JPH07234302A - 耐湿性反射防止膜 - Google Patents

耐湿性反射防止膜

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JPH07234302A
JPH07234302A JP6025430A JP2543094A JPH07234302A JP H07234302 A JPH07234302 A JP H07234302A JP 6025430 A JP6025430 A JP 6025430A JP 2543094 A JP2543094 A JP 2543094A JP H07234302 A JPH07234302 A JP H07234302A
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optical
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秀雄 藤井
Kiyoshi Araki
清 荒木
Motokatsu Kato
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた
後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ること
ができる反射防止膜を提供すること。 【構成】 光学ガラス基板上に形成される複数の層から
成る反射防止膜であって、ＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から
成る高屈折率材料層と、ＳｉＯ2 から成る低屈折率材料
層とを有し、大気側最外層が上記高屈折率材料層である
ことを特徴とする耐湿性反射防止膜である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学機器を構成するレ
ンズ、プリズム等の光学部品、特に高湿度雰囲気で用い
られる光学部品に好適な反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】従来、光学機器を構成する
レンズ、プリズム等の光学部品に用いられる反射防止膜
としては、例えば、低屈折率材料としてＭｇＦ2 、高屈
折率材料としてＺｒＯ2 を用いた２層反射防止膜が用い
られており、ＢＫ７（屈折率１．５２）光学ガラス基板
上に設計波長５５０ｎｍで光学膜厚約２１６ｎｍのＺｒ
Ｏ2 から成る第一層及び光学膜厚約１０８ｎｍのＭｇＦ
2 から成る第二層を順次形成した反射防止膜が使用され
てきた。
【０００３】しかしながら、このような従来の反射防止
膜は、その表面に水滴が生じるような高湿度雰囲気で
は、水滴が長時間かけて蒸発した場合に水滴が存在した
部分に白い曇り状のフローマークが残り、このフローマ
ークはアルコール等の溶剤で拭き取っても簡単には落ち
ないという問題点があった。
【０００４】
【発明の目的】本発明は、上記の従来技術の問題点を解
消し、高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に
蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることがで
きる反射防止膜を提供することを目的とする。
【０００５】
【発明の概要】本発明は、反射防止膜を耐湿性の高い材
料から構成し、大気側の最外層を特定の高屈折率材料か
ら構成することによって上記目的を達成したものであ
る。すなわち、本発明の耐湿性反射防止膜は、光学ガラ
ス基板上に形成される複数の層から成る反射防止膜であ
って、ＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る高屈折率材料層
と、ＳｉＯ2 から成る低屈折率材料層とを有し、大気側
最外層が上記高屈折率材料層であることを特徴とする。
【０００６】反射防止膜を構成する材料を検討するた
め、様々な高屈折率材料及び低屈折率材料を用いて光学
ガラス（ＢＫ７ガラス）基板上に光学膜厚約１４０ｎｍ
の膜を真空蒸着法によって形成し、各膜面の耐湿試験を
行なった。すなわち、膜面に純水から成る水滴を載せ、
温度６５℃、相対湿度９５％の雰囲気中に１４時間放置
した後、その膜面の外観を観察した。次いで、その膜面
をアルコールで拭き取り、膜面の外観を評価した。外観
は、下記の基準で評価し、結果を表１に示す。
【０００７】水滴蒸発後の外観 ×：大きなフローマークが残る。 △：小さなフローマークが多数残る。 ○：小さなフローマークが残る。 アルコール拭き取り後の外観 ×：変化なし。 △：フローマークが薄く残る。 ○：フローマークが殆ど見えない。 ◎：フローマークは見えない。
【０００８】
【表１】
【０００９】反射防止膜を形成するには、高屈折率材料
と低屈折率材料との最低２種類の組合せが必要であり、
表１中の高屈折率材料はＡｌ2 Ｏ3 、Ｙ2 Ｏ3 、ＨｆＯ
2 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 及びＴａ2 Ｏ5 であり、低屈折
率材料はＳｉＯ2 及びＭｇＦ2 である。したがって、耐
湿性の優れたコート材料としては、表１から高屈折率材
料としてはＨｆＯ2 及びＴａ2 Ｏ5 が好適であり、低屈
折率材料としてはＳｉＯ2 が好適であることが判る。ま
た、従来、反射防止膜の構成は、通常、大気側最外層を
低屈折率材料とするのが一般的であるが、表１に示した
耐湿試験の結果から、低屈折率材料のＳｉＯ2 よりは、
高屈折率材料のＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5を最外層とする
ことが好ましいことが判る。
【００１０】本発明の反射防止膜は、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム
アシスト法など、任意の方法で形成することができる。
また、本発明の反射防止膜において、高屈折率材料層及
び低屈折率材料層は、それぞれ１層又は複数層から構成
することができるが、大気側最外層を高屈折率材料から
構成することが必要である。本発明の反射防止膜の好ま
しい構成は、光学ガラス基板上にＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ
5 から成る高屈折率材料層を有し、該高屈折率材料層上
にＳｉＯ2 から成る低屈折率材料層とＨｆＯ2 又はＴａ
2 Ｏ5 から成る高屈折率材料層とが、この順序で少なく
とも１回積層されたもの、あるいは、光学ガラス基板上
にＳｉＯ2 から成る低屈折率材料層とＨｆＯ2 又はＴａ
2 Ｏ5 から成る高屈折率材料層とが、この順序で複数回
繰り返して積層されたものであってよい。各層に好適な
膜厚は、使用した光学ガラス基板、各層の材料の種類な
どに応じて適宜選定することができる。
【００１１】具体的には、本発明において、光学ガラス
基板上に、設計波長５５０ｎｍで光学膜厚５０〜２００
ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第一層、光学膜
厚３５〜１２０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第二層及び光学
膜厚２０〜１００ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成
る第三層を順次形成して構成された反射防止膜が好まし
い。
【００１２】あるいは、光学ガラス基板上に、設計波長
５５０ｎｍで光学膜厚１５０〜４７０ｎｍのＨｆＯ2 又
はＴａ2 Ｏ5 から成る第一層、光学膜厚４５〜１５０ｎ
ｍのＳｉＯ2 から成る第二層、光学膜厚６５〜２００ｎ
ｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5から成る第三層、光学膜厚
４０〜１２０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第四層及び光学膜
厚２０〜１００ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る
第五層を順次形成して構成された反射防止膜も好まし
い。
【００１３】
【作用】耐湿性の優れたＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 を高屈
折率材料とし、耐湿性の比較的優れたＳｉＯ2 を低屈折
率材料として用いて反射防止膜を構成し、さらに大気側
最外層にＳｉＯ2 より耐湿性の優れた高屈折率材料のＨ
ｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 を使用することにより、優れた耐
湿性を有する反射防止膜が得られる。
【００１４】
【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれによって制限されるもので
はない。
【００１５】実施例１ 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚約１２１ｎｍのＨｆ
Ｏ2 から成る第一層、光学膜厚約７３ｎｍのＳｉＯ2 か
ら成る第二層及び光学膜厚約５０ｎｍのＨｆＯ2 から成
る第三層を順次形成して反射防止膜を作製した。
【００１６】実施例２ 屈折率１．５２のＢＫガラス基板を２５０℃に加熱し、
真空蒸着装置により光学膜厚約２９８ｎｍのＴａ2 Ｏ5
から成る第一層、光学膜厚約９０ｎｍのＳｉＯ2 から成
る第二層、光学膜厚約１２６ｎｍのＴａ2 Ｏ5 から成る
第三層、光学膜厚約７５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第四層
及び光学膜厚約５３ｎｍのＴａ2 Ｏ5 から成る第五層を
順次形成して反射防止膜を作製した。
【００１７】比較例１ 屈折率１．５２のＢＫガラス基板を２５０℃に加熱し、
真空蒸着装置により光学膜厚約２１６ｎｍのＺｒＯ2 か
ら成る第一層及び光学膜厚約１０８ｎｍのＭｇＦ2 から
成る第二層を順次形成して反射防止膜を作製した。
【００１８】比較例２ 屈折率１．５２のＢＫガラス基板を２５０℃に加熱し、
真空蒸着装置により光学膜厚約２１６ｎｍのＨｆＯ2 か
ら成る第一層及び光学膜厚約１０８ｎｍのＳｉＯ2 から
成る第二層を順次形成して反射防止膜を作製した。
【００１９】上記の実施例及び比較例で得た各反射防止
膜の分光反射率特性を測定し、それぞれ図１〜図４に示
す。いずれも設計波長５５０ｎｍを中心に波長幅４５〜
９７ｎｍで反射率０．５％以下という反射防止特性を示
していることが判る。
【００２０】耐湿試験 上記の実施例及び比較例で得た各反射防止膜上に純水か
ら成る水滴を載せ、温度６５℃、相対湿度９５％、１４
時間の耐湿試験を行い、結果を表２に示す。なお、評価
方法及び評価基準は、前記と同じである。
【００２１】
【表２】
【００２２】表２に示した結果から明らかなとおり、本
発明の反射防止膜は、従来の反射防止膜に比較して著し
く耐湿性に優れている。
【００２３】
【発明の効果】本発明の反射防止膜は、高い反射防止効
果を有するとともに、優れた耐湿性を有しているので、
高湿度雰囲気で用いられる光学部品への反射防止膜に最
適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
【図２】実施例２で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
【図３】比較例１で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
【図４】比較例２で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光学ガラス基板上に形成される複数の層
    から成る反射防止膜であって、ＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5
    から成る高屈折率材料層と、ＳｉＯ2 から成る低屈折率
    材料層とを有し、大気側最外層が上記高屈折率材料層で
    あることを特徴とする耐湿性反射防止膜。
  2. 【請求項２】 光学ガラス基板上にＨｆＯ2 又はＴａ2
    Ｏ5 から成る高屈折率材料層を有し、該高屈折率材料層
    上にＳｉＯ2 から成る低屈折率材料層とＨｆＯ2 又はＴ
    ａ2 Ｏ5 から成る高屈折率材料層とが、この順序で少な
    くとも１回積層された請求項１記載の耐湿性反射防止
    膜。
  3. 【請求項３】 光学ガラス基板上にＳｉＯ2 から成る低
    屈折率材料層とＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る高屈折
    率材料層とが、この順序で複数回繰り返して積層された
    請求項１記載の耐湿性反射防止膜。
  4. 【請求項４】 光学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎ
    ｍで光学膜厚５０〜２００ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ
    5 から成る第一層、光学膜厚３５〜１２０ｎｍのＳｉＯ
    2 から成る第二層及び光学膜厚２０〜１００ｎｍのＨｆ
    Ｏ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第三層を順次形成して構成
    された請求項２記載の耐湿性反射防止膜。
  5. 【請求項５】 光学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎ
    ｍで光学膜厚１５０〜４７０ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2
    Ｏ5 から成る第一層、光学膜厚４５〜１５０ｎｍのＳｉ
    Ｏ2 から成る第二層、光学膜厚６５〜２００ｎｍのＨｆ
    Ｏ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第三層、光学膜厚４０〜１
    ２０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第四層及び光学膜厚２０〜
    １００ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第五層を
    順次形成して構成された請求項２記載の耐湿性反射防止
    膜。
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JP2008076941A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Matsushita Electric Works Ltd 光学素子及びその製造方法
JP2010286572A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Topcon Corp 反射防止膜を有する光学素子及び医療用光学機器

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