JPH08227012A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH08227012A JPH08227012A JP7324496A JP32449695A JPH08227012A JP H08227012 A JPH08227012 A JP H08227012A JP 7324496 A JP7324496 A JP 7324496A JP 32449695 A JP32449695 A JP 32449695A JP H08227012 A JPH08227012 A JP H08227012A
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 着色剤の混色、色ムラ、白抜けを防止し、信
頼性の高いカラ−フィルタを提供する。 【解決手段】 基板上に設けられた樹脂層にインクジェ
ト方式によりカラ−フィルタを形成する方法であって、
該樹脂層が下記一般式で表される構造単位を有するシリ
コン化合物を含む。 【外１】
頼性の高いカラ−フィルタを提供する。 【解決手段】 基板上に設けられた樹脂層にインクジェ
ト方式によりカラ−フィルタを形成する方法であって、
該樹脂層が下記一般式で表される構造単位を有するシリ
コン化合物を含む。 【外１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ等に使用されているカラー液晶デ
ィスプレイに好適なカラーフィルタの製造方法、とりわ
けインクジェット記録技術を利用した液晶用カラーフィ
ルタの製造方法に関する。
ーソナルコンピュータ等に使用されているカラー液晶デ
ィスプレイに好適なカラーフィルタの製造方法、とりわ
けインクジェット記録技術を利用した液晶用カラーフィ
ルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピューターの発
達、特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、
液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの
需要が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普
及のためにはコストダウンが必要であり、特にコスト的
に比重の重いカラーフィルタのコストダウンに対する要
求が高まっている。
達、特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、
液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの
需要が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普
及のためにはコストダウンが必要であり、特にコスト的
に比重の重いカラーフィルタのコストダウンに対する要
求が高まっている。
【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだにすべての要求特性を満足する方法は
確立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだにすべての要求特性を満足する方法は
確立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
【０００４】最も多く用いられている第一の方法が染色
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を付与し、これをフォトリソ
グラフィー工程により所望の形状にパターニングした
後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパ
ターンを得る。これを３回繰り返すことによりレッド
（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）のカラーフィル
タ層を形成する。
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を付与し、これをフォトリソ
グラフィー工程により所望の形状にパターニングした
後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパ
ターンを得る。これを３回繰り返すことによりレッド
（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）のカラーフィル
タ層を形成する。
【０００５】又、この染色法の別の例として、特開平５
−２８８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、こ
れにパターン状に露光を行い、未露光部を染色し、この
工程を３回繰り返すことによってＲ、Ｇ、Ｂの３色から
なる、３層構造のカラーフィルタを製造する方法が記載
されている。
−２８８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、こ
れにパターン状に露光を行い、未露光部を染色し、この
工程を３回繰り返すことによってＲ、Ｇ、Ｂの３色から
なる、３層構造のカラーフィルタを製造する方法が記載
されている。
【０００６】更に特開平５−１８８２１５号公報及び特
開平５−２７３４１０号公報には、ポリシラン層をカラ
ーフィルタ形成層として用い、パターン露光を３回繰り
返してＲ、Ｇ、Ｂの３色からなるカラーフィルタを作成
する方法が記載されている。
開平５−２７３４１０号公報には、ポリシラン層をカラ
ーフィルタ形成層として用い、パターン露光を３回繰り
返してＲ、Ｇ、Ｂの３色からなるカラーフィルタを作成
する方法が記載されている。
【０００７】第二の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィ
ルタ層を形成する。
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィ
ルタ層を形成する。
【０００８】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂのカ
ラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するものである。
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂのカ
ラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するものである。
【０００９】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
【００１０】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留りが低下するという問題を有している。
さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が
限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には不向きで
ある。また印刷法は解像性が悪いため、ファインピッチ
のパターン形成は困難である。
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留りが低下するという問題を有している。
さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が
限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には不向きで
ある。また印刷法は解像性が悪いため、ファインピッチ
のパターン形成は困難である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造
方法が、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−
２３５９０１号公報あるいは特開平１−２１７３０２号
公報等で提案されているが、いまだ十分な方法は得られ
ていない。
く、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造
方法が、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−
２３５９０１号公報あるいは特開平１−２１７３０２号
公報等で提案されているが、いまだ十分な方法は得られ
ていない。
【００１２】そこで本発明の目的は、従来法の有する耐
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、さらに
工程が短縮され、安価にカラーフィルタを製造すること
が可能な製造方法及び該方法により製造された信頼性の
高いカラーフィルタ及びそれを使用した液晶パネルを提
供することにある。本発明では、とりわけ、インクジェ
ット方式を用いたインクの付与により着色剤の配列を行
う際の混色、色ムラ、白抜けを防止し、信頼性の高い液
晶用カラーフィルタの製造方法を提供するものである。
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、さらに
工程が短縮され、安価にカラーフィルタを製造すること
が可能な製造方法及び該方法により製造された信頼性の
高いカラーフィルタ及びそれを使用した液晶パネルを提
供することにある。本発明では、とりわけ、インクジェ
ット方式を用いたインクの付与により着色剤の配列を行
う際の混色、色ムラ、白抜けを防止し、信頼性の高い液
晶用カラーフィルタの製造方法を提供するものである。
【００１３】また本発明は、製造工程をより簡略化し、
製造コストを低減するカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。
製造コストを低減するカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】かかる目的は、次に示す
手段により達成することができる。
手段により達成することができる。
【００１５】すなわち本発明は、インクジェット方式を
用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィル
タの製造方法であって、（１）基板上に、下記一般式
（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含
有する樹脂層を形成する工程、
用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィル
タの製造方法であって、（１）基板上に、下記一般式
（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含
有する樹脂層を形成する工程、
【００１６】
【外４】 （但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） （２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中
に露光部と未露光部のパターンを形成する工程と（３）
インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、
該樹脂層の露光部を着色する工程と（４）着色された該
樹脂層を硬化させる工程とを有することを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法であり、基板が遮光部を有し、
遮光部をマスクとして基板側からパターン露光し、基板
上に形成された樹脂層の露光部の面積が、遮光部により
形成される開口部の面積より大きく、硬化した樹脂層上
に保護層を形成することを含む。
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） （２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中
に露光部と未露光部のパターンを形成する工程と（３）
インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、
該樹脂層の露光部を着色する工程と（４）着色された該
樹脂層を硬化させる工程とを有することを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法であり、基板が遮光部を有し、
遮光部をマスクとして基板側からパターン露光し、基板
上に形成された樹脂層の露光部の面積が、遮光部により
形成される開口部の面積より大きく、硬化した樹脂層上
に保護層を形成することを含む。
【００１７】また本発明は、インクジェット方式を用い
てインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの
製造方法であって、（１）基板上に、上記一般式（Ｉ）
で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する
樹脂層を形成する工程、（２）該樹脂層をパターン露光
することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターン
を形成する工程、（３）インクジェット方式を用いてイ
ンクを樹脂層に付与し、該樹脂層の露光部を着色する工
程、（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光す
る工程、（５）（４）の露光部をブラックに着色する工
程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法
である。
てインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの
製造方法であって、（１）基板上に、上記一般式（Ｉ）
で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する
樹脂層を形成する工程、（２）該樹脂層をパターン露光
することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターン
を形成する工程、（３）インクジェット方式を用いてイ
ンクを樹脂層に付与し、該樹脂層の露光部を着色する工
程、（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光す
る工程、（５）（４）の露光部をブラックに着色する工
程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法
である。
【００１８】更に本発明は、インクジェット方式を用い
てインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの
製造方法であって、（１）基板上に、上記一般式（Ｉ）
で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する
樹脂層を形成する工程、（２）該樹脂層をパターン露光
することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターン
を形成する工程、（３）露光部をブラックに着色する工
程、（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光す
る工程、（５）インクジェット方式を用いてインクを樹
脂層に付与し、（４）の露光部を着色する工程とを含む
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
てインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの
製造方法であって、（１）基板上に、上記一般式（Ｉ）
で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する
樹脂層を形成する工程、（２）該樹脂層をパターン露光
することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターン
を形成する工程、（３）露光部をブラックに着色する工
程、（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光す
る工程、（５）インクジェット方式を用いてインクを樹
脂層に付与し、（４）の露光部を着色する工程とを含む
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００２０】図１は、本発明における液晶用カラーフィ
ルタの製造方法を示した工程図であり、本発明にかかる
液晶用カラーフィルタの構成の一例が示されている。
ルタの製造方法を示した工程図であり、本発明にかかる
液晶用カラーフィルタの構成の一例が示されている。
【００２１】本発明においては、基板として一般にガラ
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての
透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば
プラスチック基板であっても良い。
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての
透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば
プラスチック基板であっても良い。
【００２２】図１（ａ）は、ガラス基板１上に遮光部で
あるブラックマトリクス２が形成され、ブラックマトリ
クス２により囲まれて形成された開口部である光透過部
７が形成されている図を示したものである。
あるブラックマトリクス２が形成され、ブラックマトリ
クス２により囲まれて形成された開口部である光透過部
７が形成されている図を示したものである。
【００２３】まず、ブラックマトリクス２の形成された
基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有す
るシリコン化合物を含む樹脂組成物を塗布し、必要に応
じてプリベークを行って樹脂層３を形成する（図１
（ｂ））。
基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有す
るシリコン化合物を含む樹脂組成物を塗布し、必要に応
じてプリベークを行って樹脂層３を形成する（図１
（ｂ））。
【００２４】
【外５】 （但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） この化合物は、光照射又は光照射と熱処理により光照射
部分のインク吸収性が向上する化合物であり、光照射に
よりケイ素−ケイ素結合の切断が生じ、シラノールを生
成することによって、露光部と未露光部におけるインク
の濡れ性及び／又はインク吸収性に差を生じ、インクジ
ェット方式による着色の際に未露光部が混色防止壁とし
て機能する仕切り壁となるため、異色のインクの混色
（色材のマイグレーションにより生じる混色も含む）を
防止することができる。
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） この化合物は、光照射又は光照射と熱処理により光照射
部分のインク吸収性が向上する化合物であり、光照射に
よりケイ素−ケイ素結合の切断が生じ、シラノールを生
成することによって、露光部と未露光部におけるインク
の濡れ性及び／又はインク吸収性に差を生じ、インクジ
ェット方式による着色の際に未露光部が混色防止壁とし
て機能する仕切り壁となるため、異色のインクの混色
（色材のマイグレーションにより生じる混色も含む）を
防止することができる。
【００２５】また、この化合物は、一度、着色乾燥され
ると他の染料で着色され難いという性質を有するため、
着色部が他の染料と混色するという問題も生じにくい。
ると他の染料で着色され難いという性質を有するため、
着色部が他の染料と混色するという問題も生じにくい。
【００２６】以下に、一般式（Ｉ）で表されるシリコン
化合物の好ましい具体例を示す。
化合物の好ましい具体例を示す。
【００２７】
【外６】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ 等が挙げられる。
【００２８】
【外７】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐ
ｈ 等が挙げられる。
ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐ
ｈ 等が挙げられる。
【００２９】
【外８】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐ
ｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐｈ 等が挙げられる。
ｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐｈ 等が挙げられる。
【００３０】
【外９】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐ
ｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐｈ 等が挙げられる。
ｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐｈ 等が挙げられる。
【００３１】
【外１０】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝＝−ＣＨ3，Ｒ4＝
−Ｐｈ 等が挙げられる。
ＣＨ3 Ｒ1＝＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝＝−ＣＨ3，Ｒ4＝
−Ｐｈ 等が挙げられる。
【００３２】
【外１１】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝＝−ＣＨ3，Ｒ4＝
−Ｐｈ 等が挙げられる。
ＣＨ3 Ｒ1＝＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝＝−ＣＨ3，Ｒ4＝
−Ｐｈ 等が挙げられる。
【００３３】
【外１２】 特に好ましい例としては、 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝−ＣＨ3 Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−Ｐｈ，Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐ
ｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐｈ 等が挙げられる。
ｈ Ｒ1＝−ＣＨ3，Ｒ2＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ3＝Ｒ4＝−
ＣＨ3 Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝−ＣＨ3，Ｒ4＝−Ｐｈ 等が挙げられる。
【００３４】本発明で使用するシリコン化合物は、重量
平均分子量１０００〜３０００００００のものが好まし
く用いられる。この重量平均分子量が１０００未満で
は、成膜性が低下し、３０００００００を越えると溶解
性、インク吸収性が低下する。
平均分子量１０００〜３０００００００のものが好まし
く用いられる。この重量平均分子量が１０００未満で
は、成膜性が低下し、３０００００００を越えると溶解
性、インク吸収性が低下する。
【００３５】これらのシリコン化合物を増感する目的
で、フタルイミドトリフレート等の電子移動添加剤を添
加しても良い。
で、フタルイミドトリフレート等の電子移動添加剤を添
加しても良い。
【００３６】樹脂層の形成には、スピンコート、ロール
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコート
等の塗布方法を用いることができ、特に限定されるもの
ではない。樹脂層の厚さは、０．５〜１０μｍ、好まし
くは１〜１０μｍの範囲が望ましい。
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコート
等の塗布方法を用いることができ、特に限定されるもの
ではない。樹脂層の厚さは、０．５〜１０μｍ、好まし
くは１〜１０μｍの範囲が望ましい。
【００３７】次いで、ブラックマトリクス２をマスクと
して、基板側より全面露光を行い、ブラックマトリクス
により囲まれた開口部上の樹脂及びブラックマトリクス
上の一部の樹脂層を露光した後（図１（ｃ））、インク
ジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色のインクを
同一層に付与して露光部１７を着色し、その後熱処理を
行ってインクの乾燥及び樹脂層の硬化を行う（図１
（ｄ））。未露光部８は、異色間の仕切り壁となり、混
色防止壁として機能する。
して、基板側より全面露光を行い、ブラックマトリクス
により囲まれた開口部上の樹脂及びブラックマトリクス
上の一部の樹脂層を露光した後（図１（ｃ））、インク
ジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色のインクを
同一層に付与して露光部１７を着色し、その後熱処理を
行ってインクの乾燥及び樹脂層の硬化を行う（図１
（ｄ））。未露光部８は、異色間の仕切り壁となり、混
色防止壁として機能する。
【００３８】カラーフィルタの白抜け（着色部とブラッ
クマトリクスとの境界部に生じる色抜け）を防止するた
めには、ブラックマトリクスの開口部よりも広い面積に
わたって着色することが好ましく、マスクとして用いた
ブラックマトリクスの開口部の面積よりも広い面積の樹
脂層中の樹脂を反応させるためには、露光の際、照射光
として拡散光を用いるのが好ましい。あるいはオーバー
露光を行って反応を拡散させる等も有効な手段である。
図１では、ブラックマトリクスをマスクとして用いた例
を示しているが、フォトマスクを用いて樹脂層側からパ
ターン露光を行っても良い。
クマトリクスとの境界部に生じる色抜け）を防止するた
めには、ブラックマトリクスの開口部よりも広い面積に
わたって着色することが好ましく、マスクとして用いた
ブラックマトリクスの開口部の面積よりも広い面積の樹
脂層中の樹脂を反応させるためには、露光の際、照射光
として拡散光を用いるのが好ましい。あるいはオーバー
露光を行って反応を拡散させる等も有効な手段である。
図１では、ブラックマトリクスをマスクとして用いた例
を示しているが、フォトマスクを用いて樹脂層側からパ
ターン露光を行っても良い。
【００３９】その際用いるフォトマスクとしては、基板
上に設けられたブラックマトリクス２とそれにより形成
される開口部との境界部における白抜けを防止するため
に、ブラックマトリクスにより形成される開口部の面積
よりも大きな開口部を有するフォトマスクを用いること
が望ましい。具体的には、ブラックマトリクスのエッジ
部から３μｍ以上内側のブラックマトリクス上に未露光
部が形成されるようにすることが望ましい。
上に設けられたブラックマトリクス２とそれにより形成
される開口部との境界部における白抜けを防止するため
に、ブラックマトリクスにより形成される開口部の面積
よりも大きな開口部を有するフォトマスクを用いること
が望ましい。具体的には、ブラックマトリクスのエッジ
部から３μｍ以上内側のブラックマトリクス上に未露光
部が形成されるようにすることが望ましい。
【００４０】着色に用いる色材としては、色素系、顔料
系共に用いることが可能である。さらにインクジェット
方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体
を用いたバブルジェットタイプ、あるいは圧電素子を用
いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、これを
用いると、着色面積および着色パターンは任意に設定す
ることができる。
系共に用いることが可能である。さらにインクジェット
方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体
を用いたバブルジェットタイプ、あるいは圧電素子を用
いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、これを
用いると、着色面積および着色パターンは任意に設定す
ることができる。
【００４１】本例においては基板上にブラックマトリク
スが形成された例を示してあるが、ブラックマトリクス
は、樹脂層を形成した後、あるいは樹脂層を着色後に樹
脂層上に形成されたもの、あるいはカラーフィルタ基板
と液晶層を介して対向する基板側に形成されたものであ
っても良く、その形態は本例に限定されるものではな
い。また、ブラックマトリクスの形成方法としては、基
板上にスパッタもしくは蒸着により金属薄膜を形成し、
フォトリソ工程によりパターニングする方法、あるいは
黒色の感光性樹脂を用い直接フォトリソ工程によりパタ
ーニングする方法が一般的であるが、これらに限定され
るものではない。
スが形成された例を示してあるが、ブラックマトリクス
は、樹脂層を形成した後、あるいは樹脂層を着色後に樹
脂層上に形成されたもの、あるいはカラーフィルタ基板
と液晶層を介して対向する基板側に形成されたものであ
っても良く、その形態は本例に限定されるものではな
い。また、ブラックマトリクスの形成方法としては、基
板上にスパッタもしくは蒸着により金属薄膜を形成し、
フォトリソ工程によりパターニングする方法、あるいは
黒色の感光性樹脂を用い直接フォトリソ工程によりパタ
ーニングする方法が一般的であるが、これらに限定され
るものではない。
【００４２】次いで、必要に応じて樹脂層３上に保護層
６を形成する（図１（ｅ））。
６を形成する（図１（ｅ））。
【００４３】保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タ
イプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッ
タ等によって形成された無機膜等を用いることができ、
カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩ
ＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるも
のであれば使用可能である。
イプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッ
タ等によって形成された無機膜等を用いることができ、
カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩ
ＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるも
のであれば使用可能である。
【００４４】図２に、対向する基板にブラックマトリク
スを設けた液晶パネル（図７）に用いるカラーフィルタ
の製造方法を示す。
スを設けた液晶パネル（図７）に用いるカラーフィルタ
の製造方法を示す。
【００４５】カラーフィルタ基板側にではなく、カラー
フィルタと対向する基板側にブラックマトリクスを設け
る方法は、開口率を向上させる方法として有効である。
フィルタと対向する基板側にブラックマトリクスを設け
る方法は、開口率を向上させる方法として有効である。
【００４６】まず、基板１上に上記のシリコン化合物を
含む樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行
って樹脂層３を形成する（図２（ｂ））。
含む樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行
って樹脂層３を形成する（図２（ｂ））。
【００４７】次いで、フォトマスク４を使用して樹脂層
３をパターン露光し、樹脂組成物を反応させて、露光部
１７と未露光部８のパターンを樹脂層３に形成した後
（図２（ｃ））、インクジェットヘッド５を用いて露光
部１７にＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを同一層に付与し、そ
の後熱処理を行って着色された樹脂層を硬化させ（図２
（ｄ））、必要に応じて樹脂層３上に保護層６を形成す
る（図２（ｅ））。
３をパターン露光し、樹脂組成物を反応させて、露光部
１７と未露光部８のパターンを樹脂層３に形成した後
（図２（ｃ））、インクジェットヘッド５を用いて露光
部１７にＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを同一層に付与し、そ
の後熱処理を行って着色された樹脂層を硬化させ（図２
（ｄ））、必要に応じて樹脂層３上に保護層６を形成す
る（図２（ｅ））。
【００４８】パターン露光の際のフォトマスク４として
は、インクジェットヘッド５により着色される部分の樹
脂層３を露光するための開口部を有するものを使用す
る。この際、対向する基板に設けられたブラックマトリ
クス（図７）とその開口部の境界部における白抜けを防
止するためには、多めのインクを吐出する必要があるこ
とを考慮すると、ブラックマトリクスにより形成された
開口部の面積よりも広い開口部を有するフォトマスクを
用いることが好ましい。具体的には、対向する基板に設
けられたブラックマトリクスのエッジ部から３μｍ以上
内側に未露光部を形成するようにすることが望ましい。
は、インクジェットヘッド５により着色される部分の樹
脂層３を露光するための開口部を有するものを使用す
る。この際、対向する基板に設けられたブラックマトリ
クス（図７）とその開口部の境界部における白抜けを防
止するためには、多めのインクを吐出する必要があるこ
とを考慮すると、ブラックマトリクスにより形成された
開口部の面積よりも広い開口部を有するフォトマスクを
用いることが好ましい。具体的には、対向する基板に設
けられたブラックマトリクスのエッジ部から３μｍ以上
内側に未露光部を形成するようにすることが望ましい。
【００４９】図３は、ストライプ状及びマトリクス状に
パターン露光してなる本発明のカラーフィルタの平面図
を示したものである。
パターン露光してなる本発明のカラーフィルタの平面図
を示したものである。
【００５０】パターン露光は、図３（ａ）に示すように
ストライプ状に行っても良く、この場合にはストライプ
状着色パターンを有するカラーフィルタの製造に好適で
あり、又図３（ｂ）に示すようにマトリクス状に行って
も良く、この場合にはマトリクス状着色パターンを有す
るカラーフィルタの製造に好適である。
ストライプ状に行っても良く、この場合にはストライプ
状着色パターンを有するカラーフィルタの製造に好適で
あり、又図３（ｂ）に示すようにマトリクス状に行って
も良く、この場合にはマトリクス状着色パターンを有す
るカラーフィルタの製造に好適である。
【００５１】図４及び図５に、本発明の製造方法の別の
態様を示す。この態様は、カラーフィルタと同時にブラ
ックマトリクスを形成する方法である。
態様を示す。この態様は、カラーフィルタと同時にブラ
ックマトリクスを形成する方法である。
【００５２】まずガラス基板１上に樹脂層３を形成する
（図４（ａ））。次いでフォトマスク４を使用して樹脂
層３に対してパターン露光を行うことにより、露光部１
７と未露光部８のパターンを樹脂層３に形成した後（図
４（ｂ））、インクジェットヘッド５を用いて露光部１
７にＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを同一層に付与し、その後
熱処理を行って着色された膜を硬化させる（図４
（ｃ））。
（図４（ａ））。次いでフォトマスク４を使用して樹脂
層３に対してパターン露光を行うことにより、露光部１
７と未露光部８のパターンを樹脂層３に形成した後（図
４（ｂ））、インクジェットヘッド５を用いて露光部１
７にＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを同一層に付与し、その後
熱処理を行って着色された膜を硬化させる（図４
（ｃ））。
【００５３】更に樹脂層３に対して全面露光を行って未
露光部８を露光した後（図４（ｄ））、インクジェット
ヘッド５を用いてブラック染料を含むインクを樹脂層の
８に付与してブラックマトリクスを形成し、その後熱処
理を行って硬化させ、必要に応じて洗浄する（図４
（ｅ））。
露光部８を露光した後（図４（ｄ））、インクジェット
ヘッド５を用いてブラック染料を含むインクを樹脂層の
８に付与してブラックマトリクスを形成し、その後熱処
理を行って硬化させ、必要に応じて洗浄する（図４
（ｅ））。
【００５４】本例では、ブラックマトリクスの形成にイ
ンクジェット方式を採用したが、これに限定されるもの
ではなく、ブラック染料あるいはブラック顔料を含む染
色液中に樹脂層３を浸漬させて着色しても良い。
ンクジェット方式を採用したが、これに限定されるもの
ではなく、ブラック染料あるいはブラック顔料を含む染
色液中に樹脂層３を浸漬させて着色しても良い。
【００５５】その後、必要に応じて樹脂層３上に保護層
６を形成する（図４（ｆ））。
６を形成する（図４（ｆ））。
【００５６】図５に示す製造方法は、図４のそれとは異
なり、ブラックマトリクスを最初に形成する例である。
なり、ブラックマトリクスを最初に形成する例である。
【００５７】まず図４と同様に、ガラス基板１上に樹脂
層３を形成する（図５（ａ））。次いでフォトマスク４
を使用して樹脂層３に対してパターン露光を行うことに
より、露光部１７と未露光部８のパターンを樹脂層３に
形成した後（図５（ｂ））、インクジェットヘッド５を
用いてブラック染料を含むインクを露光部１７に付与し
てブラックマトリクスを形成し、その後熱処理を行って
硬化させ、必要に応じて洗浄する（図５（ｃ））。図４
に示す例と同様に、インクジェット方式に代えて、ブラ
ック染料あるいはブラック顔料を含む染色液中に樹脂層
３を浸漬させて着色しても良い。
層３を形成する（図５（ａ））。次いでフォトマスク４
を使用して樹脂層３に対してパターン露光を行うことに
より、露光部１７と未露光部８のパターンを樹脂層３に
形成した後（図５（ｂ））、インクジェットヘッド５を
用いてブラック染料を含むインクを露光部１７に付与し
てブラックマトリクスを形成し、その後熱処理を行って
硬化させ、必要に応じて洗浄する（図５（ｃ））。図４
に示す例と同様に、インクジェット方式に代えて、ブラ
ック染料あるいはブラック顔料を含む染色液中に樹脂層
３を浸漬させて着色しても良い。
【００５８】その後、ブラックマトリクスが形成された
樹脂層３に対して全面露光を行って未露光部８を露光し
た後（図５（ｄ））、インクジェットヘッド５を用いて
樹脂層の部位８にＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを同一層に付
与し、その後熱処理を行って着色された膜を硬化させる
（図５（ｅ））。
樹脂層３に対して全面露光を行って未露光部８を露光し
た後（図５（ｄ））、インクジェットヘッド５を用いて
樹脂層の部位８にＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを同一層に付
与し、その後熱処理を行って着色された膜を硬化させる
（図５（ｅ））。
【００５９】その後、必要に応じて樹脂層３上に保護層
６を形成する（図５（ｆ））。
６を形成する（図５（ｆ））。
【００６０】以上、図４及び図５に示した製造方法で
は、カラーフィルタとブラックマトリクスを同時に形成
することができるため、製造工程が簡略化され、製造コ
ストを大幅に低減することができる。
は、カラーフィルタとブラックマトリクスを同時に形成
することができるため、製造工程が簡略化され、製造コ
ストを大幅に低減することができる。
【００６１】図６及び図７に、本発明によるカラーフィ
ルタを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示
す。なお、その形態は本例に限定されるものではない。
ルタを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示
す。なお、その形態は本例に限定されるものではない。
【００６２】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルタ基板１と対向基板１４を合わせ込み、液晶化合物１
２を封入することにより形成される。液晶パネルの一方
の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電
極１３がマトリクス状に形成される。又、もう一方の基
板１の内側には、画素電極に対向する位置にＲＧＢの色
材が配列するようにカラーフィルタ９が設置され、その
上に透明な対向電極（共通電極）１０が一面に形成され
る。ブラックマトリクス２は、通常カラーフィルタ基板
側に形成されるが（図６）、ＢＭオンアレイタイプの液
晶パネルにおいては対向するＴＦＴ基板側に形成される
（図７）。更に、両基板の面内には配向膜１１が形成さ
れており、これをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。又、それぞれの
ガラス基板の外側には偏光板１５が接着されており、液
晶化合物１２は、これらのガラス基板の間隙（２〜５μ
ｍ程度）に充填される。又、バックライトとしては蛍光
灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせが一般的
に用いられており、液晶化合物１２をバックライト光の
透過率を変化させる光シャッターとして機能させること
により表示を行う。
ルタ基板１と対向基板１４を合わせ込み、液晶化合物１
２を封入することにより形成される。液晶パネルの一方
の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電
極１３がマトリクス状に形成される。又、もう一方の基
板１の内側には、画素電極に対向する位置にＲＧＢの色
材が配列するようにカラーフィルタ９が設置され、その
上に透明な対向電極（共通電極）１０が一面に形成され
る。ブラックマトリクス２は、通常カラーフィルタ基板
側に形成されるが（図６）、ＢＭオンアレイタイプの液
晶パネルにおいては対向するＴＦＴ基板側に形成される
（図７）。更に、両基板の面内には配向膜１１が形成さ
れており、これをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。又、それぞれの
ガラス基板の外側には偏光板１５が接着されており、液
晶化合物１２は、これらのガラス基板の間隙（２〜５μ
ｍ程度）に充填される。又、バックライトとしては蛍光
灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせが一般的
に用いられており、液晶化合物１２をバックライト光の
透過率を変化させる光シャッターとして機能させること
により表示を行う。
【００６３】（実施例）以下、実施例により本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
【００６４】実施例１ 図１に示すように、ブラックマトリクス２の形成された
ガラス基板１上に、例示化合物１で示すメチルフェニル
ポリシラン（重量平均分子量５０００）を乾燥膜厚が１
μｍになるようにスピンコートし、９０℃で２０分間の
プリベークを行って樹脂層３を形成した。
ガラス基板１上に、例示化合物１で示すメチルフェニル
ポリシラン（重量平均分子量５０００）を乾燥膜厚が１
μｍになるようにスピンコートし、９０℃で２０分間の
プリベークを行って樹脂層３を形成した。
【００６５】次いで、基板側より水銀灯を用いて２Ｊ／
ｃｍ2 の光量の紫外線を照射して樹脂層に対して全面露
光を行い、図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリク
ス２上の樹脂層３をパターン露光した。
ｃｍ2 の光量の紫外線を照射して樹脂層に対して全面露
光を行い、図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリク
ス２上の樹脂層３をパターン露光した。
【００６６】次いで、露光部に対して、インクジェット
ヘッド５を用いてそれぞれＲ、Ｇ、Ｂの染料をそれぞれ
含む３色のインクを付与し、マトリクス状のパターンを
着色した後、９０℃で５分間及び２３０℃で３０分間の
熱処理を行って樹脂層を硬化させた。
ヘッド５を用いてそれぞれＲ、Ｇ、Ｂの染料をそれぞれ
含む３色のインクを付与し、マトリクス状のパターンを
着色した後、９０℃で５分間及び２３０℃で３０分間の
熱処理を行って樹脂層を硬化させた。
【００６７】次いで、保護層として二液型の熱硬化型樹
脂組成物（日本合成ゴム製、商品名：オプトマ−ＳＳ−
６６８８）を膜厚が１μｍになるようにスピンコート
し、９０℃で３０分間のプリベークを行って第２の樹脂
層（保護層）を形成した。更に２３０℃で３０分間の熱
処理を行って第２の樹脂層を硬化させることにより、本
発明のカラーフィルタを作成した。
脂組成物（日本合成ゴム製、商品名：オプトマ−ＳＳ−
６６８８）を膜厚が１μｍになるようにスピンコート
し、９０℃で３０分間のプリベークを行って第２の樹脂
層（保護層）を形成した。更に２３０℃で３０分間の熱
処理を行って第２の樹脂層を硬化させることにより、本
発明のカラーフィルタを作成した。
【００６８】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００６９】また、このようにして作成された液晶用カ
ラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
ラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
【００７０】実施例２ 実施例１において、例示化合物２に示すメチルフェニル
ポリシラン−ジフェニルシロキサン共重合体（重量平均
分子量１２０００）を用いたことを除いて実施例１と同
様にして液晶用のカラーフィルタを作成した。
ポリシラン−ジフェニルシロキサン共重合体（重量平均
分子量１２０００）を用いたことを除いて実施例１と同
様にして液晶用のカラーフィルタを作成した。
【００７１】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００７２】また、このようにして作成された液晶用カ
ラーフィルタを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを作
成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であっ
た。
ラーフィルタを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを作
成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であっ
た。
【００７３】実施例３ 実施例１において、例示化合物３に示すジシラニレンフ
ェニレンポリマー（重量平均分子量４５００）を用いた
ことを除いて実施例１と同様にして液晶用のカラーフィ
ルタを作成した。
ェニレンポリマー（重量平均分子量４５００）を用いた
ことを除いて実施例１と同様にして液晶用のカラーフィ
ルタを作成した。
【００７４】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００７５】また、このようにして作成された液晶用カ
ラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
ラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
【００７６】実施例４ 実施例１において、樹脂組成物として、例示化合物１に
示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５００
０）とフタルイミドトリフレートからなるものを使用し
たことを除いて、実施例１と同様にして本発明のカラー
フィルタを作成した。
示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５００
０）とフタルイミドトリフレートからなるものを使用し
たことを除いて、実施例１と同様にして本発明のカラー
フィルタを作成した。
【００７７】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００７８】また、このようにして作成された液晶用カ
ラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
ラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
【００７９】実施例５ 図２に示すように、ガラス基板１上に、例示化合物１で
示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５００
０）を乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコートし、
９０℃で２０分間のプリベークを行って樹脂層３を形成
した。
示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５００
０）を乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコートし、
９０℃で２０分間のプリベークを行って樹脂層３を形成
した。
【００８０】次いで、対向する基板に備えられたブラッ
クマトリクス（図７）の開口部よりも広い開口部を有す
るフォトマスク４を介して実施例１と同様の照射量でパ
ターン露光を行なった。
クマトリクス（図７）の開口部よりも広い開口部を有す
るフォトマスク４を介して実施例１と同様の照射量でパ
ターン露光を行なった。
【００８１】その後、実施例１と同様に着色を行い、保
護層を設けて本発明のカラーフィルタを作成した。
護層を設けて本発明のカラーフィルタを作成した。
【００８２】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００８３】また、このようにして作成された液晶用カ
ラーフィルターを用いて図７に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
ラーフィルターを用いて図７に示すＴＦＴ液晶パネルを
作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であ
った。
【００８４】実施例６ 図４に示すとおり、ガラス基板１上に、実施例１で用い
たポリシランを乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコ
ートし、９０℃で２０分間のプリベークを行ってポリシ
ラン膜３を形成した。次いで水銀灯を用いて２Ｊ／ｃｍ
2 の光量の紫外線をマスク４を介して照射し、ポリシラ
ン膜３に露光部１７と未露光部８のパターンを形成し
た。
たポリシランを乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコ
ートし、９０℃で２０分間のプリベークを行ってポリシ
ラン膜３を形成した。次いで水銀灯を用いて２Ｊ／ｃｍ
2 の光量の紫外線をマスク４を介して照射し、ポリシラ
ン膜３に露光部１７と未露光部８のパターンを形成し
た。
【００８５】露光部１７に対してインクジェットヘッド
５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを付与し、マトリク
ス状のパターンを着色した後、９０℃で５分間熱処理を
行って硬化させた。
５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを付与し、マトリク
ス状のパターンを着色した後、９０℃で５分間熱処理を
行って硬化させた。
【００８６】その後、ポリシラン膜３に対して上記と同
じ光を照射して全面露光を行い、未露光部８を露光した
後、インクジェットヘッド５を用いてブラック染料を含
むインクをポリシラン膜３の部位８に付与してブラック
マトリクスを形成し、その後熱処理を行って硬化させ、
表面を洗浄した。
じ光を照射して全面露光を行い、未露光部８を露光した
後、インクジェットヘッド５を用いてブラック染料を含
むインクをポリシラン膜３の部位８に付与してブラック
マトリクスを形成し、その後熱処理を行って硬化させ、
表面を洗浄した。
【００８７】次いで、実施例１と同様にして、ポリシラ
ン膜３上に保護層６を形成した。
ン膜３上に保護層６を形成した。
【００８８】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ等の障害は観察されなかった。
【００８９】
【発明の効果】本発明による液晶用カラーフィルタの製
造方法を採用することにより、混色、色ムラ、白抜け等
の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価
に製造することができる。
造方法を採用することにより、混色、色ムラ、白抜け等
の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価
に製造することができる。
【００９０】また本発明の別の態様では、カラーフィル
タとブラックマトリクスを同時に形成することができる
ので、製造工程をより簡略にし、製造コストを低減する
ことができる。
タとブラックマトリクスを同時に形成することができる
ので、製造工程をより簡略にし、製造コストを低減する
ことができる。
【図１】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法
を示す図である。
を示す図である。
【図２】本発明による液晶用カラーフィルタの別の製造
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図３】本発明の液晶用カラーフィルタの平面図であ
る。
る。
【図４】本発明による液晶用カラーフィルタの別の製造
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図５】本発明による液晶用カラーフィルタの別の製造
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図６】本発明による液晶用カラーフィルタを搭載した
液晶パネルの断面図である。
液晶パネルの断面図である。
【図７】本発明による液晶用カラーフィルタを搭載した
液晶パネルの断面図である。
液晶パネルの断面図である。
１ 基板 ２ ブラックマトリクス ３ 樹脂層 ４ フォトマスク ５ インクジェットヘッド ６ 保護層 ７ ブラックマトリクスによる開口部（光透過部） ８ 未露光部 １７ 露光部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城田 勝浩 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 横井 英人 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 佐藤 博 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内
Claims (16)
- 【請求項１】 インクジェット方式を用いてインクを付
与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であ
って、 （１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位
を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工
程、 【外１】 （但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） （２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中
に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、 （３）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付
与し、該樹脂層の露光部を着色する工程と （４）着色された該樹脂層を硬化させる工程とを有する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 基板が遮光部を有する請求項１に記載の
カラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】 遮光部をマスクとして基板側からパター
ン露光する請求項２に記載のカラーフィルタの製造方
法。 - 【請求項４】 基板上に形成された樹脂層の露光部の面
積が、遮光部により形成される開口部の面積より大きい
請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 硬化した樹脂層上に保護層を形成する請
求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 シリコン化合物の重量平均分子量が、１
０００〜３０００００００の範囲にある請求項１に記載
のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項７】 樹脂層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲
にある請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項８】 遮光部がストライプ状もしくはマトリク
ス状に設けられている請求項２に記載のカラーフィルタ
の製造方法。 - 【請求項９】 樹脂層の着色部が仕切り壁を介して設け
られている請求項１に記載のカラーフィルタの製造方
法。 - 【請求項１０】 レッド、グリーン、ブルーの各インク
が付与される請求項１に記載のカラーフィルタの製造方
法。 - 【請求項１１】 インクジェット方式を用いてインクを
付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法で
あって、 （１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位
を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工
程、 【外２】 （但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） （２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中
に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、 （３）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付
与し、該樹脂層の露光部を着色する工程、 （４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光する工
程、 （５）（４）の露光部をブラックに着色する工程とを含
むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項１２】 インクジェット方式を用いてインクを
付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法で
あって、 （１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位
を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工
程、 【外３】 （但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換
の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であ
っても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時
に水素になることはない） （２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中
に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、 （３）露光部をブラックに着色する工程、 （４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光する工
程、 （５）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付
与し、（４）の露光部を着色する工程とを、含むことを
特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項１３】 樹脂層の厚さが０．５〜１０μｍの範
囲にある請求項１１もしくは１２に記載のカラーフィル
タの製造方法。 - 【請求項１４】 レッド、グリーン、ブルーの各インク
が付与される請求項１１もしくは１２に記載のカラーフ
ィルタの製造方法。 - 【請求項１５】 シリコン化合物の重量平均分子量が、
１０００〜３０００００００の範囲にある請求項１１も
しくは１２に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項１６】 着色樹脂層上に保護層を形成する請求
項１１もしくは１２に記載のカラーフィルタの製造方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7324496A JPH08227012A (ja) | 1994-12-21 | 1995-12-13 | カラーフィルタの製造方法 |
| DE69520417T DE69520417T2 (de) | 1994-12-21 | 1995-12-20 | Herstellungsverfahren für Farbfilter |
| EP95120145A EP0718644B1 (en) | 1994-12-21 | 1995-12-20 | Production process of color filter |
| KR1019950053761A KR100226641B1 (ko) | 1994-12-21 | 1995-12-21 | 칼라 필터의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31831594 | 1994-12-21 | ||
| JP6-318315 | 1994-12-21 | ||
| JP7324496A JPH08227012A (ja) | 1994-12-21 | 1995-12-13 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08227012A true JPH08227012A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=26569328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7324496A Withdrawn JPH08227012A (ja) | 1994-12-21 | 1995-12-13 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0718644B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08227012A (ja) |
| KR (1) | KR100226641B1 (ja) |
| DE (1) | DE69520417T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8040470B2 (en) | 2005-12-16 | 2011-10-18 | Fujifilm Corporation | Method for producing partition wall for color filter, substrate with partition wall for color filter, color filter for display element, and display device |
| US9679535B2 (en) | 2014-04-15 | 2017-06-13 | Japan Display Inc. | Display device and display control method |
| US10310678B2 (en) | 2014-04-15 | 2019-06-04 | Japan Display Inc. | Electrode substrate, display device, input device, and method of manufacturing electrode substrate |
| US10698512B2 (en) | 2014-03-18 | 2020-06-30 | Japan Display Inc. | Electrode substrate, display device, input device and method of manufacturing electrode substrate |
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| US7435515B2 (en) * | 2001-09-12 | 2008-10-14 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Process for production of pattern-forming body |
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-
1995
- 1995-12-13 JP JP7324496A patent/JPH08227012A/ja not_active Withdrawn
- 1995-12-20 EP EP95120145A patent/EP0718644B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-20 DE DE69520417T patent/DE69520417T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-21 KR KR1019950053761A patent/KR100226641B1/ko not_active IP Right Cessation
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| US8007577B2 (en) | 2005-12-28 | 2011-08-30 | Fujifilm Corporation | Ink, color filter, and method for manufacturing the same, and display device |
| US10698512B2 (en) | 2014-03-18 | 2020-06-30 | Japan Display Inc. | Electrode substrate, display device, input device and method of manufacturing electrode substrate |
| US9679535B2 (en) | 2014-04-15 | 2017-06-13 | Japan Display Inc. | Display device and display control method |
| US10310678B2 (en) | 2014-04-15 | 2019-06-04 | Japan Display Inc. | Electrode substrate, display device, input device, and method of manufacturing electrode substrate |
| US10768761B2 (en) | 2014-04-15 | 2020-09-08 | Japan Display Inc. | Detection device |
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|---|---|
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| DE69520417D1 (de) | 2001-04-26 |
| EP0718644A2 (en) | 1996-06-26 |
| KR960024573A (ko) | 1996-07-20 |
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| DE69520417T2 (de) | 2001-10-04 |
| EP0718644A3 (en) | 1998-01-28 |
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