JPH10197715A - 液晶用カラーフィルターの製造方法、該方法により製造された液晶用カラーフィルター及び液晶パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 混色のない信頼性の高い液晶カラーフィルタ
ーの製造方法、該方法により製造された液晶用カラーフ
ィルタ及び液晶パネルを提供する。 【解決手段】 遮光性部位の形成された光透過性基板上
の遮光性部位上に表面張力または臨界表面張力が２．５
×１０^-2［Ｎ／ｍ］以下の撥水・撥油性化合物を含有す
る感光性化合物層をフォトリソフラフィーにより形成し
た後、インクジェット記録装置を用いてインクの吐出に
より光透過性部位に着色剤を配列させたことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピューター等に使用されているカラー液晶
ディスプレイのカラーフィルターの製造方法に関し、特
にインクジェット記録技術を利用した液晶用カラーフィ
ルタの製造方法に関する。また、本発明は、インクジェ
ット記録技術を利用して製造された液晶用カラーフィル
ター及び該カラーフィルターを具備する液晶パネルに関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピューターの発
達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴
い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの
需要が増加する傾向にある。しかしながら、更なる普及
のためにはコストダウンが必要であり、特にコスト比重
の重いカラーフィルターのコストダウンに対する要求が
高まっている。

【０００３】従来から、カラーフィルターの要求性能を
満足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みら
れているが、未だに全ての要求特性を満足する方法は確
立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。

【０００４】最も多く用いられている第一の方法が染色
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソ
グラフィーによって所望の形状にパターニングすること
により単色のパターンを得る。これを３回繰り返すこと
により、Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルター層を形成する。

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることによって単色のパターンを得る。これを３
回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルター
層を形成する。

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。これを３回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，
Ｂのカラーフィルター層を形成した後、最後に焼成する
ものである。

【０００７】第四の方法としては、熱硬化性樹脂に顔料
を分散させ、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，
Ｂを塗り分けた後、樹脂を硬化させることにより着色層
を形成するものである。

【０００８】以上いずれの方法においても着色層上には
保護層を形成するのが一般的である。これらの方法に共
通している点は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色を着色するために同
一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になるこ
とである。また、工程が多くなるほど歩留まりが低下す
るという問題点も有している。さらに電着法では、形成
可能なパターン形状が限定されるため、現状の技術では
ＴＦＴ用には適応困難である。また、印刷法は、解像性
が悪いためファインピッチのパターンの形成には不向き
である。

【０００９】これらの欠点を補うべく、インクジェット
を用いたカラーフィルターの製造方法として、特開昭５
９−７５２０５、特開昭６３−２３５９０１、特開平１
−２１７３２０等の提案があるが、未だ不十分である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
法の有する耐熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満
足しつつ、かつインクジェット適性をも満足する安価で
高歩留まりなカラーフィルター製造方法、及び該方法に
より製造された信頼性の高いカラーフィルターを提供す
るものである。特に、インクジェットを用いてインクの
吐出により着色剤の配列を行う際の混色を防止する信頼
性の高い液晶カラーフィルターの製造方法を提供するも
のである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前記の目的は以下の手段
によって達成される。

【００１２】すなわち、本発明は、遮光性部位の形成さ
れた光透過性基板上の遮光部位上に遮光性部位の形成さ
れた光透過性基板上の遮光部位上に表面張力または臨界
表面張力が２．５×１０^-2［Ｎ／ｍ］以下の撥水・撥油
性化合物を含有する感光性化合物層をフォトリソグラフ
ィーにより形成した後、インクジェット記録装置を用い
てインクの吐出により光透過性部位に着色剤を配列させ
ることを特徴とする液晶用カラーフィルターの製造方法
を提案するものであり、前記撥水・撥油性化合物が、ペ
ルフルオロアルキル基または、ポリフルオロアルキル基
を含有するフッ素系界面活性剤、または含フッ素高分子
化合物であること、前記撥水・撥油性化合物の含有量
が、０．００１ｗｔ％以上２．０ｗｔ％未満であるこ
と、前記感光性化合物が、ポジ型感光性化合物であり遮
光性部位をマスクとして、基板の裏面より露光し、遮光
部位にのみ撥水・撥油性化合物を含有する感光性化合物
のレリーフ像が残るように現像を行い、この後にインク
ジェット記録装置を用いてインクの吐出により光透過性
部位に着色剤を配列させること、前記感光性化合物が、
ネガ型感光性化合物であること、前記感光性化合物層を
形成後に、熱エネルギーを与えることにより、撥水・撥
油性化合物を表面にフリーディングさせた後に、インク
ジェット記録装置を用いて着色工程を行うこと、前記着
色剤の配列後に撥水・撥油性化合物を洗浄、除去するこ
とを含む。

【００１３】また、本発明は前記の方法により製造され
たことを特徴とする液晶用カラーフィルター及び前記カ
ラーフィルターと対向する基板を有し、両基板間に液晶
化合物を封入してなる構造を有することを特徴とする液
晶パネルを提案するものである。

【００１４】

【発明の実施の態様】以下、本発明を図面を参照して詳
細に説明する。

【００１５】図１は本発明における液晶用カラーフィル
ターの製造方法を示したものであり、本発明にかかる液
晶用カラーフィルターの構成の一例が示されている。

【００１６】本発明においては、基板として一般にガラ
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルターとして
の透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれ
ばガラス基板に限定されるものではない。

【００１７】図１（ａ）は、ガラス基板上に遮光性部位
が形成された図を示したものである。まず、遮光部位の
形成された基板上に撥水・撥油性化合物を含有する感光
性化合物を塗布し、プリベークを行って、撥水・撥油性
の感光性化合物層を得る（図１（ｂ））。感光性化合物
がネガ型の場合は、フォトマスクを用いて、露光を行い
（図１（ｃ））、次いで現像を行って、遮光性部位上に
のみ撥水・撥油性のレリーフ像を形成する（図１
（ｄ）。

【００１８】また感光性化合物がポジ型の場合は、基板
上の遮光性部位をマスクとして基板裏面から露光を行う
ことによって、フォトマスクレス、セルフアライメント
露光を行うことができ（図１（ｃ２））、製造コストを
考えた場合、より好ましい。しかし、本発明には、ネガ
型、ポジ型いずれの感光性化合物をも用いることができ
る。

【００１９】ネガ型の感光性化合物としては、ケイ皮酸
系レジスト、ビスアジドを感光性基として含む環化ゴム
系レジスト、ベンゾフェノン、チオキサントン等の光ラ
ジカル重合開始剤と、エチレン性不飽和結合を有するモ
ノマーを含む光ラジカル重合型レジストまたは組成物、
芳香族オニウム塩等の光カチオン重合開始剤とエポキシ
樹脂等を配合した光カチオン重合型組成物等様々なネガ
型感光性材料を用いることができる。

【００２０】ポジ型の感光性化合物としては、アルカリ
可溶性ノボラック樹脂に感光性基としてナフトキノンジ
アジトを添加したＮＱＤ型レジスト、アルカリ可溶性ノ
ボラック樹脂に溶解阻止剤、光酸発生剤等を添加した３
成分系ポジ型レジスト、ＰＭＭＡ，ＰＭＩＰＫ（ポリメ
チルイソプロピルケトン）等の主鎖分解型ポジ型レジス
ト等を用いることができる。本発明で用いるこれら感光
性化合物として、さらに詳しくは以下のような商品名で
市販されているものを用いるがこれらに限定されるわけ
ではない。

【００２１】 ネガ型 ケイ皮酸系レジスト ＫＰＲ（コダック製） ＴＰＲ（東京応化製） 環化ゴム系レジスト ＫＭＲ（コダック製） ＯＭＲ，ＥＰＰＲ（東京応化製） 光ラジカル重合型レジスト ＢＭＲ，ＯＳＰＲ（東京応化製） リストン（デユポン製）（ドライフィルム）

【００２２】 ポジ型 ＮＱＤ系レジスト ＯＦＰＲ（東京応化製） ＡＺ（ヘキスト製）

【００２３】また、撥水・撥油性を得るための撥水・撥
油性化合物は、その化合物が液体の場合は、表面張力が
２．５×１０^-2［Ｎ／ｍ］以下であり、固体の場合は、
臨界表面張力が、２．５×１０^-2［Ｎ／ｍ］以下の化合
物が好適に用いられる。さらに詳しくは、分子中にベル
フルオロアルキル基または、ポリフルオロアルキル基を
有するフッ素系界面活性剤または、含フッ素高分子化合
物が好適に用いられる。

【００２４】また、撥水・撥油性化合物は、その添加量
が多すぎると感光性化合物と混和されにくく、非相溶系
になってしまうばかりでなく、基板との密着力を極端に
低下させしめ、現像不可能となってしまう。反対に、添
加量が少なすぎる場合は、撥水・撥油の効果が少なく濡
れ性による差別化ができない。したがって、撥水・撥油
性化合物の感光性化合物への添加量は、０．００１ｗｔ
％以上２．０ｗｔ％以下が好適に用いられる。以下にさ
らに詳しい本発明の撥水・撥油性化合物の例を挙げる
が、これらに限定されるわけではない。

【００２５】 フッ素系界面活性剤 フルオラードＦＣ−４３０ （γ_L ＝１．９３ ×１０^-2Ｎ／ｍ） ＦＣ−１７１ （γ_L ＝２．００ ×１０^-2Ｎ／ｍ） ＦＣ−１７０Ｃ （γ_L ＝１．９１ ×１０^-2Ｎ／ｍ） （以上住友スリーエム製） エフトップ ＥＦ−１２２Ｂ （γ_L ＝２．０６ ×１０^-2Ｎ／ｍ） ＥＦ−８０２ （γ_L ＝２．０６ ×１０^-2Ｎ／ｍ） （以上三菱金属製）

【００２６】 含フッ素高分子化合物 モディバー Ｆ−１１０ （γ_C ＝１．３２×１０^-2Ｎ／ｍ） Ｆ−２１０ （γ_C ＝１．３４×１０^-2Ｎ／ｍ） （以上日本油脂製） フルオラードＦＣ−７２５ （γ_C ＝１．３８×１０^-2Ｎ／ｍ）（住友ス リーエム製）

【００２７】上記の撥水・撥油性化合物を含有する感光
性化合物層の形成のためには、スピンコート、ロールコ
ート、バーコート、スプレーコート、ディップコート等
の塗布方法を用いることが可能であり、特に限定される
ものではない。

【００２８】次いで、形成された遮光性部位上の撥水・
撥油性のレリーフ像と、光透過性部位上の濡れ性のコン
トラストをより大きく取るために、熱エネルギーを与え
てレリーフ像中の撥水・撥油性化合物を表面へブリーデ
ィングさせる（図１（ｅ））。

【００２９】次いでインクジェットを用いてＲ，Ｇ，Ｂ
の各色を着色し（図１（ｆ））、必要に応じてインクの
乾燥を行う。着色に用いるインクとしては、染料系イン
ク、顔料系インク共に用いることが可能である。また、
インクの定着性の向上を目的として、着色部位に予めイ
ンク吸収性の樹脂層を設けておいてもよい。インク吸収
性の樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロ
ース誘導体、水溶性アクリル樹脂等が好適に用いられ、
着色部位にマトリクス状にあるいは基板上全面に形成す
ることができる。さらにインクジェットとしては、エネ
ルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェ
ットタイプ、あるいは発電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パターン
は任意に設定することができる。

【００３０】インクの着色後にさらに積層される保護層
や、透明電極層との密着力を向上させるためには、撥水
・撥油性化合物の存在は邪魔になるので、これを洗浄し
除去する（図１（ｇ１））。また、遮光性部位上に残っ
ているレリーフ像ごと剥離洗浄してもよい（図１（ｇ
２））。洗浄方法としては、ＵＶ／Ｏ₃ 洗浄、プラズマ
アッシング等のドライ洗浄や、有機溶剤やアルカリに浸
漬して必要に応じて超音波やシャワー等の外力を用いて
剥離、または溶解除去するウェット洗浄等があるが、い
ずれの方法においても撥水・撥油性化合物の洗浄除去は
可能である。

【００３１】次いで、必要に応じて保護層を形成する
（図１（ｈ１）（ｈ２））。保護層としては、光硬化
型、熱硬化型、光熱併用硬化型樹脂等の有機高分子材
料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用
いることができるが、カラーフィルターとした場合の光
学的透明性を有し、その後の透明電極形成プロセス、配
向膜形成プロセス等に耐え得るものであれば使用可能で
ある。

【００３２】図２に、本発明によるカラーフィルターを
組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す。な
お、その形態は本例に限定されるものではない。

【００３３】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルター基板と対向基板を合わせ込み、液晶化合物を封入
することにより形成される。液晶パネルの一方の基板２
１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電極２２が
マトリックス状に形成される。また、もう一方の基板２
１の内側には、画素電極２２に対向する位置にＲＧＢの
色材が配列するようなカラーフィルターが設置され、そ
の上に透明な共通電極２１（対向電極）が一面に形成さ
れる。さらに、両基板２１・２１の面内には配向膜２５
・２５が形成されており、これをラビング処理すること
により液晶分子を一定方向に配列させることができる。
また、それぞれのガラス基板２１の外側には偏光板２４
が接着されており、液晶化合物２６は、これらのガラス
基板２１の間隙（２〜５μｍ程度）に充填される。ま
た、バックライトとしては蛍光灯（不図示）と散乱板
（不図示）の組み合わせが一般的に用いられており、液
晶化合物をバックライト光の透過率を変化させる光シャ
ッターとして機能させることにより表示を行う。

【００３４】

【実施例】

実施例１ 遮光性部位を形成したガラス基板上に、以下に示す組成
比に調合したポジ型撥水・撥油性感光性化合物を膜厚１
μｍになるようにスピンコートし、１００℃のホットプ
レート上で９０秒間プリベークを行った。

【００３５】 ポジ型撥水・撥油性感光性化合物 ＮＱＤ型ポジ型レジスト ＡＺ６１１２（ヘキスト製） ２０ｇ （内固形分５．８４ｇ） フッ素系界面活性剤 フルオラードＦＣ−４３０（住友スリーエム製） ０．０２ｇ （固形分１００％） 乾燥時の撥水・撥油剤添加率 ０．０２＊１００（５．８４＋０．０２） ＝０．３４ｗｔ％

【００３６】続いて、遮光性部位をフォトマスクとして
基板の裏面より１２０ｍＪ／ｃｍ²（ａｔ３６５ｎｍ）
の露光量でパターン露光、続いてＡＺ３００ＭＩＦ（Ａ
Ｚ用有機アルカリ現像液）にて現像を行い遮光性部位上
に撥水・撥油性のレリーフ像を形成した。

【００３７】この後さらに、９０℃の熱を３０分間与え
て、フッ素系界面活性剤をレリーフ像の表面に十分にブ
リーディングさせた。

【００３８】次いでインクジェット記録装置を用いて顔
料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを着色
した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。さらに
保護層を形成するために、撥水・撥油性のレリーフ像を
ＡＺリムーバー（ＡＺ用剥離液）を用いて洗浄、剥離、
乾燥した。保護層としては２液性の熱硬化性樹脂ＳＳ−
７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるようにスピン
コートし、２３０℃、１時間にて熱硬化させた。

【００３９】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルターを光学顕微鏡により観察したところ、画素間、
画素と遮光性部位間いずれにおいても混色は観察されな
かった。また、保護層表面における凹凸を測定したとこ
ろ０．０５μｍであった。

【００４０】実施例２ 遮光性部位を形成したガラス基板上に、以下に示す組成
比に調合したネガ型撥水・撥油性感光性化合物を膜厚１
μｍになるようにスピンコートした。

【００４１】 ネガ型撥水・撥油性感光性化合物 脂環式エポキシ樹脂 セロキサイド２０２１ （ダイセル製） ２０ｇ 光カチオン重合開始剤 アデカオプトマーＳＰ１５０（アデカ製）０．８ｇ （重合開始剤であり、乾燥時の重量には含まれない） フッ素系界面活性剤 フルオラードＦＣ−４３０ （住友スリーエム製） ０．０４ｇ （固形分１００％） 乾燥時の撥水・撥油剤添加率 ０．０４＊１００／（２０＋０．０４） ＝０．２０％

【００４２】続いて、遮光性部位の幅より若干狭い光透
過性部を有するフォトマスクを介して、基板の表面側よ
り５０００ｍＪ／ｃｍ² （ａｔ３６５ｎｍ）の露光量で
パターン露光、続いてシクロヘキサノンにて現像を行い
遮光性部位上に撥水・撥油性のレリーフ像を形成した。
この後、さらに１２０℃の熱を３０分間与えて、フッ素
系界面活性剤をレリーフ像の表面に十分にブリーディン
グさせた。

【００４３】次いでインクジェット記録装置を用いて顔
料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを着色
した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。さらに
保護層を形成するために、撥水・撥油性のレリーフ像中
のフッ素系界面活性剤を除去をＵＶ／Ｏ₃ にて洗浄し
た。保護層としては２液性の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２
５（ＪＳＲ製）を膜厚２μｍとなるようにスピンコート
し、２３０℃、１時間にて熱硬化させた。このようにし
て作成された液晶用カラーフィルターを光学顕微鏡によ
り観察したところ、画素間、画素と遮光性部位間いずれ
においても混色は観察されなかった。

【００４４】実施例３ 遮光性部位を形成したガラス基板上に、ヒドロキシプロ
ピルセルロース及びメチロールメラミンからなるインク
吸収性樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようにスピンコー
トし、９０℃で１０分間加熱を行ってインク吸収層を形
成した。引き続き以下に示す組成比に調合したネガ型撥
水・撥油性感光性化合物を膜厚１５μｍになるようにス
ピンコートし、８０℃にて３０分間プリベークを行っ
た。

【００４５】 ネガ型レジスト ＢＭＲ Ｃ−１０００ （東京応化製） ２０ｇ （固形分４０％）（内固形分８．００ｇ） フッ素系表面処理剤 モディパー Ｆ−２１０ （日本油脂製） （固形分０．０２ｇ） （溶媒成分をポンプアップしたもの） 乾燥時の撥水・撥油剤添加率 ０．０２＊１００／（８＋０．０２） ＝０．２５ｗｔ％

【００４６】続いて、遮光性部位の幅より若干狭い光透
過性部を有するフォトマスクを介して、基板の表面側よ
り３００ｍＪ／ｃｍ² （ａｔ３６５ｎｍ）の露光量でパ
ターン露光、続いてＢＭＲ現像液ＳＫ−４にて現像を行
い遮光性部位上に撥水・撥油性のレリーフ像を形成し
た。

【００４７】次いでインクジェット記録装置を用いて顔
料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを着色
した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。さらに
保護層を形成するために、撥水・撥油性のレリーフ像
を、ＢＭＲ剥離液ＥＧを用いて、剥離、洗浄、乾燥し
た。保護層としては２液性の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２
５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるようにスピンコート
し、２３０℃、１時間にて熱硬化させた。このようにし
て作成された液晶用カラーフィルターを光学顕微鏡によ
り観察したところ、画素間、画素と遮光性部位間いずれ
においても混色は観察されなかった。

【００４８】実施例４ 遮光性部位を形成したガラス基板上に、以下に示す組成
比に調合したポジ型撥水・撥油製感光性化合物を膜厚１
０μｍとなるようにスピンコートし、１１０℃のホット
プレート上で４分間プリベークを行った。

【００４９】 ポジ型レジスト ＰＭＥＲ Ｐ−ＡＲ９００ （東京応化製）２０ｇ （固形分４０％）（内固形分８．００ｇ） フッ素系表面処理剤 モディパー Ｆ−１１０ （日本油脂製） 固形分０．０１ｇ （溶媒成分をポンプアップしたもの） 乾燥時の撥水・撥油剤添加率 ０．０１＊１００／（８＋０．０１） ＝０．１２ｗｔ％

【００５０】続いて、遮光性部位をフォトマスクとし
て、基板の裏面より５００ｍＪ／ｃｍ ² （ａｔ３６５ｎ
ｍ）の露光量でパターン露光、続いてＰＭＥＲ現像液Ｐ
−６Ｇにて現像を行い遮光性部位上に撥水・撥油性のレ
リーフ像を形成した。

【００５１】次いでインクジェット記録装置を用いて顔
料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを着色
した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。さらに
保護層を形成するために、撥水・撥油性のレリーフ像
を、ＰＭＥＲ剥離液ＰＳを用いて、剥離、洗浄、乾燥し
た。保護層としては２液性の熱硬化性樹脂ＳＳ−７６２
５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるようにスピンコート
し、２３０℃、１時間にて熱硬化させた。このようにし
て作成された液晶用カラーフィルターを光学顕微鏡によ
り観察したところ、画素間、画素と遮光性部位間いずれ
においても混色は観察されなかった。

【００５２】比較例１ 遮光性部位を形成したガラス基板上に、インクジェット
記録装置を用いて顔料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリ
クスパターンを着色した後、９０℃で５分間インク乾燥
を行った。さらに、保護層として２液性の熱硬化製樹脂
ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるように
スピンコートし、２３０℃、１時間にて熱硬化させた。
このようにして作成された液晶用カラーフィルターを光
学顕微鏡により観察したところ、混色が観察された。

【００５３】比較例２ 遮光性部位を形成したガラス基板上に、ヒドロキシプロ
ピルセルロース及びメチロールメラミンからなるインク
吸収性樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようにスピンコー
トし、９０℃で１０分間加熱を行ってインク吸収層を形
成した。続いてそのガラス基板上に、インクジェット記
録装置を用いて顔料インクによりＲ，Ｇ，Ｂのマトリク
スパターンを着色した後、９０℃で５分間インク乾燥を
行った。さらに、保護層として２液性の熱硬化製樹脂Ｓ
Ｓ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるようにス
ピンコートし、２３０℃、１時間にて熱硬化させた。こ
のようにして作成された液晶用カラーフィルターを光学
顕微鏡により観察したところ、混色が観察された。

【００５４】［評価］また上記実施例、比較例とは別
に、実施例１〜４において用いた撥水・撥油性感光性化
合物表面、ガラス基板表面、及びインク吸収性樹脂組成
物表面における濡れ性の違いを、水及び各実施例にて使
用した顔料インクの接触角より評価した結果を表１に示
す。

【００５５】

【表１】

【００５６】

【発明の効果】本発明による液晶用カラーフィルターの
製造方法を採用することにより、混色のない信頼性の高
い液晶用カラーフィルターをより安価に製造することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）〜（ｈ２）は本発明による液晶用カ
ラーフィルターの製造方法の工程を示す断面図である。

【図２】本発明の液晶パネルの一例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 遮光性部位（ブラックマトリクス） ２ 基板 ３ 感光性化合物層 ４ フォトマスク ５ 撥水・撥油性の感光性化合物レリーフ像 ６ 撥水・撥油性官能基（ポリフルオロアルキル基ま
たはペルフルオロアルキル基） ７ インクジェットヘッド ８ 保護層 ２１ ガラス基板 ２２ 画素電極 ２３ 遮光性部位（ブラックマトリクス） ２４ 偏光板 ２５ 配向膜 ２６ 液晶化合物 ２７ 共通電極 ２８ 保護層 ２９ インク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 研逸 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 遮光性部位の形成された光透過性基板上
   の遮光部位上に表面張力または臨界表面張力が２．５×
   １０^-2［Ｎ／ｍ］以下の撥水・撥油性化合物を含有する
   感光性化合物層をフォトリソグラフィーにより形成した
   後、インクジェット記録装置を用いてインクの吐出によ
   り光透過性部位に着色剤を配列させることを特徴とする
   液晶用カラーフィルターの製造方法。
2. 【請求項２】 前記撥水・撥油性化合物が、ペルフルオ
   ロアルキル基または、ポリフルオロアルキル基を含有す
   るフッ素系界面活性剤、または含フッ素高分子化合物で
   ある請求項１に記載の液晶用カラーフィルターの製造方
   法。
3. 【請求項３】 前記撥水・撥油性化合物の含有量が、
   ０．００１ｗｔ％以上２．０ｗｔ％未満である請求項１
   〜２のうちいずれか１項に記載の液晶用カラーフィルタ
   ーの製造方法。
4. 【請求項４】 前記感光性化合物が、ポジ型感光性化合
   物であり遮光性部位をマスクとして、基板の裏面より露
   光し、遮光部位にのみ撥水・撥油性化合物を含有する感
   光性化合物のレリーフ像が残るように現像を行い、この
   後にインクジェット記録装置を用いてインクの吐出によ
   り光透過性部位に着色剤を配列させる請求項１〜３のう
   ちいずれか１項に記載の液晶用カラーフィルターの製造
   方法。
5. 【請求項５】 前記感光性化合物が、ネガ型感光性化合
   物である請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の液晶
   用カラーフィルターの製造方法。
6. 【請求項６】 前記感光性化合物層を形成後に、熱エネ
   ルギーを与えることにより、撥水・撥油性化合物を表面
   にフリーディングさせた後に、インクジェット記録装置
   を用いて着色工程を行う請求項１〜５のうちいずれか１
   項に記載の液晶用カラーフィルターの製造方法。
7. 【請求項７】 着色剤の配列後に撥水・撥油性化合物を
   洗浄、除去する請求項１〜６のうちいずれか１項に記載
   の液晶用カラーフィルターの製造方法。
8. 【請求項８】 前記の方法により製造されたことを特徴
   とする液晶用カラーフィルター。
9. 【請求項９】 請求項８に記載のカラーフィルターと対
   向する基板を有し、両基板間に液晶化合物を封入してな
   る構造を有することを特徴とする液晶パネル。