JPH08166507A - 液晶用カラーフィルターの製造方法及び液晶用カラーフィルター及び該カラーフィルターを具備する液晶パネル - Google Patents
液晶用カラーフィルターの製造方法及び液晶用カラーフィルター及び該カラーフィルターを具備する液晶パネルInfo
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- JPH08166507A JPH08166507A JP31170294A JP31170294A JPH08166507A JP H08166507 A JPH08166507 A JP H08166507A JP 31170294 A JP31170294 A JP 31170294A JP 31170294 A JP31170294 A JP 31170294A JP H08166507 A JPH08166507 A JP H08166507A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 インクの混色のない信頼性の高い液晶用カラ
ーフィルターを低コストで製造できる液晶用カラーフィ
ルターの製造方法及び該方法により得られる液晶用カラ
ーフィルター及び該カラーフィルターを具備する液晶パ
ネルを提供する。 【構成】 インクジェット記録によるインク吐出により
着色剤を配列させて液晶用カラーフィルターを製造する
際に前記カラーフィルターにあらかじめ形成されるブラ
ックマトリックス形成用レジストに対してインク撥水性
を付与して前記レジストを画素間でのインクの混色を防
止する隔壁として利用することを特徴とする液晶用カラ
ーフィルターの製造方法及び液晶用カラーフィルター及
び該カラーフィルターを具備した液晶パネル。
ーフィルターを低コストで製造できる液晶用カラーフィ
ルターの製造方法及び該方法により得られる液晶用カラ
ーフィルター及び該カラーフィルターを具備する液晶パ
ネルを提供する。 【構成】 インクジェット記録によるインク吐出により
着色剤を配列させて液晶用カラーフィルターを製造する
際に前記カラーフィルターにあらかじめ形成されるブラ
ックマトリックス形成用レジストに対してインク撥水性
を付与して前記レジストを画素間でのインクの混色を防
止する隔壁として利用することを特徴とする液晶用カラ
ーフィルターの製造方法及び液晶用カラーフィルター及
び該カラーフィルターを具備した液晶パネル。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラーテレビ、パーソナ
ルコンピュータ、等に使用されるカラー液晶ディスプレ
イのカラーフィルターの製造法に関し、特にインクジェ
ット記録技術を利用した液晶用カラーフィルターの製造
方法及びインクジェット記録技術を利用して製造された
液晶用カラーフィルター及び該カラーフィルターを具備
する液晶パネルに関するものである。
ルコンピュータ、等に使用されるカラー液晶ディスプレ
イのカラーフィルターの製造法に関し、特にインクジェ
ット記録技術を利用した液晶用カラーフィルターの製造
方法及びインクジェット記録技術を利用して製造された
液晶用カラーフィルター及び該カラーフィルターを具備
する液晶パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年パーソナルコンピュータの発達、特
に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶デ
ィスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増加
する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のために
はコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の高
いカラーフィルターのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶デ
ィスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増加
する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のために
はコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の高
いカラーフィルターのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
【０００３】従来からカラーフィルターの要求特性を満
足しつつ、上記の要求に応えるべく種々の方法が試みら
れているが、いまだすべての要求特性を満足する方法は
確立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
最も多く用いられている第１の方法が染色法である。染
色法は、まずガラス基板上に染色用の材料である水溶性
の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工
程により所望の形状にパターニングした後、得られたパ
ターンを染色浴に浸漬して、着色されたパターンを得
る。これを３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラー
フィルタ層を形成する。
足しつつ、上記の要求に応えるべく種々の方法が試みら
れているが、いまだすべての要求特性を満足する方法は
確立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
最も多く用いられている第１の方法が染色法である。染
色法は、まずガラス基板上に染色用の材料である水溶性
の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工
程により所望の形状にパターニングした後、得られたパ
ターンを染色浴に浸漬して、着色されたパターンを得
る。これを３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラー
フィルタ層を形成する。
【０００４】第２の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って変わりつつある。この方法はまず基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより単色のパターンを得る。さらに、この
工程を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィ
ルター層を形成する。
法に取って変わりつつある。この方法はまず基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより単色のパターンを得る。さらに、この
工程を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィ
ルター層を形成する。
【０００５】第３の方法としては電着法がある。この方
法はまず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹
脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を
電着するこの工程を３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂのカラー
フィルター層を形成し、最後に焼成するものである。
法はまず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹
脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を
電着するこの工程を３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂのカラー
フィルター層を形成し、最後に焼成するものである。
【０００６】第４の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
【０００７】これらの方法に共通している点は、Ｒ，
Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また工程が
多いほど歩留まりが低下するという問題を有している。
さらに電着法においては、形成可能なパターン形状が限
定されるため現状の技術ではＴＦＴ用には適用困難であ
る。
Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また工程が
多いほど歩留まりが低下するという問題を有している。
さらに電着法においては、形成可能なパターン形状が限
定されるため現状の技術ではＴＦＴ用には適用困難であ
る。
【０００８】また印刷法は、解像性が悪いためファイン
ピッチのパターン形成には不向きである。
ピッチのパターン形成には不向きである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、インクジェット記録装置を用いたカラーフィルター
の製造方法として、特開昭５９−７５２０５、特開昭６
３−２３５９０１、特開平１−２１７３２０等の提案が
あるが、いまだ不十分である。
く、インクジェット記録装置を用いたカラーフィルター
の製造方法として、特開昭５９−７５２０５、特開昭６
３−２３５９０１、特開平１−２１７３２０等の提案が
あるが、いまだ不十分である。
【００１０】本発明の目的は、従来法の有する耐熱性、
耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつインクジ
ェット適性をも満足し、さらに工程の短縮された安価な
カラーフィルターの製造方法及び該方法により製造され
た信頼性の高いカラーフィルターを提供するものであ
る。特にインクジェット記録装置を用いてインクの吐出
により着色剤の配列を行う際の混色を防止する信頼性の
高い液晶用カラーフィルターの製造方法を提供するもの
である。
耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつインクジ
ェット適性をも満足し、さらに工程の短縮された安価な
カラーフィルターの製造方法及び該方法により製造され
た信頼性の高いカラーフィルターを提供するものであ
る。特にインクジェット記録装置を用いてインクの吐出
により着色剤の配列を行う際の混色を防止する信頼性の
高い液晶用カラーフィルターの製造方法を提供するもの
である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記、目的は以下の手順
で達成できる。すなわち本発明は、液晶用カラーフィル
ターにあらかじめ形成させるブラックマトリックス形成
用レジストに対してインク撥水性を付与して、前記レジ
ストを画素間でのインクの混色を防止する隔壁として利
用することを特徴とした液晶用カラーフィルターの製造
方法である。また、該方法により製造された安価な液晶
用カラーフィルター及び該方法により製造されたカラー
フィルターを具備する液晶パネルである。
で達成できる。すなわち本発明は、液晶用カラーフィル
ターにあらかじめ形成させるブラックマトリックス形成
用レジストに対してインク撥水性を付与して、前記レジ
ストを画素間でのインクの混色を防止する隔壁として利
用することを特徴とした液晶用カラーフィルターの製造
方法である。また、該方法により製造された安価な液晶
用カラーフィルター及び該方法により製造されたカラー
フィルターを具備する液晶パネルである。
【００１２】以下図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。
る。
【００１３】図１は本発明における液晶用カラーフィル
ターの製造方法を示したものであり、本発明にかかる液
晶用カラーフィルターの構成の一例が示されている。
ターの製造方法を示したものであり、本発明にかかる液
晶用カラーフィルターの構成の一例が示されている。
【００１４】本発明においては、基板２として一般にガ
ラス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルターとし
ての透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであ
ればガラス基板に限定されるものではない。図１（ａ）
はガラス基板上にブラックマトリックス形成用の金属膜
１が形成された図を示したものである。
ラス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルターとし
ての透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであ
ればガラス基板に限定されるものではない。図１（ａ）
はガラス基板上にブラックマトリックス形成用の金属膜
１が形成された図を示したものである。
【００１５】まず、この基板上にブラックマトリックス
形成用レジストを塗布してプリベークする（図１
（ｂ））。このときのレジストに感光性シリコン化合物
等を添加してインク撥水性を高めておく。
形成用レジストを塗布してプリベークする（図１
（ｂ））。このときのレジストに感光性シリコン化合物
等を添加してインク撥水性を高めておく。
【００１６】次いでフォトマスク４を介して露光を行い
（図１（ｃ））現像処理、金属類のエッチングを行って
ブラックマトリックス５上にレジストパターン６が残っ
たものを形成する（図１（ｄ））。本発明に用いられる
レジストとしては、光照射部分が可溶化するポジ型のも
のが用いられるため感光性シリコン化合物としてもポジ
型を使用する。
（図１（ｃ））現像処理、金属類のエッチングを行って
ブラックマトリックス５上にレジストパターン６が残っ
たものを形成する（図１（ｄ））。本発明に用いられる
レジストとしては、光照射部分が可溶化するポジ型のも
のが用いられるため感光性シリコン化合物としてもポジ
型を使用する。
【００１７】また、インクの混色を完全に防止するため
には、レジスト自身の撥水性を高めるためでなく、レジ
スト層３自身の厚みを増加させて混色防止壁として使用
することが有効である。そのためレジスト層３の厚みと
しては１μｍ以上あった方が好ましい。レジスト形成法
としては、スピンコート、ロールコート、バーコート、
ディップコート等の塗布方法があるが特に限定されるも
のではない。
には、レジスト自身の撥水性を高めるためでなく、レジ
スト層３自身の厚みを増加させて混色防止壁として使用
することが有効である。そのためレジスト層３の厚みと
しては１μｍ以上あった方が好ましい。レジスト形成法
としては、スピンコート、ロールコート、バーコート、
ディップコート等の塗布方法があるが特に限定されるも
のではない。
【００１８】次いで、インクジェットヘッド７を用いて
Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を着色し、（図１（ｅ））必要に応じ
てインク乾燥を行う。着色に用いるインクとしては、染
料系、顔料系共に用いることが可能である。またインク
の定着性の向上を目的として、着色部分にあらかじめイ
ンク吸収性の樹脂層を設けておいてもよい。インク吸収
性の樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロ
ース誘導体、水溶性アクリル樹脂等が好適に用いられ着
色部位にマトリクス状にあるいは基板上に全面に形成す
ることができる。
Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を着色し、（図１（ｅ））必要に応じ
てインク乾燥を行う。着色に用いるインクとしては、染
料系、顔料系共に用いることが可能である。またインク
の定着性の向上を目的として、着色部分にあらかじめイ
ンク吸収性の樹脂層を設けておいてもよい。インク吸収
性の樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロ
ース誘導体、水溶性アクリル樹脂等が好適に用いられ着
色部位にマトリクス状にあるいは基板上に全面に形成す
ることができる。
【００１９】さらにインクジェットヘッド７としては、
エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブル
ジェットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェ
ットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パタ
ーンは任意に設定できる。また保護層形成後の表面にお
ける凹凸の低減、あるいは保護層の密着性向上もかね
て、インクの着色後に、レジスト層３を除去する（図１
（ｆ））。
エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブル
ジェットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェ
ットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パタ
ーンは任意に設定できる。また保護層形成後の表面にお
ける凹凸の低減、あるいは保護層の密着性向上もかね
て、インクの着色後に、レジスト層３を除去する（図１
（ｆ））。
【００２０】次いで、必要に応じて保護層８を形成（図
１（ｇ））する。保護層８としては光硬化タイプ、熱硬
化タイプ、あるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、
スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることが
でき、カラーフィルターとした場合の透明性を有し、そ
の後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐
え得るものであれば使用可能である。
１（ｇ））する。保護層８としては光硬化タイプ、熱硬
化タイプ、あるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、
スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることが
でき、カラーフィルターとした場合の透明性を有し、そ
の後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐
え得るものであれば使用可能である。
【００２１】図２に、本発明によるカラーフィルターを
組み込んだ、ＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す、な
おその形態は本例に限定されるものではない。カラー液
晶パネルは、一般的にカラーフィルター基板と対向基板
を合わせ込み液晶化合物を封入することにより形成され
る。本発明の液晶パネルは液晶用カラーフィルターを配
した基板と、該基板に対向する対向基板との間に液晶化
合物を封入して構成されている。液晶パネルの一方の基
板の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電極がマト
リックス状に形成される。また、もう一方の基板の内側
には、画素電極に対向する位置にＲ，Ｇ，Ｂの色材が配
列するように、カラーフィルターが設置され、その上に
透明な対向電極が一面に形成される。さらに、両基板の
面内には配向膜が形成されており、これをラビング処理
することにより液晶分子を一定方向に配列させることが
できる。またそれぞれのガラス基板の外側には偏光板が
接着されており、液晶化合物は、これらのガラス基板の
間隙（２〜５μｍ程度）に充填される。またバックライ
トとしては蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み
合わせが一般的に用いられており、液晶化合物をバック
ライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能
させることにより表示を行う。
組み込んだ、ＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す、な
おその形態は本例に限定されるものではない。カラー液
晶パネルは、一般的にカラーフィルター基板と対向基板
を合わせ込み液晶化合物を封入することにより形成され
る。本発明の液晶パネルは液晶用カラーフィルターを配
した基板と、該基板に対向する対向基板との間に液晶化
合物を封入して構成されている。液晶パネルの一方の基
板の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電極がマト
リックス状に形成される。また、もう一方の基板の内側
には、画素電極に対向する位置にＲ，Ｇ，Ｂの色材が配
列するように、カラーフィルターが設置され、その上に
透明な対向電極が一面に形成される。さらに、両基板の
面内には配向膜が形成されており、これをラビング処理
することにより液晶分子を一定方向に配列させることが
できる。またそれぞれのガラス基板の外側には偏光板が
接着されており、液晶化合物は、これらのガラス基板の
間隙（２〜５μｍ程度）に充填される。またバックライ
トとしては蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み
合わせが一般的に用いられており、液晶化合物をバック
ライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能
させることにより表示を行う。
【００２２】
実施例１ ガラス基板にブラックマトリックスを形成するために、
Ｃｒ，ＭｏＴａ等の金属膜を膜厚１００ｎｍで全面に蒸
着、スパッタ等の方法により形成する。
Ｃｒ，ＭｏＴａ等の金属膜を膜厚１００ｎｍで全面に蒸
着、スパッタ等の方法により形成する。
【００２３】次に、ナフトキノンジアジド型ポジレジス
ト（ヘキスト社製ＡＺ−４９０３）に感光性シリコン化
合物（例えばジメチルポリシラン）を１０％添加したも
のを膜厚１．５μｍとなるようにスピンコートし、９０
℃で３０ｍｉｎのプリベークを行った。この後、フォト
マスクを介して４００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量でパターン
露光し現像処理を行った。そしてマトリックスパターン
を形成するため金属膜をウェット法により酸でエッチン
グを行った。
ト（ヘキスト社製ＡＺ−４９０３）に感光性シリコン化
合物（例えばジメチルポリシラン）を１０％添加したも
のを膜厚１．５μｍとなるようにスピンコートし、９０
℃で３０ｍｉｎのプリベークを行った。この後、フォト
マスクを介して４００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量でパターン
露光し現像処理を行った。そしてマトリックスパターン
を形成するため金属膜をウェット法により酸でエッチン
グを行った。
【００２４】次いで、インクジェット記録装置を用いて
顔料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリックスパターンを
着色した後９０℃で５ｍｉｎ間のインク乾燥を行った。
そしてレジスト剥離液に浸漬してレジスト除去後、保護
層として２液型の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ
製）を膜厚１μｍとなるようにスピンコートし、２３０
℃で１時間の熱処理を行って硬化させた。このようにし
て作成された液晶用カラーフィルターを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。
顔料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリックスパターンを
着色した後９０℃で５ｍｉｎ間のインク乾燥を行った。
そしてレジスト剥離液に浸漬してレジスト除去後、保護
層として２液型の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ
製）を膜厚１μｍとなるようにスピンコートし、２３０
℃で１時間の熱処理を行って硬化させた。このようにし
て作成された液晶用カラーフィルターを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。
【００２５】実施例２ ガラス基板にブラックマトリックスを形成するために、
Ｃｒ，ＭｏＴａ等の金属膜を膜厚１００ｎｍで全面に、
蒸着、スパッタ等の方法により形成する。
Ｃｒ，ＭｏＴａ等の金属膜を膜厚１００ｎｍで全面に、
蒸着、スパッタ等の方法により形成する。
【００２６】次に、ナフトキノンジアジド型ポジレジス
ト（ヘキスト社製ＡＺ−４９０３）に感光性シリコン化
合物（例えばジメチルポリシラン）を１０％添加したも
のを膜厚１．５μｍとなるようにスピンコートし、９０
℃で３０ｍｉｎのプリベークを行った。この後、フォト
マスクを介して４００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量でパターン
露光し現像処理を行った。そしてマトリックスパターン
を形成するため金属膜をウェット法により酸でエッチン
グを行った。さらにヒドロキシプロピルセルロース及び
メチロールメラミンからなるインク吸収性樹脂組成物を
膜厚１μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で１０
ｍｉｎ間の加熱を行ってインク吸収性樹脂層を形成し
た。
ト（ヘキスト社製ＡＺ−４９０３）に感光性シリコン化
合物（例えばジメチルポリシラン）を１０％添加したも
のを膜厚１．５μｍとなるようにスピンコートし、９０
℃で３０ｍｉｎのプリベークを行った。この後、フォト
マスクを介して４００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量でパターン
露光し現像処理を行った。そしてマトリックスパターン
を形成するため金属膜をウェット法により酸でエッチン
グを行った。さらにヒドロキシプロピルセルロース及び
メチロールメラミンからなるインク吸収性樹脂組成物を
膜厚１μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で１０
ｍｉｎ間の加熱を行ってインク吸収性樹脂層を形成し
た。
【００２７】次いで、インクジェット記録装置を用いて
顔料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリックスパターンを
着色した後、９０℃で５ｍｉｎ間のインク乾燥を行い、
そしてレジスト剥離液に浸漬してレジスト除去し、さら
に１５０℃で３０ｍｉｎ間の熱処理を行ってインク吸収
性樹脂層を硬化させた。
顔料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリックスパターンを
着色した後、９０℃で５ｍｉｎ間のインク乾燥を行い、
そしてレジスト剥離液に浸漬してレジスト除去し、さら
に１５０℃で３０ｍｉｎ間の熱処理を行ってインク吸収
性樹脂層を硬化させた。
【００２８】さらに、保護層として２液型の熱硬化性樹
脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を行って
硬化させた。
脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を行って
硬化させた。
【００２９】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルターを光学顕微鏡により観察したところ、混色は観
察されなかった。
ィルターを光学顕微鏡により観察したところ、混色は観
察されなかった。
【００３０】比較例１ ブラックマトリックスの形成されたガラス基板上に、イ
ンクジェット記録装置を用いて顔料インクにより、Ｒ，
Ｇ，Ｂのマトリックスパターンを着色した後、９０℃で
５ｍｉｎ間のインク乾燥を行った。さらに保護層として
２液型の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜
厚１μｍとなるようにスピンコートし、２３０℃で１時
間の熱処理を行って硬化させた。
ンクジェット記録装置を用いて顔料インクにより、Ｒ，
Ｇ，Ｂのマトリックスパターンを着色した後、９０℃で
５ｍｉｎ間のインク乾燥を行った。さらに保護層として
２液型の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜
厚１μｍとなるようにスピンコートし、２３０℃で１時
間の熱処理を行って硬化させた。
【００３１】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルターを光学顕微鏡により観察したところ混色が観察
された。
ィルターを光学顕微鏡により観察したところ混色が観察
された。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は液晶用カラ
ーフィルターにあらかじめ形成されるブラックマトリッ
クス形成用レジストに対してインク撥水性を付与して前
記レジストを画素間でのインクの混色を防止する隔壁と
して利用することによりインクの混色のない信頼性の高
い液晶用カラーフィルターを低コストで製造することが
できる。
ーフィルターにあらかじめ形成されるブラックマトリッ
クス形成用レジストに対してインク撥水性を付与して前
記レジストを画素間でのインクの混色を防止する隔壁と
して利用することによりインクの混色のない信頼性の高
い液晶用カラーフィルターを低コストで製造することが
できる。
【００３３】またブラックマトリックス形成用レジスト
の厚みを１μｍ以上にすることによりインクの混色を防
止する隔壁として機能を一層向上せしめることができ、
さらに着色剤の配列後にブラックマトリックス形成用レ
ジストを除去することにより保護層形成後の表面におけ
る凹凸の低減及び保護層の密着性を向上することがで
き、着色部位にあらかじめインク吸収性樹脂層を設ける
ことによりインクの定着性を向上することができる。
の厚みを１μｍ以上にすることによりインクの混色を防
止する隔壁として機能を一層向上せしめることができ、
さらに着色剤の配列後にブラックマトリックス形成用レ
ジストを除去することにより保護層形成後の表面におけ
る凹凸の低減及び保護層の密着性を向上することがで
き、着色部位にあらかじめインク吸収性樹脂層を設ける
ことによりインクの定着性を向上することができる。
【図１】図１（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），
（ｅ），（ｆ），（ｇ）は本発明による液晶用カラーフ
ィルターの製造方法を示す工程図。
（ｅ），（ｆ），（ｇ）は本発明による液晶用カラーフ
ィルターの製造方法を示す工程図。
【図２】本発明の液晶パネルの断面図。
１ 金属膜 ２ 基板 ３ レジスト層 ４ フォトマスク ５ ブラックマトリックス ６ レジストパターン ７ インクジェットヘッド ８ 保護層
Claims (6)
- 【請求項１】 インクジェット記録装置からインクを吐
出させて基板上の光透過性部位に着色剤を配列させて液
晶用カラーフイルターを構成する液晶用カラーフィルタ
ーのを製造方法であって、前記液晶用カラーフィルター
にあらかじめ形成されるブラックマトリックス形成用レ
ジストに対してインク撥水性を付与して、前記レジスト
を画素間でのインクの混色を防止する隔壁として利用す
ることを特徴とする液晶用カラーフィルターの製造方
法。 - 【請求項２】 ブラックマトリックス形成用レジストの
厚みが１μｍ以上ある請求項１に記載の液晶用カラーフ
ィルターの製造方法。 - 【請求項３】 着色剤の配列後にブラックマトリックス
形成用レジストを除去する請求項１に記載の液晶用カラ
ーフィルターの製造方法。 - 【請求項４】 着色部位に、あらかじめインク吸収性樹
脂層を形成しておく請求項１に記載の液晶用カラーフィ
ルターの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１に記載の方法により製造された
液晶用カラーフィルター。 - 【請求項６】請求項５に記載の液晶用カラーフィルター
を配した基板と、該基板に対向する対向基板との間に液
晶化合物を封入して構成した液晶パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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