JPS6177002A - 光反射防止膜 - Google Patents
光反射防止膜Info
- Publication number
- JPS6177002A JPS6177002A JP59198483A JP19848384A JPS6177002A JP S6177002 A JPS6177002 A JP S6177002A JP 59198483 A JP59198483 A JP 59198483A JP 19848384 A JP19848384 A JP 19848384A JP S6177002 A JPS6177002 A JP S6177002A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- wavelength
- layer
- index material
- low refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は光反射防止膜に関し、特に真空紫外線に対して
良好な反射防止作用を有する膜体に関する。
良好な反射防止作用を有する膜体に関する。
半導体露光装置は、焼付の方式からみて、密着（又はグ
ロキシミティー）方式と投影焼付方式とに分けられ、装
置の解像力は、密着露光の場合には光源波長の平方根に
比例し、また投影露光の場合には光源波長に比例する。
ロキシミティー）方式と投影焼付方式とに分けられ、装
置の解像力は、密着露光の場合には光源波長の平方根に
比例し、また投影露光の場合には光源波長に比例する。
このため、露光装置の解像力を高める目的から、光源の
短波長化を図る必要があ夛、現今では２００〜２７０ｎ
ｍの紫外線を利用した装置が実用化されている。しかし
、将来的には更に解像力を高める必要があシ、波長２０
０ｎｍ以下の真空紫外線を用いる必要がでてくる。
短波長化を図る必要があ夛、現今では２００〜２７０ｎ
ｍの紫外線を利用した装置が実用化されている。しかし
、将来的には更に解像力を高める必要があシ、波長２０
０ｎｍ以下の真空紫外線を用いる必要がでてくる。
ところで、半導体１ｘ元装置の照明系において、レンズ
面での反射に起因するゴーストが像面の照明ムラを起す
という問題がある。このため、従来からレンズ面を誘電
体の単層ないし多層からなる反射防止膜で被覆すること
は行なわれているが、真空紫外線領域において作用する
反射防止膜は殆どなく、僅かに特公昭５０−４０６６８
号、ＯｐｔｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｖｏｌ−
１８、ＡＩ（１９７９）等に見られるが、これらも十分
な反射防止機能を果たすものとは言い難い。
面での反射に起因するゴーストが像面の照明ムラを起す
という問題がある。このため、従来からレンズ面を誘電
体の単層ないし多層からなる反射防止膜で被覆すること
は行なわれているが、真空紫外線領域において作用する
反射防止膜は殆どなく、僅かに特公昭５０−４０６６８
号、ＯｐｔｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｖｏｌ−
１８、ＡＩ（１９７９）等に見られるが、これらも十分
な反射防止機能を果たすものとは言い難い。
本発明の１つの目的は、真空紫外線に対して良好な反射
防止作用を有する反射防止膜を提供することにある。
防止作用を有する反射防止膜を提供することにある。
本発明の他の目的は、真空紫外線に対して良好な反射防
止作用を有すると共に、物理的、化学的に安定な反射防
止膜を提供することにある。
止作用を有すると共に、物理的、化学的に安定な反射防
止膜を提供することにある。
上記目的は、波長１６０〜２３０ ｎｍの光に対し屈折
率が１．５以下の低屈折率物質と屈折率が１．６〜１．
８の中間屈折率物質とを用い、前記波長の光を透過する
物質からなる基体上に前記低屈折率物質からなる第１層
、前記中間屈折率物質からなる第２層、次いで前記低屈
折率物質からなる第３層の順で積層された３層構造を有
することを特徴とする光反射防止膜によって達成される
。
率が１．５以下の低屈折率物質と屈折率が１．６〜１．
８の中間屈折率物質とを用い、前記波長の光を透過する
物質からなる基体上に前記低屈折率物質からなる第１層
、前記中間屈折率物質からなる第２層、次いで前記低屈
折率物質からなる第３層の順で積層された３層構造を有
することを特徴とする光反射防止膜によって達成される
。
真空紫外線用反射防止膜は、その膜材料が設計、製作上
大きな制約となる。すなわち反射防止膜の膜材料は、真
空紫外線に対し、透明かつ安定な物質でなければならな
い。真空紫外線透過材料としてはＭｇＦ２．ＣａＦ２．
ＬｉＦ、 ＮａＦ、 ＬａＦ３． ＮｄＦ３等のフッ化
物が知られている。一方、Ａｔ２０３．ＳｉＯ２，Ｈｆ
Ｏ２等の一部の酸化物は、比較的短波長まで透過するが
波長２００ ａｍ以下では吸収が犬きくなシ透過しなく
なる。また可視域での反射防止膜に使用されるＺｒＯ２
，’ｒｉｏ□、ＣｅＯ２等の高屈折率物質は、吸収が大
きく透過しないために使用することができない。
大きな制約となる。すなわち反射防止膜の膜材料は、真
空紫外線に対し、透明かつ安定な物質でなければならな
い。真空紫外線透過材料としてはＭｇＦ２．ＣａＦ２．
ＬｉＦ、 ＮａＦ、 ＬａＦ３． ＮｄＦ３等のフッ化
物が知られている。一方、Ａｔ２０３．ＳｉＯ２，Ｈｆ
Ｏ２等の一部の酸化物は、比較的短波長まで透過するが
波長２００ ａｍ以下では吸収が犬きくなシ透過しなく
なる。また可視域での反射防止膜に使用されるＺｒＯ２
，’ｒｉｏ□、ＣｅＯ２等の高屈折率物質は、吸収が大
きく透過しないために使用することができない。
従って本発明の光反射防止膜は、主として７ツ化物系の
防電体材料で構成するのが好ましい。
防電体材料で構成するのが好ましい。
このうち、本発明で使用する前記低屈折率物質としては
、ＭｇＦ２． ＣａＦ２．ＬｉＦ、及びＮａ ３ＡｔＦ
６から選ばれる物質、また前記中間屈折率物質として
は、ＬａＦ及びＮｄＦ３から選ばれる物質が好適である
。
、ＭｇＦ２． ＣａＦ２．ＬｉＦ、及びＮａ ３ＡｔＦ
６から選ばれる物質、また前記中間屈折率物質として
は、ＬａＦ及びＮｄＦ３から選ばれる物質が好適である
。
本発明の光反射防止膜は、第１図に示した如く３層構造
を有する光反射防止膜である。
を有する光反射防止膜である。
第１図において、１は波長１６０〜２３０ ｎｍの光を
透過する物質からなる基体であシ、具体的には例えば合
成石英、人工水晶、ＣａＦ ２、ＭｇＦ２等の結晶など
からなるレンズ等光学デバイスである。基体１上に積層
された２、４は低屈折率物質の層、３は中間屈折率物質
の層であシ、これらを設層するには、通常真空蒸着法（
イオンブレーティング、スパツタリング等を包含する。
透過する物質からなる基体であシ、具体的には例えば合
成石英、人工水晶、ＣａＦ ２、ＭｇＦ２等の結晶など
からなるレンズ等光学デバイスである。基体１上に積層
された２、４は低屈折率物質の層、３は中間屈折率物質
の層であシ、これらを設層するには、通常真空蒸着法（
イオンブレーティング、スパツタリング等を包含する。
）が用いられる。
なお、第１図には平板状の膜体を示したが、膜の形状は
これに限定されず、円筒面状、球面状、凹面状、凸面状
等の基体表面の形状に応じて任意に設計することができ
る。
これに限定されず、円筒面状、球面状、凹面状、凸面状
等の基体表面の形状に応じて任意に設計することができ
る。
怠の設計基準波長である。）の構成をとり、第１なお、
第１層乃至第３層の各層の光学的膜厚は、所望する波長
域において反射率が最小の値・をとるよう、例えば電子
計算機によシ演算して最適化することができる。
第１層乃至第３層の各層の光学的膜厚は、所望する波長
域において反射率が最小の値・をとるよう、例えば電子
計算機によシ演算して最適化することができる。
以下、実施例によ）本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
第１図の光反射防止膜において、基体１を合成石英から
なるレンズとし、２，４の低屈折率物質をＭｇＦ２．３
の中間屈折率物質をＬａＦｓで構成し、これら物質を真
空蒸着法によ）ノ１−トコ−ティングした。構成物質の
屈折率は、分散式で、で求められる。第１表にλ＝ １
９０ ｎｍとしたときの屈折率を示した。なお、真空蒸
着するにあたっては、第１表に示した如く演算によシ光
学的膜厚を最適化し、この光学的膜厚分だけ蒸着を行っ
た。
なるレンズとし、２，４の低屈折率物質をＭｇＦ２．３
の中間屈折率物質をＬａＦｓで構成し、これら物質を真
空蒸着法によ）ノ１−トコ−ティングした。構成物質の
屈折率は、分散式で、で求められる。第１表にλ＝ １
９０ ｎｍとしたときの屈折率を示した。なお、真空蒸
着するにあたっては、第１表に示した如く演算によシ光
学的膜厚を最適化し、この光学的膜厚分だけ蒸着を行っ
た。
この実施例で用いたＭｇＦ２及びＬａＦｓは、第１表に
示した膜厚程度では殆ど吸収を無視することができる。
示した膜厚程度では殆ど吸収を無視することができる。
また、フッ化物は酸化物と比ベパルクと蒸着膜との構成
に差がなく、再現性がよいという利点がある。
に差がなく、再現性がよいという利点がある。
第１表
かくして得られた光反射防止膜の分光特性を第２図に示
した。これによれば、波長１６０〜２３０ｎｍの範囲で
反射率を１％以下、特に波長１６５〜２１５ ｎｍの範
囲で反射率を０．５％以下に抑さえることができた。従
って、通常使用する真空紫外線は１８０ ｎｍ付近であ
るため、本発明の光反射防止膜によれば十分に反射率を
低く抑さえることができる。
した。これによれば、波長１６０〜２３０ｎｍの範囲で
反射率を１％以下、特に波長１６５〜２１５ ｎｍの範
囲で反射率を０．５％以下に抑さえることができた。従
って、通常使用する真空紫外線は１８０ ｎｍ付近であ
るため、本発明の光反射防止膜によれば十分に反射率を
低く抑さえることができる。
次に、耐久性については、耐溶剤テストとしてアセトン
、イングロビル・アルコール、メタノールを用い、作製
し九九反射防止膜を付したレンズ表面をクリーニングし
たが分光特性、外観上の変化が見られず、十分耐溶剤性
があることが確かめられた。また、スコノチテーグによ
る密着性テスト、綿布（チーズクロス）による耐摩耗テ
ストの結果も剥離、クラック等の外観上の欠陥ならびに
反射率の変化は見られなかった。」湿性についても４５
℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽に１０００時間以上置
いた後も、反射率の低下、腐食等の化学的変化は起こら
なかった。さらに、真空紫外光の照射に対しても、何ら
劣化することはなかった。
、イングロビル・アルコール、メタノールを用い、作製
し九九反射防止膜を付したレンズ表面をクリーニングし
たが分光特性、外観上の変化が見られず、十分耐溶剤性
があることが確かめられた。また、スコノチテーグによ
る密着性テスト、綿布（チーズクロス）による耐摩耗テ
ストの結果も剥離、クラック等の外観上の欠陥ならびに
反射率の変化は見られなかった。」湿性についても４５
℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽に１０００時間以上置
いた後も、反射率の低下、腐食等の化学的変化は起こら
なかった。さらに、真空紫外光の照射に対しても、何ら
劣化することはなかった。
実施例２
λｏ−２００ｎｍ、第１層の膜材料（物質）をＬＩＦ’
とし、第２表に示した屈折率及び最適化された光学的膜
厚とした以外は実施例１と同様にして、光反射防止膜を
作表した。
とし、第２表に示した屈折率及び最適化された光学的膜
厚とした以外は実施例１と同様にして、光反射防止膜を
作表した。
かぐして得られた光反射防止膜の分光特性を第３図に示
した。本実施例においても、実施例１の光反射防止膜と
同等の光学的性質並びに化学的、物理的安定性を有する
光反射防止膜が得られた。
した。本実施例においても、実施例１の光反射防止膜と
同等の光学的性質並びに化学的、物理的安定性を有する
光反射防止膜が得られた。
第２表
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の光反射防止膜は、光学的
Ｋｉｔ真空紫外組をはじめとして所望する波長の光に対
してレンズ等基体表面の反射を低くおさえ、ゴースト等
の問題を解決するという優れた光学的性質を持っている
。さらに、耐溶剤性、耐湿性に優れるという化学的安定
性に富むと同時に密着性・ｎ１Ｌｉ耗性、耐紫外線性な
ど物理的安定性にも優れており、実用的にきわめて有用
である。
Ｋｉｔ真空紫外組をはじめとして所望する波長の光に対
してレンズ等基体表面の反射を低くおさえ、ゴースト等
の問題を解決するという優れた光学的性質を持っている
。さらに、耐溶剤性、耐湿性に優れるという化学的安定
性に富むと同時に密着性・ｎ１Ｌｉ耗性、耐紫外線性な
ど物理的安定性にも優れており、実用的にきわめて有用
である。
第１図は、本発明の光反射防止膜の構成を説明するため
の図、第２図及び第３図は、実施例１−２で作製した光
反射防止膜の分光特性を示すための曲線図である０ １・・・基体、２，４・・・低屈折率物質層、３・・・
中間屈折率物質層。
の図、第２図及び第３図は、実施例１−２で作製した光
反射防止膜の分光特性を示すための曲線図である０ １・・・基体、２，４・・・低屈折率物質層、３・・・
中間屈折率物質層。
Claims (3)
- （１）波長１６０〜２３０ｎｍの光に対し屈折率が１．
５以下の低屈折率物質と屈折率が１．６〜１．８の中間
屈折率物質とを用い、前記波長の光を透過する物質から
なる基体上に前記低屈折率物質からなる第１層、前記中
間屈折率物質からなる第２層、次いで前記低屈折率物質
からなる第３層の順で積層された３層構造を有すること
を特徴とする光反射防止膜。 - （２）波長１６０〜２３０ｎｍの範囲内の任意の設計基
準波長λ＿０に対し、第１層乃至第３層の光学的膜厚が
、それぞれ約１／２λ＿０、約１／４λ＿０及び約１／
４λ＿０である特許請求の範囲第（１）項記載の光反射
防止膜。 - （３）低屈折率物質が、ＭｇＦ＿２、ＣａＦ＿２、Ｌｉ
Ｆ及びＮａ＿３ＡｌＦ＿６から選ばれる物質であり、中
間屈折率物質がＬａＦ＿３及びＮｄＦ＿３から選ばれる
物質である特許請求の範囲第（１）項又は第（２）項記
載の光反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198483A JPS6177002A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 光反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198483A JPS6177002A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 光反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6177002A true JPS6177002A (ja) | 1986-04-19 |
| JPH0238921B2 JPH0238921B2 (ja) | 1990-09-03 |
Family
ID=16391860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59198483A Granted JPS6177002A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 光反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6177002A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6461701A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Minolta Camera Kk | Antireflecting film |
| JPS6461702A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Minolta Camera Kk | Antireflecting film |
| JPH06140707A (ja) * | 1992-10-27 | 1994-05-20 | Showa Koki Seizo Kk | 潮解性光学結晶の反射防止膜 |
| US5661596A (en) * | 1994-02-03 | 1997-08-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film and exposure apparatus using the same |
| JPH09329702A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Nikon Corp | 反射防止膜 |
| US5981075A (en) * | 1995-02-13 | 1999-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical articles and devices with a thin film containing krypton, xenon, or radon atoms |
| EP1227344A1 (en) * | 1999-11-05 | 2002-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Antireflection base for ultraviolet and vacuum ultraviolet regions |
| JP2004302113A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学部材、光学系及び投影露光装置、並びに反射防止膜の製造方法 |
| JP2005257769A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Canon Inc | 光学薄膜、光学素子及びそれを用いた露光装置及び露光方法 |
| US8552443B2 (en) | 2009-02-20 | 2013-10-08 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device, light emitting device package and lighting system including the same |
-
1984
- 1984-09-25 JP JP59198483A patent/JPS6177002A/ja active Granted
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6461701A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Minolta Camera Kk | Antireflecting film |
| JPS6461702A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Minolta Camera Kk | Antireflecting film |
| JPH06140707A (ja) * | 1992-10-27 | 1994-05-20 | Showa Koki Seizo Kk | 潮解性光学結晶の反射防止膜 |
| US5661596A (en) * | 1994-02-03 | 1997-08-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film and exposure apparatus using the same |
| US5981075A (en) * | 1995-02-13 | 1999-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical articles and devices with a thin film containing krypton, xenon, or radon atoms |
| US6372646B2 (en) | 1995-02-13 | 2002-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical article, exposure apparatus or optical system using it, and process for producing it |
| US6726814B2 (en) | 1995-02-13 | 2004-04-27 | Canon Kk | Process for producing optical article |
| US5963365A (en) * | 1996-06-10 | 1999-10-05 | Nikon Corporation | three layer anti-reflective coating for optical substrate |
| JPH09329702A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Nikon Corp | 反射防止膜 |
| EP1227344A1 (en) * | 1999-11-05 | 2002-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Antireflection base for ultraviolet and vacuum ultraviolet regions |
| EP1227344A4 (en) * | 1999-11-05 | 2005-08-31 | Asahi Glass Co Ltd | ANTI-REFLECTION BASE FOR UV AND VACUUM UV AREAS |
| JP2004302113A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学部材、光学系及び投影露光装置、並びに反射防止膜の製造方法 |
| JP2005257769A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Canon Inc | 光学薄膜、光学素子及びそれを用いた露光装置及び露光方法 |
| US8552443B2 (en) | 2009-02-20 | 2013-10-08 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device, light emitting device package and lighting system including the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0238921B2 (ja) | 1990-09-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI432770B (zh) | 光學系統 | |
| US4387960A (en) | Multi-layer anti-reflection coating | |
| US5993898A (en) | Fabrication method and structure for multilayer optical anti-reflection coating, and optical component and optical system using multilayer optical anti-reflection coating | |
| Musset et al. | IV multilayer antireflection coatings | |
| JPH0238924B2 (ja) | ||
| JPS6177002A (ja) | 光反射防止膜 | |
| JP2004302113A (ja) | 反射防止膜、光学部材、光学系及び投影露光装置、並びに反射防止膜の製造方法 | |
| JPH05215915A (ja) | 多層反射増加膜 | |
| JPS6177001A (ja) | 光反射防止膜 | |
| JP3221770B2 (ja) | プラスチック光学部品の反射防止膜 | |
| JPS6135521B2 (ja) | ||
| JP2002014203A (ja) | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 | |
| JPS6222121B2 (ja) | ||
| JPS6177003A (ja) | 光反射防止膜 | |
| JP3031625B2 (ja) | 熱線吸収反射鏡 | |
| JPS6032001A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH05264802A (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JPH10123303A (ja) | 反射防止光学部品 | |
| JPS63142301A (ja) | 塁積効果の少ない光学薄膜 | |
| JP3113371B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JP2001013304A (ja) | 光学部品 | |
| JP3052400B2 (ja) | 反射防止膜被覆イットリア光学部品 | |
| JPH02291502A (ja) | プラスチックレンズ用多層反射防止膜 | |
| JP2815949B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| Chopra et al. | Triple-layer broad band antireflection coatings using homogeneously mixed dielectric coatings |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |