JPH0766669B2 - デコーダバッファ回路 - Google Patents

デコーダバッファ回路

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JPH0766669B2
JPH0766669B2 JP3685088A JP3685088A JPH0766669B2 JP H0766669 B2 JPH0766669 B2 JP H0766669B2 JP 3685088 A JP3685088 A JP 3685088A JP 3685088 A JP3685088 A JP 3685088A JP H0766669 B2 JPH0766669 B2 JP H0766669B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に用いられるデコーダバッファ
回路に関する。
〔従来の技術〕 第4図は従来のデコーダバッファ回路の一例であるノア
回路を用いたものの回路図、第5図は第4図のノア回路
の具体的構成を示す回路図である。
本従来例のデコーダバッファ回路10は、デコーダ回路9
(ナンド回路5,6により構成されている)の出力を受
け、ワード線W0,W1を駆動する2入力ノア回路7,8からな
っており、これらノア回路7,8の他方の入力端には制御
信号Vpが入力される。デコーダ回路9を構成するナンド
回路5(6)の入力は、アドレス信号の最下位ビットA0
)からAn)までのn+1ビットである。ア
ドレス信号の最下位ビットA0〜Anがすべてローレベルの
ときに、ナンド回路6の出力がローレベルとなり、角ビ
ットA0〜Anがすべてハイレベルのときナンド回路5の出
力がハイレベルとなる。制御信号Vpは、ワード線W0,W1
を駆動すべきタイミングだけローレベルとなり、このと
き、デコーダ回路9からのローレベル信号を受けたノア
回路7,8の出力がハイレベルとなってワード線W0,W1を駆
動する。
ノア回路7,8は、PMOSトランジスタM13,M14とNMOSトラン
ジスタM15,M16とから構成されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来のデコーダバッファ回路は、ワード線駆動
回路(ノア回路)が4個のMOS素子で構成されており、
また、デコーダ回路を構成するn+1ビット入力のナン
ド回路は、CMOSICにおいては、周知のように2(n+
1)個のMOSトランジスタから構成されるため、1本の
ワード線を駆動するために必要なMOSトランジスタの数
は、2(n+1)+4(=2n+6)個となり、素子数が
多いためIC化した場合の専有面積が大きくなり、また、
消費電力の増大を招くという欠点がある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のデコーダバッファ回路は、アドレスデコーダ回
路のデコード出力を受けて特定のメモリセルを選択する
ためのワード線を駆動するデコーダバッファ回路であっ
て、 第1の導電型を有する第1のMOSトランジスタと、第1
の導電型とは反対導電型である第2の導電型を有する第
2のMOSトランジスタとで構成される第1のCMOSインバ
ータと、 第1の導電型を有する第3のMOSトランジスタと、第2
の導電型を有する第4のMOSトランジスタとで構成され
る第2のCMOSインバータと、 第1および第2のCMOSインバータと動作電位点との間に
設けられた第1の導電型の第5のMOSトランジスタと、 第1のCMOSインバータにおける第1および第2のMOSト
ランジスタの共通接続点と、第2のCMOSインバータにお
ける第3および第4のMOSトランジスタの共通接続点と
の間にソース・ドレイン経路が接続された第2の導電型
の第6のMOSトランジスタとを有し、 第1のCMOSインバータにおける第1および第2のMOSト
ランジスタの共通接続点と、第2のCMOSインバータにお
ける第3および第4のMOSトランジスタの共通接続点に
は、それぞれ第1,第2のワード線が接続されており、 第5および第6のMOSトランジスタのゲートは共通接続
され、その共通接続点には前記デコーダ回路からのデコ
ード出力が入力され、 第1および第2のCMOSインバータには、それぞれ第1お
よび第2の制御信号が入力され、前記デコーダ回路のデ
コード出力によりメモリセルが非選択状態になされると
きには、第1および第2の制御信号は、ハイあるいはロ
ーレベルに共通に固定されており、デコード出力により
メモリセルが選択されるときには、第1および第2の制
御信号のいずれか1つのレベルが反転するようになされ
ている。
〔作用〕
デコーダ回路を構成するnビット入力ナンド回路の出力
が、メモリセル非選択状態を示すレベルになっていると
きには、2つの制御信号は共通のレベルに固定され、2
つのワード線は共にローレベルとなる。nビット入力ナ
ンド回路の出力が、メモリセル選択状態を示すレベルと
なると、これと同期して制御信号のいずれか一方のレベ
ルが反転し、その反転した制御信号に対応したワード線
がハイレベルとなり選択される。このように、1つのデ
コーダバッファ回路で2本のワード線を駆動する構成と
することにより、1本のワード線を駆動するのに必要な
MOSトランジスタ数は従来の1/2となり、IC化した際のチ
ップ面積の削減、消費電力の低減を図ることができる。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図は本発明のデコーダフバッファ回路の一実施例の
回路図、第2図,第3図はそれぞれ第1図中のメモリセ
ル4の具体的回路図である。
本実施例のデコーダバッファ回路2は、PMOSトランジス
タM1〜M3とNMOSトランジスタM4〜M6とから構成されてい
る。PMOSトランジスタM2とNMOSトランジスタM5は第1の
CMOSインバータ12を構成しており、PMOSトランジスタM3
とNMOSトランジスタM6とは第2のCMOSインバータ13を構
成している。第1,第2のCMOSインバータ12,13と電源VDD
との間にはPMOSトランジスタM1が設けられ、それぞれの
CMOSインバータ12,13の出力点間にはNMOSトランジスタM
4が設けられている。PMOSトランジスタM1,NMOSトランジ
スタM4のゲートにはデコーダ回路1を構成するナンド回
路11の出力が入力され、これにより、導通/非導通が制
御される。また、第1および第2のCMOSインバータ12,1
3の入力は、それぞれ制御信号Vc1,Vc0であり、これらの
制御信号Vc1,Vc0はアドレス信号の最下位ビットA0の値
により、ワード線が駆動されるタイミングのみ、相補的
にローレベルとなるもので、制御信号発生回路14から出
力されラインL1,L2を介して供給される。ワード線W0,W1
は、それぞれ第2,第1のCMOSインバータ13,12の出力端
に接続されている。また、デコーダ回路1を構成するナ
ンド回路11の入力(アドレス信号)はA1〜Anのnビット
であり、制御信号Vc1,Vc0を発生させるために最下位ビ
ットA0が用いられていることに対応し、入力数は従来例
より1ビット少なくなっている。
メモリセル3,4に記憶されているデータはそれぞれワー
ド線W0,W1がハイレベルとなったときに相補データ線対
D,を介して読出される。メモリセル3,4は、第2図に
示されるようなスタティックRAMでもよく、あるいは、
第3図に示されるようなROMでもよい。第2図のスタテ
ィックRAMは、MOSトランジスタM7〜M10と高抵抗R1,R2
から構成され、第3図のROMは、NMOSトランジスタM11,M
12とで構成され、データが書込まれた状態ではいずれか
一方のNMOSトランジスタのしきい値電圧は高く、ワード
線W1が駆動されてもオンしないようになっている。本発
明による素子数減少の効果は、ワード線ピッチが小さい
ROMにおいて、特に有効となる。
次に、本実施例の動作を説明する。
メモリセル3,4が選択されず、ナンド回路11の出力がハ
イレベルのときには、制御信号Vc1,Vc0は共にハイレベ
ルとなっている。この状態では、PMOSトランジスタM1
オフして第1,第2のCMOSインバータ12,13は、共に電源V
DDから切離され、NMOSトランジスタM4がオンすることに
よりワード線W0,W1がショートされ、ソースが接地され
ているNMOSトランジスタM5,M6がオンしていることによ
り、ワード線W0,W1は、共にローレベルとなっている。
メモリセル3または4を選択するためにナンド回路11の
出力がローレベルとなると、このタイミングで、例え
ば、制御信号Vc1がローレベルとなる。すると、PMOSト
ランジスタM1がオンして第1および第2のCMOSインバー
タ12,13が電源VDDと接続され、NMOSトランジスタM4がオ
フすることによりワード線W0とW1とが電気的に切離さ
れ、PMOSトランジスタM2がオンすることにより電源VDD,
PMOSトランジスタM1,PMOSトランジスタM2を介してワー
ド線W1がプルアップされ、ハイレベルとなり、メモリセ
ル3が選択される。一方、PMOSトランジスタM3はオフし
たままなのでワード線W0はローレベルのままである。こ
のようにデコーダ回路1の出力により一対のワード線が
選択され、このタイミングで、アドレス信号の最下位ビ
ットA0の値に対応して、どちらか一方のワード線が選択
される。
本実施例では、nビット入力ナンド回路11は2n個のMOS
トランジスタで構成され、デコーダバッファ回路2は6
個のMOSトランジスタで構成されている。すなわち、合
計2n+6個のMOSトランジスタが2本のワード線を駆動
するのに必要であるので、1本あたり必要な素子数はn
+3個である。上述したように、従来例では、2n+6個
必要であり、本実施例によれば、素子数を半分にするこ
とができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、1つのデコーダバッファ
回路で2本のワード線を駆動する構成とすることによ
り、従来の半分の素子数でデコーダ回路およびデコーダ
バッファ回路を構成でき、ICのチップ面積の大幅な縮小
および消費電力の低減を図ることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のデコーダバッファ回路の一実施例の回
路図、第2図,第3図はそれぞれメモリセルの具体的回
路図、第4図はノア回路を用いた従来例の回路図、第5
図は従来例のノア回路の具体的回路図である。 1……デコーダ回路、 2……デコーダバッファ回路、 3,4……メモリセル、 11……ナンド回路、 12……第1のCMOSインバータ、 13……第2のCMOSインバータ、 14……制御信号発生回路、 M1,M2,M3……PMOSトランジスタ、 M5,M6,M7〜M12……NMOSトランジスタ、 R1,R2……抵抗、 A0〜An……アドレス信号、 W0,W1……ワード線、 D,……相補データ線対。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アドレスデコーダ回路のデコーダ出力を受
    けて特定のメモリセルを選択するためにワード線を駆動
    するデコーダバッファ回路であって、第1の導電型を有
    する第1のMOSトランジスタと、第1の導電型とは反対
    導電型である第2の導電型を有する第2のMOSトランジ
    スタとで構成される第1のCMOSインバータと、第1の導
    電型を有する第3のMOSトランジスタと、第2の導電型
    を有する第4のMOSトランジスタとで構成される第2のC
    MOSインバータと、第1および第2のCMOSインバータと
    動作電位点との間に設けられた第1の導電型の第5のMO
    Sトランジスタと、第1のCMOSインバータにおける第1
    および第2のMOSトランジスタの共通接続点と、第2のC
    MOSインバータにおける第3および第4のMOSトランジス
    タの共通接続点との間にソース・ドレイン経路が接続さ
    れた第2の導電型の第6のMOSトランジスタとを有し、
    第1のCMOSインバータにおける第1および第2のMOSト
    ランジスタの共通点と、第2のCMOSインバータにおける
    第3および第4のMOSトランジスタの共通接続点には、
    それぞれ第1、第2のワード線が接続されており、第5
    および第6のMOSトランジスタのゲートは共通接続さ
    れ、その共通接続点には前記デコーダ回路からのデコー
    ド出力が入力され、第1および第2のCMOSインバータに
    は、それぞれ第1および第2の制御信号が入力されてい
    るデコーダバッファ回路。
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