) |
| CN (1) | CN1066429C (ja) |
| AU (1) | AU714842B2 (ja) |
| CA (1) | CA2179536C (ja) |
| DE (1) | DE69624759T2 (ja) |
| ES (1) | ES2183920T3 (ja) |
| FR (1) | FR2736048B1 (ja) |
| TW (1) | TW328071B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997028793A1 (fr) * | 1996-02-07 | 1997-08-14 | Lead Chemical Co., Ltd. | Preparation a usage externe comprenant du tranilast et processus de production de cette preparation |
| JP2016130222A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素オレフィンの製造方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2311547A1 (en) * | 1997-11-21 | 1999-06-03 | John Stephen Bass | Method of producing hydrofluorocarbons |
| WO2004007410A1 (en) * | 2002-07-10 | 2004-01-22 | Srf Limited | A process for the production of difluoromethane |
| DE60231010D1 (de) * | 2002-07-10 | 2009-03-12 | Srf Ltd | Verfahren zur herstellung von difluormethan |
| KR100567208B1 (ko) * | 2004-06-03 | 2006-04-07 | 장세창 | 타수계가 구비된 관절형 골프티 |
| ES2770405T3 (es) | 2010-10-22 | 2020-07-01 | Arkema France | Proceso para la fabricación de 2-cloro-3,3,3-trifluropropeno por fluoración en fase gaseosa de pentacloropropano |
| CN102659835B (zh) * | 2012-02-26 | 2016-02-17 | 河北工业大学 | 一种氟代磷酸酯材料的制备方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2745886A (en) * | 1955-01-31 | 1956-05-15 | Dow Chemical Co | Process for fluorinating aliphatic halohydrocarbons with a chromium fluoride catalyst and process for preparing the catalyst |
| US3644545A (en) * | 1968-06-20 | 1972-02-22 | Allied Chem | Improved vapor phase fluorination procedure in the presence of catalyst and alkali metal fluoride |
| JPS5182206A (en) * | 1975-01-16 | 1976-07-19 | Asahi Glass Co Ltd | Futsusokashokubaino katsuseiijihoho |
| CA1310335C (en) * | 1988-02-12 | 1992-11-17 | Leo E. Manzer | Gas-phase fluorination process |
| US5051537A (en) * | 1988-02-12 | 1991-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Gas-phase fluorination |
| FR2684567B1 (fr) * | 1991-12-09 | 1994-11-04 | Atochem | Catalyseurs massiques a base d'oxydes de chrome et de nickel, et leur application a la fluoration d'hydrocarbures halogenes. |
| FR2686875B1 (fr) * | 1992-01-30 | 1994-04-08 | Atochem Elf Sa | Procede de fabrication du 1,1,1,2-tetrafluoroethane. |
| ES2111207T3 (es) * | 1993-06-18 | 1998-03-01 | Showa Denko Kk | Catalizador de fluoracion y procedimiento de fluoracion. |
| US5763708A (en) * | 1995-09-20 | 1998-06-09 | Allied Signal Inc. | Process for the production of difluoromethane |
-
1995
- 1995-06-27 FR FR9507705A patent/FR2736048B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-05-29 EP EP96401150A patent/EP0751107B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-29 DE DE69624759T patent/DE69624759T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-29 ES ES96401150T patent/ES2183920T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-13 TW TW085107120A patent/TW328071B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-06-14 US US08/663,977 patent/US5900514A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-19 CA CA002179536A patent/CA2179536C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-26 KR KR1019960024202A patent/KR100346286B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-06-26 CN CN96108650A patent/CN1066429C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-27 AU AU56290/96A patent/AU714842B2/en not_active Ceased
- 1996-06-27 JP JP16773496A patent/JP3758749B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| WO1997028793A1 (fr) * | 1996-02-07 | 1997-08-14 | Lead Chemical Co., Ltd. | Preparation a usage externe comprenant du tranilast et processus de production de cette preparation |
| JP2016130222A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素オレフィンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0751107B1 (fr) | 2002-11-13 |
| DE69624759T2 (de) | 2003-07-03 |
| FR2736048A1 (fr) | 1997-01-03 |
| KR100346286B1 (ko) | 2002-11-30 |
| JP3758749B2 (ja) | 2006-03-22 |
| US5900514A (en) | 1999-05-04 |
| FR2736048B1 (fr) | 1997-08-01 |
| CN1150943A (zh) | 1997-06-04 |
| DE69624759D1 (de) | 2002-12-19 |
| CA2179536A1 (fr) | 1996-12-28 |
| CN1066429C (zh) | 2001-05-30 |
| TW328071B (en) | 1998-03-11 |
| AU5629096A (en) | 1997-01-09 |
| CA2179536C (fr) | 2008-06-03 |
| AU714842B2 (en) | 2000-01-13 |
| KR970001289A (ko) | 1997-01-24 |
| EP0751107A1 (fr) | 1997-01-02 |
| ES2183920T3 (es) | 2003-04-01 |
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